JP2002528435A - メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成 - Google Patents

メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成

Info

Publication number
JP2002528435A
JP2002528435A JP2000578282A JP2000578282A JP2002528435A JP 2002528435 A JP2002528435 A JP 2002528435A JP 2000578282 A JP2000578282 A JP 2000578282A JP 2000578282 A JP2000578282 A JP 2000578282A JP 2002528435 A JP2002528435 A JP 2002528435A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
group
substantially non
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000578282A
Other languages
English (en)
Inventor
テイリア,リチヤード・デイー
ラーセン,ロバート・デイー
デイビス,イアン・ダブリユ
チヤオ,ダリアン
キング,アンソニー・オン−ピン
チエン,チヨン・イー
グラボースキー,エドワード・ジエイ・ジエイ
ワン,シン
オシエイ,パウル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck and Co Inc
Original Assignee
Merck and Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck and Co Inc filed Critical Merck and Co Inc
Publication of JP2002528435A publication Critical patent/JP2002528435A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/20Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、式(A)で表される化合物の新規な合成方法に関する。これらの化合物はCOX−2選択的インヒビターとなる幾つかの物質の製造に有用な中間体である。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (発明の背景) 本出願は、(S)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−メチルチオフェ
ニル)ブタン−1−オンのようなメチルチオフェニルヒドロキシケトンの改良さ
れた製造方法に関する。これらの化合物は、シクロオキシゲナーゼ−2(COX
−2)を選択的に阻害する幾つかの化合物の製造に有用な中間体である。COX
−2選択性を有する化合物は、例えば1996年10月9日に出願され1997
年4月24日に公開された国際特許WO97/14691に記載されている。
【0002】 非ステロイド系抗炎症薬は、シクロオキシゲナーゼとしても知られたプロスタ
グランジンG/Hシンターゼの阻害を介して、それらの抗炎症活性、鎮痛活性及
び解熱活性の多くを作用させ、また、ホルモンに誘発される子宮収縮とある種の
癌の増殖とを阻害する。最初は、シクロオキシゲナーゼの1つの形態だけが知ら
れていた。この形態はシクロオキシゲナーゼ−1(COX−1)に対応する。シ
クロオキシゲナーゼ−1は構成酵素であり、ウシの精嚢腺から初めて同定された
。より最近になって、誘導形態の第二のシクロオキシゲナーゼCOX−2の遺伝
子がニワトリ、ネズミ及びヒトのソースから初めてクローニングされ配列決定さ
れ特性決定された。この酵素は、ヒツジ、マウス及びヒトなどの種々のソースか
らクローニングされ配列決定され特性決定されたCOX−1とは異なる酵素であ
る。第二形態のシクロオキシゲナーゼCOX−2は、マイトジェン、内毒素、ホ
ルモン、サイトカイン及び成長因子のような多くの因子によって迅速に且つ容易
に誘発される。プロスタグランジンは生理的及び病理的な双方の作用を有してお
り、構成酵素COX−1は主としてプロスタグランジンの内因性基底放出を担当
し、従って胃腸保全及び腎血流のような生理的機能に重要であると考えられてい
る。対照的に、誘導形態COX−2は主としてプロスタグランジンの病理的作用
を担当し、この酵素の迅速な誘発は炎症因子、ホルモン、成長因子及びサイトカ
インのような因子に応答して生じると考えられている。従って、COX−2の選
択的インヒビターは、非ステロイド系抗炎症薬と同様の抗炎症性、解熱性及び鎮
痛性を有しており、更に、ホルモンに誘発される子宮収縮を阻害し、有力な抗癌
効果を有しており、しかも、メカニズムに基づく幾つかの副作用を誘発する能力
は低いと考えられる。特に、このような化合物は胃腸毒性の可能性が少なく、腎
副作用の可能性が少なく、出血回数に対する影響も少なく、また、アスピリン感
受性喘息患者の喘息発作を誘発する能力は低いと考えられる。
【0003】 更に、このような化合物はまた、収縮性プロスタノイドの合成を防止すること
