JP2002524554A - 除草剤として有用なピリジンケトン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 置換基が請求項１で定義された通りである式Ｉの化合物は、除草剤としての使用に適している。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、新規な除草剤的に（herbicidally）活性なピリジンケトンに、それ
らの製造方法に、これらの化合物を含む組成物に、および雑草（特に有用植物の
作物において）を防除（control）するための、または植物生長を抑制するため
のそれらの用途に関する。

【０００２】 除草性作用を有するピリジンケトンは、例えば、ＷＯ ９７／４６５３０号に
記述されている。我々は、除草性および生長抑制性を有する新規なピリジンケト
ンを今や見出した。 本発明は、したがって、式Ｉの化合物

【０００３】

【化１１】

【０００４】 ［式中、個々のＲは独立にＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハ
ロアルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロ
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチ
オ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハ
ロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、
Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、−
Ｎ（Ｒ₁）−Ｓ−Ｒ₂、−Ｎ（Ｒ₃）−ＳＯ−Ｒ₄、−Ｎ（Ｒ₅）−ＳＯ₂Ｒ₆、ニト
ロ、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、ヒドロキシ−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカ
ルボニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
ニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、チオシアナト−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、オキシラニル（oxiranyl）、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆ア
ルキニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルケニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ
、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキ
シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキ
シ、アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、アルコキシカルボニル−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニルオ
キシ、フェニル、ベンジル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル
、フェニルスルホニル、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニルまたはベンジルス
ルホニルであって、フェニル基がハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチ
ル、メトキシまたはニトロによってモノ−またはポリ置換されていてもよく、ま
たはＲが、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒素、酸素
およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでいてもよい
５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系（ring system）であり、そ
の環系が直接ピリジン環に結合しているか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキレン基を介し
てピリジン環に結合しており、個々の環系が２を越える酸素原子を含まなくても
よく、または２を越えるイオウ原子を含まなくてもよく、その環系が部分的に（
for its part）、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ₆ハロ
アルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチオ、Ｃ₃〜
Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアル
キルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミノスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノスルホニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₇、ＮＲ₈Ｒ₉、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニ
ルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフェニル環上で部分的に
Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
アルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）に
よってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく、および複素環における
窒素上の置換基がハロゲンと異なり； ｍは、１、２、３、または４であり； ｐは、０または１であり； Ｒ₁、Ｒ₃およびＲ₅は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₂は、ＮＲ₁₀Ｒ₁₁、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₄は、ＮＲ₁₂Ｒ₁₃、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₆は、ＮＲ₁₄Ｒ₁₅、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₇は、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アル
キルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニルまたは
フェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ．ハロゲン、シアノまたはニ
トロによって置換されていてもよく； Ｒ₈、Ｒ₁₀、Ｒ₁₂およびＲ₁₄は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルで
あり； Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₃およびＲ₁₅は、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆ アルコキシであり； Ｑは基Ｑ１

【０００５】

【化１２】

【０００６】 （式中、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、互いに独立に水素、ヒドロキシル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−ＮＨＳ（Ｏ）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
キル、−ＮＨ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）₂、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
コキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲンまたはフェニル（部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル
、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノによって置換されていても
よい）であるか；またはＲ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈およびＲ₁₉からなる群からの２個の隣
接する置換基がＣ₂〜Ｃ₆アルキレンブリッジを形成し； Ｒ₂₀はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホニル
、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆
アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルフィ
ニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂
アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアル
ケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニル
スルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカ
ルボニル−１〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₃₇Ｒ₃₈Ｎ、Ｒ₇₁Ｒ₇₂ＮＮＨ−、Ｒ₂₁Ｒ₂₂ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₇₃Ｒ₇₄ＮＣ（Ｏ
）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₃₉、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
Ｏ）₂ＮＲ₄₀、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、
ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよく）、 または基Ａｒ₁−チオ、Ａｒ₂−スルフィニル、Ａｒ₃−スルホニル、ＯＣＯ−
Ａｒ₄またはＮＨ−Ａｒ₅（式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、Ａｒ₄およびＡｒ₅は、
互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒素、
酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでいても
よい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々の環系が２
を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子を含まなく
てもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
ロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケ
ニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル
チオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅ア
セチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シ
アノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスル
フィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、ア
ミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミ
ノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₄₁、ＮＲ₄₂Ｒ₄₃、ハロゲン、シアノ、ニ
トロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフェニル環
上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ
、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されて
いてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく、および
複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₄₁はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
ロによって置換されていてもよく； Ｒ₄₂は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₄₃は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₂₁、Ｒ₃₇、Ｒ₃₉、Ｒ₄₀、Ｒ₇₁およびＲ₇₃は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₂₂、Ｒ₃₈、Ｒ₇₂およびＲ₇₄は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
ルキニルオキシであるか；またはＲ₂₁およびＲ₂₂が一緒に、またはＲ₃₇およびＲ₃₈ が一緒に、またはＲ₇₁およびＲ₇₂が一緒に、またはＲ₇₃およびＲ₇₄が一緒に、
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、メチル基によ
ってモノ−またはポリ置換されていてもよく；または基Ｑ₂

【０００７】

【化１３】

【０００８】 （式中、Ｙは化学結合、アルキレン基Ａ₁、カルボニル、酸素、イオウ、スルフ
ィニル、スルホニル、−ＮＨＲ₂₄₈またはＮＨ（ＣＯ）Ｒ₂₄₉であり； Ａ₁はＣ（Ｒ₂₄₆Ｒ₂₄₇）ｍ₀₁であり； ＡはＣ（Ｒ₂₄₄Ｒ₂₄₅）ｒであり； ｒおよびｍ₀₁は互いに独立に、０、１または２であり； Ｒ₂₄₀は水素、メチルまたはＣ₁〜Ｃ₃アルコキシカルボニルであり； Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂、Ｒ₂₄₃、Ｒ₂₄₄、Ｒ₂₄₅、Ｒ₂₄₆およびＲ₂₄₇は互いに独立に水素
、ハロゲンまたはメチルであり、またはＲ₂₄₃と隣接する基Ｒ₂₄₅またはＲ₂₄₇と
は化学結合であり； Ｒ₂₄₈およびＲ₂₄₉は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； Ｒ₂₃はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ア
ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホニル、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂
ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ_{1 2} アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルス
ルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニ
ル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁
〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ
（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₄₄Ｒ₄₅Ｎ、Ｒ₇₅Ｒ₇₆ＮＮＨ−、Ｒ₄₆Ｒ₄₇ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₇₇Ｒ₇₈ＮＣ（Ｏ
）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₄₈、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
Ｏ）₂ＮＲ₄₉、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基が、ハロゲン、Ｃ１〜
Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていても
よい）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニ
ルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカ
ルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル
チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−
ＮＨ−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、
ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、
フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェ
ニルスルホニルオキシまたはベンゾイルオキシであって、フェニル基が部分的に
、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
ロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂
Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよ
く、 または基Ａｒ₆−チオ、Ａｒ₇−スルフィニル、Ａｒ₈−スルホニル、ＯＣＯ−
Ａｒ₉またはＮＨ−Ａｒ₁₀であって、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉およびＡｒ₁₀
は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒
素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでい
てもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々の環系
が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子を含ま
なくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル
、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜
Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆
アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
チオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアル
ケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃
〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂ 〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアル
キルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホ
ニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアル
キルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₅₀、ＮＲ₅₁Ｒ₅₂、ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフ
ェニル環上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
ルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置
換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく
、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₅₀はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
ロによって置換されていてもよく； Ｒ₅₁は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₅₂は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₄₆、Ｒ₄₇、Ｒ₄₈、Ｒ₄₉、Ｒ₇₅およびＲ₇₇は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₄₇、Ｒ₄₅、Ｒ₇₆およびＲ₇₈は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
ルキニルオキシであるか；またはＲ₄₄およびＲ₄₅が一緒に、またはＲ₄₆およびＲ₄₇ が一緒に、またはＲ₇₅およびＲ₇₆が一緒に、またはＲ₇₇およびＲ₇₈が一緒に、
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、メチル基によ
ってモノ−またはポリ置換されていてもよく；または基Ｑ₃

【０００９】

【化１４】

【００１０】 （式中、Ｒ₂₆はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜
Ｃ₁₂アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁
〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルス
ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂
〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニ
ルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフ
ィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル
−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルス
ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ
）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₅₃Ｒ₅₄Ｎ、Ｒ₇₉Ｒ₈₀ＮＮＨ−、Ｒ₅₅Ｒ₅₆ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₈₁Ｒ₈₂ＮＣ（Ｏ
）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₅₇、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
Ｏ）₂ＮＲ₅₈、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよい）、 または基Ａｒ₁₁−チオ、Ａｒ₁₂−スルフィニル、Ａｒ₁₃−スルホニル、ＯＣＯ
−Ａｒ₁₄またはＮＨ−Ａｒ₁₅であって、Ａｒ₁₁、Ａｒ₁₂、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄および
Ａｒ₁₅は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよ
く、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含
んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々
の環系が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子
を含まなくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロア
ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
ロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ
、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ
、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルス
ルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジ
アルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₅₉、ＮＲ₆₀Ｒ₆₁、ハロゲン
、シアノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオ
がＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハ
ロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによってフェニル環上で部分的に
置換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよ
く、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₅₉はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
ロによって置換されていてもよく； Ｒ₆₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₆₁は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₅₅、Ｒ₅₃、Ｒ₅₇、Ｒ₅₈、Ｒ₇₉およびＲ₈₁は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₅₆、Ｒ₅₄、Ｒ₈₀およびＲ₈₂は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₃〜Ｃ₆ア
ルキニルオキシであるか；またはＲ₅₃およびＲ₅₄が一緒に、またはＲ₅₅およびＲ₅₆ が一緒に、またはＲ₇₉およびＲ₈₀が一緒に、またはＲ₈₁およびＲ₈₂が一緒に、
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、それはメチル
基によってモノ−またはポリ置換されていてもよく； Ｒ₂₉は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシカルボニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）ＮＨＣＯ、フェニルアミノカルボニル
、ベンジルアミノカルボニル、（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）₂ＮＣＯであって、フェ
ニルおよびベンジル基が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ
、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁
〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロまたはシアノ
によって置換されていてもよく； または基Ｑ₄

【００１１】

【化１５】

【００１２】 （式中、Ｒ₃₀はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜
Ｃ₁₂アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁
〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルス
ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂
〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハ
ロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアル
ケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（
Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏである）、 Ｒ₆₂Ｒ₆₃Ｎ、Ｒ₈₃Ｒ₈₄ＮＮＨ−、Ｒ₆₄Ｒ₆₅ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₈₅Ｒ₈₆ＮＣ（Ｏ
）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₆₆、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
Ｏ）₂ＮＲ₆₇、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ
）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
ルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよい）、 または基Ａｒ₁₆−チオ、Ａｒ₁₇−スルフィニル、Ａｒ₁₈−スルホニル、ＯＣＯ
−Ａｒ₁₉またはＮＨ−Ａｒ₂₀であって、Ａｒ₁₆、Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉および
Ａｒ₂₀は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよ
く、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含
んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々
の環系が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子
を含まなくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロア
ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₆ハ
ロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ
、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ
、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルス
ルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジ
アルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₆₈、ＮＲ₆₉Ｒ₇₀、ハロゲン
、シアノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオ
がフェニル環上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによ
って置換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていて
もよく、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₆₈はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
ロによって置換されていてもよく； Ｒ₇₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₆₁は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₆₄、Ｒ₆₂、Ｒ₆₆、Ｒ₆₇、Ｒ₈₃およびＲ₈₅は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₆₅、Ｒ₆₃、Ｒ₈₄およびＲ₈₆は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
ルキニルオキシであるか；またはＲ₆₂およびＲ₆₃が一緒に、またはＲ₆₄およびＲ₆₅ が一緒に、またはＲ₈₃およびＲ₈₄が一緒に、またはＲ₈₅およびＲ₈₆が一緒に、
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、それはメチル
基によってモノ−またはポリ置換されていてもよく； Ｒ₃₃およびＲ₃₄は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル
、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ
、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル−ＮＨＳ（Ｏ）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、−ＮＨ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−
Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）₂、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシまたはフェニルであって、それ
が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカル
ボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁
〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノ
によって置換されていてもよく；またはＲ₃₃およびＲ₃₄が一緒にＣ₂〜Ｃ₆アルキ
レンブリッジを形成し；および Ｒ₃₅は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルま
たはベンジルであって、部分的にハロゲン、メチルまたはメトキシによって置換
されていてもよく、またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルまたはフェニルであっ
て、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカ
ルボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノ
によって置換されていてもよく； または基Ｑ₅であり；

【００１３】

【化１６】

【００１４】 （式中、ＺはＳ、ＳＯまたはＳＯ₂であり； Ｒ₀₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル；ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、−
ＣＯ₂Ｒ₀₂、−ＣＯＲ₀₃、−ＣＯＳＲ₀₄、−ＮＲ₀₅Ｒ₀₆、ＣＯＮＲ₀₃₆Ｒ₀₃₇また
はフェニルによって置換されたＣ₁〜Ｃ₈アルキルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜
Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄
アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯＣ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）
ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃ 〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
ル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル
）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₂₅Ｒ₂₆、ＯＳＯ₂−
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロ
アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン
−フェニル、または−ＮＲ₀₁₅ＣＯ₂Ｒ₀₂₇によって置換されていてもよく； またはＲ₀₁はＣ₂〜Ｃ₈アルケニル、または、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ
ィニル、−ＣＯＮＲ₀₃₂Ｒ₀₃₃、シアノ、ニトロ、−ＣＨＯ、−ＣＯ₂Ｒ₀₃₈、−Ｃ
ＯＲ₀₃₉、−ＣＯＳ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−ＮＲ₀₃₄Ｒ₀₃₅、またはフェニルによ
って置換されたＣ₂〜Ｃ₈アルケニルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆
アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
ニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、
ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル）
−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ
（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂ −フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆ アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアル
キル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニ
ル、Ｎ（フェニル）−ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニ
ル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₄₀Ｒ₀₄₁、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチ
オ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホ
ニル、フェニルスルフホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレンフェニル、ま
たは−ＮＲ₀₄₃ＣＯ₂Ｒ₀₄₂によって置換されていてもよく； またはＲ₀₁が、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、またはハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
、シアノ、−ＣＯ₂Ｒ₀₄₄、またはフェニルによって置換されたＣ₃〜Ｃ₆アルキニ
ルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シ
アノ、−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アル
ケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル
、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）−ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
ニル）−ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、ＣＯＮＲ₀₂₈Ｒ₀₂₉、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルス
ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₃₁ＣＯ₂Ｒ₀₃₀よっ
て置換されていてもよく； またはＲ₀₁は、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニルまたはフェニルによって置換されたＣ₃〜Ｃ₇シクロ
アルキルであって、部分的にハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルおよびＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによって置換されていてもよく； またはＲ₀₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキレン−Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルである
か、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ア
ルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−Ｃ
ＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェ
ノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜
Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−
フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜
Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ_{04 5} Ｒ₀₄₆、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ₄アルキ
ルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、
または−ＮＲ₀₄₈ＣＯ₂Ｒ₀₄₇によって置換されたフェニルであり；または Ｒ₀₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキレンフェニル、ＣＯＲ₀₇または４〜６員のヘテロサイク
リルであり； Ｒ₀₂、Ｒ₀₃₈、Ｒ₀₄₄およびＲ₀₆₆は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フ
ェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル
、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、
シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アル
ケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル
、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
、ＣＯＮＲ₀₄₉Ｒ₀₅₀、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルス
ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₅₂ＣＯ₂Ｒ₀₅₃によ
って置換されていてもよいフェニルであり； Ｒ₀₃、Ｒ₀₃₉、Ｒ₀₆₇は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルであるか、ま
たはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニ
ルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、
ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、
（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ
（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アル
キニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル
、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シク
ロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（
フェニル）ＳＯ₂フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₇₀Ｒ₀₅₄、Ｏ
ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₅₆ＣＯ₂Ｒ₀₅₅によって置換されたフェニル
であり； Ｒ₀₄はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； Ｒ₀₅は水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆ア
ルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
ＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−
フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆
アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂Ｈ、Ｎ（Ｃ₃〜
Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−
フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂Ｈ、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
ル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル
、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂フェニル、Ｏ
ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₅₇Ｒ₀₅₈、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フ
ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、
フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルス
ルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−
ＮＲ₀₆₀ＣＯ₂Ｒ₀₅₉によって置換されたフェニルであり； Ｒ₀₆は水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆ア
ルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
ＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−
フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆
アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
ル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル
、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂フェニル、Ｏ
ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₆₁Ｒ₀₆₂、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フ
ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、
フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルス
ルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−
ＮＲ₀₆₄ＣＯ₂Ｒ₀₆₃によって置換されたフェニルであり； Ｒ₀₇はフェニル、置換されたフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シ、または−ＮＲ₀₈Ｒ₀₉であり、； Ｒ₀₈およびＲ₃₀は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルであるか、または
ハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ チオアルキル、−ＣＯ₂Ｒ₀₆₆、−ＣＯＲ₀₆₇、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによって置換されたフェニ
ルであり；またはＲ₀₈およびＲ₀₉は一緒に、酸素、ＮＲ₀₆₅またはＳによって中
断されていてもよい５〜６員環を形成し、 Ｒ₀₁₅、Ｒ₀₃₁、Ｒ₀₄₃、Ｒ₀₄₈、Ｒ₀₅₂、Ｒ₀₅₆、Ｒ₀₆₀およびＲ₆₄は互いに独立
に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルまたはＣ₃ 〜Ｃ₇シクロアルキルであり； Ｒ₀₂₅、Ｒ₀₂₆、Ｒ₀₂₇、Ｒ₀₂₈、Ｒ₀₂₉、Ｒ₀₃₀、Ｒ₀₃₂、Ｒ₀₃₃、Ｒ₀₃₄、Ｒ₀₃₅、
Ｒ₀₃₆、Ｒ₀₃₇、Ｒ₀₄₀、Ｒ₀₄₁、Ｒ₀₄₂、Ｒ₀₄₅、Ｒ₀₄₆、Ｒ₀₄₇、Ｒ₀₄₉、Ｒ₀₅₀、Ｒ₀₅₃ 、Ｒ₀₅₄、Ｒ₀₅₅、Ｒ₀₅₇、Ｒ₀₅₈、Ｒ₀₅₉、Ｒ₀₆₁、Ｒ₀₆₂、Ｒ₀₆₅およびＲ₀₇₀は
互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはハロゲン、ニトロ、シ
アノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによ
って置換されたフェニルであり；および Ｒ₃₆は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキルであるか、またはハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
ロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂
Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏまたはフェニルによって置換されたＣ₃ 〜Ｃ₆シクロアルキルであって、部分的にハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、シアノ、ニトロま
たはＣＯＯＨによって置換されていてもよい］ の化合物；および式Ｉの化合物の農芸化学的に許容可能な塩Ｍ⁺および全ての立
体異性体および互変異性体を提供する。

【００１５】 式Ｉの化合物は、純粋な形で単離可能な異なる異性体の形で、存在することが
できる。本発明は従って、式Ｉの化合物の全ての立体異性の形をも包含する。こ
れらの異性体の形の例は、下記の式Ｉｘ、Ｉｘｘ、Ｉｘｘｘ、およびＩｘｘｘｘ
（式中、Ｑは基Ｑ₂である）である。

