JP2002515107A

JP2002515107A - 一体型ガスパネル用組立ブロック

Info

Publication number: JP2002515107A
Application number: JP52562298A
Authority: JP
Inventors: マークレック，ジェフリイ・アール; レックス，デニス・ジイ; シュースター，リチャード・イー; エリオット，ブレント
Original assignee: キネティック・フルーイド・システムズ
Priority date: 1996-12-03
Filing date: 1997-11-19
Publication date: 2002-05-21
Also published as: WO1998025058A1; KR20000069268A; EP0941432A4; US6302141B1; AU5265498A; EP0941432A1

Abstract

(57)【要約】複数の別個のブロック（２０２、２０４）を具備するガスパネルは、第１のブロック（３１０）の第１の面に連結される第１の機能部品を含み、第１の面は第１のポート構成を有する。第２の機能部品は第２のブロック（３２０）の第１の面に連結され、第２のブロックの第１の面は第１のポート構成を有する。第１の機能部品は第２の機能部品とは異なる。

Description

【発明の詳細な説明】一体型ガスパネル用組立ブロック本願は、１９９６年１２月３日に出願され、本願の譲受人に譲渡された米国特許出願第０８／７６０,１５０号の一部継続出願である。発明の背景１．発明の分野本発明は、ガス分配システムの分野に関し、特に、パネル用のガスルーティング管路および通路を備えた複数のブロックからなるガスパネルに関する。２．関連技術の検討ガスパネルは、多くの製造過程および機械類においてガスおよびガス混合物の流れを制御するのに使用される。図１に示されるガスパネル１００等の典型的なガスパネルは、何十（または何百）フィートのチューブ１１０によって一緒に接続される、弁１０２、フィルタ１０４、流れ調節器１０６、圧力調節器１０７、圧力変換器１０９、および接続部１０８等の文字通り何百もの別個のまたは個別の部品から作られる。ガスパネルは、様々な別個の部品を独自に構成することによって、混合およびパージ等の所望の機能を提供するように設計される。現在のガスパネルに関連する問題は、その大半が独自に設計され特定の必要性に一致するように構成されていることである。今日、ガスパネルを形成する標準設計は全くない。今日、ガスパネルを設計し、すべてのサブアセンブリを製作し、次いで最終製品を組み立てるには何週間から何か月もかかる。各々の新しいガスパネルを独自に設計するか、または構成することは時間と金がかかる。さらに、標準設計がないため、施設の人員が、単一の施設内に存在する異なって設計されたガスパネルのすべてを維持し修理し取り替えることは困難である。独自な設計のため、スペアパーツの在庫管理が面倒であり高価である。現在のガスパネルに関連する別の問題は、すべての機能部品を相互連結するために多数の取付具１０８および溶接が必要なことである。管が取付具１０８に溶接されるときに、溶接過程中に発生する熱は、溶接に近接した管の部分（すなわち熱影響地帯）の電解研磨を物理的且つ化学的に劣化する。熱影響地帯の劣化した仕上げは、次いで、実質的な汚染発生源になりうる。さらに、溶接過程中に、マンガン等の金属蒸気が管のより冷たい部分に凝縮して、その部分に堆積物を形成する可能性がある。また、溶接されている要素が異なる材料組成を有する場合（たとえば、インコネルを有するステンレス鋼）、所望の溶接形状および化学的特性を達成することは困難である。したがって、多数の取付具および溶接を備えたガスパネルは、汚染物および粒子のレベルが極めて低くなければならない超クリーンガスシステムには適合しない。さらに、高純度取付具１０８は高価であり、得るのが困難である可能性があり、そのため高純度取付具を組み込むガスパネルのコストが上昇する。現在のガスパネル設計に関連するさらなる問題は、ガスパネル全体にガスを送るのに使用される大量のチューブ１１０である。大容量のチューブはシステムを満たすために大容量のガスを必要とし、ガスの流れを安定化し制御することが困難になる。さらに、過剰なチューブを備えたガスパネルは、パージして孤立させることにかなりの時間がかかり、結果として必須の製造設備に高価な停止時間が生じる可能性があり、結果として維持費が上昇する。そしてさらに、ガスパネルがより多くのチューブを有すると、より多くの「湿潤表面積」を有することになり、これも製造過程における汚染源となる可能性を増加する。したがって、組み入れられる溶接、取付具およびチューブの数を減少するかまたは排除する、迅速に構成可能であり且つ容易に再構成可能なガスパネルが所望される。発明の要旨本発明は、独自にポートが作られ通路が作られた基部ブロックとマニホルドブロックのセットであり、これらは一緒に連結されて、超高純度機能と能力とが可能である溶接がなく且つチューブのないガスパネルを形成する。本発明の基部ブロックは、機能部品（たとえば、弁、圧力変換器、調節器、フィルタ等）を取り付けるための同一の部品相互連結面を有してもよい。さらに、多くの機能部品は同一の基部相互連結面を含み、そのため、本発明の多くの機能部品を数多くの異なる基部ブロックに取り付けることができる。さらに、各基部ブロックは同一の管路相互連結面を含み、そのため、隣接する基部ブロックのポートを一緒に連結して、共通の管路またはガススティックを形成することができる。さらに、本発明は、同一マニホルド相互連結面を有する複数のマニホルドブロックを含み、それによって、基部ブロックを連結することによって形成される様々な管路（ガススティック）の間にガスを送るために使用することができる共通のマニホルドを形成するように、基部ブロックの連結に対して横方向にマニホルドブロックを一緒に連結することが可能である。本発明のさらなる特徴および性能は、下記の詳細な説明から明らかになる。図面の簡単な説明図１は、様々な機能部品を相互連結するためにチューブおよび溶接を用いる標準ガスパネルの図である。図２は、本発明の組立ブロックを具備する新規のガスパネルの図である。図３ａは、本発明の第１の実施形態の孤立基部ブロックの図である。図３ｂは、本発明の第１の実施形態の上流／下流制御基部ブロックの図である。図３ｃは、本発明の第１の実施形態のマニホルド制御基部ブロックの図である。図３ｄは、本発明の第１の実施形態のブラインド基部ブロックの図である。図３ｅは、本発明のブリッジ基部ブロックの図である。図３ｆは、本発明の第２の実施形態の孤立基部ブロックの図である。図３ｇは、本発明の第２の実施形態の上流／下流制御基部ブロックの図である。図３ｈは、本発明の第２の実施形態のマニホルド制御基部ブロックの図である。図３ｉは、本発明の第２の実施形態のブラインド基部ブロックの図である。図３ｊは、機能部品に連結された本発明の第２の実施形態の第１のマニホルド制御基部ブロックの図である。図３ｋは、機能部品に連結された本発明の第２の実施形態の第２のマニホルド制御基部ブロックの図である。図４は、本発明に用いられる複数の機能部品の図である。図５ａは、本発明のフロースルーマニホルドブロックの図である。図５ｂは、本発明のエルボマニホルドブロックの図である。図５ｃは、第１の任意のマニホルド制御ブロックの図である。図５ｄは、第２の任意のマニホルド制御ブロックの図である。図５ｅは、第３の任意のマニホルド制御ブロックの図である。図５ｆは、第１の端プレートブロックの図である。図５ｇは、第２の端プレートブロックの図である。図６ａは、基部ブロックとマニホルドブロックとを連結することによって形成されるたガスパネルの管路およびマニホルドのルーティングの図である。図６ｂは、機能部品が各ブロックの部品相互連結面に取り付けられたときに形成されるガスパネルの概略図である。図７は、「Ｃ」シール金属圧縮シールの断面図である。図８ａは、本発明によるシールポートの三次元の図である。図８ｂは、本発明によるシールポートの二次元の図である。本発明の詳細な説明本発明は、相互連結されて様々な異なる機能と能力とを有するガスパネルを形成することができる組立ブロックの新規セットを記載する。下記の説明において、本発明の完全に理解させるために、特定の取付具、部品およびブロック設計等の数多くの具体的な詳細が述べられている。しかし、本発明がこれらの特定の詳細がなくとも実行することができることは当業者には明らかである。他の場合には、よく知られた機械アセンブリ、機械加工技術および製造技術は、本発明を不必要にわかりにくくすることがないように、特に詳しくは述べられていない。本発明は、一緒に相互連結されるときには、完全ガスパネルに必要なすべての管路とマニホルドとのルーティングを形成する独自のポートを有する別個の組立ブロックのセットである。組立ブロックは、一緒に連結されるときに、図２に示されるガスパネル２００等のガスパネルを形成することができ、これは、たとえば、以下のものに限定されるわけではないが、現在のガスパネルに必要な、混合、予備混合、パージ、サンプリングおよびガス抜き等の異なる機能と能力とのすべてを与えることができる。図２に示されるガスパネル２００は、複数の基部ブロック２０２を含み、これは標準部品相互連結面を有し、これを使用して、弁、フィルタ、圧力変換器、圧力調節器等の単一部品を取り付けることができる。複数の基部ブロックが一緒に連結されて共通の管路またはガススティックを形成する。複数のマニホルドブロック２０４が、基部ブロックの連結を横切る方向に一緒に連結されて、共通マニホルドまたは通路を形成し、これは、連結した隣接する基部ブロックによって形成された管路またはガススティックを横切って走る。マニホルドブロックは基部ブロックの下側に（すなわち、部品２０６が装着される側とは反対側に）連結され、個別のガススティックの間の流体連通を可能にする。マニホルドブロックを一緒に連結することによって形成された共通通路またはマニホルドを使用して、基部ブロックを一緒に連結することによって形成された個別の管路またはガススティックを流れる異なるガスまたはガス混合体を混合し、予備混合し、パージし、サンプリングし、且つガス抜きすることができる。