JP2002286372A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
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- JP2002286372A JP2002286372A JP2001090298A JP2001090298A JP2002286372A JP 2002286372 A JP2002286372 A JP 2002286372A JP 2001090298 A JP2001090298 A JP 2001090298A JP 2001090298 A JP2001090298 A JP 2001090298A JP 2002286372 A JP2002286372 A JP 2002286372A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス噴出口からの噴出速度および全体のガ
ス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供
給量を低減させる。 【解決手段】 ２本以上のガス供給管を、それぞれ長さ
方向に２以上の領域に分割し、そのいずれかの領域にガ
ス噴出口を形成し、それぞれ異なる領域にガス噴出口が
形成されたガス供給管を一組として炉内に配設する。前
記一組のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも
炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含む。
ス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供
給量を低減させる。 【解決手段】 ２本以上のガス供給管を、それぞれ長さ
方向に２以上の領域に分割し、そのいずれかの領域にガ
ス噴出口を形成し、それぞれ異なる領域にガス噴出口が
形成されたガス供給管を一組として炉内に配設する。前
記一組のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも
炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、未焼成のセラミ
ック素子などの被熱処理物を、所定の雰囲気中で熱処理
する場合などに用いられる熱処理炉に関し、特に、その
ガス供給管の構造に関する。
ック素子などの被熱処理物を、所定の雰囲気中で熱処理
する場合などに用いられる熱処理炉に関し、特に、その
ガス供給管の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】セラミック電子部品などの製造工程にお
いて、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を焼成
する場合、通常は、バッチ式の熱処理炉やトンネル式の
熱処理炉を用いて、炉内に被熱処理物を載置した熱処理
匣を多段に積み上げ、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定
の条件に制御するために、炉内に雰囲気ガスを供給しな
がら熱処理を行う。
いて、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を焼成
する場合、通常は、バッチ式の熱処理炉やトンネル式の
熱処理炉を用いて、炉内に被熱処理物を載置した熱処理
匣を多段に積み上げ、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定
の条件に制御するために、炉内に雰囲気ガスを供給しな
がら熱処理を行う。
【０００３】図５（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッ
チ式熱処理炉１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供
給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、
（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１は、炉本
体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内
部に固定された２本のヒータ４、４と、炉本体２の上部
から略鉛直方向に挿入された２本のガス供給管５、５
と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された
ガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被
熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。
なお、炉本体２内部の焼成空間の周りには断熱材８が取
りつけられている。
チ式熱処理炉１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供
給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、
（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１は、炉本
体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内
部に固定された２本のヒータ４、４と、炉本体２の上部
から略鉛直方向に挿入された２本のガス供給管５、５
と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された
ガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被
熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。