【００１６】

【化１７】

【００１７】 置換基の定義において現れるアルキル基は、直鎖または分枝型であることがで
き、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅ
ｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルお
よびオクチル、およびそれらの分枝異性体である。アルコキシ、アルケニルおよ
びアルキニル基は、上述したアルキル基に由来する。アルケニルおよびアルキニ
ル基は、モノ−またはポリ不飽和であってもよい。

【００１８】 ハロゲンは、一般的にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。これは、対応
して、他の意味との組合せにおけるハロゲン（例えばハロアルキルまたはハロフ
ェニル）にもあてはまる。 ハロアルキル基は、好ましくは１〜８個の炭素原子の鎖長を有する。ハロアル
キルは例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ
ロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチ
ル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、ペンタフルオロエチル、１，１−
ジフルオロ−２，２，２−トリクロロエチル、２，２，３，３−テトラフルオロ
エチル、および２，２，２−トリクロロエチルであり；好ましくはトリクロロメ
チル、ジフルオロクロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、およ
びジクロロフルオロメチルである。

【００１９】 適当なハロアルケニル基は、ハロゲン（ハロゲンはフッ素、塩素、臭素、およ
びヨウ素であり、特にフッ素、および塩素である）によってモノ−またはポリ置
換されたアルケニル基であり、例えば２，２−ジフルオロ−１−メチルビニル、
３−フルオロプロペニル、３−クロロプロペニル、３−ブロモプロペニル、２，
３，３−トリフルオロプロペニル、２，３，３−トリクロロプロペニル、および
４，４，４−トリフルオロブト−２−エン−１−イルである。ハロゲンによって
モノ−、ジ−、またはトリ置換されたＣ₃〜Ｃ₂₀アルケニル基の中で、３〜５個
の炭素原子の鎖長を有するものが優先される。

【００２０】 適当なハロアルキニル基は例えば、ハロゲン（ハロゲンは臭素およびヨウ素、
特に、フッ素および塩素である）によってモノ−またはポリ置換されたアルキニ
ル基であり、例えば、３−フルオロプロピニル、３−クロロプロピニル、３−ブ
ロモプロピニル、３，３，３−トリフルオロプロピニル、および４，４，４−ト
リフルオロブト−２−イン−１−イルである。ハロゲンによってモノ−またはポ
リ置換されたアルキニル基の中で、３〜５個の炭素原子の鎖長を有するものが優
先される。

【００２１】 アルコキシ基は、好ましくは１〜６個の炭素原子の鎖長を有する。アルコキシ
は、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、
イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、およびｔｅｒｔ−ブトキシ、更には異性体の
ペンチルオキシ、およびヘキシルオキシ基であり；好ましくは、メトキシおよび
エトキシである。アルキルカルボニルは、好ましくはアセチルまたはプロピオニ
ルである。アルコキシカルボニルは例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルまたはｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルであり；好ましくは、メトキシカルボニルまたはエトキシ
カルボニルである。ハロアルコキシ基は、好ましくは１〜８個の炭素原子の鎖長
を有する。ハロアルコキシは例えば、フルオメトキシ、ジフルオメトキシ、トリ
フルオメトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、１，１，２，２−テトラ
フルオロエトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２，２−ジフ
ルオロエトキシ、および２，２，２−トリクロロエトキシであり；好ましくはジ
フルオロメトキシ、２−クロロエトキシ、およびトリフルオロメトキシである。
アルキルチオ基は、好ましくは１〜８個の炭素原子の鎖長を有する。アルキルチ
オは例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−
ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオまたはｔｅｒｔ−ブチルチオ
であり、好ましくは、メチルチオ、およびエチルチオである。アルキルスルフィ
ニルは例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニ
ル、イソプロピルスルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィ
ニル、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニルであり；好
ましくはメチルスルフィニル、およびエチルスルフィニルである。

【００２２】 アルキルスルホニルは例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピ
ルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、イソブチルス
ルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニルまたはｔｅｒｔ−ブチルスルホニルであり
；好ましくは、メチルスルホニルまたはエチルスルホニルである。アルコキシア
ルコキシ基は好ましくは、１〜８個の炭素原子の鎖長を有する。アルコキシアル
コキシ基の例は、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、メトキシプロポキシ、
エトキシメトキシ、エトキシエトキシ、プロポキシメトキシまたはブトキシブト
キシである。アルキルアミノは例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノまたは異性体のブチルアミンである。ジアルキ
ルアミノは例えば、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ、ｎ
−プロピルメチルアミノ、ジブチルアミノ、およびジイソプロピルアミノである
。１〜４個の炭素原子の鎖長を有するアルキルアミノ基が優先される。アルコキ
シアルキル基は、好ましくは１〜６の炭素原子の鎖長を有する。アルコキシアル
キルは例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエ
チル、ｎ−プロポキシメチル、ｎ−プロポキシエチル、イソプロポキシメチルま
たはイソプロポキシエチルである。アルキルチオアルキル基は、好ましくは１〜
８個の炭素原子を有する。アルキルチオアルキルは例えば、メチルチオメチル、
メチルチオエチル、エチルチオメチル、エチルチオエチル、ｎ−プロピルチオメ
チル、ｎ−プロピルチオエチル、イソプロピルチオメチル、イソ−プロピルチオ
エチル、ブチルチオメチル、ブチルチオエチルまたはブチルチオブチルである。
シクロアルキル基は、好ましくは３〜８個の環炭素原子を有し、例えばシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、お
よびシクロオクチルである。フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンゾイ
ル、フェニルチオ、フェニルアルキル、フェノキシアルキル等の置換基の一部で
あってもよいフェニルは、置換されていてもよい。この場合、置換基はオルト、
メタおよび／又はパラ位であることができる。好ましい置換基位置は環結合位置
に対してオルト、およびパラ位である。ヘテロサイクリルは、炭素原子に加えて
、少なくとも１個のヘテロ原子（例えば窒素、酸素および／又はイオウ）を含む
環構造を意味すると理解されるべきである。それらは、飽和または不飽和である
ことができる。本発明の文脈において、ヘテロサイクリル環系は、置換されてい
てもよい。適当な置換基は、例えば、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、シアノ、ニトロ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオまたはＣ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ルである。

【００２３】 ヘテロサイクリルは例えば、フリル、チオフェニル、ピロリジル、ピペリジニ
ル、モルホリニル、ピリジル、イミダゾリル、テトラヒドロフリル、テトラヒド
ロピラニル、ジヒドロフリル、ジヒドロピラニル、イソオキサゾリル、オキサゾ
リル、イソチアゾリル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾ
リル、チアゾリル、ピラゾリル、１，２，４−トリアゾリル、１，２，３−トリ
アゾリル、テトラゾリル、ピリミジル、ピラジニル、対称または非対称トリアジ
ニル、ピペラジニル、オキサゾリニル（例えば：

【００２４】

【化１８】

【００２５】 ）、オキサゾリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ジオキサニル、オ
キセタニル、特に、２−オキセタニルまたはフタルイミジルであることができる
。 本発明は、式Ｉの化合物によって形成可能な、特にＲ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、および
Ｒ₃₀がヒドロキシルである式Ｉの化合物により（好ましくはアミン、アルカリ金
属、およびアルカリ土類金属塩基、または第４級アンモニウム塩基と）形成可能
な塩Ｍ⁺をも包含する。アルカリ金属、およびアルカリ土類金属塩基の中で、リ
チウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウムの水酸化物（特
に、ナトリウムまたはカリウムのそれら）は、塩形成剤として特に強調すること
ができる。アンモニウム塩形成に適したアミンの例は、アンモニア、および第１
級、第２級および第３級Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルアミン、Ｃ₁〜Ｃ₄ヒドロキシアルキ
ルアミン、およびＣ₂〜Ｃ₄アルコキシアルキルアミン、例えばメチルアミン、エ
チルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、４個の異性体のブチル
アミン誘導体、ｎ−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチ
ルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン
、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、メチルエチ
ルアミン、メチルイソプロピルアミン、メチルヘキシルアミン、メチルノニルア
ミン、メチルペンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、エチルブチルア
ミン、エチルヘプチルアミン、エチルオクチルアミン、ヘキシルヘプチルアミン
、ヘキシルオクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピ
ルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−アミルアミ
ン、ジイソアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルア
ミン、エタノールアミン、ｎ−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ−エチル−プロパノールアミン、Ｎ−ブチルエ
タノールアミン、アリルアミン、ｎ−ブテニル−２−アミン、ｎ−ペンテニル−
２−アミン、２，３−ジメチルブテニル−２−アミン、ジブテニル−２−アミン
、ｎ−ヘキセニル−２−アミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ
−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｎ
−アミルアミン、メトキシエチルアミン、およびエトキシエチルアミン；ヘテロ
環式アミン、例えばピリジン、キノリン、イソキノリン、モルフォリン、ピペリ
ジン、ピロリジン、インドリン、キニクリジン、およびアゼピン；第１級アリー
ルアミン、例えばアニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、ｏ，ｍ，ｐ
−トルイジン、フェニレンジアミン、ナフチルアミン、およびｏ，ｍ，ｐ−クロ
ロアニリンであり；特にトリエチルアミン、イソプロピルアミン、およびジイソ
プロピルアミンである。塩形成に適した第４級アンモニウム塩基は、例えば、［
Ｎ（Ｒ_a01 Ｒ_b01 Ｒｃ₀₁ Ｒ_d01）］⁺ ＯＨ^-（式中、Ｒ_a01 Ｒ_b01 Ｒｃ₀₁ Ｒ_d01は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）である。他のアニオンとの更
なる適当なテトラアルキルアンモニウム塩基は、例えばアニオン交換反応により
得ることができる。

【００２６】 式Ｉの好ましい化合物は、式１ｂに対応する

【００２７】

【化１９】

【００２８】 ［式中、個々のＲは、独立にＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチ
オ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
アミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、
ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、−Ｎ（Ｒ₁）−ＳＲ₂、−Ｎ（Ｒ₃）−
ＳＯ−Ｒ₄、−Ｎ（Ｒ₅）−ＳＯ₂Ｒ₆、ニトロ、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル
、アミノ、または芳香族または部分的に飽和していてもよく、窒素、酸素および
イオウからなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含むことができる５員〜
１０員の単環または縮合二環式の環系であって、その環系が直接ピリジン環に結
合しているか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキレン基を介してピリジン環に結合し、個々
の環系は２個を越える酸素原子を含まなくてもよく、および２個を越えるイオウ
原子を含まなくてもよく、環系は部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロア
ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
ロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ
、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ
、Ｃ₂〜Ｃ₄−シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハ
ロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル
スルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ ジアルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃〜アルキレン−Ｒ₇、ＮＲ₈Ｒ₉、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、フェニル、およびベンジルチオ（フェニルおよびベンジル
チオがフェニル環上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロに
よって置換されていてもよい）によってモノ、ジ−、またはトリ置換されていて
もよく、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｑは、基Ｑ₁であり、式中、 Ｒ₂₀は、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオ
キシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルオキシ、Ｒ₂₁ Ｒ₂₂Ｎ−Ｃ（Ｏ）Ｏ、フェ
ニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、（Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ
）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏまたはベンゾイルオキシであり；お
よび Ｒ₂₁、およびＲ₂₂は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； または基Ｑ_2a

【００２９】

【化２０】

【００３０】 （式中、Ｒ₂₃はヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニ
ルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルオキシ、Ｒ₂₄Ｒ₂₅Ｎ−Ｃ（Ｏ）Ｏ、フ
ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、（Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（
Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏまたはベンゾイルオキシであり；
および Ｒ₂₄、およびＲ₂₅は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）；お
よび Ｙは酸素、イオウ、化学結合またはＣ₁〜Ｃ₄アルキレンブリッジであり；また
は基Ｑ₃

【００３１】

【化２１】

【００３２】 （式中、Ｒ₂₆はヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニ
ルオキシ、Ｃ１〜Ｃ₄アルコキシカルボニルオキシ、Ｒ₂₇Ｒ₂₈Ｎ−Ｃ（Ｏ）Ｏ、
フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、（Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ
（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏまたはベンゾイルオキシである
）；および Ｒ₂₇、およびＲ₂₈は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、およ
び Ｒ₂₉は、水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシカルボニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）ＮＨＣＯ、または（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル）₂ＮＣＯ；または基Ｑ₄

【００３３】

【化２２】

【００３４】 （式中、Ｒ₃₀はヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニ
ルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルオキシ、Ｒ₃₁Ｒ₃₂Ｎ−Ｃ（Ｏ）Ｏ、フ
ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、（Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ
（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏまたはベンゾイルオキシであり
；および Ｒ₃₁、およびＲ₃₂は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； Ｒ₃₃、およびＲ₃₄は、互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケ
ニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル−ＮＨＳ（Ｏ）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、−ＮＨ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、−Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）₂、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシであるか、または部分的
にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
ロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、
アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ１〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
キルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−
Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノによっ
て置換されていてもよいフェニルであり；またはＲ₃₃およびＲ₃₄は、一緒にＣ₂
〜Ｃ₆アルキレンブリッジを形成し；および Ｒ₃₅は、水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、または部
分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜
Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボ
ニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
ロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
キル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ
（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノ
によって置換されていてもよいフェニルであり；または基Ｑ₅である］ もの、およびこれらの化合物の農学的に（agronomically）に許容できる塩であ
って、他の置換基は請求項１で式Ｉの下に定義されている。式１ｂの化合物の中
で、更に、式中、 基Ｃ（Ｏ）−Ｑはピリジン環の３の位置に配置されているか、または式中Ｑが
Ｑ₂であり、Ｒ₂₃が特にヒドロキシルであり、Ｙがメチレンブリッジであり；お
よびｍが数２であるものが優先される。更にＲがＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜
Ｃ₆ハロアルキルである式１ｂの化合物が優先される。

【００３５】 式Ｉの好ましい化合物は、基−Ｃ（Ｏ）Ｑがオルト位にあることを特徴とする
。基ＲがＣ₁〜Ｃ₆ハロアルキルであって、ピリジル窒素へのオルト位にある式Ｉ
の化合物が更に優先される。基−Ｃ（Ｏ）Ｑがピリジル窒素に対して３の位置に
ある式Ｉの化合物が、とりわけ、特に重要である。式Ｉにおいて、ｐは好ましく
は数０である。強調すべきものは、ｍが２であり；ＲがＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルコキシメチル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルチオメチル
、ヒドロキシメチル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシメチル、ベンゾイルオ
キシメチル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルオキシメチル、塩素、シアノ、Ｃ₁
〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、アリル（allyl）オキシ、プロパル
ギルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルス
ルフィニルメチルまたはＣ₁〜Ｃ₂アルキルスルホニルメチルである式Ｉの化合物
でもある。式Ｉの好ましい化合物の更なる群は、少なくとも１個の基Ｒがトリフ
ルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチルまたはヘプタフ
ルオロ−ｎ−プロピルであるそれらの化合物によって形成される。

【００３６】 式Ｉの特に注目すべき化合物は、Ｑが基Ｑ₁であり、およびＲ₁₆、Ｒ₁₈、およ
びＲ₁₉がＣ₁〜Ｃ₃アルキルであり、およびＲ₁₇が水素であるか、またはＱが基Ｑ₂ であり、Ｙが−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−または酸素であり、Ａが−ＣＨ₂−で
あり、およびＲ₂₄₀、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂、およびＲ₂₄₃は個々に水素であるか、または
Ｑは基Ｑ₃であり、およびＲ₂₉がＣ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシカルボニルまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルアミノカルボニルまたはジ（Ｃ₁〜Ｃ₂−
アルキル）アミノカルボニルであるか、またはＱが基Ｑ₄（式中、Ｒ₃₃、Ｒ₃₄、
およびＲ₃₅がＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）である。式Ｉのこれらの注目すべき化合
物において、Ｒ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、およびＲ₃₀が互いに独立にハロゲン、チオシア
ナト、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂アルコ
キシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ_l2ア
ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜
Ｃ₁₂アルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−ハ
ロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアル
ケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニ
ル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂ −アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アル
ケニルカルボニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁
〜Ｃ₁₂アルキルチオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キル）−ＮＨ−、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベン
ジルスルホニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニル
スルホニル、フェニルスルホニルオキシまたはベンゾイルオキシであって、フェ
ニル基が部分的に、個々の場合にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチ
オ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロまたはシア
ノによって置換されていてもよく、またはＲ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、およびＲ₃₀は、互
いに独立に、チエニルカルボニルオキシまたはフリルカルボニルオキシ（部分的
にメチルまたはハロゲンによって置換されていてもよい）であるか、またはピリ
ジルカルボニルオキシ（請求項１に記載されたように部分的に置換されていても
よい）であり、またはＲ₂₀がＲ₃₇Ｒ₃₈Ｎ、Ｒ₇₁Ｒ₇₂ＮＮＨ−、Ｒ₂₁Ｒ₂₂ＮＣ（Ｏ
）Ｏ−またはＲ₇₃Ｒ₇₄ＮＣ（Ｏ）ＮＨ−であるか；または、Ｒ₂₃はＲ₄₄Ｒ₄₅Ｎ、
Ｒ₇₅Ｒ₇₆ＮＮＨ−、Ｒ₄₆Ｒ₄₇ＮＣ（Ｏ）Ｏ−またはＲ₇₇Ｒ₇₈ＮＣ（Ｏ）ＮＨ−で
あり；または、Ｒ₂₆はＲ₅₃Ｒ₅₄Ｎ、Ｒ₇₉Ｒ₈₀ＮＮＨ−、Ｒ₅₅Ｒ₅₆ＮＣ（Ｏ）Ｏ−
またはＲ₈₁Ｒ₈₂ＮＣ（Ｏ）ＮＨ−であり；または、Ｒ₃₀はＲ₆₂Ｒ₆₃Ｎ、Ｒ₈₃Ｒ₈₄ ＮＮＨ−、Ｒ₆₄Ｒ₆₅ＮＣ（Ｏ）Ｏ−またはＲ₈₅Ｒ₈₆ＮＣ（Ｏ）ＮＨ−である。と
りわけ特に好ましくは、Ｒ₂₀、Ｒ₂₂、Ｒ₂₆またはＲ₃₀は、ヒドロキシルまたはＯ^- Ｍ⁺である。

【００３７】 更なる好ましい群は、Ｑが基Ｑ₅であり、Ｒ₃₆がＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキル、またはシクロプロピルであり、Ｒ₀₁がＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシカルボニルメチル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニルであり、 がメチル、ハ
ロゲン、トリフルオロメチル、メトキシによって置換されたベンジルまたはフェ
ニルであり；少なくとも一個の基Ｒが、ピリジル窒素に対してオルト位に位置す
るトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチル、また
はヘプタフルオロ−ｎ−プロピルある式Ｉのそれらの化合物によって形成される
。

【００３８】 式Ｉ

【００３９】

【化２３】

【００４０】 （式中、Ｒ、およびｍが式Ｉの下で定義される通りであり；ｐは、０であり；Ｑ
は基

【００４１】

【化２４】

【００４２】 である） の化合物を製造するための本発明に従うプロセスは、公知のプロセス（例えばＷ
Ｏ ９７／４６５３０号、およびＥＰ−Ａ−０ ３５３ １８７号に記述されてい
るもの）と同様に行われ、 ａ）不活性な有機溶媒中で塩基の存在下で、式ＩＩ

【００４３】

【化２５】

【００４４】 （式中、Ｒは式Ｉの下で定義された通りであり、Ｘは脱離基（例えばハロゲン）
である） の化合物と、式ＩＩＩ、ＩＶ、ＶまたはＶＩ

【００４５】

【化２６】

【００４６】 （式中、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉，Ｒ₂₉、Ｒ₃₃、Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₂₄₀、Ｒ₂₄₃、Ｒ₂₄₂ 、Ｒ₂₄₁、Ａ、およびＹが、式Ｉの下で定義された通りである） とを反応させて、式ＶＩＩ、ＶＩＩＩ、ＩＸまたはＸ

