JP2002542971A - ポリマーコーティングされたガラス薄膜基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、ガラス−プラスチック複合フィルムに関し、ディスプレイといった、特に電子構成要素及びデバイスで使用するためのガラス−プラスチック複合フィルムに関するものである。本発明のフィルムは、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有し、かつ１μｍから２００μｍの間の厚さを有するポリマー層が、前記フィルムの各側面のうちの少なくとも一方に直接貼付され、かつそのフィルムの表面の少なくとも一側は、１００ｎｍより低いうねり，３０ｎｍより低い粗さＲ _Tを有していることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

本発明は、ガラス−プラスチック複合フィルムに関するもので、特に、ディス
プレイといった電子構成要素及びデバイスで使用するためのものであって、１０
μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムと、１μｍから２００μ
ｍの間の厚さを有し、かつ前記ガラスフィルムの側面のうち少なくとも一方の側
面に貼付されたポリマー層とを備えている。さらに、前記ガラス−プラスチック
複合フィルムを製造するための方法とその使用に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

平坦なガラス基板は、透明であること、及び高耐薬品性及び高耐熱性、及び規
定された化学的特性及び物理的特性が重要となる多くの応用に対して適切な基板
材料である。特に、これらは、ディスプレイ、薄膜センサ及び厚膜センサ、太陽
電池、マイクロメカニックス構成要素、及びリトグラフマスクといった薄膜技術
及び厚膜技術に対する方法が使用される応用の領域である。近年、新製品の機能
性と応用分野に対する要求としては、ガラス基板の公知の良好な特性を有するが
、可撓性といったさらに新しい特性を部分的に有しているさらに薄い基板と極薄
基板が求められてきている。さらに、通常の応用分野は、センサ及び膜構成要素
といった電子的応用製品である。

【０００３】 特に、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ））では、より魅力
的なデザインへと流行が徐々に移行しており、よって、新たな機能性が要求され
ている。特に、これらは、例えばポータブルポケットデバイスのための極薄かつ
特に軽量のディスプレイ、セル電話又は丸形ピンタイプデバイス（round pin-ty
pe device）といった丸形収容形態を有するデバイスのための可撓性ディスプレ
イ、スマートカード又は店頭価格タグ（shelf price tag）のためのディスプレ
イ、又は有機発光層又は無機発光層に基づくディスプレイ（いわゆる有機発光ポ
リマーディスプレイ（light emitting organic polymer display; OLED））であ
る。

【０００４】 概して、このタイプのディスプレイは、以下に示すように構成されている：コ
アが液晶又はポリマーを収容するセルである。それは、各電極が付与されている
前方プレートと後方プレートを具備している。大抵の液晶ディスプレイには、セ
ルの前方壁部と後方壁部とが、何れも偏光子により結合されている。反射ディス
プレイには、反射プレートが後方偏光子の背後に取り付けられている。発光ポリ
マーの場合には、さらに、ディスプレイが後方プレートにより密閉される前に、
各対電極（counterelectrodes）をポリマーに直接蒸着可能である。ディスプレ
イが可能な限り良好に作動するために、例えば、液晶を可能な限り一様に配列可
能であり、かつ各電極対の全てが可能ならば互いに同一の距離を有する（さもな
くば、ひずみ又は局所化した強度変動がディスプレイに生じる）ようにされなけ
ればならない。影響を与える一要因は、個々の構成要素を製造するために使用さ
れる基板の表面品質である。

【０００５】 個々の構成要素を製造するための好適な基板材料は、ガラスとプラスチックで
ある。ガラスの特別な有利点は、ガラスが化学的かつ光化学的に不活性であり、
かつ光学的に等方性を有し、かつ耐熱性を有し、かつ機械的に安定であり、さら
にガラスは硬質表面を有していることである。しかしながら、ガラスは比較的高
い密度を有し、ガラスは脆性を有しており、よって、非常に破壊しやすい。製造
工程におけるガラスの破壊は、非常に浪費になるだけでなく、装置から全てのガ
ラス破片を除去するために、その都度工程を停止なければならないので、製造者
にとって損失になる。

【０００６】 プラスチックは、低密度でありかつ弾性を有し、かつ破壊に対して抵抗するが
、プラスチックは種々の欠点をも有している。過去数年間に、基板材料が開発さ
れ、かつ薄いガラス基板の代わりとしてディスプレイを製造するための高品質プ
ラスチックフィルムに基づいて製造されてきた。これら全てのフィルムは、必要
とされる特性を達成するために、複雑かつ特別な製造工程を必要とする。このよ
うな複雑な製造工程により、基板が非常に高価になる。多大な開発努力にも拘わ
らず、このような基板フィルムの水及び蒸気の透過性を適切に低減することがで
きないことが分かっていた。結果として、このような基板フィルムからなるＬＣ
Ｄの品質と寿命が非常に制限されている。いわゆるＯＬＥＤでは、フィルムを介
して拡散する酸素により、有機半導体層と卑金属からなる各電極とを酸化するこ
とになり、よって酸素がさらにディスプレイの寿命を減らすであろう。プラスチ
ックがディスプレイに対する保護層として使用される場合には、スクラッチを受
けやすいことにより寿命が短くなるであろう。

【０００７】 安全ガラス産業と同様に、ガラスの有利な特性をプラスチックの良好な特性と
組み合わせるための試みがなされている。DE-OS 36 15 277 A1 には、粉々にな
ることに対する保護を提供するために、窓ガラス（glass pane）が溶融によりプ
ラスチックでコーティングされている。DE-OS 31 27 721 A1 は、スクラッチ保
護としてガラスフィルムでコーティングされたプラスチックシートを明記してい
る。ここで、加圧及び／又は加熱作用のもとで（しかし、好ましくは中間挿入さ
れたホットメルト接着フィルム（hot-melt adhesive film）を使用して）コーテ
ィングが生じる。

【０００８】 類似のいくつかの例が、ガラスとプラスチックの各特性が組み合わされたディ
スプレイ技術の分野で知られている。保護プラスチック層をガラスに備えるアプ
ローチは、大韓民国特許 KR-A 98-3695 号公開公報により知られている。全ての
可能性において、ガラスがエッチングにより所望の厚さに形成され、次いで保護
プラスチック層が、エッチングにより生じた孔を閉じる必要があり、さらに破壊
に対する保護としても機能する。

【０００９】 破壊保護機能は、主として、既に存在しているマイクロクラックの伝播を防止
することにある。熱硬化性プラスチックの群からの１樹脂であると述べることを
除いて、ポリマーの選択についてはより詳細には議論されていない。さらに、保
護コーティングが如何になされるかについては詳細には開示されていない。特許
出願の時点で、ディスプレイを製造するために通常使用されるガラス厚さが通常
０．５５ｍｍから１．１ｍｍの間であったと仮定すると、（ガラス−プラスチッ
ク複合材料が製造される）エッチングされたガラス表面は、ディスプレイ応用に
対する現在の要求に見合っていない。

