JP2003007948A - 金型、該金型を用いたリードフレームの製造方法及びリードフレーム - Google Patents

金型、該金型を用いたリードフレームの製造方法及びリードフレーム

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インナーリードの安定したワイヤボンディン
グを可能にし、ひいてはワイヤとの電気的な接続の信頼
性を向上させることができるリードフレーム加工用の金
型を提供することを目的とする。 【解決手段】 金属めっき層を備えたインナーリードと
該インナーリードに連結するアウターリードとを有する
リードフレームに曲げ加工を施す金型21であって、前
記インナーリードとアウターリードとの間の所定の部分
を階段状に屈曲させる金属部材14,10を具備し、該
金属部材14,10の前記金属めっき層と接触する面の
所定の部分が粗面化されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子を実装す
るパッケージに用いられるリードフレームを加工する技
術に係り、特に、リードフレームを加工する金型、この
金型を用いたリードフレームの製造方法及びリードフレ
ームに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、マルチメディア機器を実現するた
めのキーテクノロジーであるLSI技術はデータ伝送の
高速化、大容量化に向かって着実に開発が進んでいる。
これに伴って、LSIと電子機器とのインターフェイス
となる実装技術の高密度化が進められている。
【0003】高密度実装に対応するパッケージとして、
さまざまなものが開発されてきているが、リードフレー
ムを用いた高密度実装用のパッケージとしては、例え
ば、周辺端子リード付きパッケージであるTSOJ(T
hin Small Outline J−leade
d Package)やSOC(Small Outl
ine C−leaded Package)、周辺端
子リードのないパッケージであるQFN(Quad F
latpack Non―leaded Packag
e)などが知られている。
【0004】例えば、QFNに用いられるリードフレー
ムの場合、一例として、図7に示すように、実装する半
導体素子(図示せず)とワイヤを介して電気的に接続さ
れるインナーリード104に銀(Ag)めっき層106
などの金属めっき層が形成されており、インナーリード
104とこれにつながるアウターリード102との間の
部分を階段状に屈曲されている。このようなリードフレ
ームを製造する場合、同図に示すように、曲げ加工を行
なうために支持台としての金属部材100や該金属部材
100上に載置されたリードフレームを加圧するための
金属ポンチ108などを備えた金型を使用する。このよ
うな金型において、インナーリード104のAgめっき
層106に接触する金属部材100には、その接触する
側の表面が、プロファイル研削盤や平面研削盤により研
磨されて研磨目が刻まれたものやあるいはその表面に鏡
面仕上げを行ったものが使用される。
【0005】このような金型にリードフレームのインナ
ーリード104のAgめっき層106が金属部材100
側になるようにして配置され、金属ポンチ108がリー
ドフレームを上から押圧することによりインナーリード
104とアウターリード102と間の所定の部分を屈曲
させる。すなわち、インナーリード104のAgめっき
層106が金属部材100の研磨目が刻まれた面や鏡面
仕上げされた面に接触しながら上記所定部分の曲げ加工
を行っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インナ
ーリード104のAgめっき層106に接触する側の金
属部材100の表面に研磨目が刻まれた金型を用いて曲
げ加工を行う場合には、研磨目に相当するパターンがイ
ンナーリード104のAgめっき層106上に転写さ
れ、リードフレームの当該部分にそのパターンに応じた
好ましくない見苦しいスジ模様が入るという問題があ
る。
【0007】また、インナーリード104のAgめっき
層106に接触する側の金属台100の表面が鏡面仕上
げされた金型を用いて曲げ加工を行う場合には、インナ
ーリード104のAgめっき層106が、金属部材10
0の鏡面仕上げされた表面に接触することでピカピカに
光り、光沢度が高くなってしまう。すなわち、Agめっ
き層106はそれ自体、比較的暗い中程度の光沢度であ
るため、リードフレームがピカピカに光った部分と比較