によってプロスタノイドに誘発される平滑筋収縮を阻害し、従って、月経困難症
、早産、喘息及び好酸球関連疾患に有効であろう。また、アルツハイマー病の治
療、特に閉経後の女性の骨減少の抑制(即ち、骨粗鬆症の治療)または緑内障の
治療に有用であろう。
【0004】 COX−2選択的インヒビターの有望な用途に関しては、John Vane
Nature,Vol.367,pp.215−216,1994の論文、及
び、Drug News and Perspectives,Vol.7,p
p.501−512,1994の論文に概説されている。
【0005】 (発明の概要) 本発明は、式A:
【0006】
【化8】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕で示される化合物の新規な合成
方法に関する。方法は、式B:
【0007】
【化9】 〔式中、基:
【0008】
【化10】 は5員環または6員環の非芳香環を表し、XはC、N、O及びSから成るグルー
プから選択される〕の化合物と、リチウム化剤及び式C:
【0009】
【化11】 の化合物とを、実質的に非反応性の溶媒中、低温下で反応させることによって式
Aの化合物を生成させる段階から成る。
【0010】 これらの化合物はCOX−2選択的インヒビターとなる幾つかの物質の製造に
有用な中間体である。
【0011】 (詳細な説明) 本発明は、式A:
【0012】
【化12】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕で示される化合物の新規な合成
方法に関する。方法は、式B:
【0013】
【化13】 〔式中、基:
【0014】
【化14】 は5員環または6員環の非芳香環を表し、XはC、N、O及びSから成るグルー
プから選択される〕の化合物と、リチウム化剤及び式C:
【0015】
【化15】 の化合物とを、実質的に非反応性の溶媒中、低温下で反応させることによって式
Aの化合物を生成させる段階から成る。
【0016】 本発明の好ましい実施態様において、リチウム化剤は、n−ブチルリチウム、
ヘキシルリチウム及びフェニルリチウムから成るグループから選択される。
【0017】 別の実施態様において、実質的に非反応性の溶媒は、テトラヒドロフラン、ト
ルエン、エチレングリコールジメチルエーテル、t−ブチルメチルエーテルなど
から成るグループから選択される。本発明の別の実施態様は、上記溶媒の2種以
上の溶媒の混合物を包含する。
【0018】 本発明の別の実施態様において、低温は約−78℃から約0℃の範囲である。
別の好ましい実施態様において、低温は約−40℃である。
【0019】 本発明の好ましい実施態様においては、反応を水性の酸によって停止させる。
反応を停止させる酸の例は、硫酸、塩酸、クエン酸及び酢酸である。
【0020】 本発明の別の実施態様では、Rがメチルであり、Rがエチルである。
【0021】 典型的には式Aの化合物が2つの立体異性体の混合物から成り、一方の立体異
性体が他方に対して鏡像体過剰量で存在する。
【0022】 本発明の別の実施態様では、式Aの化合物の生成効率が約90%を上回る。
【0023】 また別の実施態様では、以下の式B:
【0024】
【化16】 で示される基が、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル及びピペラジニル
から成るグループから選択される。より特定的にはこの基がピロリジニルを表す
【0025】 本発明の好ましい実施態様は、式Bの化合物の製造方法を包含する。方法は、
式D:
【0026】
【化17】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕の化合物を、実質的に非反応性
の溶媒中、低温下で活性化剤と反応させ、室温でピロリジンと反応させることに
よって式Bの化合物を生成させる段階から成る。
【0027】 活性化剤の一例はカルボニルジイミダゾールである。
【0028】 別の実施態様では、実質的に非反応性の溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエ
ン、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、t−ブチルメチルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル及びN,N−ジメチルホルムアミドから成るグループか
ら選択される。溶媒が上記溶媒の2種以上の混合物から成ってもよい。
【0029】 本発明に使用される低温は、約−25℃から約10℃の範囲である。より特定
的には、低温は約0℃である。
【0030】 好ましい実施態様では、式Bの化合物の生成効率が約90%を上回る。
【0031】 別の好ましい実施態様では、Rがメチルであり、Rがエチルである。
【0032】 このクラスのサブクラスは、他方に対して鏡像体過剰量で存在する1つの立体
異性体から成る式Dの化合物を使用する方法を包含する。
【0033】 このサブクラスの1つのグループは、式Dの化合物のラセミ混合物を実質的に
非反応性の溶媒中でキラルアミン分割剤と反応させることによって式Dの化合物
を分割する方法を包含する。
【0034】 実質的に非反応性の溶媒の例は、アセトン、酢酸エチル、ヘキサン及び酢酸イ
ソプロピルから成るグループから選択された溶媒である。更に上記溶媒の2種以
上の混合物も包含される。
