JP2002326976A - Method for treating (meth)acrylic ester containing vinyl ether group - Google Patents
Method for treating (meth)acrylic ester containing vinyl ether groupInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビニルエーテル基
含有（メタ）アクリル酸エステル類の取り扱い方法に関
する。更に詳しくは、熱、紫外線、放射線、電子線、ラ
ジカル重合開始剤、酸等により容易に単独重合又は他の
重合性化合物と共重合することが可能である異種の重合
性基を分子内に併せ持つビニルエーテル基含有（メタ）
アクリル酸エステルの取り扱い方法に関する。The present invention relates to a method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates. More specifically, different types of polymerizable groups which can be easily homopolymerized or copolymerized with other polymerizable compounds by heat, ultraviolet rays, radiation, electron beams, radical polymerization initiators, acids, etc., are combined in the molecule. Vinyl ether group-containing (meta)
The present invention relates to a method for handling acrylic acid esters.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル
酸エステル類は、異種の重合性基、すなわちラジカル重
合性及びアニオン重合性を有する（メタ）アクリロイル
基とカチオン重合性を有するビニルエーテル基とを分子
内に併せもつことから、医農薬原料、合成中間体、架橋
剤、粉体塗料用樹脂原料、更に重合性材料として接着
剤、粘着剤、生体材料、歯科材料、光学部材、情報記録
材料、光ファイバー用材料、レジスト材料、絶縁体、封
止材、印刷インキ、塗料、粉体塗料、注型材料、化粧
板、ＷＰＣ、被覆材、ライニング材、土木建築材料、パ
テ、補修材、床材、舗装材ゲルコート、オーバーコー
ト、ハンドレイアップ・スプレーアップ・引抜成形・フ
ィラメントワインディング・ＳＭＣ・ＢＭＣ等成形材
料、シート等の用途に広範囲の工業用途に用いられる有
用な化合物である。2. Description of the Related Art Vinyl ether group-containing (meth) acrylates have different types of polymerizable groups, that is, a (meth) acryloyl group having radical polymerizability and anionic polymerizability and a vinyl ether group having cationic polymerizability. For medical and agricultural chemicals, synthetic intermediates, crosslinking agents, resin materials for powder coatings, and polymerizable materials for adhesives, adhesives, biomaterials, dental materials, optical members, information recording materials, and optical fibers Materials, resist materials, insulators, sealing materials, printing inks, paints, powder paints, casting materials, decorative boards, WPCs, coating materials, lining materials, civil engineering and building materials, putty, repair materials, flooring materials, pavement materials Wide range of applications such as gel coat, overcoat, hand lay-up, spray-up, pultrusion, filament winding, molding materials such as SMC and BMC, sheets etc. It is useful compounds for use in industrial applications.
【０００３】ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸
エステル類の製造方法としては、（メタ）アクリル酸と
水酸基含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法
（製法Ａ）、（メタ）アクリル酸ハロゲン化物と水酸基
含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法
Ｂ）、（メタ）アクリル酸無水物と水酸基含有ビニルエ
ーテル類とをエステル化する方法（製法Ｃ）、（メタ）
アクリル酸エステル類と水酸基含有ビニルエーテル類と
をエステル交換する方法（製法Ｄ）等の方法が知られて
いる。また、（メタ）アクリル酸とハロゲン含有ビニル
エーテル類とをエステル化する方法（製法Ｅ）、（メ
タ）アクリル酸アルカリ（土類）金属塩とハロゲン含有
ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｆ）に
よっても製造することができる。[0003] Methods for producing vinyl ether group-containing (meth) acrylic esters include a method of esterifying (meth) acrylic acid and a hydroxyl group-containing vinyl ether (production method A), a method of producing a (meth) acrylic acid halide and a compound containing a hydroxyl group. Method for esterifying vinyl ethers (Production method B), Method for esterifying (meth) acrylic anhydride and hydroxyl group-containing vinyl ethers (Production method C), (Meth)
Methods such as a method of transesterifying acrylic esters and hydroxyl group-containing vinyl ethers (Production Method D) are known. Also, a method of esterifying (meth) acrylic acid with halogen-containing vinyl ethers (Production method E), and a method of esterifying an alkali (earth) metal (meth) acrylate and halogen-containing vinyl ethers (Production method F) Can also be manufactured.
【０００４】ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸
エステル類のラジカル重合性及びカチオン重合性につい
ては多くの研究がなされている。しかしながら、ビニル
エーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類は、その
容易なラジカル重合性及びカチオン重合性ゆえに安定性
が悪く、保存時や取り扱い時に分解による不純物の生
成、過酸化物の生成及び重合を引き起こすため、充分に
実用化できるとは言い難かった。Many studies have been made on the radical polymerizability and cationic polymerizability of vinyl ether group-containing (meth) acrylates. However, vinyl ether group-containing (meth) acrylates have poor stability due to their easy radical polymerizability and cationic polymerizability, and cause generation of impurities, peroxide formation and polymerization due to decomposition during storage and handling. Therefore, it was difficult to say that it could be practically used.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記現状に
鑑みてなされたものであり、ラジカル重合性及びカチオ
ン重合性を併せ持つビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類を、その重合性を損なうことなく保存
安定性及び取り扱い安定性を向上させた、すなわちビニ
ルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を安定
的に取り扱う方法を提供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and impairs the polymerizability of vinyl ether group-containing (meth) acrylates having both radical polymerizability and cationic polymerizability. It is an object of the present invention to provide a method for improving the storage stability and handling stability without any problem, that is, for stably handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビニルエ
ーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の取り扱い
方法について種々検討した結果、（１）ビニルエーテル
基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含む液相部の水
分濃度が高すぎると、ビニルエーテル基の分解やエステ
ル部の加水分解が起こること、この加水分解により生成
した（メタ）アクリル酸によるビニルエーテル基の重合
が危惧されること、（２）ビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類に接触する気相部の酸素濃度
が低すぎると（メタ）アクリロイル基が窒息重合を引き
起こし、気相部の酸素濃度が高すぎるとビニルエーテル
基が劣化することを見いだし、ビニルエーテル基含有
（メタ）アクリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度
や、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル
類と接触する気相部の酸素濃度を特定範囲とすることに
より、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステ
ル類を安定的に取り扱うことができることに想到した。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies on methods for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, and found that (1) a liquid containing vinyl ether group-containing (meth) acrylates. If the water concentration in the phase portion is too high, decomposition of the vinyl ether group and hydrolysis of the ester portion will occur, and polymerization of the vinyl ether group by (meth) acrylic acid generated by this hydrolysis will be feared. (2) Vinyl ether group When the oxygen concentration in the gas phase in contact with the contained (meth) acrylic esters is too low, the (meth) acryloyl group causes asphyxiation polymerization, and when the oxygen concentration in the gas phase is too high, the vinyl ether group is degraded. Concentration of liquid phase containing vinyl ether group-containing (meth) acrylates, vinyl ether group Available (meth) by a specific range of oxygen concentration in the gas phase portion in contact with the acrylic acid esters, and conceived to be able to handle a vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester stably.
【０００７】また、ビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類は、その容易な重合性のために、
（３）光、特に可視光線及び／又は紫外線の照射を受け
ると重合や分解による品質劣化を容易に引き起こすこ
と、（４）光による重合や分解による品質劣化は、分子
状酸素の影響を受けることを見いだし、ビニルエーテル
基含有（メタ）アクリル酸エステル類を遮光性構造物中
で取り扱うことによっても、安定的に取り扱うことがで
きること、また、遮光性構造物の気相部の分子状酸素濃
度を特定範囲とすると、より安定的に取り扱うことがで
きることに想到した。[0007] Further, vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters are easily polymerizable.
(3) When irradiated with light, in particular, visible light and / or ultraviolet light, quality deterioration due to polymerization or decomposition is easily caused. (4) Quality deterioration due to polymerization or decomposition due to light is affected by molecular oxygen. It was found that by handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates in a light-shielding structure, they could be handled stably, and the molecular oxygen concentration in the gas phase of the light-shielding structure was identified. With this range, we came to realize that it can be handled more stably.
【０００８】なお、ビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類は、保存時及び取り扱い時に、（１）
ビニルエーテル基に隣接する炭素原子上の水素原子が引
き抜かれてラジカルが発生し、また、（２）ビニルエー
テル基によりエーテル過酸化物が形成されてラジカルが
発生することにより重合することになると考えられる。
これらの場合、ラジカルを発生したビニルエーテル基含
有（メタ）アクリル酸エステル類が開始剤として作用す
ることを意味する。上記（２）では、窒素置換すること
により防止することができるが、このときには、（メ
タ）アクリロイル基が窒息重合を引き起こすため分子状
酸素を含む雰囲気下で取り扱うことになる。一方、（メ
タ）アクリル酸エステル類ではないビニルエーテルや、
ビニルエーテル基を有しない（メタ）アクリル酸エステ
ル類では、通常は上記（１）や（２）のようなことは起
こらない。すなわちビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類は、これらに比べて安定性が充分なも
のではない。例外的に（メタ）アクリル酸エステル類の
中でもエーテル基を有するものでは、エーテル基に隣接
する炭素原子上の水素原子が引き抜かれてラジカルが発
生する場合もあるが、ビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類の方が水素原子が引き抜かれる速度
が格段にはやく、このような（メタ）アクリル酸エステ
ル類に比べてもビニルエーテル基含有（メタ）アクリル
酸エステル類の方が安定性が充分なものではない。本発
明者らは、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エ
ステル類の安定性を低下させるこれらの原因に着目し、
上記のようなこれまでになかった工夫をすることにより
上記課題をみごとに解決することができることに想到
し、本発明に到達したものである。[0008] The vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester can be used for (1)
It is considered that a hydrogen atom on a carbon atom adjacent to the vinyl ether group is abstracted to generate a radical, and that (2) a vinyl ether group forms an ether peroxide to generate a radical, thereby causing polymerization.
In these cases, it means that the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester having generated a radical acts as an initiator. In the above (2), it can be prevented by substituting with nitrogen, but in this case, since the (meth) acryloyl group causes asphyxiation polymerization, it is handled in an atmosphere containing molecular oxygen. On the other hand, vinyl ethers that are not (meth) acrylates,
In the case of (meth) acrylates having no vinyl ether group, the above-mentioned (1) and (2) usually do not occur. That is, vinyl ether group-containing (meth) acrylates are not more stable than these. Exceptionally, among (meth) acrylates having an ether group, a hydrogen atom on a carbon atom adjacent to the ether group may be abstracted to generate a radical, but a vinyl ether group-containing (meth) acrylic ester may be generated. Acid esters are much faster at abstraction of hydrogen atoms, and vinyl ether group-containing (meth) acrylates are more stable than such (meth) acrylates. is not. The present inventors have paid attention to these causes that lower the stability of vinyl ether group-containing (meth) acrylates,
The inventor of the present invention has conceived that the above-described problems can be solved brilliantly by making the above-mentioned novel measures, and have reached the present invention.
