JP2002293067A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 磁気記録層の色相を完全に隠蔽する非磁性層
が積層された隠蔽カードの製造工程において、磁気記録
層を転写工程でカード用基体へ転写形成するの剥離不良
や焼き付きを防止し、かつ磁気記録層の耐熱性や耐溶剤
性を向上させ、さらには該磁気記録層と該磁気記録層上
に形成される隠蔽層との接着性や該隠蔽層による磁気記
録層の隠蔽性能を向上させる。 【解決手段】 転写用基体上に、保護層８を兼ねた剥離
層を介して磁性層、接着剤層をこの順に積層してなる転
写用磁気記録媒体において、保護層８を兼ねた剥離層が
体積平均粒子径０．２μｍ以下の非磁性粒子、もしくは
非磁性粒子が長軸を有する粒子のときは、長軸長が０．
５μｍ以下の非磁性粒子を含有することを特徴とする転
写用磁気記録媒体を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
し、特にクレジット・カード、銀行用キャッシュカード
等、カード状の磁気記録媒体に関するものである。さら
にそのような磁気記録媒体を転写工程を経て製造する際
使用する転写用積層体に関するものである。さらには前
記磁気記録媒体を転写工程を経て製造するための、製造
方法に関するものである。

【０００２】なお本発明において、磁気記録層と磁気記
録層は同等の意味を持つものとして用いる。

【０００３】なお本発明の磁気カード用磁気記録媒体と
は、広くはカード状の形状をなした磁気記録媒体、及び
該媒体を転写工程を経て作製するのに使用される転写用
積層体を含むものであるが、特に狭義には磁気カードと
して使用され、カード状の基体にストライプ状等の磁気
記録層を含む積層体を形成した媒体であり、磁気データ
の入出力を可能とした媒体のことである。

【０００４】また転写用磁気記録媒体とは、転写用の仮
支持体上に磁気記録層を含む積層体を形成した媒体であ
り、転写工程を経て他の基体に積層体を転写させ、磁気
カード等の磁気記録媒体の製造に用いられる積層体の総
称であり、原反、シート、テープ等種々の形状のものが
存在する。

【０００５】

【従来技術】クレジット・カード、銀行用キャッシュカ
ード等に使用されているプラスチック製磁気カードは、
一般に塩化ビニールシート等の熱可塑性プラスチックか
らなるカード基体上の片面もしくは両面の一部もしくは
全体に磁気記録層（磁気記録層）が形成されている。

【０００６】これらの磁気記録層は、カード基体上に直
接に磁気塗料を塗布することによっても形成することが
出来るが、転写用基体である仮支持体フィルム上に磁気
記録用塗料を塗布してなる転写用磁気記録媒体を形成
し、しかる後に前記カード基体上に転写用磁気記録媒体
の磁気記録層を含む層を転写させる方法が、簡便性、コ
ストの点で広く用いられている。（図１．図２参照）

【０００７】転写方式によるストライプ状磁気記録層の
形成は、仮支持体上に磁気記録層と接着層をこの順に塗
布積層して、所定のストライプ幅に切断した転写用積層
体を、カード基材オーバーシート上の所定の位置にヒー
トシール等の方法で仮止めして、仮支持体を剥離後、平
圧プレス機等を用いて、オーバーシートと基材コアシー
トを積層、圧着し、同時に磁気記録層をオーバーシート
に埋め込んでいる。（図３参照）

【０００８】しかしながら、これらの磁気記録層は、も
ともと磁性粉の色から由来する黒又は茶系色を呈してお
り、カード面における文字、図案等の印刷領域を制限
し、かつデザインの自由度を制約するため、カードの審
美性の低下をもたらし、または高意匠性の妨げとなって
きた。

【０００９】このような問題に鑑み、現在までに以下の
２つの方法によりカードの審美性の向上、意匠性の向上
が計られている。

【００１０】一つは転写法により磁気記録層を形成する
場合、その転写用積層体の転写用基体である仮支持体と
磁気記録層との間に、あらかじめ積層体の一部として着
色層を積層しておき、転写工程で磁気記録層と着色層と
を同時に転写して、転写後に磁性体の色が着色層に被覆
されて表面に出ないようにする転写型カラー磁気テープ
方式であり、（図４．図５参照）もう一つは磁気記録層
を形成したカード用非磁性基体上全面に着色層、文字、
図案等の模様層及び保護層を形成することで、完全に磁
気ストライプを隠してしまう隠蔽カード方式である。
（図６参照）

【００１１】特にカードに関する後者の隠蔽カード方式
の方法は、前者に比べて磁気カードのデザインの自由度
がより大きいため、磁気記録層をカードのおもうて面側
に有するＪＩＳ Ｘ ６３０２付属書に規定される「お
もて面磁気ストライプ付き識別カード｛保磁力：５２ｋ
Ａ／ｍ（６５０エルステッド）｝」に準拠したカードに
多く用いられ、これに関わるカード作成方法等が数多く
提案されている。隠蔽カードは、磁気記録層上に着色
層、模様層等の隠蔽層が積層されるため、磁気記録層か
らの再生出力が低下し易い、そこで磁気記録層用の磁性
粉として、再生出力と分解能の高いマグネトプランバイ
ト型フェライト粒子粉末が好適に用いられている。

【００１２】隠蔽カードは、磁気カード用基体のおもて
面の全面または一部に情報記録用のストライプ状磁気記
録層２（磁気記録領域）が転写方式で形成され、その磁
気記録層の色相を完全に隠蔽するように更にその外側
に、塗布・印刷方法もしくは転写・積層方法により、着
色層６、文字、図案等の模様層７、保護層８が形成され
ている。（図６参照）

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】以上の磁気ストライプ
の製造工程においては、転写用磁気記録媒体をカード基
材オーバーシートの上に仮止めして仮支持体を剥離する
工程において、仮支持体が磁気記録層との界面からきれ
いに剥離せず、仮支持体が切れたり、磁気記録層が一部
仮支持体に残存する剥離不良が発生することがある。

【００１４】また、オーバーシートに仮留めされ、仮支
持体が磁気記録層との界面から剥離除去された磁気記録
層を含む磁気ストライプ部分は、プレス工程においてオ
ーバーシートに埋め込みを行うために鏡面板を用いて温
度１４０〜１５０℃、圧力１５〜３５ｋｇ／ｃｍ²、時
間５〜３０分の条件で熱圧プレスが行われる（図３参
照）。その際、磁気ストライプは直に前記鏡面板に接触
するため影響を受け易く、鏡面板への磁気ストライプの
焼き付きによる磁気ストライプ表面の荒れ、または磁気
ストライプが剥がれ落ち鏡面板へ移行する等の磁気スト
ライプの損傷が発生することがある。

【００１５】本発明者らは、このように、カード用基体
へ磁気記録層を転写工程を経て形成するときに発生する
問題が、磁性材粒子の大きさに起因しており、磁気記録
層の表面粗さが粗く、磁気記録層の空隙が大きい時によ
り顕著に発生することを見出した。磁気カードへの磁気
記録において、前述のおもて面磁気ストライプ規格「Ｊ
ＩＳ Ｘ ６３０２：１９９９」、うら面磁気ストライ
プ規格「ＩＳＯ／ＩＥＣ７８１１−６：１９９６」に示
されている通り、その記録密度はビデオ、データストレ
ージ用途の磁気記録方式に比較してきわめて低く、この
ため、磁気カードに使用される磁性粉は、一般的にオー
ディオテープ、ビデオテープ等に使用される磁性粉と比
較して粒径が大きい。

【００１６】従来のビデオ用、オーディオ用等の針状で
ＢＥＴ値の大きい磁性体を使用した磁気記録層は、磁性
体が均等に分布しており、かつ緻密な塗膜を形成してい
る。それに対して、カード用磁性材料は磁性材料の粒径
が大きいため、磁気記録層表面に凹凸が多く、また空隙
が出来やすい。また磁性粒子が大きいので、磁気記録層
中に磁性粒子や樹脂の偏在部分が起きやすく、樹脂の偏
在部分を中心に焼き付きや剥離不良が起きやすい。すな
わち樹脂の偏在部分により、結着剤樹脂と仮支持体表面
の密着面積が増すことにより、転写工程において磁気記
録層から仮支持体を除去するために要する剥離力を過大
になる。さらに、オーバーシートへの埋め込み工程にお
いて、樹脂分の多い箇所を中心に、プレス機の鏡面に磁
気記録層表面が融着を起こしやすく、かつ、結着剤とし
ての樹脂分の少ない部分に引っ張り応力がかかると、塗
膜破壊を起こしやすい。

【００１７】特に近年、磁気カードの意匠性を向上させ
るために、磁気記録層上の着色層、模様層などが多層に
形成されるに及び、再生出力や分解能の低下を補うべ
く、磁気記録層にマグネトプランバイト型フェライト等
の特定の六方晶フェライト磁性材を用いることが行われ
ており、これら粒径の大きい磁性材粒子を用いた時は、
転写時の剥離不良や、プレス時の焼き付きが特に発生し
やすかった。実際、磁気カード用磁気記録層に用いられ
る六方晶フェライト（マグネトプランバイト型フェライ
ト）磁性材は、ＢＥＴ値で３ｍ²／ｇ〜１０ｍ²／ｇ、平
均板径が０．３〜１．０μｍと高密度記録目的のデータ
ストレージ用磁性材と比較すれば平均板径においても１
０倍ほど大きい板状磁性体が使用される。これは、従来
からの隠蔽カード用磁気記録層に用いられているＢＥＴ
値約２５ｍ²／ｇ、平均長軸長約０．７μｍ、針状比１
０〜１５のコバルト被着ガンマ酸化鉄（Ｃｏ被着γ−Ｆ
ｅ２Ｏ３）磁性材と比較しても、より粒子径の大きい磁
性材となっている。

【００１８】このような問題を解決する手段としては、
磁気記録層に、対鏡面板焼き付き性と剥離性を与える方
法がある。実際、磁性粉分散性に優れかつガラス転移点
の高い結着剤樹脂を用いて、さらにポリイソシアネート
系硬化剤を添加し、熱硬化反応により磁気記録層の塗膜
内の前記結着剤樹脂を架橋させ、磁気記録層の耐熱性と
耐溶剤性を高めることができる。しかしながらこれら加
熱プレス時の耐熱性、や転写時の仮支持体の剥離性と、
磁気記録層の結着樹脂としての磁性粉の良好な分散性を
同時に満たす樹脂を選定ことは困難であった。

【００１９】一方また、剥離不良や焼き付きの原因とな
る、磁気記録層表面の粗さ及び表面の空隙は、磁性材に
対する結着剤樹脂の比率を増すことにより軽減される、
しかしながら結着剤樹脂の増量は磁気記録層の再生出
力、分解能の低下の原因となる。特に、磁気記録層と磁
気ヘッドとの間に隠蔽層が存在し、再生出力の点で不利
な隠蔽カード用磁気記録層に対しては好ましい方法では
ない。

【００２０】このような磁気ストライプ形成上の問題を
解決する手段として、転写用磁気記録媒体の磁気記録層
と転写用仮支持体との間に、耐熱性に優れた樹脂を用い
て保護層を兼ねた剥離層を形成し、仮支持体の剥離を容
易にするとともに、転写後に磁気記録層の上に保護層を
形成して、磁気記録層表面の凹凸や空隙を充填して、塗
膜を緻密にするとともに、その表面状態を平滑化し、塗
膜破壊に対する耐性を持たせることが行われる。このよ
うな転写用磁気記録媒体は、カード用基体に仮止めされ
て、仮支持体を剥離された後、該剥離層を兼ねた保護層
が磁気記録層上に残り、磁気記録層上の凹凸や空隙を被
覆、充填するため、以後の磁気記録層表面の加熱加圧工
程で焼き付きや塗膜破壊を起こす事がない。