【００４７】

【化２７】

【００４８】

【化２８】

【００４９】 の化合物を与え、 次いで、例えば塩基および触媒量のジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）また
はシアン化物源の存在下で、これらの化合物を異性化させるか；または ｂ）不活性な有機溶媒中で、塩基、およびカップリング剤の存在下で、式ＸＩ

【００５０】

【化２９】

【００５１】 （式中、Ｒ、およびｍは式Ｉの下で定義された通りである） の化合物と、式ＩＩＩ、ＩＶ、ＶまたはＶＩ

【００５２】

【化３０】

【００５３】 （式中、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₉、Ｒ₃₃、Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₂₄₀、Ｒ₂₄₃、Ｒ₂₄₂ 、Ｒ₂₄₁、Ａ、およびＹが式Ｉの下で定義された通りである） の化合物と反応させて、式ＶＩＩ、ＶＩＩＩ、ＩＸまたはＸ

【００５４】

【化３１】

【００５５】 の化合物を与え、および 次いで、例えば経路ａ）の下で記述されたように、これらの化合物を異性化さ
せることを含む。 Ｒ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆またはＲ₃₀がヒドロキシルまたはハロゲンと異なる式Ｉの化
合物は、文献から一般的に公知の変換方法によって、例えば適切なアシル クロ
リドによるアシクレーション（acyclations）またはカルバモイル化により、適
当な塩基の存在下でＲ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆またはＲ₃₀がヒドロキシルである化合物か
ら製造することができ、またはそれらは、Ｒ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆またはＲ₃₀がハロゲ
ンである式Ｉのクロリド上での求核置換反応によって製造可能であり、それらは
、塩素化剤、例えばホスゲン、塩化チオニルまたはオギザリル クロリドとの反
応による公知のプロセスによって同様に得ることができる。ここに、例えば、適
切に置換されたアミン、またはヒドロキシルアミンが直接に、またはアルキルス
ルホナミド、メルカプタン、チオフェノール、フェノール、Ａｒ₁−ＮＨ₂または
Ａｒ₁−ＳＨは、塩基（例えば５−エチル−２−メチルピリジン、ジイソプロピ
ルエチルアミン、トリエチルアミン、重炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウムまたは
炭酸カリウム）の存在下で使用される。

【００５６】 Ｒ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆またはＲ₃₀がチオ基を含む式Ｉの化合物は、公知の標準的な
プロセスと同様に、例えば過酸（例えばメタクロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢＡ）
または過酢酸）を用いて酸化させて、式Ｉの対応するスルホン、およびスルホキ
シドを与えることができる。ここに、イオウ原子（ＳＯ−またはＳＯ₂）におけ
る酸化の程度は酸化剤の量によって制御することができる。

【００５７】 Ｒおよびｍが式Ｉの下で定義され、且つＱが基

【００５８】

【化３２】

【００５９】 （式中、Ｚがイオウであり、ｑが０であり、およびＲ₃₆およびＲ₀₁が式Ｉで定義
された通りである） の式Ｉの化合物を製造するための本発明に従うプロセスは、公知のプロセス（例
えばＷＯ ９７／４３２７０号に記述されているもの）と同様に行われ、式ＸＩ
Ｉ

【００６０】

【化３３】

【００６１】 （式中、Ｒ₃₆、Ｒおよびｍが式Ｉで定義された通りである） を、塩基、二硫化炭素、および式ＸＩＩＩ Ｒ₀₁−Ｘ₁ （ＸＩＩ） （式中、Ｒ₀₁は式Ｉの下で定義された通りであり、Ｘ₁は脱離基（例えばハロゲ
ンまたはスルホネート）である） のアルキル化剤の存在下で、式ＸＩＶ

【００６２】

【化３４】

【００６３】 （式中、Ｚがイオウであり、Ｒ、Ｒ₀₁、Ｒ₃₆およびｍが上記で定義された通りで
ある） の化合物に変換し、次いで、この化合物を溶媒の存在または不存在下で、塩基の
存在下で、塩酸ヒドロキシルアミンを用いて環化させて、式

【００６４】

【化３５】

【００６５】 （式中、Ｚがイオウであり、Ｒ、Ｒ₃₆、Ｒ₀₁およびｍが上記で定義された通りで
ある） の化合物を与え、次いでこれらの化合物を、酸化剤（例えばメタ−クロロ過安息
香酸（ｍ−ＣＰＢＡ））で酸化することを含む。 式Ｉｅ、およびＩｆの異性体は、カラムクロマトグラフィーおよび適当な移動
相を用いて分離し、および次いで精製することができる。

【００６６】 ｐが０である式Ｉの化合物の製造は、以下の反応スキーム１、および２で、更
に詳細に説明される。

【００６７】

【化３６】

【００６８】 この反応スキームによれば、Ｒ₂₀がヒドロキシルである基Ｑ₁を有する式Ｉの
化合物、Ｒ₂₃がヒドロキシルである基Ｑ₂を有する式Ｉの化合物、Ｒ₂₆がヒドロ
キシルである基Ｑ₃を有する式Ｉの化合物、およびＲ₃₀がヒドロキシルである基
Ｑ₄を有する式Ｉの化合物を、好適に製造することができる。

【００６９】

【化３７】

【００７０】 Ｑが基Ｑ₁〜Ｑ₄であり、およびＲ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、およびＲ₃₀がヒドロキシル
である式Ｉの化合物を反応スキーム１、経路ａ）に従って製造するために、Ｘが
脱離基、例えばハロゲン（例えばヨウ素、臭素、および特に、塩素）、Ｎ−オキ
シフタラミドまたはＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミノ、または活性エステル
、例えば

【００７１】

【化３８】

【００７２】 （ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）と対応するカルボン酸から形成さ
れる）、または

【００７３】

【化３９】

【００７４】 （Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ
）と対応するカルボン酸から形成される） の一部である式ＩＩのカルボン酸誘導体が使用される。これらの化合物は、例え
ばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリル等のニトリル、トル
エン等の芳香族炭化水素等の不活性な有機溶媒中で、塩基、例えばアルキルアミ
ン、例えばトリエチルアミン、芳香族アミン、例えばピリジンまたは４−ジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下で、式ＩＩＩ、ＩＶ、ＶまたはＶＩのジ
オン誘導体と反応されて、式ＶＩＩ、ＶＩＩＩ、ＩＸ、およびＸの異性体のエノ
ールエーテルを与える。このエステル化は、０℃〜１１０℃の温度で行われる。

【００７５】 式ＶＩＩ、ＶＩＩＩ、ＩＸ、およびＸのエステル誘導体の、式Ｉ（式中、Ｒ₂₀ 、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、およびＲ₃₀は、ヒドロキシルである）のジオン誘導体への異性化
は、ＥＰ ３６９ ８０３号と同様に、例えば、塩基、例えばアルキルアミン、例
えばトリエチルアミン、カーボネート、例えば炭酸カリウム、および触媒量のＤ
ＭＡＰまたはシアン化物源（例えばアセトンシアノヒドリンまたはシアン化カリ
ウム）の存在下で行うことができる。

【００７６】 反応スキーム１、経路ｂ）によれば、式Ｉ（式中、Ｒ₂₀、Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、および
Ｒ₃₀は、ヒドロキシルである）の所望のジオンは、例えばChem. Lett. １９７５
，１０４５と同様に、不活性溶媒、例えばハロゲン化炭化水素（例えばジクロロ
メタン）、ニトリル（例えばアセトニトリル）、または芳香族炭化水素（例えば
トルエン）中で、塩基、例えばアルキルアミン（例えばトリエチルアミン）、お
よびカップリング剤（例えば２−クロロ−１−メチルピリジニウムヨウ化物）の
存在下で、式ＸＩのカルボン酸を式ＩＩＩ、ＩＶ、ＶまたはＶＩのジオン誘導体
でエステル化することによって得ることができる。用いた溶媒に依存して、この
エステル化は、０℃〜１１０℃の温度で、経路ａ）で記述したように当初に式Ｉ
の異性体のエステルを与え、それは経路ａ）で記述したように、例えば塩基、お
よび触媒量のＤＭＡＰまたはシアン化物源の存在下で異性化して、式Ｉ（Ｒ₂₀、
Ｒ₂₃、Ｒ₂₆、およびＲ₃₀は、ヒドロキシルである）の所望のジオン誘導体を与え
ることができる。

【００７７】 Ｑが基Ｑ₅である式Ｉの化合物の製造は、反応スキーム２に従って、式ＸＩＩ
のβ−ジケトン誘導体を、例えばSynthesis、１９９１、３０１；同書１９８８
、７９３；または、テトラヘドロン ３２、３０５５（１９７６）と同様に、塩
基、例えばカーボネート（例えば炭酸カリウム）、金属水素化物（例えば水素化
ナトリウム）またはアルミニウム上のフッ化カリウム、および式ＸＩＩＩ｛式中
、Ｘ₁が脱離基、例えばハロゲン（例えばヨウ素、臭素、および特に塩素）、Ｒ_{2 5} ＯＳＯ₂Ｏ−、ＣＨ₃ＳＯ₂Ｏ−、または

【００７８】

【化４０】

【００７９】 である｝ のアルキル化剤の存在下で、二硫化炭素と反応させることによって行うことがで
きる。この反応は、好ましくは溶媒、例えばアミド、例えばＮ，Ｎジ−メチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ
）またはニトリル（例えばアセトニトリル）の存在下で、行われる。形成される
式ＸＩＶのケテンチオアセタールは、塩基（例えば酢酸ナトリウム）の存在下で
、溶媒、例えばアルコール、例えばエタノール、またはエーテル、例えばテトラ
ヒドロフラン中で、塩酸ヒドロキシルアミンを用いて環化されて、Ｚがイオウで
ある式Ｉｅの化合物を与える。この環化反応は、０℃〜１００℃の温度で行われ
る。適当な場合には、式ＩｅおよびＩｆ（Ｚがイオウである）の化合物は、公知
の標準的なプロセスと同様に、例えば過酸、例えばメタ−クロロ過安息香酸（ｍ
−ＣＰＥＡ）または過酢酸により酸化されて、式ＩｅおよびＩｆ（Ｚ＝ＳＯ−ま
たはＳＯ₂−である）の対応するスルホンおよびスルホキシドを与えることがで
きる。ここに、イオウ原子（Ｚ＝ＳＯ−またはＳＯ₂）における酸化の程度は、
酸化剤の量によって制御することができる。

【００８０】 式ＩｅおよびＩｆ（Ｚは、ＳＯ−またはＳＯ₂−である）の化合物の酸化は、
例えば、Ｈ．Ｏ．House、「最新合成反応（Modern Synthetic Reactions）」、
Ｗ．Ａ．ベンジャミン社、メンローパーク、カリフォルニア、１９７２、頁３３
４〜３３５、および３５３〜３５４に記述されているように行われる。 式中Ｘが脱離基、例えばハロゲン（例えば、臭素、ヨウ素または特に、塩素）
である、反応スキーム１（経路ａ）での式ＩＩの活性化カルボン酸誘導体は、公
知の標準的なプロセス、例えば、Ｃ．Ferri「Reaktionen der organischen Synt
hese」（有機化学の反応）、Georg Thieme Verlag、シュツットガルト、１９７
８、第４６１頁以降に記述されたように製造することができる。これは、以下の
反応スキーム３に示される。

【００８１】

【化４１】

【００８２】 反応スキーム３に従って、式ＩＩ（Ｘ＝脱離基）またはＩＩ（Ｘ＝ハロゲン）
の化合物は、例えばハロゲン化剤、例えばチオニルハライド、例えば塩化チオニ
ル、または臭化チオニル；ハロゲン化リンまたはオキシハロゲン化リン、例えば
五塩化リンまたはオキシ塩化リンまたは五臭化リンまたは臭化ホスホリル）；ま
たはハロゲン化オキサリル、例えば塩化オキサリルを使用することによって、ま
たは活性エステルの形成のために試薬、例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド（ＤＣＣ）または式ＸのＮ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）を用いることによって製造される。ハロゲン
化剤として用いられる式Ｘの化合物に対して、Ｘは脱離基、例えばハロゲン、例
えばフッ素、臭素またはヨウ素（および特に塩素）であり、およびＷ₁は例えば
、ＰＣｌ₂、ＳＯＣｌ、ＳＯＢｒまたはＣｌＣＯＣＯである。

【００８３】 反応は、不活性な有機溶媒、例えば脂肪族、ハロゲン化脂肪族、芳香族または
ハロゲン化芳香族炭化水素（例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンまたはクロロベンゼン）の存在下
または不存在下で、−２０℃〜反応混合物の還流温度の反応温度、好ましくは４
０〜１５０℃の反応温度、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの存在下で行
われる。このような反応は一般的に公知であり、脱離基Ｘに関して種々の変形で
文献に記述されている。

【００８４】 式ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、およびＶＩの化合物は公知であり、例えば、ＷＯ ９２
／０７８３７号、ＤＥ−Ａ−３８１８９５８号、ＥＰ−Ａ−０ ３３６ ９９２号
、およびＤＥ−Ａ−３９０２８１８号に記述されている方法と同様に製造するこ
とができる。 反応スキーム２における式ＸＩＩの化合物は、例えば、式ＩＩ

【００８５】

【化４２】

【００８６】 （式中、Ｒ、およびｍは上記で定義した通りであり、およびＸは脱離基、例えば
ハロゲンである） に対応する化合物から標準的なプロセスによって、例えばクライゼン縮合を介し
て、または式ＸＶ

【００８７】

【化４３】

【００８８】 （式中、Ｒ₃₆が式Ｉの下で定義された通りであり、およびＭ⁺がアルカリ金属イ
オン（例えばＷＯ ９６／２６１９２号を参照）である） のケトカルボン酸塩との反応により、式ＩＩの化合物から得ることができる。 式ＩＩおよびＸＩの化合物は公知であり、例えば、ＷＯ ９７／４６５３０号
、ＥＰ−Ａ−０ ３５３ １８７号、ヘテロサイクルズ（Heterocycles）、４８、
７７９（１９９８）、ヘテロサイクルズ、４６、１２９（１９９７）またはテト
ラヘドロン レターズ、１７４９（１９９８）に記述されている方法と同様に製
造することができる。

【００８９】 （Ｒ）_mの定義に従って官能基化された式Ｉの全ての他の化合物を製造するた
めに、利用できる多数の公知の標準的なプロセス（例えばアルキル化、ハロゲン
化、アシル化、アミド化、オキシム化、酸化、および還元）があり、および適当
な製造プロセスの選択は、問題の中間体における置換基の性質（反応性）に依存
する。

【００９０】 式Ｉの範囲から由来する全ての更なる化合物は、ピリジルまたはＱの部分の化
学的性質を考慮しつつ、簡単な方法で製造することができる。 式Ｉの最終生成物は、溶媒の蒸発または濃縮による慣習的な方法で単離するこ
とができ、エーテル、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素等の、それらが僅かに可
溶な溶媒中で、固体残渣の粉砕または再結晶によって、または蒸留によって、ま
たはカラムクロマトグラフィーおよび適当な移動相によって精製することができ
る。

【００９１】 更に、可能な副反応を避けるために、如何なる順序で、ある反応が有利に行わ
れねばならないかは当業者に公知である。目標とされた合成が純粋な異性体を単
離するために行われない限り、生成物は２以上の異性体の混合物として得られる
可能性がある。異性体は、それ自体は公知の方法により分離することができる。 ｐが１である式Ｉの化合物、すなわち、式Ｉの対応するＮ−オキシドは、酸無
水物（例えばトリフルオロ酢酸無水物）の存在下で、ｐが０である式Ｉの化合物
と、適当な酸化剤、例えばＨ₂Ｏ₂尿素アダクトとを反応させることによって製造
することができる。この反応シーケンスは、基Ｑ₂の例を用いて以下に示される
：

【００９２】

【化４４】

【００９３】 ピリジン窒素へのオルト位にあるＲが１−クロロ−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−ヒ
ドロキシ−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシ）−Ｃ₁ 〜Ｃ₂アルキル、１−ベンゾイルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシカルボニルオキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
）−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₂アル
キル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−チオシア
ナト−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキル、１−シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルである式Ｉの化合物は
、公知の反応条件、例えばトシル クロリドの存在下（例えばパラム（Parham）
、Ｗ．Ｅ．；スローン、Ｋ．Ｂ；レディ（Reddy）、Ｋ．Ｒ．；オルソン、Ｐ．
Ｅ．；Ｊ Org Chem、１９７３、３８，９２７を参照）、または酸無水物の存在
下（例えばコンノ、Ｋ．；ハシモト、Ｋ．；シラハマ、Ｈ．；マツオモ、Ｔ．；
ヘテロサイクルズ、１９８６，２４，２１６９を参照）で式ＩのＮ−オキシドを
加熱し、次いで、適当な場合には、続く変換によっても製造することができる。

【００９４】 式ＸＸＩＩａの化合物は、公知のプロセス、例えば、ヘテロサイクルズ、４６
、１２９（１９９７）またはHelvetica Chimica Acta ７１、５９６（１９８
８）で言及されたようなプロセスと同様に合成され、 ａ） 式ＸＶＩ

【００９５】

【化４５】

【００９６】 ［式中、Ｒ₃₀₁が水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₄₀₁は、水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル，Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ₆アルキルスル
フィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシ）
−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−
（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−チオシアナト−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１
−シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、フェニル（フェニル基がハロゲン、メチル、エチ
ル、トリフルオロメチル、メトキシまたはニトロによって、モノ−またはポリ置
換されていてもよい）であるか、または芳香族または部分的に飽和されていても
よく、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を
含んでいてもよい５〜１０員の単環または縮合二環式の環系であって、環系が直
接に、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキレン基を介して二重結合に結合し、個々の環系が２
個を越える酸素原子を含まなくてもよく、２個を越えるイオウ原子を含まなくて
もよく、環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆ アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアル
キニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオ
キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチオ
、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチ
ルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノ
アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミノ
スルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノス
ルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₈₇、ＮＲ₈₈ Ｒ₈₉、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、フェニル、およびベンジルチオ（フェニル、およびベンジルチオが部分的に
フェニル環上で、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換され
ていてもよい）によってモノ−、ジ−またはトリ置換されていてもよく；複素環
における窒素上の置換基がハロゲンと異なる） Ｒ₈₇はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
ロによって置換されていてもよく； Ｒ₈₈は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり、および Ｒ₈₉はＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシである］ の化合物を、式ＸＶＩＩ

【００９７】

【化４６】

【００９８】 （式中、Ｒ₅₀₁がＣ₁〜Ｃ₆ハロアルキルであり、Ｘ₂がＯ（ＣＯ）Ｒ₅₀₁またはハ
ロゲンである） により、塩基、例えば芳香族アミン（例えばピリジン）の存在下で、アシル化し
て、式ＸＶＩＩＩ

【００９９】

【化４７】

【０１００】 （式中、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、Ｒ₅₀₁、およびＲ₁₄が上で定義された通りである） の化合物を与え、次いで、アンモニアを有機溶媒、例えばハロゲン化炭化水素（
例えば、ジクロロメタン）またはニトリル（例えばアセトニトリル）中で用いる
ことにより、アルコキシ基をアミノ基と置換する、 ことを含む。結果として生じる式ＸＩＸ

