JP2002327058A - 垂直配向型液晶配向剤および液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 垂直配向性に優れ、液晶表示素子の残像消去
時間が短い、ＭＶＡ方式の液晶表示素子に好適に用いら
れる垂直配向型液晶配向剤およびそれを用いた液晶表示
素子を提供すること。 【解決手段】 特定構造のジアミンを有し、イミド環を
有する繰り返し単位を全繰り返し単位中４０モル％以上
有する重合体を含有してなる垂直配向型液晶配向剤およ
びそれを用いた液晶表示素子を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は垂直配向型液晶配向
剤に関する。さらに詳しくは、垂直配向性、印刷性、液
晶表示素子の残像消去時間が短く、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ
−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎ
ｔ）方式の液晶表示素子に特に好適な、垂直配向型液晶
配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子としては、透明導電
膜が設けられている基板表面にポリアミック酸、ポリイ
ミドなどからなる液晶配向膜を形成して液晶表示素子用
基板とし、その２枚を対向配置してその間隙内に正の誘
電異方性を有するネマチック型液晶の層を形成してサン
ドイッチ構造のセルとし、液晶分子の長軸が一方の基板
から他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるように
した、いわゆるＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉ
ｃ）型液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子が知られて
いる。また、ＴＮ型液晶表示素子に比してコントラスト
が高くて、その視角依存性の少ないＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子
や、垂直配向型液晶表示素子が開発されている。このＳ
ＴＮ型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学活性物
質であるカイラル剤をブレンドしたものを液晶として用
い、液晶分子の長軸が基板間で１８０度以上にわたって
連続的に捻れる状態となることにより生じる複屈折効果
を利用するものである。これらに対し、“液晶”Ｖｏ
ｌ．３ Ｎｏ．２ １１７（１９９９年）および特開平
１１−２５８６０５号に記載されているように、ＩＴＯ
上に突起を形成して液晶の配向方向を制御する、ＭＶＡ
方式と呼ばれる垂直配向型液晶表示素子が提案されてい
る。ＭＶＡ方式の液晶表示素子は、視野角、コントラス
トなどに優れ、液晶配向膜の形成においてラビング処理
を行わなくて良いなど、製造工程の面でも優れている。
ＭＶＡ方式に好適な液晶配向膜としては、垂直配向性に
優れる、液晶表示素子の残像消去時間が短いなどの性能
が要求されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、垂直
配向性に優れ、液晶表示素子の残像消去時間が短い、Ｍ
ＶＡ方式の液晶表示素子に好適に用いられる垂直配向型
液晶配向剤およびそれを用いた液晶表示素子を提供する
ことである。本発明のさらに他の目的および利点は、以
下の説明から明らかになろう。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、下記式（Ｉ−１）で表される
繰り返し単位および下記式（Ｉ−２）で表される繰り返
し単位から選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位を有
し、イミド環を有する繰り返し単位を全繰り返し単位中
４０モル％以上有する重合体（以下、「特定重合体」と
もいう）を含有してなることを特徴とする、垂直配向型
液晶配向剤により達成される。

【０００５】

【化５】

【０００６】（式中、Ｐ¹ は４価の有機基であり、Ｑ¹
は下記式（Ｑ−１）または（Ｑ−２）で表される基であ
る。）

【０００７】

【化６】

【０００８】（式中、Ｐ² は４価の有機基であり、Ｑ²
は下記式（Ｑ−１）または（Ｑ−２）で表される基であ
る。）

【０００９】

【化７】

【００１０】（式中、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｓ
−、メチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基およびフ
ェニレン基から選ばれる２価の基であり、Ｒ¹ は、炭素
数１０〜２０のアルキル基、炭素数４〜４０の脂環式骨
格を有する１価の有機基または炭素数６以上のフッ素原
子を有する１価の有機基である。）

【００１１】

【化８】

【００１２】（式中、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｓ
−、メチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基およびフ
ェニレン基から選ばれる２価の基であり、Ｒ² は、炭素
数４〜４０の脂環式骨格を有する２価の有機基であ
る。）

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の垂直配向型液晶配向剤は、特定重合体が
有機溶媒に溶解されて構成される。上記特定重合体は、
上記式（Ｑ−１）で表される繰り返し単位を全繰り返し
単位中５モル％以上有するポリアミック酸の一部または
全部を脱水閉環して得られる。