【００２１】これら保護層を兼ねた剥離層は、必要とさ
れている耐熱性や耐久性を満たすため、アクリル樹脂、
ポリブチラール樹脂、セルロース系誘導体樹脂等の樹脂
を主体とし、ポリイソシアネート系硬化剤を添加し、熱
硬化反応に反応により前記樹脂を架橋している。これら
の樹脂は、Ｔｇが高いため耐久性、耐熱性に優れ、樹脂
が剛直性に優れている。さらにこのため仮支持体剥離時
は、仮支持体と、剥離層を兼ねた保護層の界面に応力が
集中し易いので剥離性が良い。このためこれら手法は、
磁気ストライプ上に着色層や模様層を形成しないタイプ
のカード用磁気記録媒体もしくは、該カード用磁気記録
媒体形成用の転写型磁気記録媒体の場合に使用すること
ができる。

【００２２】一方隠蔽型カード用磁気記録媒体では、基
本的には転写工程等で形成した磁気ストライプ上に、着
色層、模様層等の隠蔽層を積層することができるが、隠
蔽層の積層に際して磁気記録層を含む磁気ストライプ部
分が以下のような特性を持つべき事が判っている。

【００２３】すなわち、プレス後の磁気記録層上に着色
層を形成するにあたり、特に印刷で形成する場合には、
着色層中の溶剤が磁気ストライプ部に浸透することがあ
り、浸透した溶剤により磁気ストライプに使用している
結着剤樹脂が膨潤、溶解し、オーバーシート部分と磁気
ストライプ部分とで、色相、光沢、表面状態の違いが発
生することがある。もしくはプレス工程においてオーバ
ーシート上に埋め込み平坦化された磁気ストライプ表面
が気泡を形成するように浮き上がったり、結着剤樹脂溶
解による磁性粒子の乱れによって磁気特性に悪化を与え
ることもある。したがって、磁気記録層を含む磁気スト
ライプは、上記事態を防ぐための耐溶剤性が求められ
る。

【００２４】また、磁気記録層を含む磁気ストライプ
は、オーバーシートへの磁気ストライプ埋め込み工程に
使用される鏡面板の表面性がプレス時の熱、圧力により
転写されるため、埋め込み後は周辺のカード基材部と同
じうねり形状となる。しかしながら磁気ストライプが元
々持つ細かい表面の粗さはこのプレス工程で鏡面板によ
り消されることはなく、カード基材と異なった形状が残
り、これが前述の完成した隠蔽カードの磁気ストライプ
部と周辺のカード基材部との色相、模様などの外観の相
違となって、着色層、模様層等の隠蔽層による隠蔽性を
阻害する。このため磁気ストライプ表面の表面粗さが平
滑であることが要求される。

【００２５】さらにまた磁気記録層を隠蔽する、着色層
や模様層等の隠蔽層は、密着性よく磁気ストライプ上に
転写され、剥離しないようにしっかりと固着されていな
ければならず、磁気ストライプ部分はこれら隠蔽層と良
好な密着性、接着性を持っていなければならない。

【００２６】上記隠蔽層の積層に際しての、磁気記録層
の必要特性を満たすためには、磁気記録層を多機能化す
るよりも、磁気記録層上隠蔽層との間に、中間層として
上記機能を果たす層を設置することが有効である。そし
てまた、該中間層としては、焼き付きや剥離不良を防ぐ
ため、磁気ストライプ形成時に、転写工程で磁気記録層
上に形成される、剥離層を兼ねた保護層がそのまま利用
できることが好ましい。しかしながら、前記剥離層を兼
ねた保護層を隠蔽型カード用磁気記録媒体の中間層とし
て用いるには、該中間層にたいして、もともとの剥離層
を兼ねた保護層として果たしていた機能に加えて、さら
に隠蔽層用の中間層としての上記機能を果たすべく、多
機能化のための設計をしなくてはならない。

【００２７】このような多機能を要求される中間層とし
て、従来の磁気ストライプ形成時に磁気記録層上に形成
される、保護層を兼ねた剥離層をそのまま使用すると、
これら保護層を兼ねた剥離層は、転写時の仮支持体の剥
離性、磁気ストライプをオーバーシートへ埋め込む時の
対鏡面板焼き付き性を満たし、さらに隠蔽層を積層する
ときの耐溶剤性、を満たすことができる。しかしながら
該保護層はＴｇが高いため、隠蔽層との界面に応力が集
中し易く、完成後の隠蔽カードから着色層、模様層など
の隠蔽層が剥離する問題を有している。さらには、次工
程の着色層の印刷において、保護層の耐溶剤性が優れる
あまりに埋め込まれた磁気ストライプとオーバーシート
の境界部分のみにインキが浸透することによる印刷イン
キの偏りが生じて、隠蔽カード完成後に外観上磁気スト
ライプのエッジ部分に対応するスジが残り、磁気ストラ
イプの隠蔽性に問題を有している。

【００２８】すなわち、従来の転写用磁気記録媒体の、
保護層を兼ねた剥離層は、耐熱性と耐久性、剥離性、を
満たすためにＴｇの高い樹脂で構成される。これをその
まま隠蔽型のカード用磁気記録媒体の中間層として採用
すると、着色層、模様層等の隠蔽層と磁気記録層との接
着強度や隠蔽層の隠蔽性に障害が起きやすい。一方、着
色層、模様層等の隠蔽層との密着性、隠蔽層による隠蔽
性が満たされるように樹脂を選定すると、磁気ストライ
プの耐熱性や、磁気ストライプをカード用基体上に形成
するときの、仮支持体からの剥離性を満たすことができ
ない。通常、樹脂のみからなる中間層で、耐久性、耐熱
性を実現しようとすると、Ｔｇの高い樹脂を選定しなく
てはならず、使用できる樹脂の種類が大幅に制約される
ため、中間層上に積層される、着色層、模様層などの隠
蔽層との密着性、接着強度さらには磁気ストライプの隠
蔽性等を全て同時に満たす樹脂を選定することはできな
い。このように中間層の配合設計を行うにあたり、中間
層の満たすべき機能を使用樹脂の特性にのみ依存したの
では、中間層に必要とされる多くの機能の全ては満たす
ことが出来なかった。

【００２９】また、近年クレジットカード等うら面に磁
気ストライプを有するカードに対しても文字情報の増
大、意匠性の向上、審美性の向上が求められるようにな
っている。そのため磁気記録層上に着色層を設けたカラ
ー磁気ストライプ、さらに磁気記録層上に着色層、模様
層を設けたロゴ付き磁気ストライプが使用されるように
なり、さらに今後はおもて面同様に磁気記録層を含むカ
ード全面に着色層、模様層、保護層を設けた隠蔽カード
化がうら面に対しても求められることが予想される。し
たがって、前述のカードおもて面において高分解能磁気
記録層を使用して隠蔽カードを製造する場合に発生する
問題は、カードうら面の高保磁力磁気記録層に対して隠
蔽カードを製造する場合にも同様に発生する。しかしな
がら、このような磁気記録層上で、その機能を満たす中
間層の適切な配合や構成の指針は明らかになっていなか
った。

【００３０】すなわち本発明の目的とするところは、非
磁性支持体上に形成された磁気記録層上に、磁気記録層
の色相を完全に隠蔽する非磁気記録層が積層された隠蔽
カードの製造工程において、一つには磁気記録層を転写
工程でカード用基体へ転写形成する際の、該磁気記録層
の転写容易性や耐熱性や耐溶剤性を向上させ、該転写工
程での剥離不良、焼き付き等の障害発生を改善する目的
のために、さらには該磁気記録層と該磁気記録層上に形
成される着色層、模様層等の隠蔽層との接着性や、該隠
蔽層による磁気記録層の隠蔽性を良好にする目的のため
に、磁気記録層上に予め積層して形成される多機能な中
間層の設計を可能にする、該中間層の基本構成もしく
は、該基本構成を持つ中間層を形成するための転写型磁
気記録媒体を提供することである。さらには該転写型磁
気記録媒体を用いて作製される該中間層を持つカード用
磁気記録媒体、もしくはその製造方法を提供することで
ある。さらに本発明の目的は、特に磁性材料がマグネト
プランバイト型フェライト粒子粉末（六方晶フェライト
磁性材）の場合の前記転写型磁気記録媒体や前記カード
用磁気記録媒体、もしくは前記カード用磁気記録媒体の
製造方法を提供することである。

【００３１】

【課題を解決するための手段】すなわち、発明者らは、
前記課題を解決するために、転写用基体上に、保護層を
兼ねた剥離層を介して磁気記録層、接着剤層をこの順に
積層してなる転写用磁気記録媒体において、該保護層を
兼ねた剥離層が体積平均粒子径０．２μｍ以下の非磁性
粒子、もしくは非磁性粒子が長軸を有する粒子のとき
は、長軸長が０．５μｍ以下の非磁性粒子を含有するこ
とを特徴とする転写用磁気記録媒体を提供する。さらに
発明者らは、非磁性基体上に形成された磁気記録層上に
磁気記録層の色相を隠蔽する非磁気記録層が積層された
磁気記録媒体において、該磁気記録媒体が、前記非磁気
記録層と磁気記録層の間に、非磁性粒子を含有する中間
層を有してなり、かつ該非磁性粒子が、体積平均粒径
０．２μｍ以下の非磁性粒子、もしくは長軸長０．５μ
ｍ以下の長軸を有する非磁性粒子であることを特徴とす
る磁気記録媒体を提供する。さらにまた、非磁性支持体
上に形成された磁気記録層上に、磁気記録層の色相を完
全に隠蔽する非磁気記録層が積層された磁気記録媒体の
製造方法であって、該磁気記録層を前記構成からなる転
写用磁気記録媒体を用いた転写工程を経て形成する磁気
記録媒体の製造方法を提供する。

【００３２】非磁性支持体上に形成された磁気ストライ
プ上に、さらに着色層、模様層、保護層等を有してなる
カード用磁気記録媒体であって、磁気記録層を含む磁気
ストライプを転写工程を経て形成する磁気記録媒体の磁
気記録層上に、前記特性の非磁性粒子を含有する中間層
を形成することによって、磁気ストライプの耐熱性、耐
久性が向上する。さらには転写用磁気記録媒体の剥離層
を兼ねた保護層に一定粒径の非磁性粒子を添加すること
により、該保護層と仮支持体との界面の樹脂量が減少す
るため剥離性が向上する。このため、中間層に使用され
る結着剤樹脂のＴｇが低く、樹脂だけでは磁気ストライ
プの埋め込み工程で必要とされる耐熱性を実現しえない
ような場合でも、一定粒径の非磁性粒子を含有する本発
明の構成とすることで耐熱性と耐久性と剥離性を確保す
ることができる。

【００３３】非磁性粒子の添加によって、樹脂の耐熱性
等を上昇させる前記方法を用いると、保護層に使用する
樹脂の選定については、樹脂自体の耐熱性や耐久性を制
約条件として設けずに、隠蔽層との接着性や、隠蔽層の
隠蔽性に適した樹脂を選定することができ、中間層に使
用できる結着樹脂の選定の自由度が大幅に拡がる。この
ため、保護層を多機能化した設計をすることが可能とな
る。さらに非磁性粒子の粒径が０．２μｍ以下、非磁性
粒子が長軸を有する粒子のときは長軸長が０．５μｍ以
下のため、該転写用磁気記録媒体で形成された磁気記録
層上の中間層の表面粗さは、中間層の無いときの磁気記
録層の表面粗さより平滑にできる。このため隠蔽層を形
成したときにカード用基体部分と中間層のある磁気スト
ライプ部分とで色相の差が生じにくく、隠蔽性に優れて
いる。

