JP2002282630A - ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法 - Google Patents
ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法Info
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- JP2002282630A JP2002282630A JP2001095905A JP2001095905A JP2002282630A JP 2002282630 A JP2002282630 A JP 2002282630A JP 2001095905 A JP2001095905 A JP 2001095905A JP 2001095905 A JP2001095905 A JP 2001095905A JP 2002282630 A JP2002282630 A JP 2002282630A
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- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 クリーンガス出口からダストが排出されるこ
とを防止する排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供
する。 【解決手段】 上方から下方へ移動可能に触媒を保持し
且つ該保持された触媒の移動層６０に直交に被処理ガス
を通過させるための入口ルーバ３７と出口多孔隔壁３９
を有する、被処理ガスを処理するめたの排ガス処理装置
において、出口部材３９を通過したクリーンガスのガス
流を集中させてクリーンガス出口３５から排出するため
のクリーンガス室６７を有し、該クリーンガス室６７内
にクリーンガスのガス流を衝突させるための障害物６８
を設ける。クリーンガスの慣性衝突とガス流の向きの変
更により、クリーンガスに混入していたダストを下方に
落下させて、捕集することが可能となる。
とを防止する排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供
する。 【解決手段】 上方から下方へ移動可能に触媒を保持し
且つ該保持された触媒の移動層６０に直交に被処理ガス
を通過させるための入口ルーバ３７と出口多孔隔壁３９
を有する、被処理ガスを処理するめたの排ガス処理装置
において、出口部材３９を通過したクリーンガスのガス
流を集中させてクリーンガス出口３５から排出するため
のクリーンガス室６７を有し、該クリーンガス室６７内
にクリーンガスのガス流を衝突させるための障害物６８
を設ける。クリーンガスの慣性衝突とガス流の向きの変
更により、クリーンガスに混入していたダストを下方に
落下させて、捕集することが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はダストの除去性能が
向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法に関す
る。
向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、乾式脱硫・脱硝を行う排ガス処理
装置においては、互いに平行な２枚のルーバの間に、活
性炭（Ａ．Ｃ．）等の触媒を収容して移動層を形成し、
前記触媒を上方から下方に向けて移動させるとともに、
被処理ガスを、一方のルーバを介して移動層内に供給
し、他方のルーバから排出するようにして、排ガスを処
理している。
装置においては、互いに平行な２枚のルーバの間に、活
性炭（Ａ．Ｃ．）等の触媒を収容して移動層を形成し、
前記触媒を上方から下方に向けて移動させるとともに、
被処理ガスを、一方のルーバを介して移動層内に供給
し、他方のルーバから排出するようにして、排ガスを処
理している。
【０００３】図２は従来の排ガス処理装置の概略図であ
る。図２において、３１は塔本体であり、該塔本体３１
の互いに対向する側壁３２、３３にそれぞれ被処理ガス
導入口３４及びクリーンガス出口３５が形成されてい
る。前記塔本体３１内は互いに平行に配設された入口部
材としての入口ルーバ３７及び出口部材としての出口多