【００１４】［ポリアミック酸］ ＜テトラカルボン酸二無水物＞上記ポリアミック酸の合
成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、脂
環式テトラカルボン酸二無水物が好ましい。脂環式テト
ラカルボン酸二無水物の具体例としては、例えば、１,
２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１,２−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シ
クロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,３−ジクロ
ロ−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無
水物、１,２,３,４−テトラメチル−１,２,３,４−シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シ
クロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,４,５
−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,
４,４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水
物、シス−３,７−ジブチルシクロオクタ−１,５−ジエ
ン−１,２,５,６−テトラカルボン酸二無水物、２,３,
５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３,
５,６−トリカルボニル−２−カルボキシノルボルナン
−２：３,５：６−ジ無水物、２,３,４,５−テトラヒド
ロフランテトラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,
５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２,５−ジ
オキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキ
ソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−
１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ
−５−エチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３
−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７
−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エ
チル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオ
ン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチ
ル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−
５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）
−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル
−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メ
チル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無
水物、ビシクロ［２,２,２］−オクト−７−エン−２,
３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、３−オキサビシ
クロ［３，２，１］オクタン−２，４−ジオン−６−ス
ピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオ
ン）、下記式（Ｉ）および（II）で表される化合物など
が挙げられる。

【００１５】

【化９】

【００１６】（式中、Ｒ³およびＲ⁵は、芳香環を有する
２価の有機基を示し、Ｒ⁴およびＲ⁶は、水素原子または
アルキル基を示し、複数存在するＲ⁴およびＲ⁶は、それ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。）

【００１７】その他のテトラカルボン酸二無水物として
は、ブタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テト
ラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸二無水物、３,
３’,４,４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、３,３’,４,４’−ビフェニルスルホンテトラカル
ボン酸二無水物、１,４,５,８−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、２,３,６,７−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ビフェニルエーテ
ルテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ジメ
チルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸
二無水物、１,２,３,４−フランテトラカルボン酸二無
水物、４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキ
シ）ジフェニルスルフィド二無水物、４,４’−ビス
（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホ
ン二無水物、４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェ
ノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３,３’,４,
４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水
物、３,３’,４,４’−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイ
ド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタ
ル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニル
フタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−
４,４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフ
ェニルフタル酸）−４,４’−ジフェニルメタン二無水
物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテ
ート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリ
メリテート）、１,４−ブタンジオール−ビス（アンヒ
ドロトリメリテート）、１,６−ヘキサンジオール−ビ
ス（アンヒドロトリメリテート）、１,８−オクタンジ
オール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２,２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アン
ヒドロトリメリテート）、下記式（１）〜（４）で表さ
れる化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙
げることができる。これらは１種単独でまたは２種以上
組み合わせて用いられる。

【００１８】

【化１０】

【００１９】上記脂環式テトラカルボン酸二無水物のう
ち、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無
水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテ
トラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−テトラメチル
−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１,２,３,４−シクロペンタンテトラカルボン酸二
無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸
二無水物、５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフラ
ル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカ
ルボン酸二無水物、シス−３,７−ジブチルシクロオク
タ−１,５−ジエン−１,２,５,６−テトラカルボン酸二
無水物、３,５,６−トリカルボニル−２−カルボキシノ
ルボルナン−２：３,５：６−ジ無水物、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキ
サヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５,８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、ビシクロ［２,２,２］−オクト−
７−エン−２,３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、
３−オキサビシクロ［３，２，１］オクタン−２，４−
ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−
２’，５’−ジオン）、上記式（Ｉ）で表される化合物
のうち下記式（５）〜（７）で表される化合物および上
記式（II）で表される化合物のうち下記式（８）で表さ
れる化合物が、良好な液晶配向性を発現させることがで
きる観点から好ましく、特に好ましいものとして、１,
２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペ
ンチル酢酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサ
ヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオ
ン、シス−３,７−ジブチルシクロオクタ−１,５−ジエ
ン−１,２,５,６−テトラカルボン酸二無水物、３,５,
６−トリカルボニル−２−カルボキシノルボルナン−
２：３,５：６−ジ無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘ
キサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,５
−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フ
ラン−１,３−ジオン、３−オキサビシクロ［３，２，
１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−
（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）および下
記式（５）で表される化合物を挙げることができる。

【００２０】

【化１１】

【００２１】その他のテトラカルボン酸二無水物の中で
好ましいものとしては、ブタンテトラカルボン酸二無水
物、ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、
１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物な
どが挙げられる。これらテトラカルボン酸二無水物のう
ち、脂環式テトラカルボン酸二無水物が全テトラカルボ
ン酸二無水物に対して５０モル％以上であることが好ま
しい。

