JP2002280350A - 液処理装置 - Google Patents

液処理装置

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JP2002280350A
JP2002280350A JP2001083298A JP2001083298A JP2002280350A JP 2002280350 A JP2002280350 A JP 2002280350A JP 2001083298 A JP2001083298 A JP 2001083298A JP 2001083298 A JP2001083298 A JP 2001083298A JP 2002280350 A JP2002280350 A JP 2002280350A
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pipe
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Yasuhiro Nagano
泰博 長野
Yasunori Shinohara
保範 篠原
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 常時排液切換弁の開閉状況を監視して、排液
管への異なる種類の排液の混入を未然に防止すると共
に、処理液の回収率を増大して再利用の向上を図り、ま
た、被処理体のダメージを抑制すること。 【解決手段】 処理槽22内に収容される半導体ウエハ
Wに対して異なる種類の処理液を供給すると共に、排液
して処理を施す液処理装置において、処理槽22と、異
なる種類の処理液に対応する複数の排液管4,5,6と
を連通する連結管7dと、この連結管7dに介設されて
処理槽22と各排液管4,5,6との連通を切り換える
排液切換弁10と、排液切換弁10に設けられて各排液
管4,5,6への切換状態を検知する切換検知センサ1
1と、切換検知センサ11からの検知信号に基づいて排
液切換弁10の切換状態を知らせる切換検知センサ11
とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、液処理装置に関
するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやLC
D用ガラス基板等の被処理体に異なる種類の処理液を供
給・排液して処理を施す液処理装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程にお
いては、被処理体としての半導体ウエハやLCD基板等
(以下にウエハ等という)に付着するパーティクル除
去、金属汚染除去、有機汚染除去あるいは自然酸化膜除
去等の洗浄処理において、ウエハ等を収容した処理槽内
に、例えばアンモニア水等のアルカリ系処理液と、フッ
酸や塩酸等の酸系の処理液及び純水(中性)等の異なる
種類の処理液を供給してウエハ等を処理液に浸漬した状
態で、種々の処理を連続的に行う洗浄処理方法が知られ
ている。
【0003】この洗浄処理に用いられる液処理装置は、
処理液中に基板を浸漬してウエハ等の表面処理を行う処
理槽と、この処理槽内に異なる種類の処理液を供給する
処理液供給部と、処理槽内において処理に供された処理
液を排出する処理液排出部とを具備する。
【0004】また、上記処理液排出部には、処理槽から
排液された処理液を、処理液の種類に応じて、複数の排
液管のうちの特定の排液管に排出する排液切換弁が設け
られており、この排液切換弁によって異なる種類の処理
液をアルカリ系、酸系、純水系に分離して各排液管から
排液している。このように処理済みの処理液を分離して
排液することにより、アルカリ系、酸系等の異なる種類
の処理液を安全に廃棄処理することができる。
【0005】したがって、誤配管や排液切換弁の動作不
具合によって排液が所定の排液管以外の排液管に流れる
のを防止する必要がある。
【0006】そのため、排液切換弁の切換動作を確実に
行う必要がある。また、従来では、排液切換弁に、各排
液管ごとに排液管を開閉する弁体の開閉動作を外部から
確認する指示部材や処理液視認孔等を設けることによ
り、排液切換弁の動作確認を行えるようにし、排液切換
弁の動作不具合を発見できるようにした処理装置が開発
されている(特開2000−133628号参照)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、排液切
換弁の切換動作が誤動作を生じた場合には、異なる種類
の排液が混合してしまい廃棄処理の安全性を損なうばか
りか、処理液例えば純水の回収率が低下して再利用の低
下をきたす恐れもあった。これに対して、排液切換弁の
開閉動作を外部から確認する指示部材や処理液視認孔等
を設けた構造のものにおいては、排液切換弁の動作確認
や排液切換弁の動作不具合を発見することはできるが、
目視による確認であるため、常時監視するものではな
い。したがって、この従来の構造のものにおいても、排
液切換弁の動作確認や排液切換弁の動作不具合の発見が
遅れて、異なる種類の排液が混合して廃棄処理の安全性
を損なうばかりか、処理液例えば純水の回収率が低下し
て再利用の低下をきたす恐れがある。
【0008】また、排液切換弁の誤動作や排液切換弁の
動作確認の誤認等によって、処理部側に供給される処理
液の供給ミスを招く恐れもあり、この処理液の供給ミス
によって被処理体にダメージを与えるという恐れもあ
る。
【0009】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、常時排液切換弁の開閉状況を監視して、排液管への
異なる種類の排液の混入を未然に防止すると共に、例え
ば純水等の処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
り、また、処理液の供給ミスによる被処理体のダメージ
を抑制できるようにした液処理装置を提供することを目
的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、処理槽内に収容される被処
理体に対して液処理を施す液処理装置において、 各々
異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管と、
上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管
に連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管と
の間に設けられ、各排液管の開閉を行うと共に、連結管
と各排液管との連通を切り換える切換手段と、 上記切
換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切
換検知手段からの検知信号に基づいて上記処理槽内の処
理液の排液開始を制御する制御手段と、を具備すること
を特徴とする。
【0011】この発明において、上記切換手段は、連結
管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管の開閉を
行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り換えるも
のであれば、各連結管ごとに介設される複数の切換手段
であってもよく、あるいは、処理槽側に連通する1つの
ポートと、複数の排液管に連通する複数のポートとを切
り換える一体型の複数ポート複数位置切換手段のいずれ
であっても差し支えない。
【0012】このように構成することによって、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て処理槽内の処理液の排液開始を制御することができ
る。したがって、排液管への異なる種類の排液(濃度の
異なる排液も含む)の混入を未然に防止することができ
ると共に、処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
ることができる。
