JP2002357720A - 新規なマイクロパターン偏光素子の製造方法及びこれを用いる立体表示液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】貼合のような極めて高い位置決め精度を必要と
せず、二色性色素化合物の部分的配向に優れているマイ
クロパターン偏光素子の製造方法を確立すること。 【解決手段】基板上に光活性基を有する液晶性高分子薄
膜を形成し、該薄膜に直線偏光を照射し、ついで別のマ
イクロパターン状のマスクを介して異なる偏光軸を有す
る直線偏光を照射した後、該薄膜上に二色性分子をマイ
クロパターン状に配列させる工程において、基板に対し
て垂直方向に０．０５ＭＰａ〜１．０ＭＰａの圧力が懸
かるように二色性分子溶液をロールコーター、フレキソ
印刷機、スクリーン印刷機のような印圧の低い印刷機を
用いて塗布する偏光素子の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な高偏光率マ
イクロパターン偏光素子の製造方法及びその用途に関す
る。更には偏光軸が異なるマイクロパターン偏光素子及
びそれを用いた立体視を可能にする立体表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から偏光透過軸方向が異なる複数の
偏光領域をパターン形成した偏光素子はいくつか知られ
ている。例えば、特開昭６２−９６９０５号公報には延
伸したポリビニルアルコールフィルム上にレジストを塗
布後パターン露光・現像してレジストをパターニング
し、レジストで覆われていない延伸ポリビニルアルコー
ルフィルム部分を二色性化合物で染色して所望パターン
の偏光領域を形成する方法が提案されている。Sadeg M.
Farisは１９９１年の Society of Infomation and Disp
lay Conferance において、延伸した二色性ポリビニル
アルコールフィルム上にレジストを塗布し、パターニン
グ後苛性ソーダ水溶液で溶解除去してパターン化した偏
光フィルムを得、偏光軸の直交する二枚のパターン化偏
光フィルムを重ね合わせてμＰｏｌという偏光素子を作
製し立体視に用いる方法を発表している(SID 91 DIGEST
p840-843)。特開平７−２６１０２４号公報には基板上
に塗布した光配向物質薄膜にパターン状に偏光を照射
し、その上に二色性色素溶液を塗布配向させて所望のパ
ターンの偏光領域を形成する方法が提案されている。特
開平９−７３０１５号公報には基板をフッ素樹脂の配向
膜で被覆しその上にレジストを塗布し、パターニング後
二色性色素を含む材料を積層して形成するマイクロパタ
ーン化偏光素子が提案されている。特開平１０−１６０
９３２号公報には複数の偏光片を隣接するもの同士の偏
光透過軸を異ならせて基材に貼り付ける偏光素子が提案
されている。特開平１０−１６０９３３号公報には基材
上に配置した偏光フィルムを部分的にダイサにて削って
偏光透過軸を１方向に向けた短冊或いは格子状の部分偏
光部材を形成し、この上に偏光軸が異なる方向に偏光フ
ィルムを配置し、既にある偏光部材の上の部分の偏光フ
ィルム部分をダイサにて削り取り複数の偏光透過軸を有
する偏光素子、或いはダイサで削った部分偏光部材の偏
光透過軸の異なるものを貼り合わせた偏光素子が提案さ
れている。

【０００３】一方画像の立体視に関しては、様々な方法
が提案されており偏光を利用する二眼式立体視はその一
つである。偏光眼鏡方式とも呼ばれるもので、右目、左
目に各々偏光軸が直交する偏光板を使用した眼鏡をか
け、両眼視差を有する右目用、左目用の画像は各々光の
偏波面を直交させ観察者の眼鏡の偏光板により左右の画
像情報を各々左右の目に振り分けて観察する方式であ
る。この方式において偏光方向の異なる画像を映し出す
には、２台の表示装置や投影装置を用いて作られる画像
をハーフミラー或いは偏光ミラーで合成する方法がとら
れている。この場合、表示装置が高価になり多数の観客
に立体画像を見せる場合は適するが、家庭用或いは少人
数で見るオフィス用その他ディスプレイには向かないと
いう問題点を有していた。そこで同一面内に偏光軸が直
交するマイクロパターン偏光素子を表示装置に用いれ
ば、１台の表示装置中に右目用画像と左目用画像を同時
に表示することが可能であり装置の価格も安価にする事
が出来ると提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来から知られている
偏光透過軸方向が異なる複数の偏光領域をパターン形成
した偏光素子には、次のような問題点がある。特開昭６
２−９６９０５号公報の方法では、延伸したＰＶＡフィ
ルムを染色するため通常の染色後延伸する方法よりも偏
光能が低くなるだけでなくレジストを現像パターニング
する際延伸ＰＶＡフィルムが膨潤し一軸性が損なわれ偏
光能が更に低下してしまい結果的に満足な偏光率の偏光
素子が得られないという問題がある。

【０００５】Sadeg M.FarisがSociety of Infomation a
nd Display Conferance において発表した方法(SID 91
DIGEST p840-843,USP5327285)では、延伸した二色性ポ
リビニルアルコールフィルム上にレジストを塗布し、パ
ターニング後苛性ソーダ水溶液で溶解除去する際に残さ
れる偏光素子部分が膨潤するため偏光能が低下する事と
偏光軸が直交する２種類の基板を貼り合わせて製造する
ため貼合の際に極めて高い位置決め精度が要求されると
いう問題がある。

【０００６】特開平７−２６１０２４号公報の方法で
は、基板上に塗布した光配向物質の薄膜にパターン状に
偏光を照射し、その上に二色性色素溶液を塗布配向させ
ているが、これに関連して市村はMol.Cryst.Liq.Crys
t.,1997,Vol.298,pp221-226において以下のような報告
をしている。この配向した色素膜を原子間力顕微鏡（Ａ
ＦＭ）で観察してみると色素が均一に配向した部分と、
色素が殆ど存在せずしかも配向していない部分（クレー
ター）が観察される。色素が均一に配向した部分と色素
が殆ど存在せずしかも配向していない部分の吸光度を顕
微分光光度計で測定し、このクレーターが多いため色素
膜全体の均一性が低下し偏光能が不十分なものとなって
いることが解った。本発明者等が配向している部分と配
向していない部分の吸光度から二色性比（ＤＲ）を計算
してみると、ＤＲ(a)≒３０，ＤＲ(b)≒１．３と大きな
差がありこれらを含めたより広い面積ではＤＲ＝５〜６
となり表示素子用としては満足できるレベルではなかっ
た。なお、二色性比（ＤＲ）の計算は次による。 ＤＲ＝Ａ‖／Ａ⊥ Ａ‖：偏光軸が配向色素の分子長軸と平行な場合の吸光
度。 Ａ⊥：偏光軸が配向色素の分子長軸と垂直な場合の吸光
度。

【０００７】特開平９−７３０１５号公報の方法では、
基板をフッ素樹脂配向膜で被覆しその上にレジストを塗
布し、パターニング後二色性色素を含む材料を積層して
マイクロパターン化偏光素子を形成しているが、フッ素
樹脂配向膜をレジストで処理した場合には現像後も表面
に薄く残存するレジスト膜の影響か或いは現像処理の影
響でフッ素樹脂配向膜の配向性が減殺されるためかその
上に積層される二色性色素材料の配向性が十分ではなく
偏光能が不十分であるという問題がある。

【０００８】特開平１０−１６０９３２号公報の方法で
は、複数の偏光片を隣接するもの同士の偏光透過軸を異
ならせて基材に貼り付けて偏光素子を形成しているが、
複数の偏光片の貼合の際極めて高い位置決め精度が要求
されるという問題がある。特開平１０−１６０９３３号
公報の方法では、基材上に配置した偏光フィルムを部分
的にダイサにて削って偏光透過軸を１方向に向けた短冊
或いは格子状の部分偏光部材を形成し、この上に偏光軸
が異なる方向に偏光フィルムを配置し既にある偏光部材
の上の部分の偏光フィルム部分をダイサにて削り取り複
数の偏光透過軸を有する偏光素子、或いはダイサで削っ
た部分偏光部材の偏光透過軸の異なるものを貼り合わせ
て偏光素子を形成しているが、ダイサにて削る工程には
極めて高い精度が要求され或いは偏光透過軸の異なった
複数の部分偏光部材の貼合せの際極めて高い位置決め精
度が要求されるという問題がある。

【０００９】本発明者等は斯かる観点から、貼合せのよ
うな極めて高い位置決め精度を必要とせず、二色性色素
化合物の部分的配向が優れているマイクロパターン偏光
素子の製造方法を提供することを目的として鋭意検討し
本発明に到った。本発明は、特開平７−２６１０２４号
公報で開示された方法において、色素が殆ど存在せずし
かも配向していない部分（クレーター）の発生を極力減
らし二色性化合物の配向を全体的に高めて表示素子用と
して実用水準にある偏光素子を製造する方法に関するも
のである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、二色性色
素分子のマイクロパターン状異方的配列に更に適した光
活性分子層及び二色性分子溶液の塗布方法について鋭意
検討を行い、光活性基を結合させたポリアミド、ポリイ
ミド、ポリエステル等の液晶性重縮合高分子やポリウレ
タンのような液晶性重付加反応高分子或いは液晶性ポリ
桂皮酸ビニル等の液晶性高分子が配向特性において優れ
た性能を示すことを見出した。本発明において光活性基
を有する液晶性高分子薄膜を配向膜とし、該薄膜に直線
偏光を照射し、ついで別のマイクロパターン状のマスク
を介して異なる偏光軸を有する直線偏光を照射した後、
該薄膜上に二色性分子をマイクロパターン状に配列させ
る工程において、基板に対して垂直方向に特定の範囲の
圧力が懸かるように二色性分子溶液を塗布する製造方法
によって、解像度が高く光軸の異なるパターン間のコン
トラストが極めて大きいマイクロパターン偏光素子を得
ることが可能となった。