【００３４】本発明による転写用磁気記録媒体を用いる
ことにより、磁気記録層、保護層を含む磁気ストライプ
の転写工程、磁気ストライプのカード用基体への埋め込
み工程、もしくはその後の着色層、模様層等の印刷工程
において、磁気記録層が焼き付いたり、磁気記録層が着
色層の印刷用塗料の溶剤に侵されたりすることがなく、
かつ隠蔽層との接着性に優れ、隠蔽層の隠蔽性を阻害し
ない多機能な中間層を設計し、形成することができ、さ
らには該中間層を磁気記録層上に形成するための転写用
磁気記録媒体を設計、作製することができる。また該転
写用磁気記録媒体を用いて良好な特性の隠蔽型のカード
用磁気記録媒体を形成できることができる。

【００３５】さらに発明者らは、中間層、もしくは剥離
層を兼ねた保護層が２０〜８０重量％の結着剤樹脂を含
有することで、耐熱性や、剥離性をより良好に実現で
き、さらには使用される結着剤樹脂が、隠蔽層と相互溶
解性を持つ同系統の樹脂を用いることによって、耐熱性
と共に、磁気ストライプとその他の部分に色相の差がな
く、隠蔽層との密着性の良い保護層が形成出来ることを
見出し、また特に結着剤樹脂が塩化ビニル樹脂もしくは
アクリル樹脂であるときに効果が顕著であることを見い
だした。さらにまた発明者らは、特に磁気記録層がマグ
ネトプランバイト型フェライト粒子粉末からなる磁性粒
子を用いたものであるときに、該磁気記録層が隠蔽層に
よる再生出力や分解能の低下が少なく、隠蔽型磁気記録
媒体の磁気記録層として最適であり、かつこのような磁
気記録層上に形成される保護層を有する磁気記録媒体と
して、本発明の構成を持つ磁気記録媒体が適しており、
耐熱性、耐溶剤性等の効果が顕著に発現されることを見
出した。

【００３６】

【発明の実施形態】以下に本発明を詳細を詳細に述べる
と共に、その実施形態の一つを記載する。本発明におい
ては、転写工程を経て隠蔽型カード用磁気記録媒体を製
造する上で、前記の種々の問題を解決する方法として磁
気記録層と隠蔽層の間に中間層を設ける。磁気記録層と
隠蔽層との間の中間層は、保護層を兼ねた剥離層を有す
る転写用磁気記録体を用いて、転写工程によって該保護
層を転写させ、これを中間層として用いることができ
る。該転写用磁気記録媒体は転写用基体上に保護層を兼
ねた剥離層を介して、磁気記録層、必要であれば接着剤
層をこの順で積層して形成される。このように磁気記録
層表面の凹凸や空隙を埋めて隠蔽層との間に中間層を設
けることにより、両層境界面の平滑化を行うことがで
き、任意の表面状態を、要求されている機能に合わせて
磁気層上中間層の表面に形成することが出来る。さらに
中間層の構成を検討することにより、隠蔽型カード用磁
気記録媒体に必要な種々の特性を持たせることができ
る。

【００３７】転写用磁気記録媒体の保護層を兼ねた剥離
層に、含有される非磁性粒子の体積平均粒子径は０．２
μｍ以下で、また非磁性粒子が長軸を有する粒子の場合
は、平均長軸長が０．５μｍ以下である。より好ましく
は通常の非磁性粒子の場合は０．００５〜０．２μｍ、
長軸を持った非磁性粒子の長軸長の場合は０．０５〜
０．４μｍがより好ましい。このような小粒径の非磁性
粒子を含有させることによって、大きな粒径の磁性粒子
間の間隙が該中間層に有効に隠蔽され、磁気記録層表面
の表面粗さが改善されるとともに、転写後の中間層に耐
熱性を付与することができる。さらに該中間層を磁気記
録層とともに転写工程で、カード用基体上に転写すると
きに、剥離層を兼ねた保護層に含有される非磁性粒子の
ため、転写用仮支持体との界面の樹脂量が減少し、良好
な剥離性を持つ剥離層を形成することができる。非磁性
粒子の体積平均粒径が０．２μｍより大きく、長軸を有
する非磁性粒子の長軸長が０．５μｍより大きい非磁性
粒子を中間層に含有させると、中間層の表面が平滑化さ
れずに表面粗さが粗くなる。このため磁気記録層表面の
凹凸や磁気記録層中の空隙を充填する効果があがらず
に、磁気ストライプ埋め込み工程時の焼き付きが発生し
易く、剥離性も改良されない。また、カード基材の表面
粗さとの差が生じ、この上に隠蔽層を形成したときに、
磁気ストライプ部分と、周囲のカード基材部分との色調
の違いとなってカードの美観を損ねるため好ましくな
い。さらにこれら非磁性粒子の粒径が小さすぎると、非
磁性粒子の添加効果が減殺され、耐熱性を向上させる効
果に乏しい。剥離性も悪化する。

【００３８】転写用磁気記録媒体の剥離層を兼ねた保護
層には非磁性粒子を高い含有量で充填するほうが転写に
よって形成される中間層の塗膜強度、耐熱性が向上する
ため、中間層の表面粗さを低下させない範囲で、非磁性
粒子の含有量を高くすることが効果的である。このため
には、非磁性粒子と結着剤樹脂の比率は、結着剤樹脂が
２０〜８０％を占めるのが好ましい。結着剤樹脂の比率
が２０％以下であると非磁性粒子が多すぎて、樹脂によ
る表面上の凹凸、空隙の充填効果少なくなり、樹脂分が
少なくなって内部破壊が生じ、また凸部を中心に焼き付
きが起こりやすい。さらに中間層の表面粗さが粗くな
り、隠蔽層を形成したときにカード基材部分との色調の
差となって現れるため好ましくない。また結着剤樹脂の
比率が８０％を超えると、非磁性粒子の含有量が低下す
るため、耐熱性向上効果が減殺され、転写された磁気記
録層をオーバーシートに埋め込む加圧、加熱工程での、
磁気記録層の焼き付きを防止できない。また仮支持体と
の境界面の樹脂が増加するため剥離性が悪化する。さら
に転写用積層体における保護層としては、仮支持体との
界面における樹脂量が多くなるため剥離性が悪化する。

【００３９】中間層に使用する結着剤樹脂は、隠蔽性を
満たすためにはカード用基体に使用されている樹脂と相
互溶解性を有する同系統の結着剤樹脂を使用することが
望ましく、また着色層との密着性を満足させるために
は、着色層に使用されている樹脂と相互溶解性を有する
同系統の結着剤樹脂を使用することが望ましい。着色層
用の樹脂には中間層と相互溶解性を有する樹脂を用いる
ことが容易であるため、カード用基体に通常使用される
樹脂を勘案して、中間層には塩化ビニール系樹脂、アク
リル系樹脂が最も好適に用いられる。これら樹脂のＴｇ
は０℃〜１００℃の範囲と低いが、非磁性粉末を中間層
に含有させることによって使用可能な領域に耐熱性を向
上させており、剥離性も向上させている。

【００４０】本発明において、磁気記録層に含有される
磁気記録用磁性粉がマグネトプランバイト型フェライト
粒子粉末であるときは、中間層を設ける事による効果が
より顕著に発揮される。すなわち該フェライト粒子粉末
は、高再生出力、高分解能で様々な保磁力に調整可能で
あり、かつ環境安定性に優れており、隠蔽カード用の磁
気記録層の磁性材料として優れた特性を保有するにもか
かわらず、磁気カード用に使用される磁性材の粒径が従
来の酸化鉄に比較して大きいため、磁気記録層表面の凹
凸、空隙の発生に伴う問題が致命的となっていた。

【００４１】すなわち、近年使用率が高くなった六方晶
フェライト磁性材は従来のコバルト被着ガンマ酸化鉄よ
り隠蔽カードの対鏡面板焼き付き性、着色層の色相の変
化の点で劣っており、さらに磁気記録層の形成に転写用
積層体を用いる場合、オーバーシート上に転写用積層体
を仮留めし、しかる後に転写用積層体から仮支持体を剥
離除去するために要する力、すなわち剥離力が過大とな
り剥離除去工程が円滑に進まないばかりか、仮支持体除
去後の磁気記録層表面の損傷、仮支持体それ自身の剥離
不全を起こし磁気記録層表面に残存するという問題が起
きやすかった。

【００４２】これは、六方晶フェライト系板状磁性材で
は、磁場配向処理前は等方的に分布していた磁性体が処
理後に、配向方向に沿ってスタッキングを起こし数珠つ
なぎ状態になることに起因する。これにより塗膜中には
平面的に見ると数珠つなぎを形成している磁性材部分の
密度の高い部分と、隣合う磁性材同士の間の隙間で、磁
性材と結着剤樹脂の極めて希薄な疎の部分が形成され
る。この疎の部分すなわち空隙が、カード用磁性体のよ
うに粒子形状が大きい磁性体のときは、単位開口面積が
広くなり、これにより塗膜強度の低下、印刷インキ中溶
剤の塗膜への浸透拡散を助長し、加工適正の悪化、品質
の劣化をきたす。

【００４３】しかしながら、本発明の構成を有する転写
用磁気記録媒体、カード用磁気記録媒体を適用すること
により、六方晶フェライト磁性材のような粒径の大きな
磁性粉による磁気記録層であっても、その上の中間層上
に平滑な表面状態を形成し、かつ高い塗膜強度を実現す
ることで、上記問題の回避が可能となり、さらに隠蔽層
による磁気ストライプ部分の隠蔽性や、磁気ストライプ
部分と隠蔽層の密着性をも同時に満たす設計を取ること
が出来るので、特性の優れたマグネトプランバイト型フ
ェライト粒子粉末を隠蔽カードに使用することができ
る。

【００４４】中間層の層厚は、磁気記録層の再生出力と
分解能を低下させないよう、本来の目的を実現する限り
においてできるだけ薄いことが好ましい。特に隠蔽カー
ドにおいては、磁気記録層表面と磁気カード表面に接し
磁気記録を行う磁気ヘッドとの間の距離、すなわち中間
層及び隠蔽カード製造時に付設される着色層、模様層、
保護層などの合計の厚みは記録信号読み出し時の再生出
力と分解能に影響を与える。したがって、再生出力と分
解能の低下を抑制するためには、隠蔽カードのデザイン
と無関係な磁気記録層上の中間層の厚みを出来るだけ薄
くする必要があり、一般にオフセット印刷、グラビア印
刷等の１印刷版による模様層の厚みは１μｍであること
を考慮して、中間層の厚みは０．０５〜２μｍ、が好ま
しく、さらに好ましくは、０．２〜１μｍの範囲であ
る。使用される非磁性粉末を高充填化し中間層の塗膜強
度を高めることにより、上記中間層厚み範囲においてよ
り薄い中間層を達成できる。

【００４５】以下、本発明の実施形態の一つとして隠蔽
方式の磁気カードの磁気記録媒体、もしくはこれら磁気
記録媒体の転写工程を経た製造に用いられる転写用磁気
記録媒体の基本的な構成について、図を参照しながら説
明する。ただしここに示す隠蔽方式磁気カードの構成は
一例であり、本発明においてもっとも重要な点は着色
層、模様層、保護層などを総称する隠蔽層と磁気記録層
の間に中間層を設けることであり、上記隠蔽層に意匠
性、審美性向上を目的にいかなる層を設けてもよい。

【００４６】磁気カードの基体１ａ、１ｂ，１ｃ，１ｄ
は、例えばポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
塩化ビニル、あるいはポリエステル樹脂を主体とし、図
３の如く４枚（１枚または数枚の場合もある）のシート
が熱融着され形成されている。基体の厚みに関しては日
本工業規格（ＪＩＳ Ｘ６３０１）”識別カード”によ
って定められており最大０．８０ｍｍ最小０．６８ｍｍ
の範囲である。

