JP2001091705A

JP2001091705A - 光学用フィルム及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001091705A
Application number: JP2000023906A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Takiyama; 信行滝山; Kunio Shimizu; 邦夫清水; Takashi Murakami; 隆村上; Toru Kobayashi; 徹小林
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1999-07-22
Filing date: 2000-02-01
Publication date: 2001-04-06

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の目的は、第１に反射防止層や防眩層
のダメージを受けにくい、張り合わせの前処理が簡素化
された光学用フィルムを提供すること、第２に欠陥の少
ない光学用フィルムを提供すること及び第３に物性に優
れた光学用フィルムを提供することにある。【解決手段】１）基材のどちらか一方の側に少なくと
も防眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接
着層を有することを特徴とする光学用フィルム。２）反射防止層が光学的干渉層であることを特徴とする
光学用フィルム。３）可視光におけるいずれかの波長の
５度正反射の反射率が２％以下であることを特徴とする
前記１に記載の光学用フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は視認性向上のため、
特に液晶ディスプレイ等の前面に使用される、光学用フ
ィルム及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、視認性向上のために反射防止層ま
たは防眩層を付与したディスプレイが多く使用されてい
る。反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類
や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前
面版を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせること
で、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能ま
たは防眩機能等を付与する方法が用いられている。これ
ら、前面版として用いる光学用フィルムには、塗布また
はスパッタリング等で形成した反射防止層または防眩層
が設けられている。しかし、これらの光学用フィルムは
例えば偏光板等に張り合わせる工程が必要であり、その
為に、接着性の改善を目的としたアルカリ液による表面
のケン化処理や糊の塗布などの前処理工程が必須で、皺
の発生やムラを生じ易かったり、反射防止層や防眩層も
それによりダメージを受け易い欠点を有していた。又、
張り合わせ工程において、多数の面タッチローラーにふ
れたりすることで反射防止層または防眩層に傷が発生し
やすいという欠点も有していた。

【０００３】また、これらの光学用フィルムの貼り合わ
せ工程やパネル作製時に、静電気等によるゴミの付着も
起きやすく、欠陥の発生原因となっており改良が望まれ
ていた。さらにフィルムがカールしていると塗布工程や
フィルムの貼り合わせ工程において密着不良を引き起こ
したり、気泡が入り込んでしまう問題点を有していた。

【０００４】また、これらの欠点を改良する試みとして
反射防止層又は防眩層を有する光学用フィルムの反対面
に易接着層を設け上記の欠点を改良しようとしたものも
ある。

【０００５】しかしながら、易接着層と反射防止層また
は防眩層との組み合わせによっては、ブロッキングや巻
き取り不良や、層構成の順によっては各層の密着性によ
る不良を引き起こしやすく欠陥の原因であることが判明
した。また、複数の機能層を有するフィルムのため、通
常の塗布乾燥工程のみでは物性や光学特性が十分発揮で
きない場合や膜厚が厚いとロール状になった時の中心に
近い部分に亀裂や皺が発生しやすいことを発見した。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、第１に反射防止層や防眩層のダメージを受けにく
い、張り合わせの前処理が簡素化された光学用フィルム
を提供すること、第２に欠陥の少ない光学用フィルムを
提供すること及び第３に物性に優れた光学用フィルムを
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の手段により達成される。

【０００８】１．基材のどちらか一方の側に少なくとも
防眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接着
層を有することを特徴とする光学用フィルム。

【０００９】２．反射防止層が光学的干渉層であること
を特徴とする前記１に記載の光学用フィルム。

【００１０】３．可視光におけるいずれかの波長の５度
正反射の反射率が２％以下であることを特徴とする前記
１に記載の光学用フィルム。

【００１１】４．反射防止層または防眩層の最表層がフ
ッ素原子またはケイ素原子を含有する層であることを特
徴とする前記１に記載の光学用フィルム。

【００１２】５．防眩層の表面が凹凸の構造になってい
ることを特徴とする前記１に記載の光学用フィルム。

【００１３】６．防眩層が光重合性樹脂に微粒子を含有
させ硬化させたものであることを特徴とする前記１に記
載の光学用フィルム。

【００１４】７．易接着層がポリビニルアルコールから
なる偏光子に接着する層であることを特徴とする前記１
〜６のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００１５】８．易接着層が親水性セルロース誘導体、
ポリビニルアルコール誘導体、天然高分子化合物、親水
性ポリエステル化合物または親水性ポリビニル誘導体か
ら選ばれる親水性高分子化合物であることを特徴とする
前記１〜７のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００１６】９．易接着層が基材から順にカルボキシル
基を有する高分子化合物を含有する層、次に親水性高分
子化合物からなる層で構成されることを特徴とする前記
１〜８のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００１７】１０．フィルムの表面または裏面の動摩擦
係数が０．４以下であることを特徴とする前記１〜９の
いずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００１８】１１．フィルムのどちらかの最表層に平均
粒径が１．０μｍ以下の微粒子が含有されていることを
特徴とする前記１０に記載の光学用フィルム。

【００１９】１２．易接着層に平均粒径が１．０μｍ以
下の微粒子が含有されていることを特徴とする前記１１
に記載の光学用フィルム。

【００２０】１３．防眩層または反射防止層の表面臨界
張力が２０×１０^-6Ｎ／ｃｍ以下であることを特徴とす
る前記１〜１２のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。

【００２１】１４．防眩層または反射防止層が含フッ素
有機化合物を含有することを特徴とする前記１３に記載
の光学用フィルム。

【００２２】１５．厚みが６０μｍ以下であることを特
徴とする前記１〜１４のいずれか１項に記載の光学用フ
ィルム。

【００２３】１６．基材がトリアセチルセルロース類で
あることを特徴とする前記１５に記載の光学用フィル
ム。

【００２４】１７．基材が可塑剤を０．５〜２０質量％
含有していることを特徴とする前記１５又は１６に記載
の光学用フィルム。

【００２５】１８．基材がシリカ微粒子を含有するする
ことを特徴とする前記１５〜１７のいずれか１項に記載
の光学用フィルム。

【００２６】１９．基材が低級脂肪酸セルロースエステ
ルであり、かつ−１００乃至−１０℃に冷却してから０
乃至１２０℃に加温する過程で有機溶媒に溶解し得られ
た低級脂肪酸セルロースエステル有機溶媒溶解液を、エ
ンドレスベルト上、あるいはドラム上に塗布し製造され
たフィルムであることを特徴とする前記１５に記載の光
学用フィルム。

【００２７】２０．基材がＰＥＴであることを特徴とす
る前記１〜１５のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。

【００２８】２１．２３℃、６０％ＲＨにおけるカール
度が−１０以上＋１０以下であることを特徴とする前記
１〜２０のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００２９】２２．基材の防眩層まはた反射防止層を有
する側と反対側にカールを防止する機能を有する層を設
けたことを特徴とする前記２１に記載の光学用フィル
ム。

【００３０】２３．カールを防止する機能を有する層の
塗布液がケトン系の有機溶媒を含有することを特徴とす
ることを特徴とする前記２２に記載の光学用フィルム。

【００３１】２４．ヘイズ値が３％以上であることを特
徴とする前記２２に記載の光学用フィルム。

【００３２】２５．５５０ｎｍにおける透過率が９０％
以上であることを特徴とする前記２４に記載の光学用フ
ィルム。

【００３３】２６．２３℃、６０％ＲＨにおける易接着
層の水の接触角が５０度以下であることを特徴とする前
記１〜２５のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００３４】２７．基材のどちらか一方の側に少なくと
も防眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接
着層を有し、周波数２０Ｈｚにおけるインピーダンスの
絶対値が４×１０⁵Ω以上であることを特徴とする光学
用フィルム。

【００３５】２８．導電性を有する層を少なくとも１層
有することを特徴とする前記２７に記載の光学用フィル
ム。

【００３６】２９．導電性を有する層の導電性材料が、
Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｖ、Ｓｂを主成分とし、かつその体積抵抗率が
１０ ⁷Ω／ｃｍ（２５℃、２０％ＲＨ）である金属酸化
物から選ばれる少なくとも１種の、または複合酸化物で
あることを特徴とする前記２８の光学用フィルム。

【００３７】３０．導電層を有する層の導電性材料の主
成分がイオン性重合体であることを特徴とする前記２８
に記載の光学用フィルム。

【００３８】３１．表面比抵抗が１×１０¹²Ω／ｃｍ²
以下（２３℃２０％ＲＨ）であることを特徴とする前記
２７に記載の光学用フィルム。

【００３９】３２．導電性を有する層が基材と易接着層
の間に位置することを特徴とする前記２８〜３１のいず
れか１項に記載の光学用フィルム。

【００４０】３３．導電性を有する層が基材と防眩層ま
たは反射防止層の間に位置することを特徴とする前記２
８〜３１のいずれか１項に記載の光学用フィルム。

【００４１】３４．基材がＰＥＴであることを特徴とす
る前記２７〜３３のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。

【００４２】３５．基材のどちらか一方に反射防止層ま
たは防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フ
ィルムの製造において、巻き取ることなく基材の両面ま
たは片面に複数層塗布することを特徴とする光学用フィ
ルムの製造方法。

【００４３】３６．易接着層、帯電防止層、ハードコー
ト層のうちいずれか２層以上を巻き取らずに塗布するこ
とを特徴とする前記３５に記載の光学用フィルムの製造
方法。

【００４４】３７．屈折率が０．０５以上異なる２層以
上の反射防止層を巻き取らずに塗布することを特徴とす
る前記３５に記載の光学用フィルムの製造方法。

【００４５】３８．基材のどちらか一方に反射防止層ま
たは防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フ
ィルムにおいて、反射防止層または防眩層に更に保護フ
ィルムを貼合したことを特徴する光学用フィルム。

【００４６】３９．基材のどちらか一方に反射防止層ま
たは防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フ
ィルムにおいて、反射防止層または防眩層に保護フィル
ムを貼合することを特徴する光学用フィルムの製造方
法。

【００４７】４０．基材のどちらか一方に反射防止層ま
たは防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フ
ィルムの製造時または製造後に活性エネルギーを付与す
ることを特徴とする光学用フィルムの製造方法。

【００４８】４１．光学用フィルムを構成する少なくと
も１層を５０ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ光の照射により硬
化させることを特徴とする前記４０に記載の光学用フィ
ルムの製造方法。

【００４９】４２．光学用フィルムを構成する少なくと
も１層を酸素濃度が０．５％以下、５０ｍＪ／ｃｍ²以
上のＵＶ光の照射により硬化させることを特徴とする前
記４１の光学用フィルムの製造方法。

【００５０】４３．光学用フィルムを構成する少なくと
も１層にプラズマを照射することを特徴とする前記４０
に記載の光学用フィルムの製造方法。

【００５１】４４．反射防止層または防眩層を構成する
少なくとも１層において塗布、乾燥後に７０℃以上の温
度で、３０秒以上加熱することを特徴とする前記４０に
記載の光学用フィルムの製造方法。

【００５２】４５．基材のどちらか一方に反射防止層ま
たは防眩層を有する光学用フィルムにおいて、塗布、乾
燥、巻き取り後、巻きの状態で４０℃以上の環境温度で
３０分以上エージングすることを特徴とする光学用フィ
ルムの製造方法。

【００５３】４６．反射防止層の低屈折率層がシリカゾ
ルまたはアルコキシシランまたはその誘導体の加水分解
物を含有する塗布液を塗布してなるＳｉＯ₂を含有する
層であることを特徴とする前記４５に記載の光学用フィ
ルムの製造方法。

【００５４】４７．基材がＰＥＴベースであることを特
徴とする前記３５〜３７及び３９〜４６のいずれか１項
に記載の光学用フィルムの製造方法。

【００５５】前面板としては通常、塗布またはスパッタ
リング等で形成した反射防止層または防眩層付の光学用
フィルムが用いられている。

【００５６】反射防止層としては、通常ＳｉＯ₂やＴｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃等の屈折率の異なる金属酸化物の
皮膜や有機高分子皮膜等を３〜４層積層して構成される
のが普通であるが、単層で屈折率が１．２５以下の低屈
折率皮膜でもよい。

【００５７】しかしながら、好ましい反射防止フィルム
は多層の反射防止層からなる。反射防止フィルムは、透
明基材上に、必要に応じてハードコート層を有し、その
上に屈折率、膜厚、層の数、層順等反射防止層の目的と
する光学特性を基に幾つかの層が積層されて出来てい
る。

【００５８】本発明の光学用フィルムにおいては、透明
なベース基材の観察者側の面に反射防止層または防眩
層、ハードコート層、導電性層等を設け、ベース基材の
観察者側の面とは反対側の面には、該ディスプレイ用の
偏光子等の表面にこれを貼合する為の易接着層を有して
いる。

【００５９】反射防止層の構成としては、単層、多層の
各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、
低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的であ
る。

【００６０】構成の例としては、透明基材側から高屈折
率層／低屈折率層の２層の順のものや、屈折率の異なる
３層を、中屈折率層（透明基材あるいはハードコート層
よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い
層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているも
の等があり、さらに多くの反射防止層を積層するものも
提案されている。なかでも、耐久性、光学特性、コスト
や生産性などから、ハードコート層を有する基材上に、
高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布するこ
とが好ましい構成である。

【００６１】基材面に（中屈折層を設ける場合もある）
高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、
高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長にたいし
ある値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防
止積層体としたものが反射防止層としては特に好まし
く、屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算
出し得る。

【００６２】屈折率の高低はそこに含まれる金属あるい
は化合物によってほぼ決まり、例えばＴｉは高く、Ｓｉ
は低く、Ｆを含有する化合物は更に低く、このような組
み合わせによって屈折率が設定される。

【００６３】透明基材上に多層の反射防止層を逐次積層
して反射防止層を作製するには、反射防止層のうち少な
くとも１層を、高屈折率層としてはチタン、ジルコニウ
ム等の金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれ
る化合物、活性エネルギー線反応性化合物及び有機溶媒
を含有する組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射し
て形成された高屈折率層と、この上に（中屈折層を設け
る場合もある）、低屈折物質及び有機溶媒を含有する低
屈折率層組成物を塗布し低屈折率塗膜とした後に、活性
エネルギーを付与して低屈折率層を形成し反射防止層を
形成する。

【００６４】これらの各層を有する本発明の光学用フィ
ルムが反射層として充分に機能する為には可視光におけ
るいずれかの波長の５度正反射の反射率が２％以下とな
る必要がある。

【００６５】本発明の好ましい高屈折率層は、透明基材
上の多層ある反射防止層のうち少なくとも１層を、活性
エネルギー線反応性基を有しない金属アルコキシド及び
その加水分解物から選ばれる少なくとも一つ、後述する
一般式（Ｉ）で表される活性エネルギー線反応性の金属
アルコキシド化合物、又、好ましくは該一般式（Ｉ）の
化合物を除く活性エネルギー線反応性化合物を含有して
おり、高屈折率組成物を該透明基体上に塗設後、塗膜に
活性エネルギー線を照射して任意の屈折率の高屈折率層
を形成するものである。

【００６６】本発明の高屈折率層に使用される金属アル
コキシド及びその部分加水分解物から選ばれる少なくと
も一つの化合物、及び後述する一般式（Ｉ）の活性エネ
ルギー線反応性の金属アルコキシド化合物のいずれの金
属は同様なものであり、金属としてはＡｌ、Ｓｉ、Ｔ
ｉ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｔａ、Ｔｌ、Ｗ、Ｃｅお
よびＮｄを挙げることが出来る。後述する一般式（Ｉ）
の活性エネルギー線反応性の金属アルコキシド化合物の
いずれの金属化合物は、特に紫外線照射により、これら
を含有する層の屈折率を変化させるのに役立つ。好まし
い金属としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚ
ｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｌ、ＷおよびＣｅであ
り、特に屈折率を変化させ易い好ましい金属としてはＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｔｌ、Ｉｎ（Ｉｎ−Ｓｎ錯体として）、Ｓｒ
（Ｓｒ−ＴｉＯ₂錯体として）である。Ｔｉの場合、光
に反応することは知られているが、Ｔｉ化合物を含む層
の屈折率を光により変化させることについては知られて
いない。