【0013】請求項2記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 上記処理槽と、異なる種類の処理液の各供給源と
をそれぞれ連通する供給管と、 上記各供給管にそれぞ
れ介設される開閉手段と、 上記処理槽から排液される
処理液を複数の排液管に連通可能な連結管と、 上記連
結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管の開閉
を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り換える
切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換
検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づ
いて上記開閉手段の開閉制御を行う制御手段と、を具備
することを特徴とする。この場合、上記制御手段は、予
め記憶された処理工程と処理液の供給量や供給時間等の
情報と、この記憶された情報と切換検知手段からの検知
信号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うように形成
する方が好ましい(請求項3)。
【0014】このように構成することにより、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号が
制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によって
開閉手段を開閉制御することができる。したがって、処
理に供された処理液の排液の確認を行った後に、以後の
処理に供される処理液の供給を開始することができるの
で、被処理体が異なる処理液によって受けるダメージを
抑制することができる。この場合、制御手段に予め処理
工程と処理液の供給量や供給時間等の情報を記憶させて
おき、この記憶された情報と切換検知手段からの検知信
号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うことにより、
複数の処理工程を連続的に行うことができるので、処理
効率の向上を図ることができる。
【0015】請求項4記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記処理槽内に供給される上記処理液のp
H値を検出するpH値検出手段と、 上記処理槽から排
液される処理液を上記複数の排液管に連通可能な連結管
と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各
排液管の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通
を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を
検知する切換検知手段と、 上記pH値検出手段からの
検出信号に基づいて上記切換手段の切り換え動作を制御
する制御手段と、を具備することを特徴とする。
【0016】このように構成することによって、処理槽
内に供給される処理液のpH値をpH値検出手段によっ
て検出し、その検出信号を制御手段に伝達し、制御手段
からの制御信号に基づいて切換手段の切り換え動作を制
御することができるので、アルカリ系、酸系及び中性に
分離された処理液を所定の排液管から排液することがで
きる。また、切換手段の切換動作を切換検知手段によっ
て常時監視することができるので、排液管への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることがで
きる。
【0017】請求項5記載の発明は、請求項1ないし4
のいずれかに記載の発明に加えて、更に上記切換検知手
段からの検知信号に基づいて上記切換手段の切換状態を
知らせる切換確認手段を具備することを特徴とする。
【0018】このように構成することにより、切換確認
手段によって切換手段の切換動作を確実に常時監視する
ことができるので、更に確実に排液管への異なる種類の
排液の混入を未然に防止することができると共に、処理
液の回収率を増大して再利用の向上を図ることができ
る。
【0019】請求項6記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段
と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段
と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上
記処理槽から処理液の排液を行う処理液排液手段と、を
具備することを特徴とする。この場合、上記処理液排液
手段からの処理液排液タイミングを遅延するように制御
可能な制御手段を更に具備してもよい(請求項7)。
【0020】このように構成することによって、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液排液手段によって処理槽内の処理液が
排液される。したがって、排液管への異なる種類の排液
(濃度の異なる排液も含む)の混入を未然に防止するこ
とができると共に、処理液の回収率を増大して再利用の
向上を図ることができる。この場合、処理液排液手段か
らの処理液排液タイミングを遅延するように制御可能な
制御手段を更に具備することにより、処理に供された処
理液の排液の確認を確実にした後に、処理液排液手段に
よって排液を行うことができる(請求項7)。したがっ
て、異なる種類の排液(濃度の異なる排液も含む)の混
入を確実に防止することができる。
【0021】請求項8記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段
と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段
と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上
記処理槽に処理液の供給を行う処理液供給手段と、を具
備することを特徴とする。この場合、上記処理液供給手
段からの処理液供給開始タイミングを遅延するように制
御可能な制御手段を更に具備してもよい(請求項9)。
【0022】このように構成することにより、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号に
基づいて処理液供給手段によって処理槽内に処理液が供
給される。したがって、処理に供された処理液の排液の
確認を行った後に、以後の処理に供される処理液の供給
を開始することができるので、被処理体が異なる処理液
によって受けるダメージを抑制することができる。この
場合、処理液供給手段からの処理液供給開始タイミング
を遅延するように制御可能な制御手段を更に具備するこ
とにより、処理に供された処理液の排液の確認を確実に
した後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始す
ることができる(請求項9)。したがって、被処理体が
異なる処理液によって受けるダメージを確実に抑制する
ことができる。
【0023】請求項10記載の発明は、処理槽内に収容
される被処理体に対して液処理を施す液処理方法におい
て、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供
給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工程と、
各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液
管をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液
管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、
上記処理槽から上記処理液を排液する工程と、を有する
ことを特徴とする。この場合、上記検知工程で各排液管
