JP2003007801A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポッドオープナによるポッドの開放時の弊害
の発生を防止する。 【解決手段】 ポッド１０とボート８との間でウエハ９
を授受するウエハ授受ポート１３にはポッド１０のドア
１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポ
ッドオープナ２０が設備されており、ポッドオープナ２
０のベース２１にはベース２１のウエハ出し入れ口２２
を被覆するチャンバ６０が設置され、チャンバ６０には
クロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気
管６３、排気管６４が接続されている。ポッドの開放時
に窒素ガス６２をチャンバ６０のクロージャ収容室６１
に充填し、クロージャ収容室６１、ポッド１０のウエハ
収納室１０ｃの空気や水分を窒素ガス６２によってパー
ジする。 【効果】 ポッド内の大気のウエハ移載空間への放出を
防止できるため、移載空間の汚染や酸素濃度の上昇、ウ
エハの酸化やパーティクル付着を防止できる。
の発生を防止する。 【解決手段】 ポッド１０とボート８との間でウエハ９
を授受するウエハ授受ポート１３にはポッド１０のドア
１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポ
ッドオープナ２０が設備されており、ポッドオープナ２
０のベース２１にはベース２１のウエハ出し入れ口２２
を被覆するチャンバ６０が設置され、チャンバ６０には
クロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気
管６３、排気管６４が接続されている。ポッドの開放時
に窒素ガス６２をチャンバ６０のクロージャ収容室６１
に充填し、クロージャ収容室６１、ポッド１０のウエハ
収納室１０ｃの空気や水分を窒素ガス６２によってパー
ジする。 【効果】 ポッド内の大気のウエハ移載空間への放出を
防止できるため、移載空間の汚染や酸素濃度の上昇、ウ
エハの酸化やパーティクル付着を防止できる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、特に、ドアを有するキャリアを開閉する技術に係
り、例えば、半導体素子を含む半導体集積回路を作り込
まれる基板としての半導体ウエハ（以下、ウエハとい
う。）に絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したり不純
物を拡散したりするバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置に利
用して有効なものに関する。 【０００２】 【従来の技術】基板処理装置の一例であるバッチ式縦形
拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置とい
う。）においては、複数枚のウエハがキャリア（ウエハ
収納容器）に収納された状態で扱われる。従来のこの種
のキャリアとして、互いに対向する一対の面が開口され
た略立方体の箱形状に形成されているオープンカセット
と、一つの面が開口された略立方体の箱形状に形成され
開口面にドアが着脱自在に装着されているＦＯＵＰ（fr
ont opening unified pod 。以下、ポッドという。）と
がある。 【０００３】ウエハのキャリアとしてポッドが使用され
る場合には、ウエハが密閉された状態で搬送されること
になるため、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在して
いたとしてもウエハの清浄度は維持することができる。
したがって、バッチ式ＣＶＤ装置が設置されるクリーン
ルーム内の清浄度をあまり高く設定する必要がなくなる
ため、クリーンルームに要するコストを低減することが
できる。そこで、最近のバッチ式ＣＶＤ装置においては
ウエハのキャリアとしてポッドが使用されて来ている。 【０００４】ウエハのキャリアとしてポッドを使用する
バッチ式ＣＶＤ装置においては、ドアを着脱してポッド
のウエハ出し入れ口を開閉するポッド開閉装置（以下、
ポッドオープナという。）が、ポッドに対してウエハを
出し入れするためのウエハ授受ポートに設置されてい
る。従来のこの種のポッドオープナはポッドを保持する
載置台と、載置台が保持したポッドのドアを保持するク
ロージャとを備えており、クロージャがドアを保持した
状態で進退することにより、ドアをポッドのウエハ出し
入れ口に対して着脱するように構成されている。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
バッチ式ＣＶＤ装置においては、ポッドがポッドオープ
ナによって開放されると、ポッドのウエハ収納室が大気
雰囲気に晒される状態になるため、ウエハ収納室に収納
されたウエハに自然酸化膜が堆積したりパーティクルが
付着したりする場合がある。また、ポッドのウエハ収納
室には不活性ガスが充填される場合もあるが、ポッドの
ウエハ収納室は大気雰囲気になっているのが通例であ
る。大気雰囲気になっている場合には、ポッドが開放さ
れた際に、ポッドのウエハ収納室の大気がバッチ式ＣＶ
Ｄ装置におけるウエハ授受ポートの内側空間に侵入して
しまうため、内側空間を汚染したり酸素濃度を上昇させ
てしまうという問題点が発生する。 【０００６】本発明の目的は、基板の自然酸化膜の堆積
やパーティクルの付着、内側空間の汚染や酸素濃度の上
昇等のポッドの開放時における弊害の発生を防止するこ
とができる基板処理装置を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ための手段は、複数枚の基板が基板出し入れ口から収納
されこの基板出し入れ口にはドアが着脱自在に装着され
たキャリアを取り扱う基板処理装置であって、前記キャ
リアに対して前記基板を出し入れする基板授受ポートが
設けられているとともに、この基板授受ポートには前記
ドアを着脱して前記キャリアを開閉するキャリア開閉装
置が設けられており、前記基板授受ポートには前記キャ
リアの前記基板出し入れ口を被覆するチャンバが設置さ
れ、このチャンバには前記キャリアの内部に前記基板出
し入れ口から不活性ガスを導入させる給気管が接続され
ていることを特徴とする。 【０００８】前記した手段によれば、ドアが外されてキ
ャリアの基板出し入れ口が開放された際に、チャンバに
不活性ガスを供給することにより、不活性ガスをキャリ
アの内部に基板出し入れ口から流通させて不活性ガスに
よってパージすることができるため、基板の自然酸化膜
の堆積やパーティクルの付着、内側空間の汚染や酸素濃
度の上昇等のポッドの開放時における弊害の発生を防止
することができる。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。 【００１０】本実施の形態において、本発明に係る基板
処理装置は、バッチ式ＣＶＤ装置すなわちバッチ式縦形
拡散・ＣＶＤ装置として図１に示されているように構成
されている。図１に示されているバッチ式ＣＶＤ装置１
は気密室構造に構築された筐体２を備えている。筐体２
内の一端部（以下、後端部とする。）の上部にはヒータ
ユニット３が垂直方向に据え付けられており、ヒータユ
ニット３の内部にはプロセスチューブ４が同心に配置さ
れている。プロセスチューブ４にはプロセスチューブ４
内に原料ガスやパージガス等を導入するためのガス導入
管５と、プロセスチューブ４内を真空排気するための排
気管６とが接続されている。筐体２の後端部の下部には
ボートエレベータ７が設置されており、ボートエレベー
タ７はプロセスチューブ４の真下に配置されたボート８
を垂直方向に昇降させるように構成されている。ボート
８は多数枚のウエハ９を中心を揃えて水平に配置した状
態で支持して、プロセスチューブ４の処理室に対して搬
入搬出するように構成されている。 【００１１】筐体２の正面壁にはポッド出し入れ口（図
示せず）が開設されており、ポッド出し入れ口はフロン
トシャッタによって開閉されるようになっている。ポッ
ド出し入れ口にはポッド１０の位置合わせを実行するポ
ッドステージ１１が設置されており、ポッド１０はポッ
ド出し入れ口を通してポッドステージ１１に出し入れさ
れるようになっている。 【００１２】筐体２内の前後方向の中央部の上部には回
転式のポッド棚１２が設置されており、回転式のポッド
棚１２は合計十六個のポッド１０を保管するように構成
されている。すなわち、回転式のポッド棚１２は略卍形
状に形成された四段の棚板が上下方向に配置されて水平
面内で回転自在に支承されており、モータ等の間欠回転
駆動装置（図示せず）によってピッチ送り的に一方向に
回転されるようになっている。筐体２内のポッド棚１２
の下側には基板としてのウエハ９をポッド１０に対して
授受するためのウエハ授受ポート１３が一対、垂直方向
に上下二段に配置されて設置されており、両ウエハ授受
ポート１３、１３には後記するポッドオープナ２０がそ
れぞれ設置されている。 【００１３】筐体２内のポッドステージ１１とポッド棚
１２およびウエハ授受ポート１３との間にはポッド搬送
装置１４が設置されており、ポッド搬送装置１４はポッ
ドステージ１１とポッド棚１２およびウエハ授受ポート
１３との間およびポッド棚１２とウエハ授受ポート１３
との間でポッド１０を搬送するように構成されている。
また、ウエハ授受ポート１３とボート８との間にはウエ
ハ移載装置１５が設置されており、ウエハ移載装置１５
はウエハ授受ポート１３とボート８との間でウエハ９を
搬送するように構成されている。さらに、ボートエレベ