【００１０】 偏光子フィルムの製造に関して、DE-OS 196 06 386 A1 には、機械的安定性の
ために圧縮、溶融、好ましくは接着によりガラスフィルムに対して貼付されるプ
ラスチックの光学活性色素延伸フィルム（oriented optically active dye film
）が記載されている。接着剤は色素フィルムに対してさらなる機械的安定性を提
供する。ガラスフィルムの厚さは１０μｍから２００μｍの間の範囲とされ、色
素フィルムの厚さは５μｍから６０μｍの間の範囲である。

【００１１】 色素フィルムを貼付することは、問題が無いわけではない。ガラスを破壊した
結果としての廃棄は非常に高くつく。つまり、溶融は色素フィルムの特性に有害
な影響を与え得る複雑な工程である。接着は以下の欠点を有している。つまり、
各フィルムを接着する（この場合、ポリマーフィルムをガラスフィルムに接着す
る）工程は、ラミネート加工（laminating）とも称されている。ラミネート加工
は、概して、各ローラにより加圧されることで行われる。これにより、ガラスフ
ィルム（特に、非常に薄いフィルム）に非常に大きな応力が生じ、この応力によ
り（例えば、表面を引っ掻いて）ガラスフィルムを破壊するか又は損傷させるこ
とになる。

【００１２】 少なくとも４つの分離製造工程が必要とされる。すなわち、薄いガラスを製造
し、フィルムを製造し、接着剤でコーティングし、実際にラミネート加工する工
程が必要である。これは非常にコストがかかる。さらに、製品（特に、ディスプ
レイ応用製品）が空気及び塵粒子を一切含んではならないので、接着方法及びラ
ミネート加工方法が高い要求に見合っている必要がある。接着剤の選択について
は、接着剤は概して温度と溶媒抵抗性を制限することを考慮に入れねばならない
。延性接着層の厚さに変化があるので、ガラスラミネートの厚さを適切に均一す
ることはできない。

【００１３】 それ自体でポリマーフィルムを使用することには問題がある。これは、温度が
変化した場合に、架橋の程度が高いので、その温度変化によりラミネート内の圧
力と引張り強さが非常に増大するからである。プラスチックの熱膨張係数はガラ
スの熱膨張係数よりも１オーダーの大きさだけ高い。さらに、プラスチックのガ
ラス転移温度近くまで上昇する温度サイクルに続いて、全てのポリマーフィルム
が、非常に大きな不可逆的な収縮を受ける。この収縮はガラスの収縮よりも１〜
２オーダーだけ大きさが高く、かつこの収縮はラミネートの永久的なワーピング
になる。この影響は、しばしば不均一であり、かつ引抜きフィルムの場合には異
方性になる可能性がある。

【００１４】 さらに、ポリマーフィルムは、通常、明らかに２０ｎｍ以上である小さくない
光学的遅延（optical retardation）（複屈折）を有している。液晶の複屈折効
果を使用するディスプレイでは、フィルムの光学的異方性は許容できない。フィ
ルムの横断方向の複屈折は、フィルムの加工方向に対して平行な屈折率と垂直な
屈折率との差の結果である。厚さｄを有するフィルムの光学的遅延は、フィルム
の加工方向に対して平行な屈折率と垂直な屈折率との差と、フィルム厚さとの積
である。液晶の複屈折を使用するＬＣＤ応用製品に対しては、光学的遅延＜２０
ｎｍである基板又は基板フィルムのみを使用可能である。しかしながら、市販の
入手可能な引抜きフィルムは、大抵前記値の倍数の値を有している。前記値より
小さいいくつかのフィルムだけが利用可能であるが、より複雑な製造工程のため
に、それらは非常に高価である。

【００１５】 非常に薄いポリマーフィルムについては、ラミネート工程での取扱が非常に難
しく、よって歩留まりが低いという事実が付記されねばならない。前記ポリマー
フィルムは、ラミネートに圧力と歪みを与えることになるワーピングをなくして
ラミネート加工することが難しい。厚さ＜２５μｍのポリマーフィルムを有する
フィルムラミネートは、経済的にかつ工業製品のために製造することが事実上不
可能である。

【００１６】 日本国特開平4-235527号には、各電極を取り付けるための導電層を付与できる
ようにプラスチック基板の表面特性を向上させるために、ガラスフィルムが貼付
されたプラスチック基板が明記されている。透明エポキシ樹脂はプラスチック基
板にとって好適な材料である。基板厚さは、使用目的に応じて、特に製造するデ
ィスプレイの領域サイズに応じて、１００μｍから１０ｍｍまでの範囲を取りう
る。ガラスフィルムの厚さは１０μｍから５００μｍの間の範囲を取る。ガラス
フィルムとプラスチック基板とが互いに接着されるか、又は樹脂がガラスに注が
れる。接着は、上記した問題（光学特性と最終製品の表面特性に悪影響を及ぼす
可能性がある）の原因となるであろう。さらに、厚さ＞１００μｍの基板は、ガ
ラス−プラスチック複合フィルムの可撓性が制限されるとの欠点を有している。

【００１７】 既に紹介された上記最終製品の全てについて、どの面が更に加工されるのか及
びどのようにさらに加工可能であるのかは、最終製品それ自体により定められる
。日本国特開平4-235527号では、最初に、このことをガラスフィルムがプラスチ
ックフィルムの両面に貼付されるように変更しようと試みている。しかしながら
、このためには少なくとも１つの加工ステップが必要とされ、接着には少なくと
も２つの追加加工ステップが必要であり、さらに材料を必要とする。従って、両
面が更に加工可能である最終製品を製造することは非常に高価になる。

【００１８】 欧州特許第 0 838 723 号公開公報により、ガラス担体上に１層を具備してい
る材料が知られている。前記材料はリトグラフプリント（lithograph print）及
び液晶ディスプレイに適している。前記材料は、１．２ｍｍより薄く、かつ５×
１０７Ｐａまでの引張応力及び５×１０７Ｐａを超える引張応力に耐えるガラス
担体を備えている。さらに、長手方向端部が、担体の厚さの概略０．５倍の半径
で半円状に形成されている。

【００１９】 欧州特許第 0 272 875 号公開公報には、光学メモリカードと該カードを製造
するための方法が記載されている。ここで、カードはプラスチックとアルミニウ
ムとからなっている。

【００２０】 欧州特許第 0 759 565 号公開公報には、カラーフィルタアレイ素子を製造す
るための方法が記載されている。これについては、画素セルの着色パターンが、
水平方向ラインに剛性を有している薄い担体に貼付される。次いで、透明担体が
、該担体側又は画素セル側にラミネート加工される。ここで、まず、薄い窓ガラ
ス（１２７μｍ）がスピンコーティングによりポリカーボネートでコーティング
される。画素セルを製造した後に、ホウケイ酸ガラスプレートが圧力を作用させ
た状態で画素セルにラミネート加工される。