【００１１】即ち、本発明は、（１）基板上に光活性基
を有する液晶性高分子薄膜を形成し、該薄膜に直線偏光
を照射し、ついで別のマイクロパターン状のマスクを介
して異なる偏光軸を有する直線偏光を照射した後、該薄
膜上に二色性分子をマイクロパターン状に配列させる工
程において、基板に対して垂直方向に０．０１ＭＰａ〜
１．０ＭＰａの圧力が懸かるように二色性分子溶液を塗
布する偏光素子の製造方法、（２）二色性分子溶液が、
アニオン系界面活性剤を含む溶液である（１）に記載の
偏光素子の製造方法、（３）（２）におけるアニオン系
界面活性剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫
酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエ
タノールアミンからなる群から選ばれる１種又は２種以
上である（２）に記載の偏光素子の製造方法、（４）
（１）乃至（３）における光活性基が、非芳香族性のＮ
＝Ｎ、非芳香族性のＣ＝Ｃ、非芳香族性のＣ＝Ｎからな
る群から選ばれる１種又は２種以上であるである（１）
乃至（３）の偏光素子の製造方法、

【００１２】（５）（１）乃至（３）における液晶性高
分子薄膜が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、
ポリウレタン樹脂薄膜である（１）乃至（３）の偏光素
子の製造方法、（６）（１）乃至（３）における液晶性
高分子薄膜が、ポリ桂皮酸ビニル樹脂薄膜である（１）
乃至（３）の偏光素子の製造方法、（７）（１）乃至
（３）における二色性分子がリオトロピック液晶性を有
する色素である（１）乃至（３）の偏光素子の製造方
法、（８）（７）のリオトロピック液晶性を有する色素
が親水性置換基を有する色素である（７）の偏光素子の
製造方法、（９）（８）において親水性置換基がスルホ
ン酸基、カルボン酸基、アミノ基、水酸基からなる群か
ら選ばれる１個以上の基である（８）の偏光素子の製造
方法、（１０）（１）乃至（３）における直線偏光の照
射が偏光性を有するレーザ光を用いて行われる（１）乃
至（３）の偏光素子の製造方法、（１１）対向する上下
基板を有する液晶表示装置であって、該基板の少なくと
も一方が（１）乃至（１０）のいずれか一項に記載の偏
光素子を有する基板である立体表示装置、に関する。

【００１３】液晶性高分子はある条件下で液晶性を示す
高分子であるが、溶媒の存在下でいわゆるリオトロピッ
ク液晶性を示す高分子と、溶媒の介在なしに溶融状態で
液晶構造を示すサーモトロピック液晶性高分子が知られ
ている。一般に液晶性高分子は液晶状態で流動方向に分
子の鎖が高度に配向した層を持ち、その配向状態を固定
化することで高強度・高弾性材料を得ている。その他、
液晶性高分子薄膜の高度な配向性を利用して、低分子ネ
マチック液晶の配向膜とする研究も最近は多く見受けら
れる。

【００１４】本発明において光活性基を有する液晶性高
分子は、該高分子の薄膜の高度な配向性がその上に形成
されるリオトロピック液晶性を有する二色性分子層の配
向を十分に制御しうることを利用するものである。

【００１５】液晶化合物は様々な電場、磁場のような外
場により配向することが知られている。電場、磁場によ
る配向は良く知られていることである。その他にも流動
配向と言われる液晶化合物自身の流れによっても配向す
る。又、ズリ応力を加えても力の方向に良く配向するこ
とが知られている。本発明において使用する二色性分子
溶液もリオトロピック液晶状態で外的刺激の影響を受け
て様々な配向をする事が観察されている。本発明では二
色性分子溶液を塗布してマイクロパターン状に配列させ
るわけであるが、この目的に合致しない様々な外場の影
響は極力避けなければならない事が分かった。

【００１６】

【発明の実施の態様】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明で使用する光活性基を有する液晶性高分子
は、直線偏光照射により光活性基の分子軸配向変化を起
こす液晶性高分子のことである。ここで言う分子軸配向
変化とは、直線偏光の光エネルギーを吸収した後に、そ
の分子軸の方向がその直線偏光に応じて一定方向に変わ
る現象を意味する。

【００１７】このような直線偏光照射により光活性基の
分子軸配向変化を起こす性質を有する基は全て本発明に
おける光活性基に含まれる。このような光活性基として
は、例えばＮ＝Ｎ、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ、から選ばれた少な
くとも一つの二重結合を含み、その二重結合が非芳香族
性である基が挙げられる。

【００１８】非芳香族性のＮ＝Ｎ結合を有する基として
は、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、ビスアゾ基、
ホルマザン基等の芳香族アゾ基、更にはアゾキシベンゼ
ン基等を挙げることができる。これらの基の好ましいも
のとしては例えば下記式 −Ｎ＝Ｎ−Ａ−Ｘ −ＯＣＯ（ＣＨ₂）_PＯ−ｐ−ｐｈｅ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−Ｙ −Ａ−Ｎ＝Ｎ−ｐ−ｐｈｅ−Ｙ (式中Ａ及びＢは置換基を有していてもよいベンゼン環
又はナフタレン環を、Ｘは(Ｃ₁〜Ｃ₁₀)のアルコキシ基
又はジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基を表し、ジアルキ
ルアミノ基におけるアルキル基は両者同じでも又異なっ
てもよく、また非置換又は片方若しくは両者がシアノ基
若しくはヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｙは水
素原子、フツ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、
（Ｃ₁〜Ｃ₁₀）アルキル基、（Ｃ₁〜Ｃ₁₀）アルコキシ
基、（Ｃ₁〜Ｃ₄)アルキルオキシカルボニルビニル基、
モノ若しくはジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基をそれぞ
れ表し、該モノ若しくはジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ
基のアルキル基は置換若しくは非置換何れでもよく、か
つジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基の場合、２つのアル
キル基は同じでも異なってもよい。また該アルキル基上
の置換基としてはシアノ基又はヒドロキシ基等が挙げら
れる。シアノ基又はヒドロキシ基で置換されたモノ若し
くはジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基としてはジヒドロ
キシエチルアミノ基、ヒドロキシ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキル
アミノ基、ジシアノエチルアミノ基又はシアノエチル
（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基等が挙げられる。またｐ
は１〜１０の整数を表し、ｐｈｅはベンゼン環を示し、
ｐ−ｐｈｅ又はｏ−ｐｈｅはパラ位又はオルト位で隣接
原子と結合していることを示す。)で表される基が挙げ
られる。

【００１９】非芳香族性のＣ＝Ｃ結合を有する基として
は、ポリエン、スチルベン、スチルバゾール、スチルバ
ゾリウム、桂皮酸、イシジゴ、チオインジゴ、ヘミチオ
インジゴ等の有する基が挙げられる。これらの基の好ま
しいものとしては例えば下記式 −ＣＨ＝Ｃ（Ｘ₁）（Ｘ₂） (式中Ｘ₁及びＸ₂は片方が水素原子を示し、他方が置換
基を有してもよい芳香族６員環、（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルコキ
シカルボニル基を示すか、またはＸ₁及び（Ｘ₂）が結合
し、−Ｓ−ｏ−ｐｈｅ−ＣＯ−で示される基を示す。ｏ
−ｐｈｅは前記と同じ意味を示し、置換基を有していて
もよい。芳香族６員環及びｐｈｅ基上の置換基としては
前記Ｙで記載したものなどが挙げられる。)で表される
基が挙げられる。芳香族６員環としては、例えばＹ等の
置換基を有しても良いベンゼン環、炭素原子で−ＣＨ＝
Ｃ基に結合するピリジン環等を挙げることができ、該ピ
リジン環は窒素原子上に、炭素数１ないし１０のアルキ
ル基で置換されていてもよい。

【００２０】非芳香族性のＣ＝Ｎ結合を有する基として
は、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン基等を挙げる
ことができ、好ましいものとして下記式 −ＮＨ−Ｎ＝Ｃ（Ｘ₃）（Ｘ₄） −Ｎ＝ＣＨ−Ｂ−Ｙ −Ａ−ＣＨ＝Ｎ−ｐ−ｐｈｅ−Ｙ (式中Ｘ₃及びＸ_４は片方が水素原子又は低級アルコキシ
カルボニル基を示し、他方が−Ｂ−Ｙで示される基又は
低級アルコキシカルボニル基を示すか、又はＸ ₃及びＸ₄
の両方が結合して、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ(低級アルキル)−Ｃ
Ｏ−で示される基を示す。また、Ａ、Ｂ、Ｙ、ｐ−ｐｈ
ｅ等は前記と同じ意味を示す。)で表される基等が挙げ
られる。

【００２１】これらの光活性基を有する液晶性高分子の
吸収する光の波長は、可視光域のものにとどまらず紫外
線や赤外線の領域のものも含まれる。これらの光活性基
を有する液晶性高分子の薄膜に、該化合物が吸収する波
長範囲を含む直線偏光を照射すると容易に分子軸配向変
化を起こす。

【００２２】本発明で使用する光活性基を有する液晶性
高分子としては例えば光活性基を結合させたポリアミ
ド、同ポリイミド、同ポリェステル等の液晶性重縮合高
分子や光活性基を結合させたポリウレタンのような液晶
性重付加反応高分子及び液晶性ポリ桂皮酸ビニル等を挙
げることができる。該液晶性高分子は、光活性基を有す
る単量体を反応させたホモポリマー、光活性基を有する
単量体と光活性基を持たない単量体好ましくは同種の単
量体とを反応させたコポリマーのいずれでもよい。該コ
ポリマーの場合、光活性基を有する単量体1モルに対し
て、光活性基を持たない単量体好ましくは同種の単量体
を１００モル以内の割合で重合させたポリマーが好まし
く、より好ましくは光活性基を持たない同種の単量体５
０モル以内の割合で重合させたポリマーが好ましい。

【００２３】該液晶性高分子の具体的な例としては下記
一般式（１）〜（４）で示される部分構造を有し、かつ
高分子全体が実質的にこの部分構造から構成されている
ホモポリマー又は液晶性ポリ桂皮酸ビニルのホモポリマ
ー、又は該部分構造若しくは桂皮酸ビニルに対応する部
分構造をモル割合で、ほぼ１％以上、より好ましくは２
％以上含むコポリマーを挙げることが出来る。液晶性高
分子化合物の具体的な例として次のような化合物を挙げ
ることが出来る。

【００２４】下記一般式（１）

【００２５】

【化１】

【００２６】（式中Ｒはメチル基、エチル基、i−プロ
ピル基又は塩素原子を、ｎは５〜１００００の整数をそ
れぞれ表す。Ｚは下記式（ａ）〜（ｅ）で示される基を
表す。