ータ７の脇にはボートチェンジャ１６が設置されてお
り、ボートチェンジャ１６は二台のボート８、８をボー
トエレベータ７に対して入れ替えるように構成されてい
る。 【００１４】上下のウエハ授受ポート１３、１３に設置
されたポッドオープナ２０、２０は同一に構成されてい
るため、ポッドオープナ２０の構成については上段のウ
エハ授受ポート１３に設置されたものについて説明す
る。 【００１５】図１に示されているように、キャリア開閉
装置としてのポッドオープナ２０は筐体２内においてウ
エハ授受ポート１３とウエハ移載装置１５とを仕切るよ
うに垂直に立脚された側壁をなすベース２１を備えてお
り、図２および図３に示されているように、ベース２１
にはポッド１０のドア１０ａに対して若干大きめに相似
する四角形に形成されたウエハ出し入れ口２２が開設さ
れている。ちなみに、ベース２１は上下のポッドオープ
ナ２０、２０で共用されているため、ベース２１には上
下で一対のウエハ出し入れ口２２、２２が垂直方向で縦
に並ぶように開設されている。 【００１６】図２に示されているように、ベース２１の
ウエハ授受ポート１３側の主面（以下、正面とする。）
におけるウエハ出し入れ口２２の下側には、アングル形
状の支持台２３が水平に固定されており、支持台２３の
平面視の形状は一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に
形成されている。支持台２３の上面には一対のガイドレ
ール２４、２４がベース２１の正面と平行方向（以下、
左右方向とする。）に配置されて、ベース２１の正面と
直角方向（以下、前後方向とする。）に延在するように
敷設されており、左右のガイドレール２４、２４には載
置台２７が複数個のガイドブロック２５を介して前後方
向に摺動自在に支承されている。載置台２７は支持台２
３の上面に据え付けられたエアシリンダ装置２６によっ
て前後方向に往復移動されるようになっている。 【００１７】図２に示されているように、載置台２７は
一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に形成されてお
り、載置台２７の上面には位置決めピン２８が三本、正
三角形の頂点に配置されて垂直に突設されている。三本
の位置決めピン２８はポッド１０が図３に示されている
ように載置台２７の上に載置された状態において、ポッ
ド１０の下面に没設された三箇所の位置決め凹部（図示
せず）に嵌入するようになっている。 【００１８】図４に示されているように、ベース２１の
ウエハ移載装置１５側の主面（以下、背面とする。）に
おけるウエハ出し入れ口２２の下側には、ガイドレール
３０が左右方向に水平に敷設されており、ガイドレール
３０にはアングル形状に形成された左右方向移動台３１
が左右方向に往復移動し得るように摺動自在に支承され
ている。左右方向移動台３１の垂直部材にはエアシリン
ダ装置３２が左右方向に水平に据え付けられており、エ
アシリンダ装置３２のピストンロッド３２ａの先端はベ
ース２１に固定されている。すなわち、左右方向移動台
３１はエアシリンダ装置３２の往復作動によって左右方
向に往復駆動されるようになっている。 【００１９】図５に示されているように、左右方向移動
台３１の水平部材の上面には一対のガイドレール３３、
３３が左右に配されて前後方向に延在するように敷設さ
れており、両ガイドレール３３、３３には前後方向移動
台３４が前後方向に往復移動し得るように摺動自在に支
承されている。前後方向移動台３４の片側端部にはガイ
ド孔３５が左右方向に延在するように開設されている。
左右方向移動台３１の一側面にはブラケット３６が固定
されており、ブラケット３６にはロータリーアクチュエ
ータ３７が垂直方向上向きに据え付けられている。ロー
タリーアクチュエータ３７のアーム３７ａの先端に垂直
に立脚されたガイドピン３８は前後方向移動台３４のガ
イド孔３５に摺動自在に嵌入されている。すなわち、前
後方向移動台３４はロータリーアクチュエータ３７の往
復回動によって前後方向に往復駆動されるように構成さ
れている。 【００２０】前後方向移動台３４の上面にはブラケット
３９が垂直に立脚されており、ブラケット３９の正面に
はウエハ出し入れ口２２に若干大きめに相似する長方形
の平盤形状に形成されたクロージャ４０が垂直に固定さ
れている。つまり、クロージャ４０は前後方向移動台３
４によって前後方向に往復移動されるようになっている
とともに、左右方向移動台３１によって左右方向に往復
移動されるようになっている。そして、クロージャ４０
は前進移動してそのベース側を向いた主面（以下、正面
とする。）がベース２１の背面に当接することによりウ
エハ出し入れ口２２を閉塞し得るようになっている。 【００２１】なお、図５に示されているように、ベース
２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の周りには、
ポッド１０の押し付け時にポッド１０のウエハ出し入れ
口およびベース２１のウエハ出し入れ口２２をシールす
るパッキン５４が敷設されている。クロージャ４０の正
面における外周縁近傍には、クロージャ４０の押し付け
時にベース２１のウエハ出し入れ口２２をシールするた
めのパッキン５５が敷設されている。クロージャ４０の
正面における外周縁のパッキン５５の内側には、ドア１
０ａに付着した異物がウエハ移載装置１５の設置室側へ
侵入するのを防止するためのパッキン５６が敷設されて
いる。便宜上、図４および図５においては、後記するチ
ャンバの図示が省略されている。 【００２２】図４に示されているように、クロージャ４
０の上下方向の中心線上には一対の解錠軸４１、４１が
左右に配置されて前後方向に挿通されて回転自在に支承
されている。両解錠軸４１、４１におけるクロージャ４
０のベースと反対側の主面（以下、背面とする。）側の
端部には一対のプーリー４２、４２が固定されており、
両プーリー４２、４２間には連結片４４を有するベルト
４３が巻き掛けられている。クロージャ４０の背面にお
ける一方のプーリー４２の上側にはエアシリンダ装置４
５が水平に据え付けられており、エアシリンダ装置４５
のピストンロッドの先端はベルト４３の連結片４４に連
結されている。すなわち、両解錠軸４１、４１はエアシ
リンダ装置４５の伸縮作動によって往復回動されるよう
になっている。図２に示されているように、両解錠軸４
１、４１のクロージャ４０の正面側の端部にはドア１０
ａの錠前（図示せず）に係合する係合部４１ａが直交し
て突設されている。 【００２３】図２に示されているように、クロージャ４
０の正面における一方の対角付近にはドア１０ａの表面
に吸着する吸着具（吸盤）４６が二個、吸込口部材４７
によってそれぞれ固定されている。吸着具４６を固定す
る吸込口部材４７は中空軸によって構成されており、吸
込口部材４７の背面側端は給排気路（図示せず）に接続
されている。吸込口部材４７の正面側端の外径はドア１
０ａに没設された位置決め穴（図示せず）に嵌入するよ
うに設定されている。すなわち、吸込口部材４７はドア
１０ａの位置決め穴に嵌入してドア１０ａを機械的に支
持するための支持ピンを兼用するように構成されてい
る。 【００２４】図２、図４および図６に示されているよう
に、ベース２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の
片脇にはロータリーアクチュエータ５０が回転軸５０ａ
が垂直方向になるように据え付けられており、回転軸５
０ａには略Ｃ字形状に形成されたアーム５１の一端が水
平面内で一体回動するように固定されている。アーム５
１はベース２１に開設された挿通孔５２を挿通されてお
り、アーム５１のベース２１の背面側の先端部にはマッ
ピング装置５３が固定されている。 【００２５】図６および図７に示されているように、ベ
ース２１の背面にはチャンバ６０が上下のポッドオープ
ナ２０、２０のクロージャ４０、４０を収容するように
敷設されており、チャンバ６０のクロージャ収容室６１
の水平方向の長さはクロージャ４０が横に移動してウエ
ハ出し入れ口２２を完全に開口させるのを許容し得るよ
うに設定されている。チャンバ６０の背面側の側壁の一
部には不活性ガスとしての窒素ガス６２をクロージャ収
容室６１に供給する給気管６３がクロージャ収容室６１
に連通するように接続されており、チャンバ６０の正面
壁を形成するベース２１の一部にはクロージャ収容室６
１に供給された窒素ガス６２を排気する排気管６４がク
ロージャ収容室６１に連通するように接続されている。
チャンバ６０の背面壁における上下のウエハ出し入れ口
２２、２２に対向する位置には、チャンバ６０のウエハ
出し入れ口６５、６５がそれぞれ開設されており、各ウ
エハ出し入れ口６５はクロージャ４０の背面部を挿入し
得る大きさの四角形の開口に形成されている。また、ウ
エハ出し入れ口６５はマッピング装置５３を背面側から
挿入し得るように設定されている。 【００２６】次に、前記構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置
の作用を説明する。なお、説明を理解し易くするため、
以下の説明においては、一方のウエハ授受ポート１３を
上段ポートＡとし、他方のウエハ授受ポート１３を下段
ポートＢとする。 【００２７】図１に示されているように、筐体２内のポ
ッドステージ１１にポッド出し入れ口から搬入されたポ
ッド１０は、ポッド搬送装置１４によって指定されたポ
ッド棚１２に適宜に搬送されて一時的に保管される。ポ
ッド棚１２に保管されたポッド１０はポッド搬送装置１
４によって適宜にピックアップされ、上段ポートＡに搬
送されて、ポッドオープナ２０の載置台２７に図３に示