的暗い光らない部分とが混在することになる。このた
め、リードフレームの当該部分の光沢度が不均一とな
り、見た目が悪いといった問題があるとともに、後の段
階で、半導体素子とインナーリード104とを画像認識
を用いた自動ワイヤボンディング装置によりワイヤで電
気的に接続する際、光沢度の違いに起因する画像認識に
おいてエラーが発生するおそれがある。
【0008】また、従来の金属部材100の表面は平坦
に加工されることで金属部材100とインナーリード1
04のAgめっき層106とが全接触状態となるので、
金属ポンチの押圧によっては、Agめっき層106に打
痕が発生してリードフレームの合金基板が露出したり、
あるいは、油などの不純物が付着したりするといった不
都合が生じる場合がある。このような場合、ワイヤとイ
ンナーリード104とのAgめっき層106を介した電
気的な接続の信頼性が低下するおそれがある。
【0009】本発明はかかる従来技術の課題を鑑みて創
作されたものであり、リードフレーム曲げ加工が施され
る部分の光沢度を均一なものとし、インナーリードの安
定したワイヤボンディングを可能にし、ひいてはワイヤ
との電気的な接続の信頼性を向上させることができるリ
ードフレーム加工用の金型、該金型を用いたリードフレ
ームの製造方法及びリードフレームを提供することを目
的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、本発明によれば、金属めっき層を備えたインナーリ
ードと該インナーリードに連結するアウターリードとを
有するリードフレームに曲げ加工を施す金型であって、
前記インナーリードとアウターリードとの間の所定の部
分を階段状に屈曲させる金属部材を具備し、該金属部材
の前記金属めっき層と接触する面の所定の部分が粗面化
されていることを特徴とする金型が提供される。
【0011】本発明に係る金型によれば、リードフレー
ムの所定の部分(金属めっき層が形成されている部分)
に曲げ加工を行う際に、インナーリードの金属めっき層
が接触する面が粗面化、すなわち梨地状の凹凸が形成さ
れているので、金属めっき層が金属部材の凹凸の凸部と
主に接触するようになり、これによって、インナーリー
ドの金属めっき層と金属部材との実質的な接触面積を小
さくすることができる。従って、金属めっき層が例えば
Agめっき層からなる場合、光沢度が比較的低いAgめ
っき層の金属部材に接触した部分がピカピカに光った
り、金属部材の研磨目がAgめっき層に転写されたりす
ることがなくなる。
【0012】このようにすることにより、リードフレー
ムの当該部分に研磨目のパターンに応じた好ましくない
スジ模様が入るといった不都合を解消することができる
とともに、リードフレームの当該部分において、光沢度
が不均一となる領域がなくなり、すべての領域にわたっ
て均一な光沢度をもたせることができる。従って、画像
認識を行う自動ワイヤボンディング装置により半導体素
子とインナーリードとをワイヤでボンディングする際、
従来技術に見られたような画像認識に係るエラーの発生
を防止することができるようになる。
【0013】さらには、金属めっき層は金属部材の粗面
化された面のうち凹部とはほとんど接触しないので、金
属部材との接触に起因して金属めっき層に打痕が発生し
たり、油などの不純物が付着したりする可能性を大いに
減じることができるので、インナーリードとワイヤとの
電気的な接続の信頼性を向上させることができる。上記
の形態に係る金型において、前記金型の金属部材が、上
下に移動可能で、前記粗面化された面を第1の面として
備えたノックアウトと、前記ノックアウトが上下に移動
できるように該ノックアウトの周囲に配置され、前記第
1の面に平行な第2の面と、前記第2の面につながり、
前記ノックアウト側に下がって傾斜する傾斜面とを備え
た金属台とを具備し、前記金型が、前記リードフレーム
を挟んで前記ノックアウトとは反対側の上方に配置さ
れ、かつ上下に移動可能で、前記リードフレームを階段
状に屈曲させるときに前記第1の面及び前記傾斜面にそ
れぞれ対応する面を備えた金属ポンチをさらに有するよ
うにしてよい。
【0014】この形態によれば、ノックアウト及び金属
台と金属ポンチとの間に、リードフレームがそのインナ
ーリードの金属めっき層がノックアウトの粗面化された
面側になるようにして配置される。そして、まず、金属
ポンチとノックアウトとでリードフレームを挟み、その
後、金属ポンチがリードフレームを加圧し、これに協働
してノックアウトがリードフレームを押えた状態で下側
に移動しながらリードフレームの所定の部分を屈曲させ
る。