【００２２】＜ジアミン＞上記式（Ｑ−１）および上記
式（Ｑ−２）で表される基は、ポリアミック酸を合成す
るジアミン由来の基である。以下、上記式（Ｑ−１）ま
たは上記式（Ｑ−２）で表される基を有するジアミン
を、「特定ジアミン」ともいう。上記式（Ｑ−１）にお
いて、Ｒ¹ で表される炭素数１０〜２０のアルキル基と
しては、例えば、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−
ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシ
ル基、ｎ−エイコシル基などが挙げられる。また、上記
式（Ｑ−１）におけるＲ¹ および上記式（Ｑ−２）にお
けるＲ² で表される炭素数４〜４０の脂環式骨格を有す
る有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロデカンなどのシクロアル
カン由来の脂環式骨格を有する基；コレステロール、コ
レスタノールなどのステロイド骨格を有する基；ノルボ
ルネン、アダマンタンなどの有橋脂環式骨格を有する基
などが挙げられる。これらの中で、特に好ましくは、ｎ
−オクタデシル基、シクロヘキサン由来の脂環式骨格を
有する基またはステロイド骨格を有する基である。上記
脂環式骨格を有する有機基は、ハロゲン原子、好ましく
はフッ素原子で置換された基であってもよい。

【００２３】さらに、上記式（Ｑ−１）におけるＲ¹ で
表される炭素数６以上のフッ素原子を有する基として
は、例えば、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デ
シル基などの炭素数６以上の直鎖状アルキル基；シクロ
ヘキシル基、シクロオクチル基などの炭素数６以上の脂
環式炭化水素基；フェニル基、ビフェニル基などの炭素
数６以上の芳香族炭化水素基などの有機基における水素
原子の一部または全部を、フッ素原子またはフルオロア
ルキル基で置換した基が挙げられる。

【００２４】また、上記式（Ｑ−１）および上記式（Ｑ
−２）におけるＸで表される２価の有機基としては、−
Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯ
ＮＨ−、−ＣＯ−、メチレン基、炭素数２〜６のアルキ
レン基およびフェニレン基であり、これらのうち、特に
好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で表される
基である。

【００２５】上記式（Ｑ−１）で表される基を有するジ
アミンの具体例としては、ドデカノキシ−２，４−ジア
ミノベンゼン、ペンタデカノキシ−２，４−ジアミノベ
ンゼン、ヘキサデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼ
ン、オクタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン、下
記式（９）〜（１６）で表される化合物を好ましいもの
として挙げることができる。

【００２６】

【化１２】

【００２７】また、上記式（Ｑ−２）で表される基を有
するジアミンの具体例としては、下記式（１７）〜（２
１）で表されるジアミンを好ましいものとして挙げるこ
とができる。

【００２８】

【化１３】

【００２９】本発明で用いられるポリアミック酸の合成
においては、本発明の効果を損なわない程度に、他のジ
アミン化合物が併用されていてもよい。他のジアミン化
合物としては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フ
ェニレンジアミン、４,４’−ジアミノジフェニルメタ
ン、４,４’−ジアミノジフェニルエタン、４,４’−ジ
アミノジフェニルスルフィド、４,４’−ジアミノジフ
ェニルスルホン、３,３’−ジメチル−４,４’−ジアミ
ノビフェニル、４,４’−ジアミノベンズアニリド、４,
４’−ジアミノジフェニルエーテル、１,５−ジアミノ
ナフタレン、３,３−ジメチル−４,４’−ジアミノビフ
ェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−
１,３,３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−
（４’−アミノフェニル）−１,３,３−トリメチルイン
ダン、３,４’−ジアミノジフェニルエーテル、３,３’
−ジアミノベンゾフェノン、３,４’−ジアミノベンゾ
フェノン、４,４’−ジアミノベンゾフェノン、２,２−
ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパ
ン、２,２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェ
ニル］ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス（４−ア
ミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビ
ス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９,９−ビス
（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、
２,７−ジアミノフルオレン、９,９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、４,４’−メチレン−ビス（２
−クロロアニリン）、２,２’,５,５’−テトラクロロ
−４,４’−ジアミノビフェニル、２,２’−ジクロロ−
４,４’−ジアミノ−５,５’−ジメトキシビフェニル、
３,３’−ジメトキシ−４,４’−ジアミノビフェニル、
１,４,４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビス
アニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２,２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４,４’−ジアミノ−２,２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４,４’−ビス
［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；