【0035】 好ましい実施態様は、式Dの化合物が約98%の鏡像体過剰率まで分割される
方法である。
【0036】 より好ましい実施態様では、分割される生成物の収率が約65%を上回る値で
ある。
【0037】 より特定的には、式Dの化合物が約98%の鏡像体過剰率まで分割され、収率
が約60−70%である。
【0038】 本発明を以下の総括的反応スキームA及びBに基づいて説明する。
【0039】
【化18】
【0040】
【化19】 出発物質であるラセミ混合物を先ずキラルアミン分割剤で立体異性体に分割し
て所望の立体特異的ヒドロキシ酸を形成する。あるいは、T.Vriesら,A
ngew Chem.Int.Ed.(1998)37:2349−2354に
記載のようにキラルアミンの適当なファミリーを使用してもよい。
【0041】 キラルアミン分割剤の例は、 (1)(R)−(+)−1−(1−ナフチル)エチルアミンと (2)(S)−(−)−1−(1−ナフチル)エチルアミンと から成るグループから選択できる。
【0042】 代表例は、(S)−(+)−2−ヒドロキシ−2−メチル酪酸を(R)−(+
)−1−(1−ナフチル)エチルアミンを使用して分割する方法である。
【0043】 別の代表例は、(R)−(−)−2−ヒドロキシ−2−メチル酪酸を(S)−
(−)−1−(1−ナフチル)エチルアミンを使用して分割する方法である。
【0044】 分割したヒドロキシ酸を次に、適当な活性化剤を使用し、実質的に非反応性の
溶媒中、低温で活性化し、次いで環状アミンと結合させると、化合物Bが得られ
る。環状アミンは、次段階で脱離基として作用し、リチウム化反応によって置換
され、化合物Aが得られる。
【0045】 化合物Aを酸化してメチルスルホンDを製造する。適当な酸化剤はOxone
(登録商標)である。
【0046】 メチルスルホンDを次に、化合物ROCHCOH〔式中、RはC3− アルキル基を表す〕と反応させることによってエステル化する。適当なエステ
ル化手順の一例では、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のようなエス
テル化剤を、DABCOのようなアミン塩基の存在下、溶媒または混合溶媒中、
約30℃−35℃でメチルスルホンDに添加する。その後にエステルを環化し、
任意に脱保護すると、COX−2選択的阻害活性を有する化合物が得られる。
【0047】 本明細書で使用した“アルキル”なる用語は、1−20個の炭素原子を含む直
鎖状、分枝状または環状の構造及びその組合せを意味する。アルキル基の例は、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−及びt−ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、ウンデシル、ドデシル、トリデ
シル、テトラデシル、ペンタデシル、エイコシル、3,7−ジエチル−2,2−
ジメチル−4−プロピルノニル、などである。
【0048】 “実質的に非反応性の溶媒”という用語は、テトラヒドロフラン、トルエン、
アセトン、酢酸エチル、ヘキサン、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジメ
チルエーテル、t−ブチルメチルエーテル及びN,N−ジメチルホルムアミドを
包含する。
【0049】 “他方に対して鏡像体過剰量で存在する1つの立体異性体”という表現は、混
合物が一方の立体異性体を50%を上回る割合で含有し、他方を50%未満の割
合で含有することを意味する。この表現はまた、本質的に100%の立体異性体
と本質的に0%の対応する鏡像異性体とから成る鏡像異性的に純粋な化合物を包
含する。
【0050】 “室温”なる用語は約20℃を意味する。
【0051】 “低温”なる用語は、室温よりも低い任意の温度を包含する。
【0052】 “リチウム化剤”なる用語は、n−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム及びフ
ェニルリチウムを包含する。
【0053】 “活性化剤”なる用語は、任意の別の化合物の特定部位を活性化して別の基で
置換可能にする任意の化合物を意味する。一例はカルボニルジイミダゾールであ
る。
【0054】 “キラルアミン分割剤”なる用語は、鏡像異性体混合物と反応したときに、一
方の立体異性体が他方に対して鏡像体過剰量で存在する立体異性体の混合物を生
じさせる任意のアミン化合物を意味する。このような過剰は出発混合物のいかな
る過剰よりも大きい。キラルアミン分割剤の例は、(R)−(+)−1−(1−
ナフチル)エチルアミン、及び、(S)−(−)−1−(1−ナフチル)エチル
アミンである。
【0055】 次に本発明を以下の非限定実施例によって説明する。
【0056】 準備実施例1 パートA:分割
【0057】
【化20】
【0058】
【表1】 機械的撹拌機と窒素導入口と熱電対とを備えた50L容の三つ口丸底フラスコ
に、窒素下、(R)−(+)−1−(1−ナフチル)エチルアミン及びアセトン
(19.0L)を10℃で充填した。固体形態の2−ヒドロキシ−2−メチル酪
酸を30分間で添加した。混合物を9℃−11℃で72−96時間熟成した。
【0059】 混合物を25℃に加温し、絶縁した焼結漏斗を介して濾過することによって固
体を単離した。湿性ケーキを低温アセトン(0℃、8L)で洗浄した。生成物を
減圧下で乾燥すると、2.392gの塩が得られた(収率78%、LCによるe