【００４７】磁気カードの基体は、例えば、厚み２５０
μｍの白色不透明のコアシート１ｃ，１ｄの２枚を厚み
１００μｍの透明なオーバーシート１ａ，１ｂの各１枚
でコアシートの両面をサンドイッチし熱プレスする事に
より加熱圧着し熱融着され形成されるが、コアシート、
オーバーシートの厚みは完成したカードの総厚みが前記
の日本工業規格（ＪＩＳ Ｘ６３０１）”識別カード”
の規格内であれば特に限定するものではない。また、各
コアシート、オーバーシートにはあらかじめ磁気記録層
や着色層、模様層等の非磁気記録層が形成されていても
よい。

【００４８】またＩＤカードにおける磁気ストライプの
規格は、磁気カードのおもて面に関するものとして、Ｊ
ＩＳ Ｘ ６３０２付属書に規定される「おもて面磁気
ストライプ付き識別カード｛保磁力：５２ｋＡ／ｍ（６
５０エルステッド）｝」、そして磁気カードのうら面に
関するものとして「ＩＳＯ／ＩＥＣ ７８１１−２：１
９８５（初版）｛保磁力：２３ｋＡ／ｍ（３００エルス
テッド）のＬｏｗ Ｃｏｅｒｃｉｖｉｔｙ（低保磁力）
を有する磁気記録層｝」、「ＩＳＯ／ＩＥＣ ７８１１
−６：１９９６（日本語訳版：ＪＩＳ Ｘ ６３０２：
１９９９）」に規定される「うら面磁気ストライプ付き
識別カード」｛保磁力２００ｋＡ／ｍ（２５００エルス
テッド）〜３３５ｋＡ／ｍ（４２００エルステッド）の
ＨｉｇｈＣｏｅｒｃｉｖｉｔｙ（高保磁力）を有する磁
気記録層｝の大別して２種類がある。

【００４９】磁気カードの一方の面に磁気ストライプが
設けられ着色層、模様層、保護層を総称する隠蔽層が設
けられる場合、図９のように基体のおもて面の全面また
は一部に情報記録用の磁気記録層２（磁気記録領域）が
形成され、更にその外側に着色層６、文字、図案等の模
様層７、保護層８が形成されている。また、隠蔽方式磁
気ストライプがおもて面／うら面のどちらの面に設けら
れる場合であっても使用される磁気記録層の磁性材の種
類以外の構成は共通である。更に本発明における中間層
Ｂは、上記の磁気記録層２と着色層６の間に設けられ
る。また、磁気ストライプおよびその上の隠蔽層は、上
記識別カードのおもて面／うら面のどちらか一方のみが
使用される場合もあれば、両方へ同時に使用される場合
もある。裏面へ磁気記録層を形成したときの、意匠性付
与のための着色層、模様層等の形成は基本的に表面と同
様に行うことができる。図９に示す表面の構成が、その
まま裏面に対しても可能である。

【００５０】また、磁気記録層が設けられなかった反対
側のカード面には、カード基体１ｄに各種印刷手段によ
り、文字、図案等の模様層７が施され、基体１ａまたは
１ｂの透明シートにより、これらの模様層部分が保護さ
れている。また、上記においてカード基体１ｃまたは１
ｄと模様層７の間に必要に応じて着色層６等を設けても
よい。模様層７を有するカード基体は、たとえばあらか
じめ１ｄ上に模様層を塗布、転写等で形成した基体を、
他の基体１ｃ、１ａ、１ｂ等と融着することにより得る
ことができる。

【００５１】磁気カードの基体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ
には公知のものがいずれも使用できる。例えば、ポリ塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチ
レン共重合体、木材、紙等が使用できるが、強度があ
り、繰り返し使用に耐えられるものがより好ましい。

【００５２】またオーバーシート１ａまたは１ｂ上に形
成される磁気記録層２または１０の形成方法には、転写
用磁気記録媒体を用いる方式が従来から汎用性、経済
性、製造安定性で特に優れているため主に使用されてい
る。

【００５３】以下に図７、８を参照しつつ、本発明の実
施形態の一つである磁気記録用転写積層体の構成を説明
する。

【００５４】本発明における磁気記録用転写積層体は転
写用基体である仮支持体フィルム３上に本発明の中間層
Ａ、磁気記録層２、好ましくは接着剤層４を順に塗布形
成する。この中間層、磁気記録層、接着剤層を塗布形成
した仮支持体フィルムを所定幅に裁断し、所望幅の磁気
記録層用転写積層体テープを得る。カード用基体１ａま
たは１ｂ上にこの磁気記録用転写積層体図８の接着剤層
を前記カード用基体に接する用に重ね、熱板などを用い
て仮支持体側から熱を与え前記接着剤層とカード用基体
を溶融接着させ、その後に仮支持体を剥離除去すること
によりカード基体上に前記中間層を最上層表面とする磁
気記録層２を含む層をストライプ状に転写形成する（図
７．図８参照）。

【００５５】さらに次に本発明の、磁気カードの磁気記
録媒体、もしくはこれら磁気記録媒体の転写工程を経た
製造に用いられる転写用磁気記録媒体の各構成材料につ
いて詳細に説明する。まず以下に本発明で使用される中
間層、磁気記録層の構成、形成方法について、転写用積
層体の構成を追いながら述べる。

【００５６】本発明の中間層に用いられる無機粉末は、
非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、
金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等
の無機化合物から選択することができる。無機化合物と
しては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−ア
ルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸
化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、、ヘマタイト、
ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイ
ト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシ
ウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ
素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸
バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで
使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機
能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのはα
酸化鉄、二酸化チタンである。これら無機粉末の体積平
均粒子径は０．２μｍ以下で、また非磁性粒子が長軸を
有する粒子の場合は、平均長軸長が０．５μｍ以下であ
る。より好ましくは通常の非磁性粒子の場合は０．００
５〜０．２μｍ、長軸を持った非磁性粒子の長軸長の場
合は０．０５〜０．４μｍがより好ましい。無機粉末の
含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量
％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。無機
粉末の比表面積は１〜１００m2 /g、好ましくは５〜８
０m2 /g、更に好ましくは１０〜７０m2 /gである。

【００５７】本発明の中間層に用いられる非磁性粉末の
具体的な例としては、アルミナとして住友化学製ＡＫＰ
−５０（平均粒子径0.16μｍ）、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ
−３０、ＨＩＴ−５５（平均粒子径0.20μｍ）、ＨＩＴ
−６０、ＨＩＴ−７０（平均粒子径0.15μｍ）、ＨＩＴ
−８０、ＨＩＴ−１００（平均粒子径0.11μｍ）レイノ
ルズ社製、ＨＰＳ−ＤＢＭ（平均粒子径0.19μｍ）、上
村工業社製、ＵＢ２０（平均粒子径0.13μｍ）。

【００５８】酸化クロムの例として日本化学工業社製、
クロメックスＵ２（平均粒子径0.18μｍ）、クロメック
スＵ１（平均粒子径0.17μｍ）、炭化ケイ素の例として
イビデン社製、ベータランダムウルトラファイン（平均
粒子径0.16μｍ）、二酸化珪素の例として昭和鉱業社
製、Ｂ−３（平均粒子径0.17μｍ）などが挙げられる。

【００５９】また酸化鉄として昭和電工製ナノタイト
（平均粒子径０．０６μｍ）、酸化鉄として戸田工業社
製αヘマタイトＤＮＳ−２３５（平均長軸径０．２３μ
ｍ、平均短軸径０．０３μｍ、軸比７．７），ＤＮＳ−
２３５ＢＸ，ＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，Ｄ
ＰＮ−２４５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５５０Ｂ
Ｘ（平均長軸径０．１６μｍ、平均短軸径０．０２μ
ｍ、軸比７．４５），ＤＰＮ−５５０ＲＸ（平均長軸径
０．１６μｍ、平均短軸径０．０２μｍ、軸比７．４
５），ＤＰＮ−６５０ＲＸ、ＴＦ１００（平均粒子径0.
14μｍ）、ＴＦ１４０（平均粒子径0.17μｍ）、チタン
工業製αヘマタイトα−４０、Ｒ−５１６−Ｌ、石原産
業製αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３
０３。

【００６０】酸化チタンとして石原産業製酸化チタンＴ
ＴＯ−５１Ｂ（平均粒子径０．０１〜０．０３μｍ），
ＴＴＯ−５５Ａ（平均粒子径０．０３〜０．０５μ
ｍ），ＴＴＯ−５５Ｂ（平均粒子径０．０３〜０．０５
μｍ），ＴＴＯ−５５Ｃ（平均粒子径０．０３〜０．０
５μｍ），ＴＴＯ−５５Ｓ（平均粒子径０．０３〜０．
０５μｍ），ＴＴＯ−５５Ｄ（平均粒子径０．０３〜
０．０５μｍ），ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタ
ンＳＴＴ−４Ｄ（平均粒子径０．０１３μｍ），ＳＴＴ
−３０Ｄ（平均粒子径０．０９μｍ），ＳＴＴ−３０
（平均粒子径０．１２μｍ），ＳＴＴ−６５Ｃ（平均粒
子径０．１２μｍ）、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００
Ｓ（平均粒子径０．０１５μｍ），ＭＴ−１００Ｔ（平
均粒子径０．０１５μｍ），ＭＴ−１５０Ｗ（平均粒子
径０．０１５μｍ），ＭＴ−５００Ｂ（平均粒子径０．
０３５μｍ），ＭＴ−６００Ｂ（平均粒子径０．０５０
μｍ），ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ。

【００６１】堺化学製酸化亜鉛としてＦＩＮＥＸ−２５
（平均粒子径０．５μｍ），堺化学製硫酸バリウムとし
てＢＦ−１（平均粒子径０．０５μｍ），ＢＦ−１０
（平均粒子径０．０６μｍ），ＢＦ−２０（平均粒子径
０．０３μｍ），ＳＴ−Ｍ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、
及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非
磁性粉末はα−酸化鉄と二酸化チタンである。

【００６２】本発明の中間層あるいは磁気記録層のバイ
ンダー、溶剤、分散方法その他は、従来の磁気記録層の
公知技術が適宜適用できる。

【００６３】本発明に使用される中間層および磁気記録
層の結着剤樹脂としては一般塗料用樹脂ならこれらを広
く使用することが可能で従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜２
００℃、また中間層においてより好ましくは０〜１７０
℃、数平均分子量が１,０００〜２００,０００、好まし
くは１０,０００〜１００,０００、重合度が約５０〜１
０００程度のものである。

【００６４】例えば、塩化ビニル系共重合体樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート及びそ
の共重合体、メラミン樹脂、スチレン−マレイン酸共重
合体樹脂等及びこれらの樹脂の混合物が挙げられる。ま
た、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可
能である。

【００６５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としては、塩化ビニル系共重合体としてユニオン
カ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧ
Ｆ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣ
Ｃ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨ
Ｃ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ソルバイン−Ａ、ソ
ルバイン−ＡＬ、ソルバイン−ＴＡ５Ｒ，ソルバイン−
ＴＡ２、ソルバイン−ＴＡＯ、ソルバイン−ＭＫ６、電
気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８
２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０
４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５
５、４００Ｘ−１１０Ａ。

【００６６】ポリウレタン樹脂として日本ポリウレタン
社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、
大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３
０８０、Ｔ−５２０１、Ｔ−５２０５、Ｔ−５２０６、
Ｔ−５１０２Ｌ、Ｔ−５２８２、バ−ノックＤ−４０
０、Ｄ−２１０−８０、Ｌ７−７５０、クリスボン６１
０９，７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，Ｕ
Ｒ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８
０、大日精化社製ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ダイ
フェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，
９０２０，９０２２、７０２０，三菱化成社製ポリウレ
タン、ＭＸ５００４，三洋化成社製ポリウレタン、サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製ポリウレタン、サラン
Ｆ３１０，Ｆ２１０などが挙げられる。