【００３０】１,１−メタキシリレンジアミン、１,３−
プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、４,４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、
１,４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、
ヘキサヒドロ−４,７−メタノインダニレンジメチレン
ジアミン、トリシクロ［６.２.１.０2,7］−ウンデシレ
ンジメチルジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロ
ヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジアミン；

【００３１】２,３−ジアミノピリジン、２,６−ジアミ
ノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、２,４−ジアミ
ノピリミジン、５,６−ジアミノ−２,３−ジシアノピラ
ジン、５,６−ジアミノ−２,４−ジヒドロキシピリミジ
ン、２,４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１,３,５
−トリアジン、１,４−ビス（３−アミノプロピル）ピ
ペラジン、２,４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１,
３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メトキシ−
１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−フェニ
ル−１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メ
チル−ｓ−トリアジン、２,４−ジアミノ−１,３,５−
トリアジン、４,６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリ
アジン、２,４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、
２,６−ジアミノプリン、５,６−ジアミノ−１,３−ジ
メチルウラシル、３,５−ジアミノ−１,２,４−トリア
ゾール、６,９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラ
クテート、３,８−ジアミノ−６−フェニルフェナント
リジン、１,４−ジアミノピペラジン、３,６−ジアミノ
アクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミ
ンなどの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級ア
ミノ基以外の窒素原子を有するジアミン；下記式（II
I）で表されるジアミノオルガノシロキサンなどが挙げ
られる。

【００３２】

【化１４】

【００３３】（式中、Ｒ⁷ は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、複数存在するＲ⁷ は、それぞれ同一でも異な
っていてもよく、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２
０の整数である。）

【００３４】これらのジアミン化合物は、単独でまたは
２種以上組み合わせて用いることができる。

【００３５】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４,４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、１,５−ジアミノナフタレ
ン、２,７−ジアミノフルオレン、４,４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、２,２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、９,９−ビス（４−ア
ミノフェニル）フルオレン、２,２−ビス［４−（４−
アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、２,２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、４,４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピ
リデン）ビスアニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンジ
イソプロピリデン）ビスアニリン、１,４−シクロヘキ
サンジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルアミン）、１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベ
ンゼン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフ
ェニル、２,６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピ
リジン、２,４−ジアミノピリミジン、３,６−ジアミノ
アクリジンなどが好ましい。

【００３６】本発明の液晶配向剤に含まれる全重合体に
おける全ジアミン成分中に占める特定ジアミンの割合
は、ジアミン成分総量に対して、好ましくは５モル％以
上であり、さらに好ましくは１０モル％以上である。こ
の使用割合が５モル％未満の場合は、垂直配向性に十分
な効果が得られない場合がある。

【００３７】＜ポリアミック酸の合成＞ポリアミック酸
の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジア
ミンの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対し
て、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０.２〜
２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０.３
〜１.２当量となる割合である。ポリアミック酸の合成
反応は、有機溶媒中において、通常−２０℃〜１５０
℃、好ましくは０〜１００℃の温度条件下で行われる。

【００３８】ここで、有機溶媒としては、合成されるポ
リアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はな
く、例えば１−メチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチ
ル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロ
トン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェ
ノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒
を例示することができる。また、有機溶媒の使用量
（α）は、通常、テトラカルボン酸二無水物およびジア
ミン化合物の総量（β）が、反応溶液の全量（α＋β）
に対して０.１〜３０重量％になるような量であること
が好ましい。

【００３９】なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸
の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、
エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類など
を、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用す
ることができる。斯かる貧溶媒の具体例としては、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコール、シクロヘキサノール、４−ヒドロキシ−４
−メチル−２−ペンタノン、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、１,４−ブタンジオール、トリエチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシ
プロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュ
ウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、
エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコー
ルエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピル
エーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテ
ル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエ
チルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、
ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,４−ジク
ロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができ
る。

【００４０】以上のようにして、ポリアミック酸を溶解
してなる反応溶液が得られる。そして、この反応溶液を
大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧
下乾燥することによりポリアミック酸を得ることができ
る。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解さ
せ、次いで貧溶媒で析出させる工程を１回または数回行
うことにより、ポリアミック酸を精製することができ
る。