e(鏡像体過剰率)>93%)。
【0060】 生成物をアセトンから再結晶させるとee>98.5%の塩が収率70%で得
られた。
【0061】 パートB:塩の分解、酸及びアミンの回収
【0062】
【化21】
【0063】
【表2】 機械的撹拌機と窒素導入口と熱電対とを備えた50L容の丸底フラスコに、窒
素下、前段階で得られた塩と、新しく洗浄した樹脂(13.3kg,66LのM
eOHで洗浄)と、イソプロパノール(IPA)(20.0L)とを充填した。
混合物を2時間撹拌し、混合物を濾過し、樹脂をIPA(30L)で洗浄した。
集めたIPA溶液を約5Lに濃縮し、ヘプタン(60L)を添加し、混合物を容
量30Lまで再度濃縮した。ヘプタン溶液を0℃に冷却した。生成物を濾過し、
湿性ケーキをヘプタン(0℃、4L)で洗浄し、生成物を減圧下に乾燥させると
、794gの(S)−(+)−2−ヒドロキシ−2−メチル酪酸が得られた(収
率98%、3段階の総収率63.5%、ee>98.5%)。
【0064】 機械的撹拌機と窒素導入口と熱電対とを備えた50L容の丸底フラスコに、窒
素下、回収した樹脂と2MのNHのMeOH溶液(30.0L)(pH>8.
5)とを充填した。混合物を3時間撹拌し、樹脂を濾過し、MeOH(30L)
で洗浄した。得られた溶液を濃縮すると、未精製の(R)−(+)−1−(1−
ナフチル)エチルアミンが得られた(収量1,150g、収率98%)。
【0065】 実施例1
【0066】
【化22】
【0067】
【表3】 0℃のTHF中のカルボニルジイミダゾール(CDI)(818g,5.05
mol)に、ヒドロキシ酸(580g,5mol)を30分間で添加した。混合
物を0℃で30分間熟成し、25℃未満の温度を維持しながらピロリジン(71
1g,10mol)を10分間で添加した。混合物を室温で30分間熟成した。
混合物の溶媒をトルエン(18L)で置換し、0℃に冷却し、25℃未満の温度
を維持しながら6NのHClを部分量ずつ添加した。混合物を室温で30分間熟
成し、トルエン層を分離した。水層をトルエン(2×9L)で逆抽出した。トル
エン層を集めて濃縮し、溶液とした(〜3mL/gのアミドB)。
【0068】 実施例2
【0069】
【化23】
【0070】
【表4】 導入口と熱電対とオーバーヘッド撹拌機とを備えた20L容の四つ口フラ
スコに、アミド(トルエン溶液)とTHF(850mL)とPhCH(指示薬
)とを充填した。溶液を−65℃に冷却しn−BuLiをゆっくりと添加した(
終点は黄褐色から持続的赤褐色への変色によって示される)。
【0071】 N導入口とオーバーヘッド撹拌機と熱電対とを備えた50L容の四つ口丸底
フラスコに、4−ブロモチオアニソールとTHF(50L)とを充填した。溶液
を−62℃に冷却し、n−BuLiを1時間で添加した。得られた重い白色スラ
リーを−50℃〜−60℃で1時間熟成した。この混合物にアミドBリチウムア
ルコキシドのスラリーをカニューレを介して添加し、次に、反応混合物を0℃で
2時間加熱した。
【0072】 125L容の抽出装置に16Lの脱イオン水とHSO(2.1L)とを添
加した。反応混合物をカニューレを介して反応停止槽に移して(2LのTHFで
洗浄)激しく撹拌した。層が分離したので、水層を30Lのトルエンで抽出した
。有機層を集めてNaHCO水溶液(5重量%、18L)で洗浄し、次いで約
20Lに濃縮乾固した。生成物の検定収量は2.29kg(97%)であった。
【手続補正書】
【提出日】平成13年5月25日(2001.5.25)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕で示される化合物の合成方法で
あって、式B:
【化2】 〔式中、基:
【化3】 は5員環または6員環の非芳香環を表し、XはC、N、O及びSから成るグルー
プから選択される〕の化合物と、リチウム化剤及び式C:
【化4】 の化合物とを、実質的に非反応性の溶媒中、低温下で反応させることによって式
Aの化合物を生成させる方法。
【化5】 で示される基が、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル及びピペラジニル
から成るグループから選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【化6】 で示される基が、ピロリジニルであることを特徴とする請求項12に記載の方法
【化7】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕の化合物を実質的に非反応性の
溶媒中、低温下で活性化剤と反応させ、室温でピロリジンと反応させることによ