本発明によると、４つの異なる基部ブロックと２つの異なるマニホルドブロックの合わせたものを組み立てて、超高純度（ＵＨＰ）ガスシステム構造を収容する管路ブレッドボードを提供することができる。次いで、完全ガスパネルを形成するために、弁、調節器、フィルタ、圧力変換器、質量計量装置等が、管路マトリックスの適切な位置に装着される。図３ａ乃至３ｄは、本発明の第１の実施形態に使用される４つの異なる基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０を例示する。本発明の第２の実施形態（後ほど検討）は、４つの基部ブロックの別のセットである。各基部ブロックは、同一の部品相互連結面３６０を含み、すべての機能部品に対する万能合致面となる。すなわち、各基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０は、ポート、シール機構、および、部品およびマニホルド装着穴の同一配置を備えた部品相互連結面を有する。部品相互連結面上の対称ポートは、システムに使用されているすべての機能部品（従来のマスフロー制御器（ＭＦＣ）は除く）のための共通合致面となる。図４は、本発明の複数の異なる機能部品を示す。本発明の第１の実施形態では、各機能部品は、基部ブロックの部品相互連結面のポートに整列しそれに合致する同一の基部相互連結面を有する接触面を含む。このようにして、各機能部品４１０、４２０、４３０、４４０、４５０は、ガスシステムのいずれの基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０にも装着されることが可能である。さらに、各基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０は、すべての管路ブロック用の万能合致面とするために、単数または複数の同一の管路相互連結面を含む。すなわち、各基部ブロックは、ポート、シール機構、および基部ブロックを一緒に取り付けるためのスルーホールの同一配置を有する単数または複数の管路相互連結面を有する。管路相互連結面３７０、３７２の周りに基部ブロックを一緒に取り付けることは、「ガススティック」を形成する様々な機能部品の中に流体連通を行う共通管路を作る。さらに、各基部ブロックの外部相互連結面は対称的であるため、基部ブロックは二方向に組み立てることができる。図３ａには、本発明の第１の実施形態の孤立基部ブロック３１０が例示されている。孤立基部ブロック３１０は、部品相互連結面３６０を有し、これは、そこに形成される２つのポートすなわち開口３６２、３６４を有する。基部ブロック３１０とそれに装着される機能部品との間にシールを形成するのに使用される窪み３６６、３６７が各ポート３６２、３６４の周りに形成されている。部品ポート３６２、３６４は、部品相互連結面３６０の中心に対して対称的に配置される。孤立基部ブロック３１０は、部品相互連結面３６０に隣接し且つこれに対して垂直な第１の管路相互連結面３７０と、部品相互連結面３６０に隣接し且つこれに対して垂直であり且つ第１の管路相互連結面３７０とは反対側にある第２の管路相互連結面３７２とを含む。管路相互連結面３７０の中心に対して対称的に管路ポート３７４が形成され、隣接する基部ブロックの管路接触面の間にシールを形成するように使用される窪み３７６によって囲まれている。同様に、管路相互連結面３７２の中心に対して対称的に管路ポート３７８が形成され、窪み３７９によって囲まれている。相互連結面３７０は相互連結面３７２と同一である。基部ブロック３１０に形成される第１の通路３８０は、部品ポート３６２と管路ポート３７４との間に流体連通を形成する。孤立基部ブロック３１０に形成される第２の通路３８２は、部品ポート３６４と管路ポート３７８との間に流体連通を形成する。孤立基部ブロック３１０を使用して、弁を部品相互連結面３６０に接続することによって、且つ、その弁を使用してガスが通路３８０と通路３８２との間を流れるのと妨げるかまたは可能にするかすることによって、孤立機能を与えることができる。さらに、孤立基部ブロック３１０をフロースルー機能のために使用することもでき、たとえば、以下のものに限定されるわけではないが、圧力調節器、フィルタまたは圧力変換器等のフロースルー装置が相互連結面３６０に連結され、そのため、ガスが通路３８０を通って流れ、フロースルー装置に入り、通路３８２から出る（逆の場合も同様である）。図３ｂは、本発明の第１の実施形態の上流／下流制御基部ブロック３２０（ＵＳ／ＤＳ制御）を例示する。ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０は、孤立基部ブロック３１０の部品相互連結面３６０と同一である機能部品相互連結面３６０を有する。さらに、ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０は、孤立ブロック３１０の管路相互連結面３７０、３７２と同一である第１の管路相互連結面３７０と第２の管路相互連結面３７２とを有する。ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０は、マニホルド相互連結面３９０も含み、これは、ブロック３２０の相互連結面３６０とは反対側に位置する。マニホルド相互連結面３９０の中心に対してマニホルドポート３９２およびシール窪み３９４が対称的に位置する。図３ｂに示されるように、ブロック３２０は、部品ポート３６２、管路ポート３７４、およびマニホルドポート３９２の間を流体連通する通路３８２を有する。ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０の第２の通路３８６は、部品ポート３６４と管路ポート３７８との間を流体連通する。弁が部品相互連結面３６０に取り付けられるときには、ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロックを使用して、上流制御または下流制御を行うことができる。下流制御を行うときには、ガスはポート３７４に供給される。下流制御を使用して、パージガスをパージガススティックからパージガスマニホルドへ誘導することができる。さらに、ブロック３２０を使用して、上流制御を行うことができ、ガスは管路ポート３７８を通ってブロック３２０へ供給される。上流制御を使用して、たとえば、反応チャンバに連結された出力ブロックを含むガススティックへ混合マニホルドを連結することができる。ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０は対称的であり、そのため、ガスパネル内の特定の位置で上流または下流のいずれかの制御を行うために、ブロック相互連結面３６０およびマニホルド相互連結面３９０の中心を通って形成される軸（Ｚ）に対して１８０度回転させることができると理解すべきである。図３ｃには、本発明の第１の実施形態のマニホルド制御基部ブロック３３０が示されている。マニホルド制御基部ブロック３３０は、孤立ブロック３１０の部品相互連結面と同一である機能部品相互連結面３６０を含み、孤立ブロック３１０の管路相互連結面３７０、３７２と同一である管路相互連結面３７０、３７２を含む。さらに、マニホルド制御基部ブロック３３０は、ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０のマニホルド相互連結面３９０と同一であるマニホルド相互連結面３９０を含む。マニホルド制御基部ブロック３３０は通路３８７を含む。これは、管路ポート３７４と部品ポート３６２と管路ポート３７８との間の流体連通を形成している。さらに、マニホルド制御基部ブロック３３０は、第２の通路３８８を含み、これは、部品ポート３６４とマニホルドポート３９２との間を流体連通する。弁がマニホルド制御ブロック３３０の部品相互連結面３６０に連結されるときには、マニホルド制御ブロック３３０を使用して、マニホルド通路をガススティックへ連結することができる。たとえば、マニホルド制御ブロック３３０は、パージマニホルドへ連結されるマニホルドポート３９２を有するので、マニホルド制御ブロック３３０を使用して、パージガスが管路ポート３７４、３７８に連結された部品または通路へ流れるのを可能にするかまたは妨げるかすることができる。同様に、弁マニホルド制御ブロック３３０を使用して、マニホルドポート３９２に連結されたサンプリングまたはガス抜きマニホルド通路への連結を行うことができる。図３ｄには、本発明の第１の実施形態のブラインド基部ブロック３４０が示される。ブラインド基部ブロック３４０は、孤立基部ブロック３１０の部品相互連結面３６０と同一である部品相互連結面３６０を含む。さらに、ブラインド基部ブロック３４０は、部品相互連結面３６０に隣接し且つこれに対して垂直な単一の管路相互連結面３７０を含む。管路相互連結面３７０は、孤立ブロック３１０の相互連結面３７０と同一である。ブラインド基部ブロック３４０は、部品相互連結面３６０とは反対側にあり且つこれと平行なマニホルド相互連結面３９０も含む。マニホルド相互連結面３９０は、ＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０のマニホルド相互連結面３９０と同一である。ブラインド基部ブロック３４０は、管路ポート３７４と部品ポート３６２との間を流体連通させる通路３８９と、部品ポート３６４とマニホルドポート３９２との間を流体連通させる通路３９１とを有する。弁が部品相互連結面３６０に接続されるときには、ブラインド基部ブロック３４０をガススティック内の端ブロックとして使用して、ガスがマニホルドに入るのを可能にするかまたは妨げるかすることができる。ガスがマニホルドに入るときまたはマニホルドから出るときにガスを調節するかまたは濾過するために、フィルタ、調節器または圧力変換器を基部ブロック３２０、３３０、３４０の部品相互連結面３６０に取り付けることができることに注意すべきである。基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０の管路相互連結面３７０、３７２、マニホルド相互連結面３９０および部品相互連結面３６０が対称であることによって、いずれの基部ブロックも１８０度回転させることが可能であり、ガスルーティングおよび制御において望ましい変化を達成すると理解すべきである。