【００４１】＜脱水閉環反応＞本発明の液晶配向剤を構
成する特定重合体は、上記ポリアミック酸の一部または
全部を脱水閉環することにより合成することができる。
本発明に用いられる特定重合体は、全繰り返し単位にお
けるイミド環を有する繰り返し単位の割合（以下、「イ
ミド化率」ともいう）が４０モル％以上、好ましくは５
０モル％以上である。イミド化率が４０モル％以上の重
合体を用いることによって、残像消去時間の短い液晶配
向膜が形成可能な液晶配向剤が得られる。

【００４２】ポリアミック酸の脱水閉環は、（ｉ）ポリ
アミック酸を加熱する方法により、または（ii）ポリア
ミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤およ
び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法によ
り行われる。上記（ｉ）のポリアミック酸を加熱する方
法における反応温度は、好ましくは５０〜２００℃であ
り、より好ましくは６０〜１７０℃である。反応温度が
５０℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温
度が２００℃を超えると得られるイミド化重合体の分子
量が低下することがある。一方、上記（ii）のポリアミ
ック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する
方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水
プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を
用いることができる。脱水剤の使用量は、所望するイミ
ド化率によるが、ポリアミック酸の繰り返し単位１モル
に対して０.０１〜２０モルとするのが好ましい。ま
た、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用
いることができる。しかし、これらに限定されるもので
はない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モ
ルに対して０.０１〜１０モルとするのが好ましい。イ
ミド化率は上記の脱水剤、脱水閉環剤の使用量が多いほ
ど高くすることができる。なお、脱水閉環反応に用いら
れる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いら
れるものとして例示した有機溶媒を挙げることができ
る。そして、脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０
〜１８０℃であり、より好ましくは１０〜１５０℃であ
る。また、このようにして得られる反応溶液に対し、ポ
リアミック酸の精製方法におけると同様の操作を行うこ
とにより、得られた特定重合体を精製することができ
る。

【００４３】＜末端修飾型の重合体＞本発明で用いられ
る特定重合体は、分子量が調節された末端修飾型のもの
であってもよい。この末端修飾型の重合体を用いること
により、本発明の効果が損われることなく液晶配向剤の
塗布特性などを改善することができる。このような末端
修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、酸
一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合
物などを反応系に添加することにより合成することがで
きる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサク
シニック酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水
物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキ
サデシルサクシニック酸無水物などを挙げることができ
る。また、モノアミン化合物としては、例えばアニリ
ン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペ
ンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミ
ン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシ
ルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミ
ン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、
ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ
−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−
エイコシルアミンなどを挙げることができる。また、モ
ノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソ
シアネート、ナフチルイソシアネートなどを挙げること
ができる。

【００４４】＜重合体の対数粘度＞以上のようにして得
られるポリアミック酸は、その対数粘度（η_ln）の値が
好ましくは０.０５〜１０ｄｌ／ｇ、より好ましくは０.
０５〜５ｄｌ／ｇである。本発明における対数粘度（η
_ln）の値は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを溶媒として
用い、濃度が０.５ｇ／１００ミリリットルである溶液
について３０℃で粘度の測定を行い、下記式（ｉ）によ
って求められるものである。

【００４５】

【００４６】［液晶配向剤］本発明の液晶配向剤は、上
記特定重合体が、通常、有機溶媒中に溶解含有されて構
成される。本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、
好ましくは０℃〜２００℃であり、より好ましくは２０
℃〜６０℃である。

【００４７】本発明の液晶配向剤を構成する有機溶媒と
しては、例えば、１−メチル−２−ピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、γ−ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、４−ヒ
ドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、
メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピ
オネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレ
ングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ
−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピ
ルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル
（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテートなどを挙げることができる。

【００４８】本発明の液晶配向剤における固形分濃度
は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、好まし
くは１〜１０重量％の範囲にある。すなわち、本発明の
液晶配向剤は、基板表面に塗布され、液晶配向膜となる
塗膜が形成されるが、固形分濃度が１重量％未満である
場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配
向膜を得ることができず、固形分濃度が１０重量％を超
える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配
向膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増
大して塗布特性が劣るものとなる。