【００６７】本発明の屈折率を変化させるのに必要な活
性エネルギー線量、特に紫外線照射量は、後述の紫外線
反応性化合物を反応硬化させる照射量と同程度でよい。
又、活性エネルギーとしてプラズマ照射、熱処理等によ
っても可能である。

【００６８】本発明の活性エネルギー線反応性基を有し
ない金属アルコキシドとしては、炭素原子数１〜１０の
ものがよいが、好ましくは炭素原子数１〜４である。ま
た金属アルコキシドの加水分解物はアルコキシド基が加
水分解を受けて−金属原子−酸素原子−金属原子−のよ
うに反応し、架橋構造を作り、硬化した層を形成する。

【００６９】本発明に用いられる活性エネルギー線反応
性基を有しない金属アルコキシドの例として；Ａｌのア
ルコキシドとしては、Ａｌ（Ｏ−ＣＨ₃）₃、Ａｌ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₃、Ａｌ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₃、Ａｌ（Ｏ−ｎ−Ｃ
₄Ｈ₉）₃；Ｓｉの例としては、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（Ｏ−
ｔ−Ｃ₄Ｈ₉）₄；Ｔｉの例としては、Ｔｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₄、Ｔｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ
₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ
₄Ｈ₉） ₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔ
ｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ
−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２〜１０量体、Ｖの例としては、ＶＯ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₃；Ｚｎの例としては、Ｚｎ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₂；Ｙの例としてはＹ（ＯＣ ₄Ｈ₉）₃；Ｚｒの例と
しては、Ｚｒ（ＯＣＨ₃）₄、Ｚｒ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｚｒ
（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ
（Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２〜
１０量体；Ｉｎの例としては、Ｉｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ ₉）
₃；Ｓｎの例としては、Ｓｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔａ
の例としてはＴａ（ＯＣＨ₃）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ
₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ
₄Ｈ₉）₅；Ｗの例としては、Ｗ（ＯＣ₂Ｈ₅）₆；Ｃｅの例
としては、Ｃｅ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃等が挙げられる。これら
を単独で又は２種以上組み合わせて用いる事が出来る。
中でも、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃
Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃
Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２
〜１０量体；Ｚｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ
−Ｃ₄Ｈ₉）₄；Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃
Ｈ₇）₄が特に好ましい。

【００７０】また、本発明においては、上記金属アルコ
キシドを加水分解（部分または完全加水分解）させて使
用してもよく、酸性触媒又は塩基性触媒の存在下に例え
ば上記の金属アルコキシドを有機溶媒中で加水分解する
ことによって得られる。この酸性触媒としては、例えば
硝酸、塩酸等の鉱酸やシュウ酸、酢酸等の有機酸がよ
く、また塩基性触媒としては、例えばアンモニア等が挙
げられる。

【００７１】本発明の上記金属アルコキシド化合物を含
む層は、金属アルコキシド自身が自己縮合して架橋し網
状結合するものである。その反応を促進するために触媒
や硬化剤を使用することが出来、それらには、金属キレ
ート化合物、有機カルボン酸塩等の有機金属化合物や、
アミノ基を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤等があ
る。これらの触媒または硬化剤の中で特に好ましいの
は、アルミキレート化合物と光による酸発生剤（光酸発
生剤）であり、アルミキレート化合物の例としてはエチ
ルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、
アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルキル
アセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、ア
ルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセト
アセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート
等であり、他の光酸発生剤の例としてはベンジルトリフ
ェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェートやその
他のホスホニウム塩やトリフェニルホスホニウムヘキサ
フルオロホスフェートの塩等を挙げることが出来る。

【００７２】本発明に使用する活性エネルギー線反応性
基を有しない金属アルコキシド及び／またはその加水分
解物を含む塗布組成物には、塗布液の保存安定化のため
に、β−ジケトンと反応させてキレート化合物を添加す
ることにより、安定な塗布組成物とすることが出来る。
このβ−ジケトンの具体例として、アセト酢酸メチル、
アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト
酢酸−ｉ−プロピル、アセチルアセトン等を挙げること
が出来るが、特に安定性の面から好ましいのは、アセト
酢酸エチルである。β−ジケトンは、上記金属アルコキ
シドまたはその加水分解物に対して、モル比として０．
５〜２の範囲で用いられるが、より好ましい範囲は、
０．８〜１．２である。

【００７３】本発明の高屈折率層に好ましく使用され
る、前記一般式の化合物を除く、活性エネルギー線反応
性化合物は、重合可能なビニル基、アリル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキ
シ基等の重合性基を二つ以上有するもので、活性エネル
ギー線照射により架橋構造または網目構造を形成するも
のが好ましい。これらの活性基のうちアクリロイル基、
メタクリロイル基またはエポキシ基が重合速度、反応性
の点から好ましく、多官能モノマーまたはオリゴマーが
より好ましい。

【００７４】アクリル基またはメタクリル基を有する上
記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、紫外線硬化型
アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルア
クリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート
系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等
を挙げることが出来る。

【００７５】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号公報）。

【００７６】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることが出来る（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号公報）。

【００７７】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【００７８】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタエリスリトール等を挙げ
ることが出来る。

【００７９】本発明に使用される上記活性エネルギー線
反応性化合物を光重合あるいは光架橋反応を開始させる
には、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始
するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かっ
たりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ま
しく、それにより重合を早めることが出来る。これらの
光増感剤や光開始剤は公知のものを使用し得る。具体的
には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。

【００８０】また、エポキシアクリレート基を有する活
性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の増感剤を用いることが出来る。この活性エネルギー線
反応性化合物に用いられる光反応開始剤または光増感剤
は紫外線反応性化合物の１００質量部に対して０．１〜
１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好まし
くは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域
から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。

【００８１】本発明には活性エネルギー線反応性エポキ
シ樹脂も好ましく用いられる。活性エネルギー線反応性
エポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ化合物（多価フ
ェノールのポリグリシジルエーテル）、例えば、水素添
加ビスフェノールＡまたはビスフェノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの反応物のグリシジルエーテル、エポキシ
ノボラック樹脂、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族
多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物
のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリ
グリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシ
ジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどが
あり、その代表例としては、エチレングリコールジグリ
シジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、
ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプ
ロピレングリコールグリシジルエーテル、１，４−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテ
ル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールト
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールのポリグリシジルエー
テル、脂環式エポキシ化合物、例えば、３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル−５，５−スピロ−３′，４′−エポキ
シ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニル
シクロヘキセンジオキサイド、ビス（３，４−エポキシ
−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３′，４′
−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）
ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコ
ールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エ
ーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート）、ジシクロペンタジエンジエポキ
サイド、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ートのジグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、
ポリグリシジルアクリレート、ポリグリシジルメタクリ
レート、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタ
クリレートと他のモノマーとの共重合物、ポリ−２−グ
リシジルオキシエチルアクリレート、ポリ−２−グリシ
ジルオキシエチルメタクリレート、２−グリシジルオキ
シエチルアクリレート、２−グリシジルオキシエチルア
クリレートまたは２−グリシジルオキシエチルメタクリ
レートと他のモノマーとの共重合物、ビス−２，２−ヒ
ドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル
等を挙げることが出来、または単独または２種以上組み
合わせた付加重合物を挙げることが出来る。本発明は、
これらの化合物に限定せず、これらから類推される化合
物も含むものである。

【００８２】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、エポキシ基を分子内に２つ以上有するもの以外
に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使
用することが出来る。

【００８３】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合に
より重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカ
ル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好
ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。

【００８４】エチルスルホン酸銀、ポリ硼素酸銀等も好
ましく用いることが出来る。有用な活性エネルギー線反
応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチ
オン重合を開始させる物質を放出する化合物を、光重合
開始剤または光増感剤により重合する。照射によりカチ
オン重合させるルイス酸を放出するオニウム塩での複塩
の一群が特に好ましい。

【００８５】かかる代表的なものは下記一般式（III）
で表される化合物である。一般式（III）〔（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b（Ｒ³）_c（Ｒ⁴）_dＺ〕^+w〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^-w ここで、式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓ
ｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例え
ばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は同一であっても異なっていてもよ
い有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の
整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍ
ｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金
属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓ
ｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲ
ンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であ
り、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数で
ある。ｖから中心原子Ｍｅの価数を減じたものがｗとな
る。

【００８６】上記一般式の陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^-wの具
体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ₄ ^-）、ヘ
キサフルオロホスフェート（ＰＦ₄ ^-）、ヘキサフルオロ
アンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、ヘキサフルオロアルセネ
ート（ＡｓＦ₄ ^-）、ヘキサクロロアンチモネート（Ｓｂ
Ｃｌ₄ ^-）等を挙げることが出来る。

【００８７】更に一般式ＭｅＸ_v（ＯＨ）^-の陰イオンも
用いることが出来る。また、その他の陰イオンとしては
過塩素酸イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル亜硫
酸イオン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イオン
（ＦＳＯ₃ ^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロ
ベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。

【００８８】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが、
特に有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、
同５０−１５８６８０号公報等に記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９
９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号
公報等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−
８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２
４２９号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特
公昭４９−１７０４０号公報等に記載の芳香族ジアゾニ
ウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号明細書等に記
載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウ
ム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げる
ことが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェ
ノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサント
ンなどの光増感剤を併用することが出来る。

【００８９】本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂
組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネ
ルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質
量部に対して好ましくは０．１〜１５質量部、より好ま
しくは１〜１０質量部の範囲で添加される。またエポキ
シ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテ
ルアクリレート型樹脂等とも併用することも出来、この
場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネ
ルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好まし
い。

【００９０】本発明に用いる活性エネルギー線硬化樹脂
含有層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂あるい
はゼラチンなどの親水性樹脂等のバインダーを上記活性
エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することが出来
る。これら樹脂にはその分子中に極性基を持っているこ
とが好ましく、極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、
−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ
₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ
金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する
酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げるこ
とが出来る。

【００９１】次に本発明の一般式（Ｉ）の活性エネルギ
ー線反応性の金属アルコキシド化合物について説明す
る。

【００９２】一般式（Ｉ）Ｍ（Ｒ₁）_m（Ｒ₂）_n（ＯＲ₃）_p ここで、Ｏは酸素原子、Ｒ₁は活性エネルギー線反応性
基で、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基を有する基を
表し、Ｒ₂は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基を表
し、Ｒ₃は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基または
水素原子を表し、ｍ＋ｎ＋ｐ＝ｑで、ｑは金属の原子価
で、ｑ−１≧ｍ≧１、ｑ−１≧ｐ≧１、ｑ−１≧ｎ≧
０、であり、ｍ、ｎ及びｐは正の整数を表す。

【００９３】上記一般式（Ｉ）の活性エネルギー線反応
性の金属アルコキシド化合物のＲ₁は、活性エネルギー
線反応性基で、不飽和二重結合性の官能基を有してお
り、上記のうちアクリロイル基、メタクリロイル基また
はエポキシ基が反応性の速さから好ましい。また反応す
る際、酸素の影響を受けないエポキシ基が特に好まし
い。Ｒ₃Ｏアルコキシ基は、前述の活性エネルギー線反
応性基を有しない金属アルコキシドと同様に、加水分解
を受けながら金属酸化物へと連鎖的に反応する。

【００９４】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシド化合物は上記活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシド化合物とともに加水分解を受けなが
ら相互に反応し、金属酸化物マトリックスの中に組み込
まれ、結合し架橋する。

【００９５】前記活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシド化合物は上記活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシド化合物とともに加水分解を受けなが
ら相互に反応し、金属酸化物マトリックスの中に組み込
まれ、結合し架橋する。

【００９６】一方、活性エネルギー線反応性の金属アル
コキシド化合物の活性エネルギー線反応性基とこれ以外
の活性エネルギー線反応性化合物も、活性エネルギー線
により重合し、相互に架橋結合を形成する。

【００９７】これら両方の架橋結合が相乗効果となって
これらを含有する層は非常に高い硬度を持つようにな
る。これらの架橋構造は、無機酸化物と有機ポリマーが
結合し合ったハイブリッドの状態になっていると考えら
れる。このようなハイブリッドの状態は、金属酸化物と
有機物が混在する状態とは異なり、一体化しているため
硬度が高く、相分離が起きにくい。したがって、均質な
塗膜が出来やすく、硬度が不足したり、白濁したり、透
過率が低下するなどの問題点を解決することが出来る。

【００９８】活性エネルギー線反応性基は金属に直接結
合していてもよく、酸素原子を介して結合していてもよ
く、またオキシアルキル基を介していてもよい。

【００９９】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシドの具体的例として、ビニルトリメトキシチタン、
ビニルトリ（β−メトキシ−エトキシ）チタン、ジビニ
ロキジメトキシチタン、グリシジルオキシエチルトリエ
トキシチタン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ−
ｎ−プロピルチタン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルチタン、ジ（γ−アクリロ
イルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルチタン、
アクリロイルオキシジメトキシエチルチタン、ビニルト
リメトキシジルコン、ジビニロキジメトキシジルコン、
アクリロイルオキシエチルトリエトキシジルコン、γ−
アクリロイルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピル
ジルコン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−プロピルト
リ−ｎ−プロピルジルコン、ジ（γ−アクリロイルオキ
シ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルジルコン、アクリ
ロイルオキシジメトキシエチルジルコン、ビニルジメト
キシタリウム、ビニルジ（β−メトキシ−エトキシ）タ
リウム、ジビニロキシメトキシタリウム、アクリロイル
オキシエチルジエトキシタリウム、γ−アクリロイルオ
キシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタリウム、γ−メ
タクリロイルオキシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタ
リウム、ジ（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）
−ｎ−プロピルタリウム、アクリロイルオキシメトキシ
エチルタリウム、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキジメ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオキ
シエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチル
トリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プ
ロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイル
オキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０１００】本発明の高屈折率層に使用する、前記一般
式（Ｉ）の活性エネルギー線反応性基と好ましく使用さ
れる該一般式（Ｉ）を除く活性エネルギー線反応性化合
物の反応基に対する活性エネルギー線による光重合の挙
動はほとんど変わりなく、前述の一般式（Ｉ）を除く活
性エネルギー線化合物の光増感剤や光開始剤などは同様
なものが用いられる。

【０１０１】本発明に使用する活性エネルギー線は、紫
外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギ
ー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が
好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に
得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化
合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発
生する光源であれば何れでも使用出来る。例えば、低圧
水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カー
ボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
等を用いることが出来る。また、ＡｒＦエキシマレー
ザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシン
クロトロン放射光等も用いることができる。照射条件は
それぞれのランプによって異なるが、照射光量は５０ｍ
Ｊ／ｍ²以上、好ましくは、１００ｍＪ／ｃｍ²以上、さ
らに４００ｍＪ／ｃｍ²以上が好ましい。紫外線は、多
層の反射防止層を１層ずつ照射してもよいし、積層後照
射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線
を照射することが好ましい。又この際には酸素濃度が
０．５％以下の条件で行うのが効率的であり、硬化速度
の点で好ましい。

【０１０２】又、電子線も同様に使用出来る。電子線と
しては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共
振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０
〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶの
エネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。

【０１０３】又、プラズマ処理も同様に使用できる。プ
ラズマ処理を連続的に行うものが好ましく、これらの装
置の例としては例えば、特願平１１−１４３２０６号に
記載のものが挙げられる。プラズマ処理の時間等は条件
により異なるので一概にはいえないが、プラズマ処理の
条件にはプラズマ処理ガス条件（ガス種、ガス濃度、ガ
ス封入条件、圧力等）、電界強度、放電条件等がある。
これらは適宜コントロールすることができる。

【０１０４】一般的に処理用ガスとしては、水素、酸
素、窒素、二酸化炭素、フッ素含有化合物ガス等の反応
性ガスが効果的である。

【０１０５】またプラズマ発生法では、真空プラズマ放
電処理に於いては、その雰囲気を６．６〜２．７×１０
³Ｐａの範囲に保つように、上記反応ガスを導入する必
要がある。処理速度を増加させる為には、対向電極にな
るべく高圧側で高出力条件を採用するのが好ましいが、
電界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えることに
なる場合がある。