なお、炉本体２内部の焼成空間の周りには断熱材８が取
りつけられている。
【０００４】ガス供給管５は、図６に示すように、ガス
供給管５の長さ方向に沿って略全長に複数のガス噴出口
９が設けられており、ガス噴出口９が匣７に向くように
炉内に配設される。通常、ガス供給管５は匣７の周囲に
複数本配設され、図５（ａ）、（ｂ）に矢印で示すよう
に、周囲から匣７に向かって雰囲気ガスが供給される仕
組みになっている。
供給管５の長さ方向に沿って略全長に複数のガス噴出口
９が設けられており、ガス噴出口９が匣７に向くように
炉内に配設される。通常、ガス供給管５は匣７の周囲に
複数本配設され、図５（ａ）、（ｂ）に矢印で示すよう
に、周囲から匣７に向かって雰囲気ガスが供給される仕
組みになっている。
【０００５】すなわち、図示されていないガス供給装置
から雰囲気ガスが所定の圧力をもってガス供給管５に供
給されると、ガス噴出口９からは、室温で数ｍ／ｓに達
する速度で雰囲気ガスが噴出される。この雰囲気ガス
が、炉内の遠方や積み上げられた匣７の隙間に入りこむ
ことにより、雰囲気の偏りが防止され、均一な雰囲気中
で熱処理が行われる。なお、炉床３の回転床３ａの回転
によっても、被熱処理物とガス供給管５の相互位置が変
化し、被熱処理物に対する雰囲気ガスの噴出状態に偏り
が生じるのを抑制している。
から雰囲気ガスが所定の圧力をもってガス供給管５に供
給されると、ガス噴出口９からは、室温で数ｍ／ｓに達
する速度で雰囲気ガスが噴出される。この雰囲気ガス
が、炉内の遠方や積み上げられた匣７の隙間に入りこむ
ことにより、雰囲気の偏りが防止され、均一な雰囲気中
で熱処理が行われる。なお、炉床３の回転床３ａの回転
によっても、被熱処理物とガス供給管５の相互位置が変
化し、被熱処理物に対する雰囲気ガスの噴出状態に偏り
が生じるのを抑制している。
【０００６】
【発明が解決しようする課題】従来の熱処理炉１では、
ガス供給管５のガス噴出口９から数ｍ／ｓ程度の噴出ガ
ス流速を得るためには、１本のガス供給管５に２０〜５
０ＬＭものガスを供する必要がある。ガス供給管５への
ガス供給量が多いと、雰囲気ガスが流れこむガス供給管
５開口部５ａ近傍の温度が低下し、ガス供給管５先端部
５ｂとの温度差が大きくなり、熱膨張の差により、ガス
供給管５が折損しやすかった。
ガス供給管５のガス噴出口９から数ｍ／ｓ程度の噴出ガ
ス流速を得るためには、１本のガス供給管５に２０〜５
０ＬＭものガスを供する必要がある。ガス供給管５への
ガス供給量が多いと、雰囲気ガスが流れこむガス供給管
５開口部５ａ近傍の温度が低下し、ガス供給管５先端部
５ｂとの温度差が大きくなり、熱膨張の差により、ガス
供給管５が折損しやすかった。
【０００７】焼成途中に少なくとも一本のガス供給管５
が折損すると、折損部より雰囲気ガスが放出してしまう
ため、他のガス供給管５は、圧力低下が生じてガス噴出
口９から雰囲気ガスが噴出されなくなる。その結果、匣
７内部への雰囲気ガスの供給不足から、焼成後の被熱処
理物の特性に不良が発生したり、バラツキが大きくなる
という問題があった。
が折損すると、折損部より雰囲気ガスが放出してしまう
ため、他のガス供給管５は、圧力低下が生じてガス噴出
口９から雰囲気ガスが噴出されなくなる。その結果、匣
７内部への雰囲気ガスの供給不足から、焼成後の被熱処
理物の特性に不良が発生したり、バラツキが大きくなる
という問題があった。
【０００８】さらに、上述のように、従来のガス供給管
５は折損しやすく、そのライフは約半年であり、ガス供
給管５の頻繁な取替えは、焼成コストアップの要因とな
っていた。
５は折損しやすく、そのライフは約半年であり、ガス供
給管５の頻繁な取替えは、焼成コストアップの要因とな
っていた。
【０００９】この発明の目的は、ガス供給管のライフを
向上させ、焼成による特性不良、ばらつきを低減し、さ
らに焼成コストを削減した熱処理炉を提供することであ
る。
向上させ、焼成による特性不良、ばらつきを低減し、さ
らに焼成コストを削減した熱処理炉を提供することであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる熱処理
炉は、内部に熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本体
下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設けられた
ヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入された２
本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部に挿入さ
れたガス排気管と、を備え、前記２本以上のガス供給管
は、それぞれ長さ方向の略全領域が長さ方向に２以上の
領域に分割され、そのいずれかの領域にガス噴出口が形
成されており、前記２本以上のガス供給管によるガス噴
出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物
の全高さ領域を含むことを特徴とする。
炉は、内部に熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本体
下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設けられた
ヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入された２
本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部に挿入さ
れたガス排気管と、を備え、前記２本以上のガス供給管
は、それぞれ長さ方向の略全領域が長さ方向に２以上の
領域に分割され、そのいずれかの領域にガス噴出口が形
成されており、前記２本以上のガス供給管によるガス噴
出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物
の全高さ領域を含むことを特徴とする。