【００４９】本発明の液晶配向剤には、目的の物性を損
なわない範囲内で、基板表面に対する接着性を向上させ
る観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物
が含有されていてもよい。かかる官能性シラン含有化合
物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノ
エチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウ
レイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカル
ボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレン
トリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチ
レントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１,４,７
−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１,４,
７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３,６
−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−
３,６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス
（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロ
ピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。か
かるエポキシ化合物としては、例えばエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジル
エーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリ
セリンジグリシジルエーテル、２,２−ジブロモネオペ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,３,５,６
−テトラグリシジル−２,４−ヘキサンジオール、Ｎ,
Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジア
ミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチ
ル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシ
ジル−４,４’−ジアミノジフェニルメタン、３−（Ｎ
−アリルーＮーグリシジル）アミノプロピルトリメトキ
シシラン、３−（Ｎ,Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピ
ルトリメトキシシランなどを挙げることができる。

【００５０】＜液晶表示素子＞本発明の液晶配向剤はＭ
ＶＡ方式の液晶表示素子に好適に用いることができる。
ＭＶＡモードとは“液晶 Ｖｏｌ．３ Ｎｏ．２ １１
７（１９９９年）”や特開平１１−２５８６０５に示す
ように、突起を配向規制手段に用いた垂直配向モードを
示す。突起は、ＴＦＴ基板側およびカラーフィルター側
のそれぞれに形成されていてもよく、カラーフィルター
側に突起を有し、ＴＦＴ側にスリットを有するものでも
よい。

【００５１】本発明の液晶配向剤を用いて得られる液晶
表示素子は、例えば次の方法によって製造することがで
きる。 （１）パターニングされた透明導電膜が設けられている
基板の一面、あるいは配向規制手段として突起を形成し
た透明導電膜上に本発明の液晶配向剤を例えばロールコ
ーター法、スピンナー法、印刷法などの方法によって塗
布し、次いで、塗布面を加熱することにより被膜を形成
する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、
ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックからなる透明
基板を用いることができる。また、基板の一面に設けら
れる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ₂ ）からな
るＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウ
ム−酸化スズ（Ｉｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂ ）からなるＩＴＯ
膜などを用いることができ、これらの透明導電膜のパタ
ーニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用
いる方法が用いられる。さらに、基板には液晶の配向方
向を規定するために突起構造を形成したり、電極にスリ
ットを形成するなど突起物のレイアウト、電極構造と電
界の加わり方を設計することによって視野角依存性を改
善した液晶表示素子を得ることが出来る。液晶配向剤の
塗布に際しては、基板表面および透明導電膜と液晶配向
剤の被膜との接着性をさらに良好にするために、基板の
該表面に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有
化合物などを予め塗布することもできる。また加熱温度
は８０〜２５０℃とされ、好ましくは１２０〜２００℃
とされる。形成される被膜の膜厚は、通常０．００１〜
１μｍであり、好ましくは０．００５〜０．５μｍであ
る。なお、本発明の液晶配向剤は、塗布後に有機溶媒を
除去することによって液晶配向膜となる被膜を形成する
が、さらに加熱することによって脱水閉環を進行させ、
一部イミド化または完全にイミド化された被膜とするこ
ともできる。

【００５２】（２）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、間隙（セルギャップ）を介し
て対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤により貼
り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセ
ルギャップ内に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液
晶セルを構成する。そして、液晶セルの外表面、すなわ
ち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面側に、偏
光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子が得られ
る。

【００５３】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶として
は、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を
挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好
ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、
ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エ
ステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロ
ヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液
晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用
いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレ
スチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステ
リルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名
「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売
されているようなカイラル剤などを添加して使用するこ
ともできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ
−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電
性液晶も使用することができる。また、液晶セルの外表
面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコ
ールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と
称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板
またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができ
る。

【００５４】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。 ［特定重合体のイミド化率測定方法］重合体を室温で減
圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解さ
せ、テトラメチルシランを基準物質として室温で1Ｈ−
ＮＭＲを測定し、下記式（ii）で示される式により求め
た。

【００５５】 イミド化率（％）＝（１−Ａ¹／Ａ²×α）×１００ （ii） Ａ¹ ：ＮＨ基のプロトン由来のピーク面積（１０ｐｐ
ｍ） Ａ² ：その他のプロトン由来のピーク面積 α ：重合体の前駆体（ポリアミック酸）における、Ｎ
Ｈ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割
合