【０００９】すなわち本発明は、下記一般式（１）； ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｒ２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ３ （１） （式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度を、１５重
量％以下にして取り扱うビニルエーテル基含有（メタ）
アクリル酸エステル類の取り扱い方法である。That is, the present invention provides a compound represented by the following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group Represents R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. )) The vinyl ether group-containing (meth) handled by setting the water concentration of the liquid phase portion containing the vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the formula (1) to 15% by weight or less.
This is a method for handling acrylic esters.
【００１０】本発明はまた、上記一般式（１）で表され
るビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
に接触する気相部の分子状酸素濃度を、０．０１〜１５
容量％にして取り扱うビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類の取り扱い方法でもある。In the present invention, the molecular oxygen concentration of the gas phase in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the above general formula (1) may be 0.01 to 15%.
It is also a method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates handled in volume%.
【００１１】本発明はまた、上記一般式（１）で表され
るビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
を含む液相部の水分濃度を、１５重量％以下、かつ、該
ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類に
接触する気相部の分子状酸素濃度を、０．０１〜１５容
量％にして取り扱うビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類の取り扱い方法でもある。The present invention also provides a liquid phase containing a vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1) having a water concentration of 15% by weight or less and a vinyl ether group-containing ( It is also a method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates in which the molecular oxygen concentration in the gas phase in contact with the (meth) acrylates is adjusted to 0.01 to 15% by volume.
【００１２】本発明は更に、上記一般式（１）で表され
るビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
を、遮光性構造物中で取り扱うビニルエーテル基含有
（メタ）アクリル酸エステル類の取り扱い方法でもあ
る。The present invention further provides a method for treating vinyl ether group-containing (meth) acrylates, which comprises treating the vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the general formula (1) in a light-shielding structure. But also.
【００１３】本発明はそして、上記一般式（１）で表さ
れるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル
類を、遮光性構造物中で、かつ該遮光性構造物の気相部
の分子状酸素濃度を０．０１〜２２容量％にして取り扱
うビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
の取り扱い方法でもある。以下に本発明を詳述する。According to the present invention, the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the general formula (1) is used in a light-shielding structure and in a molecular state of a gas phase of the light-shielding structure. It is also a method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates with an oxygen concentration of 0.01 to 22% by volume. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【００１４】本発明における一般式（１）で表されるビ
ニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類は、
式中のＲ１で示される置換基が水素原子又はメチル基
で、Ｒ２で示される置換基が有機残基で、Ｒ３で示され
る置換基が水素原子又は有機残基で構成される化合物で
あれば特に限定されるものではない。本明細書中、一般
式で表される化合物中の有機残基とは、当該化合物を構
成する基本構造に結合している有機基を意味する。The vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the general formula (1) in the present invention are:
A compound in which the substituent represented by R 1 in the formula is a hydrogen atom or a methyl group, the substituent represented by R 2 is an organic residue, and the substituent represented by R 3 is a hydrogen atom or an organic residue. If so, there is no particular limitation. In the present specification, an organic residue in a compound represented by the general formula means an organic group bonded to a basic structure constituting the compound.
【００１５】上記一般式（１）において、Ｒ２で表され
る有機残基としては特に限定されず、例えば、炭素数２
〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、構造
中にエーテル結合及び／又はエステル結合により酸素原
子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜
１１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。
これらの中でも、炭素数２〜６のアルキレン基、構造中
にエーテル結合により酸素原子を有する炭素数４〜１０
のアルキレン基が好適に用いられる。In the above general formula (1), the organic residue represented by R 2 is not particularly limited.
A linear, branched or cyclic alkylene group having from 20 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms having an oxygen atom through an ether bond and / or an ester bond in the structure, and having 6 to 6 carbon atoms;
And 11 optionally substituted aromatic groups.
Among these, an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, a carbon atom having 4 to 10 carbon atoms having an oxygen atom by an ether bond in the structure.
Are preferably used.
【００１６】上記一般式（１）中のＲ３で示される有機
残基としては特に限定されず、例えば、炭素数１〜１０
の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１
１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。こ
れらの中でも、炭素数１〜２のアルキル基、炭素数６〜
８の芳香族基が好適に用いられる。The organic residue represented by R 3 in the above general formula (1) is not particularly limited.
Linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 1 carbon atoms
And 1 aromatic group which may be substituted. Among them, alkyl groups having 1 to 2 carbon atoms, 6 to 6 carbon atoms
8 aromatic groups are preferably used.
【００１７】上記一般式（１）で表されるビニルエーテ
ル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の代表例として
は特に限定されず、具体的には、下記のもの等が挙げら
れる。（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メ
タ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アク
リル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）ア
クリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸
４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル
−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビ
ニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチ
ル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，
１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリ
ル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メ
チル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２
−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキ
シシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシ
ヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシ
クロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキ
シメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２
−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）ア
クリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メ
タ）アクリル酸ｍ−ビニロキシメチルフェニルメチル、
（メタ）アクリル酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチ
ル。The typical examples of the vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the general formula (1) are not particularly limited, and specific examples include the following. 2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 4 -Vinyloxybutyl, 1-methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-vinyloxymethylpropyl (meth) acrylate, 2-methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 1,
1-dimethyl-2-vinyloxyethyl, 3-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 2 (meth) acrylate
-Vinyloxybutyl, 4-vinyloxycyclohexyl (meth) acrylate, 6-vinyloxyhexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid 2
-Vinyloxymethylcyclohexylmethyl, p-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate, m-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate,
O-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate.
【００１８】（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエト
キシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイ
ソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニ
ロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−
（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリ
ル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メ
タ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソ
プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキ
シエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロ
キシエトキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリ
ル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）エチ
ル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキ
シイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−
（ビニロキシエトキシエトキシ）プロピル、（メタ）ア
クリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プ
ロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロ
ポキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−
（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）プロピ
ル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエト
キシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロ
キシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）
アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）
イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイ
ソプロポキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）
アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキ
シ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエト
キシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アク
リル酸２−（イソプロポキシエトキシ）エチル、（メ
タ）アクリル酸２−（イソプロポキシエトキシエトキ
シ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロポキシ
エトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル
酸２−（イソプロポキシエトキシエトキシエトキシエト
キシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコ
ールモノビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリプロ
ピレングリコールモノビニルエーテル。2- (vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxy) propyl (meth) acrylate, (meth) acryl Acid 2-
(Vinyloxyethoxy) isopropyl, 2- (vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) acrylate (meth) acrylate Ethyl, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid 2-
(Vinyloxyethoxyethoxy) propyl, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxyethoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylate
(Vinyloxyisopropoxyisopropoxy) propyl, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, (meth)
Acrylic acid 2- (vinyloxyisopropoxyethoxy)
Isopropyl, 2- (vinyloxyisopropoxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, (meth)
2- (vinyloxyethoxyethoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (vinyloxyethoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (isopropoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2 (meth) acrylic acid -(Isopropoxyethoxyethoxy) ethyl, 2- (isopropoxyethoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (isopropoxyethoxyethoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether (meth) acrylate.
【００１９】これらの中でも、（メタ）アクリル酸２−
ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシ
プロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロ
キシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピ
ル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メ
タ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メ
タ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アク
リル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、
（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチ
ル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエト
キシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイ
ソプロポキシ）プロピルが好適である。Among these, (meth) acrylic acid 2-
Vinyloxyethyl, 3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, (meth) acryl 4-vinyloxycyclohexyl acid, 6-vinyloxyhexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate,
2- (Vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate are preferred.
【００２０】本発明のビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類の取り扱い方法においては、（ａ）
上記一般式（１）で表されるビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度を、
１５重量％以下にして取り扱う形態、（ｂ）上記一般式
（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類に接触する気相部の分子状酸素濃度を、
０．０１〜１５容量％にして取り扱う形態、（ｃ）上記
一般式（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）
アクリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度を、１５
重量％以下かつ該ビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類に接触する気相部の分子状酸素濃度を、
０．０１〜１５容量％にして取り扱う形態、（ｄ）上記
一般式（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）
アクリル酸エステル類を、遮光性構造物中で取り扱う形
態、又は、（ｅ）上記一般式（１）で表されるビニルエ
ーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を、遮光性
構造物中で、かつ該遮光性構造物の気相部の分子状酸素
濃度を０．０１〜２２容量％にして取り扱う形態のいず
れかの形態によりビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類を取り扱うことになるが、（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）の形態を適宜組み合
わせて行ってもよい。In the method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates of the present invention, (a)
The water concentration of the liquid phase portion containing the vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1) is
(B) the molecular oxygen concentration of the gas phase in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1)
(C) vinyl ether group-containing (meth) represented by the above general formula (1)
The water concentration of the liquid phase containing acrylic acid esters is adjusted to 15
% By weight and the molecular oxygen concentration in the gas phase in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester,
(D) a vinyl ether group-containing (meth) represented by the above general formula (1)
A form in which acrylic esters are handled in a light-shielding structure, or (e) a vinyl ether group-containing (meth) acrylic ester represented by the above general formula (1) in a light-shielding structure; The vinyl ether group-containing (meth) acrylates are handled by any of the modes in which the molecular oxygen concentration in the gas phase portion of the light-shielding structure is set to 0.01 to 22% by volume. a),
(B), (c), (d) and (e) may be combined as appropriate.
【００２１】本発明における「取り扱う」との用語は、
ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を
タンクローリー等での輸送；タンク、容器等での貯蔵；
パイプ、バルブ、ノズル等を含めた配管での移送；反応
釜、反応装置、タンク、容器等での混合・攪拌等を意味
する。これらの操作は単独でも、あるいは２種類以上を
適宜組み合わせて実施することもできる。In the present invention, the term "handle" means
Transport of vinyl ether group-containing (meth) acrylates in tank trucks and the like; storage in tanks and containers;
Transfer by pipes including pipes, valves, nozzles, etc .; means mixing, stirring, etc. in reaction vessels, reactors, tanks, vessels, etc. These operations can be performed alone or in combination of two or more.
【００２２】上記（ａ）の形態においては、ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り扱うに
際し、その液相部、すなわち上記一般式（１）で表され
るビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
を含む液相部の水分濃度を特定の範囲に調整して取り扱
う。液相部の水分濃度としては、１５重量％以下であ
り、５重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ま
しく、１重量％以下が更に好ましく、０．５重量％以下
が特に好ましい。上記水分濃度の範囲が、安定的な取り
扱いの点で好ましい。In the above embodiment (a), when a vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester is handled, its liquid phase portion, that is, the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid represented by the above general formula (1) is used. Adjust the water concentration in the liquid phase containing esters to a specific range before handling. The liquid phase has a water concentration of 15% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, still more preferably 1% by weight or less, and particularly preferably 0.5% by weight or less. The above range of the water concentration is preferable in terms of stable handling.