【００２７】（ａ）−Ｎ＝Ｎ−Ａ−Ｘ （ｂ）−ＣＨ＝Ｃ（Ｘ₁）（Ｘ₂） （ｃ）−ＮＨ−Ｎ＝Ｃ（Ｘ₃）（Ｘ₄） （ｄ）−Ｎ＝ＣＨ−Ｂ−Ｙ （ｅ）−ＯＣＯ（ＣＨ₂）_PＯ−ｐ−ｐｈｅ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ
−Ｙ

【００２８】（式中Ａは置換基を有していてもよいベン
ゼン環又はナフタレン環を、Ｘは（Ｃ ₁〜Ｃ₁₀）のアル
コキシ基又はジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基を表し、
ジアルキルアミノ基におけるアルキル基は両者同じでも
又異なってもよく、また非置換又は片方若しくは両者が
シアノ基若しくはヒドロキシ基で置換されていてもよ
い。またＸ₁及びＸ₂は片方が水素原子を示し、他方が置
換基を有してもよい芳香族６員環、（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルコ
キシカルボニル基を示すか、又はＸ₁及びＸ₂が結合し、
−Ｓ−ｏ−ｐｈｅ−ＣＯ−で示される基を示す。また、
Ｘ₃及びＸ₄は片方が水素原子又は低級アルコキシカルボ
ニル基を示し、他方が−Ｂ−Ｙで示される基又は低級ア
ルコキシカルボニル基を示すか、又はＸ₃及びＸ₄の両方
が結合して、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ（低級アルキル）−ＣＯ−
で示される基を示す。また、Ｂは置換基を有していても
よいベンゼン環又はナフタレン環を、Ｙは水素原子、フ
ッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ₁〜Ｃ
₁₀）アルキル基、（Ｃ₁〜Ｃ₁₀）アルコキシ基、（Ｃ₁〜
Ｃ₄）アルキルオキシカルボニルビニル基、モノ若しく
はジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基を表し、該モノ若し
くはジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基のアルキル基は置
換若しくは非置換何れでもよく、かつジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）ア
ルキルアミノ基の場合、２つのアルキル基は同じでも異
なってもよい。また該アルキル基上の置換基としてはシ
アノ基又はヒドロキシ基等が挙げられる。シアノ基又は
ヒドロキシ基で置換されたモノ若しくはジ（Ｃ₁〜Ｃ₃）
アルキルアミノ基としてはジヒドロキシエチルアミノ
基、ヒドロキシ（Ｃ₁〜Ｃ₃）アルキルアミノ基、ジシア
ノエチルアミノ基、またはシアノエチル（Ｃ₁〜Ｃ₃）ア
ルキルアミノ基等が挙げられる。またｐは１〜１０の整
数を表し、ｐｈｅはベンゼン環を示し、ｐ−ｐｈｅ又は
ｏ−ｐｈｅはパラ位又はオルト位で隣接原子と結合して
いることを示す。）で表される部分構造を有するポリア
ミド化合物。

【００２９】下記一般式（２）

【００３０】

【化２】

【００３１】（式中Ｒ₁は脂環式又は芳香環テトラカル
ボン酸の残基、ｎ’は２〜１００００の整数を示し、Ｒ
₂は下記式（ｆ）又は式（ｇ）で表される光活性基を有
する基を示す。

【００３２】

【化３】

【００３３】（式中Ｚ₁は （ｆ−ａ） Ｙ−ｐ−ｐｈｅ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ_O− （ｆ−ｂ） Ｙ−ｐ−ｐｈｅ−Ｎ＝ＣＨ−Ｂ_O− （ｆ−ｃ） Ｙ−ｐ−ｐｈｅ−ＣＨ＝Ｎ−Ｂ_O− （ｆ−ｄ） （Ｘ₁）（Ｘ₂）ＣＨ＝ＣＨ−Ｂ− で表される基を示し、Ｂ_OはＢ又は−Ｃ₆Ｈ₄Ｏ（ＣＨ₂）
_PＣＯＯ−Ｂ−を示し、式中のＹ、ｐ−ｐｈｅ、
（Ｘ₁）、（Ｘ₂）、Ｂ及びｐの各記号は前記と同じ意味
を示す。またｑは２〜４の整数を示す。）又は下記式
（ｇ）

【００３４】

【化４】

【００３５】（式中Ｚ₁は前記と同じ意味を示し、ｒは
１〜５の整数、ｓは２〜８の整数をそれぞれ示す。）で
表される部分構造を有するポリイミド化合物、下記一般
式（３）

【００３６】

【化５】

【００３７】（式中Ｒ₂は前記一般式（２）におけると
同じ意味を表し、Ｒ₃は−（ＣＨ₂）ｍ−を表し、ｍは２
〜８を表す。ｎは５〜１００００の整数を表す。）で表
される部分構造を有するポリウレタン化合物、下記一般
式（４）

【００３８】

【化６】

【００３９】（式中Ｚは前記一般式（１）と同じ意味を
示す。また、Ｒ₄はベンゼン環、ナフタレン環、Ｃ₄〜Ｃ
₆メチレン基（テトラメチレン基及びヘキサメチレン基
等）を表し、ｎは５〜１００００の整数を表す。）で表
される部分構造を有するポリエステル化合物。

【００４０】上記において好ましいものとしては下記の
ものを挙げる事が出来る。 （１）一般式（１）においてはＺが前記（ａ）−Ｎ＝Ｎ
−Ａ−Ｘ 又は前記（ｅ）−ＯＣＯ（ＣＨ₂）_PＯ−ｐ−
ｐｈｅ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−Ｙである部分構造を有するポリア
ミド化合物。 （２）一般式（２）及び（３）においては、（ｆ）又は
（ｇ）におけるＺ₁がＹ−ｐ−ｐｈｅ−Ｎ＝Ｎ−Ａ−で
ある部分構造を有するポリイミド化合物又はポリウレタ
ン化合物。 （３）一般式（４）の部分構造を有するポリエステル化
合物。 （４）液晶性ポリ桂皮酸ビニルのホモポリマー又はコポ
リマー。

【００４１】これらの中、上記（１）〜（３）のポリア
ミド化合物、ポリイミド化合物及びポリエステル化合物
のような液晶性重縮合高分子及びポリウレタンのような
液晶性重付加反応高分子は、光活性基を有する二官能単
量体を用意し、もう一方の官能単量体とを等モルで反応
させて所望の液晶性高分子（ホモポリマー）を得る事が
出来る。コポリマーを製造するときには、光活性基を有
する二官能単量体と共に例えば光官能基を有しない同種
の二官能単量体を併用し、上記同様に等モルで反応させ
ることにより所望のコポリマーからなる液晶性高分子を
得ることが出来る。光活性基を有する単量体と光活性基
を有しない同種の単量体との使用割合を変えることで高
分子化合物中の光活性基の結合量を調節することが出来
る。光活性基を有する二官能単量体と反応させる光活性
基を有しないもう一方の二官能単量体としては例えば
４，４’−ジアミノ−３，５，３’、５’−テトラＲ置
換ジフェニルメタン（Ｒは前記一般式（１）におけるの
と同じ意味を示す。）、脂環式又は芳香環テトラカルボ
ン酸、炭素数２〜８の脂肪族ジカルボン酸等を挙げるこ
とが出来る。脂環式又は芳香環テトラカルボン酸として
は炭素数４〜６員環の脂環式又は芳香環テトラカルボン
酸、炭素数８〜１０の縮合環上に４つのカルボキシル基
を持つ縮合環テトラカルボン酸又は２つのカルボキシ基
を有する炭素数４〜６員環の脂環式又は芳香環若しくは
炭素数８〜１０の縮合環上に２つのカルボキシル基を持
つ縮合環が、架橋基を介して又は介さずして、２つ結合
したテトラカルボン酸等が挙げられる。架橋基としては
特に制限はないが、低級アルキレン基、ＣＯ、窒素原
子、酸素原子などである。

【００４２】又、上記（４）の液晶性桂皮酸ビニルのホ
モポリマーは桂皮酸ビニルモノマーを重合させることに
より得られる。コポリマーを得る場合には適当な共重合
可能なかつ液晶性を阻害しないかつ光活性基を有しない
単量体と共に重合することにより、所望のコポリマーか
らなる液晶性高分子を得ることが出来る。桂皮酸ビニル
モノマーと光活性基を有しない単量体との使用割合を変
えることにより高分子化合物中の光活性基の結合量を調
節することが出来る。コポリマーを得るために、桂皮酸
ビニルモノマーと共重合させる光活性基を有しない単量
体としては例えば４−（４’−ｎ−ペンチルフェニル）
スチレン、４−（４’−ｎ−ヘキシルフェニル）スチレ
ン、４−（４’−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）スチレ
ン、４−（４’−ｎ−ヘキシルシクルヘキシル）スチレ
ン等が挙げられる。

【００４３】光活性基を有する二官能単量体と、コポリ
マーを得るために該光活性基を有する二官能単量体と共
に反応させる光活性基を有しない単量体との使用割合は
単量体の構造にもよるが、１：０から１：１００、より
好ましくは１：０から１：５０の範囲である。

【００４４】重合反応はポリアミド化合物、ポリイミド
化合物、ポリウレタン化合物又はポリエステル化合物、
ポリ桂皮酸ビニル重合体を得る従来公知の方法に準じ
て、通常溶媒中での溶液重合法等で行えばよい。

【００４５】上記のようにして得られる本発明で使用す
る光活性基を有する液晶性高分子はその重合度等につい
ては特に制限はなく、樹脂の種類、光活性基の種類等に
より異なるので一概には言えないが、通常２以上、好ま
しくは５以上、更に好ましくは１０以上〜１００００程
度である。

【００４６】光活性基を有する二官能単量体としては、
例えば光活性基をベンゼン環上に有するオルトフタル
酸、２個のアルキル基で置換されている窒素原子が更に
光活性基で置換されているジ〔アミノ（Ｃ₂−Ｃ₄）アル
キル〕アミン等が挙げられる。

【００４７】本発明で使用される液晶性高分子の原料と
なる光活性基を有する二官能単量体の具体例を次に示す
が、これらは単なる例示であり、これらに限定されるも
のではない。

【００４８】（１）光活性基として非芳香族性のＮ＝Ｎ
結合を有する基を持つ単量体としては下記する物が挙げ
られる。 ポリアミド化合物又はポリエステル化合物用に適する
単量体