の開閉状態が異常であることを検知した場合、予め設定
された処理液の排液開始を遅延させるようにしてもよい
(請求項11)。また、上記検知工程で各排液管の開閉
状態が異常であることを検知した場合、再び上記開閉工
程と検知工程を行うようにしてもよい(請求項14)。
【0024】請求項10記載の発明によれば、各々異な
る種類の処理液を排液するための複数の排液管の開閉状
態を検知した後、処理槽から処理液を排液するので、排
液管への異なる種類の排液(濃度の異なる排液も含む)
の混入を未然に防止することができると共に、処理液の
回収率を増大して再利用の向上を図ることができる。こ
の場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異常であるこ
とを検知した場合、予め設定された処理液の排液開始を
遅延させることにより、処理に供された処理液の排液の
確認を確実にした後に、処理液の排液を開始することが
できる。したがって、異なる種類の排液(濃度の異なる
排液も含む)の混入を確実に防止することができる(請
求項11)。また、上記検知工程で各排液管の開閉状態
が異常であることを検知した場合、再び上記開閉工程と
検知工程を繰り返すことにより、処理に供された処理液
の排液の確認を更に確実にした後に、処理に供された処
理液の排液を開始することができる(請求項14)。
【0025】請求項12記載の発明は、処理槽内に収容
される被処理体に対して液処理を施す液処理方法におい
て、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供
給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工程と、
各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液
管をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液
管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、
上記処理液と異なる処理液を上記処理槽に供給し被処理
体を洗浄処理する工程と、を有することを特徴とする。
この場合、上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常で
あることを検知した場合、予め設定された処理液の供給
開始を遅延させるようにしてもよい(請求項13)。ま
た、上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であるこ
とを検知した場合、再び上記開閉工程と検知工程を行う
ようにしてもよい(請求項14)。
【0026】請求項12記載の発明によれば、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知した後、処理に供さ
れた処理液と異なる処理液を処理槽内に供給して洗浄処
理を施すことができる。したがって、処理に供された処
理液の排液の確認を行った後に、以後の処理に供される
処理液の供給を開始することができるので、被処理体が
異なる処理液によって受けるダメージを抑制することが
できる。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異
常であることを検知した場合、予め設定された処理液の
供給開始を遅延させることにより、処理に供された処理
液の排液の確認を確実にした後に、以後の処理に供され
る処理液の供給を開始することができる(請求項1
3)。したがって、被処理体が異なる処理液によって受
けるダメージを確実に抑制することができる。また、検
知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを検知し
た場合、再び上記開閉工程と検知工程を繰り返すことに
より、処理に供された処理液の排液の確認を更に確実に
した後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始す
ることができる(請求項14)。
【0027】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、被処理体で
ある半導体ウエハ(以下にウエハという)の洗浄処理を
行う液処理装置について説明する。
【0028】図1は、この発明に係る液処理装置を具備
する洗浄処理システムを示す概略構成図、図2は、液処
理装置を示す概略構成図、図3は、液処理装置の処理工
程を示すタイムチャート、図4は、液処理装置の処理工
程を示すフローチャート、図5は、液処理装置の一例を
示す概略断面図である。
【0029】上記洗浄処理システムは、被処理体である
ウエハW表面の自然酸化膜や金属汚染を除去する例えば
希フッ酸(DHF)を使用する第1の薬液処理ユニット
SU1と、ウエハW表面の有機汚染を除去する例えば硫
酸過水{H2SO4/H2O2}(SPM)を使用する第2
の薬液処理ユニットSU2と、ウエハW表面のパーティ
クルを除去するアンモニア過水{NH4OH/H2O2/
H2O}(SC1)を使用する第3の薬液処理ユニットS
U3と、ウエハW表面のパーティクル、自然酸化膜や金
属汚染等の除去とケミカル酸化膜生成を行う希フッ酸
(DHF),塩酸過水{HCl/H2O2/H2O}(SC
2),アンモニア過水{NH4OH/H2O2/H2O}を
選択使用する第4の薬液処理ユニットSU4とを具備
し、更に、ウエハW表面の水洗処理を行う純水を使用す
る洗浄処理ユニットSU5と、ウエハWの乾燥処理を行
う乾燥処理ユニットSU6とを具備している。
【0030】また、洗浄処理システムには、第1〜第4
の薬液処理ユニットSU1〜SU4と、洗浄処理ユニッ
トSU5及び乾燥処理ユニットSU6から排出される排
液を分離して排液する6系列の排液管1〜6が配管され
ている。すなわち、第1の薬液処理ユニットSU1に
は、開閉弁Vaを介設した連結管7aを介して高濃度酸
ドレンの排液管1(以下に高濃度酸排液管1という)が
連通されている。また、第2の薬液処理ユニットSU2
には、冷却機構8及び開閉弁Vbを介設した連結管7b
を介して高濃度の硫酸の排液管2(以下にSPM排液管
2という)が連通されている。また、第3の薬液処理ユ
ニットSU3には、開閉弁Vcを介設した連結管7cを
介して高濃度アルカリドレンの排液管3(以下に高濃度
アルカリ排液管3という)が連通されている。また、第
4の薬液処理ユニットSU4には、後述する切換手段で
ある排液切換弁10を介設する複数例えば3本の連結管
7dを介して酸ドレンの排液管4(以下に酸排液管4と
いう)と、アルカリドレンの排液管5(以下にアルカリ
排液管5という)及び純水の回収ドレンの排液管6(以
下に回収排液管6という)が連通されている。なお、洗
浄処理ユニットSU5には、切換手段である排液切換弁
10aを介設する2本のDHFとIPAと純水の排液用
の連結管7eを介して酸排液管4と回収排液管6が連通
されている。また、乾燥処理ユニットSU6には、切換
手段である排液切換弁10bを介設する2本のDHFと
IPAと純水の排液用の連結管7fを介してアルカリ排
液管5と回収排液管6が連通されている。
【0031】なお、上記第1〜第4の薬液処理ユニット
SU1〜SU4と洗浄処理ユニットSU5には、図1に
おいて図示しないが、ウエハWを収容する処理槽と、処
理槽内に処理液を供給する処理液供給源が具備されてい
る。
【0032】次に、この発明に係る液処理装置につい
て、図2及び図5に示す第4の薬液処理ユニットSU4
を参照して詳細に説明する。
【0033】上記液処理装置は、ウエハWの薬液処理部
20と、薬液処理部20に処理液例えばDHF,SC
2,SC1や純水を供給する処理液供給部30(処理液
供給手段)と、薬液処理部20から処理に供された処理
液を排液する排液部40(処理液排液手段)とで主要部
が構成されている。
【0034】上記薬液処理部20は、複数枚例えば50
枚(カセット2個分)のウエハWを適宜間隔をおいて垂