【０１０１】

【化４８】

【０１０２】 の化合物は、次いで、式ＸＸ

【０１０３】

【化４９】

【０１０４】 ｛式中、Ｒ₂₀₁がＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルケ
ニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシ）−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−（Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスル
ホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−チオシアナト−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、１−シア
ノ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
コキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₆アル
コキシ、フェニル、ベンジル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニ
ル、フェニルスルホニル、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニルまたはベンジル
スルホニルであって、フェニル基が少なくともハロゲン、メチル、エチル、トリ
フルオロメチル、メトキシまたはニトロによって、モノ−またはポリ置換されて
いてもよい）であるか、または芳香族または部分的に飽和されていてもよく、窒
素、酸素およびイオウからなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含んでい
てもよい５〜１０員の単環または縮合二環式の環系であって、環系が直接に、ま
たはＣ₁〜Ｃ₄アルキレン基を介して結合され、個々の環系が２個を越える酸素原
子を含まなくてもよく、２個を越えるイオウ原子を含まなくてもよく、環系が部
分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃
〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆
アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル
チオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
ニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、
Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁
〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₃−Ｒ₉₀、ＮＲ₉₁ Ｒ₉₂、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、およびベン
ジルチオ（フェニル、およびベンジルチオが部分的にフェニル環上で、Ｃ₁〜Ｃ₃ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキ
シ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）によってモ
ノ−、ジ−またはトリ置換されていてもよく；複素環における窒素上の置換基が
ハロゲンと異なり； Ｒ₉₀はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであり、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロ
によって置換されていてもよく； Ｒ₉₁は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり、 Ｒ₉₂はＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり、および、 Ｒ₁₄は上記で定義された通りである｝ の化合物と縮合され、結果として得られた式ＸＸＩａ

【０１０５】

【化５０】

【０１０６】 の化合物が次いで加水分解されて、式式ＸＸＩＩａ

【０１０７】

【化５１】

【０１０８】 （式中、Ｒ₂₀₁、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、およびＲ₅₀₁は、上記で定義した通りである） の化合物を与えるか、または ｂ）式ＸＸＩＩＩ

【０１０９】

【化５２】

【０１１０】 （式中、Ｒ₁₄は、上記で定義した通りである） を、式ＸＸＩＶ

【０１１１】

【化５３】

【０１１２】 の化合物と縮合させ、および結果として生じる式ＸＸＶ

【０１１３】

【化５４】

【０１１４】 （式中、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、およびＲ₅₀₁は、上記で定義した通りであり、Ｒ₁₄はＣ₁ 〜Ｃ₄アルキルである） の化合物を塩素化（例えば、例えばＰＯＣｌ₃を用いて）して、式ＸＸＶＩ

【０１１５】

【化５５】

【０１１６】 （式中、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、Ｒ₅₀₁およびＲ₁₄は、上記で定義した通りである） の化合物を与え、次いでこの化合物と式ＸＸＶＩＩ Ｚ−Ｒ₁₅₀ （ＸＸＶＩＩ） ｛式中、ＺはＳＨ、ＯＨまたはアミノであり、Ｒ₁₅₀はＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜
Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロゲンアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆
ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、フェニ
ル、ベンジル（フェニルおよびベンジル基が、部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン
、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）であるか、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニ
ル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルであるか、または芳香族または部分的に飽和されていても
よく、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を
含んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合二環系であって、個々の環系が
２個を越える酸素原子を含まなくてもよく、２個を越えるイオウ原子を含まなく
てもよく、環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜
Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロ
アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニ
ルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチ
オ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセ
チルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シア
ノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフ
ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミ
ノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノ
スルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₉₃、ＮＲ₉₄ Ｒ₉₅、ハロゲン、シアノ、ニ
トロ、フェニル、およびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオが部分的に
フェニル環上で、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換され
ていてもよい）によってモノ−、ジ−またはトリ置換されていてもよく；複素環
における窒素上の置換基がハロゲンと異なり、 Ｒ₉₃はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであり、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロ
によって置換されていてもよく； Ｒ₉₄は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり、 Ｒ₉₅はＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシである｝ の求核試薬と、塩基の存在下で反応させて、式ＸＸＩｂ

【０１１７】

【化５６】

【０１１８】 （式中、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅₀、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、およびＲ₅₀₁は、上記で定義した通りであ
る） の化合物を与え、次いで結果として生じる化合物を加水分解して式ＸＸＩＩｂ

【０１１９】

【化５７】

【０１２０】 （式中、Ｒ₁₅₀、Ｒ₃₀₁、Ｒ₄₀₁、およびＲ₅₀₁は、上記で定義した通りである）の
化合物を与える。 Ｒ₁₅₀がフッ素である式ＸＸＩｂの化合物は、極性非プロトン溶媒（例えばア
セトニトリル、ジメチルホルムアミドまたはスルホラン）の存在下で、１８−ク
ラウン−６の触媒量の存在下または不存在で、フッ化カリウムと式ＸＸＶＩの化
合物とを反応させることによって製造される。Ｒ₁₅₀が水素である式ＸＸＩｃの
化合物は、式ＸＸＶＩの塩素基を、例えば適当な金属触媒の存在下で水素を用い
て、または適当な溶媒中でギ酸アンモニウムを用いて還元することによって製造
される。式ＸＸＩＩａまたはＸＸＩＩｂおよびＸＸＩＩｃの化合物の製造は、下
記の反応スキーム４および５で更に詳細に説明される。

【０１２１】

【化５８】

【０１２２】

【化５９】

【０１２３】 Ｒ₂₀₁（Ｒ₁₅₀）〜Ｒ₅₀₁の定義に従って官能基化された式Ｉの全ての他の化合
物を製造するために、多数の公知の標準的なプロセス、例えばアルキル化、ハロ
ゲン化、アシル化、アミド化、オキシム化、酸化、および還元が適当であり、適
当な製造プロセスの選択は、問題の中間体における置換基の性質（反応性）に依
存する。

【０１２４】 Ｒｆがトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチル
、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルまたはトリクロロメチルであり、Ｒ_x1がＣ₁〜
Ｃ₆アルキルであり、ＱおよびＲが式Ｉの下で定義された通りである式ＩＩｂの
新規な化合物は、反応スキーム５に従って、適当な塩素化条件、および分離プロ
セスを用いて、式ＸＸＸの６−クロロ−４−ハロアルキル−３−ニコチン酸エス
テルを製造し、次いでこれらの化合物を式ＸＸＸＩ Ｚ₀₁−Ｒ₁₅₁ （ＸＸＸＩ） ｛式中、Ｚ₀₁はＳＨ、ヒドロキシルまたはアミノであり、Ｒ₁₅₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル、ハロゲン、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキル、フェニル、ベンジル（フェニルおよびベンジル基が、部分的
にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハ
ロアルコキシ、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）であるか、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルであるか、または芳香族または部分的に飽
和されていてもよく、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれる１〜４個
のヘテロ原子を含んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合二環系であって
、個々の環系が２個を越える酸素原子を含まなくてもよく、２個を越えるイオウ
原子を含まなくてもよく、環系が部分的に、 Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
ロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコ
キシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ
、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルス
ルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アル
キルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
レン−Ｒ₉₆、ＮＲ₉₇ Ｒ₉₈、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、およびベン
ジルチオ（フェニルおよびベンジルチオが部分的にフェニル環上で、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ
、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）によってモノ
−、ジ−またはトリ置換されていてもよく； Ｒ₉₆はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
ェニルであり、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロ
によって置換されていてもよく； Ｒ₉₇は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり、 Ｒ₉₈はＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシである｝ の求核試薬で変換し、複素環上での窒素の置換基がハロゲンと異なり、当業者に
一般的に公知の反応プロセスを用いて、反応スキーム１で記述されたように、式
ＸＸＸＩＩの６−置換された４−パーハロアルキルニコチン酸、およびそれらの
以降の生成物ＩＩｂおよびＩｂに変換することにより、式ＸＸＶＩＩＩの３−ア
ルコキシカルボニル−４−パーハロアルキルピリジン Ｎ−オキシドを介して、
一般的に公知のプロセスによって製造することができる。これは、以下の反応ス
キーム６に示される。

【０１２５】

【化６０】

【０１２６】 この反応スキームによれば、Ｒ₂₀がヒドロキシルである基Ｑ₁を有する式Ｉの
化合物、Ｒ₂₃がヒドロキシルである基Ｑ₂を有する式Ｉの化合物、Ｒ₂₆がヒドロ
キシルである基Ｑ₃を有する式Ｉの化合物、およびＲ₃₀がヒドロキシルである基
Ｑ₄を有する式Ｉの化合物を好適に製造することができる。 式Ｉｃの６−置換された２−ハロアルキルニコチン酸化合物は、例えば、Ｒｆ
がトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプ
タフルオロ−ｎ−プロピルまたはトリクロロメチルであり；およびＲ_1xがＣ₁〜
Ｃ₆アルキルであり、Ｒが式Ｉの下で定義された通りである、対応する２−ハロ
アルキル−３−アルコキシカルボニル−２−ピリジン ＸＸＸＩＩＩから、対応
するカルボン酸への加水分解により、および以降の活性化（例えばハロゲン化ア
シル（ＩＩｃ）への変換）により、製造することができる（反応スキーム７）。

【０１２７】

【化６１】

【０１２８】 式ＸＸＸＩＩＩａ、ＸＸＸＩＩＩｂ、ＸＸＸＩＩＩｃ、ＸＸＸＩＩＩｄ、ＸＸ
ＸＩＩＩｅ、ＸＸＸＩＩＩｆ、ＸＸＸＩＩＩｇ、およびＸＸＸＩＩＩｈの前駆体
は、同様に当業者に公知の変換プロセス（反応スキーム７）によりアクセスでき
る。２−トリフルオロメチル−３−エトキシカルボニル−２−ピリドン（Ｒが水
素であり、Ｒ_1xがエチルであり、およびＲｆがトリフルオロメチルである式ＸＸ
ＸＩＩＩａ）は特に、オーガニック プロセス リサーチ アンド ディベロッ
プメント（Org. Process Research and Development）、１，３７０（１９９７
）から公知である。

【０１２９】

【化６２】

【０１３０】 反応スキーム８（式ＸＸＸＩＩＩａ〜ＸＸＸＩＩＩｈの中間体） 式ＸＸＸＩＩＩａ〜ＸＸＸＩＩＩｈの中間体は、例えば式ＸＸＸＩＩＩｄの６
−ハロ誘導体を製造するために、式ＸＸＸＩＩＩａのピリドン（オーガニック
プロセス リサーチ アンド ディベロップメント、１、３７０（１９９７）ま
たはスキーム８により製造）と、ハロゲン化剤（例えばオキシ塩化リン、オキシ
臭化リンまたはジクロロリン酸フェニル）とを、ジアルキルアニリン等の塩基の
存在または不存在下で、溶媒の存在または不存在下で、必要に応じて圧力容器中
で、０〜２２０℃（好ましくは６０〜２００℃）の間の温度で反応させることに
よって得ることができる。求核置換によって、例えば不活性溶媒中でアルカリ金
属ヨウ化物を用いて対応するヨウ化物へ、または低級カルボン酸（例えば濃酢酸
）中でガス状の臭化水素酸を用いて対応するブロモ誘導体へ（例えば米国特許第
３，９７４，１６６号に従って）、または双極子溶媒（例えばスルホラン）中で
アルカリ金属フッ化物を用いて対応するフルオロ誘導体へ、クロロ誘導体を変換
する方法は当業者方法に公知である。

【０１３１】 式ＸＸＸＩＩＩｅの化合物は、上述したように得られる式ＸＸＸＩＩＩｄのハ
ロ誘導体と、式Ｒ₁₅₁−ＯＨのアルコールとを、塩基、例えば水素化ナトリウム
またはアルカリ金属アルコキシドまたはカーボネートの存在下で、または直接ア
ルカリ金属アルコキシドで、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で、または
導入されるべき基に対応する式Ｒ₁₅₁−ＯＨのアルコールの過剰中で、−５〜１
６０℃の間の温度で反応させるか、または式ＸＸＸＩＩＩｃの対応する６−チオ
エーテルを製造するために、上述したものと同様に、式ＸＸＸＩＩＩｄのハライ
ドと式Ｒ₁₅₁−ＳＨのチオールとを水素化ナトリウム等の塩基の存在下で、また
は不活性溶媒中でチオールのアルカリ金属塩と反応させるか、または、ピリドン ＸＸＸＩＩＩａから始めて、チオネート化剤（例えばラウエソン（Lawesson）
試薬）を用いて、不活性溶媒（例えばトルエンまたはアセトニトリル）中で、式
ＸＸＸＩＩＩｂのピリチオン、およびアルキル化剤Ｒ₁₅₁−Ｘ（式中、Ｘが脱離
基、例えばハライド（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）またはＲＯＳＯ₃−またはＲＯＳＯ₂−で
ある）とを２０〜１２０℃でテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で調製して、
式ＸＸＸＩＩＩｃのチオエーテルを与えるか、または、式ＸＸＸＩＩＩｆの対応
するスルフィニルまたはスルホニル誘導体を製造し、ｍ−クロロ過安息香酸また
は過ヨウ素酸ナトリウムまたは過ホウ酸ナトリウム等の酸化剤と、当業者に公知
の温度調節の下で、酸化の程度に従い（例えばｍ₀₁＝１のために−３０℃〜＋５
０℃、またはｍ₀₁＝２のために−２０〜＋１００℃）で、ジクロロメタン等の不
活性溶媒中で反応させてＸＸＸＩＩＩｆを与え、または本発明に従う６−アルキ
ル誘導体ＸＸＸＩＩＩｇを製造するために、式ＸＸＸＩＩＩｆのスルホン（ｍ₀₁ ＝２）または式ＸＸＸＩＩＩｄのハロ誘導体を、Ｐｄ（ＰＰｈ３）₂Ｃｌ₂等のＰ
ｄ（０）触媒の存在または不存在下で、テトラ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスズまたはグ
リニャール試薬Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル ＭｇＨａｌと−１０℃〜１８０℃の間の温度
で、例えばシンレット（Synlett）１９９８（１１８５）と同様に、または有機
銅試薬（Organocopper Reagents）、Ｒ．Ｊ．Ｋ．Taylor、オックスフォード大
学出版、１９９４中に、または有機合成における遷移金属（Transition Metals
in Organic Synthesis）、Ｓ．ギブソン、オックスフォード大学出版、１９９７
中に、またはオーガニック リアクション（Org. React.）５０、１（Stille反
応）中に記述されたように反応させるか、または式ＸＸＸＩＩＩｈの６−シアノ
誘導体を製造するために、式ＸＸＸＩＩＩｄのハライドまたは式ＸＸＸＩＩＩｆ
（ｍ₀₁＝２）のスルホンと、アルカリ金属またはテトラアルキルアンモニウムシ
アン化物、またはシアン化銅化物とを、不活性溶媒（例えばジクロロメタン、テ
トラヒドロフランまたはジメチルホルムアミド）中で０℃〜２２０℃の間の温度
で反応させることにより製造される。

【０１３２】 式ＸＸＸＩＩＩｅの化合物のいくつかは、オーガニック リアクション、４２
、２と同様に、アルコールＲ₁₅₁ＯＨと、アゾジカルボン酸エステル（例えばジ
エチルエステル）およびトリフェニルホスフィンの存在下で不活性溶媒（例えば
テトラヒドロフランまたはジオキサン）の存在下で反応させる（スキーム９）こ
とによって、式ＸＸＸＩＩＩａのピリドンから得ることができる。

【０１３３】

【化６３】

【０１３４】 出発材料として反応スキーム８で必要とされる式ＸＸＸＩＩＩａの中間体は、
スキーム１０の経路Ａまたは経路Ｂ（オーガニック プロセス リサーチ アン
ド ディベロップメント、１、３７０（１９９７））または経路Ｃに従って得る
ことができる。

【０１３５】

【化６４】

【０１３６】 式ＸＸＸＩＩＩａの中間体は、経路Ａにより、式ＸＸＸＶＩＩＩの３，４−ジ
ヒドロ−５−アルコキシカルボニル−６−ハロアルキルピリジン−２−オンを製
造するために、式ＸＸＸＶのエナミンを、溶媒の存在下、または好ましくは不存
在下で、過剰のエナミン中で、または塩基（例えばｔｅｒｔ−アミン）の存在下
で、式ＸＸＸＩＶのアクリロイル クロリドと−１０°〜＋２００℃の間の温度
で反応させることによって、または式ＸＸＸＶＩＩのケトエステルを式ＸＸＸＶ
Ｉのアクリルアミドと、ｐ−トルエンスルホン酸（＝ＨＯＴｓ）等の触媒の存在
下で、不活性溶媒（例えばトルエン）中で３０〜２００℃の間の温度で、形成さ
れた反応の水を除去しつつ（例えば共沸蒸留）反応させることによって、または
式ＸＸＸＶＩＩのケトエステルを塩基（例えばアルカリ金属アルコキシドまたは
マグネシウムアルコキシド）の存在下で、式ＸＸＸＩＸの４−ハロ−ケトエステ
ルと不活性溶媒（例えばエタノール）中で０〜１８０℃で反応させることによっ
て、式ＸＸＸＸの中間体を与え、これをアンモニアまたはアンモニウム塩（例え
ば酢酸アンモニウム）で、またはヘキサメチルジシラザン等のビス−シリルアミ
ンで、酸触媒（例えば硫酸またはｐ−トルエンスルホン酸または有機カルボン酸
（例えば濃酢酸））の存在または不存在下で、不活性溶媒中で０〜１８０℃の間
の温度で、式ＸＸＸＸＩの対応するエナミンへ変換し、次いで、トルエン等の不
活性溶媒中で、必要に応じて、形成された反応の水を持続的に除去しつつ、ｐ−
トルエンスルホン酸または硫酸等の触媒の存在下で次いで環化させて、式ＸＸＸ
ＶＩＩＩのジヒドロピリドンを与え、最終的に二酸化マンガン等の酸化剤でクロ
ロベンゼン等の不活性溶媒中で５０〜２５０℃の間で温度で処理してピリドンＸ
ＸＸＩＩＩａを製造することによって、得ることができる。

【０１３７】 式ＩＩａ

【０１３８】

【化６５】

【０１３９】 （式中、Ｑａはヒドロキシル、ハロゲン、シアノまたは基−ＣＨ₂（ＣＯ）Ｒ₃₆
、または

【０１４０】

【化６６】

【０１４１】 であり； Ｒ_bは水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルまたはハロゲンであり； Ｒｆは、トリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチ
ル、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルまたはトリクロロメチルであり； Ｒ_aはＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₄シクロアルキル、
Ｃ₁〜Ｃ₂アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルチオメチル、ヒドロ
キシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ア
リル（allyl）オキシ、プロパルギルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃
アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニル、またはＣ₁〜Ｃ₃アルキル
スルホニルオキシであり、および Ｒ₀₁、およびＲ₃₆は式Ｉの基Ｑ₅の下で定義された通りである； ただし化合物２，６−ビストリフルオロメチルニコチン酸、２，６−ビストリ
フルオロメチル−５−メチルニコチン酸、および２−ヒドロキシ−６−トリフル
オロメチルニコチン酸を除く） の中間体は、新規であり、従って、同様に本発明の主題の一部を形成する。

【０１４２】 式ｌＩｂ

【０１４３】

【化６７】

【０１４４】 （式中、Ｑｂは、ヒドロキシル、ハロゲン、シアノまたは基−ＣＨ₂（ＣＯ）Ｒ_{9 9} 、または

【０１４５】

【化６８】

【０１４６】 であり、 Ｒ₉₉は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₄シクロアルキル
またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシであり； Ｒｆは、トリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチ
ルまたはヘプタフルオロ−ｎ−プロピルであり；および Ｒｃは、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルコキシメチ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルチオメチル、ヒドロキシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₃ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₃アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホ
ニルまたはＣ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルオキシであり、 Ｒ₀₁は式Ｉの下で定義された通りである） の化合物は、新規であり、従って、同様に本発明の主題の一部を形成する。