【００２１】 欧州特許第 0 669 205 号公開公報には、少なくとも１つの透明プラスチック
シートと、少なくとも１つの窓ガラスと、接着促進中間層とを備える透明ガラス
−プラスチック複合シートが記載されている。窓ガラスは、３０μｍから１００
０μｍの間の厚さの層を有するガラスフィルムである。複合シートは、乗用車に
はめて光スクラッチ検査として使用されることを目的としているので、プラスチ
ックシートは数ｍｍの厚さを有している。

【００２２】 英国特許第 131 98 46 号文献には、４μｍ〜２００μｍの厚さを有するガラ
スフィルムを備え、２μｍから２００μｍの厚さのプラスチックで片面又は両面
にコーティングされたガラス−プラスチック複合フィルムが記載されている。該
フィルムは接着剤又は接着促進物質で製造される。あるいは、プラスチックを液
相状態から直接貼付することも可能である。使用されるプラスチックは、ポリオ
レフィン，ＰＶＣ，ＰＡ，ポリ塩化ビニリデン，セルロース，酢酸セルロース，
ポリスチロール又はポリマー混合物、又は前記ポリマーの共重合体を含んでいる
。特に、ポリエステル又はポリエチレン・テレフタレートが好ましい。英国特許
第 131 98 46 号文献に明記されたガラス−プラスチック複合フィルムは、好ま
しくは、引抜き（drawing）用フィルム材料、又は気体及び真空不透過性封止材
料（gas and vacuum impermeable packaging material）として使用されている
。結果として、電子構成要素の分野での応用で重要である光学的特性は、英国特
許第 131 98 46 号文献発明とは関連がなく、かつ前記特許には述べられていな
い。

【００２３】 後になって公表された国際公開第 99/21707 号文献及び国際特許第 99/21708
号文献には、ガラス基板と透明プラスチックから成るとしてよい少なくとも１つ
の担体とを備えているラミネートが記載されている。ガラス層は１０μｍ〜４５
０μｍの厚さを有し、かつプラスチック層は５００μｍの厚さを有している。

【００２４】 接着剤を使用することなく、負圧ラミネート加工（vacuum lamination）によ
りプラスチック層をガラスに貼付することも可能である。連続圧延も提案されて
いる。接着剤が使用される場合には、２００℃まで熱的に安定であるべきである
。特に、負圧ラミネート加工については、プラスチックとガラスの表面粗さが低
いことが重要であるが、これはさらに定量化されない。接着層については、ＵＶ
光で架橋可能であるシリコーン、アクリル酸塩及びポリマーが提案されている。
ガラスに機能層を貼付する必要がある場合には、エポキシシラン（epoxy silane
）といった接着促進物質をガラスに付与することも可能である。ラミネート全体
が、必要ならば、ゾル・ゲル（sol-gel）でコーティング可能である。ラミネー
トを特にディスプレイ用に使用するので、同一の屈折率を有するように、プラス
チックとガラスが選択されるべきである。

【００２５】 国際公開第 99/21708 号文献には、機能層を基板に貼付している半導体デバイ
スを製造するための方法が記載されている。ここで、前記基板は７００μｍより
薄い厚さを有する担体とガラス層とを備えるラミネートである。これは、国際公
開第 99/21707 号文献に記載されたラミネートと実質的に同様のラミネートであ
る。

【００２６】 続いて公表された英国特許第 233 58 84 号文献には、構成要素が、少なくと
も１つの電子活性有機層を備えるオプトエレクトロニクス構成要素又は電子構成
要素のための保護要素として使用されている。ここで、前記構成要素は、厚さ＞
２００μｍのガラス層と厚さ＞１ｍｍ（好ましくは、概略２００μｍ）のプラス
チック層とを備えている。英国特許第 233 58 84 号文献発明の欠点は、複雑な
工程を必要とする活性有機機能層（active organic functional layer）の処理
である。

【００２７】

【発明が解決しようとする課題】

本発明の目的は、液晶セル、ＯＬＥＤにおける発光層又は電極層を収容するた
めのセルといったあらゆる構成要素の製造の基礎として、広く（特にディスプレ
イを製造するために）使用することができるフィルムを提供することである。該
フィルムは、フィルム品質に対する現在の要求に見合うだけでなく、将来的な要
求にも見合うものであり、かつガラスとプラスチックとの有利な特性を有してい
る。その製造方法は、最も少ない可能なステップに限られるべきであり、かつ可
能な限り単純であるべきである。

【００２８】

【課題を解決するための手段】

上記課題は、特にラミネート加工の欠点を避けるために、通常のガラス−プラ
スチック複合フィルム上に、ポリマー層が少なくとも一方の側面に直接貼付され
ており、かつその表面の一側面が、１００ｎｍより小さなうねり及び／又は粗さ
Ｒ_T＜３０ｎｍを有していることを特徴とするガラス−プラスチック複合フィル
ムにより解消される。すじ（streak）が１００ｎｍよりも小さいならば、特に好
ましい。電子構成要素及びデバイスの分野で使用するためには、光学的遅延が２
０ｎｍを超えない場合に特に有利である。貼付されたポリマー層の厚さが１μｍ
から１００μｍの間の範囲内にある場合に、特に可撓性複合材料を達成すること
ができる。

【００２９】 さらに、上記課題は、以下の２つの方法により解消される。 第１方法は、２ｍ／分〜１２ｍ／分の引抜き速度で下方引抜き工程により１０
μｍ〜５００μｍの厚さを有するガラスフィルムを製造するステップ、該ガラス
フィルム表面を前処理するステップと、液相状態で厚さ１μｍ〜２００μｍのポ
リマー層を直接貼付するステップと、ポリマーコーティングされたガラスフィル
ムを切断するステップとを有している。

【００３０】 第２の方法は、同様のステップを備えている。ここで、ガラスフィルムが製造
された後であって、その表面を前処理しかつプラスチックを貼付する前に、ガラ
スフィルムが切断される。