されているように移載される。この際、ポッド１０の下
面に没設された位置決め凹部が載置台２７の三本の位置
決めピン２８とそれぞれ嵌合されることにより、ポッド
１０と載置台２７との位置合わせが実行される。 【００２８】ポッド１０が載置台２７に載置されて位置
合わせされると、載置台２７がエアシリンダ装置２６に
よってベース２１の方向に押され、図８（ａ）に示され
ているように、ポッド１０の開口側端面がベース２１の
正面におけるウエハ出し入れ口２２の開口縁辺部に押し
付けられる。また、ポッド１０がベース２１の方向に押
されると、クロージャ４０の解錠軸４１がドア１０ａの
鍵穴に挿入される。続いて、負圧がクロージャ４０の吸
込口部材４７に給排気路から供給されることにより、ポ
ッド１０のドア１０ａが吸着具４６によって真空吸着保
持される。この状態で、解錠軸４１がエアシリンダ装置
４５によって回動されると、解錠軸４１はドア１０ａ側
の錠前に係合した係合部４１ａによってドア１０ａの錠
前の施錠を解除する。 【００２９】次いで、前後方向移動台３４がロータリー
アクチュエータ３７の作動によってベース２１から離れ
る方向に移動されると、図８（ｂ）に示されているよう
に、クロージャ４０はポッド１０のドア１０ａを真空吸
着保持した状態でチャンバ６０のクロージャ収容室６１
に後退することにより、ドア１０ａをポッド１０のウエ
ハ出し入れ口１０ｂから抜き出す。これにより、ポッド
１０のウエハ出し入れ口１０ｂは開放された状態にな
る。 【００３０】クロージャ４０が前後方向移動台３４によ
ってさらに後退されると、図８（ｃ）に示されているよ
うに、クロージャ４０はチャンバ６０の背面壁に開設さ
れたウエハ出し入れ口６５にクロージャ収容室６１の内
側から挿入することにより、クロージャ収容室６１を密
封した状態になる。 【００３１】クロージャ４０がクロージャ収容室６１を
密封すると、図９（ａ）に示されているように、クロー
ジャ収容室６１には窒素ガス６２が給気管６３と排気管
６４とによって流通される。クロージャ収容室６１を流
通する窒素ガス６２はウエハ出し入れ口１０ｂからポッ
ド１０のウエハ収納室１０ｃに流入した後に流出するこ
とにより、ウエハ収納室１０ｃの大気を排気するととも
にウエハ収納室１０ｃに充満する。すなわち、チャンバ
６０のクロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ
収納室１０ｃにおける大気中の空気や水分は窒素ガス６
２によってパージされた状態になる。 【００３２】チャンバ６０のクロージャ収容室６１およ
びポッド１０のウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によ
ってパージされると、左右方向移動台３１がエアシリン
ダ装置３２の作動によってウエハ出し入れ口２２から離
れる方向に移動される。これにより、図９（ｂ）に示さ
れているように、ドア１０ａを吸着具４６によって真空
吸着保持したクロージャ４０はクロージャ収容室６１を
ベース２１のウエハ出し入れ口２２から離間した退避位
置に移動される。このクロージャ４０の退避移動によ
り、チャンバ６０のウエハ出し入れ口６５、ベース２１
のウエハ出し入れ口２２およびポッド１０のウエハ出し
入れ口１０ｂがそれぞれ開放された状態になる。この
際、予め、チャンバ６０のクロージャ収容室６１および
ポッド１０のウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によっ
てパージされているため、大気中の空気や水分がベース
２１の背面側空間であるウエハ移載装置１５の設置空間
に放出されることはなく、それらによるウエハ移載装置
１５の移載空間の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の発生
は防止されることになる。 【００３３】クロージャ４０が退避されると、図９
（ｃ）に示されているように、マッピング装置５３がロ
ータリーアクチュエータ５０の作動によって移動され
て、マッピング装置５３がポッド１０のウエハ収納室１
０ｃへチャンバ６０のウエハ出し入れ口６５、ベース２
１のウエハ出し入れ口２２およびポッド１０のウエハ出
し入れ口１０ｂを潜り抜けて挿入される。ポッド１０の
ウエハ収納室１０ｃへ挿入されたマッピング装置５３は
ウエハ収納室１０ｃに収納された複数枚のウエハ９を検
出することによってマッピングする。ここで、マッピン
グとはポッド１０の中のウエハ９の所在位置（ウエハ９
がどの保持溝にあるのか。）を確認することである。指
定されたマッピング作業が終了すると、マッピング装置
５３はロータリーアクチュエータ５０の作動によって元
の待機位置に戻される。この際、予め、チャンバ６０の
クロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室
１０ｃが窒素ガス６２によってパージされているため、
ウエハ収納室１０ｃのウエハ９が大気中の空気や水分に
接触することはなく、それらによるウエハ９の自然酸化
膜の堆積やパーティクルの付着等の弊害の発生は防止さ
れることになる。 【００３４】マッピング装置５３が待機位置に戻ると、
上段ポートＡにおいて開けられたポッド１０の複数枚の
ウエハ９はボート８にウエハ移載装置１５によって順次
装填（チャージング）されて行く。この際、ウエハ移載
装置１５の移載空間の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の
発生は防止されているため、移載中のウエハ９の自然酸
化膜の堆積やパーティクルの付着等の弊害の発生は防止
されることになる。 【００３５】この上段ポートＡにおけるウエハ移載装置
１５によるウエハ９のボート８への装填作業中に、下段
ポートＢにはポッド棚１２から別のポッド１０がポッド
搬送装置１４によって搬送されて移載され、ポッドオー
プナ２０による前述した位置決め作業からマッピング作
業が同時進行される。このように下段ポートＢにおいて
マッピング作業迄が同時進行されていると、上段ポート
Ａにおけるウエハ９のボート８への装填作業の終了と同
時に、下段ポートＢに待機させたポッド１０についての
ウエハ移載装置１５によるウエハ９のボート８への装填
作業を開始することができる。すなわち、ウエハ移載装
置１５はポッド１０の入替え作業についての待ち時間を
浪費することなくウエハ移載作業を連続して実施するこ
とができるため、バッチ式ＣＶＤ装置１のスループット
を高めることができる。 【００３６】翻って、上段ポートＡにおいてウエハ移載
装置１５によるウエハ９のボート８への装填作業が終了
すると、空ポッド閉じ作業が前述したポッド開放作業と
略逆の順序で実行される。すなわち、クロージャ４０に
保持されて退避されていたドア１０ａがウエハ出し入れ
口２２の位置に左右方向移動台３１によって戻され、前
後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口２２に挿入
されてポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入され
る。ドア１０ａがウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入される
と、解錠軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動さ
れ、ドア１０ａの錠前を施錠する。ドア１０ａの施錠が
終了すると、給排気路から吸込口部材４７へ供給されて
いた負圧が切られて大気に開放されることにより、吸着
具４６の真空吸着保持が解除される。続いて、載置台２
７がエアシリンダ装置２６によってベース２１から離れ
る方向に移動され、ポッド１０の開口側端面がベース２
１の正面から離座される。 【００３７】ドア１０ａによりウエハ出し入れ口１０ｂ
が閉塞された上段ポートＡの空のポッド１０は、ポッド
棚１２にポッド搬送装置１４によって搬送されて一時的
に戻される。空のポッド１０が上段ポートＡから搬出さ
れると、次の実ポッド１０が上段ポートＡに搬入され
る。以降、上段ポートＡおよび下段ポートＢにおいて、
前述した作業が必要回数繰り返される。 【００３８】以上のようにして上段ポートＡと下段ポー
トＢとに対するウエハ移載装置１５によるウエハ９のボ
ート８への装填作業が交互に繰り返されることによっ
て、複数枚のウエハ９がポッド１０からボート８に装填
されて行く。この際、バッチ処理するウエハ９の枚数
（例えば、百枚〜百五十枚）は一台のポッド１０に収納
されたウエハ９の枚数（例えば、二十五枚）よりも何倍
も多いため、複数台のポッド１０が上段ポートＡと下段
ポートＢとにポッド搬送装置１４によって交互に繰り返
し供給されることになる。 【００３９】予め指定された複数枚のウエハ９がポッド
１０からボート８に移載されると、ウエハ授受ポート１
３にとっては実質的に待機中となる成膜処理がプロセス
チューブ４において実行される。すなわち、ボート８は
ボートエレベータ７によって上昇されてプロセスチュー
ブ４の処理室に搬入される。ボート８が上限に達する
と、ボート８を保持したシールキャップの上面の周辺部
がプロセスチューブ４をシール状態に閉塞するため、処
理室は気密に閉じられた状態になる。プロセスチューブ
４の処理室が気密に閉じられた状態で、所定の真空度に
排気管６によって真空排気され、ヒータユニット３によ
って所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入
管５によって所定の流量だけ供給される。これにより、
所定の膜がウエハ９に形成される。そして、予め設定さ