孔隔壁３９によって仕切られ、両部材に挟まれた空間は
活性炭等の触媒が移動する移動層６０となる。該移動層
６０内は、前記入口ルーバ３７との間に前室６４を形成
する第１の多孔隔壁６１と、該第１の多孔隔壁６１との
間に中室６５を、前記出口多孔隔壁３９との間に後室６
６をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁６２を有する。前
記前室６４、中室６５及び後室６６の各下端には、各室
内における各触媒の移動速度を設定するためのロールフ
ィーダー４７、４８、４９がそれぞれ設けられている。
る。図２において、３１は塔本体であり、該塔本体３１
の互いに対向する側壁３２、３３にそれぞれ被処理ガス
導入口３４及びクリーンガス出口３５が形成されてい
る。前記塔本体３１内は互いに平行に配設された入口部
材としての入口ルーバ３７及び出口部材としての出口多
孔隔壁３９によって仕切られ、両部材に挟まれた空間は
活性炭等の触媒が移動する移動層６０となる。該移動層
６０内は、前記入口ルーバ３７との間に前室６４を形成
する第１の多孔隔壁６１と、該第１の多孔隔壁６１との
間に中室６５を、前記出口多孔隔壁３９との間に後室６
６をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁６２を有する。前
記前室６４、中室６５及び後室６６の各下端には、各室
内における各触媒の移動速度を設定するためのロールフ
ィーダー４７、４８、４９がそれぞれ設けられている。
【０００４】図２の排ガス処理装置の場合、被処理ガス
は、前記被処理ガス導入口３４から入口ルーバ３７を通
って前室６４に供給され、このとき、被処理ガスの流速
は、極端に低くなり、前室６４内を被処理ガス中のダス
トが重力によって沈降する。続いて、被処理ガスは、第
１の多孔隔壁６１を通って中室６５に供給され、更に第
２の多孔隔壁６２を通って後室６６に供給され、出口多
孔隔壁３９を通ってクリーンガス出口３５から排出され
る。
は、前記被処理ガス導入口３４から入口ルーバ３７を通
って前室６４に供給され、このとき、被処理ガスの流速
は、極端に低くなり、前室６４内を被処理ガス中のダス
トが重力によって沈降する。続いて、被処理ガスは、第
１の多孔隔壁６１を通って中室６５に供給され、更に第
２の多孔隔壁６２を通って後室６６に供給され、出口多
孔隔壁３９を通ってクリーンガス出口３５から排出され
る。
【０００５】一方、触媒は、前記塔本体３１の上端に形
成された供給口４６から前室６４、中室６５及び後室６
６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後室６６
内を下方に移動して各ロールフィーダー４７、４８、４
９の回転により、前室６４、中室６５及び後室６６から
排出される。その間、前室６４内、中室６５内及び後室
６６内において、被処理ガスは触媒と衝突して拡散さ
れ、触媒によって被処理ガスの脱硫及び脱硝が行われ、
さらにダストが捕集される。
成された供給口４６から前室６４、中室６５及び後室６
６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後室６６
内を下方に移動して各ロールフィーダー４７、４８、４
９の回転により、前室６４、中室６５及び後室６６から
排出される。その間、前室６４内、中室６５内及び後室
６６内において、被処理ガスは触媒と衝突して拡散さ
れ、触媒によって被処理ガスの脱硫及び脱硝が行われ、
さらにダストが捕集される。
【０００６】該排ガス処理装置においては、前室６４に
おける触媒の移動速度を中室６５における触媒の移動速
度より高くし、また、中室６５における触媒の移動速度
を後室６６における触媒の移動速度より高くしている。
このように、前室６４内における触媒の移動速度を中室
６５内のものよりも高くすることにより、ダスト濃度が
高い被処理ガスが前室６４内に供給されても、被処理ガ
スの通気を良好とし、圧力損失を小さくさせ、触媒の目
詰まりや、滞留を防止することができる。
おける触媒の移動速度を中室６５における触媒の移動速
度より高くし、また、中室６５における触媒の移動速度
を後室６６における触媒の移動速度より高くしている。
このように、前室６４内における触媒の移動速度を中室