【０１０６】大気圧近傍でプラズマ放電を行う場合に
は、ヘリウムやアルゴン等の不活性ガスが必要であり、
上記反応ガスとの割合も６０％以上と不活性ガスの割合
を多くしないと電極間に安定な放電が発生しない。ここ
でも反応ガスの割合をなるべく多くし、高出力条件を採
用するのが処理速度を増加させる為には好ましいが同様
に電界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えること
になる。

【０１０７】しかし上記大気圧近傍でも対向電極間にパ
ルス化された電界を印加しプラズマを発生させる場合に
は、上記不活性ガスは必ずしも必要なく、反応ガス濃度
を増加させることができる。これにより反応速度は大き
く増加させることが可能になる。

【０１０８】この時のパルス波形は例えば図１に示す例
が挙げられる。図１において、縦軸はパルス電圧、横軸
は時間を表す。しかしながら、本発明におけるパルス電
圧波形は、ここで挙げた波形に限定されず、例えば特開
平１０−１３０８５１号公報の図１（ａ）〜（ｄ）に記
載されたパルス波形であってもよい。しかしながら、パ
ルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が短いほどプ
ラズマ発生の際のガスの電離が効率よく行われる。特
に、パルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が４０
ｎｓ〜１００μｓであることが好ましい。４０ｎｓ未満
では現実的でなく、１００μｓを超えると放電状態がア
ークに移行しやすく不安定なものとなる。より好ましく
は５０ｎｓ〜５μｓである。なお、ここでいう立ち上が
り時間とは、電圧変化が連続して正である時間、立ち下
がり時間とは、電圧変化が連続して負である時間を指す
ものとする。さらに、パルス波形、立ち上がり時間、周
波数の異なるパルスを用いて変調を行ってもよい。この
ような変調は高速連続表面処理を行うのに適している。

【０１０９】パルス電界の周波数は、１ｋＨｚ〜１００
ｋＨｚであることが好ましい。１ｋＨｚ未満であると処
理に時間がかかりすぎ、１００ｋＨｚを超えるとアーク
放電が発生しやすくなる。また、ひとつのパルス電界が
印加される時間は、１μｓ〜１０００μｓであることが
好ましい。１μｓ未満であると放電が不安定なものとな
り、１０００μｓを超えるとアーク放電に移行しやすく
なる。より好ましくは、３μｓ〜２００μｓである。上
記ひとつのパルス電界が印加される時間とは、ＯＮ、Ｏ
ＦＦの繰り返しからなるパルス電界における、ひとつの
パルスの連続するＯＮ時間を言う。

【０１１０】対向電極に印加する電圧の大きさは適宜決
められるが、電極に印加した際に電界強度が１〜１００
ｋＶ／ｃｍとなる範囲にすることが好ましい。１ｋＶ／
ｃｍ未満であると処理に時間がかかりすぎ、１００ｋＶ
／ｃｍを超えるとアーク放電が発生しやすくなる。又、
大きい程処理速度は増加するが上げ過ぎると基材にダメ
ージを与えるのは同様である。また、直流が重畳された
パルス電界を印加してもよい。

【０１１１】本発明においては、表面処理に供されるシ
ート状基材は、対向電極間の空間を連続的に走行させる
ように処理容器内に導入され、排出される。上記シート
状基材の導入及び排出は、公知の方法により行うことが
できる。

【０１１２】以下、具体的な処理装置について説明す
る。図２は減圧においてプラズマ放電処理を連続的に行
う処理装置の概略図である。

【０１１３】図２に示すように、連続搬送される長尺状
の支持体１を真空下、連続的にプラズマ処理するための
装置は、対向する平板電極３、４を有し、シート状支持
体１の入口２Ａと出口２Ｂを有する間仕切られた処理室
２及び予備減圧室１０、１１、１２、更に該電極に電界
を印加するための電源５等によって構成されている。

【０１１４】この一対の電極３、４のうち一方の電極３
に電源５が接続され、他方の電極はアース６により接地
されており、一対の電極３、４間に電界を印加できるよ
うに構成されている。

【０１１５】またガス導入口１６より処理ガスを導入
し、ガス排出口１７より排気ポンプで処理室内を真空に
排気する。

【０１１６】図に示した例では、処理室２に隣接して支
持体の入り口側に予備減圧室１０及び１１が設けられて
いる。支持体の出口側にも処理室２に隣接して予備減圧
室１２が設けられている。またこれらの間仕切りは、ニ
ップロール７、８により行われる。

【０１１７】予備減圧室を設ける場合、図に示したよう
に、支持体１の入口側に二つ、出口側に１つを設ける態
様であっても良いが、特に、これに限定はされず、支持
体１の出入口側に１つずつ設ける態様、あるいは入口側
に２つ以上、出口側に２つ以上設ける態様であっても良
い。

【０１１８】いずれの態様であっても、処理ガス導入時
に処理室内の気圧が６．６〜２．７×１０³Ｐａの範囲
に維持できればよい。

【０１１９】これらの方法に於いては、減圧下の処理室
２に導入する処理ガスとしては、窒素（Ｎ₂）ガス、水
素（Ｈ₂）ガス、酸素（Ｏ₂）ガス、二酸化炭素（Ｃ
Ｏ₂）ガス、アンモニア（ＮＨ₃）ガス、フッ素含有化合
物ガス、水蒸気の他、アルゴン等の不活性ガスなどを用
いることができる。

【０１２０】本発明で使用する溶媒は、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール
類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、
ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカ
ルビトール等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロ
リドン、ジメチルフォルムアミド、水等が挙げられ、そ
れらを単独または２種以上混合して使用する事が出来
る。中でも、ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のカルボニル基を有する
溶媒と、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、
イソプロパノール、ｎ−ブタノール等の炭素数４以下の
アルコールを併用すると、紫外線照射量等の活性エネル
ギーの量を低減でき、生産性を向上することができるた
め特に好ましい。

【０１２１】又、活性エネルギー線の他にも活性エネル
ギーを付与するものとして熱処理が挙げられる。熱処理
としては、７０℃以上で３０秒以上１０分、より好まし
くは３０秒以上５分加熱することが好ましい。

【０１２２】更に、上記の高屈折率層の上に、低屈折率
物質及び有機溶剤を含む低屈折率層組成物を塗設して反
射防層を作製する。又、これらの組成物には高屈折率層
のところで挙げられた活性エネルギー線反応性化合物を
用いてもよい。

【０１２３】最表層としての低屈折率層には該層の屈折
率を低下させる為に下記のフッ素原子或いは珪素原子を
含有する低屈折率物質が含有されている。

【０１２４】低屈折率物質としては、フッ素含有樹脂、
シリケートオリゴマーから形成される化合物、及びＳｉ
Ｏ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合
物から選ばれる少なくとも１つの化合物であり、特に特
開平７−１２６５５２号、同７−１８８５８２号、同８
−４８９３５号、同８−１００１３６号、同９−２２０
７９１号、同９−２７２１６９号公報等に記載されてい
る化合物が好ましく用いられる。

【０１２５】本発明に好ましく使用し得るフッ素含有樹
脂としては、フッ素含有不飽和エチレン性単量体成分を
主として含有する重合物及びフッ素含有エポキシ化合物
を挙げることが出来る。

【０１２６】フッ素含有不飽和エチレン性単量体として
は、含フッ素アルケン、含フッ素アクリル酸エステル、
含フッ素メタクリル酸エステル、含フッ素ビニルエステ
ル、含フッ素ビニルエーテル等を挙げることが出来、例
えば、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレ
ン、トリフルオロクロロエチレン、フッ化ビニリデン、
フッ化ビニル、トリフルオロプロピレン、ヘプタフルオ
ロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、２−ブロモ
−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−
３，３−ジフルオロエチレン、３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン、３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ト
リデカフルオロ−１−オクテン、４−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン、ペンタ
デカフルオロオクチルアクリレート、テトラフルオロ−
３−（ヘプタフルオロプロポキシ）プロピルアクリレー
ト、テトラフルオロ−３−（ペンタフルオロエトキシ）
プロピルアクリレート、テトラフルオロ−３−トリフル
オロメトキシプロピルアクリレート、ウンデカフルオロ
ヘキシルアクリレート、ノナフルオロペンチルアクリレ
ート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ペンタフ
ルオロピロピルアクリレート、２−ヘプタフルオロブト
キシエチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘ
キサフルオロブトキシアクリレート、トリフルオロエチ
ルアクリレート、２−（１，１，２，２−テトラフルオ
ロエトキシ）エチルアクリレート、トリフルオロイソプ
ロピルメタクリレート、（２，２，２−トリフルオロ−
１−メチル）エチルメタクリレート、２−トリフルオロ
エトキシエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタ
クリレート、２−トリフルオロメチル−３，３，３−ト
リフルオロプロピルアクリレート、３−トリフルオロメ
チル−４，４，４−トリフルオロブチルアクリレート、
１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
ピルアクリレート、１−メチル−２，２，３，３，４，
４，４−ヘプタウルオロブチルアクリレート、２，２，
２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアク
リレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルア
クリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロ
ブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，
５，５−ノナフルオロペンチルアクリレート、２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシルアクリレート、２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチ
ルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカ
フルオロデシルアクリレート、３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレ
ート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロ
ブチルアクリレート（以上のアクリレートはメタクリレ
ートあるいはα−フルオロアクリレートであってもよ
い）、ビニルトリフルオロアセテート、ビニル−２，
２，２−トリフルオロプロピオネート、ビニル−３，
３，３，２，２−ヘプタブチレート、２，２，２−トリ
フルオロエチルビニルエーテル、１−（トリフルオロメ
チル）エテニルアセテート、アリルトリフルオロアセテ
ート、アリル−１，１，２，２−テトラフルオロエチル
エーテル、アリル−１，２，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロピルエーテル、エチル−４，４，４−トリフルオ
ロクロトネート、イソプロピル−２，２，２−トリフル
オロエチルフマレート、イソプロピル−２，２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロピルフマレート、イソ
プロピル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオ
ロブチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，５−ノナプロピルペンチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、イ
ソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルフマレート、イソプロピル−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオ
クチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１０−ノナデカフルオロデシルフマレート、
イソプロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフ
ルオロデシルフマレート、イソプロピル−２−トリフル
オロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルフマレ
ート、イソプロピル−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチルフマレート、イソプロピル
−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプ
ロピルフマレート、イソプロピル−１−メチル−２，
２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロオクチルフマ
レート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，３−ペン
チルフルオロプロピルヘマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタジュルオロブチル
フマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，
４，５，５，５−ノナフルオロペンチルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレ
ート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフル
オロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシルフマレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−
トリフルオロプロピルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブ
チルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，
２，３，３，３−ペンチルフルオロプロピルフマレー
ト、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，
４，４，４−ヘプタフルオロブチルフマレート等の含フ
ッ素不飽和エチレン性単量体を挙げることが出来るが、
これらに限定されない。また、共重合相手の単量体はフ
ッ素を含有しても、含有していなくとも何れでもよい。

【０１２７】上記フッ素含有単量体と共重合し得る単量
体としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、
酢酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルエチルケト
ン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
メチル−α−フルオロアクリレート、エチル−α−フル
オロアクリレート、プロピル−α−フルオロアクリレー
ト、ブチル−α−フルオロアクリレート、シクロヘキシ
ル−α−フルオロアクリレート、ヘキシル−α−フルオ
ロアクリレート、ベンジル−α−フルオロアクリレー
ト、アクリル酸、メタクリル酸、α−フルオロアクリル
酸、スチレン、スチレンスルホン酸等を共重合させても
よいが、これらに限定されない。

【０１２８】上記フッ素含有エチレン性不飽和単量体の
単独の樹脂の屈折率は、ほぼ１．３３〜１．４２の範囲
にあり、また共重合し得るフッ素を含有しない単量体の
単独樹脂リマーの屈折率は、１．４４以上で、これらを
任意の割合で共重合して目的の屈折率のフッ素含有樹脂
として用いることが出来、また、本発明のフッ素含有樹
脂とフッ素を含まない樹脂とを任意の割合で混合して目
的の屈折率のものとして使用してもよいが、本発明の低
屈折率物質のフッ素含有量は、５０質量％以上であるこ
とが好ましく、ものによって異なるが、特に好ましくは
６０〜９０質量％である。フッ素含有重合体の場合は、
フッ素含有率がこのような範囲にあると有機溶媒に対し
て良好な溶解性を有することで、加工し易いばかりでな
く、下の基体や層に対する接着性が優れ、高い透明性と
低い屈折率の層を得ることが出来る。

【０１２９】本発明に使用する含フッ素の、アルケン、
アクリレート、ビニルエステルあるいはビニルエーテル
等を重合させる重合開始剤は、通常のラジカル重合開始
剤を用いることが出来る。重合開始剤の具体的な例とし
て、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキ
サンカルボニトリル、アゾビスバレロニトリル等のアゾ
系ラジカル重合開始剤、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチル
ヒドロパーオキサイド、クメンパーオキサイド、ジアシ
ルパーオキサイド等の有機過酸化物系ラジカル重合開始
剤、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の無機系ラ
ジカル重合開始剤、過酸化水素−硫酸第１鉄アンモニウ
ム、過硫酸アンモニウム−メタ亜硫酸ナトリウム等のレ
ドックス系重合開始剤等の各種ラジカル重合開始剤等を
挙げることが出来、これらを用いて溶液重合、塊状重
合、乳化重合、懸濁重合または放射線重合等の公知のラ
ジカル重合をすることが出来る。この際、反応温度は１
０〜１００℃、反応時間は１〜１００時間であることが
好ましい。このようにして得られるフッ素含有樹脂の数
平均分子量は１０００〜３０００００であることが望ま
しい。

【０１３０】本発明のフッ素含有樹脂としてのフッ素含
有エポキシ樹脂は、例えば下記のようなエポキシ化合物
を常法で反応させることによって得ることが出来る。

【０１３１】本発明のフッ素含有エポキシ化合物として
は、２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリ
シジルエーテルとして例えば、４，４，４−トリフルオ
ロ−１，２−ブタンジオールジグリシジルエーテル、
４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−１，２−ペンタ
ンジオールジグリシジルエーテル、４，４，５，５，
６，６，６−ヘキサフルオロ−１，２−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，
７，７，７−ノナフルオロ−１，２−ヘプタンジオール
ジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，８−ウンデカフルオロ−１，２−オクタン
ジオールジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，９−トリデカフルオロ−
１，２−ノナンジオールジグリシジルエーテル、５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−トリデカフルオロ−１，２−デカンジオールジグリ
シジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプ
プタデカフルオロ−１，２−ウンデカンジオールジグリ
シジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１
２，１２−ノナデカフルオロ−１，２−ドデカジオール
ジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１２，１２，
１３，１３，１３−エイコサフルオロ−１，２−トリデ
カンジオールジグリシジルエーテル、４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，
１１，１２，１２，１３，１３，１４，１４，１４−ト
リコサフルオロ−１，２−テトラデカンジオールジグリ
シジルエーテル、５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−
ヘプタデカフルオロ−１，２−テトラデカンジオールジ
グリシジルエーテル、４−トリフルオロメチル−５，
５，５−トリフルオロ−１，２−ヘプタンジオールジグ
リシジルエーテル、５−トリフルオロメチル−６，６，
６−トリフルオロ−１，２−オクタンジオールジグリシ
ジルエーテル、６−トリフルオロメチル−４，４，５，
５，６，６，７，７，７−オクチルフルオロ−１，２−
ノナンジオールジグリシジルエーテル、８−トリフルオ
ロメチル−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，９−ドデカフルオロ−１，２−ノナンジオール
ジグリシジルエーテル、１０−トリフルオロメチル−
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１１，１１，１１−ヘキサデカフルオロ−
１，２−ドデカンジオールジグリシジルエーテル、１２
−トリフルオロメチル−４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，
１２，１３，１３，１３−エイコサフルオロ−１，２−
テトラデカンジオールジグリシジルエーテル、３−ペル
フルオロシクロペンチル−１，２−プロパンジオールジ
グリシジルエーテル、３−ペルフルオロシクロヘキシル
−１，２−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ペ
ルフルオロシクロヘプチル−１，２−プロパンジオール
ジグリシジルエーテル、ペルフルオロシクロオクチル−
１，２−プロパンジオールジグリシジルエーテル；含フ
ッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては
例えば、２，２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブ
タンジオールジグリシジルエーテル、２，２，３，３，
４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、等を挙げることが出来る
が、これらに限定されない。これらの他にフッ素を含有
しないエポキシ化合物を屈折率があまり上がらない程度
に少量使用してもよい。ここで使用するフッ素含有エポ
キシ化合物の構造には制限ないが、屈折率を高めるよう
なベンゼン核を有するエポキシ化合物や脂環式のエポキ
シ化合物の使用は少ない方がよい。