【００２３】上記液相部の水分濃度を１５重量％以下に
調整するには、上記ビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類を製造する際に、蒸留、水不溶性溶剤
による洗浄等により精製した後速やかに貯蔵する；乾燥
した窒素、アルゴン等の不活性ガス及びそれらの酸素と
の混合ガスを常温又は加温条件下にバブリングする；モ
レキュラーシブ、塩化カルシウム、硫酸マグネシウム、
硫酸カルシウム、炭酸カリウム等の脱水剤により乾燥す
る；等の方法が挙げられる。また、これらの方法を適宜
組み合わせて行ってもよい。In order to adjust the water concentration in the liquid phase portion to 15% by weight or less, the above-mentioned vinyl ether group-containing (meth) acrylic esters are purified by distillation, washing with a water-insoluble solvent or the like. Bubble dry inert gas such as nitrogen, argon and their mixed gas with oxygen at room temperature or under warming conditions; molecular sieve, calcium chloride, magnesium sulfate,
Drying with a dehydrating agent such as calcium sulfate or potassium carbonate; and the like. Further, these methods may be combined as appropriate.
【００２４】上記（ｂ）の形態においては、ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り扱うに
際し、その気相部、すなわちビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類に接触する気相部の分子状酸
素濃度を特定範囲に調整して取り扱う。気相部の分子状
酸素濃度としては、０．０１〜１５容量％であり、０．
０２容量％以上が好ましく、０．０５容量％以上がより
好ましく、１２容量％以下が好ましく、１０容量％以下
がより好ましい。上記分子状酸素濃度の範囲が、安定的
な取り扱いの点及び経済性の点で好ましい。In the above embodiment (b), when handling the vinyl ether group-containing (meth) acrylates, the molecules in the gas phase, that is, the molecules in the gas phase in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylates, are handled. Adjust the oxygen concentration to a specific range. The molecular oxygen concentration in the gas phase is 0.01 to 15% by volume.
02 vol% or more is preferable, 0.05 vol% or more is more preferable, 12 vol% or less is preferable, and 10 vol% or less is more preferable. The above range of the molecular oxygen concentration is preferable in terms of stable handling and economy.
【００２５】なお、この「気相部（ビニルエーテル基含
有（メタ）アクリル酸エステル類に接触する気相部）」
とは、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステ
ル類を取り扱う際に、タンクローリー、タンク等の容器
や構造物等に充填したときの気相部を意味する。The "gas phase (gas phase in contact with vinyl ether group-containing (meth) acrylates")
The term “gas phase” means a gas phase portion when a vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester is filled in a container such as a tank lorry or a tank, a structure, or the like when handling.
【００２６】上記気相部の分子状酸素濃度を０．０１〜
１５容量％に調製する方法としては、例えば、窒素、ア
ルゴン等の不活性ガスを気相部及び／又は液相部に吹き
込む方法；不活性ガスと酸素との混合ガスを気相部及び
／又は液相部に吹き込む方法等の方法が挙げられる。The molecular oxygen concentration in the gas phase is 0.01 to
As a method for adjusting the volume to 15% by volume, for example, a method in which an inert gas such as nitrogen or argon is blown into a gaseous phase part and / or a liquid phase part; A method such as a method of blowing into a liquid phase portion may be used.
【００２７】上記（ｃ）の形態においては、ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り扱うに
際し、その液相部の水分濃度を１５重量％以下に調整
し、かつ、その気相部の分子状酸素濃度を０．０１〜１
５容量％に調整することが、ビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類をより安定的にかつ経済的に
取り扱うことを可能にする。In the above mode (c), when handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, the water concentration of the liquid phase is adjusted to 15% by weight or less, and the molecular concentration of the gas phase is adjusted to 15% by weight or less. Oxygen concentration of 0.01 to 1
Adjustment to 5% by volume enables more stable and economical handling of vinyl ether group-containing (meth) acrylates.
【００２８】上記（ｄ）の形態においては、ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り扱うに
際して、遮光性構造物中で取り扱うことが安定的な取り
扱いを可能にする。本発明における取り扱いに用いられ
る「遮光性構造物」とは、遮光性材質により構成された
タンクローリー等の輸送用構造物；タンク、ドラム、ビ
ン、缶等の貯蔵用構造物；パイプ、ノズル、バルブ等の
移送用構造物；反応釜、タンク、容器等の混合・攪拌用
構造物；等の構造物であり、構造物内部に光が達するこ
とができる構造物内表面積は、全構造物内表面積の２０
％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％
以下が更に好ましく、８％以下が特に好ましい。また、
ここでいう「遮光性材質」とは、実質的に光（可視光
線、紫外線及び赤外線）を透過しない材質である。更
に、構造物内部に光が達することができる構造物内表面
部分もしくは構造物内部に光が達することができない構
造物内表面部分は連続的あるいは非連続的でもよい。In the mode (d), when handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, handling in a light-shielding structure enables stable handling. The "light-shielding structure" used for handling in the present invention is a transport structure such as a tank truck made of a light-shielding material; a storage structure such as a tank, a drum, a bottle, a can; a pipe, a nozzle, and a valve. And other structures for mixing and stirring, such as reaction vessels, tanks and vessels; etc., and the surface area of the structure through which light can reach the inside of the structure is the surface area of the entire structure Of 20
%, Preferably 15% or less, more preferably 10% or less.
The following is more preferred, and the content of 8% or less is particularly preferred. Also,
The “light-shielding material” here is a material that does not substantially transmit light (visible light, ultraviolet light, and infrared light). Further, the inner surface portion of the structure where light can reach the inside of the structure or the inner surface portion of the structure where light cannot reach the inside of the structure may be continuous or discontinuous.
【００２９】上記、遮光性材質とは、特に限定されるも
のではないが、例えば、工業用純鉄、炭素鋼（ＪＩＳＧ
−ＳＳ、ＪＩＳＧ−ＳＣ、ＪＩＳＧ−ＳＢ、ＪＩＳＧ−
ＳＭ、ＪＩＳＧ−ＳＧＰ、ＪＩＳＧ−ＳＴＧＰ、ＪＩＳ
Ｇ−ＳＴＳ、ＪＩＳＧ−ＳＴＢ、ＪＩＳＧ−ＳＴＬ、Ｊ
ＩＳＧ−ＳＴＫＭ、ＪＩＳＧ−ＳＷＲ、ＪＩＳＧ−Ｓ
Ｋ、ＪＩＳＧ−ＳＦ、ＪＩＳＧ−ＳＣ等）、鋳鉄（ＪＩ
ＳＧ−ＦＣ、ＪＩＳＧ−ＦＣＤ、ＪＩＳＧ−ＦＣＭ
等）、低合金鋼（ＪＩＳＧ−ＳＮＣ、ＪＩＳＧ−ＳＮＣ
Ｍ、ＪＩＳＧ−ＳＣｒ、ＪＩＳＧ−ＳＣＭ、ＪＩＳＧ−Ｓ
ＡＣＭ、ＪＩＳＧ−ＳＣＡ等）、低合金鋳鉄（ニテンシ
ル、ニハード、アシキュラー等）、低ニッケル鋼（ＪＩ
ＳＧ−ＳＴＰＬ、ＪＩＳＧ−ＳＴＢＬ、ＪＥＳ−Ｎｉ、
ＡＳＴＭ−Ａ２０３等）、ニッケル鋼（ＡＳＴＭＡ３５
３等）、クロム鋼（ＪＩＳＧ−ＳＵＨ１、ＪＩＳＧ−Ｓ
ＵＨ２、ＪＩＳＧ−ＳＵＨ３、ＡＩＳＩ−ＴＰ５０１、
ＡＩＳＩ−ＴＰ５０３等）等の鉄及び鋼；高ケイ素鋳
鉄；１５％Ｎｉ鋳鉄（Ｎｉ−Ｒｅｓｉｓｔ１等）、２０
％Ｎｉ鋳鉄（Ｎｉ−Ｒｅｓｉｓｔ２等）、３０％Ｎｉ鋳
鉄（Ｎｉ−Ｒｅｓｉｓｔ３等）等の高ニッケル鋳鉄；高
Ｃｒ鋳鉄（Ｎｉｒｏｓｔａ等）、高Ｃｒ−Ｍｏ鋳鉄等の
高クロム鋼。The light-shielding material is not particularly limited, but may be, for example, industrial pure iron or carbon steel (JISG).
-SS, JISG-SC, JISG-SB, JISG-
SM, JISG-SGP, JISG-STGP, JIS
G-STS, JISG-STB, JISG-STL, J
ISG-STKM, JISG-SWR, JISG-S
K, JISG-SF, JISG-SC, etc.), cast iron (JI
SG-FC, JISG-FCD, JISG-FCM
Etc.), low alloy steel (JISG-SNC, JISG-SNC)
M, JISG-SCr, JISG-SCM, JISG-S
ACM, JISG-SCA, etc.), low alloy cast iron (Nitensil, Nihard, Acicular, etc.), low nickel steel (JI
SG-STPL, JISG-STBL, JES-Ni,
ASTM-A203), nickel steel (ASTMA35)
3), chrome steel (JISG-SUH1, JISG-S)
UH2, JISG-SUH3, AISI-TP501,
Iron and steel such as AISI-TP503); high silicon cast iron; 15% Ni cast iron (Ni-Resist 1 etc.), 20
High nickel cast iron such as 30% Ni cast iron (Ni-Resist 2 or the like) or 30% Ni cast iron (Ni-Resist 3 or the like); high chromium steel such as high Cr cast iron (Nirosta or the like) or high Cr-Mo cast iron.
【００３０】１３Ｃｒ鋼（ＳＵＳ４０３、ＳＵＳ４１
０、ＳＵＳ４１４、ＳＵＳ４１６等）、１３Ｃｒ高炭素
鋼（ＳＵＳ４２０等）、１６Ｃｒ２Ｎｉ鋼（ＳＵＳ４３
１、ＳＵＳ４４０Ａ、ＳＵＳ４４０Ｂ、ＳＵＳ４４０Ｃ
等）等のマルテンサイト系ステンレス鋼；１８Ｃｒ鋼
（ＳＵＳ４２０等）、２５Ｃｒ鋼（ＳＵＳ４４６等）、
１３Ｃｒ−Ａｌ鋼（ＳＵＳ４０５等）等のフェライト系
ステンレス鋼；１８−８鋼（ＳＵＳ３０１、ＳＵＳ３０
２、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０５、ＳＵ
Ｓ３０８、ＳＵＳ３２１、ＳＵＳ３４７等）、１８−８
Ｌ鋼（ＳＵＳ３０４Ｌ等）、１８−８Ｍｏ鋼（ＳＵＳ３
１６、ＳＵＳ３１７等）、１８−８ＭｏＬ鋼（ＳＵＳ３
１６Ｌ等）、２２Ｃｒ−１２Ｎｉ鋼（ＳＵＳ３０９、Ｓ
ＵＳ３０９Ｓ等）、２５Ｃｒ−２０Ｎｉ鋼（ＳＵＳ３１
０、ＳＵＳ３１０Ｓ、ＳＵＳ３１４等）等のオーステナ
イト系ステンレス鋼13Cr steel (SUS403, SUS41)
0, SUS414, SUS416 etc.), 13Cr high carbon steel (SUS420 etc.), 16Cr2Ni steel (SUS43
1, SUS440A, SUS440B, SUS440C
Etc.); 18Cr steel (SUS420 etc.); 25Cr steel (SUS446 etc.);
Ferritic stainless steel such as 13Cr-Al steel (SUS405 etc.); 18-8 steel (SUS301, SUS30)
2, SUS303, SUS304, SUS305, SU
S308, SUS321, SUS347, etc.), 18-8
L steel (SUS304L etc.), 18-8Mo steel (SUS3
16, SUS317 etc.), 18-8 MoL steel (SUS3
16L), 22Cr-12Ni steel (SUS309, S
US309S etc.), 25Cr-20Ni steel (SUS31)
0, SUS310S, SUS314 etc.)