【００１１】前記２本以上のガス供給管は、分割された
それぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給管を
一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給管に
よるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された
被熱処理物の全高さ領域を含むことが好ましい。
それぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給管を
一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給管に
よるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された
被熱処理物の全高さ領域を含むことが好ましい。
【００１２】例えば、２本のガス供給管をそれぞれ長さ
方向に上下２つの領域に分割し、それぞれ上下いずれか
の領域にガス噴出口を形成し、その２本のガス供給管を
１組として用いることにより、略全長にガス噴出口が形
成された１本のガス供給管と比較して、ガス噴出速度お
よび全体のガス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あ
たりのガス供給量を１／２に低減できる。
方向に上下２つの領域に分割し、それぞれ上下いずれか
の領域にガス噴出口を形成し、その２本のガス供給管を
１組として用いることにより、略全長にガス噴出口が形
成された１本のガス供給管と比較して、ガス噴出速度お
よび全体のガス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あ
たりのガス供給量を１／２に低減できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の1つの実施の形
態について、図１、図２を用いて説明する。ただし、従
来例のバッチ式熱処理炉１と同一のものについては同一
の符号を付し、詳細な説明を省略する。
態について、図１、図２を用いて説明する。ただし、従
来例のバッチ式熱処理炉１と同一のものについては同一
の符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００１４】図１（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッ
チ式熱処理炉１１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを
供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、
（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１１は、炉
本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２
内部に固定された２本のヒータ４と、炉本体２の上部か
ら略鉛直方向に挿入された４本のガス供給管１５、１
６、１５、１６と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方
向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転
床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上
げられている。
チ式熱処理炉１１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを
供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、
（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１１は、炉
本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２
内部に固定された２本のヒータ４と、炉本体２の上部か
ら略鉛直方向に挿入された４本のガス供給管１５、１
６、１５、１６と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方
向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転
床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上
げられている。
【００１５】ガス供給管１５、１６は、高純度緻密質ア
ルミナからなり、図２に示すように、一端が雰囲気ガス
供給口１５ａ、１６ａとして開口し、他端である先端部
１５ｂ、１６ｂが閉塞された筒状構造を有している。ガ
ス供給管１５、１６の外径は２０ｍｍ、内径は１５ｍ
ｍ、長さは７５ｍｍである。
ルミナからなり、図２に示すように、一端が雰囲気ガス
供給口１５ａ、１６ａとして開口し、他端である先端部
１５ｂ、１６ｂが閉塞された筒状構造を有している。ガ
ス供給管１５、１６の外径は２０ｍｍ、内径は１５ｍ
ｍ、長さは７５ｍｍである。
【００１６】ガス供給管１５とガス供給管１６とは、筒
状部におけるガス噴出口９の形成領域が異なっている。
すなわち、ガス供給管１５は、長さ方向に２つの領域に
分割した下半部にガス噴出口９が形成され、ガス供給管
１６は、上半部にガス噴出口９が形成されている。ガス
噴出口９の直径は０．５ｍｍ、ピッチは１ｍｍである。
状部におけるガス噴出口９の形成領域が異なっている。
すなわち、ガス供給管１５は、長さ方向に２つの領域に
分割した下半部にガス噴出口９が形成され、ガス供給管
１６は、上半部にガス噴出口９が形成されている。ガス
噴出口９の直径は０．５ｍｍ、ピッチは１ｍｍである。
【００１７】そして、ガス供給管１５とガス供給管１６
各１本ずつを一組として、計４本二組が、それぞれ匣７
を挟んで対向するように炉内に配設される。これによ