【０１３２】別の好ましい低屈折率物質は、シリケート
オリゴマーから形成される化合物である。シリケートオ
リゴマーから形成される化合物として、下記一般式（I
I）で示されるシリケートオリゴマーから形成される化
合物である。

【０１３３】

【化１】

【０１３４】ここで、ｇは１〜２０の整数、Ｒは水素、
または炭素原子数の１〜４のアルキル基、炭素原子数１
〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素原子数３〜６のシ
クロアルキル基、炭素原子数３〜６のフッ素含有シクロ
アルキル基、またはフェニル基であって、それぞれのＲ
が同一の基であっても、異なった基であってもよい。

【０１３５】上記一般式（II）で示されるシリケートオ
リゴマーから形成される化合物に使用するシリケートオ
リゴマーとしては、例えばテトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロピオキシシラン、テトラ
ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、テトラ−
２，２，２−トリフルオロエトキシシラン、テトラ−２
−フルオロエトキシシラン、テトラ−２，２，３，３−
テトラフルオロ−１−プロピオキシシラン、テトラ−
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピ
オキシシラン、テトラ−２，２，３，３，３−ペンタフ
ルオロ−１−プロピオキシシラン、テトラ−１，３−ジ
フルオロ−２−プロピオキシシラン、テトラ−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロ−１−ブトキシシ
ラン、テトラ−２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオ
ロ−１−ブトキシシラン、テトラシクロヘキシルオキシ
シランまたはテトラフェノキシシラン等を挙げることが
出来、これらを加水分解することによりシリケートオリ
ゴマーが得られる。

【０１３６】上記の如くテトラアルコキシシランに触
媒、水を添加して得られる加水分解物に溶媒を配合し、
次いで硬化触媒と水を添加する等の方法により硬化した
加水分解物が得られる。かかる溶媒としては、メタノー
ル、エタノールを１種または２種使用するのが安価であ
ること、及び得られる皮膜の特性が優れ硬度が良好であ
ることから好ましい。イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、イソブタノール、オクタノール等も用いることが出
来るが、得られた皮膜の硬度が低くなる傾向にある。溶
媒量は部分加水分解物１００質量部に対して５０〜４０
０質量部、好ましくは１００〜２５０質量部である。

【０１３７】硬化触媒としては、酸、アルカリ、有機金
属、金属アルコキシド等を挙げることが出来るが、酸、
特に酢酸、マレイン酸、シュウ酸、フマル酸等が好まし
く用いられる。添加量は部分加水分解物１００質量部に
対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部がよ
い。また、水添加量については部分加水分解物が理論上
１００％加水分解し得る量以上の量であればよく、１０
０〜３００％相当量、好ましくは１００〜２００％相当
量を添加するのがよい。更に、本発明では、かかる熟成
工程により、テトラアルコキシシランの加水分解、縮合
による架橋が充分に進み、得られた皮膜の特性が優れた
ものとなる。熟成は、オリゴマー液を放置すればよく、
放置する時間は、上述の架橋が所望の膜特性を得るのに
充分な程度進行するのに充分な時間であり、具体的には
用いる触媒の種類にもよるが、塩酸では室温で１時間以
上、マレイン酸では数時間以上、特に好ましくは８時間
〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟成
を要する時間はまた周囲の温度にも影響を与え、極寒地
では２０℃付近まで加熱する手段をとった方がよいこと
もある。一般に高温では熟成が早く進むが１００℃以上
に加熱するとゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０
℃までの加熱が適切である。また、これらのシリケート
オリゴマーについては、上記の他に、例えばエポキシ
基、アミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の
官能基を有する有機化合物（モノマー、オリゴマー、ポ
リマー）等により変性した変性物であっても差し支えな
く、単独または上記シリケートオリゴマーと併用するこ
とも可能である。

【０１３８】このようにして、上記一般式（II）で示さ
れるシリケートオリゴマーが得られるが、シリケートオ
リゴマー中のＳｉＯ₂含有量は１〜１００％、好ましく
は１０〜９９％であることが望まれる。このようなＳｉ
Ｏ₂含有量が１％未満では耐久性の向上が見られなくな
り、本発明の効果を発揮しない。

【０１３９】これらのシリケートオリゴマーからケイ素
層を形成させる方法については特に制限されないが、例
えばシリケートオリゴマーを光学フィルムの光学性能を
阻害しない溶媒、例えばアルコール（メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等）、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸セロソルブ、メチルグリコールアセテート、メ
トキシブチルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチレンクロラ
イド、トルエン、キシレン、ミネラムスピリット、クレ
ゾール、キシレノール、フフラール等で、これらでシリ
ケートオリゴマーを希釈し、バーコーター、ロールコー
ター、グラビアコーター、リバースコーター、リップコ
ーター等、公知の方法により基材に塗設、加熱処理すれ
ばよい。

【０１４０】更に別の好ましい低屈折率物質は、ＳｉＯ
₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合物
であって、ＳｉＯ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物とを
含むゾル液を用い、ＳｉＯ₂ゲル膜として低屈折率層が
形成されるものである。ＳｉＯ₂ゾルは、ケイ素アルコ
キシドを塗布に適した有機溶媒に溶解し、一定量の水を
添加して加水分解を行って調製される。ＳｉＯ₂ゾルの
形成に使用するケイ素アルコキシドの好ましい例を下記
一般式（IV）に示す。

【０１４１】一般式（IV）（Ｒ′）_rＳｉ（ＯＲ″）_s ここで、Ｒ′、Ｒ″は炭素原子数１〜１０のアルキル基
を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｒ＋ｓは４であり、ｒ及びｓはそれぞれ整数である。具
体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトライソプロピオキシシラン、テトラ−ｎ−プロ
ピオキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプ
ロピオキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロピオキシシ
ラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペン
タ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ−ブト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリプロピオキシシラン、メチル
トリブトキシシラン、ジメチルジメキメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、
ジメチルエトキシシラン、ジメチルプロピオキシシラ
ン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシ
ラン等が挙げられる。

【０１４２】上記アルキルケイ素アルコキシドまたはケ
イ素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解しすることによ
りＳｉＯ₂ゾルとすることが出来る。使用する溶媒とし
ては、例えばメチルエチルケトン、イソプロピルアルコ
ール、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のアルコール、ケト
ン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシ
レン、等の芳香族炭化水素、あるいはこれらの混合物が
挙げられる。アルキルケイ素アルコキシドまたはケイ素
アルコキシドを、それらが１００％加水分解及び縮合し
たとして生じるＳｉＯ₂換算で、濃度を０．１質量％以
上、好ましくは０．１〜１０質量％になるように上記溶
媒中に溶解する。ＳｉＯ₂ゾルの濃度が０．１質量％未
満であると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮
出来ず、一方、１０質量％を超えると透明均質膜の形成
が困難となる。また、本発明においては、以上の固形分
以内であるならば、有機物や無機物バインダーを併用す
ることも可能である。

【０１４３】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間攪拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸または
酢酸等の酸が好ましい。これらの酸を約０．００１〜４
０．０ｍｏｌ／ｌ、好ましくは０．００５〜１０．０ｍ
ｏｌ／ｌ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を
加水分解用の水分とすることが出来る。

【０１４４】本発明においては、上記ＳｉＯ₂ゾルに有
機反応性ケイ素化合物またはその部分加水分解物を添加
して得られる化合物を低屈折率物質として用いるもので
あるが、ＳｉＯ₂ゾルだけ塗布した場合には、非常に膜
が弱く、ひび割れし易く、ＳｉＯ₂皮膜を固定するもの
が必要である。本発明においては、反応性有機ケイ素化
合物を併用することによって、ＳｉＯ₂とも架橋によっ
て結合され強い膜を形成し、得られたＳｉＯ₂ゾルは、
無色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定
な溶液である。ＳｉＯ₂ゾルは、基材に対して濡れ性が
よく、塗布性に優れている。

【０１４５】反応性有機ケイ素化合物は、前記の反応性
有機ケイ素化合物の他に、熱または電離放射線によって
反応架橋する複数の基（活性エネルギー線反応性基）、
例えば重合性二重結合基、を有する分子量３０００以下
の有機反応性化合物が好ましいものである。このような
反応性有機ケイ素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシ
ラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官
能ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、
あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリ
シラン、またはビニル官能性ポリシロキサン等下記の化
合物、

【０１４６】

【化２】

【０１４７】その他、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキ
ジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオ
キシエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイ
ルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０１４８】以上の如き反応性有機ケイ素化合物は、前
記ＳｉＯ₂ゾル（固形分）１００質量部あたり約０．１
〜５０質量部の割合で使用することが出来ることが好ま
しい。

【０１４９】上記ゾル溶液には、各種の添加剤を添加す
る事が出来る。添加剤としては、製膜を促進する硬化剤
が用いられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶媒溶液の濃度は約０．
０１〜０．１質量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ₂１００質量部に対
して上記有機酸塩として約０．１〜１質量部程度の範囲
が好ましい。

【０１５０】更に、最終的に得られるゲル膜は、反射防
止フィルムの低屈折率層として使用するが、その屈折率
の調整する必要がある場合もある。例えば、屈折率を下
げるためにフッ素系有機ケイ素化合物、屈折率を高める
ために有機ケイ素化合物、屈折率を更に高めるために硼
素系有機化合物を添加することが出来る。具体的には、
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ
プロピオキシシラン、テトラブトキシシラン、アルキル
トリアルコキシシラン、コルコート４０（コルコート社
製）、ＭＳ５１（三菱化学社製）、スノーテックス（日
産化学社製）、等の有機ケイ素化合物、ザフロンＦＣ−
１１０、２２０、２５０（東亜合成化学社製）、セクラ
ルコートＡ−４０２Ｂ（セントラル硝子社製）、ヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフル
オロオクチルトリメトキシシラン、トリフルオロオクチ
ルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン等のフッ素系化合物、硼酸トリエチル、硼酸
トリメチル、硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼
酸系化合物が挙げられる。これらの添加剤は、ゾルの調
製時に加えてもよいし、ゾルの形成後に加えてもよい。
これらの添加剤を用いることによって、アルキルケイ素
アルコキシドまたはケイ素アルコキシドの加水分解時、
あるいはその後にシラノール基と反応して、更に均一に
反応して更に均一で透明なゾル溶液が得られ、且つ形成
されるゲル膜の屈折率をある程度の範囲で変化させるこ
とが出来る。

【０１５１】次に、上記フッ素含有樹脂、シリケートオ
リゴマーから形成される化合物、及びＳｉＯ₂ゾルと反
応性有機ケイ素化合物から形成される化合物から選ばれ
る少なくとも一つの低屈折率物質を含有する低屈折率層
（前記本発明の高屈折率層の上に設けられている）には
前記高屈折率層のところで挙げられた活性エネルギー線
反応性化合物が添加されていてもよい。そのうち好まし
く用いられるのはエポキシ系活性エネルギー線反応性化
合物である。

【０１５２】本発明に用いられるエポキシ系活性エネル
ギー線反応性化合物は、分子内に２個以上のエポキシ基
を有する化合物で、前記と同様の活性エネルギー線照射
によりカチオン重合を開始物質として放出することが可
能な化合物である。

【０１５３】本発明に有用なエポキシ系活性エネルギー
線反応性化合物としては、（イ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化
合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応
により得られ、重合度の異なる混合物として得られ
る）；（ロ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有
する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイ
ド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端に
グリシジルエーテル基を有する化合物；（ハ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジル
エーテル；（ニ）ノボラック樹脂あるいはレゾール樹脂のフェノー
ルフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物；（ホ）脂環式エポキシドを有する化合物。例えば、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレー
ト、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチルピメレート、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキ
シルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロ
ヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチル
シクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−
６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポ
キシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシ
レート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘ
キサン−メタ−ジオキサン；（ヘ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグ
リシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグ
リシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサ
ヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート；（ト）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレン
グリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル；（チ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリ
アクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグ
リシジルエステル；（リ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、グルコーズトリグリジルエーテル；（ヌ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグ
リシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素
含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例
と同様のもの；（ル）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテ
ルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ
素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの等を挙げることが出来る。上記エポキシ化合物の分子量
は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０
００以下である。

【０１５４】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、
活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放
出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照
射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出する
オニウム塩の一群の複塩である。これらについては、前
記一般式（III）と同様であるので、ここでは省略す
る。

【０１５５】これらの活性エネルギー線反応性化合物は
前記高屈折率層のところで述べられたようなものと同様
の紫外線や、電子線等の活性エネルギー線、又はプラズ
マ処理、或いは熱エネルギーの付与により硬化されるこ
とも同様である。

【０１５６】以上のようにして反射防止層を形成する。
本発明は、又防眩層を基材上に有している。防眩層は表
面に凹凸を有する構造をもたせることにより、防眩層表
面において光を散乱させる事により防眩機能発現させる
為、微粒子物質を層中に含有した構成をとっている。

【０１５７】これらの層として好ましい構成は以下に示
される様なものである。これは膜厚０．５μｍ以上５．
０μｍ以下であって、平均粒径が当該膜厚の１．１から
２倍の酸化珪素粒子と平均粒径０．００５μｍ以上０．
１μｍ以下の酸化珪素微粒子を例えばジアセチルセルロ
ースのようなバインダー中含有する層であって、これに
よって防眩機能を発揮することができる。

【０１５８】「平均粒径０．２５μｍ以上１０μｍ以下
の粒子」とは、偏光板用保護フィルムの外側最表面に存
在させることによって、これを用いた液晶画面の表面の
防眩機能を発揮するものをいい、平均粒径０．２５μｍ
以上１０μｍ以下のものをいう。

【０１５９】この「粒子」としては、無機粒子及び有機
粒子が挙げられる。本発明に使用することのできる無機
粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられ
る。

【０１６０】有機粒子としては、ポリ（メタ）アクリレ
ート系樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベン
ゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使用で
きる。

【０１６１】これらのうちでも、本発明の目的の一つで
ある防眩性を達成するには、シリカなどの酸化珪素が特
に好ましく用いられる。ここで好ましく用いられる酸化
珪素粒子は、合成非晶質シリカのなかでも湿式法によっ
て作られる超微粉含水珪酸が光沢度を下げる効果が大き
く好ましい。湿式法とは珪酸ソーダと鉱酸及び塩類を水
溶液中で反応させる方法で、例えば富士シリシア化学
（株）製のサイリシアや日本シリカ（株）製のＮｉｐｓ
ｉｌＥなどがある。

【０１６２】防眩層は、また、バインダーとして活性線
硬化性樹脂を用いるのが特に好ましく、塗布後活性線照
射により前記酸化珪素粒子や酸化珪素微粒子含有活性線
硬化樹脂層を形成させる。偏光板表面の機械的強度を増
すことができるという点においてはバインダーとして活
性線硬化性樹脂を用いた防眩層とするのがより好まし
い。

【０１６３】本発明で用いることのできる活性線硬化性
樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋
反応などを経て硬化する樹脂をいう。

【０１６４】活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹
脂や電子線硬化性樹脂などが代表的具体例として挙げら
れるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化
する樹脂であってもよい。紫外線硬化性樹脂の例として
は紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外
線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性アクリ
ル酸エステル系樹脂、紫外線硬化性メタクリル酸エステ
ル系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹
脂及び紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂など
が挙げられる。