直状態に保持するウエハボート21と、このウエハボー
ト21によってウエハWを収容する処理槽22と、処理
槽22の下部に配置されて、必要に応じて処理槽に超音
波を伝達する超音波発生装置23とで主に構成されてい
る。
【0035】この場合、処理槽22は、上記複数枚(5
0枚)のウエハWを収容する内槽22aと、この内槽2
2aからオーバーフローした処理液を受け止める外槽2
2bとで構成されており、内槽22a内の下部に処理液
供給ノズル24が配設されている。なお、内槽22aの
底面は長手方向の一端から他端に向かって傾斜しており
傾斜下端側に開閉弁V7を介設した内槽ドレン管25が
連通されている。また、外槽22bの底部には外槽ドレ
ン管26が連通されている。
【0036】超音波発生装置23は、内槽22aの下部
を浸漬する振動伝播用の液体を貯留する超音波槽23a
と、この超音波槽23aの底部に配設される超音波発振
手段23bとを具備している。なお、超音波槽23a内
の振動伝播用液体は、ドレン管23cを介して専用の排
液管27に連通されている(図5参照)。この超音波発
生装置23は、処理槽22内に例えばSC1が供給され
る際に使用されるようになっている。
【0037】上記処理槽22及び超音波発生装置23の
超音波槽23aは、これら処理槽22すなわち内槽22
a及び外槽22bや超音波槽23aから零れたり飛散す
る処理液等を受け止めるパンを有するシンクボックス5
0内に配置されている。このシンクボックス50の底部
には、このシンクボックス50内に飛散あるいは漏液さ
れた液を検知する後述する漏液センサ103,104が
配設されている。また、シンクボックス50の上方に
は、第1〜第4の薬液タンク33a〜33dを収容する
薬液タンク収容室51が設けられている。この薬液タン
ク収容室51底部にも、第1〜第4の薬液タンク33a
〜33dから飛散あるいは漏液された液を検知する後述
する漏液センサ103,104が配設されている。
【0038】上記排液部40は、上記シンクボックス5
0の底部に設けられた連通孔(図示せず)を介して上記
内槽ドレン管25及び外槽ドレン管26と、上記酸排液
管4、回収排液管6及びアルカリ排液管5とを連通する
連結管7dを具備している。そして、この連結管7dに
は、処理槽22と各排液管4,5,6との連通を切り換
える切換手段である排液切換弁10が介設されている。
また、排液切換弁10には、この排液切換弁10の各排
液管4,5,6への切換状態を検知する切換検知手段で
ある切換検知用のセンサ11(以下に切換検知センサ1
1という)が設けられている。また、切換検知センサ1
1にて検知した検知信号は制御手段である中央演算処理
装置60(以下にCPU60という)に伝達され、CP
U60からの制御信号に基づいて切換確認手段例えばモ
ニタ70あるいはランプ71にて排液切換弁10の切換
状態が常時確認できるように構成されている。
【0039】この場合、排液切換弁10は、図6及び図
7に示すように、処理槽22側に連通する1つの流入側
ポートP1と、複数の排液管4,5,6に連通する3個
の流出側ポートP2,P3,P4とを切り換える一体型
の4ポート3位置切換弁にて形成されている。このよう
に形成される排液切換弁10には、流入側ポートP1と
流出側ポートP2,P3,P4(図7では、流出側ポー
トP2の場合を示す)とを切り換える(開閉する)弁体
12が、シリンダ室13内に摺動可能に嵌挿されるピス
トンロッド14に連結されており、シリンダ室13の両
端部に設けられたエアー給排ポート15a,15bに図
示しないエアー供給源からエアーが選択的に供給される
ことによって弁体12が切換動作し得るように構成され
ている。また、ピストンロッド14の弁体12と反対側
には切換動作確認用のロッド16がシリンダ室13の外
部に突出可能に連結されており、このロッド16の突出
の有無を上記切換検知センサ11例えば発光素子11a
と受光素子11bとからなるホトセンサによって検知し
得るように構成されている。すなわち、ロッド16は、
弁体12が閉鎖状態(OFF状態)のときには、シリン
ダ室13内に引っ込み外部には露出しないので、切換検
知センサ11の光はロッド16によって遮られず、切換
動作しないと判断して、その検知信号をCPU60に伝
達する(図7(a)参照)。また、ロッド16は、弁体
12が開放状態(ON状態)のときには、シリンダ室1
3の外部に突出するので、切換検知センサ11の光はロ
ッド16によって遮られ、切換動作状態であると判断し
て、その検知信号をCPU60に伝達する(図7(b)
参照)。なお、ピストンロッド14及びロッド16の摺
動部には、Oリング等のシール部材17,18が配設さ
れて気水密の維持が図られている。
【0040】また、CPU60には、処理工程と処理液
の供給量や供給時間等の情報が予め記憶されており、こ
の記憶された情報と切換検知センサ11からの検知信号
とに基づいて後述する開閉手段の開閉制御が行われるよ
うに形成されている。
【0041】一方、上記処理液供給部30は、処理液供
給ノズル24と処理液供給源である純水供給源31(D
IW)とを連通する主供給管32と、この主供給管32
と処理液供給源である第1の薬液供給源33a(以下に
第1の薬液タンク33aという)とを連通する第1の薬
液供給管34aと、主供給管32と処理液供給源である
第2の薬液供給源33b(以下に第2の薬液タンク33
bという)とを連通する第2の薬液供給管34bと、主
供給管32と処理液供給源である第3の薬液供給源33
c(以下に第3の薬液タンク33cという)とを連通す
る第3の薬液供給管34cと、主供給管32と処理液供
給源である第4の薬液供給源33d(以下に第4の薬液
タンク33dという)とを連通する第4の薬液供給管3
4dとを具備している。
【0042】この場合、第1〜第4の薬液タンク33a
〜33d内に貯留された薬液は、薬液タンク33a〜3
3d内に供給される圧送用ガス例えばN2ガスの加圧に
よって薬液供給管34a〜34d側に流れるようになっ
ている。なお、第1〜第4の薬液タンク33a〜33d
内の薬液の量は、各薬液タンク33a,33b,33
c,33dの外側に配設された複数の液位センサ35に
よって監視されている。
【0043】また、主供給管32には、純水供給源31
側から順に開閉手段である純水供給用の主開閉弁V01と
流量調整用のレギュレータ36が介設されている。な
お、主供給管32における主開閉弁V01の上流側(一次
側)とレギュレータ36の流出側(二次側)とにバイパ
ス管37が連通されており、このバイパス管37に開閉
手段である節水用の開閉弁Vが介設されている。また、
主供給管32における主開閉弁Vの流出側(二次側)
と、別の純水供給源であるホット純水供給源31a(H
OTDIW)とがホット純水供給管32aを介して連通
されている。なお、ホット純水供給管32aには開閉手
段である開閉弁V02が介設されている。
【0044】また、第1〜第3の薬液供給管34a〜3
4dには、それぞれ第1〜第3の薬液タンク33a〜3
3c側から順に第1〜第3の可変オリフィス38a,3
8b,38cと開閉手段である第1〜第3の開閉弁V
1,V2,V3が介設されている。また、第4の薬液供
給管34dは、2ラインに分岐されており、分岐部分に
おいて、第1〜第3の薬液供給管34a〜34cと同様
に、第4及び第5の可変オリフィス38d,38eと開
閉手段である第4及び第5の開閉弁V4,V5が介設さ
れている。
【0045】この場合、上記可変オリフィス38a〜3
8eは、例えば第3の可変オリフィス38cを代表して
説明すると、第3の可変オリフィス38cは、図8に示
すように、第3の薬液供給管34cの途中に設けられた
小径通路80の上流側(一次側)の開口81内に進退可
能なニードル82と、このニードル82の端部に連結さ
れる熱膨張率の高い材質例えばPTFE(ポリテトラフ
ルオロエチレン)等の合成樹脂製の熱膨張ブロック83
と、この熱膨張ブロック83の外周近傍位置に配設され
るヒータ84と、熱膨張ブロック83の温度を検出する
温度センサ85と、温度センサ85からの検出信号に基