【００５６】［液晶表示素子の作製方法］ 液晶表示素子の作製：図１に示すように、ポジ型レジス
トを用いて形成した突起を有するＩＴＯ付きガラス基板
（Ａ）およびＩＴＯのパターンを有するガラス基板
（Ｂ）に、それぞれ液晶配向剤を印刷し、８０℃で１分
間、その後１８０℃で１時間乾燥することにより乾燥膜
厚６００オングストロームの塗膜を形成した。上記のよ
うにして液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、基
板（Ｂ）の外縁部に、粒径３．５μｍの酸化アルミニウ
ム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン印刷
法により塗布した後、図１のような位置関係になるよう
に２枚の基板を張り合わせた。基板の表面および外縁部
の接着剤により区画されたセルギャップ内に、メルク社
製ネガ型液晶ＭＬＣ６６０８を注入充填し、次いで、注
入孔をエポキシ系接着剤で封止して垂直配向型液晶表示
素子を作製した。

【００５７】［垂直配向性］電圧ＯＦＦ時および交流１
２Ｖ（ピーク−ピーク）での液晶表示素子をクロスニコ
ル下で観察した。 ［電圧保持率］液晶表示素子に５Ｖの電圧を６０マイク
ロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、
印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。
測定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ−１を使用し
た。

【００５８】［液晶表示素子の残像消去時間］液晶表示
素子に直流３.０Ｖ、交流６．０Ｖ（ピーク−ピーク）
を重畳した３０Ｈｚ、３.０Ｖの矩形波を７０℃の環境
温度で２０時間印加した後、電圧をＯＦＦとし、目視に
より残像が消去するまでの時間を測定した。

【００５９】＜特定重合体の合成＞ 合成例１〜７ １−メチル−２−ピロリドンに、表１に示す組成で、ジ
アミン、テトラカルボン酸二無水物の順で加え、固形分
濃度２０％、６０℃で６時間反応させて、表１に示す対
数粘度を有するポリアミック酸を得た。

【００６０】

【表１】 （）内数字はモル％ ＴＣＡＡＨ：２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物 ＣＢ：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸
無水物 ＭＴＤＡ：１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５
−８−メチル−（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３
−フラニル）−ナフト［１,２−Ｃ］フラン−１,３−ジ
オン ＰＤＡ：ｐ−フェニレンジアミン ＯＤＡ：オクタデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン ジアミン：式（９）で表されるジアミン ジアミン：式（１０）で表されるジアミン ジアミン：式（１３）で表されるジアミン

【００６１】合成例８〜１７ 合成例１〜７で得られたポリアミック酸を１−メチル−
２−ピロリドンにより固形分濃度５％に希釈し、表２に
示す触媒としてピリジンおよび無水酢酸を添加し、１１
０℃で４時間撹拌ことにより、特定重合体を合成した。
この重合体溶液をジエチルエーテルで再沈殿させること
により、重合体（イミド化重合体）の白色粉末を得た。
得られた特定重合体のイミド化率を表２に併せて示す。
なお、表２中ピリジン／酸無水物（倍モル）＝１．０／
１．０とは、ポリアミック酸中のアミド結合１．０モル
に対してピリジン１．０モル、無水酢酸１．０モルを添
加することを意味する。

【００６２】

【表２】

【００６３】合成例１８〜２７ １−メチル−２−ピロリドンに、表３に示す組成で、ジ
アミン、テトラカルボン酸二無水物の順で加え、固形分
濃度２０％、６０℃で６時間反応させて、表３に示す対
数粘度を有するポリアミック酸を得た。

【００６４】

【表３】 （）内数字はモル％ ＴＤＡ：１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−Ｃ］フラン−１,３−ジオン ＭＴＤＡ：１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５
−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン ＴＮＡ：３,５,６−トリカルボニル−２−カルボキシノ
ルボルナン−２：３,５：６−ジ無水物 ＣＨＡ：式（１）で表される酸無水物 ＤＤＥ：４,４’−ジアミノジフェニルエーテル ジアミン：式（１０）で表されるジアミン ジアミン：式（２１）で表されるジアミン ジアミン：式（１７）で表されるジアミン ジアミン：式（１６）で表されるジアミン

【００６５】合成例２８〜３９ 得られたポリアミック酸を１−メチル−２−ピロリドン
により固形分濃度５％に希釈し、表４に示す触媒として
ピリジンおよび無水酢酸を添加し、１１０℃で４時間撹
拌ことにより、特定重合体を合成した。この重合体溶液
をジエチルエーテルで再沈殿させることにより、重合体
（イミド化重合体）の白色粉末を得た。得られた特定重
合体のイミド化率を表４に併せて示す。なお、表４中ピ
リジン／酸無水物（倍モル）＝１．０／１．０とは、ポ
リアミック酸中のアミド結合１．０モルに対してピリジ
ン１．０モル、無水酢酸１．０モルを添加することを意
味する。