【００４９】

【化７】

【００５０】

【化８】

【００５１】

【化９】

【００５２】ポリイミド化合物又はポリウレタン化合
物に適する単量体

【００５３】

【化１０】

【００５４】

【化１１】

【００５５】（２）光活性基として非芳香族性のＣ＝Ｎ
結合を有する基を持つ単量体としては下記する物が挙げ
られる。 ポリアミド化合物又はポリエステル化合物用に適する
単量体

【００５６】

【化１２】

【００５７】ポリイミド化合物又はポリウレタン化合
物に適する単量体

【００５８】

【化１３】

【００５９】（３）光活性基として非芳香族性のＣ＝Ｃ
結合を有する基を持つ単量体としては下記する物が挙げ
られる。 ポリアミド化合物又はポリエステル化合物用に適する
単量体

【００６０】

【化１４】

【００６１】ポリイミド化合物又はポリウレタン化合
物に適する単量体

【００６２】

【化１５】

【００６３】このような光活性基を有する液晶性高分子
化合物の薄膜を基板上（基板としては、ガラス、或いは
ポリカーボネート、ポリエステルのようなプラスチック
基板が用いられる）に設ける方法としては、回転塗布法
が好ましい。又、この種の液晶性高分子薄膜をラングミ
ュアーブロジェット法によって基板上に設けても良い。
更には、これらの液晶性高分子溶液に基板を浸漬して吸
着させても良い。膜厚は、通常０．００１〜５μｍ、好
ましくは０．０１〜１μｍである。これらの薄膜を設け
る場合、通常該液晶性高分子を適当な溶媒に溶解し、液
晶性高分子溶液として使用する。溶液中の該液晶性高分
子の濃度は該液晶性高分子の種類、重合度、塗布方法、
希望する膜厚等により適当な濃度は異なるので一概に言
えないが、通常０．１重量％〜１０重量％程度であり、
好ましくは０．５重量％〜５重量％程度である。適当な
濃度は使用する塗布方法で予備的な試験をして容易に決
定することが出来る。使用される溶媒としては該液晶性
高分子を溶解するものであれば特に限定されないが、ピ
リジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォキシ
ド、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド、
ジメチルイミダゾリン等の非プロトン性極性溶媒が好ま
しい例として挙げられる。

【００６４】基板上に設けられた光活性基を有する液晶
性高分子の薄膜に直線偏光を照射する方法としては公知
の様々な方法が適用できる。マイクロパターン偏光素子
を製造するためには、偏光パターンを光活性基を有する
液晶性高分子薄膜に焼き付ける事が必要であり、そのた
めには希望するマスクパターンを通して直線偏光を該薄
膜に照射すればよい。或いは、偏光性を有するレーザ光
をレンズ等を用いて集光し、それを操作してパターン状
に照射すればよい。露光エネルギーは０．１ｍＪ／ｃｍ
²から１０Ｊ／ｃｍ²の範囲が好ましい。該薄膜の直線偏
光照射による分子軸配向変化は可逆的であり、マスクパ
ターン毎に異なる偏光軸の直線偏光を照射することによ
りパターンを自由に重ね書きすることが出来る。尚、複
雑なパターンを有する偏光素子（板）を一枚製造すれ
ば、その偏光素子（板）をマスクパターンとして使用す
ることで従来困難であった複雑なパターンを有する偏光
素子（板）を直線偏光照射という簡便な方法で多数製造
することが出来る。

【００６５】このようにして得られる一定方向に分子軸
の配列した光活性基を有する液晶性高分子薄膜に二色性
色素分子をマイクロパターン状に塗布するだけで、即
ち、該薄膜上に二色性色素層をマイクロパターン状に設
けるだけで、二色性色素分子の分子軸が光活性基の分子
軸の配列方向、即ち該薄膜に照射した直線偏光の偏光軸
で規定された方向に配列し、かつ偏光軸が固定されてマ
イクロパターン偏光素子としての性質が発揮される。こ
の事を更に具体的に説明すると、一定方向に分子軸の配
列した光活性基を有する液晶性高分子薄膜を有する基板
上に、二色性色素の溶液を塗布し、所望の温度・湿度条
件下に溶媒を蒸発させマイクロパターン状の該色素薄膜
を形成する。この際該色素の分子軸は、光活性基を有す
る液晶性高分子薄膜に照射した直線偏光の偏光軸で規定
された方向に配列し該色素薄膜の光の吸収軸が固定され
てマイクロパターン偏光素子としての性質が発揮され
る。

【００６６】本発明で用いる二色性色素溶液は、塗布の
際に基板に平行なズリ応力を加えるとその応力方向に配
向し易い性質を持っている。光配向のための配向潜像を
作製した基板であっても、二色性色素溶液の塗布の際に
ズリ応力が加わった部分はズリ応力による配向規制力が
光配向規制力を上回ってしまうため光配向のマイクロパ
ターンが見えなくなってしまう事が分かった。従って、
光配向規制力を優先させマイクロパターンの配向を実現
するためには、塗布時の基板に平行なズリ応力を如何に
軽減するかが重要な技術となる事が分かった。即ち、光
活性基を有する液晶性高分子薄膜を配向膜とし、該薄膜
に直線偏光を照射し、ついで別のマイクロパターン状の
マスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を照射し
た後、該薄膜上に二色性分子をマイクロパターン状に配
列させる工程において、基板に対して平行なズリ応力が
加わらず且つ垂直方向に０．０１ＭＰａ〜１．０ＭＰ
ａ、好ましくは０．０５ＭＰａ〜０．５ＭＰａの圧力が
懸かるように二色性分子溶液を塗布する製造方法によっ
て、解像度が高く光軸の異なるパターン間のコントラス
トが極めて大きいマイクロパターン偏光素子を得ること
が可能となった。このような圧力を制御する上で有利な
塗工方法としてはロールコーター塗布、フレキソ印刷、
スクリーン印刷、カーテンコーター塗布、スプレイコー
ター塗布等があるが、特にロールコーター塗布、カーテ
ンコーター塗布、スプレイコーター塗布等が好ましい。

【００６７】本発明で用いる二色性色素（分子）溶液
は、一定の濃度及び温度範囲において液晶性を示す。あ
る種の界面活性剤は二色性色素溶液のネマチック液晶性
を高める効果を示した。芳香族化合物である二色性色素
は液晶相ではカラム積層構造をとっている。界面活性剤
もリオトロピック液晶相を示すことが知られているが芳
香族化合物のリオトロピック液晶相とは異なった相をと
る場合が多い。そのため界面活性剤を含む二色性色素溶
液が高濃度になると色素液晶相と界面活性剤液晶相とが
相分離を起こし色素を含まない界面活性剤のみの領域が
生じる。この現象は、二色性色素溶液の塗布膜において
色素の無いピンホールとして観察されるが、これは界面
活性剤、殊にアニオン界面活性剤により顕著に改善され
る。アニオン界面活性剤のうちでも好ましい物は、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、好ましくはア
ルカリ金属塩または低級アルカノールアミン塩、例えば
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム
（エマール２０Ｃ、エマールＥー２７Ｃ、エマールＥー
７０Ｃ等：いずれも商品名：花王（株）製）及びその他
のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム
としては例えばエマール２０ＣＭ、レベノールＷＸ、ラ
テムルＷＸ等（いずれも商品名：花王（株）製）、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールア
ミン（エマール２０Ｔ（商品名）等、花王（株）製）、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、
好ましくはアルカリ金属塩 例えばポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム（エマールＮ
Ｃー３５、レベノールＷＺ等、いずれも商品名：花王
（株）製）、ラウリル硫酸塩、好ましくはラウリル硫酸
アルカリ金属塩、アンモニウム塩または低級アルカノー
ルアミン塩 例えばラウリル硫酸ナトリウム（エマール
１０、エマール０等、花王（株）製）、ラウリル硫酸ア
ンモニウム（エマールＡＤー２５Ｒ、エマールＡＤ−２
５等、いずれも商品名：花王（株）製）、ラウリル硫酸
トリエタノールアミン、高級アルコール硫酸塩、好まし
くは高級アルコール硫酸アルカリ金属塩、例えば高級ア
ルコール硫酸ナトリウム（エマール４０パウダー（商品
名）等、花王（株））等である。光活性基を有する液晶
性高分子薄膜を配向膜とし、該薄膜に直線偏光を照射
し、ついで別のマイクロパターン状のマスクを介して異
なる偏光軸を有する直線偏光を照射した後、該薄膜上に
二色性分子をマイクロパターン状に配列させる工程にお
いて、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエ
タノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノール
アミンから選ばれた１つ又は２つ以上の界面活性剤を含
有した二色性色素溶液を基板に対して平行なズリ応力が
懸からないように塗布する製造方法によって、解像度が
高く光軸の異なるパターン間のコントラストが極めて大
きいマイクロパターン偏光素子を得ることが可能であ
る。好ましい界面活性剤の添加量は、二色性色素溶液中
０．０１重量％〜１重量％、より好ましくは０．０５重
量％〜０．５重量％の範囲で含有させる。

【００６８】二色性色素を溶解する溶媒としては、水、
アルコール類、エーテル類、ピリジン、ジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）・ジメチルスルフォキシド（ＤＭＳ
Ｏ）・Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）・ジメチルア
セトアミド（ＤＭＡＣ）・ジメチルイミダゾリン（ＤＭ
Ｉ）等の非プロトン性極性溶媒が好ましい。特に水を主
体とする混合溶媒が好ましい。有機溶媒の混合量は任意
であるが、０〜７０重量％特に０〜５０重量％が好まし
い。好ましい二色性色素の濃度は二色性色素溶液全体に
対して通常３０重量％以下、好ましくは２０重量％以
下、より好ましくは１５重量％以下程度で、通常０．１
重量％以上、好ましくは０．５重量％以上、より好まし
くは０．８重量％以上である。二色性色素溶液の溶媒を
蒸発させ該色素薄膜を形成する温度・湿度条件は、該色
素薄膜の偏光素子としての性能を左右する重要な条件で
ある。この条件は、溶媒組成・色素の種類・色素濃度・
塗工膜厚等により決められるが、温度は０〜２００℃、
好ましくは５〜５０℃、湿度は２０〜８０％ＲＨ、好ま
しくは４０〜７０％ＲＨ程度である。