【０１４７】 式ＩＩの好ましい化合物は、式Ｉａ

【０１４８】

【化６９】

【０１４９】 （式中、Ｑａは、ヒドロキシル、ハロゲン、シアノまたは基−ＣＨ₂（ＣＯ）Ｒ_{3 6} 、または

【０１５０】

【化７０】

【０１５１】 （式中、Ｒ₀₁およびＲ₃₆は請求項１で定義された通りであり、Ｒ_aはＣ₁〜Ｃ₃ア
ルキルである。） に対応する。 本発明に従う式Ｉの化合物またはそれらを含む組成物は、農業、例えば発生（
emergence）前の適用、発生後の適用および種子粉衣（seed dressing））、およ
び種々の方法および技術（例えば活性化合物の制御された放出において、慣習的
な全ての適用方法において用いることができる。このために、活性化合物は無機
質（mineral）の粒状担体、または重合された粒体（尿素／ホルムアルデヒド）
上の水溶液に吸収され、乾燥される。適当な場合には、ある時間の期間にわたっ
て計量された形で活性化合物を放出させるコーティングを、その上に追加的に適
用することができる（被覆粒体）。

【０１５２】 式Ｉの化合物は、変化しない形（すなわち、合成で得られたそのまま）で除草
剤として使用可能であるが、それらは、例えばエマルション化可能な濃縮物、直
接スプレー可能なまたは希釈可能な溶液、希釈エマルション、水和剤（wettable
powders）、可溶性粉体、ダスト、粒体またはマイクロカプセルを与えるために
、処方の技術において従来より用いられる助剤とともに、慣習的な方法で処理さ
れることが好ましい。このような処方は、例えば、ＷＯ ９７／３４４８５号の
頁９〜１３に記述されている。スプレー、微粒化、ダスティング、湿潤、散布ま
たは散水（watering）等の適用の方法は、組成物の性質と同様の方法で、努力す
る目的および与えられた状況に従って選ばれる。

【０１５３】 処方、すなわち式Ｉの活性化合物、または少なくとも１つの式Ｉの活性化合物
と、通例一つ以上の固体または液体処方助剤とを含む組成物、処方または製剤は
、公知の方法、例えば活性化合物と処方助剤（例えば溶媒または固体キャリア）
との充分な混合および／又は摩砕（grinding）により製造される。界面活性化合
物（界面活性剤）を、更に、処方の製造の間使用してもよい。溶媒および固体キ
ャリアの例は、例えば、ＷＯ ９７／３４４８５号の６頁に挙げられている。処
方化されるべき式Ｉの活性化合物の性質に従い、適当な界面活性化合物は、良好
なエマルション化、分散化、および湿潤性を有する非イオン性、カチオン性およ
び／又はアニオン性界面活性剤、および界面活性剤の混合物である。

【０１５４】 適当なアニオン性、非イオン性およびカチオン性界面活性剤の例は、例えば、
ＷＯ ９７／３４４８５号の頁７および８に列挙される。 処方の技術において従来より用いられ、本発明に従う除草性組成物を製造する
ために適当な界面活性剤は、とりわけ、「マッククッチョンの洗浄剤および乳化
剤年鑑（Mc Cutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual）」、MC Publishi
ng Corp.、リッジウッド（Ridgewood）ニュージャージー、１９８１；Stache、
H.「Tensid-Taschenbuch」（界面活性剤ハンドブック）、Carl Hanser Verlag、
ミュンヘン／ウィーン、１９８１；およびＭ．およびＪ．Ash、「界面活性剤事
典（Encyclopedia of Surfactants」、第Ｉ〜ＩＩＩ巻、Chemical Publishing社
、ニューヨーク、１９８０〜８１に記述されている。

【０１５５】 除草性処方は、通例、０．１〜９９．９重量％（質量％）、特に０．１〜９５
重量％（質量％）の除草剤と、１〜９９．９重量％（質量％）、特に５〜９９．
８重量％（質量％）の固体または液体処方助剤と、０〜２５重量％（質量％）、
特に０．１〜２５重量％（質量％）の界面活性剤とを含む。濃縮された組成物が
商業的な物品として好ましいが、最終ユーザーは通例、希釈組成物を用いる。組
成物は、更なる添加剤、例えば安定剤（例えばエポキシド化または非エポキシド
化植物油（エポキシド化やし油、なたね油またはダイズ油）、消泡剤、例えばシ
リコーン油、保存剤、粘度調整剤、バインダー、粘着付与剤および肥料または他
の活性化合物等を含んでいてもよい。

【０１５６】 式Ｉの活性化合物は、通例、０．００１〜４ｋｇ／ｈａ、特に０．００５〜４
ｋｇ／ｈａの適用割合で、植物またはそれらの生息地に適用される。所望の効果
のために必要な適用量は、テストによって決定することができる。それは、効果
の性質、作物植物および雑草の発育段階に、および適用（位置、時間、プロセス
）に依存し、これらのパラメータの関数として、広範囲で変化する可能性がある
。

【０１５７】 式Ｉの化合物は、それらが有用な植物の作物、特に穀類、綿、ダイズ、砂糖大
根、サトウキビ、プランティング、ナタネ、トウモロコシおよび米等において、
および雑草の非選択的な防除のために使用可能な除草性および生長抑制性を有す
る。作物は、従来の増殖方法または遺伝子工学的な方法によって除草剤または除
草剤のクラスに対して耐性にされたものを含む。防除されるべき雑草は、単子葉
植物および双子葉植物両方の雑草、例えばStellaria、Nasturtium、Agrostis、D
igitaria、アベナ（Avena）、Setaria、カラシ属（Sinapis）、Lo1ium、ナス属
（Solanum）、Echinochloa、Scirpus、Monochoria、Sagittaria、Bromus、Alope
curus、Sorgham halepense、Ronboellia、Cyperus、Abutilon、Sida、Xanthium
、Amaranthus、Chenopodium、Ipomoea、キク科（Chrysanthemum）、Galium、ス
ミレ属（Viola）およびVeronicaであることができる。

【０１５８】 以下の例は、それを制限することなく、本発明を更に詳細に説明する。 製造例： 例Ｈ１： ２−ジフルオロメトキシ−６−トリフルオロメチルニコチン酸の製
造： ７０℃で、５０ｍｌのジメチルホルムアミドと２０ｍｌの水との混合物中で、
微粉化された１６ｇの炭酸カリウム（０．１１６モル）の存在下で、ガス状のフ
レオン（Freon）−２２の連続的な流れ、および効率的な撹拌の下で、２５ｇ（
０．１０６モル）の（３−（エトキシカルボニル）−６−トリフルオロメチル）
ピリド−２−オン（Helv. Chim. Acta（１９８８）、７１（３）、５９６〜６０
１）を処理する。６時間後、更なる１６ｇの炭酸カリウムおよび２０ｍｌのジメ
チルスルホキシドを加え、およびフレオン−２２ガスを連続的に導入しつつ、１
００℃の温度でその混合物を更に４時間攪拌する。その混合物を、次いで水およ
び氷で処理して、ジエチルエーテルで抽出する。水相を、濃ＨＣｌを用いてｐＨ
２に調整し、酢酸エチルで抽出する。ジエチルエーテルを抽出物に加え、沈殿
した（３−（カルボキシ）−６−トリフルオロメチル）ピリド−２−オン結晶の
いくつかを、濾過によって除去する。濾液をシリカゲルカラム（移動相 酢酸エ
チル／ヘキサン１：１）で濾過し、結晶性生成物として、純粋な２−ジフルオロ
メトキシ−６−トリフルオロメチルニコチン酸を得る：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）：８．６０、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、１Ｈ；７．６２、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、１
Ｈ；７．６２、ｔ、Ｊ＝６７Ｈｚ、１Ｈ。

【０１５９】 例Ｈ２： ４−メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸の製造： ５．８ｍｌのジクロロリン酸フェニルの存在下で、７．５ｇ（０．０３モル）
の（（３−エトキシカルボニル）−４−メチル−６−トリフルオロメチル）ピリ
ド−２−オン（Helv. Chim. Acta（１９８８）、７１（３）、５９６〜６０１）
を、圧力容器中で１７０℃の温度で３時間加熱する。冷えた反応溶液を、直接に
短いシリカゲルカラム（移動相：酢酸エチル／ヘキサン １：９）で濾過して、
油状の生成物としてエチル ２−クロロ−４−メチル−６−トリフルオロメチル
ピリジン−３−イル カルボキシレートを得る： ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：７．４９、ｓ、１Ｈ；４．４８、ｑ、２
Ｈ；２．４３、ｓ、３Ｈ、１．４３、ｔ、３Ｈ。

【０１６０】 上記の生成物の３．０ｇ（１６．８ミリモル）、および（２回に分けて）ギ酸
アンモニウムの合計５９ｇを２０ｍｌのメタノール中１０％のＰｄ／Ｃの０．５
５ｇのサスペンジョンに加え、その混合物を室温で２４時間攪拌する。その反応
混合物を、次いでセライト（Celite）を介して濾過し、塩化ナトリウム溶液の添
加の後、酢酸エチルで抽出する。クロマトグラフフィー精製（移動相１：９）に
より、油として４−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エチ
ルエステルを得る：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：９．１１、ｓ、１Ｈ；
７．５６、ｓ、１Ｈ、４．４４、ｑ、２Ｈ；２．７２、ｓ、３Ｈ、１．４２、ｔ
、３Ｈ。

【０１６１】 これを、ジオキサン中水酸化カリウム水溶液の存在下で４０℃で加水分解する
。ｐＨ２．７へ酸性化した後、酢酸エチルで抽出して、結晶性生成物として４−
メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸を得る：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、
ｐｐｍ）：７．４９、ｓ、１Ｈ；４．４８、ｑ、２Ｈ；２．４３，ｓ、３Ｈ、１
．４３、ｔ、３Ｈ；９．３２、ｓ、１Ｈ、７．６２、ｓ、１Ｈ、２．７９、ｓ、
３Ｈ。

【０１６２】 例Ｈ３： ６−クロロ−４４トリフルオロメチルニコチン酸の製造： ５０ｍｌのジクロロメタン中に溶解された９．６ｇ（０．０４７モル）のメチ
ル ４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートを、３０％
の過酸化水素／尿素アダクトおよび１７ｍｌのトリフルオロ酢酸無水物で処理す
る。その反応溶液を２０℃の温度で２０時間攪拌し、次いで個々に一度づつ、希
釈水酸化ナトリウム溶液および半飽和の塩化ナトリウム溶液で洗浄する。得られ
た生成物は、３−メトキシカルボニル−４−トリフルオロメチル−３−ピリジン
Ｎ−オキシドである：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．５５、ｓ、１Ｈ
；８．３１、ｄ、１Ｈ；７．６、ｄ、１Ｈ；３．９８、５、３Ｈ。

【０１６３】 上記の生成物の４．８５ｇ（０．０２２モル）を、次いで１５ｍｌの１，２−
ジクロロエタン中の５ｍｌのオキシ塩化リンおよび４．３ｍｌのエチルジイソプ
ロピルアミンの混合物に加え、その混合物を６０℃の温度に加熱する。約２時間
後、更に２ｍｌのオキシ塩化リンおよび２．８ｍｌのエチルジイソプロピルアミ
ンを加え、その混合物をこの温度で２０時間攪拌する。その反応混合物を、次い
で氷水に加えて、３０％のＮａＯＨを用いてｐＨ ３に調整し、次いでジクロロ
メタンで抽出する。少量のシリカゲルを介しての濾過により、６−クロロ−およ
び２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン−３−イルメチルエステルの２
個の生成物の約５：１混合物を得るが、それはＨＰＬＣによって純粋な成分に分
離することができる。このように、純粋なメチル６−クロロ−４−トリフルオロ
メチルピリジン−３−イル カルボキシレートを主生成物として得る；¹Ｈ Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．９１、ｓ、１Ｈ；７．６８，ｓ、１Ｈ；３．
９８、ｓ、３Ｈ、および純粋なメチル ２−クロロ−４−トリフルオロメチルピ
リジン−３−イル カルボキシレートを副生成物として得る；¹Ｈ ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．６４、ｄ、１Ｈ；７．５２、ｄ、１Ｈ；４．０１、ｓ
、３Ｈ。

【０１６４】 ０．０７３ｇの水酸化カリウムの存在下で、０．２２ｇの純粋なメチル ６−
クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートを、６
ｍｌのジオキサン／水の１：１混合物中で室温で加水分解する。再結晶により、
純粋な６−クロロ−４−トリフルオロメチルニコチン酸を得る：融点 １１５〜
１１７℃：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：９．１２、ｓ、１Ｈ；７．２４
、ｓ、１Ｈ。

【０１６５】 例Ｈ４： ６−メチルチオ−４−トリフルオロメチルニコチン酸の製造： 更なる転化がガスクロマトグラフィー分析によって見出すことができなくなる
まで、沸騰アセトン中で、０．７０ｇ（２．９モル）のメチル ６−クロロ−４
−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートを触媒量の１８−
クラウン−６の存在下でメタンチオレート（０．３３ｇ）で処理する。その混合
物を、次いでシリカゲルで濾過して、蒸発させる。これにより、０．７３ｇのメ
チル ６−メチルチオ−４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキ
シレートを得る；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．９８、ｓ、１Ｈ：７
．４８、ｓ、１Ｈ；３Ｈ、３．９４、ｓ；３Ｈ、２．６４、ｓ。

【０１６６】 上記条件下での加水分解により、６−メチルチオ−４−トリフルオロメチル−
ニコチン酸を得る：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：９．０２、ｓ、１Ｈ
；７．４８、ｓ、１Ｈ；２．６４、ｓ、３Ｈ。 例Ｈ５： ６−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エ
チルエステル： 窒素雰囲気下で、および攪拌しつつ、２５０ｍｌの２−ジクロロベンゼン中で
３３．４ｇの３，４−ジヒドロ−５−エトキシカルボニル−６−トリフルオロメ
チルピリジン−２−オン（Org. Res.& Devel.、１、３７０（１９９７））、お
よび３４ｇの二酸化マンガンを還流下に２４時間加熱する。約２０時間の間隔で
二酸化マンガン（用いたＭｎＯ₂の総量：２１３ｇ）を３日間にわたって更に６
回加え、その混合物を個々の場合に還流下で更に加熱する。その混合物を次いで
冷却し、酢酸エチルで希釈し、シリカゲルを通して濾過し、濾過ケークをエチル
エステルで洗浄し、濾液を濃縮する。約６％の出発材料を未だに含んでいてもよ
い固体の残渣（２６．７ｇ、すなわち８０％）を直接に更に反応させる。完全な
精製のために、例えば、シリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル ７：３）上で精製
することは可能である；（¹Ｈ ＮＭＲ、ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．０２（ｄ、
１Ｈ）；６．８５（ｄ、１Ｈ）；４．８６（ｑ、２Ｈ）；１．３７（１Ｈ、ｔ）
。

【０１６７】 例Ｈ６： エチル ６−クロロ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル
カルボキシレートの製造： ボンベチューブ内で、２３．５ｇのエチル ６−ヒドロキシ−２−トリフルオ
ロメチルピリジン−３−イル カルボキシレート、および２３．５ｍｌのジクロ
ロリン酸フェニルを１７０℃で３時間加熱し、その混合物を、冷却後に、氷水に
加えて、数分の間攪拌し、次いで酢酸エチル中に溶解し、重炭酸ナトリウムを用
いて僅かにアルカリとし、次いで水で中性に洗浄する。抽出物を少量のヘキサン
と混合し、シリカゲルを通して濾過する。濾液を蒸発させて、ｎ_D ³⁰ １．４６
７９を有する黒っぽい（dark）油の形で標記化合物の２１．６ｇ（８５％）を得
る。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．０９（ｄ、１Ｈ）；７．６０（ｄ
、１Ｈ）；４．４３（ｑ、２Ｈ）；１．４３（ｔ、３Ｈ）。

【０１６８】 例Ｈ７： ６−クロロ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イルカルボン
酸の製造： 上記で得られた２．５ｇのエチル ６−クロロ−２−トリフルオロメチルピリ
ジン−３−イル カルボキシレートを、可能な限り少量のテトラヒドロフラン中
に溶解し、約２０ｇの氷および１１ｍｌの１Ｎ−水酸化リチウムで処理し、完全
に加水分解されるまで室温で攪拌する。その混合物を次いで少量のエーテルで洗
浄し、水相を４Ｎ塩酸を用いて酸性化し、酢酸エチルで抽出する。抽出物を塩化
ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥および蒸発させる。これにより、融点１５４〜１
５６℃の標記化合物の１．８ｇを得る。他の遊離のカルボン酸を、このようにし
て同様にそれらのエステルから得る。

【０１６９】 例Ｈ８： エチル ６−メチルチオ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−
イル カルボキシレートの製造： 窒素雰囲気下で、攪拌しつつ、６０ｍｌのジメチルホルムアミド中の１．７ｇ
の６−クロロ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エチルエステルの
溶液を一度に少量づつ（a little at a time）０．５２ｇのナトリウム メタン
チオレートで処理し、反応が完結するまで室温で攪拌する。その反応混合物を、
次いで氷水へ注ぎ、少量の希塩酸の添加によって中性にし、酢酸エチルで抽出す
る。抽出物を、少量のヘキサンで希釈し、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ
濾過し、少量のシリカゲルを通して濾過した後、蒸発させる。これにより、ｎ_D ^{2 5} １．５１００を有する油の形で標記化合物の１．４ｇ（７９％）を得る：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）７．９０（ｄ、１Ｈ）；７．４０（ｄ、１Ｈ）
；１．４０（ｑ、２Ｈ）；２．６０（ｓ、３Ｈ）；１．４９（ｔ、３Ｈ）。

【０１７０】 例Ｈ９： エチル ６−エチルチオ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−
イル カルボキシレートの製造： 前もって窒素でフラッシュした装置内で、４０ｍｌのジメチルホルムアミド中
の１．６ｍｌのエタンチオールの溶液（０℃に冷却してある）を、一度に少量づ
つ０．９６ｇの水素化ナトリウム油ディスパージョン（６０％）で処理し、その
混合物を室温で攪拌する。水素の発生が終了した後、その混合物を−２０℃に冷
却し、この温度で１０ｍｌのジメチルホルムアミド中の５．０７ｇの６−クロロ
−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エチルエステルの溶液を滴下で
加え、室温に到達するまで、その混合物をゆっくり攪拌する。反応が終了した後
（約３時間）、その反応混合物を氷水に加えて、酢酸エチルで抽出する。その抽
出物を水で洗浄し、乾燥させ濾過し、蒸発させ、高真空下で乾燥させる。これに
より、表題の化合物を５．０ｇ（８９％）の褐色がかった油として得る。¹Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：７．９０（ｄ、１Ｈ）；７．３５（ｄ、１Ｈ）
；４．４０（ｑ、２Ｈ）；３．２５（ｑ、２Ｈ）；１．３８（２ｔ、６Ｈ）。

【０１７１】 例１０：エチル ６−エチルスルホニル−２−トリフルオロメチルピリジン−
３−イル カルボキシレートの製造： 窒素雰囲気下、攪拌および冷却しつつ、最初に入れた２．８ｇのエチル ６−
エチルチオ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートの
溶液へ、−２０℃の温度で、４０ｍｌの塩化メチレン中の２．５ｇのｍ−クロロ
過安息香酸の溶液を滴下で加え、その混合物を＋５℃の温度で２０時間攪拌する
。その混合物を次いで穏やかに蒸発させ、シリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル
７：３）上で精製する。これにより、６−エチルスルフィニル−２−トリフルオ
ロメチルピリジン−３−イル−エチルエステルの２．４８ｇ（８４％）を得る。^１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．３８（ｄ、１Ｈ）；８．３０（ｄ、
１Ｈ）；４．４５（ｑ、２Ｈ）；３．２６〜３．００（ｍ、２Ｈ）；１．４３（
ｔ、３Ｈ）；１．２６（ｔ、３Ｈ）。