れた処理時間が経過すると、ボート８がボートエレベー
タ７によって下降されることにより、処理済みウエハ９
を保持したボート８が元の装填および脱装ステーション
（以下、装填ステーションという。）に搬出される。 【００４０】以上の成膜処理の実行中に上段ポートＡお
よび下段ポートＢにおいては、他方のボート８に保持さ
れた処理済みウエハ９の脱装（ディスチャージング）作
業が同時進行されている。すなわち、装填ステーション
に搬出されたボート８の処理済みウエハ９はウエハ移載
装置１５によってピックアップされ、上段ポートＡに予
め搬入されてドア１０ａを外されて開放された空のポッ
ド１０に収納される。上段ポートＡでの空のポッド１０
への所定の枚数のウエハ９の収容が終了すると、クロー
ジャ４０に保持されて退避されていたドア１０ａがウエ
ハ出し入れ口２２の位置に左右方向移動台３１によって
戻され、前後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口
２２に挿入されポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂに
嵌入される。この際にも、窒素ガス６２がクロージャ収
容室６１に給気管６３と排気管６４とによって流通され
ることにより、クロージャ室６１およびポッド１０のウ
エハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によってパージされ、
ポッド収納室１０ｃに窒素ガス６２が充填される。ドア
１０ａがウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入されると、解錠
軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動され、ドア
１０ａの錠前を施錠する。これにより、ウエハ収納室１
０ｃには窒素ガス６２が密封された状態になる。ドア１
０ａの施錠が終了すると、給排気路から吸込口部材４７
に供給されていた負圧が切られて大気に開放されること
により、吸着具４６のドア１０ａの真空吸着保持が解除
される。続いて、載置台２７がエアシリンダ装置２６に
よってベース２１から離れる方向に移動され、ポッド１
０の開口側端面がベース２１の正面から離座される。次
いで、処理済みのウエハ９が収納された処理済み実ポッ
ド１０はポッド棚１２にポッド搬送装置１４によって搬
送されて戻される。 【００４１】処理済みウエハ９を収納してポッド棚１２
に戻されたポッド１０はポッド棚１２からポッドステー
ジ１１へポッド搬送装置１４によって搬送される。ポッ
ドステージ１１に移載されたポッド１０はポッド出し入
れ口から筐体２の外部に搬出されて、洗浄工程や成膜検
査工程等の次工程へ搬送される。そして、新規のウエハ
９を収納したポッド１０が筐体２内のポッドステージ１
１にポッド出し入れ口から搬入される。 【００４２】なお、新旧ポッド１０のポッドステージ１
１への搬入搬出（ポッドローディングおよびポッドアン
ローディング）作業およびポッドステージ１１とポッド
棚１２との間の入替え作業は、プロセスチューブ４にお
けるボート８の搬入搬出（ボートローディングおよびボ
ートアンローディング）作業や成膜処理の間すなわち成
膜待機ステップＳｔ（Ｓｐ）の実行中に同時進行される
ため、バッチ式ＣＶＤ装置１の全体としての作業時間が
延長されるのを防止することができる。 【００４３】以降、以上説明したウエハ装填脱装方法お
よび成膜方法が繰り返されて、ＣＶＤ膜がウエハ９にバ
ッチ式ＣＶＤ装置１によって形成され、半導体素子を含
む集積回路がウエハ９に作り込まれる半導体装置の製造
方法における成膜工程が実施されて行く。 【００４４】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。 【００４５】1) ポッドオープナ２０のベース２１にポ
ッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂを被覆するチャンバ
６０を敷設し、このチャンバ６０には窒素ガス６２をク
ロージャ収容室６１に流通させるための給気管６３およ
び排気管６４を接続することにより、ポッドオープナ２
０によるポッド１０の開放時に窒素ガス６２をチャンバ
６０のクロージャ収納室６１に充填することができるた
め、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃに閉じ込められて
いた大気を窒素ガス６２によって排気するとともに、ク
ロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室１
０ｃにおける大気中の空気や水分を窒素ガス６２によっ
てパージすることができる。 【００４６】2) チャンバ６０のクロージャ収容室６１
やポッド１０のウエハ収納室１０ｃを窒素ガス６２によ
ってパージすることにより、ポッド１０のウエハ収納室
１０ｃに閉じ込められていた大気中の空気や水分がベー
ス２１の背面側空間であるウエハ移載装置１５の設置空
間に放出されるのを防止することができるため、それら
によるウエハ移載装置１５の移載空間の汚染や酸素濃度
の上昇等の弊害の発生は防止することができる。 【００４７】3) また、ポッド１０のウエハ出し入れ口
１０ｂの開放時にウエハ収納室１０ｃのウエハ９が大気
中の空気や水分に接触するのを防止することができるた
め、それらによるウエハ９の自然酸化膜の堆積やパーテ
ィクルの付着等の弊害の発生を防止することができる。
さらに、ポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂの閉鎖時
に、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃに窒素ガス６２を
充填して密封することにより、収納中のウエハの自然酸
化等を抑制することができる。 【００４８】4) チャンバ６０の背面壁のウエハ出し入
れ口６５をクロージャ４０によって密封することができ
るように構成することにより、窒素ガス６２のクロージ
ャ収容室６１への充填時にウエハ出し入れ口６５をクロ
ージャ４０によって密封することができるため、クロー
ジャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室１０ｃ
を窒素ガス６２によって効率的にパージすることができ
る。 【００４９】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。 【００５０】例えば、ウエハ授受ポートは上下二段設置
するに限らず、一段だけ設置してもよいし、上中下三段
のように三段以上設置してもよい。 【００５１】マッピング装置をポッドに対して進退させ
る構造としてはロータリーアクチュエータを使用した構
成を採用するに限らず、ＸＹ軸ロボット等を使用した構
成を採用してもよい。また、マッピング装置は省略して
もよい。 【００５２】基板はウエハに限らず、ホトマスクやプリ
ント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスクおよび
磁気ディスク等であってもよい。 【００５３】バッチ式ＣＶＤ装置は成膜処理に使用する
ＣＶＤ装置に限らず、酸化膜形成処理や拡散処理等の熱
処理にも使用することができる。 【００５４】前記実施の形態ではバッチ式縦形拡散・Ｃ
ＶＤ装置の場合について説明したが、本発明はこれに限
らず、バッチ式ＣＶＤ装置全般に適用することができ
る。 【００５５】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板の自然酸化膜の堆積やパーティクルの付着、内側空
間の汚染や酸素濃度の上昇等のポッドの開放時における
弊害の発生を防止することができる。
し、特に、ドアを有するキャリアを開閉する技術に係
り、例えば、半導体素子を含む半導体集積回路を作り込
まれる基板としての半導体ウエハ（以下、ウエハとい
う。）に絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したり不純
物を拡散したりするバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置に利
用して有効なものに関する。 【０００２】 【従来の技術】基板処理装置の一例であるバッチ式縦形
拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置とい
う。）においては、複数枚のウエハがキャリア（ウエハ
収納容器）に収納された状態で扱われる。従来のこの種
のキャリアとして、互いに対向する一対の面が開口され
た略立方体の箱形状に形成されているオープンカセット
と、一つの面が開口された略立方体の箱形状に形成され
開口面にドアが着脱自在に装着されているＦＯＵＰ（fr
ont opening unified pod 。以下、ポッドという。）と
がある。 【０００３】ウエハのキャリアとしてポッドが使用され
る場合には、ウエハが密閉された状態で搬送されること
になるため、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在して
いたとしてもウエハの清浄度は維持することができる。
したがって、バッチ式ＣＶＤ装置が設置されるクリーン
ルーム内の清浄度をあまり高く設定する必要がなくなる
ため、クリーンルームに要するコストを低減することが
できる。そこで、最近のバッチ式ＣＶＤ装置においては
ウエハのキャリアとしてポッドが使用されて来ている。 【０００４】ウエハのキャリアとしてポッドを使用する