【0015】これに関連して、ノックアウトがリードフ
レームを押えないで金属ポンチのみが移動し、リードフ
レームのリード部を屈曲させる場合、つまり、従来〈図
7〉と同様の曲げ加工を行う場合、金属ポンチの2つの
面が交差する軸に基づいて形成される屈曲部が十分に曲
がらず、丸みをおびやすくなる。その結果、インナーリ
ードの主面とアウターリードの主面とが平行にならず、
インナーリードの先端部になるにつれてこの平行性が損
なわれる。場合によっては、インナーリード部がねじれ
てしまうおそれがある。従って、設計要求に応じたイン
ナーリードの半導体素子と電気的に接続するためのボン
ディング面積を確保するのが困難になる。
【0016】しかし、この形態に係る金型においては、
金属ポンチとノックアウトとでリードフレームを挟み、
金属ポンチのリードフレームへの加圧に協働してノック
アウトが下側に移動しながらリード部を屈曲させるの
で、屈曲部が正確に階段状になり、ねじれも発生しなく
なる。これにより、設計要求に応じたボンディング面積
を確保することができるようになり、インナーリードと
ワイヤとの金属めっき層を介した電気的な接続の信頼性
を向上させることができる。
【0017】また、上記した形態に係る金型において、
前記粗面化された面が、放電加工又はサンドブラスト法
により凹凸が形成されたものであってもよい。さらに、
前記凹凸の上に、ダイヤモンドコーティング層が形成さ
れていてもよい。金属部材(ノックアウト)の第1の面
の粗面化を放電加工やサンドブラスト法により行なうこ
とで、凹凸の高さ(高低差)が例えば2μm以下程度の
ものを容易に形成することができる。このとき、条件に
よっては、形成された凹凸の凸部が尖って形成される場
合がある。たとえ、表面に凹凸を形成してインナーリー
ドの金属めっき層と金属部材の第1の面との接触面積を
少なくしたとしても、この尖った凸部が金属めっき層に
突き刺さることで金属めっき層に深い打痕が入り、イン
ナーリードとワイヤとの電気的な接続の信頼性が低下す
る場合が想定される。
【0018】この形態に係る金型によれば、金属部材
(ノックアウト)の第1の面に凹凸が形成され、さらに
この凹凸上にダイヤモンドコーティング層が形成される
ことで粗面化されるので、凸部が尖った場合においても
丸みを帯びるようになり、金属めっき層に深い打痕が入
ることを防止することができる。また、表面が耐磨耗性
の高いダイヤモンド層で保護されているので、凹凸の磨
耗を少なくすることができ、金型を長持ちさせることが
できるようになる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
を参照しながら説明する。図1(a)は本発明の実施の
形態の金型の構成を示す概略部分断面図、図1(b)は
本発明の実施の形態の金型に係るノックアウトの表面状
態を示す概略部分断面図、図2(a)及び(b)はリー
ドフレームが加工される様子を示す概略部分断面図、図
3(a)は本実施の形態の金型により加工されるリード
フレームの一例を示す概略部分平面図、図3(b)は本
発明の実施の形態の金型を用いて加工されたリードフレ
ームに半導体素子が実装された半導体装置を示す概略断
面図である。
【0020】本発明の実施の形態の金型は、図1(a)
に示すような構成になっている。下部ダイセット16の
上に中心部に空洞部10aが形成されたダイ10が配置
され、このダイ10の空洞部10a内にはノックアウト
14が配置されている。このノックアウト14は移動手
段15に接続されており、この移動手段15に基づいて
上下に移動できるようになっている。本実施形態では、
ノックアウト14とダイ10により「金属部材」が構成
されており、ノックアウト14の表面Aが「第1の面」
の一例であって、ダイ10の表面Bが「第2の面」
(「第1の面より高い面」)の一例であり、また、ダイ
10の傾斜面Cが「傾斜面」の一例である。
【0021】本実施形態の金型の特徴の一つは、図1
(b)に模式的に示すように、リードフレーム20のイ
ンナーリードの金属めっき層が形成された部分と接触す
るノックアウト14の表面Aが粗面化されていること、
すなわち表面Aに梨地状に凹凸が形成されていることで
ある。これについては、後で詳細に説明する。なお、本
実施形態では、ノックアウト14とダイ10が分離独立
した配置となっているが、かかる配置形態に限定されな
いことはもちろんであり、これらが一体化されている形
態としてもよい。この場合、ノックアウト14は上下に
移動できない形態となる。
【0022】ノックアウト14及びダイ10の上方には