【０１７２】 エチル ６−メチルスルフィニル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イ
ル カルボキシレートを、同様の方法で得る。 例１１： エチル ６−メチルスルホニル−２−トリフルオロメチルピリジン
−３−イル カルボキシレートの製造： 窒素雰囲気下で、攪拌および冷却しつつ、最初に入れた３．６ｇの６−メチル
チオ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エチルエステルの溶液に、
３０分かけて−２０℃の温度で一度に少量づつ、２１ｇのｍ−クロロ過安息香酸
を導入し、その反応混合物を５時間室温で攪拌する。その混合物を次いで蒸発さ
せ、シリカゲル（酢酸エチル／メタノール／トリエチルアミン ８５：１０：５
）を通して濾過する。これにより、融点７０〜７２℃を有する褐色がかった固体
として、３．９５ｇ（９７％）のエチル ６−メチルスルホニル−２−トリフル
オロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートを得る。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ₃、ｐｐｍ）：８．４０（１Ｈ、ｄ）；８．３３（１Ｈ、ｄ）；４．４７（
２Ｈ、ｑ）；１．４３（３Ｈ、ｔ）。

【０１７３】 例Ｈ１２： エチル ６−シアノ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イ
ル カルボキシレートの製造： 窒素雰囲気下で、攪拌しつつ、５ｍｌのジメチルホルムアミド中の０．５９６
ｇのエチル ６−メチルスルホニル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イ
ル カルボキシレートの溶液を、１６０ｍｇの固体シアン化カリウムと、スパチ
ュラ一杯の（tipful）１８−クラウン−６で処理し、その混合物を８０℃で３時
間加熱する。その混合物を一晩中冷却させ、その翌日、更に３０ｍｇのシアン化
カリウムを加え、出発材料が消失するまで（約２時間）、その混合物を更に加熱
する。その混合物を次いで冷却し、氷水に加え、酢酸エチルで抽出する。その抽
出物を水で洗浄し、乾燥させ、蒸発させ、高真空下約４０℃でジメチルホルムア
ミドの痕跡を除く。これにより、ゆっくり固化する油の形でエチル ６−シアノ
−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル カルボキシレートの４８０ｍｇ
（実質的に定量的な収率）を得る。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．
２９（ｌＨ、ｄ）；７．９７（１Ｈ、ｄ）；４．４８（２Ｈ、ｄ）；１．４３（
３Ｈ、ｔ）。

【０１７４】 例Ｈ１３：エチル６−メチル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル
カルボキシレートの製造： 窒素雰囲気下で、攪拌しつつ、２０ｍｌのジメチルアセトアミド中の３．６ｇ
の６−クロロ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イル エチルエステルの
溶液を、４．５ｍｌのテトラメチルスズと２００ｍｇのジクロロ（ビストリフェ
ニルホスフィン）パラジウムで処理し、その混合物を８０〜９０℃の温度に２４
時間加熱する。次いで、更に１．５ｍｌのテトラメチルスズと３０ｍｇのジクロ
ロ（ビストリフェニルホスフィン）パラジウムを加え、その混合物を更に６時間
加熱する。その反応混合物を次いで減圧を用いて過剰のテトラメチルスズを除き
（エタノール性水酸化ナトリウム溶液を通過させることによる分解）、冷却し、
氷水に加える。その混合物をジエチルエーテルで抽出し、その抽出物を水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、少量のシリカゲルを通して濾過し、蒸発させ
、減圧下で乾燥させる。これにより、黒っぽい油の形で、未だジメチルアセトア
ミドの痕跡を含む標記化合物（２．４ｇ、７３％）を得る。

【０１７５】 ^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．００（１Ｈ、ｄ）；７．４２（１
Ｈ、ｄ）：４．４２（２Ｈ、ｄ）；２．６８（３Ｈ、ｓ）；１．４１（３Ｈ、ｔ
）。 既に上述した記載と同様に、加水分解により、更にカルボニル クロリドに直
接変換される、６−メチル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イルカルボ
ン酸（褐色樹脂）を得る。

【０１７６】 例Ｈ１４： ６−メチル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イルカルボ
ニル クロリドの製造： ２０ｍｌのジクロロメタン中の０．４５ｇの６−メチル−２−トリフルオロメ
チルピリジン−３−イル カルボン酸の溶液に最初に入れ、３滴のジメチルホル
ムアミドを加え、その混合物を次いで１．６ｍｌの塩化オキサリルで処理する。
ガスの強い発生が終了した後、その混合物を４０℃のバス温度に更に１．５時間
保持し、次いで蒸発させる。残渣としての粗製生成物（０．５６ｇ）を、更に直
接に反応させることができる。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．２０
（１Ｈ、ｄ）；７．５１（１Ｈ、ｄ）；２．６５（３Ｈ、ｓ）。

【０１７７】 例１５： ４−オキソビシクロ［３．２．１］オクト−２−エン−２−イル−
６−メチル−２−トリフルオロメチル−ニコチネートの製造： 窒素雰囲気下で、攪拌および冷却しつつ、１０ｍｌの塩化メチレン中の０．５
６ｇの６−メチル−２−トリフルオロメチルピリジン−３−イルカルボニル ク
ロリドの溶液を、１０ｍｌの塩化メチレン中の０．４ｇのビシクロ［３．２．１
］オクタン−２，４−ジオンと０．７２ｇのトリエチルアミンの溶液に、０℃で
滴下で加え、室温に到達するまで、その混合物を５時間攪拌する。その混合物を
次いで塩化メチレンで希釈し、冷たい１Ｎ−塩酸で洗浄し、乾燥させ、蒸発させ
て、更に直接に反応される、所望のエノールエステルを茶色の樹脂として得る（
０．８ｇ）。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．１７（１Ｈ、ｄ）；７
．５１（ｄ、１Ｈ）；５．９６（１Ｈ、ｓ）；３．０４（２Ｈ、ｍ）；２．７５
（３Ｈ、ｓ）；２．３２〜１．３０（ｍ）。

【０１７８】 例Ｈ１６： ４−ヒドロキシ−３−（６−メチル−２−トリフルオロメチルピ
リジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２−オ
ンの製造： 窒素雰囲気下で攪拌しつつ、上記のエノールエステルの０．８ｇを、２５℃で
３０ｍｌのアセトニトリルに溶解し、その混合物を、０．５ｍｌのトリエチルア
ミンと０．４ｍｌのアセトンシアノヒドリンで処理し、２０時間室温で攪拌する
。その混合物を次いで溶媒で希釈し、希塩酸で洗浄し、乾燥および蒸発させ、残
渣を少量のシリカゲル（酢酸エチル／メタノール／トリエチルアミン ８５：１
０：５）を通して精製する。これにより、黄色がかった樹脂の形で標記化合物（
トリエチルアミン塩）の３７１ｍｇ（４６％）を得る。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）：７．４５（１Ｈ、ｄ）；７．２５（１Ｈ、ｄ）；３．８０〜３．
４３（４Ｈ、ｍ）；３．１８（６Ｈ、ｍ）；２．８０（２Ｈ、ｓ（ｂｒ））；２
．６２（３Ｈ、ｓ）；２．２０〜１．５４（ｍ）。

【０１７９】 例Ｈ１７： エチル ６−メトキシ−２−トリフルオロメチルピリジン−３−
イル カルボキシレートの製造： ５．６５ｇのエチル ６−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルピリジン−３
−イル カルボキシレートと、６．０ｇの炭酸カリウムと、２．７ｍｌのヨウ化
メチルとのサスペンジョンを、スパチュラ一杯の１８−クラウン−６と共に、反
応が完結するまで６０〜７０℃の温度に加熱する。その混合物を次いで濾過し、
濾過残渣をアセトニトリルで洗浄し、濾液を減圧下で濃縮する。残渣を冷却し、
氷水と混合し、希硫酸で中和し、酢酸エチルで抽出する。その抽出物を水で洗浄
し、乾燥させ、少量のヘキサンで希釈し、少量のシリカゲルを通して濾過する。
得られた残渣は、融点１５０〜１５２℃を有する僅かにオレンジ色結晶の形の標
記化合物（３．７ｇ、６５％）である。

【０１８０】 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：８．００（１Ｈ、ｄ）；６．８３（１
Ｈ、ｄ）；４．３８（２Ｈ、ｑ）；４．０１（３Ｈ、５）；１．３９（ｔ、３Ｈ
）。 例Ｈ１８： ４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピ
リジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−−エン−２−
オンの製造： ６．６８ｇ（０．０３０５モル）のメチル ２−メチル−６−トリフルオロメ
チルニコチネート（ヘテロサイクルズ、４６、１２９（１９９７）に記述された
ように製造）を、２５０ｍｌのメタノール／水（３：１ 混合物）中に溶解し、
１．９２ｇ（０．０４６モル）の水酸化リチウム水和物に、２２℃で一度に少量
づつ加える。２２℃で４時間後、その反応混合物を酢酸エチルおよび２Ｎ−塩酸
へ注いだ後、有機相を水で３回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させ、
残渣を少量のヘキサンで粉末にする。濾過により、１４７〜１４９℃の融点の予
測された５．６９ｇの２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸（理論値
の９０％）を得る。

【０１８１】 得られた２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸（２．０ｇ、０．０
０９８モル）を２０ｍｌの塩化オキサリルに溶解する。ジメチルホルムアミドの
３滴を加え、その混合物を還流下に１時間加熱する。その混合物を次いでロータ
リーエバポレーターを用いて濃縮し、残渣（２−メチル−６−トリフルオロメチ
ルニコチニイル クロリド）を３０ｍｌの塩化メチレン中に溶解する。０℃で、
トリエチルアミンの２．７ｍｌ（０．０１９６モル）とジメチルアミノピリジン
の０．１２ｇ（０℃０９８モル）を加える。２０ｍｌの塩化メチレンに溶解した
ビシク［３．２．ｌ］オクタン−２，４−ジオンの１．４９ｇ（０．０１０８モ
ル）を次いで滴下で加える。２２℃で３時間後、その反応混合物を２Ｎ−塩酸で
抽出する。塩化メチレン相を分離して水で洗浄し、次いで１０％の重炭酸ナトリ
ウム水溶液で抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、蒸発させる。これにより、
４−オキソビシクロ［３．２．１］オクト−２−エン ２−イル−２−メチル−
６−トリフルオロメチルニコチネートの３．１８ｇ（理論値の１００％）を、精
製なしで更に処理することができる油として得る。

【０１８２】 ３．０２ｇ（０．００９３モル）の４−オキソビシクロ［３．２．１］オクト
−２−エン ２−イルを２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチネートおよ
びトリエチルアミンの１．９ｍｌ（０．０１３６モル）を、アセトニトリルの４
５ｍｌ中に溶解する。２２℃で、アセトンシアノヒドリンの０．０１ｍｌを加え
る。２２℃で１８時間後、その反応混合物を希塩酸へ注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。その酢酸エチル相を水で、次いで塩水（brine）で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥および蒸発させ、残渣を少量の暖かいアセトンに溶解する。生成物は放
置により結晶化する。濾過により、予測された４−ヒドロキシ−３−（２−メチ
ル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１
］オクト−３−エン−２−オンの０．９９ｇ（理論値の３３％）を白色結晶（融
点 ７５〜７７℃）として得る。

【０１８３】 例Ｈ１９： ３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カル
ボニル）−４−オキソ−ビシクロ［３．２．１］オクト−２−エン ２−イル
ベンゾエートの製造： ０℃で、１ｍｌのテトラヒドロフラン中の０．５６２ｇ（０℃０４モル）の塩
化ベンゾイル溶液を、１５ｍｌのテトラヒドロフラン中の１．１４ｇ（０．００
３５モル）の４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリ
ジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン２−オン、お
よび０．５１７ｇ（０．００４モル）エチルジイソプロピルアミンの溶液に加え
る。その反応混合物を２５℃で２時間攪拌し、蒸発させ、シリカゲル（ヘキサン
／酢酸エチル １：１）上で精製する。これにより、黄色がかった樹脂の形で標
記化合物の０．９ｇ（６０％）を得る。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：
７．９１〜７．８７、ｍ、３Ｈ；７．６４、ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、１Ｈ；７．５
０〜７．４０、ｍ、３Ｈ；３．２４、ｂｒ ｔ、Ｊ＝４Ｈｚ、１Ｈ；３．１４、
ｂｒｔ、Ｊ＝４Ｈｚ、１Ｈ；２．７０、ｓ、３Ｈ；２．４７、ｄ、Ｊ＝１３．５
Ｈｚ、１Ｈ；２．４０、２．１５、ｍ、３Ｈ；１．９５〜１．８、ｍ、２Ｈ。

【０１８４】 例Ｈ２０： ４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−１−オキシ ６−トリフル
オロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エ
ン ２−オンの製造： １６．２５ｇ（０．０５モル）の４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−ト
リフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト
−３−エン−２−オン、および９．４ｇ（０．１モル）の尿素／過酸化水素複合
体（complex）を、１５０ｍｌの塩化メチレン中に溶解し、２５℃でトリフルオ
ロ酢酸無水物の２０．５ｍｌ（０．１５モル）を滴下する。２５℃で１４時間後
、その反応混合物を酢酸エチルおよび水に加え、有機相を水で二回洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥させ、蒸発させる。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィー
にかける（移動相：酢酸エチル／メタノール ９／１）。これにより、白色結晶
融点 １０９〜１１０℃）として、所望の生成物の６．８ｇの（４０％）を得る
。

【０１８５】 例Ｈ２１： ４−クロロ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジ
ン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２−オンの
製造： ２０．１５ｇ（０．０６２モル）の４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−
トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オク
ト−３−エン−２−オンを５０ｍｌの塩化オキサリル中に懸濁し、ジメチルホル
ムアミドの０．１ｍｌを滴下で加える。ガスの強い発生が終了した後、その混合
物を４５℃のバス温度で、更に１．５時間保持し、次いで蒸発させる、残渣を少
量の酢酸エチル中に懸濁し、ヘキサンで０℃で攪拌しつつ混合する。濾過により
、融点１３７〜１３８℃の４−クロロ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメ
チルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２
−オンの１９．１９ｇ（理論値の９０％）を得る。

【０１８６】 例Ｈ２２： ４−アミノ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジ
ン−３−カルボニル−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２−オンの製
造： １．０ｇ（０．００２９モル）の４−クロロ−３−（２−メチル−６−トリフ
ルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト−３
−エン−２−オンを、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、２５℃で、２．
０ｍｌのアンモニア水（３０％）で処理する。２５℃で０．５時間の後、その反
応混合物を酢酸エチルおよび水に加え、有機相を水で二回洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、蒸発させ、残渣を少量の酢酸エチルで粉末にする。濾過により、
白色結晶（融点 ２６２〜２６３℃）の形で４−アミノ−３−（２−メチル−６
−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．ｌ］オク
ト−３−エン−２−オンの０．８１ｇ（理論値の８６％）を得る。１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：１０．６２ ｂｒｓ、^１Ｈ；８．２２３ｂｒ ｓ、１
Ｈ；７．４１、ｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ、１Ｈ；７．３５、ｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ、１
Ｈ；３．０３、ｂｒ ｔ、Ｊ＝４．８Ｈｚ、１Ｈ；２．７０、ｂｒ ｔ、Ｊ＝４
．８Ｈｚ、１Ｈ；２．４１、ｓ、３Ｈ；１．９７〜２．１４、ｍ、３Ｈ；１．７
７〜１．８１２、ｍ、１Ｈ；１．４７〜１．７０、ｍ、２Ｈ。

【０１８７】 例Ｈ２３： ４−（４−クロロフェニルスルファニル）−３−（２−メチル−
６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オ
クト−３−エン−２−オンの製造： ２．０ｇ（０．００５８モル）の４−クロロ−３−（２−メチル−６−トリフ
ルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ［３．２．１］オクト−３
−エン−２−オン、０．０７ｇのジメチルアミノピリジン（０．０００５８モル
）、および１．６１ｍｌのトリエチルアミンを１５ｍｌの塩化メチレン中に溶解
する。２５℃で、０．０９２ｇ（０．００６４モル）の４−クロロチオフェノー
ルを加える。２２℃で２時間後、その反応混合物を蒸発させ、シリカゲル（ヘキ
サン／酢酸エチル ２：１）上で精製する。再結晶（ヘキサン／酢酸、−２５℃
）により、純粋な４−（４−クロロフェニルスルファニル）−３−（２−メチル
−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］
オクト−３−エン−２−オンを得る：融点 １３０〜１３１℃。

【０１８８】 例Ｈ２４： ４−（４−クロロベンゼンスルホニル）−３−（２−メチル−６
−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オク
ト−３−エン−２−オンの製造： 上記で得られた４−（４−クロロフェニルスルファニル）−３−（２−メチル
−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］
オクト−３−エン−２−オンの０．６ｇ（０．００１３３モル）を塩化メチレン
中に溶解し、過酢酸（０．００５３モル、酢酸中の３９％）の０．９ｍｌを２５
℃で滴下で加える。２５℃で５時間の後、その反応混合物を酢酸エチルおよび水
に加え、有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させ、残渣を少
量のヘキサンで粉末にする。濾過により、白色結晶（融点１６６〜１６７℃）の
形で４−（４−クロロベンゼンスルホニル）−３−（２−メチル−６−トリフル
オロメチルピリジン−３−カルボニル）ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エ
ン−２−オンの０．５６ｇ（理論値の８４％）を得る。

【０１８９】 例Ｈ２５： （５−シクロプロピル−３−メチルスルファニルイソオキサゾー
ル−４−イル）−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）
メタノン、およびシクロプロピル−［３−メチルスルファニル−５−（２−メチ
ル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）イソオキサゾール−４−イル
］メタノンの製造： １４．８ｇ（０．０８０モル）のｔｅｒｔ−ブチル ３−シクロプロピル−３
−オキソプロピオン酸 エステルを２５ｍｌのＭｅＯＨに溶解し、１．９３ｇ（
０．０８０モル）のマグネシウムを加える。氷浴冷却しつつ、７ｍｌの四塩化炭
素を滴下で加え、その反応混合物を２２℃の温度で１時間攪拌する。蒸発の後、
残渣を１００ｍｌのアセトニトリル中に懸濁し、５０ｍｌのアセトニトリ中に溶
解した１６．３１ｇ（０．０７３モル）の２−メチル−６−トリフルオロメチル
ニコチノイル クロリド（例１８で記述したように製造）に、２２℃の温度で滴
下で加える。６時間後、その反応混合物を酢酸エチル中に溶解し、飽和重炭酸ナ
トリウム溶液で洗浄する。その酢酸エチル相を分離し、水洗し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、蒸発させる。残渣を１６０ｍｌの塩化メチレン中に溶解し、トリフ
ルオロ酢酸の１０ｍｌを２２℃の温度で滴下で加える。１８時間後、その反応混
合物を水へ注ぎ、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン相を水で、次いで飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、蒸発させる。こ
れにより、精製なしで更に処理される油として、１−シクロプロピル−３−（２
−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロパン−１，３−ジ
オンの１７．３ｇ（理論値の８８％）を得る。上記で得られた１−シクロプロピ
ル−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロパン
−１，３−ジオン（１５．０ｇ，０．０５５モル）を１５０ｍｌのジメチルホル
ムアミド中に溶解し、酸化アルミニウム支持体（アルミナ）（０．００５５モル
／、０．２７６モルｇ）上の５０ｇのフッ化カリウムを、０℃で一度に少量づつ
加える５分後、６．７ｇ（０．００８８モル）の二硫化炭素を滴下で加える。２
時間後、２３．６ｇ（０．１６６モル）のヨウ化メチルを滴下で加え、その反応
混合物を２２℃の温度に加温する。更なる２個の時間後、アルミナを濾過して除
き、濾液を水に加え、その混合物を酢酸エチルで抽出する。その酢酸エチル相を
水で、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ
、蒸発させる。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィーにかける（移動相：酢
酸エチル／ヘキサン １５／１）。これにより、固体として、２−（ビスメチル
スルファニルメチル−エン）−１−シクロプロピル−３−（２−メチル−６−ト
リフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン−１，３−ジオンの１２．０
ｇ（理論値の６０％）を得る。