【０１６５】本発明に用いることのできる紫外線硬化性
ポリオールアクリレート系樹脂としてはトリメチロール
プロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペン
タエリスリトールペンタエリスリトール等の光重合モノ
マーオリゴマーである。これらのポリオールアクリレー
ト系樹脂は高架橋性で硬化性が大きい、硬度が大きい、
硬化収縮が小さい、又低臭気性で低毒性であり安全性も
比較的高いのが特徴である。

【０１６６】上記の紫外線硬化性ポリオールアクリレー
ト系樹脂には、その効果を損なわない範囲で他の紫外線
硬化性樹脂、例えば紫外線硬化性エポキシ系樹脂を含有
して使用してもよい。アクリレート系樹脂は厚膜塗布し
た硬化塗膜は、硬化収縮によりカーリングが強くなり、
取り扱い作業上支障をきたす場合がある。エポキシ系樹
脂はアクリレート系樹脂と比べて一般に硬化収縮が小さ
く硬化塗膜のカーリングも小さい。ここで言う紫外線硬
化性エポキシ系樹脂とはエポキシ基を分子内に２個以上
含む化合物で、カチオン重合開始剤を含有し、紫外線を
照射することにより架橋反応するエポキシ樹脂である。

【０１６７】本発明に用いることのできる電子線硬化性
樹脂の例としては、好ましくは、アクリレート系の官能
基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステ
ル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂
などが挙げられる。

【０１６８】本発明の効果を顕著に、また簡易に発揮す
るためには、紫外線硬化性樹脂を用いることが好まし
い。

【０１６９】本発明に係る活性線硬化性樹脂の硬化は、
電子線または紫外線のような活性線照射によって硬化す
ることができる。例えば、電子線硬化の場合にはコック
ロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁
コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅ
Ｖ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有
する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キ
セノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発す
る紫外線等が利用できる。

【０１７０】膜厚は０．５μｍ以上５．０μｍ以下、
０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。
また、このうち、特に２．０μｍ以上４．０μｍ以下の
場合が好ましい。

【０１７１】又、これら、本発明の反射防止層又は防眩
層とその基材の反対側に易接着層を有する光学用フィル
ムの各構成層の硬化に用いられる活性輻射線の代わり
に、活性エネルギーを与える手段としてプラズマ処理、
熱などの方法も好ましい。プラズマ処理としては前述し
たような特願平１１−１４３２０６号に記載の方法が好
ましく用いることが出来、図２に示したような処理装置
が同様に用いられる。

【０１７２】又、活性エネルギーを付与する熱処理とし
ては、反射防止層又は防眩層の塗布乾燥後に熱処理する
ことも有効である。７０℃以上で３０秒以上１０分、よ
り好ましくは３０秒以上５分加熱することが好ましい。

【０１７３】これらの防眩層を設けることにより、ヘイ
ズ値の劣化や、可視光の透過率が低下することがないこ
とが必要であり、光学用フィルムとしては、ヘイズ値が
３％以上であることが必要とされる。又、その時の透過
率は５５０ｎｍにおける透過率で９０％以上であること
が必要である。

【０１７４】次に本発明の表面層は、臨界表面張力が２
０×１０^-6Ｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする。臨界
表面張力が２０×１０^-6Ｎ／ｃｍより大きい場合は、表
面層に付着した汚れが取れにくくなる。含フッ素系のフ
ッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。

【０１７５】含フッ素材料としては、有機溶剤に溶解
し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共重
合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共重
合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリ
レート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラ
ン、さらに、ＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン社
製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製、
ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製、
屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ・７２１２（日
本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０１
（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げる
ことができる。これらは単独でも複数組み合わせて使用
することも可能である。

【０１７６】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パフロロオクチル−２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチ
ルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシ
ル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３
−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。

【０１７７】本発明の光学用フィルムは一般に静電気が
起き易いこと、例えば、静電気障害により生じる液晶表
示装置の誤作動等を防止するために、帯電防止層が設け
られることが好ましい。本発明の導電性層は、特開平０
６−１２３８０６号、同０９−２０３８１０号記載の導
電性層が好ましく用いることができる。例えば、導電性
微粒子（酸化スズ、アルミナゾルなど）、導電性ポリマ
ー（特に４級カチオン系のポリマー）を用いた系が好ま
しい。

【０１７８】帯電防止層を設けることにより透明樹脂フ
ィルムの取扱の際に、この樹脂フィルムが帯電するのを
防ぐ機能を付与することが出来る。具体的には、イオン
導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることに
よって行う。

【０１７９】ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を
示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のこ
とであるが、例としてはイオン性高分子化合物を挙げる
ことができる。

【０１８０】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同
５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５
８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３、同６２−
９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離
基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げる
ことができる。

【０１８１】また、導電性微粒子の例としては導電性を
有する金属酸化物が挙げられる。金属酸化物の例として
は、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂ
ａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｓｂを主成分とし、かつその体積抵
抗率が１０⁷Ω／ｃｍ（２５℃、２０％ＲＨ）である金
属酸化物から選ばれる少なくとも１種の、またはこれら
の金属の複合酸化物であり、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂及び
ＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、例え
ばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ₂に対
してはＮｂ、Ｔａ等の添加、又ＳｎＯ₂に対しては、Ｓ
ｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これ
ら異種原子の添加量は０．０１ｍｏｌ％〜２５ｍｏｌ％
の範囲が好ましいが、０．１ｍｏｌ％〜１５ｍｏｌ％の
範囲が特に好ましい。

【０１８２】また、これらの導電性を有する金属酸化物
粉体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ特に１０⁵Ωｃｍ以下で
あって、１次粒子径が１００Å以上０．２μｍ以下で、
高次構造の長径が３００Å以上６μｍ以下である特定の
構造を有する粉体を導電層に体積分率で０．０１％以上
２０％以下含んでいることが好ましい。

【０１８３】これらの導電性層は反射防止層或いは防眩
層と、基材の間、又、基材の反対側の易接着層の基材と
の間に塗設されるのが好ましい。

【０１８４】ハードコート層としては、ポリエステルア
クリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート等の多官能アクリレートを熱硬化、または電離放射
線により硬化させて形成することができる。例えば、多
官能アクリレートとしては大日精化工業株式会社製ハー
ドコート樹脂ＰＥＴ−Ｄ３１を用い、これをバーコータ
ーにより、ドライ厚み６μｍに塗布し、これに電子線を
１５０ｋＶで４Ｍｒａｄ照射して樹脂層を硬化させる等
の方法によりハードコート層を得ることができる。尚、
ここでは、「ハード性能を有する」或いは「ハードコー
ト」とは、ＪＩＳＫ５４００で示される鉛筆硬度試験
で、Ｈ以上の硬度を示すものをいう。

【０１８５】本発明で用いるハードコート層は、低反射
性フィルムを得る為の光学設計上から屈折率が１．４５
〜１．６５の範囲にあることが好ましい。またハードコ
ート層の膜厚は２．０〜１５．０μｍの範囲にあること
が好ましい。これは２．０μｍに満たない膜厚では充分
な耐久性、耐衝撃性が得られず、１５．０μｍを越える
膜厚では屈曲性もしくは生産においての経済性等に問題
が生じるためである。

【０１８６】又、反射防止フィルムのベースとなる透明
プラスチックフィルムとしてはトリアセチルセルロース
等の酢酸エステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム等が用いられる。

【０１８７】本発明の光学用フィルムの各層は透明樹脂
フィルムに担持されており、この透明樹脂フィルムは光
の透過性があり、強靱性のあるものであればいずれでも
よく、例えば酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエス
テル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボ
ルネン系樹脂フィルム、ポリアリレート系フィルム及び
ポリスルホン系フィルムなどが挙げられる。これらのう
ちでも特に、従来用いられている三酢酸セルロースのよ
うな酢酸セルロース系樹脂フィルムや、二軸延伸ポリエ
ステルが透明性、耐久性に優れている点で好通に用いら
れる。耐久性及び機械的強度の点で優れるポリカーボネ
ート系フィルムも好ましい。その厚みは、通常は５０μ
ｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。

【０１８８】本発明で好ましく用いることのできる酢酸
セルロース系樹脂フィルムとしては公知のものを使用す
ることができる。例えば、酢酸セルロースの酢化度は５
４〜６２．５％が好ましく、５８〜６２．５％がより好
ましい。また重量平均分子量は７０，０００〜１２０，
０００が好ましく、８０，０００〜１００，０００がよ
り好ましい。

【０１８９】上記酢酸セルロースは酢酸だけでなく、上
記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、酪酸等の
脂肪酸でエステル化されていてもよく、また、総量で上
記酢化度を満足する限りプロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース等のセルロースエステル類を含んでいてもよ
い。

【０１９０】又、これら低級脂肪酸セルロースエステル
のうち−１００乃至−１０℃に冷却してから０乃至１２
０℃に加温する過程で有機溶媒に溶解し得られた低級脂
肪酸セルロースエステル有機溶媒溶解液を、エンドレス
ベルト上、あるいはドラム上に塗布（キャスティング）
することにより製造されたフィルムも好ましい。

【０１９１】これら基材の厚みは、視認性等の観点から
は前面版としてうすい方が好ましく、基材及び前記の種
々の光学的機能層を含んだ光学用フィルム全体としての
厚みは６０μｍ以下のものが好ましく、更に好ましくは
３０〜６０μｍである。基材としては従って、５５μｍ
以下、好ましくは５０μｍ以下である。

【０１９２】偏光板用保護フィルムを構成する酢酸セル
ロースフィルムには、一般に可塑剤が含有されている。
可塑剤の例としてはトリフェニルホスフェート、トリク
レジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート
等のリン酸エステル類、ジエチルフタレート、ジメチル
フタレート等のフタル酸エステルを挙げることができ
る。これらの可塑剤を０．５〜２０質量％含有していて
もよい。又、これらの酢酸セルロースフィルム基材がシ
リカ微粒子を含有していてもよい。

【０１９３】又、紫外線吸収剤を添加しても良い。用い
られる紫外線吸収剤としては、サリチル酸エステル系、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒドロキシ
ベンゾエート系、シアノアクリレート系などが挙げられ
る。また、特開平２−５８５７１号公報にあるような、
紫外線吸収性能を有する化合物をエポキシ化合物などの
接着性成分と反応させた反応生成物と、イソシアネート
あるいはアミノ樹脂の少なくとも一つの混合物なども用
いることができる。

【０１９４】カール防止加工とは、これを施した面を内
側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、
この加工を施すことによって、透明樹脂フィルムの片面
に何らかの表面加工を施したり、両面に異なる程度・種
類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカール
しようとするのを防止する働きをするものである。

【０１９５】カール防止層は基材の防眩層まはた反射防
止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透
明樹脂フィルムの片面に易接着層を本発明の作製方法で
塗設し、また逆面にカール防止加工を本発明の作製方法
で塗設するような態様が挙げられる。カール防止加工の
具体的方法としては、溶剤塗布によるもの、透明樹脂層
を塗設するもの等が挙げられる。溶剤塗布による方法と
は、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いる透明
樹脂フィルムを溶解させる溶剤又は膨潤させる溶剤を含
む組成物を塗布することによって行われる。トリアセチ
ルセルロース系の基材の場合、これらのカールを防止す
る機能を有する層の塗布液は従ってケトン系、エステル
系の有機溶剤を含有するものが好ましい。好ましいケト
ン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳
酸エチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、
イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジイソプロピ
ルケトン、ジエチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、
メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、
メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケ
トン、メチル−ｎ−へプチルケトン等、好ましいエステ
ル系の有機溶剤の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
しかしながら、用いる溶剤としては溶解させる溶剤及び
／又は膨潤させる溶剤の混合物の他、さらに溶解させな
い溶剤を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムの
カール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した
組成物及び塗布量を用いて行う。この他にも、クリアハ
ード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発
揮する。

【０１９６】本発明の光学用フィルムにおいては、基材
の防眩層まはた反射防止層を有する側と反対側にカール
を防止する機能を有する層を設けることが好ましい。

【０１９７】又、こうして製造された光学用フィルムは
２３℃、６０％ＲＨにおけるカール度が−１０以上＋１
０以下であることが望ましい。

【０１９８】カール度の測定は、以下の方法で行われ
る。当該フィルム試料を８０℃９０％ＲＨ環境下で４８
時間放置後、該フィルムを幅手方向５０ｍｍ、長手方向
２ｍｍに切断する。さらに、そのフィルム小片を２３℃
±２℃５５％ＲＨ環境下で２４時間調湿し、曲率スケー
ルを用いて該フィルムのカール値を測定する。

【０１９９】カール値は１／Ｒで表され、Ｒは曲率半径
で単位はｍを用いる。カール値については、フィルムの
変形が少ないものが好ましく、変形方向は、＋方向で
も、−方向でもかまわない。すなわち、カール値の絶対
値が小さければ良く、具体的には、該フィルムのカール
値の絶対値が１０より大きいと、該フィルムを用いて偏
光板等を作製した場合、高温高湿下（例えば、８０℃９
０％ＲＨで４８時間放置する）での反り等の変形が大き
くなり使用に耐えない。該フィルムのカール値が１０以
下であれば、該フィルムを用いて偏光板等を作製した場
合、高温高湿下（例えば、８０℃９０％ＲＨで４８時間
放置する）でも反りなどの変形が小さく使用することが
できる。

【０２００】これらのカール防止層その他の層の塗設に
もかかわらず、本発明の光学用フィルムはヘイズ値が３
％以上であり、かつ、５５０ｎｍにおける透過率が９０
％以上であることが好ましい。

【０２０１】又、これらの細表面層は、易接着層の偏光
子への貼合や、又、反射防止層面を保護層フィルム面に
貼り付けたりして使用するため、ある程度の親水性を有
している必要があり特に、易接着層の２３℃、６０％Ｒ
Ｈにおける水の接触角は５０度以下であることが好まし
い。

【０２０２】本発明に係る光学用フィルムは、クリアハ
ード加工、アンチリフレクション加工及び帯電防止加工
及び防眩層等以外にも他の表面加工が施されていてもよ
い。例えば、ブロッキング防止加工、などが施されてい
てもよい。好ましい具体的態様においては、透明樹脂フ
ィルムの片面に帯電防止層、クリアハードコート層、反
射防止層及び又は防眩層を設け、反対面に易接着加工を
施した態様であり更にカール防止加工を施した態様など
が挙げられる。

【０２０３】本発明の光学用フィルムにおいて、反射防
止層又は防眩層等とは反対側の基材面に設けられる偏光
子に接着する為の易接着層とは、偏光板用保護フィルム
とその隣接層、代表的には偏光膜とを接着し易くする機
能を付与する層のことをいう。

【０２０４】本発明にて好ましく用いられる易接着層の
例としては、−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子またはカチオン
を表す。）基を有する高分子化合物を含有する層を含む
ものであり、更に好ましい態様はフィルム基材側に−Ｃ
ＯＯＭ基を有する高分子化合物を含有する層を設け、そ
れに隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる
成分として含む層を設けたものである。ここでいう−Ｃ
ＯＯＭ基を有する高分子化合物としては例えば−ＣＯＯ
Ｍ基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−ＣＯＯ
Ｍ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビ
ニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであ
り、特に−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体を用いると好ましい。このような高分子化合物
を単独で又は２種以上併用して用い、好ましい重量平均
分子量としては５００〜５００，０００程度のものであ
ると良い。以下に−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物の
特に好ましい例を挙げるが、本発明はこれらに限定され
ない。

【０２０５】

【化３】

【０２０６】

【化４】

【０２０７】また親水性高分子化合物としては好ましく
は、親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロー
ス等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビ
ニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合
体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例えば、
ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性ポリエ
ステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化されたポリ
エチレンテレフタレート等）、親水性ポリビニル誘導体
（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル
アミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾー
ル等）が挙げられ、単独あるいは２種以上併用して用い
られる。

【０２０８】本発明にはブロッキング防止加工も適用す
ることができ、透明樹脂フィルムの取扱易さを付与する
のに役立つ。例えば、製膜した透明樹脂フィルムをロー
ル状に巻取る際の巻乱れを防いだり、生じた巻乱れの修
復を容易にする等の機能を付与するものである。