【００３１】２０合金（Ｗｏｒｔｈｉｔｅ、Ｄｕｒｉｍ
ｅｔ２０、Ｃａｒｐｅｎｔｅｒ２０、Ａｌｏｙｃｏ２
０、ＦＡ２０等）、ＨＮ合金（Ｃｈｒｏｍａｘ等）等の
特殊オーステナイト系ステンレス鋼；Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ
−Ｓｉ合金（Ｓｉｃｒｏｍａｌ８、Ｓｉｃｒｏｍａｌ
９、Ｓｉｃｒｏｍａｌ１０、Ｓｉｃｒｏｍａｌ１１、Ｓ
ｉｃｒｏｍａｌ１２等）、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｃｏ合金
（ＫａｎｔｈａｌＡ等）等のＦｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金；Ｊ
ＩＳ−ＳＣＭｎＨ等の高マンガン鋳鋼；工業用純銅（Ｊ
ＩＳ−ＣｕＰ、ＪＩＳ−ＣｕＢ、ＪＩＳ−ＣｕＴ、ＪＩ
Ｓ−ＤＣｕＰ、ＪＩＳ−ＤＣｕＴ等）、Ｃｕ−Ａｌ合金
（ＪＩＳ−ＡＢＰ、ＪＩＳ−ＡＢＢ、ＪＩＳ−ＢｓＴ
Ｆ、アルミ青銅、アルミニウム黄銅等）、Ｃｕ−Ｓｉ合
金（ＪＩＳ−ＳｉＢＴ、ＪＩＳ−ＳｚＢＣ、ケイ素青
銅、Ｅｖｅｒｄｕｒ、ＡＲ合金、シルジン青銅等）、Ｃ
ｕ−Ｓｎ−Ｐ合金（ＪＩＳ−ＰＢＰ、ＪＩＳ−ＰＢＳ、
ＪＩＳ−ＰＢＢ、ＪＩＳ−ＰＢＣ、リン青銅等）、Ｃｕ
−Ｓｎ−Ｚｎ合金（ＪＩＳ−ＢｓＣ、青銅鋳物等）、Ｃ
ｕ−Ｚｎ合金（ＪＩＳ−ＮＢｓＰ等）、Ｃｕ−Ｚｎ−Ｓ
ｎ合金（Ｒｅｄ−Ｂｒａｓｓ等）、Ｃｕ−Ｚｎ合金（Ｊ
ＩＳ−ＢｓＰ、ＪＩＳ−ＬＢＣ、ＪＩＳ−ＲＢｓＰ、黄
銅、鉛入黄銅、丹銅等）等の銅及び銅合金；Ｃｕ−Ｎｉ
２０（白銅、ＪＩＳ−ＣＮＴＦ２等）、Ｎｉ−Ａｇ（洋
白、洋銀、ＪＩＳ−ＮＳＰ、ＪＩＳ−ＳＮＰ１等）、Ｃ
ｕ−Ｎｉ３０（白銅、ＪＩＳ−ＣＮＴＦ３、ＪＩＳ−Ｃ
ＮＰ３等）等のＣｕ−Ｎｉ合金Alloy 20 (Worthite, Durim)
et20, Carpenter20, Aloyco2
0, FA20, etc.), special austenitic stainless steels such as HN alloys (Chromax, etc.); Fe-Cr-Al
-Si alloy (Siromal8, Siromal
9, Sicromal10, Sicromal11, S
Fe-Cr-Al alloys such as micromal12), Fe-Cr-Al-Co alloys (Kanthal A, etc.); J
High manganese cast steel such as IS-SCMnH; industrial pure copper (J
IS-CuP, JIS-CuB, JIS-CuT, JI
S-DCuP, JIS-DCut, etc.), Cu-Al alloy (JIS-ABP, JIS-ABB, JIS-BsT)
F, aluminum bronze, aluminum brass, etc.), Cu-Si alloy (JIS-SiBT, JIS-SzBC, silicon bronze, Everdur, AR alloy, silgin bronze, etc.), C
u-Sn-P alloy (JIS-PBP, JIS-PBS,
JIS-PBB, JIS-PBC, phosphor bronze, etc.), Cu
-Sn-Zn alloy (JIS-BsC, bronze casting, etc.), C
u-Zn alloy (JIS-NBsP etc.), Cu-Zn-S
n alloy (Red-Brass etc.), Cu-Zn alloy (J
Copper and copper alloys such as IS-BsP, JIS-LBC, JIS-RBsP, brass, lead-in brass, and bronze; Cu-Ni
20 (white copper, JIS-CNTF2, etc.), Ni-Ag (white silver, nickel silver, JIS-NSP, JIS-SNP1, etc.), C
u-Ni30 (white copper, JIS-CNTF3, JIS-C
Cu-Ni alloys such as NP3)
【００３２】工業用純アルミニウム（ＪＩＳ−ＡｌＰ、
ＪＩＳ−ＡｌＲ、ＪＩＳ−ＡｌＢ、ＪＩＳ−ＡｌＶ、Ｊ
ＩＳ−ＡｌＷ、ＪＩＳ−ＡｌＴ、ＡＬＣＯＡ−ＥＣ、Ａ
ＬＣＯＡ−１０５０、ＡＬＣＯＡ−１０６０、ＡＬＣＯ
Ａ−１１００、ＡＬＣＯＡ−１１３０、ＡＬＣＯＡ−１
１７５、ＡＬＣＯＡ−１２６０等）、高純度アルミニウ
ム、Ａｌ−Ｍｎ合金（ＪＩＳ−Ａ２Ｐ３、ＪＩＳ−Ａ２
Ｔ３、ＡＬＣＯＡ−３００３等）、高力アルミ合金（Ｊ
ＩＳ−Ａ３Ｐ、ＪＩＳ−Ａ３Ｒ、ＪＩＳ−Ａ３Ｔ、ＪＩ
Ｓ−Ａ３Ｂ、ＪＩＳ−Ａ３Ｗ、ＡＬＣＯＡ−２０１４、
ＡＬＣＯＡ−２０１７、ＡＬＣＯＡ−２０２４、ＡＬＣ
ＯＡ−２０２５、ジュラルミン、超ジュラルミン、Ｙ合
金等）、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ合金（ＪＩＳ−Ａ４Ｆ、ＡＬ
ＣＯＡ−６０６１等）、Ａｌ−Ｓｉ合金（ＪＩＳ−ＡＣ
３Ａ、ＪＩＳ−ＡＣ４ＡＢＣ、ＡＬＣＯＡ−４０３２、
シルミン鋳物等）、Ａｌ−Ｍｇ合金（ＪＩＳ−耐食アル
ミ合金１種、ＪＩＳ−耐食アルミ合金２種、ＪＩＳ−耐
食アルミ合金７種、ＡＬＣＯＡ−５０５２、ＡＬＣＯＡ
−５０５６、ＡＬＣＯＡ−５０８３等）等のアルミニウ
ム及びアルミニウム合金；工業用純マグネシウム、マグ
ネシウム合金（ＪＩＳ−ＭＣ、Ｄｏｗｍｅｔａｌ、Ｅｌ
ｅｋｔｒｏｎ等）等のマグネシウム及びマグネシウム合
金；工業用純ニッケル（ＪＩＳ−ＶＮｉＰ、ＪＩＳ−Ｖ
ＣＮｉＰ、ＪＩＳ−ＶＮｉＷ、ＪＩＳ−ＶＣＮｉＴ、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ３９、ＡＳＴＭ−１６０、ＡＳＴＭ−１６
１、ＡＳＴＭ−１６２等）等のニッケル；２７Ａ（Ｉｎ
ｃｏｎｅｌ、Ｃｏｌｍｏｎｏｙ６等）、２７Ｂ（Ｉｎｃ
ｏｎｅｌ６００、ＡＳＴＭ−Ｂ１６３、ＡＳＴＭ−Ｂ１
６６、ＡＳＴＭ−Ｂ１６７、ＡＳＴＭ−Ｂ１６８等）、
２７Ｃ等のＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金Industrial pure aluminum (JIS-AlP,
JIS-AlR, JIS-AlB, JIS-AlV, J
IS-AlW, JIS-AlT, ALCOA-EC, A
LCOA-1050, ALCOA-1060, ALCO
A-1100, ALCOA-1130, ALCOA-1
175, ALCOA-1260, etc.), high-purity aluminum, Al-Mn alloy (JIS-A2P3, JIS-A2
T3, ALCOA-3003, etc.), high-strength aluminum alloy (J
IS-A3P, JIS-A3R, JIS-A3T, JI
S-A3B, JIS-A3W, ALCOA-2014,
ALCOA-2017, ALCOA-2020, ALC
OA-2025, duralumin, super duralumin, Y alloy, etc.), Al-Mg-Si alloy (JIS-A4F, AL
COA-6061), Al-Si alloy (JIS-AC
3A, JIS-AC4ABC, ALCOA-4032,
Al-Mg alloy (JIS-corrosion-resistant aluminum alloy 1 class, JIS-corrosion-resistant aluminum alloy 2 types, JIS-corrosion-resistant aluminum alloy 7 types, ALCOA-5052, ALCOA)
Aluminum and aluminum alloys such as -5056, ALCOA-5083, etc .; pure magnesium and magnesium alloys for industrial use (JIS-MC, Dowmetal, El)
Magnesium and magnesium alloys such as ektron, etc .; industrial pure nickel (JIS-VNiP, JIS-V
CNiP, JIS-VNiW, JIS-VCNiT, A
STM-B39, ASTM-160, ASTM-16
1, ASTM-162, etc.); 27A (In
console, Colmonoy6, etc.), 27B (Inc.