って式Bの化合物を生成させることを特徴とする請求項1に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 57/00 346 C07B 57/00 346 C07M 7:00 C07M 7:00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 テイリア,リチヤード・デイー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 ラーセン,ロバート・デイー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 デイビス,イアン・ダブリユ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 チヤオ,ダリアン アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 キング,アンソニー・オン−ピン アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 チエン,チヨン・イー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 グラボースキー,エドワード・ジエイ・ジ エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065−0907、ローウエイ、イースト・リ ンカーン・アベニユー・126 (72)発明者 ワン,シン カナダ国、ケベツク・アシユ・9・アシ ユ・3・エル・1、カークランド、トラン ス−カナダ・ハイウエイ・16711 (72)発明者 オシエイ,パウル カナダ国、ケベツク・アシユ・9・アシ ユ・3・エル・1、カークランド、トラン ス−カナダ・ハイウエイ・16711 Fターム(参考) 4C069 AA02 BB02 BB22 CC01 4H006 AA01 AC22 AC83 AD33 BB11 BB15 BB16 BB17 BB20 BC10 BC40 BN10 BS10 TA04

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式A: 【化1】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕で示される化合物の合成方法で
    あって、式B: 【化2】 〔式中、基: 【化3】 は5員環または6員環の非芳香環を表し、XはC、N、O及びSから成るグルー
    プから選択される〕の化合物と、リチウム化剤及び式C: 【化4】 の化合物とを、実質的に非反応性の溶媒中、低温下で反応させることによって式
    Aの化合物を生成させる方法。
  2. 【請求項2】 リチウム化剤が、n−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム及
    びフェニルリチウムから成るグループから選択されることを特徴とする請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】 実質的に非反応性の溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエン
    及びエチレングリコールジメチルエーテルから成るグループから選択されること
    を特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 実質的に非反応性の溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエン
    及びエチレングリコールジメチルエーテルから成るグループから選択された2種
    以上の溶媒の混合物であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 低温が約−78℃から約0℃の範囲であることを特徴とする
    請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 低温が約−40℃であることを特徴とする請求項1に記載の
    方法。
  7. 【請求項7】 反応を酸によって停止させることを特徴とする請求項1に記
    載の方法。
  8. 【請求項8】 酸が、硫酸、塩酸、クエン酸及び酢酸から成るグループから
    選択されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 Rがメチルであり、Rがエチルであることを特徴とする請
    求項1に記載の方法。
  10. 【請求項10】 式Aの化合物が、他方に対して鏡像体過剰量で存在する1
    つの立体異性体から成ることを特徴とする請求項9に記載の方法。
  11. 【請求項11】 式Aの化合物の生成効率が約90%を上回ることを特徴と
    する請求項1に記載の方法。
  12. 【請求項12】 以下の式B: 【化5】 で示される基が、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル及びピペラジニル
    から成るグループから選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  13. 【請求項13】 以下の式B: 【化6】 で示される基が、ピロリジニルであることを特徴とする請求項12に記載の方法
  14. 【請求項14】 式Bの化合物の製造方法であって、式D: 【化7】 〔式中、R及びRはC1−6アルキルである〕の化合物を実質的に非反応性の
    溶媒中、低温下で活性化剤と反応させ、室温でピロリジンと反応させることによ
    って式Bの化合物を生成させることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  15. 【請求項15】 活性化剤がカルボニルジイミダゾールであることを特徴と
    する請求項14に記載の方法。
  16. 【請求項16】 実質的に非反応性の溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエ
    ン、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、t−ブチルメチルエーテル、エチレングリ
    コールジメチルエーテル及びN,N−ジメチルホルムアミドから成るグループか
    ら選択されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
  17. 【請求項17】 実質的に非反応性の溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエ
    ン、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、t−ブチルメチルエーテル、エチレングリ
    コールジメチルエーテル及びN,N−ジメチルホルムアミドから成るグループか
    ら選択された2種以上の溶媒の混合物であることを特徴とする請求項14に記載
    の方法。
  18. 【請求項18】 低温が約−25℃から約10℃の範囲であることを特徴と
    する請求項14に記載の方法。
  19. 【請求項19】 低温が約0℃であることを特徴とする請求項14に記載の
    方法。
  20. 【請求項20】 Rがメチルであり、Rがエチルであることを特徴とする
    請求項14に記載の方法。
  21. 【請求項21】 式Dの化合物が、一方の立体異性体が他方に対して鏡像体
    過剰量で存在する立体異性体の混合物から成ることを特徴とする請求項20に記
    載の方法。
  22. 【請求項22】 式Bの化合物の生成効率が約90%を上回ることを特徴と
    する請求項14に記載の方法。
  23. 【請求項23】 式Dの化合物のラセミ混合物を実質的に非反応性の溶媒中
    でキラルアミン分割剤と共に反応させることによって式Dの化合物の混合物を分
    割することを特徴とする請求項21に記載の方法。
  24. 【請求項24】 キラルアミン分割剤が、 (1)(R)−(+)−1−(1−ナフチル)エチルアミン、及び、 (2)(S)−(−)−1−(1−ナフチル)エチルアミン、 から成るグループから選択されることを特徴とする請求項23に記載の方法。
  25. 【請求項25】 (S)−(+)−2−ヒドロキシ−2−メチル酪酸が、(
    R)−(+)−1−(1−ナフチル)エチルアミンを使用して得られることを特
    徴とする請求項24に記載の方法。
  26. 【請求項26】 (R)−(−)−2−ヒドロキシ−2−メチル酪酸が、(
    S)−(−)−1−(1−ナフチル)エチルアミンを使用して得られることを特
    徴とする請求項24に記載の方法。
  27. 【請求項27】 実質的に非反応性の溶媒が、アセトン、酢酸エチル、ヘキ
    サン及び酢酸イソプロピルから成るグループから選択されることを特徴とする請
    求項23に記載の方法。
  28. 【請求項28】 実質的に非反応性の溶媒が、アセトン、酢酸エチル、ヘキ
    サン及び酢酸イソプロピルから成るグループから選択された2種以上の溶媒の混
    合物であることを特徴とする請求項23に記載の方法。
  29. 【請求項29】 式Dの化合物が約65%を上回る生成効率で約98%の鏡
    像体過剰率まで分割されることを特徴とする請求項23に記載の方法。
JP2000578282A 1998-10-27 1999-10-25 メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成 Pending JP2002528435A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10583098P 1998-10-27 1998-10-27
US60/105,830 1998-10-27
PCT/US1999/025064 WO2000024711A1 (en) 1998-10-27 1999-10-25 Synthesis of methylthiophenyl hydroxyketones

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002528435A true JP2002528435A (ja) 2002-09-03

Family

ID=22308018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000578282A Pending JP2002528435A (ja) 1998-10-27 1999-10-25 メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6281391B1 (ja)
EP (1) EP1124798A4 (ja)
JP (1) JP2002528435A (ja)
AU (1) AU758349B2 (ja)
CA (1) CA2347768A1 (ja)
WO (1) WO2000024711A1 (ja)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0003002B1 (de) * 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