６５内のものよりも高くすることにより、ダスト濃度が
高い被処理ガスが前室６４内に供給されても、被処理ガ
スの通気を良好とし、圧力損失を小さくさせ、触媒の目
詰まりや、滞留を防止することができる。
【０００７】さらに、後室６６内の触媒の移動速度を中
室６５内のものよりも低く設定させて、触媒が摩耗によ
って粉化して飛散するのを防止し、クリーンガス出口３
５側のダスト濃度を低くしている。
室６５内のものよりも低く設定させて、触媒が摩耗によ
って粉化して飛散するのを防止し、クリーンガス出口３
５側のダスト濃度を低くしている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】通常の粒径のダストで
は排ガス処理装置の前室、中室の触媒で捕集され除去さ
れるが、ダストの粒径が小さくてミクロンオーダーのダ
ストを含む被処理ガスや、ダストの濃度の高い状況の被
処理ガスを前記従来の排ガス処理装置で処理した場合に
は、後室までダストが到達してしまうことがある。この
ように後室まで到達したダストは、一旦、後室内の触媒
の表面に捕集されるが、再びガスの流れに載って、再飛
散されるという現象が生じて、処理の終わったガスにダ
ストが混入しクリーンガス出口から排出されることがあ
るという問題がある。
は排ガス処理装置の前室、中室の触媒で捕集され除去さ
れるが、ダストの粒径が小さくてミクロンオーダーのダ
ストを含む被処理ガスや、ダストの濃度の高い状況の被
処理ガスを前記従来の排ガス処理装置で処理した場合に
は、後室までダストが到達してしまうことがある。この
ように後室まで到達したダストは、一旦、後室内の触媒
の表面に捕集されるが、再びガスの流れに載って、再飛
散されるという現象が生じて、処理の終わったガスにダ
ストが混入しクリーンガス出口から排出されることがあ
るという問題がある。
【０００９】また、前記従来の排ガス処理装置では活性
炭等の触媒が、排ガス処理装置の上方から下方へ移動し
ているために、触媒相互が摩擦により、或いは触媒が装
置内の内壁、隔壁、ルーバ等と摩擦を起こして新たなダ
ストが発生し、生じたダストはガスの流れに載って、処
理の終わったガスと共に排出されるという問題がある。
炭等の触媒が、排ガス処理装置の上方から下方へ移動し
ているために、触媒相互が摩擦により、或いは触媒が装
置内の内壁、隔壁、ルーバ等と摩擦を起こして新たなダ
ストが発生し、生じたダストはガスの流れに載って、処
理の終わったガスと共に排出されるという問題がある。
【００１０】そこで本発明は、クリーンガス出口からダ
ストが排出されることを防止する排ガス処理装置及び排
ガス処理方法を提供することを目的とする。
ストが排出されることを防止する排ガス処理装置及び排
ガス処理方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るための本発明の排ガス処理装置は、上方から下方へ移
動可能に触媒を保持し且つ該保持された触媒の移動層に
直交に被処理ガスを通過させるための入口部材と出口部
材を有する、被処理ガスを処理するめたの排ガス処理装
置において、出口部材を通過したクリーンガスのガス流
を集中させてクリーンガス出口から排出するためのクリ
ーンガス室を有し、該クリーンガス室内にクリーンガス
のガス流を衝突させるための障害物を設けたことを特徴
とする。
るための本発明の排ガス処理装置は、上方から下方へ移
動可能に触媒を保持し且つ該保持された触媒の移動層に
直交に被処理ガスを通過させるための入口部材と出口部
材を有する、被処理ガスを処理するめたの排ガス処理装
置において、出口部材を通過したクリーンガスのガス流
を集中させてクリーンガス出口から排出するためのクリ
ーンガス室を有し、該クリーンガス室内にクリーンガス
のガス流を衝突させるための障害物を設けたことを特徴
とする。
【００１２】また、本発明の排ガス処理方法は、触媒を
上方から下方へ移動させ、該触媒の移動方向と直交させ
て被処理ガスを流すことにより、被処理ガスを触媒で処
理してクリーンガスを得る排ガス処理方法において、該
触媒で処理されたクリーンガスをクリーンガス室に導
き、該クリーンガスの流れをクリーンガス室内に設けた
障害物に衝突させて、クリーンガスの流れを一旦クリー
ンガス出口方向とは逆向きの方向に曲げることにより、