onel600, ASTM-B163, ASTM-B1
66, ASTM-B167, ASTM-B168, etc.),
Ni-Cr-Fe alloys such as 27C
【００３３】モネル（ＪＩＳ−ＮＣｕＴ、ＪＩＳ−ＮＣ
ｕＰ、ＡＳＴＭ−Ｂ１２７、ＡＳＴＭ−Ｂ１６３、ＡＳ
ＴＭ−Ｂ１６４、ＡＳＴＭ−Ｂ１６５、モネル４００
等）、Ｋモネル等のＮｉ−Ｃｕ合金；３０Ａ（Ｈａｓｔ
ｅｌｌｏｙＡ、Ｃｏｎｔｒａｃｉｄ等）、３０Ｂ（ＡＳ
ＴＭ−Ｂ３３３、ＡＳＴＭ−Ｂ３３５、ＡＳＴＭ−Ｂ４
９４、ＨａｓｔｅｌｌｏｙＢ、Ｃｈｌｏｒｉｍｅｔ２
等）、３０Ｃ（ＡＳＴＭ−Ｂ３３６、ＡＳＴＭ−Ｂ４９
４、ＨａｓｔｅｌｌｏｙＣ、Ｃｈｌｏｒｉｍｅｔ３
等）、３０Ｄ（ＨａｓｔｅｌｌｏｙＮ等）、３０Ｅ（Ｈ
ａｓｔｅｌｌｏｙＦ等）、３０Ｆ（Ｎｉ−ｏ−ｎｅｌ
等）、３０Ｇ（Ｒ−５５等）等のＮｉ−Ｍｏ−Ｆｅ−Ｃ
ｒ合金；３１Ａ（ＩｌｌｉｕｍＧ等）、３１Ｂ（Ｉｌｌ
ｉｕｍ９８等）等のＮｉ−Ｃｒ−Ｃｕ−Ｍｏ合金；Ｈａ
ｓｔｅｌｌｏｙＤ等のＮｉ−Ｓｉ合金；Ｃｏ−Ｃｒ合金
（Ｓｔｅｌｉｔｅ２１、Ｓｔｅｌｉｔｅ２３、Ｓｔｅｌ
ｉｔｅ２７、Ｓｔｅｌｉｔｅ３１等）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎ
ｉ合金（Ｈａｙｎｅｓ２５、Ｈａｙｎｅｓ３６等）、Ｃ
ｏ−Ｓｉ合金等のコバルト合金；工業用純鉛（ＪＩＳ−
ＰｂＰ、ＪＩＳ−ＰｂＴ、ＪＩＳ−ＰｂＴＷ、ＡＳＴＭ
−Ｂ２９、ＡＳＴＭ−Ｂ３２５等）、テルル鉛、硬鉛
（ＪＩＳ−ＨＰｂＰ、ＪＩＳ−ＨＰｂＴ、ＡＳＴＭ−Ｂ
２３、ＡＳＴＭ−Ｂ３２等）、ホモゲン鉛融着ライニン
グ等の鉛及び鉛合金；錫；工業用純亜鉛（ＪＩＳ−亜鉛
板、ＡＳＴＭ−Ｂ６等）、亜鉛合金（ＡＳＴＭ−Ｂ６９
等）等の亜鉛及び亜鉛合金；銀、金、白金、ニオブ、タ
ンタル（ＡＳＴＭ−Ｂ３６４、ＡＳＴＭ−Ｂ３６５等）
等の貴金属、白金族及びバナジウム族金属；タングステ
ンMonel (JIS-NCut, JIS-NC
uP, ASTM-B127, ASTM-B163, AS
TM-B164, ASTM-B165, Monel 400
Ni-Cu alloys such as K Monel; 30A (Hast
elloyA, Contracid, etc.), 30B (AS
TM-B333, ASTM-B335, ASTM-B4
94, Hastelloy B, Chlorimet2
Etc.), 30C (ASTM-B336, ASTM-B49)
4, Hastelloy C, Chlorimet 3
Etc.), 30D (Hastelloy N etc.), 30E (H
astelloy F), 30F (Ni-o-nel)
Ni-Mo-Fe-C such as 30G (R-55 etc.)
r alloy; 31A (Illium G etc.), 31B (Ill
Ni-Cr-Cu-Mo alloy such as ium98;
Ni-Si alloys such as StelloyD; Co-Cr alloys (Stelite 21, Stelite 23, Stel
item27, Stelite31, etc.), Co-Cr-N
i alloy (Haynes 25, Haynes 36, etc.), C
Cobalt alloys such as o-Si alloys; industrial pure lead (JIS-
PbP, JIS-PbT, JIS-PbTW, ASTM
-B29, ASTM-B325, etc.), tellurium lead, hard lead (JIS-HPbP, JIS-HPbT, ASTM-B
23, ASTM-B32, etc.), lead and lead alloys such as homogen lead fusion lining; tin; industrial pure zinc (JIS-zinc plate, ASTM-B6, etc.), zinc alloy (ASTM-B69)
Zinc, zinc alloys, etc .; silver, gold, platinum, niobium, tantalum (ASTM-B364, ASTM-B365, etc.)
Noble metals such as platinum group metals and vanadium group metals; tungsten
【００３４】工業用純チタン（ＪＩＳ−ＴＰ、ＪＩＳ−
ＴＴＰ、ＪＩＳ−ＴＢ、ＪＩＳ−ＴＷ、ＡＳＴＭ−Ｂ２
６５、ＡＳＴＭ−Ｂ３３７、ＡＳＴＭ−Ｂ３３８、ＡＳ
ＴＭ−Ｂ３４８、ＡＳＴＭ−Ｂ２９９、ＡＳＴＭ−Ｂ３
６７、ＡＳＴＭ−Ｂ３８１等）、チタン合金（ＡＳＴＭ
−Ｂ２６５、ＡＳＴＭ−Ｂ３４８、ＡＳＴＭ−Ｂ３６
７、ＡＳＴＭ−Ｂ３８１等）等のチタン及びチタン合
金；ジルコニウム（ＡＳＴＭ−Ｂ３４９、ＡＳＴＭ−Ｂ
３５０、ＡＳＴＭ−Ｂ３５１、ＡＳＴＭ−Ｂ３５２、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ３５３、ＡＳＴＭ−Ｂ３５６等）、ジルコニ
ウム合金（ジルカロイ１、ジルカロイ２、ジルカロイ
３、ＡＳＴＭ−Ｂ３５０、ＡＳＴＭ−Ｂ３５１、ＡＳＴ
Ｍ−Ｂ３５２、ＡＳＴＭ−Ｂ３５３、ＡＳＴＭ−Ｂ３５
６等）等のジルコニウム及びジルコニウム合金；ＡＳＴ
Ｍ−Ｂ３８４、ＡＳＴＭ−Ｂ３８５、ＡＳＴＭ−Ｂ３８
６、ＡＳＴＭ−Ｂ３８７等のモリブデン；ＡＳＴＭ−Ｂ
３８３、ＡＳＴＭ−Ｂ３９１、ＡＳＴＭ−Ｂ３９２、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ３９３、ＡＳＴＭ−Ｂ３９４等のクロムIndustrial pure titanium (JIS-TP, JIS-
TTP, JIS-TB, JIS-TW, ASTM-B2
65, ASTM-B337, ASTM-B338, AS
TM-B348, ASTM-B299, ASTM-B3
67, ASTM-B381, etc.), titanium alloy (ASTM
-B265, ASTM-B348, ASTM-B36
Titanium and titanium alloys such as 7, ASTM-B381, etc .; zirconium (ASTM-B349, ASTM-B)
350, ASTM-B351, ASTM-B352, A
STM-B353, ASTM-B356, etc., zirconium alloys (Zircaloy 1, Zircaloy 2, Zircaloy 3, ASTM-B350, ASTM-B351, AST
M-B352, ASTM-B353, ASTM-B35
6) etc .; zirconium and zirconium alloys; AST
M-B384, ASTM-B385, ASTM-B38
6, molybdenum such as ASTM-B387; ASTM-B
383, ASTM-B391, ASTM-B392, A
Chrome such as STM-B393 and ASTM-B394
【００３５】磁器、化学用陶器、抗火石、耐酸煉瓦、耐
酸タイル、耐酸磁器、シリカセメント、耐火煉瓦、耐火
モルタル、ホーローエナメル等のケイ酸塩類製品；コン
クリート；硫黄セメント；炭素成形品、黒鉛成形品、不
浸透性炭素、不浸透性黒鉛等の炭素及び黒鉛製品；アス
ベスト；不透明な塩化ビニリデン系樹脂、不透明なフェ
ノール系樹脂、不透明なフラン樹脂、不透明な塩化ビニ
ル系樹脂、不透明な４フッ化エチレン、不透明な３フッ
化塩化エチレン、不透明なケイ素樹脂、不透明なポリエ
チレン、不透明なポリイソブチレン、不透明なポリスチ
レン、不透明なエポキシ樹脂、不透明な不飽和ポリエス
テル、不透明なポリアミド樹脂、不透明な塩素化ポリエ
ーテル樹脂、不透明なポリカーボネート樹脂、不透明な
ポリウレタン樹脂、不透明な尿素樹脂、不透明なメラミ
ン樹脂等の合成樹脂；アスファルト；不透明な天然ゴ
ム、不透明な塩酸あるいは塩素化天然ゴム、不透明なニ
トリルゴム、不透明なスチレンゴム、不透明なブタジエ
ン・イソブチレン合成ゴム、不透明なポリクロロプレ
ン、不透明な石綿充填ゴムシート、不透明なブチルゴ
ム、不透明なポリ硫化ゴム、不透明なクロロスルホン化
ポリエチレンゴム、不透明なフッ素ゴム、不透明なシリ
コンゴム、不透明なウレタンゴム等の天然ゴム及び合成
ゴム類；内側及び／又は外側が不透明な合成樹脂により
覆われたガラス、内側及び／又は外側が不透明な天然ゴ
ム又は合成ゴムにより覆われたガラス、内側及び／又は
外側が金属により覆われたガラス、内側及び／又は外側
が金属によりメッキされたガラス等のガラス等が挙げら
れる。Porcelain, pottery for chemicals, fire-resistant stone, acid-resistant brick, acid-resistant tile, acid-resistant porcelain, silica cement, refractory brick, refractory mortar, enamel enamel, and other silicate products; concrete; sulfur cement; carbon molded product, graphite molding Products, carbon and graphite products such as impervious carbon and impervious graphite; asbestos; opaque vinylidene chloride resin, opaque phenolic resin, opaque furan resin, opaque vinyl chloride resin, opaque tetrafluoride Ethylene, opaque ethylene trifluoride, opaque silicon resin, opaque polyethylene, opaque polyisobutylene, opaque polystyrene, opaque epoxy resin, opaque unsaturated polyester, opaque polyamide resin, opaque chlorinated polyether Resin, opaque polycarbonate resin, opaque polyurethane resin Synthetic resins such as opaque urea resin and opaque melamine resin; asphalt; opaque natural rubber, opaque hydrochloric or chlorinated natural rubber, opaque nitrile rubber, opaque styrene rubber, opaque butadiene / isobutylene synthetic rubber, opaque Natural rubber and synthetic rubbers such as polychloroprene, opaque asbestos-filled rubber sheet, opaque butyl rubber, opaque polysulfide rubber, opaque chlorosulfonated polyethylene rubber, opaque fluoro rubber, opaque silicone rubber, opaque urethane rubber Glass covered with opaque synthetic resin on the inside and / or outside, glass covered with opaque natural or synthetic rubber on the inside and / or outside, glass covered with metal on the inside and / or outside, inside And / or glass such as glass plated with metal on the outside Etc. The.