づいてヒータ84の温度を制御する制御手段であるCP
U(図示せず)とで主に構成されている。
【0046】このように構成されて可変オリフィス38
cによれば、ヒータ84によって熱膨張ブロック83を
加熱することで、熱膨張ブロック83が膨張し、その膨
張分ニードル82が小径通路80の開口81内に進入し
て開口81とニードル82のテーパー面との隙間を調整
することができる。この際、熱膨張ブロック83の熱膨
張率のデータを予めCPUに記憶させておき、この記憶
された熱膨張率のデータと温度センサ85からの検出信
号とに基づいてヒータ84を温度制御することによっ
て、薬液の供給量を調整することができる。したがっ
て、N2ガスの供給量の調節では困難であった薬液の高
精度の微量調整が可能となる。
【0047】なお、上記純水供給源31に補助供給管3
2bを介して上記処理槽22の上方に配設される洗浄ノ
ズル39が連通されている。また、補助供給管32bに
は、洗浄用開閉弁V8が介設されており、この洗浄用開
閉弁V6の上流側(一次側)から分岐する分岐管32c
が上記超音波槽23a内に配設される振動伝播用液体供
給ノズル23dに連通されている。
【0048】なお、上記第1〜第4の薬液処理ユニット
SU1〜SU4、洗浄処理ユニットSU5のうちで、薬
液あるいは純水を所定の温度に保温する必要がある場合
には、薬液供給源32a〜32dあるいは純水供給源3
1からヒータが設けられた秤量タンク22Aに一旦貯留
して加温される。例えば、図9に示すように、洗浄処理
ユニットSU5における秤量タンク22Aの下面には複
数のヒータ90が取り付けられている。このヒータ90
は、洗浄処理槽22の側面に着脱可能に装着されるヒー
ターカバー91に取り付けられたコネクタ92を介して
図示しない電源側に接続されている。なお、ヒーターカ
バー91の側端部には、ヒーターカバー91の装着状態
と取外し状態とを検知するリミット・スイッチ93が取
り付けられ、また、ヒーターカバー91には化粧カバー
94が着脱可能に取り付けられている。このように、ヒ
ータ90をコネクタ92を介して電源側に接続すること
により、ヒータ90の交換時にコネクタ92を外す必要
があるので、交換時には必ず電源が遮断される。したが
って、ヒータ90の交換時に電源の切り忘れによる災害
を防止することができる。
【0049】また、上記第1〜第4の薬液処理ユニット
SU1〜SU4、洗浄処理ユニットSU5及び乾燥処理
ユニットSU6においては、装置稼働時は勿論、メンテ
ナンス時や停電時においても常時、排気及び漏液状態が
監視できるように排気及び漏液管理システムが組み込ま
れている。この排気及び漏液管理システムについて、図
10及び図11に示す複数の薬液処理ユニット例えばD
HF等の酸系の薬液及びIPA等の有機溶媒を使用する
乾燥処理ユニットSUAと、例えばNH4OH/H2O2
/H2O等のアルカリ系薬液を使用する薬液処理ユニッ
トSUB(SC1)と、例えばH2SO4/H2O2等の酸
系の薬液を使用する薬液処理ユニットSUC(SPM)
と、例えばDHF等の酸系の薬液を使用する薬液処理ユ
ニットSUD(DHF)を参照して説明する。
【0050】上記排気及び漏液管理システムは、各薬液
処理ユニットSUA〜SUDに配管される排気管100
に配設されて排気管100中の排気圧を検知する複数す
なわち第1及び第2の排気圧センサ101,102と、
シンクボックス50の底部に配設されてシンクボックス
50内の漏液を検出する複数すなわち第1及び第2の漏
液センサ103,104とを具備している。これら排気
圧センサ101,102と漏液センサ103,104の
うち、第1の排気圧センサ101と第1の漏液センサ1
03は、動作停止の回路110を介して制御手段60A
に電気的に接続されて、装置の稼働中に排気圧の低下や
漏液の異常が発生した場合に、制御手段60Aからの信
号によってパトライト120が点灯すると共に、ブザー
121が作動するようになっている。また、第2の排気
圧センサ102と第2の漏液センサ104は、バックア
ップ要電源140によって作動する監視の回路130を
介して制御手段60Aに電気的に接続されて、装置の停
止中や停電時に排気圧の低下や漏液の異常が発生した場
合に、制御手段60Aからの信号によってパトライト1
20が点灯すると共に、ブザー121が作動するように
なっている。なお、バックアップ要電源140の持続時
間は、処理状況に応じて適宜設定しておけばよい。例え
ば、薬液処理槽が主電源の停止後、節水に切り換わり純
水に置換する時間が60分とすると、この処理時間60
分に安全率1.5をかけた時間90分をバックアップ要
電源140の持続時間とすることができる。
【0051】なお、図10において、符号MCは、メイ
ンコントローラであり、このメインコントローラMCか
らの制御信号がモニタMに伝達されるようになってい
る。また、符号STは、薬液処理ユニットSUAの制御
手段60Aからの制御信号を受けて所定の信号例えば点
灯等を発するシグナルタワーである。なお、図11にお
いて、符号HCは、ヒーターコントローラであり、符号
SVは、薬液タンクの安全弁である。
【0052】上記のように、排気圧センサ101,10
2と漏液センサ103,104を二重化した排気及び漏
液管理システムを用いることにより、装置の稼働中に、
排気圧の低下が発生した場合には、動作停止の回路11
0が作動して、各薬液処理ユニットSUA〜SUDのポ
ンプを停止し、ヒーターをOFF状態にし、更に装置の
駆動を停止すると共に、ブザー121をONにする一
方、監視の回路130が作動して、パトライト120を
点灯すると共に、ブザー121をONにする。また、装
置の稼働中に、漏液が発生した場合には、動作停止の回
路110が作動して、各薬液処理ユニットSUA〜SU
Dのポンプを停止すると共に、ヒーターをOFF状態に
し、ブザー121をONにする一方、監視の回路130
が作動して、パトライト120を点灯すると共に、ブザ
ー121をONにする。また、装置が停止中や停電によ
り工場からの電源の供給がない時に、排気圧の低下や漏
液が発生した場合には、監視の回路130が作動して、
パトライト120を点灯すると共に、ブザー121をO
Nにすることができる。
【0053】したがって、装置停止時にメンテナンスを
行う者にとって安全の確認ができるため、メンテナンス
作業を安全に行うことができる。また、停電時において
も、同様にメンテナンス者が異常の有無を確認後にメン
テナンス作業を行うことができるので、メンテナンス者
への安全保障を図ることができる。
【0054】図2に示す第1、第2、第3及び第4の薬
液タンク32a,32b,32c及び32dには、各々
例えばHF,HCl,NH4OH,H2O2が貯留されて
おり、これらの液の混合により、処理槽22に供給可能
な処理液として、アルカリ系の薬液では、CS1{NH
4OH/H2O2/H2O}、酸系の薬液では、SC2{H
Cl/H2O2/H2O}とDHF{HF/H2O}、中性
のリンス液では、H2Oがある。そこで、例えば、SC
1→リンス→SC2→リンスのレシピに基づいて、図2
に示した、液処理装置の動作態様の一例について、図3
に示すタイムチャート及び図4に示すフローチャートを
参照して説明する。
【0055】まず、装置の稼働に関係なく、図2に示す
ように、バイパス管37に介設された節水用の開閉弁V
のみが開放して純水が処理槽22内に供給された節水状
態になる(ステップ4−1)。次に、純水供給用の主開
閉弁V01が開放して純水が処理槽22内に供給される。
この際、ウエハWは既に処理槽22内に収容されるか、
純水の供給と同時に処理槽22内に収容される。この純
水供給の際に、純水の供給量の安定状態が確認された
後、排液切換弁10がアルカリ排液管5側に切り換わ
る。この切換状態は切換検知センサ11によって検知さ
れる(ステップ4−2)。ここで、排液切換弁10がア
ルカリ排液管5側に切り換わっていないことが確認され
ると開閉弁V3は開放せず、純水供給状態が維持され
る。このとき、各切換検知センサ11の開閉の組み合わ
せが正常でない場合、すなわち、アルカリのみ開でない