基部ブロック３２０、３３０、３４０に関して、ポート３６２、３６４、機能部品装着ボルト穴７１０および表面３６０上のマニホルド下装着穴７０４は、面３６０の対向する縁を二分する２つの線の各々に対して反射対称である。さらに、管路相互連結面３７０と３７２は、それぞれ面３６０と３７０または３６０と３７２に共通な縁を二分し且つそれに垂直な線に対して反射対称である。図３ｆ乃至３ｉは、本発明の第２の実施形態の４つの異なる基部ブロック３１１、３２１、３３１、３４１を示す。第２の実施形態は、２つの主要な例外はあるが、第１の実施形態に実質的に類似している。第１に、４つの基部ブロックの３つ３１１、３２１、３４１のみが同一の部品相互連結面３６１を含む。第２に、基部ブロック３１１、３２１、３４１において、部品ポート３６２、３６４は部品相互連結面３６１上に非対称に配置されている。正確に言うと、一方のポートは部品相互連結面３６１の中心に置かれ、他方のポートは管路相互連結面３７２の近くに置かれる。第２の実施形態は第１の実施形態同様、いずれの基部ブロックを二方向に組み立てることができる。すなわち、各基部ブロックはガススティックに沿っていずれかの方向へ置かれてもよい。基部ブロック３３１の部品相互連結面３１２は３つの部品ポート３３２、３３３、３３４を有する。したがって、第１の実施形態とは異なり、第２の実施形態はすべての機能部品用の万能合致面とはなっていない。基部ブロック３３１は、基部ブロック３３０（図３ｃに示される）とは異なる通路構造を有することに注意すべきことである。すなわち、基部ブロック３３１は通路３０６、３０７、３０８を有するが、基部ブロック３３０は通路３８７、３８８を有する。図３ｈに示されるように、基部ブロック３３１は、管路ポート３７４と部品ポート３３２との間を流体連通させる第１の通路３０６を有する。さらに、マニホルドポート３９２と部品ポート３３３との間を流体連通させる第２の通路３０７がある。最後の第３の通路３０８は、管路ポート３７８と部品ポート３３４との間を流体連通させる。基部ブロック３３１は、基部ブロック３３１がマニホルド制御ブロックであるという意味で基部ブロック３３０と類似である。すなわち、基部ブロック３３１は、マニホルド流体連通線の流体連通スティックへの連結を制御するために使用される。これは、１）管路ポート３７４、管路ポート３７８と機能部品との間の流体連通と、２）機能部品とマニホルドポート３９２との間の流体連通と、の両方を必要とする。しかし、基部ブロック３３１は、基部ブロック３３０とは異なり、基部ブロック３３１自体内で管路ポート３７４と管路ポート３７８との間を流体連通しない。第２の実施形態において、この連通は機能部品によって行われる。基部ブロック３３１とともに使用される機能部品の概略図は図３ｊに示される。機能部品３１３内に、基部ブロック３３１の部品ポート３３２と部品ポート３３４との間の流体連通３１６がある。これは、管路ポート３７４と管路ポート３７８との間の流体連通を行う。マニホルド流体連通線の基部ブロック流体連通スティックへの連結は、部品ポート３３３を通る流体流れを制御するダイアフラム弁３３５によって制御される。部品ポート３３３はマニホルドポート３９２と流体連通している。この技術の他の実施形態は、図３ｋに示されるように、基部ブロック３０５の窪んだキャビティ３０３内にダイアフラム弁３０２を組み込む。基本的に、機能部品３１３の一部として図３ｊに示される構造物は、簡単に基部ブロック３３１に組み込まれる。機能部品３０１は単に、ダイアフラム弁３０２の動きを制御するハウジングである。基部ブロック３３０は２ポート基部ブロックである（したがってすべての機能部品用の万能合致面を保持する）が、基部ブロック３３１は基部ブロック３３０に比較して重要な利点を有する。図３ｃに戻ると、基部ブロック３３０は、面３７０、３７２、３９０に対して傾斜した通路３８７、３８８の孔あけ掘削を必要とする。傾斜した孔あけは、基部ブロック３３０に卵形形状の開口を残し、組立が困難である（それによって製造コストが増加する）ため、あまり望ましくない。先に述べたように、基部ブロック３１１、３２１、３４１は、第１の実施形態の基部ブロック３１０、３２０、３４０と実質的に類似している。しかし、いくつかの相違点がある。基部ブロック３１１、３２１、３４１において、部品ポート３６２および部品ポート３６４は部品相互連結面３６１上に対称的には配置されない。この結果、第２の実施形態の基部ブロック３１１、３２１、３４１をそれぞれ第１の実施形態の同等物３１０、３２０、３４０に比較すると、様々な新しいチャネル通路形状３８１、３８３、３８４、３８５、３９５、３９６が生じる。具体的には、図３ｆに示されるブロック３１１は、部品ポート３６２と管路ポート３７４との間を流体連通させる通路３８１を有する。第２の通路３８３は、部品ポート３６４と管路ポート３７８との間を流体連通させる。図３ｇに示されるブロック３２１は、部品ポート３６２と管路ポート３７４とマニホルドポート３９２との間を流体連通させる通路３８４を有する。第２の通路３８５は、部品ポート３６４と管路ポート３７８との間を流体連通させる。図３ｉに示されるブロック３４１は、管路ポート３７４と部品ポート３６２との間を流体連通させる通路３９５を有し、通路３９６は、部品ポート３６４とマニホルドポート３９２との間を流体連通させる。第２の実施形態の通路３８１、３８３、３８４、３８５、３９５、３９６に関する上記の記載は、第１の実施形態の同等物に関する記載と同一であることに注意しなければならない。すなわち、各第１の実施形態と第２の実施形態の同等物の通路との間の相違は、通路の形状に限定され、その機能ではない。また、これは、第１の実施形態と第２の実施形態との主要な相違は、少なくとも基部ブロック３１０／３１１、３２０／３２１、３４０／３４１においては、単に部品ポート３６２と部品ポート３６４との位置のみであるという事実による。部品ポート３６２と部品ポート３６４とが非対称に配置されることによって、基部ブロック３１１、３２１、３４１と、様々な一体型ガスシステム機能部品供給業者から提供される既存の製品との適合が可能になる。基部ブロック３１１、３２１は、機能部品ポート３６２が部品相互連結面３６１の中心に置かれ、機能部品ポート３６４がｘ軸に沿って機能部品ポート３６２の中心から０．３１５インチ外れて置かれるように構成される。基部ブロック３４１は、機能部品ポート３６４が部品相互連結面３６１の中心に置かれ、機能部品ポート３６２がｘ軸に沿って機能部品ポート３６４の中心から０．３１５インチ外れて置かれるように構成される。ブロック３４１の部品ポートナンバー図とブロック３１１、３２１との部品ポートナンバー図との間に実際的な重大な相違はない。単に、基部ブロック３４０と基部ブロック３４１との機能および通路構造物を記載するのに使用される同一の文言を保持するために相違が存在するだけである。したがって、本発明の２つの異なる実施形態を表す４つの基部ブロック（３１０／２０／３０／４０および３１１／２１／３１／４１）の２つのセットがある。本明細書の残りは本発明の残りの部分を検討する。すなわち、今後記載される部品は、第１の実施形態の基部ブロックセットまたは第２の実施形態の基部ブロックセットのいずれかとともに動くことができる。簡略化のために、本発明の残りの部分の大半は第１の実施形態の基部ブロックのセットのみを参照する。しかし、本発明の残りの部分において、基部ブロック３１１、３２１、３３１、３４１は、それぞれ、基部ブロック３１０、３２０、３３０および／または３４０が言及された場合はどこでも交換可能に読むことができると理解すべきものである。本発明の２つのマニホルドブロックが図５ａ、５ｂに示される。マニホルドブロックは、基部ブロック３２０、３３０、３４０のマニホルド相互連結面３９０に整列して、それに合致し、個別のガススティックまたは管路にガス連通を提供する。図５ａは、フロースルーマニホルドブロック５１０を示す。フロースルーマ二ホルドブロック５１０は、基部ブロック３２０、３３０、３４０のマニホルド相互連結面３９０に合致して、それに整列する基部相互連結面５５０を含む。基部ポート５５２が基部相互連結面５５０の中心に対して対称的に形成される。シールするための窪み５５４が基部ポート５５２に対して対称的に形成される。フロースルーマニホルド５１０は、基部相互連結面５５０に隣接し且つこれに対して垂直なマニホルド相互連結面５５６を含む。マニホルド相互連結面５５６は、マニホルド相互連結面５５６の中心に対して対称的に位置決めされるマニホルドポート５５８を有する。シールのための窪み５６０がマニホルドポート５５８に対して対称的に形成される。フロースルーマニホルド５１０は、マニホルド相互連結面５５６とは反対側にあり且つこれと平行な第２のマニホルド相互連結面５６２も含む。マニホルドポート５６４はマニホルド相互連結面５６２の中心に対して対称的に形成される。窪み５６６がマニホルドポート５６４に対して対称的に形成される。マニホルド相互連結面５６２はマニホルド相互連結面５５６と同一である。単一の通路５６８が、マニホルドポート５５８と基部ポート５５２とマニホルドポート５６４との間を流体連通させる。図５ｂは、本発明のエルボマニホルドブロック５２０を示す。エルボマニホルドブロック５２０は、フロースルーマニホルドブロック５１０の基部相互連結面５５０と同一である基部相互連結面５５０を含む。さらに、エルボマニホルドブロック５２０は、基部相互連結面５５０に隣接し且つこれに対して垂直なマニホルド相互連結面５６２を含む。エルボマニホルドブロック５２０のマニホルド相互連結面５６２は、フロースルーマニホルド５１０のマニホルド相互連結面５６２と同一である。単一の通路５７０が、基部ポート５５２と管路ポート５６４との間を流体連通させる。図５ａ、５ｂに示されるマニホルドブロックは、機能ガスパネルを建造するのに必要な最小限のブロックである。しかし、用途により使用を容易にするために、さらなるマニホルドブロックを基本の２つのマニホルドブロックセット（フロースルーマニホルドブロック５１０およびエルボマニホルドブロック５２２）に加えてもよい。これらの追加または任意のマニホルドブロックは、基本的に、２つの基本マニホルドブロックの頻繁に繰り返される集合であり、単一のより大きな基部ブロックに組み込まれる。３つの任意のマニホルドブロックの概略図が図５ｃ、５ｄ、５ｅに示される。