【００６７】セルロース系樹脂としては、イーストマン
ケミカル社製セルロースアセテートブチレートＣＡＢ−
３８１−０．１、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３
８１−２、セルロースアセテートプロピオネートＣＡＰ
−４８２−０．５、アクリル系樹脂として、ローム＆ハ
ース社製パラロイドＡ−１１、Ｂ−６６、ＡＵ−１１６
４などが挙げられる。

【００６８】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、中間層と磁気記録層の両方について好ましいもの
としては、塩化ビニル系共重合体樹脂とポリウレタン系
樹脂であり、中間層についてはアクリル系樹脂や、塩化
ビニル系共重合体樹脂とセルロース系樹脂の組合せも好
ましく、これらにポリイソシアネ−トを組み合わせたも
のが挙げられる。

【００６９】本発明の中間層及び磁気記録層はにおける
各樹脂の分子量、極性基量、あるいはＴｇなどの物理特
性は必要に応じ中間層、磁気記録層とで最適化すること
ができる。例えば、結着剤樹脂量について、磁気記録層
は高出力、高分解能が必要なため結着剤樹脂量を少なく
することが有効であり、中間層では薄層化とともに磁気
ストライプをオーバーシートに埋め込むプレスの際の鏡
面板焼き付き性を改善するには中間層の結着剤樹脂量を
増量することが有効であるが、結着剤樹脂量が多すぎる
と仮支持体を中間層から剥離除去するための剥離力を増
大させる。

【００７０】本発明の中間層に含まれる結着剤樹脂の含
有量は、２０〜８０重量％の範囲、好ましくは３０〜７
０重量％の範囲で用いられる。また、磁気記録層に用い
られる結着剤樹脂は、磁性粉末に対して、５〜３０重量
％、好ましくは１０〜２０重量％の範囲で用いられる。

【００７１】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ，ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ，デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００７２】本発明に使用される中間層用塗料と磁気塗
料に、焼き付き防止効果を有する界面活性剤、可塑剤、
ワックス、シリコーンオイル等の助剤類を添加すること
もできる。特に好ましいのは燐酸エステル、脂肪酸エス
テルであり、具体的な例としては、燐酸エステルとし
て、第一工業製薬のプライサーフＡ２０８Ｂ、Ａ２０８
Ｓ、脂肪酸エステルとしては、花王製ソルビタンモノ脂
肪酸エステルのＳＰ−Ｓ１０、ＳＰ−Ｐ１０が挙げられ
る。中間層に焼き付き防止のための助剤を添加するとき
は、該助剤の拡散による移行を防ぐためには、隣接する
磁気記録層にも該助剤を添加することが好ましい。

【００７３】本発明に使用される中間層用塗料と磁気塗
料に使用する溶剤としては、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩ
ＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
剤、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化
水素、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶剤等を挙げることができ、これらの溶剤は、
２種類以上を混合して使用することもできる。

【００７４】転写方式の磁気記録媒体（いわゆる転写用
積層体）に用いる事ができる転写用基体としての仮支持
体１３としては公知のものがいずれも使用できる。例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、
６−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン
等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セ
ルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリア
ミド、ポリカーボネート等のプラスチック等を挙げるこ
とができる。中でも抗張力や耐熱性を兼ね備えたポリエ
チレンテレフタレート等が好ましい。転写用基体である
仮支持体３の厚みには特に制限はないが、通常３〜１０
０μｍ、好ましくは５〜５０μｍである。

【００７５】以下剥離層を兼ねた保護層（中間層）の形
成方法について述べる。前述の通り、カード用磁気記録
媒体及び磁気記録用転写積層体の中間層は非磁性体であ
る無機粉末と結着材樹脂であるバインダー樹脂を最低含
む中間層用塗料を塗布し形成される。

【００７６】中間層用塗布液は、例えば上記非磁性粉
末、バインダー樹脂、有機溶剤、及び必要に応じてその
他の成分を混練分散機により混練分散することにより得
ることができる。塗布液その他添加剤、及び各成分比
率、配合方法に関しては、公知の知見を用いることがで
きる。

【００７７】中間層用塗布液を作製するための混練分散
にあたっては、各種の混練分散機を使用することができ
る。この混練分散機としては、例えば二本ロールミル、
三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、ヘンシェル
ミキサー、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サン
ドグラインダー、セグバリアトライター、高速インペラ
ー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディス
パー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機、
オープンニーダー、連続ニーダー、加圧ニーダー等が挙
げられる。

【００７８】中間層の塗布に於いては、特に制限は無く
公知の塗布方式を使用して良く、中間層用塗料を所定量
塗布後に乾燥を行う。

【００７９】この中間層の塗布方式としては、特に制限
はなく、公知の塗布方式を使用して良く、単層または複
数層構成の磁気記録媒体の製造に使用される方法に準じ
て製造することができ、例えばグラビア方式、リバース
方式、エアドクターコーター方式、ブレードコーター方
式、エアナイフコーター方式、スクイズコーター方式、
含浸コーター方式、トランスファロールコーター方式、
キスコーター方式、キャストコーター方式、スプレイコ
ーター方式、ダイ方式等を使用できる。

【００８０】本発明の中間層の存在は磁気カードにおけ
る出力特性とくに分解能の低下をきたすため、本来の目
的を達成する限りにおいては出来るだけ薄いことが好ま
しく、一般にオフセット印刷、グラビア印刷等の１印刷
版による模様層の厚みは１μｍ前後であることを考慮し
て、中間層の厚みは０．０５〜２μｍ、好ましくは０．
２〜１μｍの範囲が好ましい。

【００８１】前記転写用基体に中間層用塗料形成後、こ
れを乾燥し、その上に磁気記録層用塗料の塗布を行う。
以下磁気記録層の形成方法について述べる。カード用磁
気記録媒体及び磁気記録用転写積層体の磁気記録層は強
磁性体である磁性粉末と結着材樹脂であるバインダー樹
脂を最低含む磁気塗料を塗布し形成される。

【００８２】ここで本発明に使用される磁性粉には、γ
−Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、
Ｃｏ被着Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２、Ｂａフェライト、Ｓｒ
フェライト、Ｐｂフェライト、Ｃａフェライト等の従来
公知の磁性粉が使用できる。特に、本発明に好適に使用
される磁性粉には、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、
Ｐｂフェライト、Ｃａフェライト等の従来公知の六方晶
フェライト（マグネトプランバイト型フェライト）磁性
材が使用でき、このうちの一般式ＭＯ・６Ｆｅ２ ０３
（ＭはＢａ，Ｓｒ，Ｐｂ，Ｃａから選ばれた少なくと
も１つの金属元素）で表わされ、その他所定の原子以外
にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，
Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ、Ｓｎ−Ｚｎ、Ｔｉ−Ｚｎ等
の元素を添加した物を使用することができる。原料・製
法によっては特有の不純物を含有するものもある。

【００８３】これらマグネトプランバイト型フェライト
は保存安定性が高く、カード用の磁性粉として適してお
り、さらに、高い再生出力と分解能を有した磁気記録層
を作製することができ、隠蔽型カード用の磁気記録媒体
の磁気記録層用磁性粉として最適である。

【００８４】また、識別カードおもて面磁気ストライプ
の場合、保磁力Ｈｃ規格は、４７．７ｋＡ／ｍ（６００
エルステッド）〜５５．７ｋＡ／ｍ（７００エルステッ
ド）の範囲となる磁性粉である。また、識別カードうら
面磁気ストライプの場合、保磁力Ｈｃ規格は２００ｋＡ
／ｍ（２５００エルステッド）〜３３５ｋＡ／ｍ（４２
００エルステッド）の範囲となる磁性粉であり、本来Ｈ
ｃは高い方が分解能に有利であるが、実際には記録ヘッ
ドの能力で制限されるため、本発明においては識別カー
ドの磁気ストライプの保磁力Ｈｃが２００ｋＡ／ｍ（２
５００エルステッド）〜２７９ｋＡ／ｍ（３５００エル
ステッド）、より好ましくは２１５ｋＡ／ｍ（２７００
エルステッド）〜２５５ｋＡ／ｍ（３２００エルステッ
ド）の範囲となる磁性粉が好ましい。

【００８５】上記の磁気カードうら面に用いられる磁気
ストライプは、近年制定された「ＩＳＯ／ＩＥＣ ７８
１１−６：１９９６（日本語訳版：ＪＩＳ Ｘ ６３０
２：１９９９）」に規定される保磁力２００ｋＡ／ｍ
（２５００エルステッド）〜３３５ｋＡ／ｍ（４２００
エルステッド）のＨｉｇｈ Ｃｏｅｒｃｉｖｉｔｙ（高
保磁力）を有する磁気記録層が用いられ、磁性粉には前
述のおもて面用高分解能磁気記録層と同様の六方晶フェ
ライト（マグネトプランバイト型フェライト）が使用さ
れるが、このような高保磁力を有してかつカード用磁性
材に要求される出力特性、カード製造時の高温環境下に
おける安定性、実使用時の環境安定性を同時に有し商業
的に安定に供給可能な磁性粉は他に存在しないためであ
る。

【００８６】更に使用する六方晶フェライトは、ＢＥＴ
値が３ｍ²／ｇ以上であり、望ましくは、ＢＥＴ値が
４．０ｍ²／ｇ以上１０．０ｍ²／ｇ以下であることが望
ましい。ＢＥＴが上記より小さい場合、平板状磁性体の
配列に粗密むらが生じやすく、その結果、消去ノイズが
大きくなる為、好ましくない。また、ＢＥＴ値が１０．
０ｍ²／ｇ以上であると磁性粉の分散・配向が難しくな
り本発明における要件を満たしにくくなる。また、磁気
カードに記録される信号の記録密度は比較的低いことか
らもこの範囲が適当である。

【００８７】ここで、比表面積（ＢＥＴ）とは、モノソ
ーブ直読式比表面積測定装置を使用し、試料に対する窒
素ガス等の吸・脱着特性を利用したＢＥＴ一点法の原理
で表面積を求めたものである。

【００８８】上記六方晶フェライトとしては、共沈−焼
成法、水熱合成法、ガラス結晶化法等いずれの方法で製
造されたものでも利用できる。

【００８９】磁気記録層用塗布液は、例えば上記磁性粉
末、バインダー樹脂、焼き付き防止剤、有機溶剤、及び
必要に応じてその他の成分を混練分散機により混練分散
することにより得ることができる。また、必要に応じて
前述のポリイソシアネート系硬化剤等を添加できる。塗
布液その他添加剤、及び各成分比率、配合方法に関して
は、公知の知見を用いることができる。

【００９０】磁気記録層用塗布液を作製するための混練
分散にあたっては、中間層用塗料を作製で用いた各種の
混練分散機を同様に使用することができる。

【００９１】カード用の磁気記録媒体は、オーディオテ
ープやビデオテープのような磁気記録媒体と比較して長
波長で記録が行われる。従って、その出力は使用する磁
性粉の磁化量あるいは磁気記録層の厚さにほぼ比例す
る。データの安定性の確保、高出力化への対応のため、
磁気記録層の膜厚は厚くする必要がある。このため磁気
記録層の膜厚は５μｍを越えて１００μｍ以下の範囲が
好ましく、更に好ましい範囲は５μｍを越えて２０μｍ
以下である。磁気記録層の厚さが５μｍ以下になるとカ
ード状磁気記録媒体としては出力不足となるので好まし
くなく、一方２０μｍ以上では、再生出力の分解能が低
下し好ましくない。

【００９２】磁気記録層の塗布に於いては、特に制限は
無く中間層の塗布同様に公知の塗布方式を使用して良
く、磁気塗料を所定量塗布後、磁性粉の磁化容易方向が
磁気記録層の塗布長手方向になるよう配向処理を行って
乾燥を行う。