【００６９】本発明で用いられる二色性色素は、一定の
溶媒組成・色素濃度・温度条件下でリオトロピック液晶
性を示す化合物でありクロモニック液晶相といわれる会
合した集合体を形成しており、この集合体が一定方向に
配列することにより、偏光性を示す。又、複数の分子が
会合しているために耐光堅牢性に優れるという特徴を有
している。例えば芳香族系環構造を有する化合物が好ま
しい。芳香族系環構造としては、ベンゼン、ナフタリ
ン、アントラセン、フェナントレンの他にチアゾール、
ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、キノリ
ン等の複素環或いはこれらの４級塩、更にはこれらとベ
ンゼンやナフタリン等との縮合環が特に好ましい。又、
これらの芳香族系環にスルホン酸基、カルボン酸基、ア
ミノ基、水酸基等の親水性置換基が導入されていること
が好ましい。

【００７０】二色性色素としては、例えばアゾ系色素、
シアニン系色素、インダンスロン等の縮合系を含むアン
トラキノン系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色
素、ペリレン系色素、ナフタルイミド系色素、トリフェ
ニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色
素、チアジン系色素、キノフタロン系色素、インジゴ系
色素、チオインジゴ系色素等が挙げられる。水溶性の色
素が好ましいがこの限りではない。二色性色素の具体例
としては、例えばC.I.Direct Blue 1,C.I.DirectBlue 1
5, C.I.Direct Blue 67, C.I.Direct Blue 78, C.I.
Direct Blue 83,C.I.Direct Blue 90, C.I.Direct Blu
e 98, C.I.Direct Blue 151, C.I.Direct Blue 168,
C.I.Direct Blue 202, C.I.Direct Green 51, C.I.
Direct Green 59, C.I.Direct Green 85, C.I.Direct
Vioet 9, C.I.Direct Vioet 48, C.I.Direct Red 2,
C.I.Direct Red 39, C.I.Direct Red 79, C.I.Dire
ctRed 81, C.I.Direct Red 83, C.I.Direct Red 89,
C.I.Direct Orange 39,C.I.Direct Orange 41, C.I.
Direct Orange 49, C.I.Direct Orange 72, C.I.Dire
ct Yellow 12, C.I.Direct Yellow 26, C.I.Direct Y
ellow 44, C.I.Direct Yellow 50, C.I.Acid Red 3
7, C.I.No.27865, C.I.No.27915, C.I.No.27920,
C.I.No.29058, C.I.No.29060, disufoindanthrone,
disulfo-N,N'-dixylylperylenetetracarbodiimide等が
挙げられる。次にいくつかの具体例を構造式でもって次
に示す。

【００７１】

【化１６】

【００７２】

【化１７】

【００７３】

【化１８】

【００７４】

【化１９】

【００７５】

【化２０】

【００７６】

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。実施例中、部は特に限定しない限り重量部を表す。
又、％は断りのない限り重量％を意味する。

【００７７】実施例１ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 下記ポリアミド化合物（１）精製品２部をＮＭＰ９８部
に溶解し、２％ポリマー溶液を作製する。次にガラス基
板上に乾燥膜厚約0.6-0.7μmとなるようにスピンコート
し、１００℃にて２時間加熱乾燥して該ポリアミド薄膜
を形成する。超高圧水銀ランプ（５００Ｗ／ｈｒ）を使
用し５００ｎｍカットオフフィルターで可視光とし更に
偏光板を通して直線偏光とした後、該ポリアミド薄膜を
形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分
間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一定方
向に配列させる。次いで、ストライプ状のマスクを介し
て異なる偏光軸を有する直線偏光を同じように照射し
て、部分的に光活性基の分子軸を異なる方向に配列させ
る。

【００７８】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 ５部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
４．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．３ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。その可視吸収
スペクトルを図１に示す。吸収極大波長における二色性
比は、２５であった。

【００７９】ポリアミド化合物（１）の合成 ＮＭＰ５０部中に５−（４’−ジメチルアミノフェニル
アゾ)イソフタール酸３．１部、４，４’−ジアミノ−
３，５，３’，５’−テトラエチルジフェニルメタン
（ＴＥＤＰＭ：日本化薬（株）製）３．１部を加え攪拌
溶解する。次いでトリフェニルフォスファイト９．３
部、ピリジン２．４部を加え、１００℃にて１０時間攪
拌反応する。反応終了後水５０部を加え、上澄み液をデ
カンテーションで除き２％炭酸ソーダ水溶液１００部を
加え一晩攪拌し、結晶化させる。生成した結晶を濾過し
水洗乾燥して、ポリアミド化合物（１)（ポリ｛イミノ
ー５−〔４−（ジメチルアミノ）フェニルアゾ〕イソフ
タロイルイミノー１，４−（３，５−ジエチル）フェニ
レンメチレンー１，４−（３，５ージエチル）フェニレ
ン｝）５．９部を得る。少量のＮＭＰに加熱溶解しメタ
ノールで希釈し再沈殿精製する。

【００８０】ポリアミド化合物（１）の原料として使用
した５−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)イソフ
タール酸の合成 氷水１００部中に５−アミノイソフタール酸９．０５
部、６Ｎ塩酸１７部を加え氷水で冷却する。亜硝酸ソー
ダ３．４５部を水１０部に溶解し、５℃以下で添加して
ジアゾ化する。別に、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン６．３
部、６Ｎ塩酸８．５部、氷水６０部のカップリング溶液
を調製し氷水で冷却する。このカップリング溶液中に５
℃以下で上記ジアゾニウム溶液を添加し、２％炭酸ソー
ダ溶液を加えてｐＨ４〜６を保ちながら１０℃以下で終
夜攪拌する。析出した結晶を濾過し水洗乾燥してモノア
ゾ色素５−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)イソ
フタール酸１５．５部を得る。

【００８１】実施例２ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 下記ポリアミド化合物（２）精製品２部をＮＭＰ９８部
に溶解し、２％ポリマー溶液を作製する。実施例１に準
じて該ポリアミド薄膜を形成し、該ポリアミド薄膜を形
成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分間
直線偏光を照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸
を一定方向に配列させる。次いで、ストライプ状のマス
クを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を同じように
照射して、部分的に光活性基の分子軸を異なる方向に配
列させる。

【００８２】会合性二色性色素膜の作製１ C.I.Direct Blue 67 ５部、エマール２０Ｃ（アニオン
界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
４．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【００８３】会合性二色性色素膜の作製２ Benzopurpurine 4Bを１部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
８．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。その可視吸収
スペクトルを図２に示す。吸収極大波長における二色性
比は、３０であった。

【００８４】ポリアミド化合物（２）の合成 ＮＭＰ５０部中に５−（４’−（４”−ジメチルアミノ
フェニルアゾ)フェノキシウンデカノイルオキシ）イソ
フタール酸５．９部、４，４’−ジアミノ−３，５，
３’，５’−テトラエチルジフェニルメタン（ＴＥＤＰ
Ｍ）３．１部を加え攪拌溶解する。次いでトリフェニル
フォスファイト９．３部、ピリジン２．４部を加え、１
００℃にて１０時間攪拌反応する。反応終了後水３０部
を加え、上澄み液をデカンテーションで除き２％炭酸ソ
ーダ水溶液１００部を加え一晩攪拌し、結晶化させる。
生成した結晶を濾過し水洗乾燥して、ポリアミド化合物
（２）（ポリ｛イミノー５−〔（４−ジメチルアミノフ
ェニルアゾ）フェノキシウンデカノロキシ〕イソフタロ
イルイミノー１，４−（３，５−ジエチル）フェニレン
メチレンー１，４−（３，５−ジメチル）フェニレ
ン｝）８．７部を得る。少量のＮＭＰに加熱溶解しメタ
ノールで希釈し再沈殿精製する。

【００８５】ポリアミド化合物（２）の原料として使用
した５−（４’−（４”−ジメチルアミノフェニルア
ゾ)フェノキシウンデカノイルオキシ）イソフタール酸
の合成４−オキシ（４’−ジメチルアミノフェニルア
ゾ)ベンゼンと１１−ブロモウンデカン酸より合成した
４−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)フェノキシ
ウンデカン酸８．５部と塩化チオニル９．６部をトルエ
ン３０部中で室温で５時間攪拌反応させる。その後減圧
下に過剰の塩化チオニルを留去し、氷水で冷却しながら
５−オキシイソフタール酸ジテトラピラニルエステル
７．５部とピリジン９．６部を溶解したＤＭＦ２０部を
滴下する。５−１０℃で１５時間攪拌反応させる。反応
終了後２％炭酸ソーダ水溶液５００部で希釈し、トルエ
ン１００部を追加し分液する。トルエン層を水洗し無水
硫酸ソーダで乾燥後トルエンを減圧留去して油分を得
る。これをジオキサン１００部に溶解し濃塩酸１０部を
加え攪拌反応させエステル基を加水分解する。５％炭酸
ソーダ水溶液で中和し析出した結晶を濾過し水洗乾燥し
て５−（４’−（４”−ジメチルアミノフェニルアゾ)
フェノキシウンデカノイルオキシ）イソフタール酸の粗
製品を得る。アルコールで再結晶して精製品を得る。

【００８６】実施例３ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 実施例２で得られたポリアミド化合物（２）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。実施例１に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、該ポ
リアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍ
の距離から１分間直線偏光を照射して、偏光照射部分の
光活性基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ス
トライプ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線
偏光を同じように照射して、部分的に光活性基の分子軸
を異なる方向に配列させる。

【００８７】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １０部、エマールＮＣ（アニオン
界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水８
９.８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．５ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【００８８】ポリアミド化合物（２）の別途合成方法 ４−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)フェノキシ
ウンデカン酸８．５部と塩化チオニル９．６部をトルエ
ン３０部中で室温で５時間攪拌反応させる。その後減圧
下に過剰の塩化チオニルを留去し、氷水で冷却しながら
ポリ（イミノ−５−オキシイソフタロイルイミノ−１，
４−（３，５−ジエチル）フェニレンーメチレン−１，
４−（３，５−ジエチル）フェニレン４．６部とピリジ
ン９．６部をＮＭＰ１００部に溶解した液を滴下する。
５−１０℃で１５時間攪拌反応させる。反応終了後２％
炭酸ソーダ水溶液５００部で希釈し、トルエンを留去し
た後析出した結晶を濾過し水洗乾燥する。粗製ポリアミ
ドを少量のＮＭＰに加熱溶解しメタノールで希釈して再
沈殿精製する。このものはＮＭＲ測定から約５０％のオ
キシ基が４−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)フ
ェノキシウンデカノイル基で置換されていることが明ら
かであった。