バッチ式ＣＶＤ装置においては、ドアを着脱してポッド
のウエハ出し入れ口を開閉するポッド開閉装置（以下、
ポッドオープナという。）が、ポッドに対してウエハを
出し入れするためのウエハ授受ポートに設置されてい
る。従来のこの種のポッドオープナはポッドを保持する
載置台と、載置台が保持したポッドのドアを保持するク
ロージャとを備えており、クロージャがドアを保持した
状態で進退することにより、ドアをポッドのウエハ出し
入れ口に対して着脱するように構成されている。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
バッチ式ＣＶＤ装置においては、ポッドがポッドオープ
ナによって開放されると、ポッドのウエハ収納室が大気
雰囲気に晒される状態になるため、ウエハ収納室に収納
されたウエハに自然酸化膜が堆積したりパーティクルが
付着したりする場合がある。また、ポッドのウエハ収納
室には不活性ガスが充填される場合もあるが、ポッドの
ウエハ収納室は大気雰囲気になっているのが通例であ
る。大気雰囲気になっている場合には、ポッドが開放さ
れた際に、ポッドのウエハ収納室の大気がバッチ式ＣＶ
Ｄ装置におけるウエハ授受ポートの内側空間に侵入して
しまうため、内側空間を汚染したり酸素濃度を上昇させ
てしまうという問題点が発生する。 【０００６】本発明の目的は、基板の自然酸化膜の堆積
やパーティクルの付着、内側空間の汚染や酸素濃度の上
昇等のポッドの開放時における弊害の発生を防止するこ
とができる基板処理装置を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ための手段は、複数枚の基板が基板出し入れ口から収納
されこの基板出し入れ口にはドアが着脱自在に装着され
たキャリアを取り扱う基板処理装置であって、前記キャ
リアに対して前記基板を出し入れする基板授受ポートが
設けられているとともに、この基板授受ポートには前記
ドアを着脱して前記キャリアを開閉するキャリア開閉装
置が設けられており、前記基板授受ポートには前記キャ
リアの前記基板出し入れ口を被覆するチャンバが設置さ
れ、このチャンバには前記キャリアの内部に前記基板出
し入れ口から不活性ガスを導入させる給気管が接続され
ていることを特徴とする。 【０００８】前記した手段によれば、ドアが外されてキ
ャリアの基板出し入れ口が開放された際に、チャンバに
不活性ガスを供給することにより、不活性ガスをキャリ
アの内部に基板出し入れ口から流通させて不活性ガスに
よってパージすることができるため、基板の自然酸化膜
の堆積やパーティクルの付着、内側空間の汚染や酸素濃
度の上昇等のポッドの開放時における弊害の発生を防止
することができる。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。 【００１０】本実施の形態において、本発明に係る基板
処理装置は、バッチ式ＣＶＤ装置すなわちバッチ式縦形
拡散・ＣＶＤ装置として図１に示されているように構成
されている。図１に示されているバッチ式ＣＶＤ装置１
は気密室構造に構築された筐体２を備えている。筐体２
内の一端部（以下、後端部とする。）の上部にはヒータ
ユニット３が垂直方向に据え付けられており、ヒータユ
ニット３の内部にはプロセスチューブ４が同心に配置さ
れている。プロセスチューブ４にはプロセスチューブ４
内に原料ガスやパージガス等を導入するためのガス導入
管５と、プロセスチューブ４内を真空排気するための排
気管６とが接続されている。筐体２の後端部の下部には
ボートエレベータ７が設置されており、ボートエレベー
タ７はプロセスチューブ４の真下に配置されたボート８
を垂直方向に昇降させるように構成されている。ボート
８は多数枚のウエハ９を中心を揃えて水平に配置した状
態で支持して、プロセスチューブ４の処理室に対して搬
入搬出するように構成されている。 【００１１】筐体２の正面壁にはポッド出し入れ口（図
示せず）が開設されており、ポッド出し入れ口はフロン
トシャッタによって開閉されるようになっている。ポッ
ド出し入れ口にはポッド１０の位置合わせを実行するポ
ッドステージ１１が設置されており、ポッド１０はポッ
ド出し入れ口を通してポッドステージ１１に出し入れさ
れるようになっている。 【００１２】筐体２内の前後方向の中央部の上部には回
転式のポッド棚１２が設置されており、回転式のポッド
棚１２は合計十六個のポッド１０を保管するように構成
されている。すなわち、回転式のポッド棚１２は略卍形
状に形成された四段の棚板が上下方向に配置されて水平
面内で回転自在に支承されており、モータ等の間欠回転
駆動装置（図示せず）によってピッチ送り的に一方向に
回転されるようになっている。筐体２内のポッド棚１２
の下側には基板としてのウエハ９をポッド１０に対して
授受するためのウエハ授受ポート１３が一対、垂直方向
に上下二段に配置されて設置されており、両ウエハ授受
ポート１３、１３には後記するポッドオープナ２０がそ
れぞれ設置されている。 【００１３】筐体２内のポッドステージ１１とポッド棚
１２およびウエハ授受ポート１３との間にはポッド搬送
装置１４が設置されており、ポッド搬送装置１４はポッ
ドステージ１１とポッド棚１２およびウエハ授受ポート
１３との間およびポッド棚１２とウエハ授受ポート１３
との間でポッド１０を搬送するように構成されている。
また、ウエハ授受ポート１３とボート８との間にはウエ
ハ移載装置１５が設置されており、ウエハ移載装置１５
はウエハ授受ポート１３とボート８との間でウエハ９を
搬送するように構成されている。さらに、ボートエレベ
ータ７の脇にはボートチェンジャ１６が設置されてお
り、ボートチェンジャ１６は二台のボート８、８をボー
トエレベータ７に対して入れ替えるように構成されてい
る。 【００１４】上下のウエハ授受ポート１３、１３に設置
されたポッドオープナ２０、２０は同一に構成されてい
るため、ポッドオープナ２０の構成については上段のウ
エハ授受ポート１３に設置されたものについて説明す
る。 【００１５】図１に示されているように、キャリア開閉
装置としてのポッドオープナ２０は筐体２内においてウ
エハ授受ポート１３とウエハ移載装置１５とを仕切るよ
うに垂直に立脚された側壁をなすベース２１を備えてお
り、図２および図３に示されているように、ベース２１
にはポッド１０のドア１０ａに対して若干大きめに相似
する四角形に形成されたウエハ出し入れ口２２が開設さ
れている。ちなみに、ベース２１は上下のポッドオープ
ナ２０、２０で共用されているため、ベース２１には上
下で一対のウエハ出し入れ口２２、２２が垂直方向で縦
に並ぶように開設されている。 【００１６】図２に示されているように、ベース２１の
ウエハ授受ポート１３側の主面（以下、正面とする。）
におけるウエハ出し入れ口２２の下側には、アングル形
状の支持台２３が水平に固定されており、支持台２３の
平面視の形状は一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に
形成されている。支持台２３の上面には一対のガイドレ
ール２４、２４がベース２１の正面と平行方向（以下、
左右方向とする。）に配置されて、ベース２１の正面と
直角方向（以下、前後方向とする。）に延在するように
敷設されており、左右のガイドレール２４、２４には載
置台２７が複数個のガイドブロック２５を介して前後方
向に摺動自在に支承されている。載置台２７は支持台２
３の上面に据え付けられたエアシリンダ装置２６によっ
て前後方向に往復移動されるようになっている。 【００１７】図２に示されているように、載置台２７は
一部が切り欠かれた略正方形の枠形状に形成されてお
り、載置台２７の上面には位置決めピン２８が三本、正
三角形の頂点に配置されて垂直に突設されている。三本
の位置決めピン２８はポッド１０が図３に示されている
ように載置台２７の上に載置された状態において、ポッ
ド１０の下面に没設された三箇所の位置決め凹部（図示
せず）に嵌入するようになっている。 【００１８】図４に示されているように、ベース２１の
ウエハ移載装置１５側の主面（以下、背面とする。）に
おけるウエハ出し入れ口２２の下側には、ガイドレール
３０が左右方向に水平に敷設されており、ガイドレール
３０にはアングル形状に形成された左右方向移動台３１
が左右方向に往復移動し得るように摺動自在に支承され
ている。左右方向移動台３１の垂直部材にはエアシリン
ダ装置３２が左右方向に水平に据え付けられており、エ
アシリンダ装置３２のピストンロッド３２ａの先端はベ
ース２１に固定されている。すなわち、左右方向移動台
３１はエアシリンダ装置３２の往復作動によって左右方
向に往復駆動されるようになっている。 【００１９】図５に示されているように、左右方向移動
台３１の水平部材の上面には一対のガイドレール３３、
３３が左右に配されて前後方向に延在するように敷設さ
れており、両ガイドレール３３、３３には前後方向移動
台３４が前後方向に往復移動し得るように摺動自在に支
承されている。前後方向移動台３４の片側端部にはガイ
ド孔３５が左右方向に延在するように開設されている。
左右方向移動台３１の一側面にはブラケット３６が固定
されており、ブラケット３６にはロータリーアクチュエ
ータ３７が垂直方向上向きに据え付けられている。ロー
タリーアクチュエータ３７のアーム３７ａの先端に垂直
に立脚されたガイドピン３８は前後方向移動台３４のガ
イド孔３５に摺動自在に嵌入されている。すなわち、前
後方向移動台３４はロータリーアクチュエータ３７の往
復回動によって前後方向に往復駆動されるように構成さ
れている。 【００２０】前後方向移動台３４の上面にはブラケット
３９が垂直に立脚されており、ブラケット３９の正面に