【００３６】これらの実質的に光を透過しない材質は、
単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用す
ることができる。なお、括弧内に代表的な規格記号、商
品名等を記載した。また、「不透明な」とは、実質的に
光（可視光線、紫外線及び赤外線）を透過しないことを
意味する。Materials that do not substantially transmit light include
They can be used alone or in combination of two or more. In addition, typical standard symbols, trade names, and the like are described in parentheses. Further, “opaque” means that substantially no light (visible light, ultraviolet light, and infrared light) is transmitted.
【００３７】これらの中でも、鉄及び鋼、高ケイ素鋳
鉄、高ニッケル鋳鉄、高クロム鋼、マルテンサイト系ス
テンレス鋼、フェライト系ステンレス鋼、オーステナイ
ト系ステンレス鋼、特殊オーステナイト系ステンレス
鋼、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金、高マンガン鋳鋼、銅及び銅
合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、アルミニウム及びアルミニウム
合金、マグネシウム及びマグネシウム合金、ニッケル、
Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｃｕ合金、Ｎｉ−Ｍｏ−
Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｕ−Ｍｏ合金、Ｎｉ−
Ｓｉ合金、コバルト合金、鉛及び鉛合金、錫、亜鉛及び
亜鉛合金、タングステン、チタン及びチタン合金、ジル
コニウム及びジルコニウム合金、モリブデン、クロム等
が好適である。これらの遮光性材質は、単独でも、ある
いは２種以上を適宜組み合わせて使用することができ
る。Among them, iron and steel, high silicon cast iron, high nickel cast iron, high chromium steel, martensitic stainless steel, ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, special austenitic stainless steel, Fe-Cr-Al Alloy, high manganese cast steel, copper and copper alloy, Cu-Ni alloy, aluminum and aluminum alloy, magnesium and magnesium alloy, nickel,
Ni-Cr-Fe alloy, Ni-Cu alloy, Ni-Mo-
Fe-Cr alloy, Ni-Cr-Cu-Mo alloy, Ni-
Preferred are Si alloy, cobalt alloy, lead and lead alloy, tin, zinc and zinc alloy, tungsten, titanium and titanium alloy, zirconium and zirconium alloy, molybdenum, chromium and the like. These light-shielding materials can be used alone or in an appropriate combination of two or more.
【００３８】上記（ｅ）の形態においては、上記一般式
（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類を取り扱うに際し、遮光性構造物中かつ
構造物気相部の分子状酸素濃度が０．０１〜２２容量％
の雰囲気において取り扱うことが、重合や分解による品
質劣化を効果的に防止し、ビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類をより安定的に取り扱うこと
を可能にする。In the above mode (e), when handling the vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the general formula (1), the molecular structure of the gas phase in the light-shielding structure and in the gas phase of the structure Oxygen concentration of 0.01 to 22% by volume
Handling in an atmosphere of the above effectively prevents quality deterioration due to polymerization and decomposition, and makes it possible to handle vinyl ether group-containing (meth) acrylates more stably.
【００３９】上記構造物気相部の分子状酸素濃度は０．
０２容量％以上が好ましく、０．０５容量％以上が特に
好ましく、１８容量％以下が好ましく、１５容量％以下
が特に好ましい。構造物気相部の分子状酸素濃度が０．
０１容量％よりも低い場合には、ビニルエーテル基含有
（メタ）アクリル酸エステル類が窒息重合を起こすこと
がある。また、構造物気相部の分子状酸素濃度が２２容
量％よりも高い場合には、重合や分解による品質劣化を
起こすことがある。よって、上記分子状酸素濃度の範囲
が、品質の点、重合抑制の点及び経済性の点で好まし
い。なお、上記重合や分解による品質劣化は、光を透過
する構造物中ではより加速されるため、遮光性構造物中
で取り扱う必要がある。The molecular oxygen concentration in the gaseous phase portion of the above structure is 0.1.
02 vol% or more is preferable, 0.05 vol% or more is particularly preferable, 18 vol% or less is preferable, and 15 vol% or less is particularly preferable. The molecular oxygen concentration in the gas phase of the structure is 0.
When it is lower than 01% by volume, the vinyl ether group-containing (meth) acrylates may cause asphyxiation polymerization. If the molecular oxygen concentration in the gas phase of the structure is higher than 22% by volume, the quality may deteriorate due to polymerization or decomposition. Therefore, the range of the molecular oxygen concentration is preferable in terms of quality, suppression of polymerization, and economic efficiency. Note that quality deterioration due to polymerization or decomposition is accelerated in a structure that transmits light, and therefore, it is necessary to handle the structure in a light-shielding structure.
【００４０】上記構造物気相部の分子状酸素濃度を特定
範囲に調整するには、（ａ）分子状酸素又は空気等の分
子状酸素を含むガスと窒素、アルゴン等の不活性ガスと
をそれぞれ構造物に供給する方法（ｂ）分子状酸素又は
空気等の分子状酸素を含むガスと窒素、アルゴン等の不
活性ガスとを予め混合し、構造物に供給する方法等があ
る。また、ガスを供給する方法としては、液相部又は気
相部の一方又は両方に、連続的又は間歇的に供給すれば
よい。更に、構造物気相部の分子状酸素濃度を特定範囲
に維持する方法としては、連続的又は間歇的に供給し続
ける方法、又は初期に置換した後密閉する方法が挙げら
れる。In order to adjust the molecular oxygen concentration in the gaseous phase portion of the structure to a specific range, (a) a gas containing molecular oxygen or molecular oxygen such as air and an inert gas such as nitrogen and argon are used. (B) a method of previously mixing a gas containing molecular oxygen or molecular oxygen such as air with an inert gas such as nitrogen or argon, and supplying the mixed gas to the structure. As a method for supplying the gas, the gas may be supplied continuously or intermittently to one or both of the liquid phase portion and the gas phase portion. Further, as a method for maintaining the molecular oxygen concentration in the gas phase portion of the structure within a specific range, there is a method of continuously or intermittently supplying, or a method of initially replacing and then sealing.
【００４１】上記一般式（１）で表されるビニルエーテ
ル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り扱うに際
して、その取り扱い温度は、特に限定されるものではな
いが、具体的には−２０℃以上が好ましく、−１５℃以
上がより好ましく、−５℃以上が更に好ましく、０℃以
上が特に好ましい。また、１２５℃以下が好ましく、１
００℃以下がより好ましく、８０℃以下が更に好まし
く、６０℃以下が特に好ましい。また、取り扱い圧力も
特に限定されるものではなく、常圧（大気圧）、加圧、
減圧の何れの圧力でもよい。When handling the vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the above general formula (1), the handling temperature is not particularly limited, but specifically, -20 ° C or more. It is preferably at least -15 ° C, more preferably at least -5 ° C, particularly preferably at least 0 ° C. Further, the temperature is preferably 125 ° C. or less,
It is more preferably at most 00 ° C, more preferably at most 80 ° C, particularly preferably at most 60 ° C. In addition, the handling pressure is not particularly limited, and may be normal pressure (atmospheric pressure), pressurization,
Any of reduced pressures may be used.
【００４２】本発明においては、一般式（１）で表され
るビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類
を取り扱うに際して、ラジカル重合禁止剤、又は、ラジ
カル重合禁止剤と塩基性化合物とを共存させておくこと
が好ましい。ラジカル重合禁止剤及び塩基性化合物は、
それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよ
い。In the present invention, when a vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1) is handled, a radical polymerization inhibitor or a radical polymerization inhibitor and a basic compound are allowed to coexist. It is preferable to keep it. The radical polymerization inhibitor and the basic compound are
Each may be used alone or two or more of them may be used in combination.
【００４３】本発明で用いるラジカル重合禁止剤として
は特に限定されず、一般にラジカル重合防止剤として用
いられるものであるならばいずれも使用することができ
る。具体的には、ヒドロキノン、メトキシヒドロキノ
ン、ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール等
のキノン系重合禁止剤；２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノー
ル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
等のアルキルフェノール系重合禁止剤；アルキル化ジフ
ェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、フェノチアジン、４−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，４
−ジヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン、１−ヒドロキシ−４−ベンゾイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン等のアミン系重合
禁止剤；ジメチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチ
オカルバミン酸銅、ジブチルジチオカルバミン酸銅等の
ジチオカルバミン酸銅系重合禁止剤；２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オ
キシル、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ヒドロキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシ
ルのエステル等のＮ−オキシル系重合禁止剤；等が挙げ
られる。これらの中でも、好ましいラジカル重合禁止剤
として、キノン系重合禁止剤、アミン系重合禁止剤、ジ
チオカルバミン酸銅系重合禁止剤、Ｎ−オキシル系重合
禁止剤を挙げることができる。特に好ましいラジカル重
合禁止剤として、ヒドロキノン、メトキシヒドロキノ
ン、ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、
フェノチアジン、アルキル化ジフェニルアミン、ジブチ
ルジチオカルバミン酸銅、２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、
４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン−Ｎ−オキシルのエステル等を挙げることができ
る。The radical polymerization inhibitor used in the present invention is not particularly limited, and any of those generally used as a radical polymerization inhibitor can be used. Specifically, quinone-based polymerization inhibitors such as hydroquinone, methoxyhydroquinone, benzoquinone and p-tert-butylcatechol; 2,6-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2-tert-butylphenol Alkylphenol-based polymerization inhibitors such as butyl-4,6-dimethylphenol, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 2,4,6-tri-tert-butylphenol; alkylated diphenylamine, N, N '-Diphenyl-p-phenylenediamine, phenothiazine, 4-hydroxy-2,2,
6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,4
-Dihydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-hydroxy-4-benzoyloxy-2,
Amine polymerization inhibitors such as 2,6,6-tetramethylpiperidine; copper dithiocarbamate polymerization inhibitors such as copper dimethyldithiocarbamate, copper diethyldithiocarbamate and copper dibutyldithiocarbamate; 2,2,6,6-
Tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, -Hydroxy-
N-oxyl-based polymerization inhibitors such as 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl ester; and the like. Among these, preferred radical polymerization inhibitors include quinone-based polymerization inhibitors, amine-based polymerization inhibitors, copper dithiocarbamate-based polymerization inhibitors, and N-oxyl-based polymerization inhibitors. Particularly preferred radical polymerization inhibitors include hydroquinone, methoxyhydroquinone, benzoquinone, p-tert-butylcatechol,
Phenothiazine, alkylated diphenylamine, copper dibutyldithiocarbamate, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-hydroxy-2,
2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl,
Examples thereof include esters of 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl.