場合に、開閉弁V3,V4を開放せずに薬液の供給を開
始させないようにする。つまり、開閉弁V3,V4を開
くための信号を送らずに、その間に排液切換弁10の各
弁体12に繰り返し各切換検知センサ11の検知信号が
正しくなるまで開閉信号を送る。このとき、繰り返し開
閉信号を送る時間の上限を設定しておき、この設定時間
内に排液切換弁10の各弁体12の開閉状態が正しく行
われない場合は、アラームを出すようにする。
【0056】なお、別の方法として、切換検知センサ1
1が異常を検知したら、再度開閉信号を送って再び切換
検知センサ11が開閉状態を検知するまでの時間分だけ
開閉弁V3,V4の開放時間を遅延させる。正常になる
までこれを複数回例えば3回繰り返すようにしてもよ
い。
【0057】排液切換弁10がアルカリ排液管5側に切
り換わったことが確認されると、開閉弁V3,V4が開
放して(ステップ4−3)、第3の薬液タンク33c内
に貯留されたNH4OH及び第4の薬液タンク33d内
に貯留されたH2O2が純水に混合されて、アルカリ調合
が行われる(ステップ4−4)。所定の時間、開閉弁V
3,V4が開放した後、開閉弁V3,V4と主開閉弁V
01及び節水用開閉弁Vが閉じて(ステップ4−5)、ア
ルカリ洗浄処理が行われる(ステップ4−6)。このア
ルカリ洗浄処理の際に、上記超音波発振装置23が作動
し、図示しない発振器の駆動により生じた超音波振動が
超音波槽23a内の振動伝播用液体を伝播して内槽22
aに貯留された薬液まで伝わり、この超音波振動によっ
てウエハWに付着したパーティクル等が除去される。
【0058】所定の時間アルカリ洗浄を行った後、開閉
弁V6が開放して純水を洗浄ノズル39からウエハWに
供給する一方、内槽22aの開閉弁V7が開放して急速
排液が行われる(ステップ4−7)。その後、主開閉弁
V01が開放する一方、開閉弁V6,V7が閉じて水洗処
理が行われ(ステップ4−8)、引き続き純水供給状態
となる(ステップ4−9)。この純水供給の際に、純水
の供給量の安定状態が確認された後、排液切換弁10が
酸排液管4側に切り換わる。この切換状態は切換検知セ
ンサ11によって検知される(ステップ4−10)。こ
こで、排液切換弁10が酸排液管4側に切り換わってい
ないことが確認されると開閉弁V2,V5は開放せず、
純水供給状態が維持される。一方、排液切換弁10が酸
排液管4側に切り換わったことが確認されると、開閉弁
V2,V5が開放して(ステップ4−11)、第2及び
第4の薬液タンク33b及び33d内に貯留された薬液
(HCL及びH2O2)が純水に混合されて、酸調合が行
われる(ステップ4−12)。所定の時間、開閉弁V
2,V5が開放した後、開閉弁V1あるいはV2が閉じ
て(ステップ4−13)、酸洗浄処理が行われる(ステ
ップ4−14)。但し、開閉弁V4,V5は各々SC
1,SC2の混合比に対応する配管に介設されている。
【0059】所定の時間酸洗浄を行った後、開閉弁V6
が開放して純水を洗浄ノズル39からウエハWに供給す
る一方、内槽22aの開閉弁V7が開放して急速排液が
行われる(ステップ4−15)。その後、主開閉弁V01
が開放する一方、開閉弁V6,V7が閉じて水洗処理が
行われる(ステップ4−16)。この水洗処理を所定時
間行った後、主開閉弁V01が閉じると共に、節水用開閉
弁Vが開放して節水状態となり、この状態で排液切換弁
10が回収排液管6側に切り換わる。この切換状態は切
換検知センサ11によって検知される(ステップ4−1
7)。ここで、排液切換弁10が回収排液管6側に切り
換わっていないことが確認されると、処理工程は終了せ
ず、節水状態が維持される。一方、排液切換弁10が回
収排液管6側に切り換わったことが確認されると、内槽
22aの開閉弁V7が開放して(ステップ4−18)、
洗浄処理に供された純水が回収排液管6側に排液され、
処理工程が終了する。
【0060】なお、上記処理工程の説明では、アルカリ
洗浄工程と酸洗浄工程の後に、急速排液工程を行う場合
について説明したが、急速排液工程を行わずに水洗処理
工程を行うようにしてもよい。
【0061】上記実施形態の液処理装置を用いることに
より、排液切換弁10の切換状態を切換検知センサ11
にて検知し、その検知信号に基づいて切換状態を切換確
認手段であるモニタ70やランプ71によって知らせる
ことができるので、常時、排液切換弁10の切換動作を
監視することができる。したがって、排液管4〜6への
異なる種類の排液の混入を未然に防止することができる
と共に、回収排液管6から回収される純水の回収率を増
大して再利用の向上を図ることができる。
【0062】また、排液切換弁10の切換状態を切換検
知センサ11にて検知し、その検知信号がCPU60に
伝達され、CPU60からの制御信号によって開閉弁V
01,V,V1〜V7を開閉制御することができる。した
がって、次の処理に供される処理液の排液経路の確保が
確認された後に、以後の処理に供される処理液(薬液)
の供給を開始することができるので、ウエハWが異なる
処理液(薬液)によって受けるダメージを抑制すること
ができる。このダメージは、例えば排液側の排液切換弁
10の切換と供給側の開閉弁V3とV4の開放を同時の
タイミングで信号を送って、排液切換弁10が何等かの
原因で切り換えできず、供給側の開閉弁V3とV4を閉
じたときに、処理槽22内に少量だけ薬液が流れて薬液
の濃度が不明になるときに起こる現象である。この場
合、CPU60に予め処理工程と処理液(薬液)の供給
量や供給時間等の情報を記憶させておき、この記憶され
た情報と切換検知センサ11からの検知信号とに基づい
て開閉弁V01,V,V1〜V7の開閉制御を行うことに
より、複数の処理工程を連続的に行うことができるの
で、処理効率の向上を図ることができる。
【0063】上記実施形態では、第4の薬液処理ユニッ
トSU4における薬液処理について説明したが、その他
の第1〜第3の薬液処理ユニットSU1〜SU3や洗浄
処理ユニットSU5においても同様に処理を行うことが
できる。この場合、洗浄処理ユニットSU5において
は、排液切換弁10aの切換によって水洗槽(図示せ
ず)内の薄い薬液(例えば薄い酸)を酸ドレン側に排水
し、水洗槽内の純水を回収ドレン側に排水して、回収す
ることができる(図1参照)。
【0064】上記実施形態では、排液切換弁10の切換
動作を予め記憶された情報に基づいて行う場合について
説明したが、別の情報(信号)に基づいて排液切換弁1
0を切換制御するようにしてもよい。例えば、処理槽2
2内に供給される処理液のpH値を検出して、その検出
されたpH値に基づいて排液切換弁10を切り換えるよ
うにしてもよい。
【0065】すなわち、図12に示すように、上記処理
槽22内に供給される処理液のpH値を検出するpH値
検出手段であるpHセンサ200を配設し、このpHセ
ンサ200にて検出された処理液中の水素イオン濃度の
pH値{酸性:pH<7、中和:pH=7、アルカリ
性:pH>7}の信号を制御手段であるCPU60に伝
達し、CPU60からの制御信号によって上記排液切換
弁10を切換制御するようにしてもよい。この実施形態
においても、排液切換弁10には、上記実施形態と同様
に、アルカリ排液管5、酸排液管4及び回収排液管6へ
の切換状態を検知する切換検知センサ11が設けられて
おり、この切換検知センサ11によって排液切換弁10
の切換動作が確認できるようになっている。
【0066】なお、図12に示す実施形態において、そ
の他の部分は上記実施形態と同じであるので、同一部分
には同一符号を付して、その説明は省略する。
【0067】上記のように構成することにより、例えば
pHセンサ200により処理液(薬液)中の水素イオン
濃度がpH>7のときには、排液切換弁10がアルカリ
排液管5側に切り換わり、また、処理液(薬液)中の水
素イオン濃度がpH<7のときには、排液切換弁10が
酸排液管4側に切り換わり、また、処理液中の水素イオ
ン濃度がpH=7のときには、排液切換弁10が回収排
液管6に切り換わる。これにより、処理槽22内の処理
液(薬液、純水)中の水素イオン濃度のpH値に基づい