【０１９０】 上記で得られた生成物の１２．０ｇ（０．０３３モル）を５．４ｇ（０．０６
６モル）の無水酢酸ナトリウムと共に、エタノールの１２０ｍｌ懸濁させる。４
．６ｇ（０．０６６モル）の塩酸ヒドロキシルアミンを加え、その反応混合物を
２２℃の温度に５時間保持する。更に２．７ｇの無水酢酸ナトリウムと２．３ｇ
の塩酸ヒドロキシルアミンとを次いで加える。１６時間後、その反応混合物を水
で希釈し、酢酸エチルで抽出する。その酢酸エチル相を水で、次いで飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、蒸発させる。少量の酢
酸エチルによる粉砕により、白色結晶（融点 １０３〜１０４℃）の形で２：１
の異性体混合物として、所望の生成物の９．０ｇの（７９．５％）を得る。

【０１９１】 主な異性体：^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）（（５−シクロプロピル−
３−メチルスルファニルイソオキサゾール−４−イル）−（２−メチル−６−ト
リフルオロメチルピリジン−３−イル）メタノン）７．９８、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ、１Ｈ；７．６１、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ；２．６７、ｓ、３Ｈ；２．５
０、ｓ、３Ｈ；２．０２〜１．９３、ｍ、１Ｈ；１．３４〜１．２８、ｍ、２Ｈ
；１．１８〜１．０９、ｍ、２Ｈ。

【０１９２】 ^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）（シクロプロピル−［３−メチルスルフ
ァニル−５−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）イソ
オキサゾール−４−イル］メタン）：７．９５、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ：７
．６９、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ：２．６７、ｓ、３Ｈ；２．６６、５、３Ｈ
；１．７４〜１．６４、ｍ、１Ｈ；１．２８〜１．１８、ｍ、２Ｈ；０．８９〜
０．８０、ｍ、２Ｈ。

【０１９３】 例Ｈ２６： （５−シクロプロピル−３−メチルスルホニルイソオキサゾール
−４−イル）−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）メ
タノン、およびシクロプロピル−［３−メタンスルフィニル−５−（２−メチル
−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）イソオキサゾール−４−イル］
メタノンの製造： １．５０ｇ（０．００４３モル）の上記で得られた異性体混合物を、３０ｍｌ
のアセトン／水（２：１ 混合物）に溶解し、１．０２ｇ（０．００４８モル）
のメタ過ヨウ素酸ナトリウムを２２℃で一度に少量づつ加える。５時間後、その
反応混合物をロータリーエバポレーターを用いて蒸発させる。その残渣を水およ
び酢酸エチル中に溶解する。その酢酸エチル相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、
蒸発させる。その残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィーにかける（移動相：
酢酸エチル／ヘキサン３／１）。これにより、最初に白色結晶（融点 ９６〜９
７℃）として、０．８ｇ（理論値の５１％）の（５−シクロプロピル−３−メチ
ルスルホニルイソオキサゾール−４−イル）−（２−メチル−６−トリフルオロ
メチルピリジン−３−イル）メタノンを得る。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐ
ｍ）：７．８６、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ；７．５９、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、
１Ｈ；３．０７８、ｓ、３Ｈ；２．６６、ｓ、ａＨ；１．５４〜１．４９、ｍ、
ｌＨ；１．３２〜１．２５、ｍ、２Ｈ；１．１３〜１．０７２、ｍ、２Ｈ。

【０１９４】 溶出する第二の生成物は、０．３４ｇ（理論値の２２％）の白色結晶（融点
１１２〜１１３℃）としてのシクロプロピル−［３−メタンスルフィニル−５−
（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）イソオキサゾール
−４−イル］メタノンから成る。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ｐｐｍ）：７．９
７、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ；７．６７、ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ；３．１
２８、ｓ、３Ｈ；２．６２、ｓ、３Ｈ；１．６９〜１．６４、ｍ、１Ｈ、１．２
６〜１．１８、ｍ、２Ｈ；０．９０〜０．８５、ｍ、２Ｈ。

【０１９５】 例Ｈ２７： （５−シクロプロピル−３−メタンスルホニルイソオキサゾール
−４−イル）−（２−イソプロピル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−イ
ル）メタノンの製造： ０．１５ｇ（０．００４５モル）の（５−シクロプロピル−３−メチルスルフ
ァニルイソオキサゾール−４−イル）−２−イソプロピル−６−トリフルオロメ
チルピリジン−３−イル）メタノンを塩化メチレン中に溶解し、０．２８ｍｌの
過酢酸（酢酸中の３９％、０．００１６モル）を５℃の温度で滴下で加える。２
５℃で１５時間後、その反応混合物を酢酸エチルおよび水に加え、その有機相を
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させる。その残渣をシリカゲル上
でクロマトグラフィーにかける（移動相：酢酸エチル／ヘキサン ５／１）。こ
れにより、白色結晶（融点１０５〜１０６℃）として、予測された生成物の０．
１２１ｇ（理論値の７４％）を得る。

【０１９６】 同様の方法で、および一般的な反応スキーム１〜１０に、およびそこに記述さ
た文献中に示された方法に従って、以下の表で列挙された化合物を製造するも可
能である。これらの表で、ＣＣＨはエチニル基であり、Ｐｈはフェニル基であり
、Ｍｅはメチル基である。 表１：

【０１９７】

【化７１】

【０１９８】

【表１】

【０１９９】

【表２】

【０２００】

【表３】

【０２０１】

【表４】

【０２０２】

【表５】

【０２０３】

【表６】

【０２０４】

【表７】

【０２０５】

【表８】

【０２０６】

【表９】

【０２０７】

【表１０】

【０２０８】

【表１１】

【０２０９】

【表１２】

【０２１０】

【表１３】

【０２１１】

【表１４】

【０２１２】

【表１５】

【０２１３】 表２

【０２１４】

【表１６】

【０２１５】

【表１７】

【０２１６】 表３

【表１８】

【０２１７】

【表１９】

【０２１８】

【表２０】

【０２１９】

【表２１】

【０２２０】

【表２２】

【０２２１】

【表２３】

【０２２２】

【表２４】

【０２２３】

【表２５】

【０２２４】

【表２６】

【０２２５】

【表２７】

【０２２６】

【表２８】

【０２２７】

【表２９】

【０２２８】

【表３０】

【０２２９】

【表３１】

【０２３０】

【表３２】

【０２３１】

【表３３】

【０２３２】

【表３４】

【０２３３】

【表３５】

【０２３４】

【表３６】

【０２３５】

【表３７】

【０２３６】

【表３８】

【０２３７】

【表３９】

【０２３８】

【表４０】

【０２３９】

【表４１】

【０２４０】

【表４２】

【０２４１】

【表４３】

【０２４２】

【表４４】

【０２４３】

【表４５】

【０２４４】

【表４６】

【０２４５】

【表４７】

【０２４６】

【表４８】

【０２４７】

【表４９】

【０２４８】

【表５０】

【０２４９】

【表５１】

【０２５０】

【表５２】

【０２５１】

【表５３】

【０２５２】

【表５４】

【０２５３】

【表５５】

【０２５４】 生物学的例 例Ｂ１： 植物の発生前の除草作用（発生前作用） 単子葉植物および双子葉植物のテスト植物を、プラスチックポット内で標準的
な土に播く。種播きの直後に、テスト物質を水性懸濁液（ＷＯ ９７／３４４８
５に従って２５％の水和剤（例Ｆ３、ｂ）から製造）またはエマルション（２５
％のエマルション濃縮物から製造、例Ｆｌ、ｃ）として、２ｋｇのＡＳ／ｈａの
適用量に対応して、スプレーする（５００ ｌの水／ｈａ）。テスト植物を次い
で温室で最適条件下で生長させる。３週のテスト期間の後、テストは評価の９−
レベルスケール（１＝完全ダメージ、９＝影響無し）で評価する。１〜４（特に
、１〜３）の評価は、非常に良好な除草作用に望ましいことを意味する。

【０２５５】 表Ｂ１：発生前作用：

【０２５６】

【表５６】

【０２５７】

【表５７】

【０２５８】 式Ｉの化合物をＷＯ ９７／３４４８５号の例Ｆ２およびＦ₄〜Ｆ８に従って
処方化した際に、同様の結果が得られる。 例Ｂ２： 発生後の除草作用 単子葉植物および双子葉植物のテスト植物をプラスチックポット中で温室内で
標準的な土で生長させ、４−から６−葉ステージで、式Ｉの化合物のテスト物質
の水性懸濁液（ＷＯ ９７／３４４８５に従って２５％の水和剤（例Ｆ３ｂ）か
ら製造）、または式Ｉの化合物のテスト物質のエマルション（２５％のエマルシ
ョン濃縮物から製造、例Ｆｌ、ｃ）として、２ｋｇのＡＳ／ｈａの適用量に対応
して、スプレーする（５００ ｌの水／ｈａ）。テスト植物を次いで温室で最適
条件下で生長させる。１８日のテスト期間の後、テストは評価の９−レベルスケ
ール（１＝完全ダメージ、９＝影響無し）で評価する。１〜４（特に、１〜３）
の評価は、非常に良好な除草作用に望ましいことを意味する。このテストにおい
て、式Ｉの化合物は、強い除草な作用を示す。

【０２５９】 表Ｂ２： 発生後作用：

【０２６０】

【表５８】

【０２６１】

【表５９】

【０２６２】 式Ｉの化合物をＷＯ ９７／３４４８５号の例Ｆ２およびＦ₄〜Ｆ８に従って
処方化した際に、同様の結果が得られる。 例Ｂ３： 植物の発生前の除草作用（発生前作用） 単子葉植物および双子葉植物のテスト植物を、ポット内で標準的な土に播く。
種播きの直後に、所望の適用量（２５０ｇのａ．ｉ．／ｈａ）に対応する水和剤
ＷＰ１０から製造した水性懸濁液としてスプレーする（５００ ｌのスプレー液
（liquor）／ｈａ）。

【０２６３】 テスト植物を次いで温室で最適条件下で生長させる。 ３週のテスト期間の後、テストは評価の９−レベルスケール（１＝完全ダメー
ジ、９＝影響無し）で評価する。１〜４（特に、１〜３）の評価は、非常に良好
な除草作用に望ましいことを、７〜９は良好な耐性を意味する。

【０２６４】

【表６０】

【０２６５】 式Ｉの化合物をＷＯ ９７／３４４８５号の例Ｆ２およびＦ₄〜Ｆ８に従って
処方化した際に、同様の結果が得られる。 例Ｂ４： 植物の発生後の除草作用（発生後作用） 単子葉植物および双子葉植物のテスト植物を、ポット内で標準的な土に播く。
植物の２〜３葉ステージで、所望の適用量（２５０ｇのａ．ｉ．／ｈａ）に対応
する水和剤ＷＰ１０から製造した水性懸濁液としてスプレーする（５００ ｌの
スプレー液／ｈａ）。０．２％のＸ７７を湿潤剤としてスプレー液に加える。

【０２６６】 テスト植物を次いで温室で最適条件下で生長させる。 ３週のテスト期間の後、テストは評価の９−レベルスケール（１＝完全ダメー
ジ、９＝影響無し）で評価する。１〜４（特に、１〜３）の評価は、非常に良好
な除草作用に望ましいことを、７〜９は良好な耐性を意味する。

【０２６７】

【表６１】

【０２６８】 式Ｉの化合物をＷＯ ９７／３４４８５号の例Ｆ２およびＦ４〜Ｆ８に従って
処方化した際に、同様の結果が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ０１Ｎ 43/80 １０１ Ａ０１Ｎ 43/80 １０１ 47/22 47/22 Ｇ Ｃ０７Ｄ 213/61 Ｃ０７Ｄ 213/61 213/64 213/64 213/70 213/70 213/71 213/71 213/74 213/74 401/04 401/04 401/12 401/12 405/04 405/04 405/12 405/12 413/06 413/06 417/12 417/12 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，Ｇ Ｄ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ， ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，Ｍ Ｋ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ， ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，Ｙ Ｕ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 リューシー，クリストフ スイス国，ツェーハー−4142 ミュンヘン シュタイン，ミッテルベク １ (72)発明者 クンツ，バルター スイス国，ツェーハー−4104 オーベルビ ル，ブッヘンシュトラーセ ９ (72)発明者 ドゥ メスマエケル，アラン スイス国，ツェーハー−4447 カエネルキ ンデン，ウエリガッセ 31 (72)発明者 シャエツァー，ユルゲン ドイツ連邦共和国，デー−79618 ライン フェルデン，ホルバインシュトラーセ １ Ｆターム(参考） 4C055 AA01 AA17 BA03 BA06 BA08 BA13 BA27 BA39 BA42 BA47 BA52 BB02 BB15 CA02 CA18 DA01 DA13 DA39 DA42 DA47 DB03 DB15 4C063 AA01 BB01 BB02 BB03 BB04 BB08 CC22 CC25 CC26 CC52 CC67 CC75 DD12 EE03 4H011 AB01 AB03 BB09 BB10 BB13

