JP2002541405A - 遮断ガス弁装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、狭隘個所（８）を備えた弁装置（１）であって、器具に遮断ガスを供給するために働く形式のものに関する。弁装置が流入圧とは無関係であるようにするために、入口（２）と狭隘個所（８）との間に減圧装置（６）が設けられていることが提案されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、狭隘個所を備えた弁装置であって、器具に遮断ガスを供給するため
に働く形式のものに関する。

【０００２】 腐食性のあるガスをポンプによって圧送する際には、このガスが、モータ室、
軸受室、またはこれに類似する空間に進入し、ここで腐食を生ぜしめるという問
題が生じる。このような問題を回避するために、危険性のある空間に、継続的に
遮断ガス（不活性ガス、有利には窒素）を、圧送したいガスの圧力よりも高い圧
力で流入させることが公知である。遮断ガスが、危険性のある空間を貫流して満
たし、有害なガスの進入を阻止する。

【０００３】 ドイツ連邦共和国特許出願公告第２４０８２５６号明細書により例えば、モー
タ室および軸受室を有したターボ分子ポンプが公知であって、このモータ室およ
び軸受室には、モータと軸受とを保護するために継続的に洗浄ガスが流入されて
いる。このような措置により、比較的長いポンプの耐用期間が得られる。

【０００４】 上述したように保護すべき空間への供給は、狭隘個所を備えた弁装置（遮断ガ
ス弁）を介して行われる。この弁装置は、ガスタンクと接続されていて、例えば
０．２〜１．２ｍｂａｒ ｌ／ｓの値の所望の遮断ガス流を維持するべきである
。狭隘個所として絞りを備えたこのような形式の弁装置は、極めて小さな絞り直
径を必要とするので詰まりやすい。さらにその流量は、流入圧に一次的に依存す
る。狭隘個所を毛管として形成する場合は、比較的大きな直径を選択することが
でき、流量は増加するが、流入圧は２乗である。さらに調節弁を使用することが
公知である。しかしながらこの調節弁は、ここで必要とされるような小さな貫流
量の場合には、不都合な調節特性を有する。さらにこれらの調節弁も流入圧に依
存している。流入圧の変化の原因は、ガスタンクが空になるということだけでな
く、例えば半導体の製造のために使用される今日の真空装置などでは普通である
ように、遮断ガスを供給したい多数の空間が、１つの共通のガスタンクに接続さ
れていて、異なる時間、異なる遮断ガス量が取り込まれることによっても流入圧
は変化する。

【０００５】 本発明の課題は、冒頭で述べた形式の弁装置を改良して、広い流入圧範囲にわ
たって、一定の遮断ガス流を供給でき、かつ安価であるような弁装置を提供する
ことにある。

【０００６】 この課題は、本発明によれば、請求項１の特徴部により解決される。

【０００７】 狭隘個所に前置された減圧装置は、通常の遮断ガスタンクにおいては２５ｂａ
ｒまでの流入圧を、例えば０．２〜２ｍｂａｒのような一定の値にまで減じさせ
る働きを持っている。遮断ガスタンク内の圧力が、一定の圧力値を下回らない限
り、狭隘個所の前方及び後方の圧力間の差は一定のままである。即ち、本発明に
よる弁装置は広い流入圧範囲にわたって、一定の遮断ガス流を供給する。

【０００８】 狭隘個所は、自体公知のように、毛管としてまたは絞りとして形成することが
できる。毛管としての形成は、遮断ガス弁を汚れにくくするために有利である。
このことは、狭隘個所の手前に、例えば減圧装置と狭隘個所の間に配置されたフ
ィルタによっても付加的に達成される。

【０００９】 さらなる利点および詳細を、図１及び図２の実施例に基づき説明する。

【００１０】 図面にはそれぞれ、本発明による弁装置１が示されている。この弁装置１の入
口２は遮断ガスタンク３に接続されていて、弁装置１の出口４は、遮断ガスを供
給したい単数又は複数の室または空間（図示せず）に接続されている。

【００１１】 図１の実施例では、入口２には、減圧弁６を備えた導管５が続いている。減圧
弁６は例えば、イン・ライン調圧器（In-Line-Druckregler / Aircom社）であっ
てよい。減圧弁６には導管内で、２ポート２位置弁７が続いている。この２ポー
ト２位置弁７によって、遮断ガス運転は、オン・オフ切替可能である。この弁７
には、絞りまたは毛管として形成されている狭隘個所８が続いている。狭隘個所
８には弁装置の出口が続いている。