図５ｃは、フロースルーマニホルドブロック５１０とエルボマニホルドブロック５２０とを連結して単一のマニホルドブロック５３０に組み込んだものを示す。単一のマニホルドブロック５３０は、単一の一体のブロックであり、中間部５３１内にいずれのポート連結構造物を有さない。同様に、図５ｄのマニホルドブロック５４０は、フロースルーマニホルドブロック５２０を２つの連結したものである。図５ｃ、５ｄの両方のマニホルドブロック５３０、５４０は、図５ａ、５ｂのマニホルドブロック５１０、５２０の長さの２倍である。最後に、図５ｅは、単純な真っ直ぐなスルー機能を提供する最後の任意のマニホルドブロック５５０を示す。各マニホルドブロックは、マニホルドブロックを一緒に取り付けるための万能合致面とするために、同一のマニホルド相互連結面を含むことが理解されるべきである。すなわち、各マニホルドブロックは、マニホルドブロックを一緒に取り付けるためのポート、シール機構、およびスルーホールの同一配置を有するマニホルド相互連結面を含む。さらに、各マニホルドブロックは、マニホルドブロックを基部ブロックに取り付けるための万能合致面となる、同一の基部ブロック相互連結面を有する。すなわち、各マニホルドは、基部ブロックに取り付けるためのポート、シール機構、およびスルーホールの同一配置を有するマニホルド相互連結面を含む。第１の実施形態の基部ブロックの重要な態様は、これらの基部ブロックの部品相互連結面に取り付けられる部品は、同一の基部相互連結面を有するという事実である。すなわち、各機能部品は同一の底面を有する（すなわち、ポート、シール機構、および部品装着穴の同一配置を有する相互連結面を有する）。基部ブロックの第２のセットに関しては、基部ブロック３１１、３２１、３４１に取り付けられる機能部品は同じ底面を有する。このようにして、第２の実施形態のマニホルド制御基部ブロック３３１を除いて、特定の実施形態に関連する機能部品をいずれの基部ブロックにも連結することができる。各機能部品を共通の底面とするために、各機能部品は、ポート４６２、４６４、シール窪み、および基部ブロック装着スルーホール７１２の同一配置を備えた同一の基部ブロック相互連結面４６０を含む移行接触部を有する。相互連結面４６０は、実質的に平坦であることが好ましい。移行接触部は、機能部品の特定の入力および出力構成を基部ブロック相互連結面４６０のポートに配置変えする入力および出力通路を提供しているのみである。図４は、本発明のガスパネルに使用することができる本発明の機能部品を例示する。たとえば、図４は、基部ブロック相互連結面４６０を有する移行接触部４１２に装着される公知の空気ダイヤフラム弁４１０と、基部ブロック相互連結面４６０を備えた移行接触部４２２に装着される公知の手動ダイヤフラム弁４２０と、基部ブロック相互連結面４６０を有する移行接触部４３２に装着される公知のガス調節器４３０と、基部ブロック相互連結面４６０を有する移行接触部４４２に装着される公知のフィルタ４４０と、基部ブロック相互連結面４６０を備えた移行接触部４５２に装着される公知の圧力変換器４５０とを示す。移行接触部４１２、４２２、４３２、４４２、４５２の２つの異なるセットが存在することは明らかである。使用されるセットは、いずれの基部ブロック実施形態が選択されるかに依存する。移行接触部を初めとする本発明の機能部品は、支流通路または横方向通路等の機能ルーティングを含まないことが強調されるべきである。ガスを部品の内部作業箇所に出し入れする単純な入力および出力通路を含むのみである。すなわち、ガスのポートまたはルーティングは、その自己の機能性のためにいずれの機能部品に対しても固有である一方、本発明の機能部品は、基本ガス管路、すなわちスティック管路または横方向マニホルドのいずれかを形成するために使用されたり依存されたりすることはない。本発明の基本管路は、基部ブロックおよびマニホルドブロックによって形成される。本発明によると、基部ブロックはマニホルドブロックへ装着され、機能部品は基部ブロックへ装着される。各基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０は、基部ブロックの周辺に形成されて、マニホルドブロック５１０、５２０に形成されるねじ山を切ったねじ穴７０２に整列する４つのボルトスルーホール７００を含む。ねじがねじ穴７００、７０２を通って配置されるときには、マニホルドブロックの基部ポート５５２は基部ブロックのマニホルドポート３９２に整列する。座ぐりフライスまたは逃げ溝７０４が基部ブロックに形成され、ねじ頭を部品相互連結面３６０の下へ入れることが可能になる。さらに、部品装着ねじ穴７１０が各基部ブロックの各隅に設けられる。さらに、基部ブロックに形成された部品装着ねじ穴７１０に整列する複数の穴７１２が各機能部品の各相互連結面４６０に形成される。ねじが穴７１２を通って対応する部品装着ねじ穴７１０内に配置されると、基部ブロックの部品ポート３６４、３６２は、部品接触部の基部ポート４６４、４６２に整列する。ガススティックの個別の基部ブロックがボルト締めによって一緒に取り付けられる。各基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０は、各対向する相互連結面の間に延びる２つのスルーホール７２２を含む。ボルトが各スルーホール７２２を通って配置されるときには、管路ポートは隣接する基部ブロックの管路ポートに整列する。同様に、２つのスルーホール７２４が各マニホルドブロック５１０、５２０を通って形成され、マニホルドブロックの互いに対するボルト締めを可能にし、共通のマニホルドまたは通路を形成する。ボルトがスルーホール７２４を通って配置されるときには、隣接するマニホルドブロックのマニホルドポートが整列する。マニホルドブロックは、基部ブロックのボルト締めと直角方向にボルト締めされることが理解されるべきである。マニホルドブロックは、１９９７年７月１１日に出願され、本願の譲受人に譲渡された米国特許出願第０８／８９３，７７３号「一体型ガスパネル用装着平面（Mounting Plane For Integrated Gas Panel）」に提供された記載による平面に取り付けることができる。本発明の基部ブロックとマニホルドブロックとは、各々単一のステンレス鋼の６面ブロックであることが好ましい。基部ブロックは、ガスルーティング用の０．１８８インチの孔あけした通路を有し、マニホルドブロックは、ガスルーティング用の０．２５インチの孔あけした通路を有する。高流れ状況に対しては、０．２５インチ通路を備えた基部ブロックとすることが望ましい。すべての湿潤表面またはガス露出面は、電解研磨されて腐蝕を防ぎ、表面領域の減少および付随したガス吸着を通して超クリーン環境を提供する。さらに、ブロックのすべての相互連結面は実質的に平坦であり、機械加工されて０．００１乃至０．００３インチの間の平面度の表面が得られる。平坦な表面は、機械加工されるかまたはエンボスされ、６４ＲＡまたはそれより大きい（より粗い）均一な表面仕上げとし、摩擦係数を上げ、したがって一緒にボルト締めまたは圧縮されるときに、平坦な表面の総摩擦力を増加し、アセンブリの機械的保全性を与える。例示目的のために、本発明のブロックは逆に例示されており、孔あけされたホールおよび通路は黒い中実特徴部として示され、中実ブロック特徴部は透明に示されている。本発明の好適な実施形態において、基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０は、各々１．５×１．５インチの部品相互連結面３６０（Ｘ×Ｙ）および０．６×１．５インチ（Ｚ×Ｙ）の管路相互連結面３７２、３７０を有する。部品装着穴７１０は直径０．１６４インチのねじ山を切った穴であり、その中心が、相互連結面３６０の中心に対して位置決めされた１．２３×１．２３インチの正方形の隅に位置する。さらに、ボルトスルーホール７００も直径０．１６４インチであり、相互連結面３６０の中心に対して位置決めされた１．２３０×０．５３３インチの矩形（Ｙ×Ｘ）の隅に位置する。最後に、図３ａ乃至３ｅに示されるスルーホール７２２は直径０．２０３インチであり、管路相互連結面３７２、３７４の水平中央線上に０．８５１インチ離れて位置決めされる。本発明の好適な実施形態において、マニホルドブロック５１０、５２０は、各々１．４４０×１．７０（Ｘ×Ｙ）の基部ブロック相互連結面５５０および１．４４×０．６０（Ｘ×Ｚ）マニホルド相互連結面５６２、５５６を有する。ねじ山を切った穴７０２は、直径０．１６４インチであり、基部ブロック相互連結面５５０に対して対称的に位置決めされた０．５３３×１．２３（Ｘ×Ｙ）インチの矩形の隅に対称的に位置決めされる。さらに、スルーホール７２４は、図５ａ、５ｂに示されるように対称的であり、マニホルド相互連結面５５６、５６２の水平中央線上に１．０インチ離れて位置決めされる。本発明によると、部品と基部ブロックとの間、隣接する基部ブロック同士の間、基部ブロックとマニホルドブロックとの間、および隣接するマニホルドブロック同士の間のポートのシールは、公知の「Ｃ」シール金属圧縮シールを使用して実施することができる。図７は、２つの基部ブロックの管路相互連結面３７０、３７２の間に形成される公知の金属「Ｃ」シールを例示する。そのような場合、たとえばステンレス鋼かまたはニッケル製の円形適合金属ガスケット７７７が、各ポート３７４、３７８の周りに形成された窪み３７６、３７９内に配置される。ガスケット７７７は次いで窪み内で隣接するポートの周りに圧縮され、接合ブロックがボルト締めされるかまたは一緒にねじ止めされるときに、真空圧力密封を形成する。そのような圧縮シールで、シール機構は各ブロックに対して一体となる。本発明の圧縮シールは、拡張部または溶接中間面を必要としない。さらに、各窪み内で各ポートを囲繞するリッジまたは突起物（「ナイフエッジ」等）を含むことが望ましく、そのためブロックはガスケット内に包埋され、シールの保全性をさらに高める。金属圧縮「Ｃ」シールは、隣接するポートを一緒にシールするための１つの方法である。ナイフエッジシール、ＶＣＲ型シール、または、シール表面の間で適合した金属要素が圧縮され、真空から３０００psi作用ガス圧力までの１×１０^- ¹⁰ sccsヘリウム漏れ止め動作が可能なすべての金属シールを達成する類似のシール等の他の適切且つ信頼のおけるすべての金属シール技術を使用してもよい。