【００３１】 公知のラミネート加工方法とは対称的に、非常に薄くかつ均一なポリマーフィ
ルムをガラスフィルム上に製造することは上記方法により可能である。

【００３２】 偏光子フィルム、及び電極用担体プレート及び最外保護シートとして使用する
ための担体プレートをさらに加工するための高い表面特性を有しているので、デ
ィスプレイを製造する場合に、本発明のガラス−プラスチック複合フィルムは適
している。プラスチック層のために、フィルムは破壊に対して抵抗すると同時に
より軽量となっており、ガラスフィルム層のために、フィルムは耐スクラッチ性
、堅牢性、機械的安定性、化学的不活性を有している。ガラス側又はプラスチッ
ク側の何れかが更に処理されるかに応じて、プラスチック側が破壊保護として作
用するか、又はガラス側がスクラッチ保護として作用する。低複屈折のために、
本発明のガラス−プラスチック複合フィルムがオプトエレクトロニクス構成要素
及びデバイスでの使用に特に適している。粗い表面により付与される方向の層（
applied orientation layer）における液晶のアライメントが容易に不規則にな
るというように、粗い表面によりディスプレイに欠陥を導きうるので、発光層に
基づく液晶セル及び発光ディスプレイの製造にとって、複合フィルムの高い表面
特性は特に重要なことである。表面うねりは、（液晶といった）活性層の層厚さ
の変動を導き、よって不均質なディスプレイを導く。

【００３３】 粗さＲ_Tは、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）4762 Part 1-08.60 に従って計測され
、かつ基準経路内の輪郭上位点と輪郭下位点との間の最大距離に対応している。
粗さＲ_Tは、全ての距離の算術平均に対応し、かつ概してＲ_Tの一部分（a fracti
on of RT）でしかない粗さＲＡと混同すべきではない。粗さは、理想的平坦面か
らの変動の小さなうねりの部分（short-wave portion）を表している。（０．８
ｍｍ〜８．０ｍｍのカットオフ、2CRPC 50 フィルタを使用しDIN/ISO 11562に従
って計測される）表面うねりは、理想的平坦面からの変動の平均波長部分を表し
ている。表面うねりは、計測距離２０ｍｍを超えて求められる。すじは、表面う
ねりと同様のデバイスパラメータで計測され、分析用計測長さは２ｍｍである。

【００３４】 本発明では、ガラス−プラスチック複合フィルムの両面が、１００ｎｍより小
さな表面うねり、３０ｎｍより小さな粗さＲ_Tといった高い表面特性を有してい
る。これについては、ガラス−プラスチック複合フィルムの各面を等しくさらに
処理することが可能であり、かつ該フィルムの両面をさらに処理することの可能
性を視野に入れているので、ガラス−プラスチック複合フィルムの使用がより多
様とされている。

【００３５】 可能な限り最も軽くかつ可能な限り最も薄いガラス−プラスチック複合フィル
ムと、最も高い表面特性を有する該フィルムとを達成するために、該フィルムは
実際ポリマーとガラスフィルムからのみなること、及び接着層を有していないこ
とは、避けられない。

【００３６】 特に、オプトエレクトロニクス応用の分野では、複合フィルムを経た光学信号
のひずみを抑制するために、光学的遅延が有利なことに２０ｎｍより小さい、好
ましくは１５ｎｍより小さい。

【００３７】 ディスプレイの重量と厚さを減らす点に関しては、ガラスフィルム層が好まし
くは１０μｍ〜４００μｍの厚さ、特に好ましくは１０μｍ〜２００μｍの厚さ
、特別に好ましくは１０μｍ〜１００μｍの厚さを有し、かつポリマー層が好ま
しくは２μｍ〜１００μｍの厚さ、特に好ましくは２μｍ〜５０μｍの厚さを有
し、かつ光学的遅延が１５ｎｍを超えない。

【００３８】 ガラスフィルム内でガラスを破壊する原因の大部分は、各端部で開始するマイ
クロクラックによるので、ガラス−プラスチック複合フィルムの少なくとも一端
部がプラスチックで十分に被覆されているならば有利である。これは、新たなク
ラックが発展すること、及び既存のクラックが伝播することを防止する。

【００３９】 ガラス−プラスチック複合フィルムを（鋭い点のある物体による突きといった
）点応力に対して反応しないようにするために、弾性係数＜５，０００ Ｎ／ｍ
ｍ²、好ましくは弾性係数＜２，６００Ｎ／ｍｍ²、特に好ましくは弾性係数＜１
，５００Ｎ／ｍｍ²であるように、プラスチック層用にポリマーを選択すること
は、有利なことであることが分かっている。生ずる引張応力は、ポリマー層によ
り広い領域に分配され、かつ実質的に減少する。

【００４０】 非常に薄いプラスチック層の弾性係数は、力の貫通深さを計測することにより
求めることができる。これについては、負荷増大状態で規定された形状の試験片
（通常、ピラミッド形に作られたダイヤモンド）を表面に押し込み、かつその後
再び除荷する。弾性係数は除荷直線の傾き（負荷に依存する貫通深さ）である。
いわゆるピコ・インデンタ（pico indentor）により計測される。このピコ・イ
ンデンタによれば、１０ｎｍから１００ｎｍの間の非常に小さなくぼみ深さを達
成可能である。貫通深さが層厚さの約１０％を超えた場合に、基板が計測に影響
を与え始めるので、これは必要である。

【００４１】 ガラス−プラスチック複合フィルムの透過率が、コーティングされないガラス
フィルムの９０％以上であり、ポリマーコーティングによる曇りが増大してもコ
ーティングされないガラスフィルムと比較して１％より小さいように、プラスチ
ック層用にポリマーを選択することが、特に有利であることが分かっている。ガ
ラス−プラスチック複合フィルムをさらに処理するために可能な限り多くのオプ
ションを有し、かつガラス−プラスチック複合フィルムに基づいて製造された製
品の寿命が長くなるように、ガラス−プラスチック複合フィルムは、有利なこと
に、１３０℃までの温度に連続的に（数時間）耐えられ、かつ１４０℃（好まし
くは１８０℃、特に好ましくは２００℃）までの温度に短時間（数分間）耐える
。

【００４２】 ガラス−プラスチック複合フィルムが表面粗さＲ_T＜１０ｎｍ、特に好ましく
はＲ_T＜３ｎｍであり、かつ表面うねり＜８０ｎｍであるならば、ＬＣＤ及びＯ
ＬＥＤディスプレイの製造のために、ガラス−プラスチック複合フィルムが特に
有利であることが分かっている。

【００４３】 最適なガラス−プラスチック複合フィルムを得るための好適な材料は、プラス
チック層に対して、シリコーンポリマー、（Nanocomposite社のOrmocere(登録商
標)といった）ゾル・ゲルポリマー、ポリカーボネート、ポリエーテル・サルホ
ン、ポリアクリレート、ポリイミド、シクロオレフィン共重合体（cycloolefin
copolymer）、又はポリアリレート（polyarylate）であり、ガラス層に対して、
ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス（alumin
oborosilicate glass）、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラスである。