【０２０９】これらの易接着層には接着の際の密着性を
よくし貼合後に欠陥が生じないようにするために粗面化
するのが効果がある。又、本発明の光学用フィルムにお
いて反射防止層或いは防眩層の更にうえに保護膜フィル
ムを貼りつける場合等には、最表層が粗面化されている
ことが好ましい。この為に、最表層には平均粒径が１．
０μｍ以下の微粒子が添加されていることが好ましい。
用いられる微粒子としては前記防眩層において挙げられ
た無機有機の微粒子が使用できる。このものの中より、
１．０μｍ以下の粒子を選択して用いればよい。これら
の微粒子としては、好ましくはシリカなどの酸化珪素、
例えば富士シリシア化学（株）製のサイリシアや日本シ
リカ（株）製のＮｉｐｓｉｌＥなどがある。

【０２１０】これらの層を塗設した本発明の光学用フィ
ルムは、偏光子の表面が親水性であるため、親水性を有
している必要があり、親水性の尺度として水の接触角を
測定したとき、水の接触角は、５５度以下であり、好ま
しくは５３度以下で、さらに好ましくは５０度以下であ
る。

【０２１１】公知のように材料の導電性は、陽イオン、
陰イオンもしくは、電子、正孔など粒子中に存在する電
荷担体により発現する。主な電荷担体がイオンのとき固
体電解質となり、電荷担体が電子の場合は、半導体とな
る。

【０２１２】インピーダンスは、一般には次の公知の式
で表される。材料の導電性があがれば、抵抗の項を含む
インピーダンスＺの絶対値は減少する。

【０２１３】｜Ｚ｜＝〔Ｒ²＋（１／ωＣ）²〕^1/2 但し、Ｚ：インピーダンスＲ：抵抗Ｃ：静電容量 ω：２πｆｆ：周波数フィルム材料のインピーダンス測定に関しては、電子部
品の誘電率測定に用いる一般のインピーダンス測定装置
を用いることができるが、好ましくは周波数１Ｈｚ以上
の測定が可能なインピーダンス測定装置と、フィルム測
定用電極を組み合わせた装置である。例えば、横河・ヒ
ューレット・パッカード社製（以下ＹＨＰ社製）プレシ
ジョンＬＣＲメーターＨＰ４２８４ＡとＨＰ１６４５１
Ｂの組み合わせである。他の装置を用いる場合には、電
極部分の補正を行う必要がある。本発明達成の為には、
フィルム材料のインピーダンスを正しく測定する必要が
あるので、補正不可能の装置を用いた場合には、好まし
い結果が得られない。この装置の組み合わせでさらに２
０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶対値を求める一例を
詳細に記すが、フィルム材料の正確な周波数２０Ｈｚの
インピーダンスの絶対値が測定できるならば、本発明で
は測定方法を制限しない。

【０２１４】平行な平面で構成される二電極とガード電
極を有するＨＰ１６４５１Ｂの接続されたプレシジョン
ＬＣＲメーターＨＰ４２８４Ａを用い、２３℃２０％Ｒ
Ｈ雰囲気下で、空隙法によりフィルム材料のインピーダ
ンスの絶対値を計測する。空隙法の測定に関しては、Ｈ
Ｐ１６４５１Ｂの取り扱い説明書に記載された電極非接
触法に従う。サンプルの大きさについては、電極平面よ
りも大きければ特に制限は無いが、主電極の直径が３．
８ｃｍの場合には、大きさ６ｃｍ×６ｃｍから５ｃｍ×
５ｃｍの正方形サンプルが好ましい。サンプルの直流電
流を用いて測定された表面比抵抗の大きさが、表裏で等
しければ、どちらの面を上方にしてもよいが、表裏で等
しくなければ、表面比抵抗の値が低い面を上方に向け、
平行な平面で構成される二電極間にサンプルを設置し交
流電圧をかけながら空隙法で計測する。

【０２１５】計測された好ましい範囲は、面積が１１か
ら１２ｃｍ²の電極を用いて測定した周波数２０Ｈｚに
おけるインピーダンスの絶対値は４×１０⁵Ω以上であ
り、好ましくは４×１０⁵Ω以上１×１０²⁰Ω以下、さ
らに好ましくは５×１０⁵Ω以上１×１０¹⁴Ω以下であ
る。

【０２１６】又、フィルム材料の表面比抵抗が１×１０
¹²Ω／ｃｍ以下（２３℃２０％ＲＨ）であり、好ましく
は５×１０¹¹Ω／ｃｍ以下（２３℃２０％ＲＨ）であ
る。

【０２１７】（表面比抵抗値の測定）現像前の試料を２
３℃、２０％ＲＨにて２４時間調湿し、試料のバック面
を川口電機株式会社製テラオームメーターモデルＶＥ−
３０を用いて測定できる。

【０２１８】基材のどちらか一方に反射防止層または防
眩層を有する光学用フィルムの製造においては、反射防
止層やその他の層にエネルギー線（光、熱など）を照射
することにより物性、光学特性を向上させることができ
る。

【０２１９】これら光学フィルム各層の密着性やフィル
ムの寸法安定性を向上させたりなどの目的でエージング
を行なうことができる。エージングとは、フィルムを一
定または可変の温度、湿度の条件下で一定時間保存する
ことをいう。通常、エージング処理せずに加熱処理ゾー
ンの温度を上げるか、加熱処理ゾーンを通過する時間を
延長することが行われているが、加熱処理ゾーンの温度
を上げると加熱ムラによる部分的な硬化不良や基材が温
度で変形するなどの問題が生じてしまう。また加熱処理
ゾーンの通過時間を延長すると、生産速度が遅くなり製
造コストが上昇したり、加熱処理ゾーン延長の為の改造
が必要となる。

【０２２０】本発明においては、巻の状態すなわちフィ
ルムがロール状に巻きとられた状態において４０℃以上
の温度でエージングすることにより部分的な硬化不良を
起こさず、基材の変形を起こさずに光学用フィルムが得
られることを見出された。又、巻の状態で包装加工して
もよく、包装材料は、ポリエチレン、ポリエステル、ポ
リプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織
布等が挙げられる。

【０２２１】エージングする温度は、４０℃以上１５０
℃以下が好ましく、５０℃以上１２０℃以下が特に好ま
しい。さらに温度は変化させても良く、例えば、高温か
ら低温などに変化させることができる。エージングの湿
度条件はそれぞれの目的に応じて選択すれば良いが、２
０％ＲＨ〜８０％ＲＨが好ましく、４０％ＲＨ〜６０％
ＲＨが特に好ましい。これら湿度条件も自由に変化させ
ることができる。エージングする時間についても目的に
応じて選択すれば良く、３０分以上数ヶ月以内が好まし
い。特に好ましくは１時間以上１ヶ月月以内である。

【０２２２】又、本発明の光学用フィルムは、製造時、
その塗布や巻き取り工程、塗布後のエージング工程等に
おいて良好なブロッキング防止特性をもたせるため、動
摩擦係数は、０．４以下好ましくは０．３５以下であ
る。これらは前記構成や表面の粗面化や、フッ素化合物
の添加により、達成される。

【０２２３】本発明の光学用フィルムの取り扱いにおい
て、カット後の重ね合わせ保存しておく場合又、偏光子
への貼合工程や、その後の取り扱い等による、表面の損
傷を防止するために、保護層フィルムを反射防止層又は
防眩層の表面に貼りつけることが有効である。これによ
り例えば表面の損傷を受けやすい偏光子への貼りつけ工
程における本発明の光学用フィルムの取り扱い時には、
保護膜用のフィルムを貼りつけておき、使用時には取り
外すというような使い方により表面の損傷を更に低減す
ることが出来る。この様な保護フィルムを本発明の光学
用フィルムに貼り合わせたものも本発明の好ましい１態
様である。

【０２２４】この様な保護フィルムとして、例えば特開
平７−２６２２３号、同９−１１３７２６号に記載のも
のが挙げられる。

【０２２５】このような本発明の光学用フィルムに用い
る保護フィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、エチレン
−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ポリスチレン系フィルム、ポリアミドフィルム、
ポリウレタンフィルム、軟質ポリ塩化ビニルフィルム、
ポリ塩化ビニリデンフィルム、合成ゴム系フィルムなど
が用いられ、これらのフィルムは無延伸フィルムであっ
ても延伸フィルムであってもよく、また単層フィルムで
あっても複層フィルムであってもよい。

【０２２６】保護フィルムの内面側には、軽度の粘着性
を有する貼着性層が設けられる。貼着性層を設けたとき
は、その上から剥離シートを被覆するのが通常である。

【０２２７】これらの保護フィルムにおいてはさらに外
面が弱剥離面に形成されるのが好ましい。その弱剥離面
に後の工程においてセロハン粘着テープを貼着したうえ
で一緒に表面保護フィルムを剥離除去すればよい。剥離
をスムースに行うには、セロハン粘着テープによる剥離
強度が５０〜４００ｇ／２４ｍｍ（好ましくは１００〜
３５０ｇ／２４ｍｍ）であることが好ましい。少なすぎ
ると、後の工程においてセロハン粘着テープによる表面
保護フィルムの剥離除去を円滑に行うことができず、一
方剥離強度が強すぎるときは、光学用フィルムを積み重
ねたとき、他の光学用フィルム面に付着するおそれがあ
る。

【０２２８】なお上記の剥離強度の測定は、保護フィル
ムの弱剥離面に巾２４ｍｍのセロハン粘着テープ（ニチ
バン株式会社製の文具用の「セロテープ」）を指で押し
つけて貼り、引張試験機を用いて３０ｃｍ／ｍｉｎの速
度で１８０゜方向に引っ張ったときの強度である。

【０２２９】保護フィルムの外面を弱剥離面に形成する
ためには、長鎖アルキル基またはフロロアルキル基を有
するポリマーを主剤とする剥離処理剤のような過度の剥
離性を示さない処理面を与えることのできる剥離処理
剤、たとえば、水酸基含有ポリマーの長鎖アルキルカー
バメート、水酸基含有ポリマーのパーフロロアルキルカ
ーバメート、パーフロロアルキルアクリレートの共重合
体、長鎖アルキルアクリレートの共重合体、長鎖アルキ
ルビニルエステルの共重合体、長鎖アルキルビニルエー
テルの共重合体、長鎖アルキルアクリルアミドの共重合
体、長鎖アルキルアリルエステルの共重合体などを主剤
とする剥離処理剤を、保護フィルムの外面となる面にコ
ーティングする方法が好適に採用される。

【０２３０】光学用フィルムが静電気によりくっつくの
を防止するため、弱剥離面は帯電防止性を有することが
望ましい。

【０２３１】すなわち、帯電防止性を有する弱剥離面の
形成を、剥離処理剤と帯電防止剤との混合物からなる処
理剤のコーティング、または、帯電防止剤によるコーテ
ィング層の上からの剥離処理剤によるコーティングによ
り行う。

【０２３２】これらに用いる帯電防止剤としては、通常
の導電性物質を用いることができる。

【０２３３】これらの表面保護フィルムを用いれば、光
学用フィルムに貼着したとき、光学用のフィルムの表面
を保護でき、しかも後の工程におけるセロハン粘着テー
プによる表面保護フィルムの剥離除去を円滑に行うこと
ができる。また表面保護フィルムの外面が弱剥離性だけ
でなく帯電防止性も有するようにすれば、光学用フィル
ムを積み重ね他場合等、互いにくっつくようなトラブル
を生じない。

【０２３４】この様な形態での光学用フィルムも本発明
の光学用フィルムの一形態である。本発明の光学用フィ
ルムの製造する際の反射防止層、或いは防眩層組成物等
のの塗布は単独又は有機溶剤に固形分濃度１０〜９５質
量％となるように希釈してグラビアコーター、スピンナ
ーコーター、ワイヤーバコーター、押し出しコーター、
リバースコーター等公知の方法で塗布し、乾燥後、紫外
線、プラズマ処理、加熱処理等の活性エネルギーへの暴
露により硬化されるものである。この時の乾燥膜厚は任
意ではあるが、０．１〜３０μｍ位が適当である。好ま
しくは０．５μｍ〜１５μｍである。

【０２３５】基材のどちらか一方に反射防止層または防
眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フィルム
の製造において、巻き取ることなく基材の両面または片
面に複数層塗布することが生産上は効率がよく好まし
い。

【０２３６】中でも、易接着層、帯電防止層、ハードコ
ート層のうちいずれか２層以上は巻き取らずに塗布する
ことが、効率的であり、製造方法としては好ましいもの
である。又、強固な膜を形成し各層間の膜付き等にもよ
い結果をもたらす。又、光反射防止層として機能する屈
折率が異なる２つ以上の層、即ち屈折率が０．０５以上
異なる、好ましくは０．１５以上異なる、さらに好まし
くは０．２以上異なる２層以上の反射防止層を巻き取ら
ずに塗布することは、やはり生産効率上も、強固な膜を
形成する上でもさらに光干渉層としての膜厚の制御上も
好ましい光学用フィルムの製造方法である。

【０２３７】この様に複数の層の中幾つかを同時に重層
することで生産性、又、得られた膜の強度、安定した性
能が得られる点で有利である。

【０２３８】又これら本発明の基材のどちらか一方に反
射防止層または防眩層を有し、反対側に易接着層を有す
る光学用フィルムにおいては、反射防止層または防眩層
に更に保護フィルムを貼合し光学用フィルムとし、保護
層膜としての機能を併せ持った形態で使用することも本
発明の１態様である。これらの保護層膜としての機能を
併せもつ光学用フィルムは、反射防止層或いは防眩層上
に保護膜フィルムを貼り合わせて製造する。

【０２３９】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の様態はこれに限定されない。

【０２４０】実施例１基材に綿花リンターと木材パルプであるセルローストリ
アセテートを８５／１５の質量割合で混合し、可塑剤と
してトリフェニルホスフェート２質量％エチルフタリル
グリコレート３質量％、紫外線吸収剤としてチヌビン３
２６、チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ
社製）をそれぞれ０．５質量％含有する厚さ５０μｍの
ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを用いて、
その片面に、導電性塗布組成物（１）を１５ｍｌ／ｍ²
となるように塗布し、８０℃で５分間乾燥し導電性層を
設けた。次にこの上層にハードコート塗布組成物を１５
ｍｌ／ｍ²となるように塗布し、８０℃で５分間乾燥
後、ＵＶ（高圧水銀ランプ）を９０ｍＪ／ｃｍ²照射し
てハードコート層を設けた。導電層の膜厚は０．２μ
ｍ、ハードコート層の膜厚は５μｍであった。

【０２４１】〈導電性塗布組成物〉ポリメチルメタクリレート０．５ｇ化−１の化合物０．５ｇプロピレングリコールメチルエーテル６５ｍｌメチルエチルケトン（ＭＥＫ）２０ｍｌＭｅＯＨ１０ｍｌ乳酸エチル５ｍｌ〈ハードコート塗布組成物〉ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体２０．０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体７．５ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分７．５ｇジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ開始剤）０．５ｇアエロジルＲ−９７２（日本アエロジル（株）製）０．５ｇメチルエチルケトン３８ｍｌプロピレングリコールメチルエーテル３８ｍｌ

【０２４２】

【化５】

【０２４３】次に導電性層、ハードコート層の反対側の
面に易接着層として、易接着層塗布液（１）を２０ｍｌ
／ｍ²となるように塗布し、８０℃で５分乾燥し易接着
層の下層を設けた。さらに易接着層塗布液（２）を易接
着層の下層の上に２０ｍｌ／ｍ²となるように塗布し、
８０℃で５分乾燥し易接着層の上層を設けた。易接着層
の膜厚はどちらも０．１μｍであった。