クリーンガス中のダストを沈降させて除去することを特
徴とする。
上方から下方へ移動させ、該触媒の移動方向と直交させ
て被処理ガスを流すことにより、被処理ガスを触媒で処
理してクリーンガスを得る排ガス処理方法において、該
触媒で処理されたクリーンガスをクリーンガス室に導
き、該クリーンガスの流れをクリーンガス室内に設けた
障害物に衝突させて、クリーンガスの流れを一旦クリー
ンガス出口方向とは逆向きの方向に曲げることにより、
クリーンガス中のダストを沈降させて除去することを特
徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。
て図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明の実施の形態における排ガス
処理装置の断面図である。図１において、３１は塔本体
であり、該塔本体３１の互いに対向する側壁３２、３３
にそれぞれ被処理ガス導入口３４及びクリーンガス出口
３５が形成されている。前記塔本体３１内は互いに平行
に配設された入口部材としての入口ルーバ３７、第１の
多孔隔壁６１、第２の多孔隔壁６２及び出口部材として
の出口多孔隔壁３９によって仕切られ、入口ルーバ３７
と出口多孔隔壁３９との間に触媒としての図示しない活
性炭（Ａ．Ｃ．）が収容され、該活性炭は上方から下方
へ移動する移動層６０となっている。
処理装置の断面図である。図１において、３１は塔本体
であり、該塔本体３１の互いに対向する側壁３２、３３
にそれぞれ被処理ガス導入口３４及びクリーンガス出口
３５が形成されている。前記塔本体３１内は互いに平行
に配設された入口部材としての入口ルーバ３７、第１の
多孔隔壁６１、第２の多孔隔壁６２及び出口部材として
の出口多孔隔壁３９によって仕切られ、入口ルーバ３７
と出口多孔隔壁３９との間に触媒としての図示しない活
性炭（Ａ．Ｃ．）が収容され、該活性炭は上方から下方
へ移動する移動層６０となっている。
【００１５】本発明の実施の形態においては、前記入口
ルーバ３７は、表面にダストが付着しないように表面積
の少ないものが使用される。なお、出口多孔隔壁３９に
代えて出口ルーバを使用することもできる。また、入口
ルーバ３７と第１の多孔隔壁６１との間が前室６４とな
り、第１の多孔隔壁６１と第２の多孔隔壁６２との間が
中室６５となり、第２の多孔隔壁６２と出口多孔隔壁３
９との間が後室６６となっている。
ルーバ３７は、表面にダストが付着しないように表面積
の少ないものが使用される。なお、出口多孔隔壁３９に
代えて出口ルーバを使用することもできる。また、入口
ルーバ３７と第１の多孔隔壁６１との間が前室６４とな
り、第１の多孔隔壁６１と第２の多孔隔壁６２との間が
中室６５となり、第２の多孔隔壁６２と出口多孔隔壁３
９との間が後室６６となっている。
【００１６】そして、被処理ガスは、前記被処理ガス導
入口３４から入口ルーバ３７を通って前室６４に供給さ
れ、このとき、被処理ガスの流速は、図示しない煙道内
における流速と比べて１／１０〜１／２０程度に極端に
低くなり、前室６４内を被処理ガス中のダストが重力に
よって沈降する。続いて、被処理ガスは、第１の多孔隔
壁６１を通って中室６５に供給され、更に第２の多孔隔
壁６２を通って後室６６に供給され、出口多孔隔壁３９
を通って、クリーンガス室６７に供給される。
入口３４から入口ルーバ３７を通って前室６４に供給さ
れ、このとき、被処理ガスの流速は、図示しない煙道内
における流速と比べて１／１０〜１／２０程度に極端に
低くなり、前室６４内を被処理ガス中のダストが重力に
よって沈降する。続いて、被処理ガスは、第１の多孔隔
壁６１を通って中室６５に供給され、更に第２の多孔隔
壁６２を通って後室６６に供給され、出口多孔隔壁３９
を通って、クリーンガス室６７に供給される。
【００１７】出口多孔隔壁３９から排出される触媒処理
の終わったクリーンガスはクリーンガス室６７内へ集中
させて通過させ、該クリーンガス室６７内に設けた障害
物６８に衝突させると同時に、該障害物６８により一旦
出口方向とは逆向きの方向にガス流を曲げることによ
り、触媒処理の終わったクリーンガス中に混入している
ダストを下方へ落下させて捕集し、ダストの除去された
クリーンガスをクリーンガス出口３５から排出する。