【００９３】配向方法は、公知の方式、例えば反発対向
永久磁石、ソレノイド型電磁石等を用いることが出来
る。磁場強度としては１０００〜６０００Ｇの範囲が好
ましい。

【００９４】また、カード基体上に転写方式にて磁気記
録層を形成する場合、転写用積層体には必要に応じて接
着性を向上させる目的で感熱接着剤層４を形成してもよ
い。

【００９５】上記の接着剤層４に使用する感熱接着性を
示す樹脂としては、６０℃以下では粘着性をもたず、９
０℃以上で溶融するもので、例えば、塩化ビニルと酢酸
ビニルとの共重合体、あるいは、更にビニルアルコー
ル、無水マレイン酸あるいはアクリル酸などを加えた共
重合体等の塩化ビニル系樹脂；ポリエステル樹脂；アク
リル樹脂；ポリイミド樹脂；ポリウレタン樹脂等を挙げ
ることができる。

【００９６】また、接着剤層４に用いることの出来る感
熱接着剤層用塗料は、感熱接着性を示す樹脂を、溶剤に
対する樹脂の質量％で３〜２０％で溶剤に溶解させ、混
合攪拌して調整する。このように調整した塗料を磁気記
録層上に塗布して接着剤層を形成する。

【００９７】このように形成された転写用積層体（転写
用磁気記録媒体）を用いて、転写工程を経て、磁気カー
ドを作成するには、転写用磁気記録媒体の原反を、所定
の幅に裁断し作成した転写用磁気テープを用いる。転写
用磁気テープの感熱接着層４の表面を磁気カード形成に
用いる基体１ａもしくは１ｂ基体の表面に接触させ、転
写用磁気テープの仮支持体フィルム３側から、接着層が
９０℃以上となるように加圧、加熱せしめ両者を接着さ
せる（図７）。その後、転写用磁気テープの仮支持体フ
ィルム３を中間層Ａ（剥離層、保護層機能を有する）と
の界面より剥離して、磁気カード用基体の上に、当該中
間層Ａを最上層とした磁気ストライプを転写させる。

【００９８】さらに転写方式により磁気記録層をカード
基体１ａまたは１ｂ基体上の一部にに形成した場合はそ
の後に、平圧プレス機等を使ってそれ以外のカード構成
材料であるカード用基体１ｃまたは１ｄ、及び反対面模
様層７を施した基体１ｄ、１ｂと共に、例えば鏡面板を
用いて温度１４０〜１５０℃、圧力１５〜３５ｋｇ／ｃ
ｍ²、時間５〜３０分条件にて熱圧プレスにより熱融着
を行い、着色層、模様層、保護層を総称する隠蔽層形成
前のカード基体を得る（図１０）。

【００９９】以上の熱融着工程でカード表面は平坦にな
り、このように、磁気記録層２がカード基体１ａの一部
に形成されている場合において、カード基体表面と磁気
ストライプ表面とを面一にすることは、その後の着色層
６、文字、図案等の模様層７、保護層８等を形成し、完
成したカードにおける磁気ストライプの隠蔽性（外観上
磁気ストライプを見えなくする）を向上させる点でより
好ましい。

【０１００】さらに、前述の着色層、模様層、保護層を
総称する隠蔽層形成前のカード基体を用いて、上記のス
トライプ状磁気記録層の上に隠蔽カードとして着色層、
模様層、保護層等の非磁気記録層を形成する。

【０１０１】これら磁気ストライプ上に形成される非磁
気記録層は印刷により形成することができる。上記の隠
蔽層形成前のカード基体のオーバーシート上に、各種印
刷方法により適宜着色層、模様層保護層を順次形成す
る。これら印刷により積層した層を平圧プレス等により
鏡面板を用いて熱圧プレス仕上げをすることにより、印
刷により生じた段差を除去し、表面を平滑化することに
より隠蔽カードの耐久性の向上もはかれる。この鏡面板
を用いた熱圧プレス条件としては、例えば温度１００〜
１５０℃、圧力１５〜３５ｋｇ／ｃｍ²、時間５〜３０
分条件が用いられる。その後に所望の大きさに分割する
ことにより隠蔽カードを得る。

【０１０２】一方磁気ストライプ上に転写工程を経て非
磁気記録層を形成することができる。すなわち、磁気ス
トライプを形成したときと同様仮支持体（ここでは区別
のため第２仮支持体と称する）上に、保護層、模様層、
着色層の順に形成された隠蔽層用転写用積層体を着色層
を磁気層上に重ね、前記絵柄積層体を磁気層上に転写形
成する方法である。まず、第２の仮支持体上に保護層、
模様層、着色層をこの順に（Ｉ）と同様の方法により印
刷形成し隠蔽層用転写積層体を得る。このとき、第２の
仮支持体と保護層の間に剥離層を形成しても良く、ま
た、剥離性を有する保護層を用いても良い。また着色層
形成後に感熱性接着剤層を設けてもよい。転写用積層体
を形成後、前記隠蔽層形成前のカード基体のオーバーシ
ート上に、該隠蔽層用転写積層体を仮留めし、第２の仮
支持体を剥離除去させることにより、隠蔽層をカード用
基体上に形成する。以上のように積層体をオーバーシー
ト上に形成後、平圧プレス等により鏡面板を用いて熱圧
プレス仕上げをすることにより、全層を接合一体化す
る。

【０１０３】上記転写による方法においては、前記の隠
蔽層用転写積層体仮留め工程において隠蔽層用転写積層
体を仮留めした後に第２の仮支持体を剥離除去すること
なく、熱圧プレス仕上げを行い、全層を接合一体化した
後に、第２の仮支持体を除去することもできる。また、
これらの工程の後に所望の大きさに分割することにより
隠蔽カードを得る。

【０１０４】転写工程によって、着色層、模様層等の隠
蔽層を形成するときは、これら隠蔽層を印刷によって形
成するときと異なり、溶剤による磁気ストライプへの攻
撃がない。しかしながら磁気ストライプを形成する工程
は、両方法とも共通であって、前記転写法による隠蔽層
形成方法といえども、磁気ストライプを形成するときの
剥離不良や焼き付の危険性からは免れないので、本発明
の価値はいささかも減少するものではない。また、転写
法による磁気ストライプ上への隠蔽層の形成において
は、転写用積層体の最上層に感熱接着層を形成すること
で、磁気ストライプとの密着性、接着性の問題がの解決
をはかることもできる。しかしながら、磁気ストライプ
上への非磁気記録層の積層は、再生出力を低下させると
いう欠点を持つことを考慮すれば、転写工程においても
接着剤層を用いないことが好ましく、この場合印刷法と
同じように、やはり磁気ストライプと着色層、模様層等
との密着性、接着性が重要となる。磁気記録層２の色を
隠蔽するため、さらにカード自体の装飾性を向上させる
為に設けられる、前述の着色層６及び模様層７及び保護
層８は、印刷法で形成するにしても、転写法にしても、
共に以下に示す着色層用塗料、模様層用塗料、保護層用
塗料およびそれらの印刷方法が共通に使用できる。また
着色層、模様層はそれぞれ単層とは限らず、多層となる
場合もある。

【０１０５】着色層、模様層に用いる顔料は、無機顔料
としては、鱗片状金属粉末、アルミナ、酸化チタン、酸
化クロム、酸化鉄、酸化亜鉛、硫酸バリウムなど、有機
顔料としては、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、インダンスレン系顔料など
多々あるが、特に限定されるものではない。また着色層
に鱗片状アルミニウム粉末を用いることは、効果的に磁
気記録層の色相を隠蔽できる上、着色層の耐候性、耐久
性に優れており、安価な点で特に好ましい。

【０１０６】これら着色層６、模様層７を形成するに
は、顔料をバインダー樹脂中に単独もしくは２種以上混
合し、公知の方法で分散させて、着色用塗布液及び模様
層塗布液を作成し、前述のカード基体上もしくは第２の
仮支持体上に公知の方法で塗布、印刷することにより形
成できる。

【０１０７】樹脂バインダー、溶剤としては中間層、磁
気記録層の箇所で述べた前述のものを用いることができ
る。

【０１０８】着色層６、模様層７の形成にはグラビア印
刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等
の公知の印刷方法を用いることが出来る。模様層、着色
層の膜厚は、薄すぎると磁気記録層の磁気色を隠蔽する
ことができず、厚すぎるとスペーシングロスのため再生
出力が低下する。このため、通常０．５〜２０μｍの範
囲で用いられる。

【０１０９】更に磁気記録層の磁気色をより効果的に隠
蔽する方法として、磁気記録層２と着色層６、模様層７
の間に金属蒸着膜を設けることができ、アルミニウム、
錫、金、銀、白金、等の金属蒸着膜を使用することが出
来る。この方法を用いれば、着色用塗料の塗布による塗
膜形成に比べて、より薄い膜厚で磁気色の隠蔽が可能と
なり、出力、分解能などの特性の劣化を防ぐことが可能
である。金属蒸着膜として用いられる膜厚の範囲は、通
常、０．０５〜０．１μｍである。

【０１１０】保護層８を構成する物質としては、耐久性
に富みかつプレス適性を有する材料が好ましく、前記の
剥離層で使用した物質が使用でき、例えば、セルロース
系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、
アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート及びその共重
合体、メラミン樹脂等及びこれらの樹脂の混合物を挙げ
ることができる。

【０１１１】更に、保護層８中には、必要に応じて、皮
膜改質剤として大豆レシチン、フタル酸系可塑剤、マイ
クロシリカ、あるいはワックス等を添加することもでき
る。

【０１１２】保護層８は、例えば上記構成物質を溶剤に
溶解・分散してなる塗料を公知の方法で前述の磁気記録
層２、着色層６及び／もしくは模様層７を施したカード
基体上１ａまたは、第２仮支持体上に塗布することによ
り形成される。

【０１１３】本発明の磁気記録媒体、もしくは転写用磁
気記録媒体の構成は隠蔽型磁気カードとしての用途に限
ったものではなく、磁気カードの磁気記録層上に介在す
る着色層、模様層以外のいかなる機能層を有する磁気記
録媒体に対しても、有効であることは言うまでもない。

【０１１４】

【実施例】以下に実施例及び比較例を用いて本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるも
のではない、尚、以下「部」は質量部を表すものとす
る。以下、中間層の非磁性粉末において非磁性粉末の種
類、中間層の結着剤樹脂と添加量、中間層膜厚を変化さ
せながら各種の転写用磁気記録媒体サンプルを作製し、
転写工程を経て印刷隠蔽方法により隠蔽磁気カードを作
製し、仮支持体剥離力、対鏡面板焼き付き性、磁気スト
ライプ隠蔽性、電磁変換特性を測定した。

【０１１５】（実施例１）転写用基体である仮支持体フ
ィルムとして、厚み２４μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用い、このフィルムの片面上に下記ａ、
ｂ、ｃの各組成物を用い、中間層を乾燥後膜厚０．５μ
ｍ、磁気記録層を乾燥後の膜厚が残留磁束φrが約１．
６（μＷｂ／ｍ）となるように、また接着剤層を乾燥後
膜厚１．５μｍとなるように順次形成した後、所定幅に
裁断して転写用磁気テープを作製した。

【０１１６】 （ａ：中間層用組成物ＮＭ−１） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １１．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １１．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８．８部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１１７】 （ｂ：磁気記録層用組成物Ｍ１） 六方晶フェライト磁性粉 ＭＣ−１２７ １００部 ｛戸田工業社製、保磁力 ２２３(ｋＡ／ｍ)｝ 塩化ビニル系樹脂 ＭＲ−１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 Ｔ−５２０６（大日本インキ化学工業社製） ５部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ６部 ＭＥＫ ５０部 トルエン ５０部 シクロヘキサノン １５部