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式Ｉの化合物 【化１】 ［式中、個々のＲは独立にＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハ
   ロアルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロ
   アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチ
   オ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハ
   ロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
   ルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルアミノスルホニル、−
   Ｎ（Ｒ₁）−Ｓ−Ｒ₂、−Ｎ（Ｒ₃）−ＳＯ−Ｒ₄、−Ｎ（Ｒ₅）−ＳＯ₂Ｒ₆、ニト
   ロ、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、ヒドロキシ−Ｃ₁〜
   Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカ
   ルボニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
   ニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、チオシアナト−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、オキシラニル（oxiranyl）、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆ア
   ルキニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルケニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ
   、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキ
   シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキ
   シ、アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、アルコキシカルボニル−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニルオ
   キシ、フェニル、ベンジル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル
   、フェニルスルホニル、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニルまたはベンジルス
   ルホニルであって、フェニル基がハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチ
   ル、メトキシまたはニトロによってモノ−またはポリ置換されていてもよく、ま
   たはＲが、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒素、酸素
   およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでいてもよい
   ５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系（ring system）であり、そ
   の環系が直接ピリジン環に結合しているか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキレン基を介し
   てピリジン環に結合しており、個々の環系が２を越える酸素原子を含まなくても
   よく、または２を越えるイオウ原子を含まなくてもよく、その環系が部分的に（
   for its part）、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニ
   ル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃ 〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ₆ハロ
   アルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニルチオ、Ｃ₃〜
   Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアル
   キルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルフィニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、アミノスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミノスルホニ
   ル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₇、ＮＲ₈Ｒ₉、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニ
   ルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフェニル環上で部分的に
   Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
   アルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されていてもよい）に
   よってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく、および複素環における
   窒素上の置換基がハロゲンと異なり； ｍは、１、２、３、または４であり； ｐは、０または１であり； Ｒ₁、Ｒ₃およびＲ₅は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₂は、ＮＲ₁₀Ｒ₁₁、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
   ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
   またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
   アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
   たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₄は、ＮＲ₁₂Ｒ₁₃、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
   ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
   またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
   アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
   たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₆は、ＮＲ₁₄Ｒ₁₅、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケ
   ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル
   またはフェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロ
   アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノま
   たはニトロによって置換されていてもよく； Ｒ₇は、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アル
   キルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニルまたは
   フェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキ
   ル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ．ハロゲン、シアノまたはニ
   トロによって置換されていてもよく； Ｒ₈、Ｒ₁₀、Ｒ₁₂およびＲ₁₄は、互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルで
   あり； Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₃およびＲ₁₅は、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆ アルコキシであり； Ｑは基Ｑ１ 【化２】 （式中、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈およびＲ₁₉は、互いに独立に水素、ヒドロキシル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
   シカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
   Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−ＮＨＳ（Ｏ）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
   キル、−ＮＨ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）₂、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
   コキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲンまたはフェニル（部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄
   アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
   Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
   Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル
   、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノによって置換されていても
   よい）であるか；またはＲ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈およびＲ₁₉からなる群からの２個の隣
   接する置換基がＣ₂〜Ｃ₆アルキレンブリッジを形成し； Ｒ₂₀はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホニル
   、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
   Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆
   アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルフィ
   ニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂
   アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアル
   ケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニル
   スルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカ
   ルボニル−１〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
   シ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₃₇Ｒ₃₈Ｎ、Ｒ₇₁Ｒ₇₂ＮＮＨ−、Ｒ₂₁Ｒ₂₂ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₇₃Ｒ₇₄ＮＣ（Ｏ
   ）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₃₉、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
   Ｏ）₂ＮＲ₄₀、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
   ）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
   キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
   ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
   カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
   −、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
   ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
   ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
   スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アル
   キル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、
   ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよく）、 または基Ａｒ₁−チオ、Ａｒ₂−スルフィニル、Ａｒ₃−スルホニル、ＯＣＯ−
   Ａｒ₄またはＮＨ−Ａｒ₅（式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、Ａｒ₄およびＡｒ₅は、
   互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒素、
   酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでいても
   よい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々の環系が２
   を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子を含まなく
   てもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
   ロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケ
   ニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
   Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル
   チオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₅ア
   セチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₄シ
   アノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスル
   フィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル、ア
   ミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアルキルアミ
   ノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₄₁、ＮＲ₄₂Ｒ₄₃、ハロゲン、シアノ、ニ
   トロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフェニル環
   上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ
   、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置換されて
   いてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく、および
   複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₄₁はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
   ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
   ロによって置換されていてもよく； Ｒ₄₂は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₄₃は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₂₁、Ｒ₃₇、Ｒ₃₉、Ｒ₄₀、Ｒ₇₁およびＲ₇₃は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₂₂、Ｒ₃₈、Ｒ₇₂およびＲ₇₄は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
   ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
   ルキニルオキシであるか；またはＲ₂₁およびＲ₂₂が一緒に、またはＲ₃₇およびＲ₃₈ が一緒に、またはＲ₇₁およびＲ₇₂が一緒に、またはＲ₇₃およびＲ₇₄が一緒に、
   ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、メチル基によ
   ってモノ−またはポリ置換されていてもよく；または基Ｑ₂ 【化３】 （式中、Ｙは化学結合、アルキレン基Ａ₁、カルボニル、酸素、イオウ、スルフ
   ィニル、スルホニル、−ＮＨＲ₂₄₈またはＮＨ（ＣＯ）Ｒ₂₄₉であり； Ａ₁はＣ（Ｒ₂₄₆Ｒ₂₄₇）ｍ₀₁であり； ＡはＣ（Ｒ₂₄₄Ｒ₂₄₅）ｒであり； ｒおよびｍ₀₁は互いに独立に、０、１または２であり； Ｒ₂₄₀は水素、メチルまたはＣ₁〜Ｃ₃アルコキシカルボニルであり； Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂、Ｒ₂₄₃、Ｒ₂₄₄、Ｒ₂₄₅、Ｒ₂₄₆およびＲ₂₄₇は互いに独立に水素
   、ハロゲンまたはメチルであり、またはＲ₂₄₃と隣接する基Ｒ₂₄₅またはＲ₂₄₇と
   は化学結合であり； Ｒ₂₄₈およびＲ₂₄₉は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； Ｒ₂₃はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 2} アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ア
   ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂
   ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜
   Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルスルフ
   ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ_{1 2} アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルス
   ルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニ
   ル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ
   ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ
   （Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₄₄Ｒ₄₅Ｎ、Ｒ₇₅Ｒ₇₆ＮＮＨ−、Ｒ₄₆Ｒ₄₇ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₇₇Ｒ₇₈ＮＣ（Ｏ
   ）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₄₈、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
   Ｏ）₂ＮＲ₄₉、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基が、ハロゲン、Ｃ１〜
   Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていても
   よい）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニ
   ルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカ
   ルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル
   チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−
   ＮＨ−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、
   ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、
   フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェ
   ニルスルホニルオキシまたはベンゾイルオキシであって、フェニル基が部分的に
   、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
   ロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
   、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフ
   ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂
   Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよ
   く、 または基Ａｒ₆−チオ、Ａｒ₇−スルフィニル、Ａｒ₈−スルホニル、ＯＣＯ−
   Ａｒ₉またはＮＨ−Ａｒ₁₀であって、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉およびＡｒ₁₀
   は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよく、窒
   素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含んでい
   てもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々の環系
   が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子を含ま
   なくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル
   、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜
   Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆
   アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
   チオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアル
   ケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ、Ｃ₃
   〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ、Ｃ₂ 〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアル
   キルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホ
   ニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジアル
   キルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₅₀、ＮＲ₅₁Ｒ₅₂、ハロゲン、シ
   アノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオがフ
   ェニル環上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
   ルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによって置
   換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよく
   、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₅₀はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
   ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
   ロによって置換されていてもよく； Ｒ₅₁は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₅₂は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₄₆、Ｒ₄₇、Ｒ₄₈、Ｒ₄₉、Ｒ₇₅およびＲ₇₇は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₄₇、Ｒ₄₅、Ｒ₇₆およびＲ₇₈は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
   ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
   ルキニルオキシであるか；またはＲ₄₄およびＲ₄₅が一緒に、またはＲ₄₆およびＲ₄₇ が一緒に、またはＲ₇₅およびＲ₇₆が一緒に、またはＲ₇₇およびＲ₇₈が一緒に、
   ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、メチル基によ
   ってモノ−またはポリ置換されていてもよく；または基Ｑ₃ 【化４】 （式中、Ｒ₂₆はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜
   Ｃ₁₂アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁
   〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂
   〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニ
   ルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフ
   ィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル
   −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ
   ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、 Ｒ₅₃Ｒ₅₄Ｎ、Ｒ₇₉Ｒ₈₀ＮＮＨ−、Ｒ₅₅Ｒ₅₆ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₈₁Ｒ₈₂ＮＣ（Ｏ
   ）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₅₇、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
   Ｏ）₂ＮＲ₅₈、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
   ）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
   キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
   ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
   カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
   −、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
   ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
   ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
   スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
   、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
   Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
   、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよい）、 または基Ａｒ₁₁−チオ、Ａｒ₁₂−スルフィニル、Ａｒ₁₃−スルホニル、ＯＣＯ
   −Ａｒ₁₄またはＮＨ−Ａｒ₁₅であって、Ａｒ₁₁、Ａｒ₁₂、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄および
   Ａｒ₁₅は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよ
   く、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含
   んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々
   の環系が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子
   を含まなくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロア
   ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
   Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃
   〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
   ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆ハ
   ロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ
   、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ
   、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
   アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルス
   ルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジ
   アルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₅₉、ＮＲ₆₀Ｒ₆₁、ハロゲン
   、シアノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオ
   がＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハ
   ロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによってフェニル環上で部分的に
   置換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていてもよ
   く、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₅₉はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
   ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
   ロによって置換されていてもよく； Ｒ₆₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₆₁は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₅₅、Ｒ₅₃、Ｒ₅₇、Ｒ₅₈、Ｒ₇₉およびＲ₈₁は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₅₆、Ｒ₅₄、Ｒ₈₀およびＲ₈₂は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
   ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₃〜Ｃ₆ア
   ルキニルオキシであるか；またはＲ₅₃およびＲ₅₄が一緒に、またはＲ₅₅およびＲ₅₆ が一緒に、またはＲ₇₉およびＲ₈₀が一緒に、またはＲ₈₁およびＲ₈₂が一緒に、
   ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、それはメチル
   基によってモノ−またはポリ置換されていてもよく； Ｒ₂₉は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   コキシカルボニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）ＮＨＣＯ、フェニルアミノカルボニル
   、ベンジルアミノカルボニル、（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）₂ＮＣＯであって、フェ
   ニルおよびベンジル基が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
   アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
   キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ
   、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁
   〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロまたはシアノ
   によって置換されていてもよく； または基Ｑ₄ 【化５】 （式中、Ｒ₃₀はヒドロキシル、Ｏ^-Ｍ⁺、ハロゲン、シアノ、ＳＣＮ、ＯＣＮ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜
   Ｃ₁₂アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁
   〜Ｃ₁₂ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ、
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁ 〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルケニルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルチオ、Ｃ₂
   〜Ｃ₁₂アルキニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキニルスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハ
   ロアルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂ハロアル
   ケニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
   キシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂Ｐ（
   Ｏ）Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏ、Ｈ（Ｃ₁〜Ｃ₄ アルコキシ）Ｐ（Ｏ）Ｏである）、 Ｒ₆₂Ｒ₆₃Ｎ、Ｒ₈₃Ｒ₈₄ＮＮＨ−、Ｒ₆₄Ｒ₆₅ＮＣ（Ｏ）Ｏ−、Ｒ₈₅Ｒ₈₆ＮＣ（Ｏ
   ）ＮＨ−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＲ₆₆、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（
   Ｏ）₂ＮＲ₆₇、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルカルボニルオキシ（アルキル基がハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオまたはシアノによって置換されていてもよい
   ）、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニルカルボニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニルカルボニルオ
   キシ、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシカルボ
   ニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキルチオ
   カルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−ＮＨ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ
   −、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル−Ｎ（ＣＳ）Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）−ＮＨ−、ベン
   ジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、フェ
   ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニル
   スルホニルオキシまたはベンゾイルオキシ（フェニル基が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
   、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ
   ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜
   Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
   ルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
   、ハロゲン、ニトロまたはシアノによって置換されていてもよい）、 または基Ａｒ₁₆−チオ、Ａｒ₁₇−スルフィニル、Ａｒ₁₈−スルホニル、ＯＣＯ
   −Ａｒ₁₉またはＮＨ−Ａｒ₂₀であって、Ａｒ₁₆、Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉および
   Ａｒ₂₀は、互いに独立に、芳香族であるか、または部分的に飽和されていてもよ
   く、窒素、酸素およびイオウからなる群から選ばれた１〜４個のヘテロ原子を含
   んでいてもよい５員〜１０員の単環または縮合された二環式の環系であり、個々
   の環系が２を越える酸素原子を含まなくてもよく、または２を越えるイオウ原子
   を含まなくてもよく、その環系が部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロア
   ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
   Ｃ₂〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₃
   〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
   ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₆ハ
   ロアルケニルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ、Ｃ₂〜Ｃ₅アルコキシアルキルチオ
   、Ｃ₃〜Ｃ₅アセチルアルキルチオ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルコキシカルボニルアルキルチオ
   、Ｃ₂〜Ｃ₄シアノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
   アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルス
   ルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルアミノスルホニル、Ｃ₂〜Ｃ₄ジ
   アルキルアミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキレン−Ｒ₆₈、ＮＲ₆₉Ｒ₇₀、ハロゲン
   、シアノ、ニトロ、フェニルおよびベンジルチオ（フェニルおよびベンジルチオ
   がフェニル環上で部分的に、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜
   Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロによ
   って置換されていてもよい）によってモノ−、ジ−、またはトリ置換されていて
   もよく、および複素環における窒素上の置換基がハロゲンと異なり； Ｒ₆₈はＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはフ
   ェニルであって、フェニルが部分的にＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル
   、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニト
   ロによって置換されていてもよく； Ｒ₇₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり； Ｒ₆₁は、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであり； Ｒ₆₄、Ｒ₆₂、Ｒ₆₆、Ｒ₆₇、Ｒ₈₃およびＲ₈₅は互いに独立に水素またはＣ₁〜Ｃ₄ アルキルであり； Ｒ₆₅、Ｒ₆₃、Ｒ₈₄およびＲ₈₆は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、ヒド
   ロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルコキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシまたはＣ₂〜Ｃ₆ア
   ルキニルオキシであるか；またはＲ₆₂およびＲ₆₃が一緒に、またはＲ₆₄およびＲ₆₅ が一緒に、またはＲ₈₃およびＲ₈₄が一緒に、またはＲ₈₅およびＲ₈₆が一緒に、
   ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノであって、それはメチル
   基によってモノ−またはポリ置換されていてもよく； Ｒ₃₃およびＲ₃₄は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル
   、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ
   、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル−ＮＨＳ（Ｏ）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、−ＮＨ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−
   Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）₂、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシまたはフェニルであって、それ
   が部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカル
   ボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁
   〜Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
   ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
   ルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
   Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノ
   によって置換されていてもよく；またはＲ₃₃およびＲ₃₄が一緒にＣ₂〜Ｃ₆アルキ
   レンブリッジを形成し；および Ｒ₃₅は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルま
   たはベンジルであって、部分的にハロゲン、メチルまたはメトキシによって置換
   されていてもよく、またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルまたはフェニルであっ
   て、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカ
   ルボニル、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
   ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
   ルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂ＮＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−
   Ｓ（Ｏ）₂Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、ハロゲン、ニトロ、ＣＯＯＨまたはシアノ
   によって置換されていてもよく； または基Ｑ₅であり； 【化６】 （式中、ＺはＳ、ＳＯまたはＳＯ₂であり； Ｒ₀₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル；ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、−
   ＣＯ₂Ｒ₀₂、−ＣＯＲ₀₃、−ＣＯＳＲ₀₄、−ＮＲ₀₅Ｒ₀₆、ＣＯＮＲ₀₃₆Ｒ₀₃₇また
   はフェニルによって置換されたＣ₁〜Ｃ₈アルキルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ
   、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃
   〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜
   Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄
   アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯＣ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆ アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）
   ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃ 〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
   ル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル
   ）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₂₅Ｒ₂₆、ＯＳＯ₂−
   Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄
   ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロ
   アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン
   −フェニル、または−ＮＲ₀₁₅ＣＯ₂Ｒ₀₂₇によって置換されていてもよく； またはＲ₀₁はＣ₂〜Ｃ₈アルケニル、または、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ
   ィニル、−ＣＯＮＲ₀₃₂Ｒ₀₃₃、シアノ、ニトロ、−ＣＨＯ、−ＣＯ₂Ｒ₀₃₈、−Ｃ
   ＯＲ₀₃₉、−ＣＯＳ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、−ＮＲ₀₃₄Ｒ₀₃₅、またはフェニルによ
   って置換されたＣ₂〜Ｃ₈アルケニルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁
   〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆
   アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
   ニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、
   ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル）
   −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ
   （Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂ −フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆ アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアル
   キル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニ
   ル、Ｎ（フェニル）−ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニ
   ル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₄₀Ｒ₀₄₁、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
   ルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチ
   オ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホ
   ニル、フェニルスルフホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
   ルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレンフェニル、ま
   たは−ＮＲ₀₄₃ＣＯ₂Ｒ₀₄₂によって置換されていてもよく； またはＲ₀₁が、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、またはハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
   、シアノ、−ＣＯ₂Ｒ₀₄₄、またはフェニルによって置換されたＣ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ルであって、部分的にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   コキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
   Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シ
   アノ、−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
   キシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜
   Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アル
   ケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル
   、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）−ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
   ニル）−ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ル、ＣＯＮＲ₀₂₈Ｒ₀₂₉、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₃₁ＣＯ₂Ｒ₀₃₀よっ
   て置換されていてもよく； またはＲ₀₁は、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニルまたはフェニルによって置換されたＣ₃〜Ｃ₇シクロ
   アルキルであって、部分的にハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルおよびＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによって置換されていてもよく； またはＲ₀₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキレン−Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルである
   か、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ア
   ルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−Ｃ
   ＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェ
   ノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
   ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
   、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜
   Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−
   フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜
   Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ_{04 5} Ｒ₀₄₆、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニ
   ル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ₄アルキ
   ルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、
   または−ＮＲ₀₄₈ＣＯ₂Ｒ₀₄₇によって置換されたフェニルであり；または Ｒ₀₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキレンフェニル、ＣＯＲ₀₇または４〜６員のヘテロサイク
   リルであり； Ｒ₀₂、Ｒ₀₃₈、Ｒ₀₄₄およびＲ₀₆₆は互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フ
   ェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル
   、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、
   シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
   キシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜
   Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂ −Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アル
   ケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル
   、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
   、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
   、ＣＯＮＲ₀₄₉Ｒ₀₅₀、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₅₂ＣＯ₂Ｒ₀₅₃によ
   って置換されていてもよいフェニルであり； Ｒ₀₃、Ｒ₀₃₉、Ｒ₀₆₇は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルであるか、ま
   たはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニ
   ルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、
   ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、
   （Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル
   、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ
   （Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁
   〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アル
   キニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル
   、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シク
   ロアルキル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（
   フェニル）ＳＯ₂フェニル、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₇₀Ｒ₀₅₄、Ｏ
   ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
   Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィ
   ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキレン−フェニル、または−ＮＲ₀₅₆ＣＯ₂Ｒ₀₅₅によって置換されたフェニル
   であり； Ｒ₀₄はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり； Ｒ₀₅は水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
   Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
   Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆ア
   ルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
   ＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−
   フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆
   アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂Ｈ、Ｎ（Ｃ₃〜
   Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−
   フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂Ｈ、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
   ル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル
   、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂フェニル、Ｏ
   ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₅₇Ｒ₀₅₈、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
   、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フ
   ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、
   フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルス
   ルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−
   ＮＲ₀₆₀ＣＯ₂Ｒ₀₅₉によって置換されたフェニルであり； Ｒ₀₆は水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
   Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
   Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆ア
   ルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ルオキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
   ＯＯフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）−Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄ア
   ルキルスルフィニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル）−
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＮＨＳＯ₂−フェニル、Ｎ（
   Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル）ＳＯ₂−
   フェニル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₂〜Ｃ₆
   アルケニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
   キル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル）ＳＯ₂−フェニル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキ
   ル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル）ＳＯ₂−フェニル
   、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｎ（フェニル）ＳＯ₂フェニル、Ｏ
   ＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ＣＯＮＲ₀₆₁Ｒ₀₆₂、ＯＳＯ₂−Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル
   、ＯＳＯ₂−フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、フ
   ェニルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、
   フェニルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルス
   ルフィニル、フェニルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン−フェニル、または−
   ＮＲ₀₆₄ＣＯ₂Ｒ₀₆₃によって置換されたフェニルであり； Ｒ₀₇はフェニル、置換されたフェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
   シ、または−ＮＲ₀₈Ｒ₀₉であり、； Ｒ₀₈およびＲ₃₀は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルであるか、または
   ハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ チオアルキル、−ＣＯ₂Ｒ₀₆₆、−ＣＯＲ₀₆₇、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによって置換されたフェニ
   ルであり；またはＲ₀₈およびＲ₀₉は一緒に、酸素、ＮＲ₀₆₅またはＳによって中
   断されていてもよい５〜６員環を形成し、 Ｒ₀₁₅、Ｒ₀₃₁、Ｒ₀₄₃、Ｒ₀₄₈、Ｒ₀₅₂、Ｒ₀₅₆、Ｒ₀₆₀およびＲ₆₄は互いに独立
   に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルまたはＣ₃ 〜Ｃ₇シクロアルキルであり； Ｒ₀₂₅、Ｒ₀₂₆、Ｒ₀₂₇、Ｒ₀₂₈、Ｒ₀₂₉、Ｒ₀₃₀、Ｒ₀₃₂、Ｒ₀₃₃、Ｒ₀₃₄、Ｒ₀₃₅、
   Ｒ₀₃₆、Ｒ₀₃₇、Ｒ₀₄₀、Ｒ₀₄₁、Ｒ₀₄₂、Ｒ₀₄₅、Ｒ₀₄₆、Ｒ₀₄₇、Ｒ₀₄₉、Ｒ₀₅₀、Ｒ₀₅₃ 、Ｒ₀₅₄、Ｒ₀₅₅、Ｒ₀₅₇、Ｒ₀₅₈、Ｒ₀₅₉、Ｒ₀₆₁、Ｒ₀₆₂、Ｒ₀₆₅およびＲ₀₇₀は
   互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ル、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニルであるか、またはハロゲン、ニトロ、シ
   アノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルまたはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによ
   って置換されたフェニルであり；および Ｒ₃₆は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃ 〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₃〜
   Ｃ₆シクロアルキルであるか、またはハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハ
   ロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
   ル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
   ルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜
   Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアル
   キルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、
   Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（Ｏ）₂
   Ｏ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）₂Ｏまたはフェニルによって置換されたＣ₃ 〜Ｃ₆シクロアルキルであって、部分的にハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、シアノ、ニトロま
   たはＣＯＯＨによって置換されていてもよい］ の化合物；および式Ｉの化合物の農芸化学的に許容可能な塩Ｍ⁺および全ての立
   体異性体および互変異性体。
2. 【請求項２】 式ＩＩａ 【化７】 ｛式中、Ｑａはヒドロキシル、ハロゲン、シアノまたは基−ＣＨ₂（ＣＯ）Ｒ₃₆
   、または 【化８】 であり、 Ｒ_bは水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルまたはハロゲンであり； Ｒｆはトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチル
   、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルまたはトリクロロメチルであり； Ｒ_aはＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₄シクロアルキル、
   Ｃ₁〜Ｃ₂アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルチオメチル、ヒドロ
   キシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、ア
   リルオキシ、プロパルギルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルス
   ルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルまたはＣ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルオ
   キシであり Ｒ₀₁およびＲ₃₆は式ＩのＱ５の下で定義された通りである（ただし、化合物２
   ，６−ビス−トリフルオロメチルニコチン酸、２，６−ビス−トリフルオロメチ
   ル−５−メチルニコチン酸、および２−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルニ
   コチン酸を除く）｝の化合物。
3. 【請求項３】 式ＩＩｂ 【化９】 ｛式中、Ｑｂはヒドロキシル、ハロゲン、シアノまたは基−ＣＨ₂（ＣＯ）Ｒ₉₉
   、または 【化１０】 であり、 Ｒ₉₉はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ
   であり； Ｒｆはトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ペンタフルオロエチル
   、またはヘプタフルオロ−ｎ−プロピルであり； ＲｃはＣ₁〜Ｃ₃アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂アルコキシメチル
   、Ｃ₁〜Ｃ₂アルキルチオメチル、ヒドロキシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₃ア
   ルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₃ハロアルコキシ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、Ｃ₁
   〜Ｃ₃アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホ
   ニルまたはＣ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニルオキシであり Ｒ₀₁は式Ｉ下で定義された通りである｝ の化合物。
4. 【請求項４】 不活性なキャリア上で、式Ｉの化合物の除草的な有効的量を
   含む除草性および植物生長抑制性組成物。
5. 【請求項５】 式Ｉの活性化合物、またはその活性化合物を含む組成物の除
   草的な有効的量を、植物またはその生育地に適用する、好ましくない植物生長を
   制御する方法。
6. 【請求項６】 式Ｉの活性化合物、またはその活性化合物を含む組成物の除
   草的な有効的量を、植物またはその生育地に適用する、植物生長を制御する方法
   。
7. 【請求項７】 好ましくない植物生長を制御するための請求項４に従う組成
   物の使用。