の終わったクリーンガスはクリーンガス室６７内へ集中
させて通過させ、該クリーンガス室６７内に設けた障害
物６８に衝突させると同時に、該障害物６８により一旦
出口方向とは逆向きの方向にガス流を曲げることによ
り、触媒処理の終わったクリーンガス中に混入している
ダストを下方へ落下させて捕集し、ダストの除去された
クリーンガスをクリーンガス出口３５から排出する。
【００１８】一方、活性炭は、前記塔本体３１の上端に
形成された供給口４６から前室６４、中室６５及び後室
６６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後室６
６内を下方に移動してロールフィーダー４７、４８、４
９の回転により、該前室６４、中室６５及び後室６６か
ら排出される。その間、前室６４内、中室６５内及び後
室６６内において、被処理ガスは活性炭と衝突して拡散
され、活性炭によってダストが捕集され、かつ、脱硫及
び脱硝が行われる。
形成された供給口４６から前室６４、中室６５及び後室
６６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後室６
６内を下方に移動してロールフィーダー４７、４８、４
９の回転により、該前室６４、中室６５及び後室６６か
ら排出される。その間、前室６４内、中室６５内及び後
室６６内において、被処理ガスは活性炭と衝突して拡散
され、活性炭によってダストが捕集され、かつ、脱硫及
び脱硝が行われる。
【００１９】図３は、障害物６８の近傍を拡大した様子
を円で囲った中に示す。図３において多数の矢印は被処
理ガスの流れを示し、後室６６から出口多孔隔壁３９を
通じてクリーンガス室６７に流入した被処理ガスは、ガ
イドベーンとして示した障害物６８に衝突して被処理ガ
スのガス流は一旦下向きの流れに変化するが、排ガス処
理装置の上部にあるクリーンガス出口３５の方へ向きを
変えていく。この時、クリーンガスの慣性衝突とガス流
の向きの変更により、クリーンガスに混入していたダス
トを下方に落下させて、捕集することが可能となる。下
方に落下したダストは、クリーンガス室６７の下端で、
後室６６の活性炭と合流して後室６６の下端のロールフ
ィーダー４９の回転により後室６６から排出される。
を円で囲った中に示す。図３において多数の矢印は被処
理ガスの流れを示し、後室６６から出口多孔隔壁３９を
通じてクリーンガス室６７に流入した被処理ガスは、ガ
イドベーンとして示した障害物６８に衝突して被処理ガ
スのガス流は一旦下向きの流れに変化するが、排ガス処
理装置の上部にあるクリーンガス出口３５の方へ向きを
変えていく。この時、クリーンガスの慣性衝突とガス流
の向きの変更により、クリーンガスに混入していたダス
トを下方に落下させて、捕集することが可能となる。下
方に落下したダストは、クリーンガス室６７の下端で、
後室６６の活性炭と合流して後室６６の下端のロールフ
ィーダー４９の回転により後室６６から排出される。
【００２０】本発明による排ガス処理装置により除去さ
れるダストには、もともと被処理ガス中に含まれていた
ダストや、排ガス処理装置内の触媒が装置内の内壁、隔
壁、ルーバ等と摩擦を起こして生じ、被処理ガス中に混
入した新たなダストが挙げられる。
れるダストには、もともと被処理ガス中に含まれていた
ダストや、排ガス処理装置内の触媒が装置内の内壁、隔
壁、ルーバ等と摩擦を起こして生じ、被処理ガス中に混
入した新たなダストが挙げられる。
【００２１】クリーンガス室６７内に設けられる障害物
６８には、前記ガイドベーン以外にも、傾斜板型障害
物、Ｗ型障害物、波型障害物等が適用できる。
６８には、前記ガイドベーン以外にも、傾斜板型障害
物、Ｗ型障害物、波型障害物等が適用できる。
【００２２】
【発明の効果】本発明の排ガス処理装置及び排ガス処理
方法によれば、触媒で処理されたクリーンガスの流れ
を、クリーンガス室内に設けた障害物に衝突させると同
時に、一旦出口方向とは逆向きの方向に曲げることによ
り、クリーンガス中のダストを沈降させて除去すること
ができる。
方法によれば、触媒で処理されたクリーンガスの流れ
を、クリーンガス室内に設けた障害物に衝突させると同
時に、一旦出口方向とは逆向きの方向に曲げることによ
り、クリーンガス中のダストを沈降させて除去すること
ができる。