【００４４】上記ラジカル重合禁止剤の添加量は、上記
一般式（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）
アクリル酸エステル類の種類にもよるが、該ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類に対して、
０．０００１重量％以上が好ましく、０．０００５重量
％以上がより好ましく、０．００１重量％以上が更に好
ましく、０．００２重量％以上が特に好ましく、５重量
％以下が好ましく、１重量％以下がより好ましく、０．
１重量％以下が特に好ましい。上記ラジカル重合禁止剤
添加量の範囲が、収率の点、重合抑制の点及び経済性の
点で好ましい。The amount of the radical polymerization inhibitor added is determined by the amount of the vinyl ether group-containing (meth) compound represented by the general formula (1).
Although it depends on the type of the acrylate, the vinyl ether group-containing (meth) acrylate is
0.0001% by weight or more is preferable, 0.0005% by weight or more is more preferable, 0.001% by weight or more is more preferable, 0.002% by weight or more is particularly preferable, 5% by weight or less is preferable, and 1% by weight or less. Is more preferable, and 0.
Particularly preferred is 1% by weight or less. The above range of the amount of the radical polymerization inhibitor is preferable in terms of yield, suppression of polymerization, and economic efficiency.
【００４５】本発明で用いる塩基性化合物としては特に
限定されず、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシ
ウム、水酸化カルシウム等のアルカリ（土類）金属水酸
化物；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、炭酸水素セシウム、炭酸水素マグネシウ
ム、炭酸水素カルシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸マグネシウム、
炭酸カルシウム等のアルカリ（土類）金属炭酸塩；酢酸
リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウ
ム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム等のアルカリ
（土類）金属カルボン酸塩；ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、カリウム
メトキシド、カリウムエトキシド、カリウムブトキシ
ド、カルシウムエトキシド等のアルカリ（土類）金属ア
ルコキシド；アンモニア、メチルアミン、エチルアミ
ン、ブチルアミン、エタノールアミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジエタノールア
ミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、トリス（２−エチルヘキシル）アミン、トリ
エタノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチルエ
チレンジアミン、トレン、１，４−ジアザビシクロ
［２，２，２］オクタン、アニリン、メチルアニリン、
ジメチルアニリン、ピリジン、ピペリジン、ピコリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、ルチジン、キノリ
ン、イソキノリン、コリジン等のアミン類；等が挙げら
れる。これらの中でも、好ましい塩基性化合物としてア
ルカリ（土類）金属水酸化物、アミン類を挙げることが
できる。特に好ましい塩基性化合物として水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、トリス（２−エチルヘキシル）
アミン、トリエタノールアミンが挙げられる。The basic compound used in the present invention is not particularly restricted but includes, for example, alkali (earth) metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide. Hydroxide: lithium bicarbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, cesium bicarbonate, magnesium bicarbonate, calcium bicarbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, magnesium carbonate,
Alkaline (earth) metal carbonates such as calcium carbonate; alkali (earth) metal carboxylate such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, magnesium acetate, calcium acetate; sodium methoxide, sodium ethoxide, Alkaline (earth) metal alkoxides such as sodium butoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, potassium butoxide, calcium ethoxide; ammonia, methylamine, ethylamine, butylamine, ethanolamine, dimethylamine, diethylamine, dibutylamine, diethanolamine, trimethylamine , Triethylamine, tributylamine, tris (2-ethylhexyl) amine, triethanolamine, ethylenediamine, tetramethylethylenediamine, tren, 4- diazabicyclo [2,2,2] octane, aniline, methylaniline,
Dimethylaniline, pyridine, piperidine, picoline,
Amines such as N, N-dimethyl-p-toluidine, lutidine, quinoline, isoquinoline, collidine; and the like. Among these, preferred basic compounds include alkali (earth) metal hydroxides and amines. Particularly preferred basic compounds are sodium hydroxide, potassium hydroxide and tris (2-ethylhexyl).
Amines and triethanolamine.
【００４６】上記塩基性化合物の添加量は、一般式
（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類の種類にもよるが、該ビニルエーテル基
含有（メタ）アクリル酸エステル類に対して０．０００
０１重量％以上が好ましく、０．０００１重量％以上が
より好ましく、０．０００２重量％以上が更に好まし
く、０．０００５重量％以上が特に好ましく、５重量％
以下が好ましく、１重量％以下がより好ましく、０．５
重量％以下が更に好ましく、０．１重量％以下が特に好
ましい。上記塩基性化合物添加量の範囲が、収率の点、
重合抑制の点及び経済性の点で好ましいThe amount of the basic compound to be added depends on the type of the vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1). 0.000 for
0.01% by weight or more, preferably 0.0001% by weight or more, more preferably 0.0002% by weight or more, particularly preferably 0.0005% by weight or more, and 5% by weight.
Or less, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less.
% By weight or less, more preferably 0.1% by weight or less. The range of the amount of the basic compound added is in terms of the yield,
Preferred in terms of polymerization suppression and economy
【００４７】本発明においては、ラジカル重合禁止剤を
共存させたり、ラジカル重合禁止剤と塩基性化合物とを
組み合わせて共存させたりすることにより、一般式
（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類をより効果的に安定化して取り扱うこと
ができる。その場合におけるラジカル重合禁止剤と塩基
性化合物の割合は特に限定されるものではなく、それぞ
れが上述の範囲内にあればよい。In the present invention, the presence of a radical polymerization inhibitor or the combination of a radical polymerization inhibitor and a basic compound allows coexistence of a vinyl ether group-containing compound represented by the general formula (1). ) Acrylic esters can be more effectively stabilized and handled. In this case, the ratio between the radical polymerization inhibitor and the basic compound is not particularly limited, and each may be within the above range.
【００４８】本発明のビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類の取り扱い方法は、ビニルエーテル
基含有（メタ）アクリル酸エステル類の重合性を損なう
ことなく保存時及び取り扱い時の重合を防止してビニル
エーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の安定性
を向上させることができることから、ビニルエーテル基
含有（メタ）アクリル酸エステル類を安定的に取り扱う
ことができ、医農薬原料、合成中間体、架橋剤、粉体塗
料用樹脂原料、更に重合性材料として接着剤、粘着剤、
生体材料、歯科材料、光学部材、情報記録材料、光ファ
イバー用材料、レジスト材料、絶縁体、封止材、印刷イ
ンキ、塗料、粉体塗料、注型材料、化粧板、ＷＰＣ、被
覆材、ライニング材、土木建築材料、パテ、補修材、床
材、舗装材ゲルコート、オーバーコート、ハンドレイア
ップ・スプレーアップ・引抜成形・フィラメントワイン
ディング・ＳＭＣ・ＢＭＣ等成形材料、シート等の用途
に広範囲の工業用途に好適に用いられる有用な化合物で
ある。The method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates according to the present invention is intended to prevent polymerization during storage and handling without impairing the polymerizability of vinyl ether group-containing (meth) acrylates. Since the stability of the group-containing (meth) acrylates can be improved, the vinyl ether group-containing (meth) acrylates can be stably handled, and raw materials for pharmaceuticals and agricultural chemicals, synthetic intermediates, crosslinking agents, Resin raw materials for powder coatings, adhesives and adhesives as polymerizable materials,
Biomaterials, dental materials, optical members, information recording materials, optical fiber materials, resist materials, insulators, sealing materials, printing inks, paints, powder paints, casting materials, decorative boards, WPCs, coating materials, lining materials For a wide range of industrial uses, such as civil engineering and building materials, putty, repair materials, flooring materials, pavement materials, gel coat, overcoat, hand lay-up, spray-up, drawing, filament winding, SMC, BMC, etc. It is a useful compound that is suitably used.
【００４９】[0049]
【実施例】以下に実施例を揚げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるも
のではない。なお、実施例中で用いられる各ビニルエー
テル基含有（メタ）アクリル酸エステル類は前記製法Ｄ
により合成した後、減圧蒸留により精製した物を用い
た。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. The vinyl ether group-containing (meth) acrylates used in the examples were prepared according to the above-mentioned production method D.
And then purified by vacuum distillation.
【００５０】実施例１ ＭＫＳ５１０型カールフィッシャー水分計（京都電子工
業株式会社製；以下「水分計」と呼ぶ。指示薬；ハイド
ラナール・コンポジット５Ｋ（ＲｄＨ Ｌａｂｏｒｃｈ
ｅｍｉｋａｌｉｅｎ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ社製）。溶
剤；脱水溶媒ＫＴ（三菱化学株式会社製））により測定
した水分量０．０１重量％のアクリル酸２−ビニロキシ
エチル１００ｇを試験管に添加し、更にメトキシヒドロ
キノン１０ｍｇを添加混合した。次いで、該試験管の気
相部に２１容量％の酸素ガス（窒素バランス）を１０分
間流通した後、該試験管を密栓した。Example 1 MKS510 Karl Fischer moisture meter (manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd .; hereinafter referred to as "moisture meter") Indicator: Hydranal Composite 5K (RdH Laborch)
emikalian GmbH & Co. KG). Solvent: 100 g of 2-vinyloxyethyl acrylate having a water content of 0.01% by weight measured with a dehydrating solvent KT (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to the test tube, and 10 mg of methoxyhydroquinone was further added and mixed. Next, 21% by volume of oxygen gas (nitrogen balance) was passed through the gas phase of the test tube for 10 minutes, and then the test tube was sealed.
【００５１】以上のように調整した試験管を８０℃の油
浴中で４０日間振とうした後、目視、ＧＣ−１７００型
ガスクロマトグラフィー（株式会社島津製作所社製；以
下「ＧＣ」と呼ぶ）、テトラヒドロフランをキャリアと
するＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ型ゲル透過クロマトグラフ
ィー（東ソー株式会社製；以下「ＧＰＣ」と呼ぶ）及び
ＲＱフレックス型過酸化物測定装置（ＭＥＲＣＫ Ｃ
Ｏ．ＬＴＤ製；以下「ＲＱ」と呼ぶ）により分析した結
果、不純物の生成及び高分子量物の生成は認められなか
ったが、２ｐｐｍの過酸化物が検出された。The test tube prepared as described above was shaken in an oil bath at 80 ° C. for 40 days, and then visually observed, GC-1700 type gas chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation; hereinafter referred to as “GC”). -8120GPC type gel permeation chromatography (manufactured by Tosoh Corporation; hereinafter referred to as "GPC") using a tetrahydrofuran as a carrier and an RQ flex type peroxide measuring apparatus (MERCK C
O. (LTD; hereinafter referred to as "RQ"). As a result, no generation of impurities and no generation of a high molecular weight substance was observed, but 2 ppm of peroxide was detected.
【００５２】実施例２〜２４ 使用したビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エス
テル類の種類、ラジカル重合禁止剤の種類及び量、酸素
濃度を変更したり、純水を加えることにより水分量を変
更したり、更に塩基性化合物を使用したりしたこと以外
は実施例１と同様の操作を行った。それらの種類及び
量、貯蔵温度、貯蔵日数、並びに目視、ＧＣ、ＧＰＣ及
びＲＱにより分析した結果を表１〜３に示す。表２及び
表３中の記載については、表１と同様である。Examples 2 to 24 The type of vinyl ether group-containing (meth) acrylate used, the type and amount of the radical polymerization inhibitor, the oxygen concentration were changed, and the water content was changed by adding pure water. The same operation as in Example 1 was performed except that the basic compound was further used. Tables 1 to 3 show their types and amounts, storage temperatures, storage days, and results of visual, GC, GPC and RQ analyses. The descriptions in Tables 2 and 3 are the same as in Table 1.