て排液切換弁10をアルカリ排液管5、酸排液管4ある
いは回収排液管6側に自動的に切り換えることができ
る。したがって、処理済みの処理液をアルカリ系、酸系
及び中性(純水)に正確に分離して排液することができ
ると共に、中性の純水の回収率の向上を図ることがで
き、純水の再利用の向上を図ることができる。
【0068】また、図12に示す実施形態においても、
排液切換弁10の切換状態を切換検知センサ11によっ
て検知することができるので、常時、排液切換弁10の
切換動作を監視することができる。したがって、アルカ
リ排液管5、酸排液管4及び回収排液管6への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液特に純水の回収率を増大して再利用の向上を図る
ことができる。
【0069】なお、上記実施形態では、被処理体が半導
体ウエハの洗浄処理を行う液処理装置について説明した
が、この発明の液処理装置は、半導体ウエハ以外の例え
ばLCD基板等の被処理体の洗浄処理やその他の液処理
装置にも適用できることは勿論である。
【0070】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような効
果が得られる。
【0071】1)請求項1記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て処理槽内の処理液の排液開始を制御することができ
る。したがって、排液管への異なる種類の排液(濃度の
異なる排液も含む)の混入を未然に防止することができ
ると共に、処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
ることができる。
【0072】2)請求項2記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て開閉手段を開閉制御することができる。したがって、
処理に供された処理液の排液の確認を行った後に、以後
の処理に供される処理液の供給を開始することができる
ので、被処理体が異なる処理液によって受けるダメージ
を抑制することができる。この場合、制御手段に予め処
理工程と処理液の供給量や供給時間等の情報を記憶させ
ておき、この記憶された情報と切換検知手段からの検知
信号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うことによ
り、複数の処理工程を連続的に行うことができるので、
処理効率の向上を図ることができる(請求項3)。
【0073】3)請求項4記載の発明によれば、処理槽
内に供給される処理液のpH値をpH値検出手段によっ
て検出し、その検出信号を制御手段に伝達し、制御手段
からの制御信号に基づいて切換手段の切り換え動作を制
御することができるので、アルカリ系、酸系及び中性に
分離された処理液を所定の排液管から排液することがで
きる。また、切換手段の切換動作を切換検知手段によっ
て常時監視することができるので、排液管への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることがで
きる。
【0074】4)請求項5記載の発明によれば、切換確
認手段によって切換手段の切換動作を確実に常時監視す
ることができるので、上記1)〜3)に加えて更に確実
に排液管への異なる種類の排液の混入を未然に防止する
ことができると共に、処理液の回収率を増大して再利用
の向上を図ることができる。
【0075】5)請求項6記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液排液手段によって処理槽内の処理液が
排液される。したがって、排液管への異なる種類の排液
(濃度の異なる排液も含む)の混入を未然に防止するこ
とができると共に、処理液の回収率を増大して再利用の
向上を図ることができる。この場合、処理液排液手段か
らの処理液排液タイミングを遅延するように制御可能な
制御手段を更に具備することにより、処理に供された処
理液の排液の確認を確実にした後に、処理液排液手段に
よって排液を行うことができるので、異なる種類の排液
(濃度の異なる排液も含む)の混入を確実に防止するこ
とができる(請求項7)。
【0076】6)請求項8記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液供給手段によって処理槽内に処理液が
供給される。したがって、処理に供された処理液の排液
の確認を行った後に、以後の処理に供される処理液の供
給を開始することができるので、被処理体が異なる処理
液によって受けるダメージを抑制することができる。こ
の場合、処理液供給手段からの処理液供給開始タイミン
グを遅延するように制御可能な制御手段を更に具備する
ことにより、処理に供された処理液の排液の確認を確実
にした後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始
することができるので、被処理体が異なる処理液によっ
て受けるダメージを確実に抑制することができる(請求
項9)。
【0077】7)請求項10記載の発明によれば、各々
異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管の開
閉状態を検知した後、処理槽から処理液を排液するの
で、排液管への異なる種類の排液(濃度の異なる排液も
含む)の混入を未然に防止することができると共に、処
理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることができ
る。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異常で
あることを検知した場合、予め設定された処理液の排液
開始を遅延させることにより、処理に供された処理液の
排液の確認を確実にした後に、処理液の排液を開始する
ことができるので、異なる種類の排液(濃度の異なる排
液も含む)の混入を確実に防止することができる(請求
項11)。また、上記検知工程で各排液管の開閉状態が
異常であることを検知した場合、再び上記開閉工程と検
知工程を繰り返すことにより、処理に供された処理液の
排液の確認を更に確実にした後に、処理に供された処理
液の排液を開始することができる(請求項14)。
【0078】8)請求項12記載の発明によれば、切換
手段の切換状態を切換検知手段にて検知した後、処理に
供された処理液と異なる処理液を処理槽内に供給して洗
浄処理を施すことができる。したがって、処理に供され
た処理液の排液の確認を行った後に、以後の処理に供さ
れる処理液の供給を開始することができるので、被処理
体が異なる処理液によって受けるダメージを抑制するこ
とができる。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態
が異常であることを検知した場合、予め設定された処理
液の供給開始を遅延させることにより、処理に供された
処理液の排液の確認を確実にした後に、以後の処理に供
される処理液の供給を開始することができるので、被処
理体が異なる処理液によって受けるダメージを確実に抑
制することができる(請求項13)。また、検知工程で
各排液管の開閉状態が異常であることを検知した場合、
再び上記開閉工程と検知工程を繰り返すことにより、処
理に供された処理液の排液の確認を更に確実にした後
に、以後の処理に供される処理液の供給を開始すること
ができる(請求項14)。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る液処理装置を具備する洗浄処理
システムを示す概略構成図である。
【図2】上記液処理装置を示す概略構成図である。
【図3】上記液処理装置の処理工程を示すタイムチャー
トである。
【図4】上記液処理装置の処理工程を示すフローチャー
トである。
【図5】上記液処理装置の一例を示す概略断面図であ
る。
【図6】この発明における排液切換弁を示す平面図であ
る。
【図7】図6のI−I線に沿う弁閉鎖状態を示す断面図
(a)及び弁開放状態を示す断面図(b)である。