はウエハ出し入れ口２２に若干大きめに相似する長方形
の平盤形状に形成されたクロージャ４０が垂直に固定さ
れている。つまり、クロージャ４０は前後方向移動台３
４によって前後方向に往復移動されるようになっている
とともに、左右方向移動台３１によって左右方向に往復
移動されるようになっている。そして、クロージャ４０
は前進移動してそのベース側を向いた主面（以下、正面
とする。）がベース２１の背面に当接することによりウ
エハ出し入れ口２２を閉塞し得るようになっている。 【００２１】なお、図５に示されているように、ベース
２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の周りには、
ポッド１０の押し付け時にポッド１０のウエハ出し入れ
口およびベース２１のウエハ出し入れ口２２をシールす
るパッキン５４が敷設されている。クロージャ４０の正
面における外周縁近傍には、クロージャ４０の押し付け
時にベース２１のウエハ出し入れ口２２をシールするた
めのパッキン５５が敷設されている。クロージャ４０の
正面における外周縁のパッキン５５の内側には、ドア１
０ａに付着した異物がウエハ移載装置１５の設置室側へ
侵入するのを防止するためのパッキン５６が敷設されて
いる。便宜上、図４および図５においては、後記するチ
ャンバの図示が省略されている。 【００２２】図４に示されているように、クロージャ４
０の上下方向の中心線上には一対の解錠軸４１、４１が
左右に配置されて前後方向に挿通されて回転自在に支承
されている。両解錠軸４１、４１におけるクロージャ４
０のベースと反対側の主面（以下、背面とする。）側の
端部には一対のプーリー４２、４２が固定されており、
両プーリー４２、４２間には連結片４４を有するベルト
４３が巻き掛けられている。クロージャ４０の背面にお
ける一方のプーリー４２の上側にはエアシリンダ装置４
５が水平に据え付けられており、エアシリンダ装置４５
のピストンロッドの先端はベルト４３の連結片４４に連
結されている。すなわち、両解錠軸４１、４１はエアシ
リンダ装置４５の伸縮作動によって往復回動されるよう
になっている。図２に示されているように、両解錠軸４
１、４１のクロージャ４０の正面側の端部にはドア１０
ａの錠前（図示せず）に係合する係合部４１ａが直交し
て突設されている。 【００２３】図２に示されているように、クロージャ４
０の正面における一方の対角付近にはドア１０ａの表面
に吸着する吸着具（吸盤）４６が二個、吸込口部材４７
によってそれぞれ固定されている。吸着具４６を固定す
る吸込口部材４７は中空軸によって構成されており、吸
込口部材４７の背面側端は給排気路（図示せず）に接続
されている。吸込口部材４７の正面側端の外径はドア１
０ａに没設された位置決め穴（図示せず）に嵌入するよ
うに設定されている。すなわち、吸込口部材４７はドア
１０ａの位置決め穴に嵌入してドア１０ａを機械的に支
持するための支持ピンを兼用するように構成されてい
る。 【００２４】図２、図４および図６に示されているよう
に、ベース２１の正面におけるウエハ出し入れ口２２の
片脇にはロータリーアクチュエータ５０が回転軸５０ａ
が垂直方向になるように据え付けられており、回転軸５
０ａには略Ｃ字形状に形成されたアーム５１の一端が水
平面内で一体回動するように固定されている。アーム５
１はベース２１に開設された挿通孔５２を挿通されてお
り、アーム５１のベース２１の背面側の先端部にはマッ
ピング装置５３が固定されている。 【００２５】図６および図７に示されているように、ベ
ース２１の背面にはチャンバ６０が上下のポッドオープ
ナ２０、２０のクロージャ４０、４０を収容するように
敷設されており、チャンバ６０のクロージャ収容室６１
の水平方向の長さはクロージャ４０が横に移動してウエ
ハ出し入れ口２２を完全に開口させるのを許容し得るよ
うに設定されている。チャンバ６０の背面側の側壁の一
部には不活性ガスとしての窒素ガス６２をクロージャ収
容室６１に供給する給気管６３がクロージャ収容室６１
に連通するように接続されており、チャンバ６０の正面
壁を形成するベース２１の一部にはクロージャ収容室６
１に供給された窒素ガス６２を排気する排気管６４がク
ロージャ収容室６１に連通するように接続されている。
チャンバ６０の背面壁における上下のウエハ出し入れ口
２２、２２に対向する位置には、チャンバ６０のウエハ
出し入れ口６５、６５がそれぞれ開設されており、各ウ
エハ出し入れ口６５はクロージャ４０の背面部を挿入し
得る大きさの四角形の開口に形成されている。また、ウ
エハ出し入れ口６５はマッピング装置５３を背面側から
挿入し得るように設定されている。 【００２６】次に、前記構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置
の作用を説明する。なお、説明を理解し易くするため、
以下の説明においては、一方のウエハ授受ポート１３を
上段ポートＡとし、他方のウエハ授受ポート１３を下段
ポートＢとする。 【００２７】図１に示されているように、筐体２内のポ
ッドステージ１１にポッド出し入れ口から搬入されたポ
ッド１０は、ポッド搬送装置１４によって指定されたポ
ッド棚１２に適宜に搬送されて一時的に保管される。ポ
ッド棚１２に保管されたポッド１０はポッド搬送装置１
４によって適宜にピックアップされ、上段ポートＡに搬
送されて、ポッドオープナ２０の載置台２７に図３に示
されているように移載される。この際、ポッド１０の下
面に没設された位置決め凹部が載置台２７の三本の位置
決めピン２８とそれぞれ嵌合されることにより、ポッド
１０と載置台２７との位置合わせが実行される。 【００２８】ポッド１０が載置台２７に載置されて位置
合わせされると、載置台２７がエアシリンダ装置２６に
よってベース２１の方向に押され、図８（ａ）に示され
ているように、ポッド１０の開口側端面がベース２１の
正面におけるウエハ出し入れ口２２の開口縁辺部に押し
付けられる。また、ポッド１０がベース２１の方向に押
されると、クロージャ４０の解錠軸４１がドア１０ａの
鍵穴に挿入される。続いて、負圧がクロージャ４０の吸
込口部材４７に給排気路から供給されることにより、ポ
ッド１０のドア１０ａが吸着具４６によって真空吸着保
持される。この状態で、解錠軸４１がエアシリンダ装置
４５によって回動されると、解錠軸４１はドア１０ａ側
の錠前に係合した係合部４１ａによってドア１０ａの錠
前の施錠を解除する。 【００２９】次いで、前後方向移動台３４がロータリー
アクチュエータ３７の作動によってベース２１から離れ
る方向に移動されると、図８（ｂ）に示されているよう
に、クロージャ４０はポッド１０のドア１０ａを真空吸
着保持した状態でチャンバ６０のクロージャ収容室６１
に後退することにより、ドア１０ａをポッド１０のウエ
ハ出し入れ口１０ｂから抜き出す。これにより、ポッド
１０のウエハ出し入れ口１０ｂは開放された状態にな
る。 【００３０】クロージャ４０が前後方向移動台３４によ
ってさらに後退されると、図８（ｃ）に示されているよ
うに、クロージャ４０はチャンバ６０の背面壁に開設さ
れたウエハ出し入れ口６５にクロージャ収容室６１の内
側から挿入することにより、クロージャ収容室６１を密
封した状態になる。 【００３１】クロージャ４０がクロージャ収容室６１を
密封すると、図９（ａ）に示されているように、クロー
ジャ収容室６１には窒素ガス６２が給気管６３と排気管
６４とによって流通される。クロージャ収容室６１を流
通する窒素ガス６２はウエハ出し入れ口１０ｂからポッ
ド１０のウエハ収納室１０ｃに流入した後に流出するこ
とにより、ウエハ収納室１０ｃの大気を排気するととも
にウエハ収納室１０ｃに充満する。すなわち、チャンバ
６０のクロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ
収納室１０ｃにおける大気中の空気や水分は窒素ガス６
２によってパージされた状態になる。 【００３２】チャンバ６０のクロージャ収容室６１およ
びポッド１０のウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によ
ってパージされると、左右方向移動台３１がエアシリン
ダ装置３２の作動によってウエハ出し入れ口２２から離
れる方向に移動される。これにより、図９（ｂ）に示さ
れているように、ドア１０ａを吸着具４６によって真空
吸着保持したクロージャ４０はクロージャ収容室６１を
ベース２１のウエハ出し入れ口２２から離間した退避位
置に移動される。このクロージャ４０の退避移動によ
り、チャンバ６０のウエハ出し入れ口６５、ベース２１
のウエハ出し入れ口２２およびポッド１０のウエハ出し
入れ口１０ｂがそれぞれ開放された状態になる。この
際、予め、チャンバ６０のクロージャ収容室６１および
ポッド１０のウエハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によっ
てパージされているため、大気中の空気や水分がベース
２１の背面側空間であるウエハ移載装置１５の設置空間
に放出されることはなく、それらによるウエハ移載装置
１５の移載空間の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の発生
は防止されることになる。 【００３３】クロージャ４０が退避されると、図９
（ｃ）に示されているように、マッピング装置５３がロ
ータリーアクチュエータ５０の作動によって移動され
て、マッピング装置５３がポッド１０のウエハ収納室１
０ｃへチャンバ６０のウエハ出し入れ口６５、ベース２
１のウエハ出し入れ口２２およびポッド１０のウエハ出
し入れ口１０ｂを潜り抜けて挿入される。ポッド１０の