図８ａ、８ｂは、隣接する基部ブロック同士の間、隣接する基部ブロックとマニホルドブロックとの間、および隣接するマニホルドブロック同士の間のポートをシールするための別の実施形態を示す。図８ａ、８ｂは、２つの基部ブロック８０１、８０２を示す。図８ａ、８ｂには、２つの管路ポートのみが示されているが、この実施形態は、マニホルドをマニホルドへ、およびマニホルドを基部ブロック連結へも適用可能である。各基部ブロック８０１、８０２は、管路相互連結面８０８に中心をおいた管路ポート８０３を有する。管路ポート８０３は、円筒形キャビティ８０４と、トロイド８０５と、２つの基部ブロックの間で共有されるＶＣＲガスケット８０６とを有する。ＶＣＲガスケット８０６は、基部ブロックが一緒に圧縮されるときに各基部ブロック８０１、８０２のトロイド８０５の表面に適合するＮｉ等の可鍛性材料から製造される。これは、ブロック８０１、８０２の間のシールの保全性を改善する。剪断円筒８０７は、トロイド８０５の周りに且つ両方のブロック８０１、８０２の円筒形キャビティ８０４内に合致する。剪断円筒８０７は、一般にステンレス鋼等の硬材料から製造される。剪断円筒８０７は、ｙｚ平面における一方のブロックの他方のブロックに対する相対運動を妨げる。そのような運動は、もし起こるとすれば、２つのトロイド８０５の間にあるＶＣＲガスケット８０６を圧縮することによって形成されたシールの保全性を破壊する。このようにして、ブロック８０１、８０２の間のシールの信頼性を改善する。図６ａは、基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０と、マニホルドブロック５１０、５２０とを連結して相互連結することによって形成されるガスパネル６００用の管路およびマニホルドルーティングマトリックスの例である。図６ｂは、機能部品が各基部ブロックの部品相互連結面３６０に取り付けられたときのガスパネル６００の概略図である。図６ａは、５つの異なるガススティックＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅを有するガスパネルを示す。各ガススティックは、図６ａに示されるように、Ｘ軸に沿って隣接する基部ブロックの管路相互連結面を連結することによって形成される。第１のガススティックＡは、Ｎ₂等のパージガスをシステムに供給する。第２のガススティックＢは、以下のものに限定されるわけではないが、ＳｉＨ₄、ＢＣｌ₃、またはＨＣｌ等の有毒ガスまたは腐蝕ガスをガスパネル６００に供給し処理する。第３のガススティックＣも、有毒ガスまたは腐蝕ガスをガスパネル６００に供給し処理する。第４のガススティックＤは、以下のものに限定されるわけではないが、ヘリウムまたはアルゴン等の不活性ガスをガスパネル６００に供給し処理する。第５のガススティックＥは、第２の不活性ガスをガスパネル６００に供給し処理する。パージガススティックＡは、列１に、孤立弁６０２を備えた孤立基部ブロック３１０と、列２に、圧力変換器６０４を備えた孤立基部ブロック３１０と、列３に、下流制御位置に配置された空気ダイアフラム弁６０６を備えたＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０と、列４に、圧力変換器６０８を備えた孤立基部ブロック３１０と、列５に、空気ダイアフラム孤立弁６１２を備えたマニホルド制御基部ブロック３３０と、列７に、パージガスを混合マニホルドに連結するための空気孤立弁６１４を備えたマニホルド制御ブロック３３０と、列８に、真空孤立用の空気孤立弁６１６を備えた孤立基部ブロック３１０と、を具備する。有毒ガススティックＢは、列１に、締め出しタグアウト（Lock-out，Tag-out ）（ＬＯＴＯ）のための手動ダイアフラム弁６２０を備えた孤立基部ブロック３１０と、列２に、空気孤立弁６２２を備えた孤立基部ブロック３１０と、列３に、空気孤立弁６２４を備えたマニホルド制御基部ブロック３３０と、列４に、圧力調節器６２６を備えた孤立基部ブロック３１０と、列５に、圧力変換器６２８を備えた孤立基部ブロックと、列６に、フィルタ６３０を備えた孤立基部ブロック３１０と、列７に、空気弁６３４を備えた上流制御位置にあるＵＳ／ＤＳ制御基部ブロック３２０と、列８に、混合マニホルドから反応チャンバを孤立させるための空気孤立弁６３６を備えた孤立基部ブロック３１０と、を具備する。有毒ガススティックＣは、列１に、締め出しタグアウト（Lock-out，Tag-out ）（ＬＯＴＯ）のための手動ダイアフラム弁６３８を備えた孤立基部ブロック３１０と、列２に、空気孤立弁６４０を備えた孤立基部ブロック３１０と、列３に、空気孤立弁６４２を備えたマニホルド制御基部ブロック３３０と、列４に、圧力調節器６４４を備えた孤立基部ブロック３１０と、列５に、圧力変換器６４６を備えた孤立基部ブロックと、列６に、フィルタ６４８を備えた孤立基部ブロック３１０と、列７に、空気弁６５２を備えたブラインド基部ブロック３４０と、を具備する。不活性ガススティックＤは、列３に、空気弁６５４を備えた孤立基部ブロック３１０と、列４に、圧力調節器６５６を備えた孤立基部ブロック３１０と、列５に、圧力変換器６５８を備えた孤立基部ブロック３１０と、列６に、フィルタ６６０を備えた孤立基部ブロックと、列７に、空気孤立弁６６４を備えたブラインド基部ブロック３４０と、を具備する。不活性ガススティックＥは、列３に、空気弁６６６を備えた孤立基部ブロック３１０と、列４に、圧力調節器６６８を備えた孤立基部ブロック３１０と、列５に、圧力変換器器６７０を備えた孤立基部ブロック３１０と、列６に、フィルタ６７２を備えた孤立基部ブロックと、列７に、空気ダイアフラム孤立弁６７６を備えたブラインド基部ブロック３４０と、を具備する。ガスパネル６００は、列７に、マニホルドブロックをマニホルド接触面５５６、５６２を（Ｙ軸に沿って）取り付けることによって形成される共通混合マニホルド６８０を含む。個別のガススティックＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは、列７の基部ブロックのマニホルド相互連結面３９０をマニホルド基部ブロック５１０、５２０の基部相互連結面５５０に取り付けることによって、共通混合マニホルド６８０に連結され、そのためそれらは流体連通している。混合マニホルド６８０は、ガススティックＡに取り付けられたエルボマニホルドブロック５２０と、ガススティックＥに取り付けられたエルボマニホルドブロック５２０と、ガススティックＢ、Ｃ、Ｄに取り付けられたフロースルーマニホルドブロックと、を具備する。混合マニホルド６８０のマニホルドブロックは一緒に、基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０の取付方向を横切る方向に取り付けられると理解されるべきである。ガスパネル６００は、列３に、マニホルドブロック５２０、５１０、５２０を一緒にマニホルド相互連結面５５６、５６２をガスパネル６００のＹ軸に沿って連結することによって形成されるパージガスマニホルド６９０を含む。パージガスマニホルド６９０は、ガススティックＡに取り付けられたエルボマニホルドブロック５２０と、ガススティックＢに連結されたフロースルーマニホルドブロック５１０と、ガススティックＣに連結されたエルボマニホルドブロック５２０と、を具備する。ガススティックＡ、Ｂ、Ｃは、ガススティックＡ、Ｂ、Ｃの列３の基部ブロックのマニホルド相互連結面３９０を、それぞれ、マニホルドブロック５２０、５１０、５２０の基部相互連結面に取り付けることによって、パージマニホルド６９０に連結され、そのためそれらは流体連通している。不活性ガスは一般にパージを必要としないため、パージガスマニホルド６９０はガススティックＤ、Ｅには延びていないと理解されるべきである。しかし、所望により、列３のスティックＤ、Ｅの孤立ブロックを列２へ動かして、マニホルド基部ブロック３３０を列３に配置しマニホルドブロックをその下に配置することによって、ガススティックＤ、Ｅをパージマニホルド６９０に容易に連結することができる。当然ながら、ガススティックＣの下にある列３のブラインドマニホルドブロック５２０は、フロースルーマニホルド５１０に交換される。図６ａに示されるように、列６および列７の基部ブロックの外側管路相互連結面に、ブリッジ基部ブロック８００が取り付けられる。ブリッジ基部ブロック８００によって、標準マスフロー制御器をガスパネル６００に連結することが可能になる。ブリッジ基部ブロック８００は図３ｅに示され、ＭＦＣ相互連結面８０２を含む。ポート８０４がＭＦＣ相互連結面８０２の中心に対して対称的に位置決めされ、シールのための窪み８０６がポート８０４の中心に対して対称的に形成される。ブリッジ基部ブロック８００は、基部ブロック３１０、３２０、３３０、３４０の管路相互連結面３７２に同一である管路相互連結面３７２も含む。通路８０８は、ＭＦＣポート８０４と管路ポート３７８との間を流体連通させる。さらに、ブリッジ基部ブロック８００は、隣接する基部ブロックをボルト締めするためのスルーホール７２２を含む。図４に示されるＭＦＣ４５５等の標準ＭＦＣを、特定のガススティックのブリッジ基部ブロック８００に連結することができる。ＭＦＣ４５５は、ブリッジブロック８００のＭＦＣ相互連結面８０２に合致しこれに整列する入力相互連結面４７２を含み、且つブリッジブロック８００のＭＦＣ相互連結面８０２に合致しこれに整列する出力相互連結面４７４を含む。位置的に整列したブリッジブロック８００のねじ山を切ったスルーホール８１０と接触面４２２、４７４のスルーホール８１２とが、ブリッジブロック８００へＭＦＣ４５５を取り付けるために設けられる。標準ＭＦＣをガスパネル６００に連結するためにブリッジブロック８００とＭＦＣ接触面とを使用する代わりとして、標準ＭＦＣの機能を、フロー制御弁とフローメーターとの別個の機能に分割することができる。このようにして、２つの孤立ブロックをガススティックの列６と列７との間に連結することができ、フロー制御弁とフロー制御メーターとは各々基部ブロックに連結される。フロー制御弁とフローメーターとの間で電気制御を行うことによって、ブリッジブロックを使用せずにＭＦＣの機能をガスパネルに含むことが可能である。