り、図１（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、匣７の周
囲から匣７の全高さ領域に雰囲気ガスが供給される。
各１本ずつを一組として、計４本二組が、それぞれ匣７
を挟んで対向するように炉内に配設される。これによ
り、図１（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、匣７の周
囲から匣７の全高さ領域に雰囲気ガスが供給される。
【００１８】すなわち、バッチ式熱処理炉１１では、従
来のバッチ式熱処理炉１で用いていた１本のガス供給管
５のガス噴出領域を上下２分割し、それぞれ２本のガス
供給管１５、１６に別々にガス噴出領域を形成してい
る。これにより、ガス供給管１５、１６、１本あたりの
ガス噴出領域が従来例の１／２となり、全体のガス供給
量を維持しつつ、従来の１／２のガス流量で従来どおり
のガス噴出速度を得ることができる。
来のバッチ式熱処理炉１で用いていた１本のガス供給管
５のガス噴出領域を上下２分割し、それぞれ２本のガス
供給管１５、１６に別々にガス噴出領域を形成してい
る。これにより、ガス供給管１５、１６、１本あたりの
ガス噴出領域が従来例の１／２となり、全体のガス供給
量を維持しつつ、従来の１／２のガス流量で従来どおり
のガス噴出速度を得ることができる。
【００１９】上記実施例によれば、ガス供給管１５、１
６、１本当たりのガス流量を１／２に低減することによ
り、ガス供給管のライフは約半年から１．５年〜２年へ
と飛躍的に向上した。
６、１本当たりのガス流量を１／２に低減することによ
り、ガス供給管のライフは約半年から１．５年〜２年へ
と飛躍的に向上した。
【００２０】なお、上記実施例においては、ガス供給管
１５、１６の材質は、高純度緻密質アルミナに限らず、
熱処理炉の温度と雰囲気に耐え得る材質であれば、Ｓｉ
Ｃなどの他のセラミック材料、あるいはインコネルなど
の金属質でも可能であるが、熱膨張差で折損しやすいセ
ラミック製のガス供給管に特に有効である。
１５、１６の材質は、高純度緻密質アルミナに限らず、
熱処理炉の温度と雰囲気に耐え得る材質であれば、Ｓｉ
Ｃなどの他のセラミック材料、あるいはインコネルなど
の金属質でも可能であるが、熱膨張差で折損しやすいセ
ラミック製のガス供給管に特に有効である。
【００２１】また、上記実施例において、ガス噴出口９
は、直径０．５ｍｍの円形、ピッチは１ｍｍとしたが、
被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御できる範
囲で、ガス噴出口の形状やピッチを任意に選択すること
ができる。例えば、ガス噴出口の孔形状はスリット状や
楕円形状であってもよい。
は、直径０．５ｍｍの円形、ピッチは１ｍｍとしたが、
被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御できる範
囲で、ガス噴出口の形状やピッチを任意に選択すること
ができる。例えば、ガス噴出口の孔形状はスリット状や
楕円形状であってもよい。
【００２２】また、上記実施例においては、従来例の１
本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上下に２
分割し、２本のガス供給管１５、１６にそれぞれガス噴
出領域を設けているが、より多数の領域に分割して、よ
り多数のガス噴出領域を設けてもよい。例えば、図３に
示す他の実施例は、従来例の１本のガス供給管５に形成
されたガス噴出領域を上中下に３分割し、３本のガス供
給管１７、１８、１９にそれぞれのガス噴出領域を設
け、この３本のガス供給管１７、１８、１９を一組とし
て用いるものである。これによれば、ガス供給管１７、
１８、１９、１本あたりのガス流量は従来例のガス供給
管５の１本あたりのガス流量の１／３に低減される。
本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上下に２
分割し、２本のガス供給管１５、１６にそれぞれガス噴
出領域を設けているが、より多数の領域に分割して、よ
り多数のガス噴出領域を設けてもよい。例えば、図３に
示す他の実施例は、従来例の１本のガス供給管５に形成
されたガス噴出領域を上中下に３分割し、３本のガス供
給管１７、１８、１９にそれぞれのガス噴出領域を設
け、この３本のガス供給管１７、１８、１９を一組とし
て用いるものである。これによれば、ガス供給管１７、
１８、１９、１本あたりのガス流量は従来例のガス供給
管５の１本あたりのガス流量の１／３に低減される。
【００２３】さらに、この発明は、上記実施例であるバ
ッチ式焼成炉に限定されるものではなく、図４に示すよ
うに、連続式炉に用いてもよい。
ッチ式焼成炉に限定されるものではなく、図４に示すよ
うに、連続式炉に用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】この発明によれば、２本以上のガス供給
管を、それぞれ長さ方向に２以上の領域に分割し、その
いずれかの領域にのみガス噴出口を形成し、それぞれ異
なる領域にガス噴出口が形成された複数のガス供給管を
一組として炉内に配設することにより、長さ方向の略全
領域にガス噴出口を形成した従来のガス供給管１本と比
較して、ガス噴出口からのガス噴出速度および全体のガ
ス流量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給
量を低減することができる。
管を、それぞれ長さ方向に２以上の領域に分割し、その
いずれかの領域にのみガス噴出口を形成し、それぞれ異
なる領域にガス噴出口が形成された複数のガス供給管を
一組として炉内に配設することにより、長さ方向の略全
領域にガス噴出口を形成した従来のガス供給管１本と比
較して、ガス噴出口からのガス噴出速度および全体のガ
ス流量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給
量を低減することができる。