【００８９】実施例４ ポリアミド化合物（２）の別途合成方法 ４−（４’−ジメチルアミノフェニルアゾ)フェノキシ
ウンデカン酸８．５部をジメチルホルムアミド２００部
中に加熱溶解し、２０℃に冷却する。これにポリ（イミ
ノ−５−オキシイソフタロイルイミノ−１，４−（３，
５−ジエチル)フェニレンーメチレン−１，４−（３，
５−ジエチル）フェニレン)９．１部を加え溶解する。
更に２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリウムクロ
ライド３．４部、ピリジン３．４部を添加し、２０−２
２℃で２０時間攪拌反応させる。反応終了後少量の不溶
解物を濾過する。濾液を２％炭酸ソーダ水溶液５００部
で希釈し、析出した粗製ポリアミドを濾過し水洗乾燥す
る。粗製ポリアミドを少量のＮＭＰに加熱溶解しメタノ
ールで希釈して再沈殿精製する。このものはＮＭＲ測定
から約９０％のオキシ基が４−（４’−ジメチルアミノ
フェニルアゾ)フェノキシウンデカノイル基で置換され
ていることが明らかであった。

【００９０】光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直
線偏光照射 上記合成方法で得られたポリアミド化合物（２）精製品
２部をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製
する。実施例１に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、該
ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃ
ｍの距離から１分間直線偏光を照射して、偏光照射部分
の光活性基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、
ストライプ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直
線偏光を同じように照射して、部分的に光活性基の分子
軸を異なる方向に配列させる。

【００９１】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67を３部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
６．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上にロールコーター
を用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコーテ
ィングロールと基板間の位置を微調整してロールと基板
間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は富
士フィルムプレスケールによって測定した。塗布した基
板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明のス
トライプ状の偏光素子を得た。

【００９２】実施例４と同様にして表１に示すポリアミ
ド化合物が得られ、それらについても同様の光配向効果
が得られる。 表１

【００９３】

【００９４】

【００９５】

【００９６】実施例５ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 下記ポリアミド化合物（３）精製品２部をＮＭＰ９８部
に溶解し、２％ポリマー溶液を作製する。次にガラス基
板上に乾燥膜厚約0.6-0.7μmとなるようにスピンコート
し、１８０℃にて１０分間加熱乾燥して該ポリアミド薄
膜を形成する。超高圧水銀ランプ（５００Ｗ／ｈｒ）を
使用し５５０ｎｍカットオフフィルターで可視光とし、
更に偏光板を通して直線偏光とした後該ポリアミド薄膜
を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１
分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一定
方向に配列させる。次いで、ストライプ状のマスクを介
して異なる偏光軸を有する直線偏光を同じように照射し
て、部分的に光活性基の分子軸を異なる方向に配列させ
る。

【００９７】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 ３部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
６．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上にロールコーター
を用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコーテ
ィングロールと基板間の位置を微調整してロールと基板
間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は富
士フィルムプレスケールによって測定した。塗布した基
板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明のス
トライプ状の偏光素子を得た。

【００９８】ポリアミド化合物（３）の合成 ＮＭＰ５０部中に５−（４’−ジメチルアミノナフチル
アゾ)イソフタール酸３．５部、４，４’−ジアミノ−
３，５，３’，５’−テトラエチルジフェニルメタン
（ＴＥＤＰＭ）３．１部を加え攪拌溶解する。次いでト
リフェニルフォスファイト９．３部、ピリジン２．４部
を加え、１００℃にて１０時間攪拌反応する。反応終了
後水５０部を加え、上澄み液をデカンテーションで除き
２％炭酸ソーダ水溶液１００部を加え一晩攪拌し、結晶
化させる。生成した結晶を濾過し水洗乾燥して、ポリア
ミド化合物（３）（ポリ｛イミノー５−〔４−（ジメチ
ルアミノ）ナフチルアゾ〕イソフタロイルイミノー１,
４ー（３，５ージエチル）フェニレンメチレンー１，４
−（３，５−ジエチル）フェニレン｝）３．５部を得
る。少量のＮＭＰに加熱溶解しメタノールで希釈し再沈
殿精製する。

【００９９】上記ポリアミド化合物（３）の原料として
使用した５−（４’−ジメチルアミノナフチルアゾ)イ
ソフタール酸の合成 氷水１００部中に５−アミノイソフタール酸９．０５
部、６Ｎ塩酸１７部を加え氷水で冷却する。亜硝酸ソー
ダ３．４５部を水１０部に溶解し、５℃以下で添加して
ジアゾ化する。別に、１−Ｎ、Ｎ−ジメチルナフチルア
ミン８．９部、６Ｎ塩酸８．５部、氷水６０部のカップ
リング溶液を調製し氷水で冷却する。このカップリング
溶液中に５℃以下で上記ジアゾニウム溶液を添加し、２
％炭酸ソーダ溶液を加えてｐＨ４〜６を保ちながら１０
℃以下で終夜攪拌する。析出した結晶を濾過し水洗乾燥
してモノアゾ色素５−（４’−ジメチルアミノナフチル
アゾ)イソフタール酸１５．８部を得る。

【０１００】実施例６ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 下記ポリアミド化合物（４）精製品２部をＮＭＰ９８部
に溶解し、２％ポリマー溶液を作製する。実施例１に準
じて該ポリアミド薄膜を形成し、超高圧水銀ランプ（５
００Ｗ／ｈｒ）を使用し５００ｎｍカットオフフィルタ
ーで可視光とし更に偏光板を通して直線偏光とした後、
該ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０
ｃｍの距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性
基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ストライ
プ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を
同じように照射して、部分的に光活性基の分子軸を異な
る方向に配列させる。

【０１０１】会合性二色性色素膜の作製 Benzopurpurine 4Bを１部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
８．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１０２】ポリアミド化合物（４）の合成 ＮＭＰ５０部中に５−（４’−メトキシナフチルアゾ）
イソフタール酸３．５部、４，４’−ジアミノ−３，
５，３’，５’−テトラエチルジフェニルメタン（ＴＥ
ＤＰＭ）３．１部を加え攪拌溶解する。次いでトリフェ
ニルフォスファイト９．３部、ピリジン２．４部を加
え、１００℃にて１０時間攪拌反応する。反応終了後水
５０部を加え、上澄み液をデカンテーションで除き２％
炭酸ソーダ水溶液１００部を加え一晩攪拌し、結晶化さ
せる。生成した結晶を濾過し水洗乾燥して、ポリアミド
化合物（4）（ポリ〔イミノー５−（４−ジメトキシナ
フチルアゾ）イソフタロイルイミノー１,４ー（３，５
ージエチル）フェニレンメチレンー１，４−（３，５−
ジエチル）フェニレン〕）３．５部を得る。少量のＮＭ
Ｐに加熱溶解しメタノールで希釈し再沈殿精製する。

【０１０３】上記ポリアミド化合物（４）の原料として
使用した５−（４’−メトキシナフチルアゾ)イソフタ
ール酸の合成 水４０部中に５−アミノイソフタール酸ジエチルエステ
ル１２．６部、６Ｎ塩酸１８部を加え氷水で冷却する。
亜硝酸ソーダ３．６７部を水１０部に溶解し、５℃以下
で添加してジアゾ化する。別に、１−ナフトール７．７
部、炭酸ソーダ６．５部、水６０部のカップリング溶液
を調製し氷水で冷却する。このカップリング溶液中に５
℃以下で上記ジアゾニウム溶液を添加し、１０℃以下で
終夜攪拌する。次いで、６Ｎ塩酸１２部を加え濾過し水
洗乾燥してモノアゾ色素５−（４’−オキシナフチルア
ゾ)イソフタール酸ジエチルエステル２０．７部を得
る。次に、ＤＭＦ６０部中に上記モノアゾ色素１２．５
部、炭酸ソーダ２．９部、トルエンスルホン酸メチル１
０．０部を仕込み１００℃で１０時間攪拌反応する。反
応後水１２０部を加え終夜攪拌する。析出した結晶を濾
過し水洗する。更に、このウェットケーキをメタノール
７０部中に苛性ソーダ３．３部を溶解した溶液中に仕込
み５５−６５℃で４時間攪拌反応する。反応後水２００
部を加えて完全溶解するのを確認して６Ｎ塩酸を加えて
中和し析出する結晶を濾過水洗乾燥して、５−（４’−
メトキシナフチルアゾ)イソフタール酸５．６部を得
る。

【０１０４】実施例７ ポリイミド（１）の合成及び薄膜の調製 ４−ジメチルアミノ−４’−ジ（アミノ）エチルアミノ
フェニルアゾベンゼン３．２６部、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン６０部を四つ口フラスコに仕込み水冷下窒素を
吹き込みながら攪拌溶解する。次いでシクロペンタン−
１，２，３，４−テトラカルボン酸無水物２．１部を少
量ずつ添加する。添加終了後水冷下４時間、６０℃で１
０時間反応させポリアミック酸溶液を得る。これにＮ−
メチル−２−ピロリドン４０部を追加して５％ポリアミ
ック酸溶液を調整し、ガラス基板上に乾燥膜厚約0.6-0.
7μmとなるようにスピンコートし、２００℃で１時間加
熱して該ポリイミド薄膜を得る。超高圧水銀ランプ（５
００Ｗ／ｈｒ）を使用し５５０ｎｍカットオフフィルタ
ーで可視光とし、更に偏光板を通して直線偏光とした後
ストライプ状のマスクを介して該ポリイミド薄膜を形成
したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分間照
射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一定方向に
配列させる。次いで、ストライプ状のマスクを介して異
なる偏光軸を有する直線偏光を同じように照射して、部
分的に光活性基の分子軸を異なる方向に配列させる。

【０１０５】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
８．９８部に加熱溶解し色素溶液を調整する。この色素
溶液を上記ポリイミド薄膜基板の膜面上にロールコータ
ーを用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコー
ティングロールと基板間の位置を微調整してロールと基
板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は
富士フィルムプレスケールによって測定した。塗布した
基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明の
ストライプ状の偏光素子を得た。