上部ダイセット16aに保持された状態で金属ポンチ1
2が配置されている。この金属ポンチ12はノックアウ
ト14の上方で、上下に移動できるようになっている。
金属ポンチ12のノックアウト14と対向する側の面に
は、ノックアウト14の表面Aとほぼ平行な面Dとダイ
10の傾斜面Cとほぼ平行な面Eを備えており、金属ポ
ンチ12とノックアウト14とが接近する際、ノックア
ウト14の表面Aとダイ10の傾斜面Cとは、それぞれ
金属ポンチの面Dと傾斜面Eと対向するようになってい
る。また。ダイ10の上方にはそれぞれ押え金属部材1
8がスプリング部材19を介して上部ダイセット16a
に保持された状態で配置されている。
【0023】本実施形態に係る金型のノックアウト1
4、ダイ10及び金属ポンチ12を構成する材料として
は、金属粉を焼結することにより製造された超鋼、例え
ばWC(タングステンカーバイド)などが用いられる。
本実施の形態の金型21はこのような構成になってお
り、図1に示す如く、ノックアウト14及びダイ10と
金属パンチ12との間に、挟みこむようにしてリードフ
レーム20を配置し、金属ポンチ12がリードフレーム
20を押圧することに基づいてリードフレーム20の所
定の部分(インナーリードとアウターリードとの間の部
分)を屈曲させることができる。
【0024】次に、本実施形態の金型によりリードフレ
ーム20を曲げ加工する方法を図2及び図3を参照しな
がら説明する。まず、リードフレーム20の説明を行
う。リードフレーム20は例えばQFN型パッケージに
使用されるリードフレームであって、図3(a)に示す
ように、Fe−Ni合金板やCu合金板などをエッチン
グ又はプレスにより加工することでパターニングするこ
とにより製造される。リードフレーム20は同図に示す
ように、平行に延在する一対の外枠22とこの一対の外
枠22と連結し、かつ外枠22に直交する一対の内枠2
3とによって形成された枠構造となっている。この外枠
22にはガイド孔32が形成されている。この枠の中央
部には半導体素子が配置される四辺形のダイバッド26
が配置されているとともに、このダイパッド26は枠の
隅の太幅部22aから延在する4つのサポートバー28
によって支持されている。また、内枠23及び外枠22
からダイバッド26に向かって複数のリード27が延在
している。ダイバッド26の寸法は例えば2mm□程度
であって、リード27の長さは例えば2mm程度であ
る。
【0025】相互に平行に延在するリード27部分にお
いて、各リード27はダムバー30によって連結されて
いる。リード27は半導体素子と電気的に接続されるイ
ンナーリード27aと配線基板の配線と電気的に接続さ
れるアウターリード27bとからなる。図3(a)のイ
ンナーリード27aの表面には半導体素子と金線などの
ワイヤと電気的に接続されるための内装めっき層、例え
ばAgめっき層(金属めっき層)が形成されている。ま
た、アウターリード27bの裏面には配線基板の配線と
電気的に接続されるための外装めっき層、例えばはんだ
めっき層が形成されている。
【0026】図3(a)に示すような帯状のリードフレ
ーム20を裏返して、すなわちインナーリード27aの
Agめっき層が形成された面が図1(a)に示す金型の
ノックアウト14側になるようにして金型内に配置され
る。その後、インナーリード27aとアウターリード2
7bを連結するダムバー30を含む所定の領域がダイ1
0の傾斜面Cの上方に配置されるようにして位置合わせ
をする。
【0027】次いで、押え金属部材18によりリードフ
レーム20を押えて固定させた後、図2(a)に示すよ
うに、金属ポンチ12とノックアウト14とをリードフ
レーム20が配置された位置まで移動させてリードフレ
ーム20を両面から挟む。その後、図2(b)に示すよ
うに、金属ポンチ12が所定の圧力でノックアウト14
側にリードフレーム20を加圧すると同時に、ノックア
ウト14を、リードフレーム20を挟んだ状態で金属ポ
ンチ12の動きに協働して下に移動させる。これによ
り、インナーリード27aとアウターリード27bとを
連結するダムバー30部を含む所定の部分がダイ10の
傾斜面Cと第2の面Bとが交差する軸に基づいて屈曲さ
れて屈曲部Gが形成され、かつ、金属ポンチ12の面D
と面Eとが交差する軸に基づいて屈曲されて屈曲部Fが
形成される。
【0028】このように、リードフレーム20を金属ポ
ンチ12とノックアウト14で挟みながら屈曲させるこ
とで、屈曲部F,Gが金型21の形状に従って忠実に屈
曲されるようになるので、インナーリード27aの先端