【００５３】[0053]
【表１】 [Table 1]
【００５４】表１について、以下に説明する。ビニルエ
ーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類において、
ＶＥＡとは、アクリル酸２−ビニロキシエチルであり、
ＶＥＭとは、メタクリル酸２−ビニロキシエチルであ
り、ＶＥＥＡとは、アクリル酸２−（ビニロキシエトキ
シ）エチルであり、ＶＥＥＭとは、メタクリル酸２−
（ビニロキシエトキシ）エチルであり、ＶＢＡとは、ア
クリル酸４−ビニロキシブチルであり、ＶＢＭとは、メ
タクリル酸４−ビニロキシブチルである。ラジカル重合
禁止剤において、ＭＥＨＱとは、メトキシヒドロキノン
である。塩基性化合物において、ＴＥＨＡとは、トリス
（２−エチルヘキシル）アミンである。Table 1 will be described below. In vinyl ether group-containing (meth) acrylates,
VEA is 2-vinyloxyethyl acrylate,
VEM is 2-vinyloxyethyl methacrylate, VEEA is 2- (vinyloxyethoxy) ethyl acrylate, and VEEM is 2-vinyloxy methacrylate.
(Vinyloxyethoxy) ethyl, VBA is 4-vinyloxybutyl acrylate, and VBM is 4-vinyloxybutyl methacrylate. In the radical polymerization inhibitor, MEHQ is methoxyhydroquinone. In the basic compound, TEHA is tris (2-ethylhexyl) amine.
【００５５】[0055]
【表２】 [Table 2]
【００５６】[0056]
【表３】 [Table 3]
【００５７】実施例２５ 遮光性構造物としての２００ｍＬＳＵＳ３１６製容器に
アクリル酸２−ビニロキシエチル１００ｇ、メトキシヒ
ドロキノン５ｍｇ及びトリス（２−エチルヘキシル）ア
ミン５ｍｇを添加混合した。次いで、該容器気相部を７
容量％酸素ガス（窒素バランス）により完全に置換した
後に密栓した。該容器を直射日光が当たる大阪府吹田市
の当社研究所の屋外で２０００年４月１日から１８０日
間保存した後、目視、ＧＣ、ＧＰＣ及びＲＱにより分析
した結果、不純物の生成、高分子量物の生成及び過酸化
物の生成等の品質の劣化は認められなかった。Example 25 100 g of 2-vinyloxyethyl acrylate, 5 mg of methoxyhydroquinone and 5 mg of tris (2-ethylhexyl) amine were added to a 200 mL SUS316 container as a light-shielding structure and mixed. Next, the container gas phase is
After completely replacing with a volume% oxygen gas (nitrogen balance), it was sealed. The container was stored for 180 days from April 1, 2000 outside our laboratory in Suita City, Osaka, where it was exposed to direct sunlight, and then visually, analyzed by GC, GPC and RQ. No degradation of quality such as formation of peroxides and peroxides was observed.
【００５８】実施例２６〜４３ ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類、
ラジカル重合禁止剤、塩基性化合物の種類や量並びに酸
素濃度を変更した以外は、実施例２５と同様の操作を行
った。それらの種類及び量、並びに目視、ＧＣ、ＧＰＣ
及びＲＱにより分析した結果を表４及び表５に示す。Examples 26 to 43 Vinyl ether group-containing (meth) acrylates
The same operation as in Example 25 was performed, except that the kind and amount of the radical polymerization inhibitor and the basic compound and the oxygen concentration were changed. Their type and quantity, and visual, GC, GPC
And RQ are shown in Tables 4 and 5.
【００５９】[0059]
【表４】 [Table 4]
【００６０】[0060]
【表５】 [Table 5]
【００６１】表４及び表５中について、以下に説明す
る。ラジカル重合禁止剤において、ＰＴＺとは、フェノ
チアジンである。その他の記載については、表１と同様
である。Tables 4 and 5 are described below. In the radical polymerization inhibitor, PTZ is phenothiazine. Other descriptions are the same as in Table 1.
【００６２】実施例４４ 構造物を内表面積の８５％が不透明な４フッ化エチレン
樹脂によりコートされた２００ｍＬガラス製容器とした
以外は実施例２５と同様の操作を行った。ＧＣ、ＧＰＣ
及びＲＱにより分析した結果、不純物の生成、高分子量
物の生成及び過酸化物の生成等の品質の劣化は認められ
なかった。Example 44 The same operation as in Example 25 was performed, except that the structure was a 200 mL glass container coated with opaque tetrafluoroethylene resin for 85% of the inner surface area. GC, GPC
As a result of analysis by RQ and RQ, no deterioration in quality such as generation of impurities, generation of high molecular weight substances and generation of peroxide was observed.
【００６３】比較例１ 構造物を２００ｍＬ透明ガラス製容器とした以外は実施
例２５と同様の操作を行った。目視、ＧＣ、ＧＰＣ及び
ＲＱにより分析した結果、不純物の生成、分子量１５０
０（数平均）の高分子量物の生成及び１２ｐｐｍの過酸
化物の生成が認められた。Comparative Example 1 The same operation as in Example 25 was performed, except that the structure was a 200 mL transparent glass container. As a result of visual observation, analysis by GC, GPC and RQ, generation of impurities, molecular weight of 150
Production of a high molecular weight substance of 0 (number average) and production of 12 ppm of peroxide were observed.
【００６４】参考例１ アクリル酸２−ビニロキシエチルに変えてアクリロイル
基を有さない類似骨格のビニルエーテルであるプロピオ
ン酸２−ビニロキシエチルとした以外は比較例１と同様
の操作を行った。Reference Example 1 The same operation as in Comparative Example 1 was carried out except that 2-vinyloxyethyl acrylate was replaced with 2-vinyloxyethyl propionate, a vinyl ether having a similar skeleton having no acryloyl group.
【００６５】参考例２ アクリル酸２−ビニロキシエチルに変えてビニルエーテ
ル基を有さない類似骨格のアクリル酸エステルであるア
クリル酸２−エトキシエチルとした以外は比較例１と同
様の操作を行った。Reference Example 2 The same operation as in Comparative Example 1 was carried out except that 2-vinyloxyethyl acrylate was replaced with 2-ethoxyethyl acrylate which is an acrylic ester having a similar skeleton without a vinyl ether group.
【００６６】参考例１及び２において、１８０日間保存
後、容器中の組成物を目視、ＧＣ、ＧＰＣ及びＲＱによ
り分析した結果、不純物の生成、高分子量物の生成及び
過酸化物の生成等の品質の劣化は認められなかった。以
上のことから、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル
酸エステル類の特異な性質、すなわちアクリロイル基を
有さない類似骨格のビニルエーテルやビニルエーテル基
を有さない類似骨格のアクリル酸エステルにはない性質
が理解される。In Reference Examples 1 and 2, after storage for 180 days, the composition in the container was visually inspected and analyzed by GC, GPC, and RQ. As a result, it was found that impurities, high molecular weight substances, peroxides, etc. No quality deterioration was observed. From the above, the unique properties of vinyl ether group-containing (meth) acrylates, that is, properties not found in vinyl ether having a similar skeleton having no acryloyl group or acrylic ester having a similar skeleton having no vinyl ether group, are not understood. Is done.
【００６７】[0067]
【発明の効果】本発明は、上述のような構成よりなり、
ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の
重合性を損なうことなく保存時及び取り扱い時の重合を
防止してビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エス
テル類の安定性を向上させることができることから、ビ
ニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を安
定的に取り扱うことができる。The present invention has the above-described configuration,
The vinyl ether group-containing (meth) acrylates can be prevented from polymerizing during storage and handling without impairing the polymerizability of the vinyl ether group-containing (meth) acrylates, thereby improving the stability of the vinyl ether group-containing (meth) acrylates. The group-containing (meth) acrylates can be stably handled.
Claims (5)
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度を、１５重
量％以下にして取り扱うことを特徴とするビニルエーテ
ル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の取り扱い方
法。1. The following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. The method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, characterized in that the liquid phase portion containing vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the formula (1) is treated with a water concentration of 15% by weight or less. .
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類に接触する気相部の分子状酸素濃度
を、０．０１〜１５容量％にして取り扱うことを特徴と
するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル
類の取り扱い方法。2. The following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. Wherein the molecular oxygen concentration in the gas phase in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the formula (1) is 0.01 to 15% by volume. How to handle acid esters.
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類を含む液相部の水分濃度を、１５重
量％以下、かつ、該ビニルエーテル基含有（メタ）アク
リル酸エステル類に接触する気相部の分子状酸素濃度
を、０．０１〜１５容量％にして取り扱うことを特徴と
するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル
類の取り扱い方法。3. The following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. The liquid phase part containing the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the formula (1) has a water concentration of 15% by weight or less, and the gas phase part in contact with the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester A method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, wherein the molecular oxygen concentration is adjusted to 0.01 to 15% by volume.
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類を、遮光性構造物中で取り扱うこと
を特徴とするビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸
エステル類の取り扱い方法。4. The following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. A method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, characterized in that the vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by ()) are handled in a light-shielding structure.
２は、有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は有機残基
を表す。）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）ア
クリル酸エステル類を、遮光性構造物中で、かつ該遮光
性構造物の気相部の分子状酸素濃度を０．０１〜２２容
量％にして取り扱うことを特徴とするビニルエーテル基
含有（メタ）アクリル酸エステル類の取り扱い方法。5. The following general formula (1): CH 2 ＣＲCR 1 —COO—R 2 —O—CH ＝ CH—R 3 (1) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R
2 represents an organic residue. R 3 represents a hydrogen atom or an organic residue. The vinyl ether group-containing (meth) acrylates represented by the formula (1) are handled in the light-shielding structure at a molecular oxygen concentration of 0.01 to 22% by volume in the gas phase of the light-shielding structure. A method for handling vinyl ether group-containing (meth) acrylates, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000322587 | 2000-10-23 | ||
| JP2001-53342 | 2001-02-28 | ||
| JP2001053342 | 2001-02-28 | ||
| JP2000-322587 | 2001-02-28 | ||
| JP2001300578A JP3485267B2 (en) | 2000-10-23 | 2001-09-28 | How to handle vinyl ether group-containing (meth) acrylates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002326976A true JP2002326976A (en) | 2002-11-15 |
| JP3485267B2 JP3485267B2 (en) | 2004-01-13 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2001300578A Expired - Lifetime JP3485267B2 (en) | 2000-10-23 | 2001-09-28 | How to handle vinyl ether group-containing (meth) acrylates |
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