【０１１８】 （ｃ：接着剤層用組成物） ポリウレタン樹脂 １．５部 （大日本インキ化学工業社製、『ＴＳ−０３』） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 ３．５部 （電気化学社製、『１０００ＬＴ３』） ＭＥＫ ４５部 トルエン ５０部

【０１１９】上記の転写用磁気テープをカード基体の一
部となる厚み１００μｍのオーバーシートの所定の位置
にヒートシール機を用い１２０℃、１０秒、１ｋｇ／ｃ
ｍ２にて熱融着させその後に仮支持体フィルムを剥離さ
せて磁気ストライプ付きのオーバーシートを得た。

【０１２０】この磁気記録層を形成したオーバーシート
をこれに接して厚み２８０μｍコアシートを２枚重ね更
に反対面に１００μｍのオーバーシートを１枚を重ね
て、平圧プレスを用いて温度１５０℃、圧力２５ｋｇ／
ｃｍ２ 、時間１５分、熱プレスを行い、その後、圧力
を保持したまま３０分程度の時間をかけて常温まで冷却
する事により、磁気ストライプの表面とカード用基体面
が同一面となったカード基体を得た。

【０１２１】このカード基体上に磁気ストライプを隠蔽
する目的で、下記ｄの着色層１用組成物をグラビア印刷
機により、乾燥後の厚みが４μｍになるように塗布を行
い、着色層１を形成した。

【０１２２】 （ｄ：着色層１用組成物） アルミニウム粉末 ２０部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 １０部 （ユニオンカーバイド社製、『ＶＡＧＨ』） ＭＥＫ ３５部 トルエン ２５部 酢酸エチル １０部

【０１２３】その上にカードデザインの白色の下地を作
るため、下記ｅの着色層２用組成物をグラビア印刷機に
より、乾燥後の厚みが４μｍになるように塗布を行い、
着色層２を形成した。

【０１２４】 （ｅ：着色層２用組成物） 酸化チタン ２０部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 １０部 （ユニオンカーバイド社製、『ＶＡＧＨ』） ＭＥＫ ３５部 トルエン ２５部 酢酸エチル １０部

【０１２５】上記の磁気記録層、着色層を保護する目的
で、下記ｆの保護層用組成物をグラビア印刷機により、
乾燥後の厚みが２μｍになるように塗布を行った。

【０１２６】 (ｆ：保護層用組成物) アクリル樹脂 １６部 （大日本インキ化学工業社製『ＫＵ−２７３』） タルク顔料 （松村産業社製『＃５０００ ＰＪ』） ８部 イソシアネート系硬化剤 （大日本インキ化学工業社製『Ｄ−７５０』、有効成分：７５％） ４．３部 ＭＥＫ ３７部 トルエン ３７部

【０１２７】以上のカード基体を平圧プレスを用いて温
度１１０℃、圧力２５ｋｇ／ｃｍ２、時間１５分、熱プ
レスを行い、その後、圧力を保持したまま３０分程度の
時間をかけて常温まで冷却する事により、磁気カード表
面の平滑性を高めた。その後、所望のサイズに打ち抜き
加工することで中間層を含む磁気記録層上の隠蔽層層の
厚みが１０μｍの本発明の磁気カードを作成した。

【０１２８】（実施例２）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｇ：中間層用組成物ＮＭ−２とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｇ：中間層用組成物ＮＭ−２） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ２５．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ２５．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ２０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１２９】（実施例３）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｈ：中間層用組成物ＮＭ−３とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｈ：中間層用組成物ＮＭ−３） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ５０．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ５０．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ４０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３０】（実施例４）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｉ：中間層用組成物ＮＭ−４とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｉ：中間層用組成物ＮＭ−４） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １００部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １００部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３１】（実施例５）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｊ：中間層用組成物ＮＭ−５とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｊ：中間層用組成物ＮＭ−５） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １７５部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １７５部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） １４０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３２】（実施例６）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｋ：中間層用組成物ＮＭ−６とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｋ：中間層用組成物ＮＭ−６） 酸化チタン ＴＴＯ−５１Ｂ １００部 （石原産業社製、粒子径０．０１〜０．０３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １１．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １１．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８．８部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３３】（実施例７）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｌ：中間層用組成物ＮＭ−７とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｌ：中間層用組成物ＮＭ−７） 酸化チタン ＴＴＯ−５１Ｂ １００部 （石原産業社製、粒子径０．０１〜０．０３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ２５．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ２５．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ２０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３４】（実施例８）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｍ：中間層用組成物ＮＭ−８とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｍ：中間層用組成物ＮＭ−８） 酸化チタン ＴＴＯ−５１Ｂ １００部 （石原産業社製、粒子径０．０１〜０．０３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ５０．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ５０．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ４０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３５】（実施例９）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｎ：中間層用組成物ＮＭ−９とし、それ
以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｎ：中間層用組成物ＮＭ−９） 酸化チタン ＴＴＯ−５１Ｂ １００部 （石原産業社製、粒子径０．０１〜０．０３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １００部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １００部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３６】（実施例１０）実施例１において、中間層
用組成物を下記のｏ：中間層用組成物ＮＭ−１０とし、
それ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作
成し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非
磁気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｏ：中間層用組成物ＮＭ−１０） 酸化チタン ＴＴＯ−５１Ｂ １００部 （石原産業社製、粒子径０．０１〜０．０３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １７５部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １７５部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） １４０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３７】（比較例１）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｐ：中間層用組成物ＮＭ−１１とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｐ：中間層用組成物ＮＭ−１１） アルミナ ＡＫＰ−２０ １００部 （住友化学社製、平均粒子径０．３９μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １１．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １１．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８．８部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３８】（比較例２）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｑ：中間層用組成物ＮＭ−１２とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｑ：中間層用組成物ＮＭ−１２） アルミナ ＡＫＰ−２０ １００部 （住友化学社製、平均粒子径０．３９μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ２５．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ２５．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ２０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１３９】（比較例３）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｒ：中間層用組成物ＮＭ−１３とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｒ：中間層用組成物ＮＭ−１３） アルミナ ＡＫＰ−２０ １００部 （住友化学社製、平均粒子径０．３９μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ ５０．０部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ ５０．０部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ４０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１４０】（比較例４）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｓ：中間層用組成物ＮＭ−１４とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｓ：中間層用組成物ＮＭ−１４） アルミナ ＡＫＰ−２０ １００部 （住友化学社製、平均粒子径０．３９μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １００部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １００部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） ８０．０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１４１】（比較例５）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｔ：中間層用組成物ＮＭ−１５とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｔ：中間層用組成物ＮＭ−１５） α酸化鉄 ＤＮＳ−２３５ １００部 （戸田工業社製、平均長軸長０．２３μｍ） 塩化ビニル共重合体 ソルバインＴＡ２ １７５部 （日信化学社製、Ｔｇ：７６℃） セルロース系樹脂 ＣＡＰ−４８２−０．５ １７５部 （イーストマンケミカル社製、セルロースアセテートプロピ オネー ト、Ｔｇ＝１４２℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） １４０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１４２】（比較例６）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｕ：中間層用組成物ＮＭ−１６とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｕ：中間層用組成物ＮＭ−１６） セルロースアセテート Ｌ−２０ ２５部 （ダイセル化学社製、Ｔｇ：１８０℃） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） １０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１４３】（比較例７）実施例１において、中間層用
組成物を下記のｖ：中間層用組成物ＮＭ−１７とし、そ
れ以外は実施例１と同様にして転写用磁気テープを作成
し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上の非磁
気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成した。 （ｖ：中間層用組成物ＮＭ−１７） ポリビニルブチラール エスレックＢＭ−１ ２５部 （積水化学社製） ポリイソシアネート ハードナーＮｏ．５０（有効成分：５０％） １０部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部

【０１４４】（比較例８）実施例１において、中間層塗
布せずに、それ以外は実施例１と同様にして転写用磁気
テープを作成し、その後に実施例１と同様にして磁気記
録層上の非磁気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを
作成した。

【０１４５】（比較例９）比較例８において、磁気記録
層用組成物を下記のｗ：磁気記録層用組成物Ｍ−２と
し、それ以外は比較例８と同様にして転写用磁気テープ
を作成し、その後に実施例１と同様にして磁気記録層上
の非磁気記録層の厚みが１０μｍの磁気カードを作成し
た。 （ｗ：磁気記録層用組成物Ｍ−２） 六方晶フェライト磁性粉 ＭＣ−１２７ １００部 ｛戸田工業社製、保磁力 ２２３(ｋＡ／ｍ)｝ 塩化ビニル系樹脂 ＭＲ−１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 Ｔ−５２０６（大日本インキ化学工業社製） ５部 ソルビタンモノステアレート ＳＰ−Ｓ１０（花王社製） ５部 ＭＥＫ ５０部 トルエン ５０部 シクロヘキサノン １５部

【０１４６】（試験項目及び結果）実施例１〜１０、比
較例１〜９により得られた隠蔽型磁気カードについて、
仮支持体剥離性、対鏡面板焼き付き性、磁気ストライプ
隠蔽性、隠蔽層密着性を以下の方法により求めた。結果
を表１、表２に示す。

【０１４７】［仮支持体剥離性］実施例１〜１０、比較
例１〜９にて得られた転写用磁気テープをカード基体の
一部となる厚み１００μｍのオーバーシートに接着剤層
を密着させ、次いで仮支持体側からヒートシール機を用
い１２０℃、１０秒、１ｋｇ／ｃｍ２にて加熱し転写用
磁気テープをオーバーシートに熱融着させた。その後に
テスター産業社製『高速剥離試験器』にて仮支持体フィ
ルムを２０ｍ／ｍｉｎ．の速度で１８０°の剥離角度で
剥離させ、このときの剥離力を測定した。そして剥離力
が０〜３００ｍＮ：○、３００〜１０００ｍＮ：△、１
０００ｍＮ以上：×とした。一般に剥離力が０〜３００
ｍＮの場合は、実際の転写機において常に安定して剥離
が可能であり、３００〜１０００ｍＮの場合は、本発明
の中間層表面に若干損傷を受け耐熱性に影響を与える場
合があり、１０００ｍＮ以上の場合は、仮支持体が剥離
しないかまたは、本発明の中間層表面の一部脱落などの
重大な損傷を与える。

【０１４８】［対鏡面板焼き付き性］実施例１〜１０、
比較例１〜９において作製した磁気転写テープをオーバ
ーシート上に転写後、仮支持体を剥離させ、その後にこ
の磁気記録層を形成したオーバーシートをこれに接して
厚み２８０μｍコアシートを２枚重ね更に反対面に１０
０μｍのオーバーシートを１枚を重ねて、平圧プレスを
用いて鏡面板で温度１５０℃、圧力２５ｋｇ／ｃｍ２
、時間１５分、熱プレスを行い、その後、圧力を保持
したまま３０分程度の時間をかけて常温まで冷却する事
により、磁気ストライプの表面とカード用基体面が同一
面となったカード基体を得る。熱プレスが終了し、鏡面
板を上記カード基体から取り去った後に鏡面板の磁気ス
トライプが接していた場所の状態を黙視にて観察する。
鏡面板に全く付着の無い状態：○、鏡面板にうっすらと
磁気ストライプ組成物が付着している状態：△、鏡面板
をカード基体から剥がすとき強い抵抗が有り、鏡面板に
磁気ストライプ組成物の強い付着があり、かつ磁気スト
ライプの表面状態も変化した状態：×。