ウエハ収納室１０ｃへ挿入されたマッピング装置５３は
ウエハ収納室１０ｃに収納された複数枚のウエハ９を検
出することによってマッピングする。ここで、マッピン
グとはポッド１０の中のウエハ９の所在位置（ウエハ９
がどの保持溝にあるのか。）を確認することである。指
定されたマッピング作業が終了すると、マッピング装置
５３はロータリーアクチュエータ５０の作動によって元
の待機位置に戻される。この際、予め、チャンバ６０の
クロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室
１０ｃが窒素ガス６２によってパージされているため、
ウエハ収納室１０ｃのウエハ９が大気中の空気や水分に
接触することはなく、それらによるウエハ９の自然酸化
膜の堆積やパーティクルの付着等の弊害の発生は防止さ
れることになる。 【００３４】マッピング装置５３が待機位置に戻ると、
上段ポートＡにおいて開けられたポッド１０の複数枚の
ウエハ９はボート８にウエハ移載装置１５によって順次
装填（チャージング）されて行く。この際、ウエハ移載
装置１５の移載空間の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の
発生は防止されているため、移載中のウエハ９の自然酸
化膜の堆積やパーティクルの付着等の弊害の発生は防止
されることになる。 【００３５】この上段ポートＡにおけるウエハ移載装置
１５によるウエハ９のボート８への装填作業中に、下段
ポートＢにはポッド棚１２から別のポッド１０がポッド
搬送装置１４によって搬送されて移載され、ポッドオー
プナ２０による前述した位置決め作業からマッピング作
業が同時進行される。このように下段ポートＢにおいて
マッピング作業迄が同時進行されていると、上段ポート
Ａにおけるウエハ９のボート８への装填作業の終了と同
時に、下段ポートＢに待機させたポッド１０についての
ウエハ移載装置１５によるウエハ９のボート８への装填
作業を開始することができる。すなわち、ウエハ移載装
置１５はポッド１０の入替え作業についての待ち時間を
浪費することなくウエハ移載作業を連続して実施するこ
とができるため、バッチ式ＣＶＤ装置１のスループット
を高めることができる。 【００３６】翻って、上段ポートＡにおいてウエハ移載
装置１５によるウエハ９のボート８への装填作業が終了
すると、空ポッド閉じ作業が前述したポッド開放作業と
略逆の順序で実行される。すなわち、クロージャ４０に
保持されて退避されていたドア１０ａがウエハ出し入れ
口２２の位置に左右方向移動台３１によって戻され、前
後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口２２に挿入
されてポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入され
る。ドア１０ａがウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入される
と、解錠軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動さ
れ、ドア１０ａの錠前を施錠する。ドア１０ａの施錠が
終了すると、給排気路から吸込口部材４７へ供給されて
いた負圧が切られて大気に開放されることにより、吸着
具４６の真空吸着保持が解除される。続いて、載置台２
７がエアシリンダ装置２６によってベース２１から離れ
る方向に移動され、ポッド１０の開口側端面がベース２
１の正面から離座される。 【００３７】ドア１０ａによりウエハ出し入れ口１０ｂ
が閉塞された上段ポートＡの空のポッド１０は、ポッド
棚１２にポッド搬送装置１４によって搬送されて一時的
に戻される。空のポッド１０が上段ポートＡから搬出さ
れると、次の実ポッド１０が上段ポートＡに搬入され
る。以降、上段ポートＡおよび下段ポートＢにおいて、
前述した作業が必要回数繰り返される。 【００３８】以上のようにして上段ポートＡと下段ポー
トＢとに対するウエハ移載装置１５によるウエハ９のボ
ート８への装填作業が交互に繰り返されることによっ
て、複数枚のウエハ９がポッド１０からボート８に装填
されて行く。この際、バッチ処理するウエハ９の枚数
（例えば、百枚〜百五十枚）は一台のポッド１０に収納
されたウエハ９の枚数（例えば、二十五枚）よりも何倍
も多いため、複数台のポッド１０が上段ポートＡと下段
ポートＢとにポッド搬送装置１４によって交互に繰り返
し供給されることになる。 【００３９】予め指定された複数枚のウエハ９がポッド
１０からボート８に移載されると、ウエハ授受ポート１
３にとっては実質的に待機中となる成膜処理がプロセス
チューブ４において実行される。すなわち、ボート８は
ボートエレベータ７によって上昇されてプロセスチュー
ブ４の処理室に搬入される。ボート８が上限に達する
と、ボート８を保持したシールキャップの上面の周辺部
がプロセスチューブ４をシール状態に閉塞するため、処
理室は気密に閉じられた状態になる。プロセスチューブ
４の処理室が気密に閉じられた状態で、所定の真空度に
排気管６によって真空排気され、ヒータユニット３によ
って所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入
管５によって所定の流量だけ供給される。これにより、
所定の膜がウエハ９に形成される。そして、予め設定さ
れた処理時間が経過すると、ボート８がボートエレベー
タ７によって下降されることにより、処理済みウエハ９
を保持したボート８が元の装填および脱装ステーション
（以下、装填ステーションという。）に搬出される。 【００４０】以上の成膜処理の実行中に上段ポートＡお
よび下段ポートＢにおいては、他方のボート８に保持さ
れた処理済みウエハ９の脱装（ディスチャージング）作
業が同時進行されている。すなわち、装填ステーション
に搬出されたボート８の処理済みウエハ９はウエハ移載
装置１５によってピックアップされ、上段ポートＡに予
め搬入されてドア１０ａを外されて開放された空のポッ
ド１０に収納される。上段ポートＡでの空のポッド１０
への所定の枚数のウエハ９の収容が終了すると、クロー
ジャ４０に保持されて退避されていたドア１０ａがウエ
ハ出し入れ口２２の位置に左右方向移動台３１によって
戻され、前後方向移動台３４によってウエハ出し入れ口
２２に挿入されポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂに
嵌入される。この際にも、窒素ガス６２がクロージャ収
容室６１に給気管６３と排気管６４とによって流通され
ることにより、クロージャ室６１およびポッド１０のウ
エハ収納室１０ｃが窒素ガス６２によってパージされ、
ポッド収納室１０ｃに窒素ガス６２が充填される。ドア
１０ａがウエハ出し入れ口１０ｂに嵌入されると、解錠
軸４１がエアシリンダ装置４５によって回動され、ドア
１０ａの錠前を施錠する。これにより、ウエハ収納室１
０ｃには窒素ガス６２が密封された状態になる。ドア１
０ａの施錠が終了すると、給排気路から吸込口部材４７
に供給されていた負圧が切られて大気に開放されること
により、吸着具４６のドア１０ａの真空吸着保持が解除
される。続いて、載置台２７がエアシリンダ装置２６に
よってベース２１から離れる方向に移動され、ポッド１
０の開口側端面がベース２１の正面から離座される。次
いで、処理済みのウエハ９が収納された処理済み実ポッ
ド１０はポッド棚１２にポッド搬送装置１４によって搬
送されて戻される。 【００４１】処理済みウエハ９を収納してポッド棚１２
に戻されたポッド１０はポッド棚１２からポッドステー
ジ１１へポッド搬送装置１４によって搬送される。ポッ
ドステージ１１に移載されたポッド１０はポッド出し入
れ口から筐体２の外部に搬出されて、洗浄工程や成膜検
査工程等の次工程へ搬送される。そして、新規のウエハ
９を収納したポッド１０が筐体２内のポッドステージ１
１にポッド出し入れ口から搬入される。 【００４２】なお、新旧ポッド１０のポッドステージ１
１への搬入搬出（ポッドローディングおよびポッドアン
ローディング）作業およびポッドステージ１１とポッド
棚１２との間の入替え作業は、プロセスチューブ４にお
けるボート８の搬入搬出（ボートローディングおよびボ
ートアンローディング）作業や成膜処理の間すなわち成
膜待機ステップＳｔ（Ｓｐ）の実行中に同時進行される
ため、バッチ式ＣＶＤ装置１の全体としての作業時間が
延長されるのを防止することができる。 【００４３】以降、以上説明したウエハ装填脱装方法お
よび成膜方法が繰り返されて、ＣＶＤ膜がウエハ９にバ
ッチ式ＣＶＤ装置１によって形成され、半導体素子を含
む集積回路がウエハ９に作り込まれる半導体装置の製造
方法における成膜工程が実施されて行く。 【００４４】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。 【００４５】1) ポッドオープナ２０のベース２１にポ
ッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂを被覆するチャンバ
６０を敷設し、このチャンバ６０には窒素ガス６２をク
ロージャ収容室６１に流通させるための給気管６３およ
び排気管６４を接続することにより、ポッドオープナ２
０によるポッド１０の開放時に窒素ガス６２をチャンバ
６０のクロージャ収納室６１に充填することができるた
め、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃに閉じ込められて
いた大気を窒素ガス６２によって排気するとともに、ク
ロージャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室１