【０２４４】〈易接着塗布液（１）〉（１−７）の化合物０．５ｇアセトン６０ｍｌ酢酸エチル３０ｍｌトルエン１０ｍｌ〈易接着塗布液（２）〉ポリビニルアルコール０．５ｇ（日本合成化学工業（株）、ゴーセノールＮＨ−２６）サポニン（メルク社製）０．０３ｇＨ₂Ｏ５０ｍｌメタノール５０ｍｌ２％アセトン分散微粒子シリカ（超音波分散）２ｍｌ（商品名：アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）次にハードコートの上に反射防止層として、中屈折率層
塗布液を１０ｍｌ／ｍ ²となるように塗布し、８０℃で
５分乾燥し、ＵＶ（高圧水銀ランプ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ²照射して中屈折率層を設けた。中屈折率層の膜厚は
０．１μｍ、屈折率は１．６５であった。

【０２４５】〈中屈折率層塗布液〉チタンテトラブトキシド９．５ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．９ｇカチオン性硬化樹脂（ＫＲ−５６６旭電化工業社製）０．９ｇ２−プロパノール７５ｍｌジメチルホルムアミド８ｍｌ１０％塩酸水溶液２．６ｍｌさらに中屈折率層の上に、高屈折率塗布液を１０ｍｌ／
ｍ²となるように塗布し、８０℃で５分乾燥し、ＵＶ
（高圧水銀ランプ）を３００ｍＪ／ｃｍ²照射して高屈
折率層を設けた。高屈折率層の膜厚は０．１μｍ、屈折
率は１．８５であった。

【０２４６】〈高屈折率層塗布液〉チタンテトラブトキシド１４．５ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．２５ｇカチオン性硬化樹脂（ＫＲ５６６−３９旭電化工業社製）０．２５ｇ１−ブタノール７５ｍｌジメチルホルムアミド３ｍｌ１０％塩酸水溶液３ｍｌ次に高屈折率層の上に低屈折率層塗布液（１）を１０ｍ
ｌ／ｍ²となるように塗布し、８０℃で５分乾燥後、１
００℃で１０分間加熱し低屈折率層を設け、光学用フィ
ルム１０１（反射防止層／易接着層）を作製した。低屈
折率層の膜厚は０．１μｍ、屈折率は１．４５であっ
た。

【０２４７】〈低屈折率層塗布液（１）〉テトラエトキシシラン加水分解物＊２７ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン０．８ｇアルミニウムトリスエチルアセトアセテート０．８ｇ２％アセトン分散微粒子シリカ（超音波分散）３０ｍｌ（商品名：アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）シクロヘキサノン５０ｍｌフッ素系界面活性剤０．１ｇ（メガファックＦ−１７２大日本インキ社製）＊テトラエトキシシラン加水分解物の調製方法テトラエトキシシラン２５０ｇにエタノール３８０ｇを加え、この溶液に３ｇの塩酸（１２Ｎ）を２３５ｇの水に溶解した塩酸水溶液を室温で、ゆっくり滴下した。滴下後、３時間室温で撹拌して調製した。

【０２４８】光学用フィルム１０１のハードコート層を
下記に示す防眩塗布組成物に代えた以外は同様に光学用
フィルム１０２（反射防止層／防眩層／易接着層）を作
製した。

【０２４９】〈防眩塗布組成物〉ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体２５ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体１０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分１０ｇ１，４−ブタンジオールグリシジルエーテル５ｇジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ開始剤）１ｇ芳香族スルホニウム塩系ＵＶ開始剤０．２５ｇシリカ（サイシリア３５０富士シリシア社製）１．３ｇ親水性シリカ（アエロジル２００日本アエロジル社製）１ｇメチルエチルケトン３０ｍｌ酢酸エチル３０ｍｌイソプロピルアルコール３０ｍｌ以上を高速攪拌機（ＴＫホモミキサー、特殊機化工業
（株）製）で攪拌し、その後衝突型分散機（マントンゴ
ーニー、ゴーリン（株）製）で分散した。

【０２５０】光学用フィルム１０２で用いた防眩塗布組
成物にフッ素表面改質剤（ＤＥＦＥＮＳＡＭＣＦ３２
３大日本インキ社製）を０．５ｇ添加した以外は同様
に防眩塗布組成物を塗布した。この層の上には何も塗布
しない光学用フィルム１０３を作製した。

【０２５１】光学用フィルム１０１の低屈折率層塗布液
（１）を低屈折率層塗布液（２）に代え、塗布後８０℃
で５分間乾燥後、酸素濃度０．２％の雰囲気下でＵＶ光
（高圧水銀ランプ）を２５０ｍＪ／ｃｍ²照射して低屈
折率層を設け光学用フィルム１０４（反射防止／易接着
層）を作製した。低屈折率層の膜厚は０．１μｍ、屈折
率は１．３９であった。

【０２５２】〈低屈折率層塗布液（２）〉メタクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロエヘキシル４ｇジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール４ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２ｇトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル２ｇジエトキシベンゾフェノン（重合開始剤）０．５ｇ４，４−ビス（ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート（重合開始剤）０．５ｇフッ素原子含有樹脂１ｇ１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン８０ｍｌメチルイソブチルケトン８０ｍｌ界面活性剤（メガファックＦ−１７２大日本インキ社製）１ｇ〔フッ素原子含有樹脂の合成法〕フッ化ビニリデン４０
ｇ、フッ素原子含有アクリルモノマー（ビスコート１７
Ｆ大阪有機化学（株）製）２５ｇ、テトラフルオロエ
チレン１５ｇ、グリシジルメタクリレート１５ｇをメチ
ルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）０．５リットルに溶解
し、過酸化ベンゾイルを２ｇ添加し、８０℃で２時間反
応させた。メタノール１リットルで２回再沈殿による精
製を行い、ポリマーを得た。ポリマーの収量は９３ｇ
で、数平均分子量は１５，６００（ＧＰＣによるポリス
チレン換算）であった。

【０２５３】光学用フィルム１０１の導電性塗布組成物
（１）を導電性塗布組成物（２）に変えた以外は同様に
光学用フィルム１０５を作製した。導電層の膜厚は０．
２μｍであった。

【０２５４】〈導電性層塗布液（２）〉酸化スズ・酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．０５μｍ）１．４ｇセルロースジアセテート１．０ｇアセトン７０ｍｌシクロヘキサノン２０ｍｌトルエン１０ｍｌ光学用フィルム１０５の導電性層とハードコート層の塗
布順を入れ替えた以外は同様に光学用フィルム１０６を
作製した。

【０２５５】光学用フィルム１０１の導電性層を除いた
以外は同様に光学用フィルム１０７を作製した。

【０２５６】光学用フィルム１０１の導電性層を裏面の
易接着層の下層を塗布する前、すなわちＴＡＣフィルム
上に導電性層を塗設した以外は同様に光学用フィルム１
０８を作製した。

【０２５７】光学用フィルム１０８の導電性層を易接着
層の下層の上、易接着層の上層の下に塗設した以外は同
様に光学用フィルム１０９を作製した。

【０２５８】次に光学用フィルム１０１の易接着層上層
の易接着塗布液（２）から２％アセトン分散微粒子シリ
カを除いた以外は同様に光学用フィルム１１０を作製し
た。

【０２５９】さらに光学用フィルム１１０から低屈折率
層の低屈折率層塗布液（１）から２％アセトン分散微粒
子シリカを除いた以外は同様に光学用フィルム１１１を
作製した。

【０２６０】次に光学用フィルム１０１の易接着防止層
の塗布液処方を易接着塗布液（１）から易接着塗布液
（３）に変えた以外は同様に光学用フィルム１１２を作
製した。

【０２６１】〈易接着塗布液（３）〉（１−７）の化合物０．５ｇメタノール３０ｍｌ２−プロパノール３０ｍｌトルエン４０ｍｌ比較例１光学用フィルム１０１〜１０４の易接着層（２層）を塗
布しない以外は同様に光学フィルム１１３〜１１６を作
製した。

【０２６２】比較例２厚さ５０μｍのセルローストリアセテートフィルムを２
Ｎの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で３分浸漬し、水洗
後、乾燥して表面がアルカリケン化処理されたセルロー
ストリアセテートフィルムを得た。光学フィルム１１３
〜１１６の基材をセルローストリアセテートフィルムか
らアルカリケン化処理したセルローストリアセテートフ
ィルムを用いた以外は同様に光学フィルム１１７〜１２
０を作製した。

【０２６３】比較例３光学用フィルム１１３〜１１６を比較例２のアルカリケ
ン化条件でケン化した光学用フィルム１２１〜１２４を
作製した。

【０２６４】光学フィルムを以下に示す方法で評価し
た。その結果を表１及び２に示した。（接着性の評価の方法）下記〜の工程で偏光子と光
学用フィルムのとを貼り合わせて偏光フィルムを作製し
た。

【０２６５】１８ｃｍ×５ｃｍの光学用フィルムを２
枚反射防止層または防眩層を下にしてガラス板上に配置
する。

【０２６６】光学用フィルムと同サイズの１軸延伸さ
れたポリビニルアルコール染色フィルムからなる偏光子
を固形分２ｗｔ％のポリビニルアルコール接着剤槽に１
〜２秒間浸漬（偏光子の両面）する。

【０２６７】上記の偏光子に付着した過剰の接着剤
を軽く取り除き、上記の保護フィルム試料上にのせ
て、もう１枚の試料を積層する。

【０２６８】ハンドローラで上記で積層された偏光
子と光学用フィルムとの積層物から過剰の接着剤および
気泡を取り除き貼り合わせる。ハンドローラの圧力は２
〜３ｋｇ／ｃｍ²、スピードは約２ｍ／ｍｉｎとした。

【０２６９】８０℃の乾燥器中にで張り合わせた試
料を２分間放置し乾燥させる。（接着性：初期接着）光学用フィルムと偏光子を貼り合
わせた後、手で剥離性を測定し材料破壊の発生の程度で
下記の３段階の評価を行った。

【０２７０】評価 ○：材料破壊が起こる評価 △：一部試料破壊が起こるが、光学用フィルムと
偏光フィルム間で剥がれる面積が大きい評価 ×：光学用フィルムと偏光子との間で剥がれる（接着性：加工性）片刃を用いて断裁して接着面の浮き
の程度で下記の３段階の評価を行った。

【０２７１】評価 ○：接着面の浮きがまったくない評価 △：わずかに接着面の浮きが起こる評価 ×：接着面の浮きが起こる（反射率）分光光度計（日立製作所製Ｕ−４０００型）
を用い、５度正反射の条件にて反射率の測定を行った。
この測定方法において、塗布されていない側の面の基板
面を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理
を行い、フィルム裏面での光の反射を防止し、反射率の
測定を行い、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける最低反射
率を表した。

【０２７２】（臨界界面表面張力）表面層の水とヨウ化
メチレンに対する接触角を測定し、「コーティングの基
礎」（原崎勇次著槇書店）ｐ１７０〜１７１記載の式
に代入し、ＺｉｓｍａｎプロットからＣＯＳθ−１に外
挿したγＬＶ°の値から求めた。

【０２７３】ＣＯＳθ＝１＋ｂ（γｃ−γＬＶ°）ただ
しγＬＶ°≧γｃ θ：固／液の接触角、γＬＶ°：液体の表面張力、γ
ｃ：臨界表面張力、ｂ：定数（動摩擦係数）ＪＩＳやＡＳＴＭが規定する方法に従
い、鋼球を用いて測定した。

【０２７４】（インピーダンス）横河・ヒューレット・
パッカード社製（以下ＹＨＰ社製）プレシジョンＬＣＲ
メーターＨＰ４２８４ＡとＨＰ１６４５１Ｂの組み合わ
せを用いて２０Ｈｚにおけるインピーダンスを測定し
た。具体的には平行な平面で構成される二電極とガード
電極を有するＨＰ１６４５１Ｂの接続されたプレシジョ
ンＬＣＲメーターＨＰ４２８４Ａを用い、２３℃２０％
ＲＨ雰囲気下で測定した。

【０２７５】（表面比抵抗）試料を２３℃、２０％ＲＨ
にて２４時間調湿し、川口電機株式会社製テラオームメ
ーターモデルＶＥ−３０を用いて測定した。

【０２７６】（カール度）試料を巾手方向３５ｍｍ、長
手方向１ｍｍに裁断した試料を用いた。試料を２５℃、
５５％ＲＨ雰囲気下で３日間放置し、カール度の測定を
ＪＩＳ−Ｋ７６１９−１９８８のＡ法に準じて行った。

【０２７７】（密着性）ＪＩＳＫ５４００に準拠し
た碁盤目試験を行った。具体的には塗布面上に１ｍｍ間
隔で縦、横に１１本の切れ目をいれ、１ｍｍ角の碁盤目
を１００個つくった。この上にセロハンテープを貼り付
け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁
盤目の数をｍとしｍ／１００として表した。

【０２７８】（表面耐傷性）＃００００スチールウール
に１平方センチメートルあたり２５０ｇの荷重をかけて
積層体フィルムの表面を１０往復した後の、スチールウ
ール往復方向の１センチメートルあたりの傷の発生本数
で評価した。

【０２７９】（透過率）５５０ｎｍにおける透過率を島
津製作所（株）製ＭＰＳ−２０００を用いて測定した。

【０２８０】（接触角）２３℃の条件下、エルマー工業
（株）社製ゴニオメーターエルマーＧ１を用いて、試
料の反射防止層または防眩層の反対側の面に純水を５μ
ｌ滴下して接触角を測定した。

【０２８１】（ブロッキング）試料（巾３５ｍｍ、長さ
９５０ｍｍ）を直径５０ｍｍのコアに１ｋｇの荷重をか
けて６周巻き付け、試料が緩まないように試料の両端を
両面テープ（巾３０ｍｍ、長さ５ｍｍ）で貼り付けてお
く。コアを抜き取り、２３℃、５５％ＲＨ雰囲気下で２
４時間放置後、電子天秤上に試料を載せ、１分間１０ｍ
ｍ押し込み、その時の応力を測定する。次ぎに試料を解
いて１周巻きにして、同じように測定する。６周巻いた
時の応力の６倍を差し引いて試料のブロッキング力を算
出した。

【０２８２】

【表１】

【０２８３】

【表２】

【０２８４】実施例２実施例１の基材を以下に示すフィルムに変えた以外は光
学フィルム１０１と同様に光学フィルム２０１、２０２
を作製した。

【０２８５】光学フィルム２０１用の基材を以下の方法
で作製したＴＡＣフィルムを用いた。

【０２８６】トリフェニルホスフェート２質量部エチルフタリルグリコレート（可塑剤Ａ）３質量部酢酸メチル４７５質量部エタノール５０質量部を−１０乃至−１０℃に冷却してから、綿花リンターか
ら合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．
０％）８５質量部、木材パルプから合成されたセルロー
ストリアセテート（酢化度６１．０％）１５質量部を添
加し、０乃至１２０℃に加温する過程で有機溶剤に完全
に溶解し、得られたセルロースエステル有機溶媒溶液を
添加液Ａとインラインミキサーで混合して成膜した厚さ
５０μｍのＴＡＣフィルムを用いた。

【０２８７】（添加液Ａの作製）分散液Ａ２２質量部綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート１２質量部２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール（紫外線吸収剤）２６質量部メチレンクロライド２９０質量部（分散液Ａの作製）エタノール８１質量部二酸化ケイ素微粒子（商品名：アエロジル２００Ｖ、１次粒径：１５ｎｍ：日本アエロジル（株）製）２質量部以上を混合し、回転数５００ｒｐｍにて３０分攪拌後、
マントンゴーリン型高圧分散機にて２００ｋｇｆ／ｃｍ
²の圧力で分散して、分散液を作製した。

【０２８８】光学フィルム２０２用の基材としては厚さ
５０μｍＰＥＴベースを用いた。光学用フィルム２０
１、２０２を実施例１と同じ方法で評価したところ光学
用フィルム２０１は透過率が９４．５％とわずかに低下
したがそれ以外の結果は光学用フィルム１０１と同じ結
果が得られた。また光学用フィルム２０２は基材の屈折
率が高いためわずかに、最低反射率が０．４％に上昇か
つ透過率が９４％に低下した。しかしそれ以外は、光学
用フィルム１０１と同じ結果が得られ、反射防止フィル
ムとして十分機能するものであった。