【図１】本発明の実施の形態における排ガス処理装置の
断面図である。
断面図である。
【図２】従来の排ガス処理装置の概略図である。
【図３】円内に障害物６８の近傍を拡大した様子を示
す。
す。
３１ 塔本体 ３２，３３ 側壁 ３４ 被処理ガス導入口 ３５ クリーンガス出口 ３７ 入口ルーバ ３９ 出口多孔隔壁 ４６ 供給口 ４７、４８、４９ ロールフィーダー ６０ 移動層 ６１ 第１の多孔隔壁 ６２ 第２の多孔隔壁 ６４ 前室 ６５ 中室 ６６ 後室 ６７ クリーンガス室 ６８ 障害物
Claims (4)
- 【請求項１】 上方から下方へ移動可能に触媒を保持し
且つ該保持された触媒の移動層に直交に被処理ガスを通
過させるための入口部材と出口部材を有する、被処理ガ
スを処理するめたの排ガス処理装置において、 出口部材を通過することにより得られるクリーンガスの
ガス流を集中させてクリーンガス出口から排出するため
のクリーンガス室を有し、 該クリーンガス室内にクリーンガスのガス流を衝突させ
るための障害物を設けたことを特徴とする排ガス処理装
置。 - 【請求項２】 前記入口部材と出口部材との間に挟まれ
た空間は触媒が充填され移動する移動層を形成し、該移
動層内は、前記入口部材との間に前室を形成する第１の
多孔隔壁と、該第１の多孔隔壁との間に中室を、前記出
口部材との間に後室をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁
を有する請求項１記載の排ガス処理装置。 - 【請求項３】 前記障害物は被処理ガスのガス流をクリ
ーンガス出口方向とは逆の流れに一旦曲げる機能を持つ
請求項１又は２記載の排ガス処理装置。 - 【請求項４】 触媒を上方から下方へ移動させ、該触媒
の移動方向と直交させて被処理ガスを流すことにより、
被処理ガスを触媒で処理してクリーンガスを得る排ガス
処理方法において、 該触媒で処理されたクリーンガスをクリーンガス室に導
き、該クリーンガスの流れをクリーンガス室内に設けた
障害物に衝突させて、クリーンガスの流れを一旦クリー
ンガス出口方向とは逆向きの方向に曲げることにより、
クリーンガス中のダストを沈降させて除去することを特
徴とする排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001095905A JP2002282630A (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001095905A JP2002282630A (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002282630A true JP2002282630A (ja) | 2002-10-02 |
Family
ID=18949893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001095905A Pending JP2002282630A (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002282630A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105083922A (zh) * | 2014-05-14 | 2015-11-25 | 北京威尔普能源技术有限公司 | 百叶式阻尼除尘器 |
| CN108479282A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-09-04 | 东莞唯度电子科技服务有限公司 | 一种节能环保降尘除尘设备 |
| CN110404401A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-11-05 | 北京科技大学 | 一种以柔性材料为载体的移动床式催化反应装置 |
| CN114505173A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-05-17 | 江苏乐尔环境科技股份有限公司 | 一种利用重力进行飞灰收集的装置 |
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