【００６６】

【表４】

【００６７】実施例１〜１０、比較例１ 合成例８〜１７で得た特定重合体を、表５のような溶剤
組成（重量比）で固形分濃度６．０％に調製し、本発明
の垂直配向型液晶配向剤を得た。この液晶配向剤を用い
て液晶表示素子を作製し、各種評価を行った。結果を表
５に示す。

【００６８】

【表５】 ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン ＢＣ：ブチルセロソルブ

【００６９】実施例１１〜２６、比較例２ 実施例１１；特定重合体（合成例２９）９５ｇと、添加
剤（N,N,N',N'-テトラク゛リシシ゛ル-4,4'-シ゛アミノシ゛フェニルメタン 以下
EPと略）５gを溶剤（ＮＭＰ：ＢＣ＝５：５ 重量比）に
溶解し、固形分濃度を６．０％となるように調整し、本
発明の垂直配向型液晶配向剤を得た。この液晶配向剤を
用いて上記ＭＶＡ型の液晶表示素子を作製し、各種評価
を行った。結果を表６に示す。 実施例１１と同様に表
６に示す割合で特定重合体と添加剤、溶剤を混合して配
向剤を調整し、各々の特性評価を行った。結果を全て表
６にまとめて示す。

【００７０】

【表６】 シラン：N-ク゛リシシ゛ル-N,N-ヒ゛ス[3-(メチルシ゛メトキシシリル)フ゜ロヒ゜ル]アミ
ン

【００７１】

【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、垂直配向
性が良好で残像消去時間が短くＭＶＡ方式の液晶表示素
子に好適な液晶配向膜および液晶表示素子が得られる。
さらに、本発明の液晶配向剤を用いて形成した液晶配向
膜を有する液晶表示素子は、種々の装置に有効に使用で
き、例えば直視方式のパーソナルコンピューター用モニ
ター、液晶テレビなどの他、投影方式の透過型、反射型
表示装置に用いられる。

【図面の簡単な説明】

【図1】本発明の実施例に用いられるＭＶＡ方式の液晶
セルの模式図を示す。

【符号の説明】

１ カラーフィルター側電極（ＩＴＯ） ２ 液晶配向膜 ３ 画素電極（ＩＴＯ） ４ 配向規制手段（突起） ５ 配向規制手段（スリット） ６ 液晶分子

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 HB08Y HB13Y HB15Y KA05 KA08 4J043 PA02 QB33 RA05 RA34 RA35 SA06 SA44 SA46 SA47 SA54 SA63 SA85 SB01 TA22 TA32 TA68 TA70 TA71 TA72 TB01 UA031 UA032 UA041 UA042 UA061 UA062 UA122 UA131 UA132 UA151 UA152 UB121 UB122 UB161 UB162 XA16 XA19 ZA09 ZB23

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（Ｉ−１）で表される繰り返し単
   位および下記式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位から
   選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位を有し、イミド
   環を有する繰り返し単位を全繰り返し単位中４０モル％
   以上有する重合体を含有してなることを特徴とする、垂
   直配向型液晶配向剤。 【化１】 （式中、Ｐ¹ は４価の有機基であり、Ｑ¹ は下記式（Ｑ
   −１）または（Ｑ−２）で表される基である。） 【化２】 （式中、Ｐ² は４価の有機基であり、Ｑ² は下記式（Ｑ
   −１）または（Ｑ−２）で表される基である。） 【化３】 （式中、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
   −、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｓ−、メチレン
   基、炭素数２〜６のアルキレン基およびフェニレン基か
   ら選ばれる２価の基であり、Ｒ¹ は、炭素数１０〜２０
   のアルキル基、炭素数４〜４０の脂環式骨格を有する１
   価の有機基または炭素数６以上のフッ素原子を有する１
   価の有機基である。） 【化４】 （式中、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
   −、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｓ−、メチレン
   基、炭素数２〜６のアルキレン基およびフェニレン基か
   ら選ばれる２価の基であり、Ｒ² は、炭素数４〜４０の
   脂環式骨格を有する２価の有機基である。）
2. 【請求項２】 請求項１記載の垂直配向型液晶配向剤を
   用いて得られる液晶配向膜を具備することを特徴とす
   る、液晶表示素子。