部も含めてアウターリード27bと平行になり、インナ
ーリード27aをねじれなどの発生なしにシャープに屈
曲させることができる。これにより、半導体素子と電気
的に接続するためのインアナーリード27aのボンディ
ングに係る面積を設計要求通りに確保することができる
ようになる。
【0029】このようにして、リードフレーム20のリ
ード27の所定の部分が本実施の形態の金型によって屈
曲される。次に、本実施形態に係る金型の特徴の一つで
ある、粗面化されたノックアウト14の表面Aについて
詳しく説明する。図4(a)は研削盤により加工された
ノックアウトの表面状態をSEM(Scanning
Electron Microscope)により撮影
したもの、図4(b)、図5(a)及び(b)は本実施
の形態の金型に係るノックアウトの表面状態をSEMに
より撮影したもの、図6(a)、(b)及び(c)はそ
れぞれ、図4(b)、図5(a)及び(b)のノックア
ウトの表面部の断面形状を模式的に示す図である。
【0030】図4(a)に示すものは、従来の鏡面仕上
げされたノックアウトの表面状態をSEMにより撮影し
たものである。本実施形態に係る金型のノックアウト1
4の表面は、図4(b)に示すように、WED(ワイヤ
放電加工機)による処理を例えば2回行って表面を粗面
化、すなわち梨地状にしたものであって、図6(a)に
示す断面図のように、表面に微細な凹凸が形成されてい
る。
【0031】前述したように、リードフレーム20が金
型により屈曲されるとき、図2(b)に示すように、ノ
ックアウト14の表面Aとインナーリード27a上に形
成されたAgめっき層29とが接触することになる。こ
のとき、ノックアウト14の表面Aが図4(a)に示す
ように鏡面仕上げされていると、この鏡面と接触したイ
ンナーリード27aのAgめっき層29がピカピカに光
るなどして前述したような問題が発生するおそれがあ
る。
【0032】しかしながら、本実施形態に係る金型のノ
ックアウト14の表面Aには梨地状の凹凸が形成されて
いるので、リードフレーム20が屈曲する際にノックア
ウト14の表面Aとインナーリード27aのAgめっき
層29とが接触するとしても、接触するところは主にノ
ックアウト14の表面Aの凸部であるので、実質的な接
触面積を小さくすることができる。例えば、上記したW
EDによる処理を行なった場合の接触面積は、インナー
リード27aのAgめっき層29とノックアウト14の
表面Aがお互いに平坦でその接触面積を100%とした
とき、その20〜30%程度の接触面積にすることがで
きる。
【0033】ノックアウト14の表面の凹凸の高さ(高
低差)はインナーリード27a上に形成された金属めっ
き層の種類や厚みに合わせて適宜調整すればよいが、例
えば膜厚が5〜7μmのAgめっき層29を形成する場
合、ノックアウト14の表面Aの凸部がAgめっき層2
9に突き刺さることでリードフレームのCu合金板が露
出しないように、1〜2μm程度以下とすることが好ま
しい。
【0034】このようにノックアウト14の表面Aを梨
地状の凹凸を形成することにより、インナーリード27
a上に形成されたAgめっき層29にノックアウト14
の表面Aの研磨目が転写されたり、部分的にピカピカに
光ったりすることがなくなり、Agめっき層29がめっ
きを施された直後と同等の光沢度、もしくはそれより低
い光沢度を保つことができるようになる。これにより、
屈曲されたリードフレーム20のリード部の光沢度が不
均一になり、見た目も悪いといったことがなくなり、ま
た、画像認識を用いた自動ワイヤボンディングをおこな
う際、画像認識に係るエラーの発生を防止することがで
きるようになる。さらに、Agめっき層29のノックア
ウト14と接触する面積を小さくすることができるの
で、Agめっき層29に深い打痕が発生したり、油など
の不純物が付着したりする可能性を大いに減じることが
でき、ワイヤとの電気的な接続の信頼性を向上させるこ
とができる。
【0035】また、図5(a)に示すものは、WED
(ワイヤ放電加工機)による処理を4回行って表面を粗
面化したものであって、図6(b)に示す断面図のよう
に、WEDの処理回数を増やすに従って、凹凸のピッチ
が狭くなり、より細かい凹凸が形成されるようになるの
で、上記した効果がさらに顕著になる。なお、上記した
WEDの処理回数は単なる一例であって、所定の凹凸の
高さ(高低差)やピッチが得られるように適宜調整すれ
ばよい、また、図5(b)に示すものは、図5(a)に
示すノックアウト14の表面の凹凸上にさらにDLC
(ダイヤモンドライクコーティング)を行ったものであ