US5840746A (en) * 1993-06-24 1998-11-24 Merck Frosst Canada, Inc. Use of inhibitors of cyclooxygenase in the treatment of neurodegenerative diseases
US5474995A (en) * 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
GB2294879A (en) * 1994-10-19 1996-05-15 Merck & Co Inc Cylcooxygenase-2 Inhibitors
EP0799218B1 (en) * 1994-12-21 2003-02-19 Merck Frosst Canada & Co. Diaryl-2-(5h)-furanones as cox-2 inhibitors
US6020343A (en) * 1995-10-13 2000-02-01 Merck Frosst Canada, Inc. (Methylsulfonyl)phenyl-2-(5H)-furanones as COX-2 inhibitors
UA57002C2 (uk) * 1995-10-13 2003-06-16 Мерк Фросст Кенада Енд Ко./Мерк Фросст Кенада Енд Сі. Похідне (метилсульфоніл)феніл-2-(5н)-фуранону, фармацевтична композиція та спосіб лікування
WO1998041516A1 (en) * 1997-03-14 1998-09-24 Merck Frosst Canada & Co. (methylsulfonyl)phenyl-2-(5h)-furanones with oxygen link as cox-2 inhibitors

Also Published As

Publication number Publication date
AU758349B2 (en) 2003-03-20
AU1133700A (en) 2000-05-15
US6281391B1 (en) 2001-08-28
WO2000024711A1 (en) 2000-05-04
EP1124798A4 (en) 2002-08-28
EP1124798A1 (en) 2001-08-22
CA2347768A1 (en) 2000-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2291067C (en) Method for the preparation of citalopram
JP2003520841A (ja) プレガバリンの不斉合成
JP2001519385A (ja) キラル化合物の製造方法
WO2020239039A1 (zh) 一种制备四嗪类化合物的方法及其应用
JP2003519218A (ja) シタロプラムの製造方法
CA3172601A1 (en) Preparation of cyclosporin derivatives
US20100145099A1 (en) Novel polymorphic forms of milnacipran hydrochloride
JP2002528435A (ja) メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成
JP2002518480A (ja) 5−又は8−ブロモイソキノリン誘導体の製造方法
JPH10504307A (ja) 新規なジイソピノカンフェイルクロロボランの製造方法
JPH11507059A (ja) ドラフェニンを合成するための立体選択的方法
US5446166A (en) Preparation of pyrrol and oxazole compounds: formation of porphyrins and C-acyl-α-amino acid esters therefrom
JP2000510479A (ja) ブチルチオ−イソキノリン及びそれの中間体を製造するための方法
JPS6399024A (ja) アリ−ルおよびヘテロアリ−ルアルカン酸の製造方法
JPH07503008A (ja) 3−アシルエストラトリエンおよびアシルベンゼンの製造方法
US5672717A (en) Preparation of pyrrol and oxazole compounds; formation of porphyrins and C-acyl-α-amino acid esters therefrom
JPH0480910B2 (ja)
JP2002523394A (ja) スルホニルハロゲン化物の製造方法
JP2737304B2 (ja) キラルなフェロセン誘導体
JP2006507346A (ja) トリアルキルマグネサート試薬を用いるアリール中間体化合物の調製
JP2004528302A (ja) ケトスルホンエステルの合成
JP2002539205A (ja) 不斉水素化のための改良された製法
JP2002512210A (ja) 2−ヒドロキシアルキルハロフェノンの製造方法
CN103193668B (zh) 手性茚满衍生物及其制备方法和用途
EP2938595B1 (fr) Procede de synthese d'une hydrazine utile dans le traitement du virus du papillome