たとえば、パージガススティックＡの列５と列７との間のルーティング８５０のように、管路ルーティングが望まれるが基部ブロックが用意されていない場所において、ブリッジ基部ブロック８００を使用して、そこに形成される管路を有するキャッピングアセンブリをガスパネルに取り付けることができる。あるいは、図２に示されるように、連続して連結された孤立基部ブロック３１０を使用して管路を形成することができる。そのような場合、キャッピングプレートを、孤立基部ブロックに装着して、部品ポート３６２と３６４との間を流体連通させることができる。たとえばＶＣＲ接続を含む端プレートをガスパネルの入力面ブロックおよび出力面ブロックの外側の面に取り付けることによって、ガスパネル６００への外部接続をすることができる。たとえば、ガスパネル６００にガスを入れるために、端プレートを、ガススティックＡ、Ｂ、Ｃの列１の基部ブロックの外側管路相互連結面３７０に取り付けることができ、ガススティッＤ、Ｅの列３の基部ブロックの管路相互連結面３７０に取り付けることができる。次いで、ステンレス鋼チューブを、たとえばガスパネル６００から遠くに位置するボンベのバンク等のガス源からガスパネル６００へガスを送るためにＶＣＲ接続に連結することができる。同様に、ガスパネル６００からガスを出すために、ガスパネル６００を高純度ステンレス鋼チューブによってそれぞれ真空源および反応チャンバまたは処理チャンバへ連結するために、端プレートを列８のガススティックＡ、Ｂの基部ブロックの外側管路相互連結面３７２に取り付けることができる。基部ブロックの入力方向および出力方向を横切った方向でガスパネル６００へガスを入れまたはガスパネル６００からガスを出すことができるように、同様の端プレートをガススティックＡの列５のマニホルドブロック５２０へ連結することができる。端プレート５６０、５７０を、それぞれ図５ｆ、５ｇに示す。本発明は２つの型の端プレートを使用し、すなわち、１）ガススティックまたはマニホルド通路５６１と外部接続５６２との間に真っ直ぐなスルー接続を有する図５ｆに示される真っ直ぐなスルー端プレート５６０と、２）ガス通路で９０度回転し、そのため、ガススティックまたはマニホルド通路５６１のガスの流れと外部接続５６２のガスの流れとが互いに直角である、図５ｇに示されるエルボ端プレート５７０と、である。エルボ端プレート５７０の好適な実施形態は、外部システムを端プレートの（いずれかの側面ではなく）上部５７１に連結する。各端プレートの一方のポートは、ガススティックまたはマニホルド通路に沿ってすべてのブロックに共通なポート接触面であり、各端プレートの他方のポートは、外部システムへ適切に連結することができる業界標準取付部品である。図６ａに示されるように、基部ブロックが一緒に取り付けられて、ガスが一般に第１の方向または第１の軸（Ｘ軸）に沿って流れる共通の管路または通路を形成する。さらに、マニホルドブロックが一緒に取り付けられて、連結された基部ブロックを通るガスの流れに対してガスが横方向または垂直方向（Ｙ軸）に流れる共通の通路を形成する。マニホルドブロックと基部ブロックとを適切に連結することによって、所望によりガスをガスパネル内のいずれの場所へも送ることができる。さらに、基部ブロックとマニホルドブロックとが適切に組み立てられるときに、これらのブロックはガス制御パネルに必要なすべてのガス管路を形成し構成し、一方機能部品は、共通接触面３６０を通って、たとえば、濾過、調節、ガス抜き等の望まれている機能性を与える目的のためのみに接触面３６０でガス路を完成すると理解されるべきである。一般に、本発明のブロックから形成されるガスパネルは、半導体設備製造等の高精度且つ複雑なガス制御が必要な製造設備の一部に組み入れられる。本発明は、理想的には、以下のものに限定されるわけではないが、たとえば、気相成長（ＣＶＤ）反応炉、反応性イオンエッチャー（ＲＩＥ）、イオンインプランター等の半導体設備に使用されることが適切である。本発明のガスパネルは、理想的には、超クリーンガスが必要であり、且つガスの流れおよび混合が正確に制御されなければならないマイクロプロセッサおよびＤＲＡＭＳ等の高密度半導体集積回路の製造に使用されることが適切である。一般的な製造工程において、ガスパネル６００を使用して、ガスまたはガスの混合物を反応チャンバに提供する。操作モードにおいて、孤立弁６０２、６２０、６３８、６５４、６６６、６２２、６４０が開くことができ、一方、ガススティックＢ、Ｃのそれぞれのパージ弁６２４、６４２、および弁６０６は閉じ、サンプル弁６１２、真空弁６１６および弁６１４も同様である。このようにして、ガスはそれぞれのガススティックを流れ（すなわち、取り付けられた基部ブロックを通って流れ）、圧力はモニターされ、調節され、ガスは濾過され、流量が制御される。ガス混合物に含まれるべきこれらのガスの混合孤立弁６３４、６５２、６６４、６７６は開き、そのため、それらは混合マニホルド６８０内へ流れることができる。それぞれのガススティックからのガスは、連結された基部ブロック内の流れの方向に対して横方向にある連結されたマニホルドブロックを通って流れる。混合マニホルド６８０内のガス混合物は、次いでチャンバ孤立弁６３６を通って反応チャンバへ流れ、そこでデバイスを処理するために使用することができる（たとえば、フィルムを蒸着する、フィルムをエッチングする、等）。安定した状態の流れを得るために、ガスを反応チャンバに流れさせる前にガスまたはガス混合物を最初にガス抜きすることが一般に望ましい。ガスパネル６００をガス抜きするために、ガスパネル６００は、チャンバ孤立弁６３６が閉じ、真空弁６１６、弁６１４が開いたままとされることを除いて操作モードに置かれる。このようにして、ガスは、安定した流量が得られるまで個別のガススティックから混合マニホルド６８０内へ供給され、真空弁６１６を通って真空源へ出て行く。ガスパネル６００のガススティック、部品およびマニホルド有毒または腐蝕ガスをパージするために、孤立弁６２２、６４０は閉じる。チャンバ孤立弁６３６および弁６０６も同様である。パージする対象のこれらのガススティックのパージ弁６２４、６４２および混合弁６３４、６５２は開き、真空弁６１６、６１４も同様である。このようにして、パージガスは、ガススティックＡの基部ブロックを通って流れ、パージガスマニホルド６９０内に入る。パージガスは、次いで、連結された基部ブロック（ガススティック）を通るガスの流れに対して横方向に、取り付けられたマニホルドブロックを通り、それぞれパージガス弁６２４、６４２を通ってガススティックＢ、Ｃに入る。パージガスは、次いで、それぞれのガススティックおよび取り付けられた部品を通って流れる。パージガスは、次いで、混合弁を通って流れ、混合マニホルド６８０に入り、弁６１４および真空弁６１６から出て真空源へ行く。パージはこのようにして、粒子または汚染が所望のレベルヘ減じるまで続けられる。汚染物またはガス濃度のためにガス混合物をサンプリングすることが望ましいこともある。そのような場合、サンプルは、ガススティックＡの列５にある基部ブロック３３０に取り付けられたエルボマニホルドブロック５２０に連結された外部接続を通してガスパネル６００から取ることができる。ガスパネル６００からガスをサンプリングするために、ガスパネル６００は操作モードに置かれるが、チャンバ孤立弁６３６は閉じられ弁６１４が開けられる。さらに、サンプル孤立弁６１２も開いている。このようにして、ガスはそれぞれのガススティックを通り、弁６１４を通って混合マニホルド６８０に入り、ガススティックＡの管路８５０へ行き、サンプル弁６１２から出る。さらに、ガススティックＡの列５にあるマニホルドブロック５２０は、ヘリウム漏れ検出器に連結することができ、孤立弁の適切な操作で、設置および後の維持シール保全性テストを形成することができる。さらに、図６ａ、６ｂに示されるように、マニホルドブロックを使用して、基部ブロックに作られた入力および出力接続に対して横方向にあるガスパネルのための外部の入力および出力接続を行うことができることに注意すべきである。このようにして、本発明のガスパネルは、システムおよび設備へ取り付けるための適応性を提供する。このようにして、一緒に連結されて、高純度で複雑なガスパネルおよびシステムを容易に構成することができる基部ブロックとマニホルドブロックとの新規セットが述べられている。本発明の組立ブロックはガスパネルを設計して製造するのに必要な時間を大幅に減少する。本発明のブロックを組み込むことによって、低減した汚染レベルが必須である「超クリーン」製造設備に使用されることが理想的である溶接がなくチューブのないガスパネルを製作することができると理解されるべきである。さらに、図６ａに示される例から容易に明らかであるように、本発明の基部ブロックとマニホルドブロックとはガスパネルのすべてのガスルーティングを提供する。すなわち、すべての機能通路ルーティングが基部ブロックおよびマニホルドブロックで行われる。単純な入力および出力以外、機能部品またはその移行接触部で機能ルーティングは行われない。このようにして、本発明の基部ブロックとマニホルドブロックとは一緒に組み合わせて、機能部品の相互連結ためのすべての機能ルーティングを提供する。個別の基部ブロックの各々のポートおよびルーティングが具体的に設計されるため、他の基部ブロックと組み合わされるときに、最大の適応性が提供され、最小限の数の異なるブロックを使用して最大数の異なるガスパネルを構成する。異なるガスパネルを構成するのに必要な異なるブロックの数を減少することによって、在庫コストを大幅に減少する。さらに、基部ブロックとマニホルドブロックとが対称的な性質であるため、各ブロックを二方向に使用することが可能であり、それによって機能性が増加する。さらに、本発明の基部ブロックの通路とスルーホールとの特定の設計および配置が、各ブロックの機能性を最大限にする一方、ブロックサイズを最小限にし、それによって、減少したまたは最小限の底面積および連行容量で高密度のガスパネルを構成することが可能である。さらに、機能部品を本発明の基部ブロックに取り付けることによって、基部ブロックおよびマニホルドブロックの取付の保全性に影響を与えず、修理または交換のために各機能部品を容易に取り外すことができる。本発明のブロックの新規セットは、ガスパネルの設計、建造、維持、修理および再構成を大いに簡略化する。このように、溶接がなくチューブのないガスパネルの適応性のある構成が可能であるブロックの新規セットが記載された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者シュースター，リチャード・イーアメリカ合衆国・95035・カリフォルニア州・ミルピタス・ラグーナドライブ・ 313 (72)発明者エリオット，ブレントアメリカ合衆国・95014・カリフォルニア州・カッパチーノ・リバーサイドドライブ・22353