【０２８９】実施例３〈光学用フィルム３０１の作製〉実施例１における光学
フィルム１０１の作製において用いた塗布液を使用し、
易接着塗布液（１）を２０ｍｌ／ｍ²になるように塗布
したあと、巻き取ることなく、その上に易接着塗布液
（２）を２０ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、乾燥して
易接着層を形成した。これをロール状に巻き取った。こ
の試料の反対側の面に実施例１の光学フィルム１０１の
導電性塗布組成物を１５ｍｌ／ｍ²になるように塗布
し、巻き取ることなくハードコート塗布組成物を１５ｍ
ｌ／ｍ²になるように塗布し、８０℃５分間乾燥後、Ｕ
Ｖを照射して導電性層およびハードコート層を形成し
た。これをロール状に巻き取った。さらにハードコート
層の上に中屈折率層塗布液を１０ｍｌ／ｍ²になるよう
に塗布し、巻き取ることなく高屈折率塗布液を１０ｍｌ
／ｍ²になるように塗布し、巻き取ることなく低屈折率
塗布液（１）を１０ｍｌ／ｍ²になるように塗布した。
乾燥後、ＵＶを照射して反射防止層を形成した。これを
ロール状に巻き取り光学用フィルム３０１を作製した。

【０２９０】この試料をカットし、１００℃１０分間加
熱した試料とロールの状態で８０℃、１００時間エージ
ングした試料とを実施例１と同じ方法で評価したところ
光学用フィルム１０１と全く同じ結果が得られた。巻き
取る回数を大幅に減らしても、すなわち製造のコストを
下げ同等の性能を有する光学フィルムが得られた。また
ロールの状態のままエージングしても同等の性能が出る
ことが判った。

【０２９１】実施例４〈光学用フィルム４０１の作製〉実施例１における光学
フィルム１０４の作製において用いた塗布液を使用し、
易接着塗布液（１）を２０ｍｌ／ｍ²になるように塗布
したあと、巻き取ることなく、その上に易接着塗布液
（２）を２０ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、乾燥して
易接着層を形成したさらに反対側の面に実施例１の光学
フィルム１０４の導電性塗布組成物を１５ｍｌ／ｍ²に
なるように塗布し、巻き取ることなくハードコート塗布
組成物を１５ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、８０℃５
分間乾燥後、ＵＶを照射して導電性層およびハードコー
ト層を形成した。これをロール状に巻き取った。

【０２９２】次にハードコート層の上に中屈折率層塗布
液を１０ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、巻き取ること
なく高屈折率塗布液を１０ｍｌ／ｍ²になるように塗布
し乾燥後、ＵＶを照射して中屈折率層および高屈折率層
を形成した。これをロール状に巻き取った。さらに低屈
折率塗布液（２）を１０ｍｌ／ｍ²になるように塗布し
た。乾燥後、窒素濃度０．２％の雰囲気下でＵＶを照射
して反射防止層を形成した。低屈折率層の表面に以下に
示す保護フィルムを貼り合わせ同時にロール状に巻き取
り保護フィルム付きの光学用フィルム４０１を作製し
た。この試料の保護フィルムを剥がした状態は、実施例
１の光学用フィルム１０４と同等の結果が得られた。

【０２９３】（保護フィルム）厚み２５μｍのポリエス
テルフィルム（二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム）からなるフィルムの片面に２−エチルヘキシル
アクリレート−ブチルアクリレート−酢酸ビニル共重合
体からなるアクリル系粘着剤を２５ｇ／ｍ²となるよう
に塗布して乾燥して作製した。

【０２９４】保護フィルムを塗布する過程で貼り合わせ
ることにより、偏光板に貼り合わせる工程やさらに先の
工程で傷のつかない光学用フィルムを提供することがで
きる。

【０２９５】実施例５実施例１の光学用フィルム１０２の作製において、中屈
折率層および高屈折率層の塗布乾燥後にＵＶ照射する代
わりにプラズマ処理装置を用いて、窒素ガス雰囲気下、
８０００Ｗ／ｍ²で１０秒間処理した以外は同様に光学
用フィルム５０１を作製した。

【０２９６】プラズマ装置：図２に示した連続真空プラ
ズマ放電処理装置電源周波数：１３．５６ＭＨｚ放電面積：０．０８ｍ² 電源出力：８０００Ｗ／ｍ² 真空度：１３．３Ｐａ導入ガス：窒素光学用フィルム５０１を実施例１と同じ方法で評価した
ところ光学用フィルム１０２と全く同じ結果が得られ
た。ＵＶ照射の代わりにプラズマを照射することでも
（屈折率層と高屈折率層を形成できるかつ）反射防止層
を効率よく製造することが可能であることが判った。

【０２９７】実施例６実施例１における光学用フィルム１０１の作製において
用いた易接着塗布液（１）および（２）の代わりに下記
バックコート塗布液（１）を使用し、バックコート液
（１）を２０ｍｌ／ｍ²になるように塗布してバックコ
ート層を形成し、これをロール状に巻き取った。この試
料の反対側の面に実施例１の光学フィルム１０１の導電
層を１５ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、巻き取ること
なくハードコート塗布組成物を１５ｍｌ／ｍ²になるよ
うに塗布し、８０℃で５分間乾燥後、ＵＶ光を照射して
導電性層およびハードコート層を形成した。これをロー
ル状に巻き取った。さらにハードコート層の上に実施例
１で用いた中屈折率層塗布液を１０ｍｌ／ｍ²になるよ
うに塗布し、巻き取ることなく更に高屈折率塗布液を１
０ｍｌ／ｍ²になるように塗布し、８０℃で５分乾燥
後、ＵＶ光を２５０ｍＪ／ｃｍ²照射した。これをロー
ル状に巻き取った。さらに高屈折率層の上に、やはり実
施例１で用いた低屈折率塗布液（１）を１０ｍｌ／ｍ²
になるように塗布した。８０℃で５分間乾燥後ロール状
に巻き取り光学用フィルム６０１を作製した。

【０２９８】〈バックコート液（１）〉アセトン４０ｍｌ酢酸エチル５５ｍｌ２−プロパノール５ｍｌジアセチルセルロース０．５ｇ２％アセトン分散微粒子シリカ（超音波分散）１ｍｌ（商品名：アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）この試料をカットし、そのまま２３℃、５０％ＲＨの条
件で保存した試料とロールの状態で６０℃５０％ＲＨの
条件で１００時間エージングした試料のスチールウール
耐性を比較したところ、そのまま保存したものは１４本
傷が入ったのに対し、ロール状でエージングした試料は
傷が入らなかった。すなわちロール状でエージングする
ことによりスチールウール耐性の良好な光学用フィルム
が得られることが判った。

【０２９９】

【発明の効果】反射防止層や防眩層がダメージを受けに
くい、張り合わせの前処理が簡素化された、欠陥の少な
い、物性に優れた光学用フィルムが得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】パルス電界の波形の一例を示す図。

【図２】減圧においてプラズマ放電処理を連続的に行う
処理装置の概略図。

【符号の説明】

１支持体（被処理体）２処理室３，４電極５電源６アース７，８ニップロール１０，１１，１２予備減圧室１６ガス導入口１７ガス排出口２Ａ入口２Ｂ出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林徹東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内Ｆターム(参考） 2H091 FA08X FA08Z FA37Z FB02 FD06 FD15 GA02 LA02 LA07 2K009 AA02 AA05 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC26 CC32 CC42 DD02 DD06 DD17 EE03 4F100 AA17D AA17E AA20A AA20B AA20C AA33D AA37E AB10D AB10E AB11D AB11E AB12D AB12E AB18D AB18E AB20D AB20E AB21D AB21E AB22D AB22E AJ01B AJ01C AJ06A AJ06B AJ06C AK01B AK01C AK21B AK21C AK25 AK41B AK41C AK42A AR00B AR00C AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10B BA10C BA10D BA10E CA04 DD01B DD01C DE01A DE01B DE01C EH46 EH462 EH463 EJ08 EJ42 EJ53 EJ54 EJ542 EJ86 EJ862 EJ863 EJ98 GB41 JB05B JB05C JG01D JG01E JG03B JG03C JG04D JG04E JK12B JK12C JK16B JK16C JL04B JL04C JL11B JL11C JN06B JN06C JN18B JN18C YY00B YY00C

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材のどちらか一方の側に少なくとも防
眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接着層
を有することを特徴とする光学用フィルム。
【請求項２】反射防止層が光学的干渉層であることを
特徴とする請求項１に記載の光学用フィルム。
【請求項３】可視光におけるいずれかの波長の５度正
反射の反射率が２％以下であることを特徴とする請求項
１に記載の光学用フィルム。
【請求項４】反射防止層または防眩層の最表層がフッ
素原子またはケイ素原子を含有する層であることを特徴
とする請求項１に記載の光学用フィルム。
【請求項５】防眩層の表面が凹凸の構造になっている
ことを特徴とする請求項１に記載の光学用フィルム。
【請求項６】防眩層が光重合性樹脂に微粒子を含有さ
せ硬化させたものであることを特徴とする請求項１に記
載の光学用フィルム。
【請求項７】易接着層がポリビニルアルコールからな
る偏光子に接着する層であることを特徴とする請求項１
〜６のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項８】易接着層が親水性セルロース誘導体、ポ
リビニルアルコール誘導体、天然高分子化合物、親水性
ポリエステル化合物または親水性ポリビニル誘導体から
選ばれる親水性高分子化合物であることを特徴とする請
求項１〜７のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項９】易接着層が基材から順にカルボキシル基
を有する高分子化合物を含有する層、次に親水性高分子
化合物からなる層で構成されることを特徴とする請求項
１〜８のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項１０】フィルムの表面または裏面の動摩擦係
数が０．４以下であることを特徴とする請求項１〜９の
いずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項１１】フィルムのどちらかの最表層に平均粒
径が１．０μｍ以下の微粒子が含有されていることを特
徴とする請求項１０に記載の光学用フィルム。
【請求項１２】易接着層に平均粒径が１．０μｍ以下
の微粒子が含有されていることを特徴とする請求項１１
に記載の光学用フィルム。
【請求項１３】防眩層または反射防止層の表面臨界張
力が２０×１０^-6Ｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。
【請求項１４】防眩層または反射防止層が含フッ素有
機化合物を含有することを特徴とする請求項１３に記載
の光学用フィルム。
【請求項１５】厚みが６０μｍ以下であることを特徴
とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学用フ
ィルム。
【請求項１６】基材がトリアセチルセルロース類であ
ることを特徴とする請求項１５に記載の光学用フィル
ム。
【請求項１７】基材が可塑剤を０．５〜２０質量％含
有していることを特徴とする請求項１５又は１６に記載
の光学用フィルム。
【請求項１８】基材がシリカ微粒子を含有するするこ
とを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載
の光学用フィルム。
【請求項１９】基材が低級脂肪酸セルロースエステル
であり、かつ−１００乃至−１０℃に冷却してから０乃
至１２０℃に加温する過程で有機溶媒に溶解し得られた
低級脂肪酸セルロースエステル有機溶媒溶解液を、エン
ドレスベルト上、あるいはドラム上に塗布し製造された
フィルムであることを特徴とする請求項１５に記載の光
学用フィルム。
【請求項２０】基材がＰＥＴであることを特徴とする
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。
【請求項２１】２３℃、６０％ＲＨにおけるカール度
が−１０以上＋１０以下であることを特徴とする請求項
１〜２０のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項２２】基材の防眩層まはた反射防止層を有す
る側と反対側にカールを防止する機能を有する層を設け
たことを特徴とする請求項２１に記載の光学用フィル
ム。
【請求項２３】カールを防止する機能を有する層の塗
布液がケトン系の有機溶媒を含有することを特徴とする
ことを特徴とする請求項２２に記載の光学用フィルム。
【請求項２４】ヘイズ値が３％以上であることを特徴
とする請求項２２に記載の光学用フィルム。
【請求項２５】５５０ｎｍにおける透過率が９０％以
上であることを特徴とする請求項２４に記載の光学用フ
ィルム。
【請求項２６】２３℃、６０％ＲＨにおける易接着層
の水の接触角が５０度以下であることを特徴とする請求
項１〜２５のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項２７】基材のどちらか一方の側に少なくとも
防眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接着
層を有し、周波数２０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶
対値が４×１０⁵Ω以上であることを特徴とする光学用
フィルム。
【請求項２８】導電性を有する層を少なくとも１層有
することを特徴とする請求項２７に記載の光学用フィル
ム。
【請求項２９】導電性を有する層の導電性材料が、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｖ、Ｓｂを主成分とし、かつその体積抵抗率が
１０⁷Ω／ｃｍ（２５℃、２０％ＲＨ）である金属酸化
物から選ばれる少なくとも１種の、または複合酸化物で
あることを特徴とする請求項２８の光学用フィルム。
【請求項３０】導電層を有する層の導電性材料の主成
分がイオン性重合体であることを特徴とする請求項２８
に記載の光学用フィルム。
【請求項３１】表面比抵抗が１×１０¹²Ω／ｃｍ²以
下（２３℃２０％ＲＨ）であることを特徴とする請求項
２７に記載の光学用フィルム。
【請求項３２】導電性を有する層が基材と易接着層の
間に位置することを特徴とする請求項２８〜３１のいず
れか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項３３】導電性を有する層が基材と防眩層また
は反射防止層の間に位置することを特徴とする請求項２
８〜３１のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
【請求項３４】基材がＰＥＴであることを特徴とする
請求項２７〜３３のいずれか１項に記載の光学用フィル
ム。
【請求項３５】基材のどちらか一方に反射防止層また
は防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フィ
ルムの製造において、巻き取ることなく基材の両面また
は片面に複数層塗布することを特徴とする光学用フィル
ムの製造方法。
【請求項３６】易接着層、帯電防止層、ハードコート
層のうちいずれか２層以上を巻き取らずに塗布すること
を特徴とする請求項３５に記載の光学用フィルムの製造
方法。
【請求項３７】屈折率が０．０５以上異なる２層以上
の反射防止層を巻き取らずに塗布することを特徴とする
請求項３５に記載の光学用フィルムの製造方法。
【請求項３８】基材のどちらか一方に反射防止層また
は防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フィ
ルムにおいて、反射防止層または防眩層に更に保護フィ
ルムを貼合したことを特徴する光学用フィルム。
【請求項３９】基材のどちらか一方に反射防止層また
は防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フィ
ルムにおいて、反射防止層または防眩層に保護フィルム
を貼合することを特徴する光学用フィルムの製造方法。
【請求項４０】基材のどちらか一方に反射防止層また
は防眩層を有し、反対側に易接着層を有する光学用フィ
ルムの製造時または製造後に活性エネルギーを付与する
ことを特徴とする光学用フィルムの製造方法。
【請求項４１】光学用フィルムを構成する少なくとも
１層を５０ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ光の照射により硬化
させることを特徴とする請求項４０に記載の光学用フィ
ルムの製造方法。
【請求項４２】光学用フィルムを構成する少なくとも
１層を酸素濃度が０．５％以下、５０ｍＪ／ｃｍ²以上
のＵＶ光の照射により硬化させることを特徴とする請求
項４１の光学用フィルムの製造方法。
【請求項４３】光学用フィルムを構成する少なくとも
１層にプラズマを照射することを特徴とする請求項４０
に記載の光学用フィルムの製造方法。
【請求項４４】反射防止層または防眩層を構成する少
なくとも１層において塗布、乾燥後に７０℃以上の温度
で、３０秒以上加熱することを特徴とする請求項４０に
記載の光学用フィルムの製造方法。
【請求項４５】基材のどちらか一方に反射防止層また
は防眩層を有する光学用フィルムにおいて、塗布、乾
燥、巻き取り後、巻きの状態で４０℃以上の環境温度で
３０分以上エージングすることを特徴とする光学用フィ
ルムの製造方法。
【請求項４６】反射防止層の低屈折率層がシリカゾル
またはアルコキシシランまたはその誘導体の加水分解物
を含有する塗布液を塗布してなるＳｉＯ₂を含有する層
であることを特徴とする請求項４５に記載の光学用フィ
ルムの製造方法。
【請求項４７】基材がＰＥＴベースであることを特徴
とする請求項３５〜３７及び３９〜４６のいずれか１項
に記載の光学用フィルムの製造方法。