る。WED(ワイヤ放電加工機)による処理を行っただ
けでは、凸部の先端が鋭くなりやすく、Agめっき層2
9に深い打痕が形成される場合がある。このため、図6
(c)に示すように、ノックアウト14の表面部の凹凸
上にダイヤモンドコーティング層14aをコーティング
することで凹凸を滑らかにすることが好ましい。これに
より、Agめっき層29に深い打痕が形成されないばか
りではなく、凹凸の磨耗をも防止することができ、金型
を長持ちさせることができる。
【0036】なお、WEDの代わりに、サンドブラスト
法を用いてノックアウト14の表面Aに梨地状の凹凸を
形成してもよい。次に、リード部が屈曲されたリードフ
レームを用いた半導体素子の実装方法を説明する。ま
ず、前述した方法によりリード27部が屈曲されたリー
ドフレーム20を金型から取り出してひっくり返すこと
でインナーリード27aに形成されたAgめっき層29
が表面に現われるようにする。その後、図3(b)に示
すように、リードフレームのダイバッド26上に半導体
素子34を搭載(ダイボンディング)し、この半導体素
子34のリード導出を行うべき電極パッドとこれらに対
応するインナーリード27aのAgめっき層29とを画
像認識を用いた自動ワイヤボンディング装置によりワイ
ヤ38を介して接続する。
【0037】このとき、前述したように、リード27部
のAgめっき層29が全体にわたって比較的低い光沢度
を保ち、リードフレーム20のリード27には部分的に
ピカピカ光っている領域が存在しなくなるので、画像認
識に係るエラーが発生するおそれがないことは言うまで
もない。また、インナーリード27aのAgめっき層2
9はノックアウト14の梨地状の表面と接触することで
微細なディンプル(くぼみ)が形成されていることにな
るので、ワイヤがこのディンプルに埋めこまれ、アンカ
ー効果によりワイヤとインナーリード27aとの接合強
度を向上させることができる。これにより、インナーリ
ード27aとワイヤとの電気的な接続の信頼性を向上さ
せることができる。
【0038】次いで、半導体素子34とインナーリード
27a及びアウターリード27bと覆うようにしてモー
ルド樹脂36を施す。次いで、不要なリードフレーム部
分を切断除去することにより、図3(b)に示すような
QFN型の半導体装置40が製造される。以上、一実施
形態により、本発明の詳細を説明したが、本発明の範囲
は上記の実施形態に具体的に示した例に限られるもので
はなく、この発明を逸脱しない要旨の範囲における上記
の実施形態の変更は本発明の範囲に含まれる。
【0039】例えば、本実施形態では、QFN型の半導
体装置に用いられるリードフレームのリード部の所定の
部分を屈曲させる場合について例示したが、本実施形態
の金型を適用するリードフレームはQFN型の半導体装
置に限定されないことはもちろんである。また、金属ポ
ンチ12の面にインナーリード27aのAgめっき層2
9が接触するような形態の場合、金属ポンチ12の所定
の面を粗面化処理すればよい。つまり、金型を構成する
金属部材のうち、インナーリード上に形成された金属め
っき層が接触する金属部材の所定の面を粗面化すればよ
い。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の金型によ
れば、リードフレームのインナーリードの金属めっき層
が接触する金属部材の表面に梨地状に凹凸を形成するこ
とにより、リードフレームの当該部分に好ましくないス
ジ模様が入るといった不都合を解消することができると
ともに、リードフレームの当該部分において、光沢度が
不均一となる領域がなくなり、画像認識を行なう自動ワ
イヤボンディング装置により半導体素子とインナーリー
ドとをワイヤでボンディングする際、画像認識に係るエ
ラーの発生を防止することができるようになる。
【0041】さらには、金型の金属部材とリードフレー
ムの当該部分との接触面積を小さくすることができるの
で、インナーリードとワイヤとの電気的な接続の信頼性
を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は本発明の実施の形態の金型の構成
を示す概略断面図、図1(b)は本発明の実施の形態の
金型に係るノックアウトの表面状態を示す概略部分断面
図である。
【図2】図2(a)及び(b)は本発明の実施の形態の
金型によりリードフレームが加工される様子を示す概略
部分断面図である。
【図3】図3(a)は本実施の形態の金型により加工さ
れるリードフレームの一例を示す概略部分断面図、図3
(b)は本発明の実施の形態の金型を用いて加工された