【００２５】これにより、ガス供給管のライフを向上さ
せ、焼成における特性不良、ばらつきを低減し、さらに
焼成コストを削減できる。
せ、焼成における特性不良、ばらつきを低減し、さらに
焼成コストを削減できる。
【図１】この発明の1つの実施の形態の熱処理炉を示し
ており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
ており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
【図２】図１の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図３】この発明の他の実施の形態に係るガス供給管を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図４】この発明の他の実施の形態に係る熱処理炉を示
す概略図である。
す概略図である。
【図５】従来例の熱処理炉を示しており、（ａ）は縦断
面図、（ｂ）は横断面図である。
面図、（ｂ）は横断面図である。
【図６】図５の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す
斜視図である。
斜視図である。
１１ バッチ式熱
処理炉 ２ 炉本体 ３ 炉床 ４ ヒータ １５、１６、１７、１８、１９ ガス供給管 ６ ガス排気管 ７ 匣 ９ ガス噴出口
処理炉 ２ 炉本体 ３ 炉床 ４ ヒータ １５、１６、１７、１８、１９ ガス供給管 ６ ガス排気管 ７ 匣 ９ ガス噴出口
Claims (2)
- 【請求項１】 内部に熱処理空間を有する炉本体と、前
記炉本体下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設
けられたヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入
された２本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部
に挿入されたガス排気管と、を備え、 前記２本以上のガス供給管は、それぞれ長さ方向の略全
領域が長さ方向に２以上の領域に分割され、そのいずれ
かの領域にガス噴出口が形成されており、 前記２本以上のガス供給管によるガス噴出領域は、少な
くとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を
含むことを特徴とする熱処理炉。 - 【請求項２】 前記２本以上のガス供給管は、分割さ
れたそれぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給
管を一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給
管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置さ
れた被熱処理物の全高さ領域を含むことを特徴とする請
求項１記載の熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002286372A true JP2002286372A (ja) | 2002-10-03 |
| JP3985460B2 JP3985460B2 (ja) | 2007-10-03 |
Family
ID=18945100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A Expired - Lifetime JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3985460B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006308173A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Takasago Ind Co Ltd | バッチ式ロータリキルン |
| JP2012013256A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Tdk Corp | バッチ炉 |
| CN103910529A (zh) * | 2012-12-28 | 2014-07-09 | 株式会社村田制作所 | 热处理炉 |
| CN108955256A (zh) * | 2018-09-27 | 2018-12-07 | 佛山市威玛客机械有限公司 | 一种电磁辐射式模具加热炉 |
| JP2019152407A (ja) * | 2018-03-06 | 2019-09-12 | エスペック株式会社 | 環境形成装置、環境形成ユニット及び熱処理装置 |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090298A patent/JP3985460B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
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| JP2014129906A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理炉 |
| KR101552246B1 (ko) * | 2012-12-28 | 2015-09-10 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 열처리로 |
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| JP2019152407A (ja) * | 2018-03-06 | 2019-09-12 | エスペック株式会社 | 環境形成装置、環境形成ユニット及び熱処理装置 |
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