【０１４９】［磁気ストライプ隠蔽性］実施例１〜１
０、比較例１〜９において、着色層１、２及び保護層の
塗布が終了したカード基体を平圧プレスを用いて温度１
１０℃、圧力２５ｋｇ／ｃｍ２、時間１５分、熱プレス
を行い、その後、圧力を保持したまま３０分程度の時間
をかけて常温まで冷却する事により、磁気カード表面の
平滑性を高めた。このプレス後のカードの磁気ストライ
プとその周辺の色相の違い、及び磁気ストライプエッジ
部分のスジを目視にて評価。目視上、磁気ストライプ部
とその周辺の色相に差がなく、その境界にスジが見えな
い状態：○、カードの角度を変えるなどすると、磁気ス
トライプとその周辺の色相差が分かったり、境界のスジ
が僅かに見える状態：△、磁気ストライプとその周辺の
色相の差が明確かまたは、境界に明瞭なスジが見える状
態：×。

【０１５０】［隠蔽層密着性］実施例１〜１０、比較例
１〜９において、完成したカードの磁気ストライプ上及
びその周辺を含む範囲の表面を約１ｍｍ間隔の碁盤の目
状にカッターなどで傷を付け、セロハンテープをその碁
盤の目状傷の上から強く密着させ、カードを固定しその
セロハンテープのみを素早く上方に引き剥がし、隠蔽層
の脱落状態を目視にて観察する。隠蔽層が全く脱落しな
い状態：○、碁盤目状に傷を入れた部分の隠蔽層のみが
部分的に脱落するものの、碁盤目の内側の隠蔽層が剥が
れない状態：△、碁盤目の内側の隠蔽層まで剥がれる状
態：×。

【０１５１】

【表１】（表１）剥離性、保護層機能を有する中間層の
組成

【０１５２】

【表２】（表２）中間層に起因する特性の比較

【０１５３】表１、表２からわかるように非磁性粒子の
平均粒子径が大きいと、とくに樹脂成分が多いときに仮
支持体の剥離性に支障をきたす。このときは、磁気スト
ライプ部分が正常に形成されないため、表２に示すよう
にその他の特性は測定不能であった。また樹脂成分が少
ないと、仮支持体の剥離性は良好であるが、結着剤成分
が不足するため、中間層の塗膜が応力で内部破壊を起こ
しやすくなり焼き付きの原因となる。樹脂成分が少ない
と中間層の表面粗さが粗くなるので隠蔽性も低下する。
また比較例６、比較例７に示すようにＴｇの高い樹脂を
使うと、剥離性と焼き付き性は良好となるが、必ずしも
磁気ストライプ隠蔽性と隠蔽層密着性を満足させること
はできない。中間層を有しない比較例８においては剥離
性が満たされない、一方ハードナーを磁気記録層に添加
しない比較例９の場合は剥離性は満たされるものの、磁
気記録層が転写時に焼き付きを起こし、磁気ストライプ
の隠蔽性のも劣る。このように中間層において、特定粒
子径を有する非磁性粉末を使用し、かつ非磁性粉末に対
する結着剤樹脂の比率を特定範囲とすることで、磁気記
録層に磁性粉末としてマグネトプランバイト型フェライ
ト粒子粉末を用いた隠蔽型磁気カードにおいても、仮支
持体剥離性、対鏡面板焼き付き性、などの加工特性、更
には磁気ストライプ隠蔽性、隠蔽層密着性などの品質特
性の双方について良好な特性が得られることがわかる。
従来のコバルトガンマ酸化鉄磁性材を磁気記録層に用い
た場合と同等の品質が得られる事が示される。

【０１５４】以上のことから、本発明により、六方晶フ
ェライト（マグネトプランバイト型フェライト）のよう
な粒径の大きな磁性材を用いた磁気記録層において、そ
の磁気記録層の隠蔽層存在下であっても高分解能を有す
る特徴を損なうことなく、従来から用いられている全て
の隠蔽カード製造方法に対応する磁気記録層が得られ、
高分解能と優れた生産性を有する磁気記録媒体が得られ
ることがわかる。これによって設計の自由度が大きく、
意匠性が高く、かつ審美性に優れたプラスチック製磁気
カードの製造が可能になる。

【０１５５】

【発明の効果】本発明によれば、カード用磁気記録媒体
形成用の転写用磁気記録媒体の仮支持体と磁気記録層と
の間に、剥離層を兼ねた保護層を形成し、かつ該保護層
に、粒径０．２μｍ以下、の非磁性粒子、もしくは長軸
を有する粒子にあっては長軸長が０．５μｍ以下の非磁
性粒子を含有させることによって、該転写用磁気記録媒
体の転写工程における剥離性を向上させ、さらに転写後
の磁気ストライプをカード用基体へ加圧、加熱下に埋め
込む工程における耐熱性を向上させることができる。磁
気ストライプ上に隠蔽層が形成される隠蔽型カード用磁
気記録媒体の場合には、該保護層は、磁気記録層と隠蔽
層に挟まれた中間層として、磁気記録層と隠蔽層との間
の接着性維持、磁気ストライプ表面をカード用基体なみ
に平滑化することによるによる隠蔽後の色相の均一化な
どの機能を果たすことが要求される。しかしながら非磁
性粒子の添加が、中間層の耐熱性を向上させるため、中
間層には広い範囲の温度特性の樹脂を使用することが可
能となる。このため、樹脂選定の自由度が大幅に拡がっ
て、多機能な剥離層をかねた保護層（中間層）を有する
隠蔽型磁気記録媒体用の転写用磁気記録媒体を容易に設
計することができる。また該転写用磁気記録媒体は、転
写時の剥離性、磁気ストライプ埋め込み時の耐焼き付き
性が良好な、優れた加工適性を持ち、また該転写用磁気
記録媒体を用いて作製される隠蔽型カード用磁気記録媒
体は、優れた隠蔽層の接着性、隠蔽性を有する。本発明
の構成を有する転写用磁気記録媒体や隠蔽型カード用磁
気記録媒体は、磁気記録層に、粒径の大きな磁性粉を用
いた時に上記効果の発現が顕著である。特に、粒径が大
きいマグネトプランバイト型フェライト粒子粉末を用い
た磁気記録層に対して、その層が緻密な膜を形成してい
ないため発生する、焼き付き、剥離不良等の種々の問題
の解決法として好適に用いられる。本発明の構成を前記
フェライト粒子粉末を用いた磁気記録媒体や転写用磁気
記録媒体に対して使用することにより、再生出力や分解
能が高く、隠蔽型カード用磁気記録媒体の磁性材料とし
て高いポテンシャルを持ちながら、加工適性、隠蔽性等
が悪いため隠蔽型磁気記録媒体の磁性材料として使いに
くかった該フェライト粒子粉末を、好適に使用できるよ
うになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】転写用磁気記録媒体により磁気記録層を転写さ
れたカード用磁気記録媒体。

【図２】転写用磁気記録媒体（隠蔽層を含まないも
の）。

【図３】磁気記録層のオーバーシートへの埋め込みとカ
ード用基体の形成を表した図。

【図４】転写用磁気記録媒体により磁気記録層を転写さ
れたカード用磁気記録媒体（隠蔽層（着色層）を含むも
の）。

【図５】転写用磁気記録媒体（隠蔽層（着色層）を含む
もの）。

【図６】隠蔽型カード用磁気記録媒体。

【図７】保護層を有する磁気ストライプを持つカード用
磁気記録媒体。

【図８】剥離層を兼ねた保護層を有する磁気ストライプ
形成用転写用磁気記録媒体。

【図９】磁気記録層が中間層を有する隠蔽型カード用磁
気記録媒体（裏面意匠あり）。

【図１０】隠蔽層形成前の隠蔽型カード用磁気記録媒
体。

【符号の説明】

１ カード用基体 １ａ カード基体用オーバーシート １ｂ カード基体用オーバーシート １ｃ カード基体用コアシート １ｄ カード基体用コアシート ２ 磁気記録層 ３ 転写用基体 ４ 接着剤層 ５ 転写用磁気記録媒体 ６ 着色層 ７ 模様層 ８ 保護層 ９ プレス機の鏡面板 １０ 裏面の磁気記録層 Ａ 中間層（本発明における剥離性、保護層機能を有
する）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/80 Ｇ１１Ｂ 5/80 5/84 5/84 Ｚ 5/855 5/855 (72)発明者 矢野 大輔 埼玉県春日部市牛島1546−３ シャンテポ ワール弐番館202号 (72)発明者 宮原 鉄洲 埼玉県上尾市緑丘４−12−８ 富吉コーポ 206 Ｆターム(参考） 2C005 HB09 JA02 KA10 KA15 KA52 LA18 LA20 LA30 5D006 AA03 AA05 BA06 BA08 CA01 CA05 CA06 DA01 DA04 EA01 FA07 5D112 AA03 AA05 AA10 AA28 BD01 BD07 CC01

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】転写用基体上に、保護層を兼ねた剥離層を
   介して磁気記録層、接着剤層をこの順に積層してなる転
   写用磁気記録媒体において、該保護層を兼ねた剥離層が
   体積平均粒子径０．２μｍ以下の非磁性粒子、を含有す
   ることを特徴とする転写用磁気記録媒体。
2. 【請求項２】転写用基体上に、保護層を兼ねた剥離層を
   介して磁気記録層、接着剤層をこの順に積層してなる転
   写用磁気記録媒体において、該保護層を兼ねた剥離層が
   長軸を有する非磁性粒子を含有し、該非磁性粒子の長軸
   長が０．５０μｍ以下であることを特徴とする転写用磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】保護層を兼ねた剥離層が、２０〜８０重量
   ％の結着剤樹脂を含有することを特徴とする、請求項１
   もしくは請求項２のいずれかに記載の転写用磁気記録媒
   体。
4. 【請求項４】磁気記録層に磁気記録用磁性粉としてマグ
   ネトプランバイト型フェライト粒子粉末を含有すること
   を特徴とする請求項１、２、３のいずれかに記載の転写
   用磁気記録媒体。
5. 【請求項５】保護層を兼ねた剥離層が、ポリ塩化ビニル
   樹脂もしくはアクリル樹脂を含有することを特徴とする
   請求項１、２、３、４のいずれかに記載の転写用磁気記
   録媒体。
6. 【請求項６】非磁性基体上に形成された磁気記録層上に
   磁気記録層の色相を完全に隠蔽する非磁気記録層が積層
   された磁気記録媒体において、該磁気記録媒体が、前記
   非磁気記録層と磁気記録層の間に、非磁性粒子を含有す
   る中間層を有してなり、かつ該非磁性粒子が、体積平均
   粒径０．２μｍ以下の非磁性粒子、もしくは長軸長０．
   ５μｍ以下の長軸を有する非磁性粒子であることを特徴
   とする磁気記録媒体。
7. 【請求項７】磁気記録層に磁気記録用磁性粉としてマグ
   ネトプランバイト型フェライト粒子粉末を含有すること
   を特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】非磁性基体上に形成された磁気記録層上
   に、磁気記録層の色相を完全に隠蔽する非磁気記録層が
   積層された磁気記録媒体において、該磁気記録層が請求
   項１〜５記載の転写用磁気記録媒体を用いた転写工程に
   よって形成されたものであることを特徴とする磁気記録
   媒体。
9. 【請求項９】前記中間層が、中間層の２０〜８０重量％
   の結着剤樹脂を含有し、該結着剤樹脂がポリ塩化ビニル
   樹脂もしくはアクリル樹脂を含有することを特徴とする
   請求項６、７、８のいずれかに記載の磁気記録媒体。
10. 【請求項１０】非磁性基体上に形成された磁気記録層上
    に磁気記録層の色相を完全に隠蔽する非磁気記録層が積
    層された磁気記録媒体の製造方法であって、該磁気記録
    層を、請求項１〜５記載の転写用磁気記録媒体を使用し
    て、非磁性基体上に転写工程によって形成することを特
    徴とする、磁記録層の色相が隠蔽された磁気記録媒体の
    製造方法。