【図8】この発明における可変オリフィスの一部を断面
で示す概略図(a)及びその要部を拡大して示す断面図
(b)である。
【図9】この発明における処理槽にヒーターを取り付け
る状態を示す分解斜視図である。
【図10】この発明における排気圧及び漏液検出システ
ムの一例を示す概略構成図である。
【図11】上記排気圧及び漏液検出システムの電気回路
図である。
【図12】この発明の別の実施形態の要部を示す概略断
面図である。
【符号の説明】
W 半導体ウエハ(被処理体) 4 酸排液管 5 アルカリ排液管 6 回収排液管 7d 連結管 10 排液切換弁(切換手段) 11 切換検知センサ(切換検知手段) 20 薬液処理部 22 処理槽 30 処理液供給部 31 純水供給源(処理液供給源) 33a〜33d 第1〜第4の薬液タンク(処理液供給
源) 40 排液部 60 CPU(制御手段) 70 モニタ(切換確認手段) 71 ランプ(切換確認手段) V01,V02,V,V1〜V7 開閉弁(開閉手段)

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理槽内に収容される被処理体に対して
    液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    と、 上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管に
    連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
    の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
    換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記処理槽
    内の処理液の排液開始を制御する制御手段と、を具備す
    ることを特徴とする液処理装置。
  2. 【請求項2】 処理槽内に収容される被処理体に対して
    液処理を施す液処理装置において、 上記処理槽と、異なる種類の処理液の各供給源とをそれ
    ぞれ連通する供給管と、 上記各供給管にそれぞれ介設される開閉手段と、 上記処理槽から排液される処理液を複数の排液管に連通
    可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
    の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
    換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記開閉手
    段の開閉制御を行う制御手段と、を具備することを特徴
    とする液処理装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の液処理装置において、 上記制御手段は、予め記憶された処理工程と処理液の供
    給量や供給時間等の情報と、この記憶された情報と切換
    検知手段からの検知信号とに基づいて開閉手段の開閉制
    御を行うように形成されることを特徴とする液処理装
    置。
  4. 【請求項4】 処理槽内に収容される被処理体に対して
    液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    と、 上記処理槽内に供給される上記処理液のpH値を検出す
    るpH値検出手段と、 上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管に
    連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
    の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
    換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記pH値検出手段からの検出信号に基づいて上記切換
    手段の切り換え動作を制御する制御手段と、を具備する
    ことを特徴とする液処理装置。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の液
    処理装置において、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記切換手
    段の切換状態を知らせる切換確認手段を更に具備するこ
    とを特徴とする液処理装置。
  6. 【請求項6】 処理槽内に収容される被処理体に対して
    液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上記処理
    槽から処理液の排液を行う処理液排液手段と、を具備す
    ることを特徴とする液処理装置。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の液処理装置において、 上記処理液排液手段からの処理液排液タイミングを遅延
    するように制御可能な制御手段を更に具備することを特
    徴とする液処理装置。
  8. 【請求項8】 処理槽内に収容される被処理体に対して
    液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上記処理
    槽に処理液の供給を行う処理液供給手段と、を具備する
    ことを特徴とする液処理装置。
  9. 【請求項9】 請求項8記載の液処理装置において、 上記処理液供給手段からの処理液供給開始タイミングを
    遅延するように制御可能な制御手段を更に具備すること
    を特徴とする液処理装置。
  10. 【請求項10】 処理槽内に収容される被処理体に対し
    て液処理を施す液処理方法において、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工
    程と、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、上記処理槽から上記処理液を排液す
    る工程と、を有することを特徴とする液処理方法。
  11. 【請求項11】 請求項10記載の液処理方法におい
    て、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
    検知した場合、予め設定された処理液の排液開始を遅延
    させることを特徴とする液処理方法。
  12. 【請求項12】 処理槽内に収容される被処理体に対し
    て液処理を施す液処理方法において、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工
    程と、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
    をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、上記処理液と異なる処理液を上記処
    理槽に供給し被処理体を洗浄処理する工程と、を有する
    ことを特徴とする液処理方法。
  13. 【請求項13】 請求項12記載の液処理方法におい
    て、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
    検知した場合、予め設定された処理液の供給開始を遅延
    させることを特徴とする液処理方法。
  14. 【請求項14】 請求項10又は12記載の液処理方法
    において、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
    検知した場合、再び上記開閉工程と検知工程を行うこと
    を特徴とする液処理方法。
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