Claims

【特許請求の範囲】１．複数の相互連結されたブロックを具備するガスパネルであって、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートを前記第３のポートに連結する第１の通路と、前記第２のポートを前記第４のポートに連結する第２の通路と、を具備する第１のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、前記第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第４の面に形成される第５のポートと、前記第１のポートを前記第３のポートに連結する第１の通路と、前記第２のポートと前記第４のポートと前記第５のポートとを連結する第２の通路と、を具備する第２のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポート、第２のポートおよび第３のポートであって、第２の位置関係を有する第１のポート、第２のポートおよび第３のポートと、前記第２の面に形成される第４のポートと、前記第３の面に形成される第５のポートと、前記第４の面に形成される第６のポートと、前記第５のポートと前記第３のポートとを連結する第１の通路と、前記第６のポートと前記第２のポートとを連結する第２の通路と、前記第４のポートと前記第１のポートとを連結する第３の通路と、を具備する第３のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、前記第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第４の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートと前記第３のポートとを連結する第１の通路と、前記第２のポートを前記第４のポートに連結する第２の通路と、を具備する第４のブロックと、を具備するガスパネル。２．第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第１のポートを前記第２のポートに接続する通路と、を具備する第５のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。３．第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第３の面に形成される第３のポートと、前記第１のポートと前記第２のポートと前記第３のポートとを接続する通路と、を具備する第６のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。４．第１の面と、第２の面であって、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第１のポートを前記第２のポートに接続する通路と、を具備する第７のブロックであって、前記第７のブロックの前記第１の面は前記第５のブロックの前記第１の面よりも大きな表面積を有する第７のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。５．前記第１のブロックの前記第１の面と、前記第２のブロックの前記第１の面と、前記第４のブロックの前記第１の面とは同一である請求項１記載のガスパネル。６．前記第１のブロックの前記第２の面および前記第３の面と、前記第２のブロックの前記第２の面および前記第３の面と、前記第３のブロックの前記第２の面および前記第３の面とはすべて同一である請求項１記載のガスパネル。７．前記第１のポート構成は前記第１のブロックの前記第１のポートと前記第２のポートとをさらに含み、前記第２のブロックの前記第１のポートおよび前記第２のポートと、前記第４のブロックの前記第１のポートおよび前記第２のポートとは、前記第２のポートが前記第１の面の中心に置かれ且つ前記第１のポートが前記第２のポートの中心から０．３１５インチ外れて置かれるように位置決めされる請求項１記載のガスパネル。８．前記第１のブロックの前記第３のポートおよび前記第４のポートと、前記第２のブロックの前記第３のポートおよび前記第４のポートと、前記第３のブロックの前記第４のポートおよび前記第５のポートとは、それぞれ前記第２の面および前記第３の面に対して、各々対称的に位置決めされる請求項１記載のガスパネル。９．第１の端プレートをさらに具備し、前記第１の端プレートはガススティックまたはマニホルド通路に連結され、前記第１の端プレートは、前記ガススティックまたはマニホルド通路を外部ガスシステムへ真っ直ぐに直通連結する請求項 1記載のガスパネル。１０．第２の端プレートをさらに具備し、前記第２の端プレートはガススティックまたはマニホルド通路に連結され、前記第２の端プレートは、前記ガススティックまたはマニホルド通路を外部ガスシステムへ直角に連結する請求項１記載のガスパネル。１１．第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートと前記第２のポートと前記第４のポートとを接続する通路と、を具備する第８のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。１２．第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートと前記第２のポートと前記第３のポートと前記第４のポートとを接続する通路と、を具備する第９のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。１３．第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第２の面に形成される第１のポートと、前記第３の面に形成される第２のポートと、前記第１のポートと前記第２のポートとを接続する通路と、を具備する第１０のブロック、をさらに具備する請求項１記載のガスパネル。１４．２つの組立ブロックの間に流体連通シールを形成するためのポート構造物であって、２つの組立ブロックの間の連結領域で、前記組立ブロック同士の間の流体連通シールの保全性を改善する要素と、前記組立ブロック同士の間の流体連通シールの信頼性を改善する要素と、を具備するポート構造物。１５．前記組立ブロック同士の間の前記流体連通チャネルシールの保全性と信頼性とを改善する前記要素は、前記シールの保全性を改善する可鍛性ガスケットと、前記シールの信頼性を改善する剪断円筒とをさらに具備し、前記剪断円筒は前記流体連通チャネルを囲んで、円筒形キャビティに挿入され、前記剪断円筒は前記連結された組立ブロックの両方に形成される請求項１４記載のポート構造物。１６．モジュラー式ガスシステム用の組立ブロックであって、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポート、第２のポートおよび第３のポートであって、第２の位置関係を有する第１のポート、第２のポートおよび第３のポートと、前記第２の面に形成される第４のポートと、前記第３の面に形成される第５のポートと、前記第４の面に形成される第６のポートと、前記第５のポートと前記第３のポートとを連結する第１の通路と、前記第６のポートと前記第２のポートとを連結する第２の通路と、前記第４のポートと前記第１のポートとを連結する第３の通路と、前記組立ブロックの前記第１の面に装着される機能部品であって、前記組立ブロックの前記第１のポートと前記第２のポートとの間に直接流体連通路を形成し、前記組立ブロックの前記第２のポートと前記流体連通路との間に弁を設けた機能部品と、を具備する組立ブロック。１７．前記機能部品は第１、第２および第３のポートをさらに具備し、前記機能部品の前記ポートの各々は前記組立ブロックの前記第１の面の前記ポートの１つとのみに合致する請求項１６記載の組立ブロック。１８．前記機能部品は１つのポートをさらに具備し、前記ポートは、前記組立ブロックの前記第１の面の前記ポートの３つをすべて囲み、前記組立ブロックは前記第１の面に窪んだキャビティを有し、前記機能部品は前記窪んだキャビティ内に位置する請求項１６記載の組立ブロック。１９．孤立基部ブロックと、上流制御基部ブロックと、下流制御基部ブロックと、マニホルド制御基部ブロックと、ブラインド基部ブロックと、フロースルーマニホルドブロックと、エルボマニホルドブロックと、を具備するモジュラー式組立ブロックのセット。２０．前記上流制御基部ブロックと前記下流制御基部ブロックとは、同一の物理的ブロックであり、前記上流制性能と前記下流制御性能とは、前記物理的ブロックの配置に依存する請求項１９記載のモジュラー式組立ブロックのセット。２１．少なくとも１本の管路線と少なくとも１本のマニホルド線とであって、前記管路線は複数の管路線ポートを有し、前記マニホルド線は複数のマニホルド線ポートを有する管路線およびマニホルド線と、孤立組立ブロックであって、複数の機能部品ポートを有し、第１の管路線ポートと第１の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができ、第２の管路線ポートと第２の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができる孤立組立ブロックと、上流／下流組立ブロックであって、複数の機能部品ポートを有し、第３の管路線ポートと第１の機能部品ポートと第１のマニホルドポートとの間に流体流れを誘導することができ、第４の管路線ポートと第２の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができる上流／下流組立ブロックと、マニホルド制御組立ブロックであって、複数の機能部品ポートを有し、第５の管路線ポートと第１の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができ、第２のマニホルド線ポートと第２の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができ、第６の管路線ポートと第３の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができるマニホルド制御組立ブロックと、ブラインド組立ブロックであって、複数の機能部品ポートを有し、第３のマニホルド線ポートと第１の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができ、第７の管路線ポートと第２の機能部品ポートとの間に流体流れを誘導することができるブラインド組立ブロックと、を具備するガスシステム。