【００１２】 導管５にはバイパス１１が設けられていて、このバイパス１１は、弁７と狭隘
個所８とを迂回している。バイパス１１自体にも、２ポート２位置弁１２と狭隘
個所１３とが設けられている。狭隘個所１３は、弁１２を開放した状態で貫流す
るガス流が、出口４に接続された摩擦真空ポンプに注入されるように寸法設定さ
れている。このような注入によりポンプは迅速に制動され、この場合、機械的に
損傷されることはない。このためには１０〜８０ｍｂａｒ ｌ／ｓのオーダのガ
ス流が適している。弁７，１２と狭隘個所８，１３とは平行な導管区分に位置し
ているので、図示の弁装置は選択的に遮断ガス弁として、及び／又は注入弁とし
て使用することができる。

【００１３】 図２の実施例では、減圧弁６に、第２の減圧弁１５が接続されている。この第
２の減圧弁１５は調節可能であって、伝達圧力を微調整するために役立つ。減圧
弁６，１５には、特に狭隘個所８の汚染を防止するために、フィルタ１６が続い
ている。このフィルタには弁７が続いている。バイパス１１は、狭隘個所８だけ
を迂回しており、注入機能は、両弁７，１２が開放されている場合にだけ可能に
なる。個別の狭隘個所１３はバイパス１１には図示されていない。バイパス自体
またはこの区分は、直径が十分小さく選択されているならば狭隘機能を有するこ
とができる。

【００１４】 既に説明したように、狭隘個所８は有利には毛管である。毛管は比較的大きな
直径を有することができるので、詰まってしまう危険は少ない。適した毛管は、
ＰＣＴ出願のＷＯ ９５／２１３７３号明細書に記載されている。このような毛
管は、プラスチックによって被覆された石英毛管である。この石英毛管には、気
化ノズルの形式で形成されたホルダが設けられている。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本願の第１の実施例を概略的に示す図である。

【図２】 本願の第２の実施例を概略的に示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト シュトレ ドイツ連邦共和国 ケルン ウービーアリ ング 59 (72)発明者 ディルク カーリッシュ ドイツ連邦共和国 デュッセルドルフ シ ュロスシュトラーセ 10 Ｆターム(参考） 3E072 AA01 DB10 3J071 AA02 BB14 BB15 CC03 CC05 CC11 FF16

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 狭隘個所（８）を備えた弁装置（１）であって、器具に遮断
   ガスを供給するために働く形式のものにおいて、 入口（２）と狭隘個所（８）との間に減圧装置（６）が設けられていることを
   特徴とする、狭隘個所を備えた弁装置。
2. 【請求項２】 狭隘個所（８）が絞りとして、有利には毛管として形成され
   ている、請求項１記載の弁装置。
3. 【請求項３】 毛管（８）が、プラスチックによって被覆された石英毛管と
   して形成されている、請求項１又は２記載の弁装置。
4. 【請求項４】 狭隘個所（８）が毛管として形成されていて、気化ノズルの
   形式で形成されたホルダを備えている、請求項１から３までのいずれか１項記載
   の弁装置。
5. 【請求項５】 狭隘個所（８）の手前にフィルタ（１６）が配置されている
   、請求項１から４までのいずれか１項記載の弁装置。
6. 【請求項６】 減圧装置（６）が調節可能である、請求項１から５までのい
   ずれか１項記載の弁装置。
7. 【請求項７】 減圧装置（６）が、イン・ライン調圧器として形成されてい
   る、請求項１から６までのいずれか１項記載の弁装置。
8. 【請求項８】 ２つの減圧装置（６，１５）が設けられており、即ち、入口
   側に、イン・ライン調圧器（６）が配置されており、該イン・ライン調圧器の後
   方に、伝達圧を微調整するための調節可能な第２の減圧装置（１５）が配置され
   ている、請求項１から７までのいずれか１項記載の弁装置。
9. 【請求項９】 減圧装置（６，１５）と、狭隘個所（８）との間に弁（７）
   が設けられている、請求項１から８までのいずれか１項記載の弁装置。
10. 【請求項１０】 狭隘個所（８）がバイパス（１１）によって迂回されてお
    り、該バイパス（１１）には、弁（１２）と狭隘個所（１３）とが配置されてい
    る、請求項１から９までのいずれか１項記載の弁装置。
11. 【請求項１１】 狭隘個所（１３）が、出口（４）に接続された摩擦真空ポ
    ンプに注入できるように寸法設定されている、請求項１０記載の弁装置。