【００４４】 ガラス−プラスチック複合フィルムを製造するために、ガラスフィルム自体が
最初に製造されねばならない。必要な表面特性を有するガラスフィルムを製造す
るために、これは、２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜き速度で下向き引抜き処
理を使用して行われるべきである。ガラスフィルムの表面特性は、ガラス−プラ
スチック複合フィルムのプラスチック側の対応する表面特性を達成するための前
提条件である。ガラスフィルムを製造した後に、該フィルムをさらに直接処理す
ることができる。あるいは、ガラスフィルム表面を前処理するステップとポリマ
ー層を貼付するステップがガラスフィルム製造から空間的に離れているならば、
ガラスフィルムを最初に切断することができる（これは、より小さなサイズ及び
中間サイズで大量に製造するためには好ましい）。

【００４５】 ポリマー層に対して良好に接着できるように、ガラスフィルム表面が前処理さ
れる。

【００４６】 接着剤を用いずにかつ液相状態でガラスフィルム表面にポリマーを直接貼付す
ることは、ポリマー層の表面がガラスフィルムの表面を映し、いわば、優れた表
面特性を有することを達成する。ガラスフィルムを製造する場合には、前処理及
びコーティングは連続工程として計画され、すぐにポリマーコーティング済みガ
ラスが切断される。

【００４７】 さらに、剛性ガラスフィルムに液相状態で貼付することにより、ポリマーフィ
ルム内でひずみ方向が発展することがなく、よって、ポリマーフィルム（よって
、複合フィルム）の光学的遅延は２０ｎｍより小さい。

【００４８】 コーティング前にガラスフィルムが切断される場合、及び極端に薄いポリマー
層を達成する場合には、コーティングは好ましくはスピニング又はスプレースピ
ニング（spray spinning）により行われる。連続工程にも適しているコーティン
グ方法は、そそぎ込み（pouring）、圧延（rolling）、又はスプレーである。デ
ィップ（dipping）は、ガラスフィルムの両面にポリマー層を貼付するために好
ましい。

【００４９】 破壊に対する抵抗を増大させるために、フィルムの端部のうち少なくとも１つ
をさらにコーティングすべきである。連続工程では、引抜き方向と平行な端部が
コーティングされ、切断されたフィルムピースでは４端部全てがコーティング可
能である。

【００５０】 製造するガラス−プラスチック複合フィルムの特性に関して、１０μｍ〜４０
０μｍ、好ましくは１０μｍ〜２００μｍ、特に好ましくは１０μｍ〜１００μ
ｍのガラスフィルムを使用すること、及び１μｍ〜２００μｍ、好ましくは２μ
ｍ〜１００μｍ、特に好ましくは１０μｍ〜８５μｍのポリマー層に貼付するこ
とは、有利である。ポリマー層のガラスフィルムへの接着を促進するために、オ
ゾン含有雰囲気中でガラスフィルム表面をＵＶ照射することにより、コロナ処理
、又は火炎（flaming）処理により表面処理することで、最も良い結果が得られ
る。

【００５１】 ポリマー層の堅さを支持するために、フィルムを紫外線光により照射しかつ／
又は熱の影響下で乾燥させるべきである。

【００５２】 使用するポリマーがシリコーンポリマー又はゾル・ゲルポリマー、又はポリカ
ーボネート又はポリエーテル・サルホン又はポリアクリレート又はポリイミド又
はシクロオレフィン共重合体又はポリアリレートの何れかである場合には、特に
良好な特性を有するガラス−プラスチック複合フィルムが得られる。さらに、本
方法では、とりわけホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラス
の使用が、ガラスフィルムの製造にとって有利である。

【００５３】 本発明のガラス−プラスチック複合フィルムを電子構成要素及びオプトエレク
トロニクスデバイス、特に、液晶又は発光層に基づくデバイスの製造との組み合
わせも、同様に保護されるべきである。

【００５４】

【発明の実施の形態】

図１は、ガラス−プラスチック複合フィルムの一端部における断面を示してい
る。ガラスフィルム１上には、ポリマーフィルム４がガラスフィルム面２に直接
貼付されている。前記ポリマーフィルム４は、ガラス端部３を超えて延在してお
り、よって、ガラス端部３を充分覆う端部拡大部５を形成している。この様式で
は、ガラス−プラスチック複合フィルムの端部が振動に対してさらに保護され、
かつ端部でのマイクロクラック（このクラックは端部に存在する）の伝播が防止
される。

【００５５】 図２は、ガラス−プラスチック複合フィルムを製造するための可能性のある製
造ラインを示している。ガラス引抜き装置１０では、ガラスフィルム１５がいわ
ゆる改良下向き引抜方法（modified down-draw method）により製造されている
。該方法は、高温形成段階において、ガラスフィルム１５がガラスタンク１１と
デビットユース（debiteuse）１２から垂直方向に引き抜かれ、かつ必要ならば
冷却経路１３で改質される。コーティング経路を直接結合することにより、次の
コーティングの前に、ガラス表面の汚染を最小にし、かつ表面変化を最小にして
いる。これは特に、ポリマー層の接着力について好都合である。最小の処理、搬
送、及び中間蓄積段階数により、表面損傷及び粒子混入も最小に低減される。処
理速度と起こりうる寸法公差の調整を補正するために、ガラス引抜き工程とコー
ティング工程とが分離されたガラス引抜装置１０に続いて、ループ形状でバッフ
ァ経路１６が形成されている。ガラスフィルム１５が大きく自由に垂れているの
で、ガラスフィルム１５の受容不可能なワーピング（これは気泡（tearing）を
導く可能性がある）とガラス表面の汚染とが防止される。

【００５６】 続いて、ガラスフィルム１５がコンベヤローラ２０上を水平に案内され、かつ
一定の搬送速度と一定の引張り応力となるように、かつガラスフィルム１５に気
泡が生成することを防ぐように、フィルムの引張り応力が牽引ローラ（traction
roller）２１を介して制御されている。コーティングされる表面が表面処理装
置２２でオゾン雰囲気中でのＵＶ照射により処理される。ポリマーを貼付する前
に、必要なガラス温度にセットするために、コーティングモジュール２４の前に
、焼き入れユニット２３が形成されている。この焼き入れユニットは、リボン状
ガラスを精確に規定された一様温度に予熱する。コーティングモジュール２４に
よりコーティングがなされる。ポリマー２５がシートダイ（sheet die）２６を
介して移送ローラ２７へ流され、かつ最小圧力（＜１ｋｇ／ｃｍ²）を作用させ
る間に、前記移送ローラにより伸ばされてガラスフィルムにされる。第１乾燥経
路２８では、溶剤が気化される。この気化した溶剤は、環境への影響と汚染を低
減させるために、コンディショニング（conditioning）又は洗浄後の工程に戻さ
れる。ガラスフィルム１５の高温により、表面上にドライスキン（dry skin）（
これは体積内に封じ込められた溶媒が気化することを妨げる）を形成することな
く、溶媒が急速に気化する。ポリマー層の焼き入れ及び乾燥が、ＵＶ放射経路３
０と第２乾燥経路３１で生じる。経路の最後には、中間層解放装置３２を有する
巻回ユニット３３がある。ここでは、中間層が、ガラス−プラスチック複合フィ
ルム層間に封入されている。次いで、ガラス−プラスチック複合フィルムロール
が切断器具へと運ばれる。