２２．少なくとも１本の管路線と少なくとも１本のマニホルド線とであって、前記管路線は複数の管路線ポートを有し、前記マニホルド線は複数のマニホルド線ポートを有する管路線およびマニホルド線と、第１の機能組立ブロックであって、第１の管路線ポートと第２の管路線ポートとの間の流体流れを制御することができる第１の機能組立ブロックと、第２の機能組立ブロックであって、第３の管路線ポートと第４の管路線ポートとの間の流体流れを制御することができ、第３の管路線ポートと第１のマニホルド線ポートとの間の流体流れを制御することができない第２の機能組立ブロックと、第３の機能組立ブロックであって、第５の管路線ポートと第６の管路線ポートとの間の流体流れを制御することができず、第２のマニホルド線ポートと、前記第５の管路線ポートと前記第６の管路線ポートとの間の前記流体流れと、の間の流体流れを制御することができる第３の機能組立ブロックと、第４の機能組立ブロックであって、第３のマニホルド線ポートと第７の管路線ポートとの間の流体流れを制御することができる第４の機能組立ブロックと、を具備する流体連通システム。２３．第１のブロックの第１の面に連結され、前記第１の面は第１のポート構成を有する第１の機能部品と、第２のブロックの第１の面に連結され、前記第２のブロックの前記第１の面は前記第１のポート構成を有する第２の機能部品と、を具備するガスパネルシステムであって、前記第１の機能部品は前記第２の機能部品とは異なるガスパネルシステム。２４．前記第１のブロックの前記第１の面に隣接する前記第１のブロックの第２の面が、前記第２のブロックの前記第１の面に隣接する前記第２のブロックの第２の面に連結され、前記第１のブロックの前記第２の面に形成されたポートが前記第２のブロックの前記第２の面に形成されたポートに流体連通する請求項１記載のガスパネル。２５．前記第１のブロックの前記第２の面と前記第２のブロックの前記第２の面とは同一である請求項２記載のガスパネル。２６．前記第１のブロックの第３の面に連結される第３のブロックの第１の面をさらに具備し、前記第１のブロックの前記第３の面は前記第１のブロックの前記第１の面とは反対側にあり、前記第３のブロックの前記第１の面に形成されたポートが前記第１のブロックの前記第３の面に形成されたポートに流体連通するようにされる請求項１記載のガスパネル。２７．前記第３のブロックの前記第１の面に形成された前記ポートは、前記第１のブロックの前記第３の面に形成された前記ポートに金属圧縮シールによって連結される請求項４記載のガスパネル。２８．前記第１のポート構成を有する第４のブロックの第１の面に連結される第３の機能部品と、前記第４のブロックの第２の面に連結される第５のブロックの第１の面であって、前記第４のブロックの前記第２の面は前記第４のブロックの前記第１の面の反対側にあり、前記第４のブロックの前記第２の面に形成されたポートが前記第５のブロックの前記第１の面に形成されたポートに流体連通するようにされる第５のブロックの第１の面と、をさらに具備し、前記第５のブロックの前記第１の面に隣接する前記第５のブロックの第２の面が、前記第３のブロックの前記第１の面に隣接する前記第３のブロックの第２の面に連結され、前記第３のブロックの前記第２の面に形成されたポートが前記第５のブロックの前記第２の面に形成されたポートに流体連通するようにされる請求項４記載のガスパネル。２９．前記第３のブロックの前記第２の面は前記第５のブロックの前記第２の面に同一である請求項６記載のガスパネル。３０．前記第１のブロックの前記第１の面と前記第２のブロックの前記第１の面とは各々実質的に平坦である請求項１記載のガスパネル。３１．前記第１のブロックは複数のボルトによって前記第２のブロックに連結される請求項１記載のガスパネル。３２．前記第１の部品は弁であり、前記第２の部品は調節器である請求項１記載のガスパネル。３３．複数の相互連結されたブロックを具備するガスパネルであって、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートを前記第３のポートに連結する第１の通路と、前記第２のポートを前記第４のポートに連結する第２の通路と、を具備する第１のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、前記第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第４の面に形成される第５のポートと、前記第１のポートを前記第３のポートに連結する第１の通路と、前記第２のポートと前記第４のポートと前記第５のポートとを連結する第２の通路と、を具備する第２のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートであって、前記第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第３の面に形成される第４のポートと、前記第４の面に形成される第５のポートと、前記第１のポートと前記第４のポートと前記第３のポートとを連結する第１の通路と、前記第２のポートと前記第５のポートとを連結する第２の通路と、を具備する第３のブロックと、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面の反対側にある第４の面と、前記第１の面に形成される第１のポートおよび第２のポートとであって、前記第１の位置関係を有する第１のポートおよび第２のポートと、前記第２の面に形成される第３のポートと、前記第４の面に形成される第４のポートと、前記第１のポートと前記第３のポートとを連結する第１の通路と、前記第２のポートを前記第４のポートに連結する第２の通路と、を具備する第４のブロックと、を具備するガスパネル。３４．第１の面と、第２の面であって、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第１のポートを前記第２のポートに接続する通路と、を具備する第５のブロック、をさらに具備する請求項１１記載のガスパネル。３５．第１の面と、第２の面であって、前記第１の面に隣接する第２の面と、第３の面であって、前記第２の面の反対側にある第３の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第３の面に形成される第３のポートと、前記第１のポートと前記第２のポートと前記第３のポートとを接続する通路と、を具備する第６のブロック、をさらに具備する請求項１１記載のガスパネル。３６．第１の面と、第２の面であって、前記第１の面に隣接する第２の面と、前記第１の面に形成される第１のポートと、前記第２の面に形成される第２のポートと、前記第１のポートを前記第２のポートに接続する通路と、を具備する第７のブロックであって、前記第７のブロックの前記第１の面は前記第５のブロックの前記第１の面よりも大きな表面積を有する第７のブロック、をさらに具備する請求項１２記載のガスパネル。３７．前記第１のブロックの前記第１の面と、前記第２のブロックの前記第１の面と、前記第３のブロックの前記第１の面と、前記第４のブロックの前記第１の面とは同一である請求項１１記載のガスパネル。３８．前記第１のブロックの前記第２の面および前記第３の面と、前記第２のブロックの前記第２の面および前記第３の面と、前記第３のブロックの前記第２の面および前記第３の面とはすべて同一である請求項１１記載のガスパネル。３９．前記第１のブロックの第１のポートおよび第２のポートと、前記第２のブロックの第１のポートおよび第２のポートと、前記第３のブロックの第１のポートおよび第２のポートと、前記第４のブロックの第１のポートおよび第２のポートとは、前記それぞれの第１の面に対して、各々対称的に位置決めされる請求項１１記載のガスパネル。４０．前記第１のブロックの第３のポートおよび第４のポートと、前記第２のブロックの第３のポートおよび第４のポートと、前記第３のブロックの第３のポートおよび第４のポートとは、それぞれ前記第２の面および前記第３の面に対して、各々対称的に位置決めされる請求項１１記載のガスパネル。４１．複数の基部ブロックであって、一緒に連結されて第１の方向で前記基部ブロックを通る第１のガス路を形成する基部ブロックと、複数のマニホルドブロックであって、一緒に連結されて前記第１の方向に対する横方向で前記マニホルドブロックを通る第２のガス路を形成するマニホルドブロックと、を具備するガスパネル。４２．前記複数の基部ブロックは各々、単一の機能部品を取り付けるための同一の部品相互連結面を有する請求項１９記載のガスパネル。４３．半導体デバイスを形成する方法であって、一緒に連結された複数のブロックによって形成された第１のガス路を通ってガスを流れさせるステップと、一緒に連結された第２の複数のブロックによって形成された第２のガス路を通ってガスを流れさせるステップであって、前記第２のガス路は前記第１のガス路を横切るステップと、前記ガスを反応チャンバに流れさせるステップと、を含む方法。４４．第１の面と前記第１の面に形成される第１のポートとを有する第１のブロックであって、前記第１の面は６４ＲＡまたはそれより大きい表面仕上げを有する第１のブロックと、第１の面と前記第１の面に形成される第１のポートとを有する第２のブロックであって、前記第２のブロックの前記第１の面は６４ＲＡまたはそれより大きい表面仕上げを有し、前記第１のブロックの前記第１のポートが記第２のブロックの前記第１のポートに流体連通するように、前記第１のブロックの前記第１の面が前記第２のブロックの前記第１の面に対して圧縮される第２のブロックと、を具備するガスパネル。