０ｃにおける大気中の空気や水分を窒素ガス６２によっ
てパージすることができる。 【００４６】2) チャンバ６０のクロージャ収容室６１
やポッド１０のウエハ収納室１０ｃを窒素ガス６２によ
ってパージすることにより、ポッド１０のウエハ収納室
１０ｃに閉じ込められていた大気中の空気や水分がベー
ス２１の背面側空間であるウエハ移載装置１５の設置空
間に放出されるのを防止することができるため、それら
によるウエハ移載装置１５の移載空間の汚染や酸素濃度
の上昇等の弊害の発生は防止することができる。 【００４７】3) また、ポッド１０のウエハ出し入れ口
１０ｂの開放時にウエハ収納室１０ｃのウエハ９が大気
中の空気や水分に接触するのを防止することができるた
め、それらによるウエハ９の自然酸化膜の堆積やパーテ
ィクルの付着等の弊害の発生を防止することができる。
さらに、ポッド１０のウエハ出し入れ口１０ｂの閉鎖時
に、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃに窒素ガス６２を
充填して密封することにより、収納中のウエハの自然酸
化等を抑制することができる。 【００４８】4) チャンバ６０の背面壁のウエハ出し入
れ口６５をクロージャ４０によって密封することができ
るように構成することにより、窒素ガス６２のクロージ
ャ収容室６１への充填時にウエハ出し入れ口６５をクロ
ージャ４０によって密封することができるため、クロー
ジャ収容室６１およびポッド１０のウエハ収納室１０ｃ
を窒素ガス６２によって効率的にパージすることができ
る。 【００４９】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。 【００５０】例えば、ウエハ授受ポートは上下二段設置
するに限らず、一段だけ設置してもよいし、上中下三段
のように三段以上設置してもよい。 【００５１】マッピング装置をポッドに対して進退させ
る構造としてはロータリーアクチュエータを使用した構
成を採用するに限らず、ＸＹ軸ロボット等を使用した構
成を採用してもよい。また、マッピング装置は省略して
もよい。 【００５２】基板はウエハに限らず、ホトマスクやプリ
ント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスクおよび
磁気ディスク等であってもよい。 【００５３】バッチ式ＣＶＤ装置は成膜処理に使用する
ＣＶＤ装置に限らず、酸化膜形成処理や拡散処理等の熱
処理にも使用することができる。 【００５４】前記実施の形態ではバッチ式縦形拡散・Ｃ
ＶＤ装置の場合について説明したが、本発明はこれに限
らず、バッチ式ＣＶＤ装置全般に適用することができ
る。 【００５５】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板の自然酸化膜の堆積やパーティクルの付着、内側空
間の汚染や酸素濃度の上昇等のポッドの開放時における
弊害の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ装
置を示す一部省略斜視図である。 【図２】ポッドオープナを示す正面側から見た斜視図で
ある。 【図３】そのポッド載置状態を示す斜視図である。 【図４】ポッドオープナを示す背面側から見たチャンバ
を取り除いた一部省略斜視図である。 【図５】図４の省略したＶ部を示す斜視図である。 【図６】ポッドオープナを示す背面側から見たチャンバ
を敷設した斜視図である。 【図７】その一部省略平面断面図である。 【図８】ポッドオープナのその作用を説明するための各
一部省略平面断面図であり、（ａ）はドアの取外し前を
示し、（ｂ）はドアの取外し後を示し、（ｃ）はチャン
バの密封時を示している。 【図９】同じく各一部省略平面断面図であり、（ａ）は
窒素ガスパージ時を示し、（ｂ）はドアの退避時を示
し、（ｃ）はマッピング時を示している。 【符号の説明】 １…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、２…筐体、
３…ヒータユニット、４…プロセスチューブ、５…ガス
導入管、６…排気管、７…ボートエレベータ、８…ボー
ト、９…ウエハ（基板）、１０…ポッド、１０ａ…ド
ア、１０ｂ…ウエハ出し入れ口、１０ｃ…ウエハ収納
室、１１…ポッドステージ、１２…ポッド棚、１３…ウ
エハ授受ポート、１４…ポッド搬送装置、１５…ウエハ
移載装置、１６…ボートチェンジャ、２０…ポッドオー
プナ（開閉装置）、２１…ベース、２２…ウエハ出し入
れ口、２３…支持台、２４…ガイドレール、２５…ガイ
ドブロック、２６…エアシリンダ装置、２７…載置台、
２８…位置決めピン、３０…ガイドレール、３１…左右
方向移動台、３２…エアシリンダ装置、３２ａ…ピスト
ンロッド、３３…ガイドレール、３４…前後方向移動
台、３５…ガイド孔、３６…ブラケット、３７…ロータ
リーアクチュエータ、３７ａ…アーム、３８…ガイドピ
ン、３９…ブラケット、４０…クロージャ、４１…解錠
軸、４１ａ…係合部、４２…プーリー、４３…ベルト、
４４…連結片、４５…エアシリンダ装置、４６…吸着
具、４７…吸込口部材、５０…ロータリーアクチュエー
タ、５０ａ…回転軸、５１…アーム、５２…挿通孔、５
３…マッピング装置、５４、５５、５６…パッキン、６
０…チャンバ、６１…クロージャ収容室、６２…窒素ガ
ス（不活性ガス）、６３…給気管、６４…排気管、６５
…ウエハ出し入れ口。
置を示す一部省略斜視図である。 【図２】ポッドオープナを示す正面側から見た斜視図で
ある。 【図３】そのポッド載置状態を示す斜視図である。 【図４】ポッドオープナを示す背面側から見たチャンバ
を取り除いた一部省略斜視図である。 【図５】図４の省略したＶ部を示す斜視図である。 【図６】ポッドオープナを示す背面側から見たチャンバ
を敷設した斜視図である。 【図７】その一部省略平面断面図である。 【図８】ポッドオープナのその作用を説明するための各
一部省略平面断面図であり、（ａ）はドアの取外し前を
示し、（ｂ）はドアの取外し後を示し、（ｃ）はチャン
バの密封時を示している。 【図９】同じく各一部省略平面断面図であり、（ａ）は
窒素ガスパージ時を示し、（ｂ）はドアの退避時を示
し、（ｃ）はマッピング時を示している。 【符号の説明】 １…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、２…筐体、
３…ヒータユニット、４…プロセスチューブ、５…ガス
導入管、６…排気管、７…ボートエレベータ、８…ボー
ト、９…ウエハ（基板）、１０…ポッド、１０ａ…ド
ア、１０ｂ…ウエハ出し入れ口、１０ｃ…ウエハ収納
室、１１…ポッドステージ、１２…ポッド棚、１３…ウ
エハ授受ポート、１４…ポッド搬送装置、１５…ウエハ
移載装置、１６…ボートチェンジャ、２０…ポッドオー
プナ（開閉装置）、２１…ベース、２２…ウエハ出し入
れ口、２３…支持台、２４…ガイドレール、２５…ガイ
ドブロック、２６…エアシリンダ装置、２７…載置台、
２８…位置決めピン、３０…ガイドレール、３１…左右
方向移動台、３２…エアシリンダ装置、３２ａ…ピスト
ンロッド、３３…ガイドレール、３４…前後方向移動
台、３５…ガイド孔、３６…ブラケット、３７…ロータ
リーアクチュエータ、３７ａ…アーム、３８…ガイドピ
ン、３９…ブラケット、４０…クロージャ、４１…解錠
軸、４１ａ…係合部、４２…プーリー、４３…ベルト、
４４…連結片、４５…エアシリンダ装置、４６…吸着
具、４７…吸込口部材、５０…ロータリーアクチュエー
タ、５０ａ…回転軸、５１…アーム、５２…挿通孔、５
３…マッピング装置、５４、５５、５６…パッキン、６
０…チャンバ、６１…クロージャ収容室、６２…窒素ガ
ス（不活性ガス）、６３…給気管、６４…排気管、６５
…ウエハ出し入れ口。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/22 ５１１ Ｈ０１Ｌ 21/22 ５１１Ｑ
Ｆターム(参考） 4K030 CA04 CA12 GA12 LA15
5F031 CA02 DA08 EA12 EA14 FA01
FA15 GA47 GA48 GA49 GA50
MA17 MA28 NA04 NA10 PA26
5F045 BB10 BB14 DP19 DQ05 EB02
EB12 EE14 EM10 EN04 EN05
EN06
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 複数枚の基板が基板出し入れ口から収納
されこの基板出し入れ口にはドアが着脱自在に装着され
たキャリアを取り扱う基板処理装置であって、前記キャ
リアに対して前記基板を出し入れする基板授受ポートが
設けられているとともに、この基板授受ポートには前記
ドアを着脱して前記キャリアを開閉するキャリア開閉装
置が設けられており、前記基板授受ポートには前記キャ
リアの前記基板出し入れ口を被覆するチャンバが設置さ
れ、このチャンバには前記キャリアの内部に前記基板出
し入れ口から不活性ガスを導入させる給気管が接続され
ていることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001189380A JP4255222B2 (ja) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001189380A JP4255222B2 (ja) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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