【０１０６】実施例８ ポリイミド（２）の合成及び薄膜の調製 Ｎ、Ｎ−ジアミノエチル−４−（４’−（４”−ジメチ
ルアミノフェニルアゾ）フェノキシ)ウンデカノイルオ
キシアニリン３．０１部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
６０部を四つ口フラスコに仕込み水冷下窒素を吹き込み
ながら攪拌溶解する。次いで４，４’−オキシジフター
ル酸無水物１．５５部を少量ずつ添加する。添加終了後
水冷下４時間、６０℃で１０時間反応させポリアミック
酸溶液を得る。これにＮ−メチル−２−ピロリドン３０
部を追加して５％ポリアミック酸溶液を調整し、ガラス
基板上に乾燥膜厚約0.6-0.7μmとなるようにスピンコー
トし、２００℃で１時間加熱して該ポリイミド薄膜を得
る。超高圧水銀ランプ（５００Ｗ／ｈｒ）を使用し５５
０ｎｍカットオフフィルターで可視光とし、更に偏光板
を通して直線偏光とした後ストライプ状のマスクを介し
て該ポリイミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５
０ｃｍの距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活
性基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ストラ
イプ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光
を同じように照射して、部分的に光活性基の分子軸を異
なる方向に配列させる。

【０１０７】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
８．９８部に加熱溶解し色素溶液を調整する。この色素
溶液を上記ポリイミド薄膜基板の膜面上にロールコータ
ーを用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコー
ティングロールと基板間の位置を微調整してロールと基
板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は
富士フィルムプレスケールによって測定した。塗布した
基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明の
ストライプ状の偏光素子を得た。

【０１０８】その他のポリイミドの合成例 実施例７，８に準じて下記のジアミンとテトラカルボン
酸無水物を反応させて、表２に示すポリイミドを得るこ
とが出来る。それらについても同様の光配向効果が得ら
れる。 表２

【０１０９】

【０１１０】

【０１１１】

【０１１２】

【０１１３】

【０１１４】実施例９ 実施例１において作製したポリアミド薄膜塗布基板に、
実施例１と同様にして得られる直線偏光を図３に示され
るストライプ状のマスクを介して該ポリアミド薄膜を形
成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分間
照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一定方向
に配列させる。次いで、９０゜回転した直線偏光を図４
に示されるストライプ状のマスクを介して、該ポリアミ
ド薄膜塗布基板の未露光部の膜面上に５０ｃｍの距離か
ら１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を
前記分子軸と９０゜異なる方向に配列させる。

【０１１５】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 1を１部、C.I.Direct Blue 67を１
部、C.I.Direct Red 79を０．５部、C.I.Direct Orange
39を０．５部、エマルゲン１０８（ノニオン界面活性
剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９６．８部に
加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶液を上記ポ
リアミド薄膜基板の膜面上にロールコーターを用いて塗
布した。ロールコーターはあらかじめコーティングロー
ルと基板間の位置を微調整してロールと基板間の押し圧
を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は富士フィルム
プレスケールによって測定した。塗布した基板は３０
℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明の偏光軸が９
０゜異なったストライプ状の偏光素子を得た。

【０１１６】実施例１０ 実施例４において作製したポリアミド薄膜塗布基板に、
実施例４と同様にして得られる直線偏光を図３に示され
るストライプ状のマスクを介して該ポリアミド薄膜を形
成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分間
照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一定方向
に配列させる。次いで、９０゜回転した直線偏光を図４
に示されるストライプ状のマスクを介して、該ポリアミ
ド薄膜塗布基板の未露光部の膜面上に５０ｃｍの距離か
ら１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を
前記分子軸と９０゜異なる方向に配列させる。

【０１１７】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 83を１部、C.I.Direct Blue 67を１
部、C.I.Direct Red 2を０．５部、C.I.Direct Orange
39を０．５部、エマルゲン１０８（ノニオン界面活性
剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９６．８部に
加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶液を上記ポ
リアミド薄膜基板の膜面上にロールコーターを用いて塗
布した。ロールコーターはあらかじめコーティングロー
ルと基板間の位置を微調整してロールと基板間の押し圧
を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は富士フィルム
プレスケールによって測定した。塗布した基板は３０
℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明の偏光軸が９
０゜異なったストライプ状の偏光素子を得た。

【０１１８】実施例１１ 実施例１において作製したポリアミド薄膜塗布基板に、
実施例１と同様にして得られる直線偏光を該ポリアミド
薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離か
ら１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を
一定方向に配列させる。

【０１１９】会合性二色性色素膜の作製。 C.I.Direct Blue 15を３部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
６．９８部に加熱溶解し青色色素溶液を調製する。次に
C.I.Direct Red 28を３部、エマルゲン１０８（ノニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
６．９８部に加熱溶解し赤色色素溶液を調製する。更に
C.I.Direct Green 85を３部、エマルゲン１０８（ノニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン
水６．９８部に加熱溶解し緑色色素溶液を調製する。こ
の色素溶液をスクリーン印刷法でストライプ状に青、
赤、緑それぞれ別に上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に
印刷し、４０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して、本発
明の青、赤、緑のストライプ状の偏光素子を得る。

【０１２０】実施例１２ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射。 実施例１で得られたポリアミド化合物（１）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。次にガラス基板上に乾燥膜厚約0.6-0.7μmとなるよ
うにスピンコートし、１００℃にて２時間加熱乾燥して
該ポリアミド薄膜を形成する。超高圧水銀ランプ（５０
０Ｗ／ｈｒ）を使用し５００ｎｍカットオフフィルター
で可視光とし更に偏光板を通して直線偏光とした後、該
ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃ
ｍの距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性基
の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ストライプ
状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を同
じように照射して、部分的に光活性基の分子軸を異なる
方向に配列させる。

【０１２１】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 ５部、エマールＥ−２７Ｃ（ポリ
オキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム：アニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水
９４．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素
溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロ
ールコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあら
かじめコーティングロールと基板間の位置を微調整して
ロールと基板間の押し圧を０．３ＭＰａに調整した。圧
力の測定は富士フィルムプレスケールによって測定し
た。塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥
して本発明のストライプ状の偏光素子を得た。吸収極大
波長における二色性比は、２５であった。

【０１２２】実施例１３ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 実施例２で得られたポリアミド化合物（２）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。実施例１２に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、該
ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃ
ｍの距離から１分間直線偏光を照射して、偏光照射部分
の光活性基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、
ストライプ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直
線偏光を同じように照射して、部分的に光活性基の分子
軸を異なる方向に配列させる。

【０１２３】会合性二色性色素膜の作製１ C.I.Direct Blue 67 ５部、エマールＥ−２７Ｃ（アニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水
９４．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素
溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロ
ールコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあら
かじめコーティングロールと基板間の位置を微調整して
ロールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧
力の測定は富士フィルムプレスケールによって測定し
た。塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥
して本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１２４】会合性二色性色素膜の作製２ Benzopurpurine 4Bを１部、エマールＥー２７Ｃ（アニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水
９８．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素
溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロ
ールコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあら
かじめコーティングロールと基板間の位置を微調整して
ロールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧
力の測定は富士フィルムプレスケールによって測定し
た。塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥
して本発明のストライプ状の偏光素子を得た。吸収極大
波長における二色性比は、３０であった。

【０１２５】実施例１４ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 実施例２で得られたポリアミド化合物（２）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。実施例１２に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、該
ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃ
ｍの距離から１分間直線偏光を照射して、偏光照射部分
の光活性基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、
ストライプ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直
線偏光を同じように照射して、部分的に光活性基の分子
軸を異なる方向に配列させる。

【０１２６】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １０部、エマール２０ＣＭ（ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム：アニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水
８９.８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素
溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロ
ールコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあら
かじめコーティングロールと基板間の位置を微調整して
ロールと基板間の押し圧を０．５ＭＰａに調整した。圧
力の測定は富士フィルムプレスケールによって測定し
た。塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥
して本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１２７】実施例１５ ポリアミド化合物（２）の合成 前記実施例４と同様にして、ポリアミド化合物（２）を
合成した。このものはＮＭＲ測定から約９０％のオキシ
基が４−（４’−ジメチルアミノ）フェニルアゾフェノ
キシウンデカノイル基で置換されていることが明らかで
あった。

【０１２８】光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直
線偏光照射 前記で得られたポリアミド化合物精製品２部をＮＭＰ９
８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製する。実施例１
２に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、該ポリアミド薄
膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から
１分間直線偏光を照射して、偏光照射部分の光活性基の
分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ストライプ状
のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を同じ
ように照射して、部分的に光活性基の分子軸を異なる方
向に配列させる。

【０１２９】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67を３部、エマール２０Ｔ（ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミ
ン：アニオン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱
イオン水９６．８部に加熱溶解し色素溶液を調整する。
この色素溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上にロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。実施例１５と
同様な方法により、前記した表１のポリアミド化合物に
ついても本発明のストライブ状の偏光素子を得ることが
できる。

【０１３０】実施例１６ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 実施例５で得られたポリアミド化合物（３）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。次にガラス基板上に乾燥膜厚約0.6-0.7μmとなるよ
うにスピンコートし、１８０℃にて１０分間加熱乾燥し
て該ポリアミド薄膜を形成する。超高圧水銀ランプ（５
００Ｗ／ｈｒ）を使用し５５０ｎｍカットオフフィルタ
ーで可視光とし、更に偏光板を通して直線偏光とした後
該ポリアミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０
ｃｍの距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性
基の分子軸を一定方向に配列させる。次いで、ストライ
プ状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を
同じように照射して、部分的に光活性基の分子軸を異な
る方向に配列させる。

【０１３１】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 ３部、エマールＮＣ−３５（ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウ
ム：アニオン界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱
イオン水９６．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。
この色素溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上にロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１３２】実施例１７ 光活性基含有ポリアミド薄膜の作製及び直線偏光照射 実施例６で得られたポリアミド化合物（４）精製品２部
をＮＭＰ９８部に溶解し、２％ポリマー溶液を作製す
る。実施例１２に準じて該ポリアミド薄膜を形成し、超
高圧水銀ランプ（５００Ｗ／ｈｒ）を使用し５００ｎｍ
カットオフフィルターで可視光とし更に偏光板を通して
直線偏光とした後、該ポリアミド薄膜を形成したガラス
基板の膜面上に５０ｃｍの距離から１分間照射して、偏
光照射部分の光活性基の分子軸を一定方向に配列させ
る。次いで、ストライプ状のマスクを介して異なる偏光
軸を有する直線偏光を同じように照射して、部分的に光
活性基の分子軸を異なる方向に配列させる。