【００５７】 ＜実施例１＞ ローラコーティングによる１００μｍ／４０μｍのガラス／ポリシリコーン複
合材料の製造

【００５８】 厚さ１００μｍを有するガラスタイプＤ−２６３（社内刊行物Schott-DESAG）
のホウケイ酸ガラスのガラスフィルムが使用される。これは、５．５ｍ／分のガ
ラスリボンの引抜速度で下向き引抜ガラス引抜方法により製造される。ガラス基
板の表面は、６０ｎｍのうねり、４５ｎｍのすじ（streak）、及び９ｎｍの粗さ
Ｒ_Tを有している。ガラスリボンの表面は、コロナ処理により活性化される。マ
ルチメータ金属電極は幅５００ｍｍを有し、かつ電極とガラス表面との間の距離
が２ｍｍである。周波数は、３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり、かつ
出力は１５０Ｗである。ローラコーティング方法により貼付されるポリジメチル
シロキサン（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Elastosil；２シリコーン成分の
混合比９：１）を主成分とする２成分シリコーンポリマーフィルムは、厚さ４０
μｍを有している。ローラの直径は２３８ｍｍであり、かつローラの長さは５５
０ｍｍであり、平均加圧力０．５ｋｇ／ｃｍ²を有している。後続の焼き入れ工
程において、シリコーンコーティングされたガラスリボンが、１０分間１５０℃
で焼き入れされ、次いで切断される。シリコーン層の弾性係数は１１００Ｎ／ｃ
ｍ²であり、かつ表面は５０ｎｍのうねり，４１ｎｍのすじ，かつ２０ｎｍの粗
さを有している。ローラコーティングの結果、転がり方向に平行に位置する横断
方向端部がシリコーンポリマーでコーティングされている。光学的遅延は１５ｎ
ｍである。

【００５９】 ＜実施例２＞ スピニング方法による５０μｍ／２μｍのガラス／ポリシリコーン複合材料５
０の製造

【００６０】 フィルム厚さ５０μｍ、８０ｎｍのうねり、５２ｎｍのすじ、４ｎｍの粗さＲ _T を有する無アルカリホウケイ酸ガラスＡＦ４５（社内刊行物 Schott-DESAG）の
ガラスフィルムが使用される。これは、引抜速度１０ｍ／分で下向き引抜き方法
で製造される。フィルムサイズは３００×２００ｍｍ²である。ガラス基板は、
洗浄工程により洗浄され、続いてオゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、ま
た酸素中心ラジカル（oxygen centered radical）を生成するために２５３．７
ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器：５００Ｗ）することにより、ガ
ラス基板の表面が５分間活性化される。スピニング工程（２４００回転／分）に
より、ガラスフィルムが、（ポリマー／ヘキサン比１：２１でヘキサンに溶解さ
れた）１成分シリコーンエラストマー（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Elast
osil）でコーティングされ、続いて、通風オーブン内で１２０℃で１５分間乾燥
される。層の厚さは２μｍである。スピニングコーティングの結果、４つの全横
断方向端部がシリコーンポリマーでコーティングされる。シリコーン層の弾性係
数は５００Ｎ／ｍｍ²であり、表面は、６７ｎｍのうねり，４３ｎｍのすじ，及
び９ｎｍの粗さＲ_Tを有している。光学的遅延は５ｎｍである。

【００６１】 ＜実施例３＞ スピニング工程による１４５μｍ／３μｍのＤ２６３ガラス／ポリカーボネー
ト複合材料

【００６２】 ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚
さ１４５μｍを有するガラス基板として使用される。これは、引抜速度４．２ｍ
／分で下向き引抜き方法により製造され、かつ２８ｎｍのうねり，１２ｎｍのす
じ，及び８ｎｍの粗さＲ_Tを有している。ガラス基板が洗浄工程により洗浄され
、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、また酸素中心ラジカルを
生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器、１０
００Ｗ）により５分間表面が活性化される。

【００６３】 スピニング工程（１４００回転／分）により、ガラスフィルムがポリカーボネ
ートフィルム（１：１９の比のポリカーボネート／塩化メチレン液）によりコー
ティングされ、続いて、通風オーブン内で２０分間８０℃で乾燥される。層の厚
さは３μｍである。スピニングコーティングの結果、４つの横断方向端部全てが
、ポリカーボネートフィルムによりコーティングされている。ポリカーボネート
層の弾性係数は１３５０Ｎ／ｍｍ²であり、かつその表面が、３０ｎｍのうねり
，１６ｎｍのすじ，かつ９ｎｍの粗さＲ_Tを有している。光学的遅延は９ｎｍで
ある。

【００６４】 ＜実施例４＞ 押出しによる２００μｍ／８５μｍのＡＦ４５ガラス／ポリエーテル・サルホ
ン（ＰＥＳ）

【００６５】 フィルム厚さ２００μｍの無アルカリホウケイ酸ＡＦ４５（社内刊行物 Schot
t-DESAG）のガラスフィルムが使用される。ガラス基板の表面は、５５ｎｍのう
ねり、３６ｎｍのすじ，及び７ｎｍの粗さ（Ｒ_T）を有している。ガラスリボン
の引抜速度は２．８ｍ／分である。

【００６６】 ガラスリボンの表面がコロナ処理により活性化される。スティック電極は幅５
００ｍｍであり、電極とガラス表面との間の距離が４．５ｍｍである。周波数は
３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり、出力は２５０Ｗである。３８０℃
で引抜速度２．８ｍ／分で押出し方法により貼付されるＰＥＳフィルムの厚さは
、８５μｍである。ガラス−ＰＥＳ複合材料は、５分間の冷却期間後に切断され
る。ＰＥＳ層の弾性係数は３２００Ｎ／ｍｍ²であり、かつ表面は、６８ｎｍの
うねり，４９ｎｍのすじ、及び１５ｎｍの粗さＲ_Tを有している。

【００６７】 押出しコーティングの結果として、引抜方向と平行に位置している横断方向端
部がＰＥＳポリマーによりコーティングされている。光学的遅延は１８ｎｍであ
る。