リードフレームに半導体素子が実装された半導体装置を
示す概略断面図である。
【図4】図4(a)は研削盤により加工されたノックア
ウトの表面状態をSEMにより撮影したもの、図4
(b)は本発明の実施の形態の金型に係るノックアウト
の表面状態をSEMにより撮影したものである。
【図5】図5(a)及び(b)は本発明の実施の形態の
金型に係るノックアウトの表面状態をSEMにより撮影
したものである。
【図6】図6(a)、(b)及び(c)はそれぞれ、図
4(b)、図5(a)及び(b)のノックアウトの表面
部の断面形状を模式的に示す図である。
【図7】従来技術の金型によりリードフレームが加工さ
れる様子を示す概略部分断面図である。
【符号の説明】
10:ダイ 12:金属ポンチ 14:ノックアウト 14a:ダイヤモンドコーティング層 15:移動手段 16:下部ダイセット 16a:上部ダイセット 18:押え金属部材 19:スプリング部材 20:リードフレーム 22:外枠 22a:太幅部 23:内枠 26:ダイパッド 27a:インナーリード 27b:アウターリード 27:リード 28:サポートバー 29:Agめっき層(金属めっき層) 30:ダムバー 32:ガイド孔 34:半導体素子 36:モールド樹脂 38:ワイヤ 40:半導体装置

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属めっき層を備えたインナーリードと
    該インナーリードに連結するアウターリードとを有する
    リードフレームに曲げ加工を施す金型であって、 前記インナーリードとアウターリードとの間の所定の部
    分を階段状に屈曲させる金属部材を具備し、 該金属部材の前記金属めっき層と接触する面の所定の部
    分が粗面化されていることを特徴とする金型。
  2. 【請求項2】 前記金型の金属部材が、 上下に移動可能で、前記粗面化された面を第1の面とし
    て備えたノックアウトと、 前記ノックアウトが上下に移動できるように該ノックア
    ウトの周囲に配置され、前記第1の面に平行な第2の面
    と、前記第2の面につながり、前記ノックアウト側に下
    がって傾斜する傾斜面とを備えた金属台とを具備し、 前記金型が、 前記リードフレームを挟んで前記ノックアウトとは反対
    側の上方に配置され、かつ上下に移動可能で、前記リー
    ドフレームを階段状に屈曲させるときに前記第1の面及
    び前記傾斜面にそれぞれ対応する面を備えた金属ポンチ
    をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の金
    型。
  3. 【請求項3】前記粗面化された部分の面が、放電加工又
    はサンドブラスト法により凹凸が形成されたものである
    ことを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項に記載
    の金型。
  4. 【請求項4】 前記凹凸の上にダイヤモンドコーティン
    グ層がさらに形成されていることを特徴とする請求項3
    に記載の金型。
  5. 【請求項5】 前記金属めっき層が、Ag(銀)めっき
    層からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか
    一項に記載の金型。
  6. 【請求項6】 請求項2乃至5のいずれか一項に記載の
    金型を用いたリードフレームの製造方法であって、 前記金属部材と前記金属ポンチとの間に前記リードフレ
    ームを配置し、前記リードフレームを前記金属ポンチと
    前記ノックアウトとで挟みながら、前記金属ポンチによ
    り前記リードフレームを下方向に加圧して、前記リード
    フレームの前記インナーリードと前記アウターリードと
    の間の所定の部分を階段状に屈曲させることを特徴とす
    るリードフレームの製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載のリードフレームの製造
    方法で製造されたことを特徴とするリードフレーム。
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WO2023248890A1 (ja) * 2022-06-23 2023-12-28 エルナー株式会社 電子部品の製造方法及び電子部品

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