【０１３３】会合性二色性色素膜の作製 Benzopurpurine 4Bを１部、レベノールＷＸ（ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム：アニオン
界面活性剤：花王（株）製）０．２部を脱イオン水９
８．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素溶
液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に枚葉基板用ロー
ルコーターを用いて塗布した。ロールコーターはあらか
じめコーティングロールと基板間の位置を微調整してロ
ールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力
の測定は富士フィルムプレスケールによって測定した。
塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して
本発明のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１３４】実施例１８ ポリイミド（１）の合成及び薄膜の調製 実施例７と同様にして、ポリイミド（１）の合成及び薄
膜の調製を行い、ポリイミド薄膜基板を得た。

【０１３５】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １部、エマールＡＤ−２５Ｒ（ラ
ウリル硫酸アンモニウム：アニオン界面活性剤：花王
（株）製）０．０２部を脱イオン水８．９８部に加熱溶
解し色素溶液を調製する。この色素溶液を上記ポリイミ
ド薄膜基板の膜面上にロールコーターを用いて塗布し
た。ロールコーターはあらかじめコーティングロールと
基板間の位置を微調整してロールと基板間の押し圧を
０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は富士フィルムプ
レスケールによって測定した。塗布した基板は３０℃、
６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明のストライプ状の
偏光素子を得た。

【０１３６】実施例１９ ポリイミド（２）の合成及び薄膜の調製 実施例８と同様にして、ポリイミド（２）の合成及び薄
膜の調製を行い、ポリイミド薄膜基板を得た。

【０１３７】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 67 １部、エマールＥ−２７Ｃ（ポリ
オキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム：アニ
オン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン
水８．９８部に加熱溶解し色素溶液を調整する。この色
素溶液を上記ポリイミド薄膜基板の膜面上にロールコー
ターを用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコ
ーティングロールと基板間の位置を微調整してロールと
基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定
は富士フィルムプレスケールによって測定した。塗布し
た基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明
のストライプ状の偏光素子を得た。

【０１３８】表２に示すポリイミドを用いて、実施例１
８、１９に準じて会合性２色性色素膜を作成することに
より、本発明のストライプ状の偏光素子を得ることがで
きる。

【０１３９】実施例２０ 実施例１２において作製したポリアミド薄膜塗布基板
に、実施例１２と同様にして得られる直線偏光を図４に
示されるストライプ状のマスクを介して該ポリアミド薄
膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から
１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一
定方向に配列させる。次いで、９０゜回転した直線偏光
を図３に示されるストライプ状のマスクを介して、該ポ
リアミド薄膜塗布基板の未露光部の膜面上に５０ｃｍの
距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分
子軸を前記分子軸と９０゜異なる方向に配列させる。

【０１４０】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 1を１部、C.I.Direct Blue 67を１
部、C.I.Direct Red 79を０．５部、C.I.Direct Orange
39を０．５部、エマール２０Ｃ（ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル硫酸ナトリウム：花王（株）製）０．
２部を脱イオン水９６．８部に加熱溶解し色素溶液を調
製する。この色素溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面
上にロールコーターを用いて塗布した。ロールコーター
はあらかじめコーティングロールと基板間の位置を微調
整してロールと基板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整し
た。圧力の測定は富士フィルムプレスケールによって測
定した。塗布した基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に
乾燥して本発明の偏光軸が９０゜異なったストライプ状
の偏光素子を得た。

【０１４１】実施例２１ 実施例１５において作製したポリアミド薄膜塗布基板
に、実施例１５と同様にして得られる直線偏光を図３に
示されるストライプ状のマスクを介して該ポリアミド薄
膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの距離から
１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分子軸を一
定方向に配列させる。次いで、９０゜回転した直線偏光
を図４に示されるストライプ状のマスクを介して、該ポ
リアミド薄膜塗布基板の未露光部の膜面上に５０ｃｍの
距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分
子軸を前記分子軸と９０゜異なる方向に配列させる。

【０１４２】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 83を１部、C.I.Direct Blue 67を１
部、C.I.Direct Red 2を０．５部、C.I.Direct Orange
39を０．５部、エマール２０Ｃ ０．２部を脱イオン水
９６．８部に加熱溶解し色素溶液を調製する。この色素
溶液を上記ポリアミド薄膜基板の膜面上にロールコータ
ーを用いて塗布した。ロールコーターはあらかじめコー
ティングロールと基板間の位置を微調整してロールと基
板間の押し圧を０．２ＭＰａに調整した。圧力の測定は
富士フィルムプレスケールによって測定した。塗布した
基板は３０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して本発明の
偏光軸が９０゜異なったストライプ状の偏光素子を得
た。

【０１４３】実施例２２ 実施例１２において作製したポリアミド薄膜塗布基板
に、実施例１２と同様にして得られる直線偏光を該ポリ
アミド薄膜を形成したガラス基板の膜面上に５０ｃｍの
距離から１分間照射して、偏光照射部分の光活性基の分
子軸を一定方向に配列させる。

【０１４４】会合性二色性色素膜の作製 C.I.Direct Blue 15を３部、エマール２０Ｃ（アニオン
界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
６．９８部に加熱溶解し青色色素溶液を調製する。次に
C.I.Direct Red 28を３部、エマール２０Ｃ（アニオン
界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
６．９８部に加熱溶解し赤色色素溶液を調製する。更に
C.I.Direct Green 85を３部、エマール２０Ｃ（アニオ
ン界面活性剤：花王（株）製）０．０２部を脱イオン水
６．９８部に加熱溶解し緑色色素溶液を調製する。この
色素溶液をスクリーン印刷法でストライプ状に青、赤、
緑それぞれ別に上記ポリアミド薄膜基板の膜面上に印刷
し、４０℃、６０％ＲＨの条件下に乾燥して、本発明の
青、赤、緑のストライプ状の偏光素子を得る。

【０１４５】

【発明の効果】本発明によれば、直線偏光を照射した光
活性基を有する液晶性樹脂薄膜層に二色性分子をマイク
ロパターン状に配列させるだけで偏光素子が得られる。
延伸操作が必要ないのでガラス基板のような延伸不可能
な基板上にも直接偏光素子を作り込むことが可能となっ
た。又、照射する直線偏光の偏光軸を変えるだけで二色
性分子の配列を変えることが可能であり、そのため基板
上に偏光軸が異なるマイクロパターン偏光素子の製造が
可能となった。この基板を使用した液晶表示素子は容易
に立体画像表示が可能となる。

【０１４６】

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた偏光素子の可視吸収スペク
トル（図においてＡ（平行）は偏光軸が配向色素の分子
長軸と平行な場合の吸光度を、又Ａ（垂直）は偏光軸が
配向色素の分子長軸と垂直な場合の吸光度をそれぞれ示
す。以下の図において同様）

【図２】実施例２で得られた偏光素子の可視吸収スペク
トル

【図３】長さ５０ｍｍ、幅ａμｍの遮光部がｂμｍの間
隔をおいて並んでいるテスト用マスク

【図４】長さ５０ｍｍ、幅ａμｍの遮光部がｂμｍの間
隔をおいて並んでいるテスト用マスク。ｂ＞ａであり、
重ね合わせた場合に図３の遮光部と遮光部の間に図４の
遮光部が入る位置関係にある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉置 敬 茨城県つくば市東１−１−１ 独立行政法 人産業技術総合研究所つくばセンター内 Ｆターム(参考） 2H049 BA05 BA22 BB02 BC08 BC09 BC22 2H091 FA07X FA07Z FB02 FC23 GA01 LA12 LA17 LA30 MA01

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に光活性基を有する液晶性高分子薄
   膜を形成し、該薄膜に直線偏光を照射し、ついで別のマ
   イクロパターン状のマスクを介して異なる偏光軸を有す
   る直線偏光を照射した後、該薄膜上に二色性分子をマイ
   クロパターン状に配列させる工程において、基板に対し
   て垂直方向に０．０１ＭＰａ〜１．０ＭＰａの圧力が懸
   かるように二色性分子溶液を塗布する偏光素子の製造方
   法
2. 【請求項２】二色性分子溶液が、アニオン系界面活性剤
   を含む溶液である請求項１に記載の偏光素子の製造方法
3. 【請求項３】請求項２におけるアニオン系界面活性剤
   が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウ
   ム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウ
   ム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタ
   ノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
   ーテル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウ
   リル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールア
   ミンからなる群から選ばれる１種又は２種以上である請
   求項２に記載の偏光素子の製造方法
4. 【請求項４】請求項１乃至請求項３における光活性基
   が、非芳香族性のＮ＝Ｎ、非芳香族性のＣ＝Ｃ、非芳香
   族性のＣ＝Ｎからなる群から選ばれる１種又は２種以上
   である請求項１乃至請求項３の偏光素子の製造方法
5. 【請求項５】請求項１乃至請求項３における液晶性高分
   子薄膜が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル又は
   ポリウレタン樹脂薄膜である請求項１乃至請求項３の偏
   光素子の製造方法
6. 【請求項６】請求項１乃至請求項３における液晶性高分
   子薄膜が、ポリ桂皮酸ビニル樹脂薄膜である請求項１乃
   至請求項３の偏光素子の製造方法
7. 【請求項７】請求項１乃至請求項３における二色性分子
   がリオトロピック液晶性を有する色素である請求項１乃
   至請求項３の偏光素子の製造方法
8. 【請求項８】請求項７のリオトロピック液晶性を有する
   色素が親水性置換基を有する色素である請求項７の偏光
   素子の製造方法
9. 【請求項９】請求項８において親水性置換基がスルホン
   酸基、カルボン酸基、アミノ基、水酸基からなる群から
   選ばれる１個以上の基である請求項８の偏光素子の製造
   方法
10. 【請求項１０】請求項１乃至請求項３における直線偏光
    の照射が偏光性を有するレーザ光を用いて行われる請求
    項１乃至請求項３の偏光素子の製造方法
11. 【請求項１１】対向する上下基板を有する液晶表示装置
    であって、該基板の少なくとも一方が請求項１乃至請求
    項１０のいずれか一項に記載の偏光素子を有する基板で
    ある立体表示装置