【００６８】 ＜実施例５＞ スプレーコーティングによる５０μｍ／１０μｍのＡＦ４５ガラス／ポリアク
リレート複合材料

【００６９】 ５０μｍのフィルム厚さ，８０ｎｍのうねり，５６ｎｍのすじ，及び４ｎｍの
粗さＲ_Tを有する無アルカリホウケイ酸ガラスＡＦ４５（社内刊行物 Schott-DES
AG）のガラスフィルムが使用される。これは引抜速度１０ｍ／分で下向き引抜き
方法により製造される。フィルムサイズは３００×２００ｍｍ²である。ガラス
基板が洗浄工程により洗浄され、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎ
ｍ，又は酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（
アマルガム低圧放射器、５００Ｗ）により表面が５分間活性化される。１０μｍ
厚さのポリアクリレート層がアクリレートエアロゾルからスプレー工程により製
造される。ここで、４つの横断方向端部の全てがポリマーによりコーティングさ
れる。使用したスプレー工程は、高圧低体積（ＨＰＬＶ：high pressure low vo
lume）方法である。４０℃に予熱されたＮ，Ｎジメチルオルマミド（N,N-dimeth
yl ormamide）中の１０％ポリアクリレート溶液が、直径０．６ｍｍ，自動圧力
０．５５ｂａｒ、ノズル用フィーダー圧力４ｂａｒを有するスプレーノズルを介
してスプレーされる。アクリレート層の弾性係数は５０００Ｎ／ｍｍ²であり、
その表面は、７５ｎｍのうねり，４８ｎｍのすじ，及び１０ｎｍの粗さＲ_Tを有
している。光学的遅延は８ｎｍである。

【００７０】 ＜実施例６＞ 押出しによる１４５μｍ／１５μｍのＤ２６３ガラス／シクロオレフィン共重
合体（ＣＯＣ）

【００７１】 ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚
さ１４５μｍを有するガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される
）として使用され、かつ２８ｎｍのうねり，１６ｎｍのすじ，８ｎｍの粗さＲ_T
を有している。

【００７２】 ガラスリボンの表面がコロナ処理により活性化される。幅５００ｍｍをそれぞ
れ有し、ガラス表面からの距離が７ｍｍである３つの連続配置されたマルチメー
タ金属電極が使用される。周波数は３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり
、かつ各金属電極を経ての出力は１２０Ｗである。ガラスフィルムに対する引抜
速度は４．２ｍ／分である。厚さ１５μｍのＣＯＣフィルムが、押出し方法によ
り４．２ｍ／分、２７０℃で貼付される。ここで、引抜き方向と平行なガラス端
部がポリマーによりコーティングされている。コーティングされたガラスリボン
が、７分の冷却期間の後に切断される。表面は、２６ｎｍのうねり，１４ｎｍの
すじ，１５ｎｍの粗さＲ_Tを有し、かつ弾性係数が２８００Ｎ／ｍｍ²である。光
学的遅延は１０ｎｍである。

【００７３】 ＜実施例７＞ ディップ方法（dipping method）による１４５μｍ／３．５μｍのＤ２６３ガ
ラス／ポリアクリレート複合材料

【００７４】 ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、２
８ｎｍのうねり，１６ｎｍのすじ，８ｎｍの粗さＲ_Tを有し、かつ厚さ１４５μ
ｍのガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される）として使用され
る。ガラス基板のサイズは２００×２００ｍｍ²である。ガラス基板が洗浄工程
により洗浄され、続いてオゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、また酸素中
心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧
放射器、１０００Ｗ）により、表面が５分間活性化される。ポリアクリレートは
、オーブン内で１３０℃で前乾燥され、かつナトリウム乾燥トルオール（sodium
-dried toluol）が溶媒として使用される。厚さ３５μｍのポリアリレートフィ
ルム(polyarylate film)が、窒素雰囲気下でディップ方法（１：１８のポリアリ
レート／トルオール比、処理温度８０℃）により貼付され、かつ後続の焼入れ工
程により１０分間、１６０℃で乾燥される。４つの横断方向端部の全てが、厚さ
３．５μｍのポリアリレートフィルムによりコーティングされている。弾性係数
が２４００Ｎ／ｍｍ²であり、かつ表面は、１９ｎｍのうねり、１１ｎｍのすじ
，１０ｎｍの粗さＲ_Tを有している。光学的遅延は８ｎｍである。

【００７５】 ＜実施例８＞ スピニング工程による１００μｍ／４．５μｍのＤ２６３ガラス／シリコーン
樹脂複合材料

【００７６】 ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚
さ１００μｍを有し、かつ３３ｎｍのうねり、１５ｎｍのすじ，及び６ｎｍの粗
さＲ_Tを有するガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される）とし
て使用される。ガラス基板のサイズは１００×１００ｍｍ²である。ガラス基板
が、洗浄工程により洗浄され、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎｍ
、また酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（ア
マルガム低圧放射器、１０００Ｗ）により表面が５分間活性化される。ガラスフ
ィルムが、スピニング方法（５０００回転／分）により、メチルフェニルシリコ
ーン樹脂（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Silres (登録商標)、１：３のシリ
コーン樹脂／キシレン液比）でコーティングされ、続いて、通風オーブン内で１
５分間２２０℃で乾燥される。層の厚さは４．５μｍである。スピニングコーテ
ィングの結果として、４つの横断方向端部の全てがシリコーン樹脂でコーティン
グされる。表面は、３５ｎｍのうねり，１７ｎｍのすじ，及び９ｎｍの粗さＲ_T
を有している。光学的遅延は１４ｎｍである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 １つの端部におけるガラス−プラスチック複合フィルムの形状を
示す図である。

【図２】 本実施形態によるガラス−プラスチック複合フィルムを製造する
ための製造ラインを示す図である。

【符号の説明】

１，１５ ガラスフィルム ２ ガラスフィルム表面 ３ ガラス端部 ４ ポリマーフィルム ５ 端部拡大部 １０ ガラス引抜き装置 １１ ガラスタンク １２ デビットユース １３ 冷却経路 １４，２１ ローラ １６ バッファ経路 ２０ コンベアローラ ２２ 表面処理装置 ２３ 焼き入れユニット ２４ コーティングモジュール ２５ ポリマー ２６ シートダイ ２７ 移送ローラ ２８ 第１乾燥経路 ２９ 引抜き部 ３０ ＵＶ照射経路 ３１ 第２乾燥経路 ３２ 中間層解放装置 ３３ 巻回ユニット

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ， ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，Ｔ Ｍ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ライナー・マウヒ ドイツ・Ｄ−55218・インゲルハイム・ク ルプファルツシュトラーセ・22 (72)発明者 カール−ハインツ・ゾッセンハイマー ドイツ・Ｄ−55263・ヴァッケルンハイ ム・アウフ・デア・ウンター・６ (72)発明者 アンドレアス・ヴェーバー ドイツ・Ｄ−55124・マインツ・マックス −プランク−シュトラーセ・59 Ｆターム(参考） 4F100 AG00A AG00K AK01B AK01C AK02B AK02C AK25B AK25C AK43B AK43C AK45B AK45C AK49B AK49C AK52B AK52C AK54B AK54C AK54J AK55B AK55C AK55J AK80B AK80C AL01B AL01C BA02 BA03 BA06 BA10B BA10C EH46 GB41 JJ03 JK07B JK07C JK15B JK15C JN01 YY00A YY00B YY00C 4G059 AA01 AB13 AC16 AC30 FA09 FA15 FA19 FA22 FB05

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 １０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルム
   を備え、ディスプレイといった、特に電子構成要素及びデバイスで使用するため
   のガラス−プラスチック複合フィルムにおいて、 １μｍから２００μｍの間の厚さを有するポリマー層が、前記ガラスフィルム
   の各側面のうちの少なくとも一方に直接貼付され、かつその表面の少なくとも一
   側は、１００ｎｍより低いうねり，３０ｎｍより低い粗さＲ_Tを有していること
   を特徴とするガラス−プラスチック複合フィルム。
2. 【請求項２】 光学的遅延が２０ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１
   記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
3. 【請求項３】 すじが１００ｎｍより低く、好ましくは５０ｎｍより低く、
   特に好ましくは３０ｎｍよりも低いことを特徴とする請求項１又は２の何れかに
   記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
4. 【請求項４】 前記表面の両側が、１００ｎｍより低いうねりと、３０ｎｍ
   より低い粗さＲ_Tを有していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記
   載のガラス−プラスチック複合フィルム。
5. 【請求項５】 ガラス厚さが１０μｍから４００μｍの間、好ましくは１０
   μｍから２００μｍの間、特に好ましくは１０μｍから１００μｍの間の範囲で
   あることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項記載のガラス−プラスチック
   複合フィルム。
6. 【請求項６】 前記ポリマー層の厚さが、２μｍから１００μｍの間、好ま
   しくは２μｍから５０μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項１乃至５の
   何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
7. 【請求項７】 前記フィルムは、その端部の少なくとも１つに更にポリマー
   層を具備していることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項記載のガラス−
   プラスチック複合フィルム。
8. 【請求項８】 前記ポリマー層は、５０００Ｎ／ｍｍ²より低い弾性係数、
   好ましくは２６００Ｎ／ｍｍ²より低い弾性係数、特に好ましくは１５００Ｎ／
   ｍｍ²より低い弾性係数を有していることを特徴とする請求項１乃至７の何れか
   １項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
9. 【請求項９】 前記ガラス−プラスチック複合フィルムの透過性は、コーテ
   ィングされないガラスフィルムの９０％よりも高く、かつポリマーコーティング
   の結果として生じる曇りが１％より低く生じることを特徴とする請求項１乃至８
   の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
10. 【請求項１０】 表面の粗さＲ_Tが、２０ｎｍより低く、好ましくは１０ｎ
    ｍより低く、かつ表面のうねりが、８０ｎｍより低く、好ましくは５０ｎｍより
    低く、特に好ましくは３０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えない
    ことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合
    フィルム。
11. 【請求項１１】 連続使用では、フィルムが１３０℃までの耐熱性を有し、
    かつ短時間加熱では、フィルムが１４０℃まで、好ましくは１８０℃まで、特に
    好ましくは２００℃までの耐熱性を有していることを特徴とする請求項１乃至１
    ０の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
12. 【請求項１２】 前記ポリマー層が、シリコーンポリマー、ゾル・ゲルポリ
    マー、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリレート、ポリイミ
    ド、シクロオレフィン共重合体、ポリアリレート又はシリコーン樹脂を含むこと
    を特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フ
    ィルム。
13. 【請求項１３】 前記ガラスフィルムが、アルミノケイ酸ガラス、アルミノ
    ホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラス
    を含むことを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項記載のガラス−プラスチ
    ック複合フィルム。
14. 【請求項１４】 ２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜速度で下向き引抜き工
    程を使用して、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを形
    成するステップと； 前記ガラスフィルムの表面を予熱するステップと； １μｍから２００μｍの間の厚さのポリマー層を液相状態で直接貼付するステ
    ップと； ポリマーコーティングされた前記ガラスフィルムを切断するステップと； を備えることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項記載のガラス−プラス
    チック複合フィルムの製造方法
15. 【請求項１５】 ２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜速度で下向き引抜き工
    程を使用して、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを形
    成するステップと； 前記ガラスフィルムを切断するステップと； 前記ガラスフィルムの表面を前処理するステップと； １μｍから２００μｍの間の厚さのポリマー層を液相状態で直接貼付するステ
    ップと； を備えることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項記載のガラス−プラス
    チック複合フィルムの製造方法。
16. 【請求項１６】 前記ポリマー層が、スピニング又はスプレースピニングに
    より貼付されることを特徴とする請求項１５記載の方法。
17. 【請求項１７】 前記ポリマー層が、そそぎ込み又は圧延、又はスプレー、
    又はディップにより貼付されることを特徴とする請求項１４又は１５の何れかに
    記載の方法。
18. 【請求項１８】 側面に加えて、少なくとも１つの端部がコーティングされ
    ることを特徴とする請求項１４乃至１７の何れか１項記載の方法。
19. 【請求項１９】 １０μｍから４００μｍの間、好ましくは１０μｍから２
    ００μｍの間、特に好ましくは１０μｍから１００μｍの間の厚さを有するガラ
    スフィルムが、下向き引抜き方法によりガラス引抜き装置で形成されることを特
    徴とする請求項１４乃至１８の何れか１項記載の方法。
20. 【請求項２０】 前記コーティングが、２μｍから１００μｍの間、好まし
    くは２μｍから５０μｍの間の厚さにポリマー層を形成することを特徴とする請
    求項１４乃至１９の何れか１項記載の方法。
21. 【請求項２１】 コーティング前に、オゾン含有雰囲気中で、ＵＶ照射、又
    はコロナ処理，火炎処理により表面処理が行われることを特徴とする請求項１４
    乃至２０の何れか１項記載の方法。
22. 【請求項２２】 前記ポリマーをコーティングすることに続いて、コーティ
    ングが、ＵＶ照射により及び／又は加熱作用状態での乾燥により焼き入れされる
    ことを特徴とする請求項１４乃至２１の何れか１項記載の方法。
23. 【請求項２３】 前記ポリマーが、シリコーンポリマー、ゾル・ゲルポリマ
    ー、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリレート、ポリイミド
    、シクロオレフィン共重合体、ポリアリレート、又はシリコーン樹脂を含むこと
    を特徴とする請求項１４乃至２２の何れか１項記載の方法。
24. 【請求項２４】 前記ガラスフィルムを製造するために、アルミノケイ酸ガ
    ラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホ
    ウケイ酸ガラスのガラスフィルムが使用されることを特徴とする請求項１４乃至
    ２３の何れか１項記載の方法。
25. 【請求項２５】 エレクトロニクス構成要素、及びオプトエレクトロニクス
    デバイス、特に、液晶又は発光層を基礎とするデバイスを製造するための請求項
    １乃至１３の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルムの使用。