JP2002280350A - Liquid processor - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent different kinds of drainages from being mixed in a drainage pipe by monitoring the opening/closing conditions of a drainage switching valve at all times, to improve recycling by increasing the recovery rate of processing liquid and to suppress damages to a body to be processed. SOLUTION: This liquid processor for supplying the different kinds of processing liquids to a semiconductor wafer W housed inside a processing vessel 22, performing drainage and executing a processing is provided with a connection pipe 7d communicating the processing vessel 22 and a plurality of the drainage pipes 4, 5 and 6 corresponding to the different kinds of the processing liquid; the drainage switching valve 10 interposed to the connection pipe 7d for switching the communication of the processing vessel 22 and the respective drainage pipes 4, 5 and 6; and a changeover detecting sensor 11, provided on the drainage switching valve 10 for detecting a changeover state to the respective drainage pipes 4, 5 and 6 and the changeover detecting sensor 11 for reporting the changeover state of the drainage switching valve 10, on the basis of detected signals from the changeover detecting sensor 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液処理装置に関
するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣ
Ｄ用ガラス基板等の被処理体に異なる種類の処理液を供
給・排液して処理を施す液処理装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid processing apparatus, and more particularly, to a liquid processing apparatus such as a semiconductor wafer or an
The present invention relates to a liquid processing apparatus that supplies and discharges different types of processing liquids to a processing target such as a glass substrate for D and performs processing.

【０００２】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程にお
いては、被処理体としての半導体ウエハやＬＣＤ基板等
（以下にウエハ等という）に付着するパーティクル除
去、金属汚染除去、有機汚染除去あるいは自然酸化膜除
去等の洗浄処理において、ウエハ等を収容した処理槽内
に、例えばアンモニア水等のアルカリ系処理液と、フッ
酸や塩酸等の酸系の処理液及び純水（中性）等の異なる
種類の処理液を供給してウエハ等を処理液に浸漬した状
態で、種々の処理を連続的に行う洗浄処理方法が知られ
ている。2. Description of the Related Art Generally, in the process of manufacturing a semiconductor device, removal of particles, removal of metal contamination, removal of organic contamination, or removal of a natural oxide film adhered to a semiconductor wafer or an LCD substrate (hereinafter referred to as a wafer) as a processing object. In a cleaning process such as removal, an alkali-based processing solution such as ammonia water, an acid-based processing solution such as hydrofluoric acid or hydrochloric acid, and different types of pure water (neutral) are placed in a processing tank containing wafers or the like. There is known a cleaning processing method in which various processings are continuously performed while a processing liquid is supplied and a wafer or the like is immersed in the processing liquid.

【０００３】この洗浄処理に用いられる液処理装置は、
処理液中に基板を浸漬してウエハ等の表面処理を行う処
理槽と、この処理槽内に異なる種類の処理液を供給する
処理液供給部と、処理槽内において処理に供された処理
液を排出する処理液排出部とを具備する。[0003] The liquid processing apparatus used for this cleaning process includes:
A processing tank for immersing a substrate in a processing liquid to perform a surface treatment of a wafer or the like, a processing liquid supply unit for supplying a different type of processing liquid into the processing tank, and a processing liquid used for processing in the processing tank. And a processing liquid discharging unit for discharging the liquid.

【０００４】また、上記処理液排出部には、処理槽から
排液された処理液を、処理液の種類に応じて、複数の排
液管のうちの特定の排液管に排出する排液切換弁が設け
られており、この排液切換弁によって異なる種類の処理
液をアルカリ系、酸系、純水系に分離して各排液管から
排液している。このように処理済みの処理液を分離して
排液することにより、アルカリ系、酸系等の異なる種類
の処理液を安全に廃棄処理することができる。Further, the processing liquid discharge section discharges the processing liquid discharged from the processing tank to a specific drain pipe among a plurality of drain pipes according to the type of the processing liquid. A switching valve is provided, and the drainage switching valve separates different types of processing liquid into an alkaline system, an acid system, and a pure water system, and discharges the treated liquid from each drain pipe. By separating and draining the treated liquid as described above, it is possible to safely dispose of a different type of treatment liquid such as an alkali-based or acid-based treatment liquid.

【０００５】したがって、誤配管や排液切換弁の動作不
具合によって排液が所定の排液管以外の排液管に流れる
のを防止する必要がある。Therefore, it is necessary to prevent drainage from flowing to drainage pipes other than the predetermined drainage pipe due to erroneous piping or malfunction of the drainage switching valve.

【０００６】そのため、排液切換弁の切換動作を確実に
行う必要がある。また、従来では、排液切換弁に、各排
液管ごとに排液管を開閉する弁体の開閉動作を外部から
確認する指示部材や処理液視認孔等を設けることによ
り、排液切換弁の動作確認を行えるようにし、排液切換
弁の動作不具合を発見できるようにした処理装置が開発
されている（特開２０００−１３３６２８号参照）。Therefore, it is necessary to reliably perform the switching operation of the drain switching valve. Conventionally, the drainage switching valve is provided with an indicator member for externally confirming the opening and closing operation of a valve body that opens and closes the drainage pipe for each drainage pipe, a processing liquid viewing hole, and the like, so that the drainage switching valve is provided. A processing device has been developed which enables the operator to check the operation of the drainage switching valve and to detect the operation failure of the drainage switching valve (see JP-A-2000-133628).

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、排液切
換弁の切換動作が誤動作を生じた場合には、異なる種類
の排液が混合してしまい廃棄処理の安全性を損なうばか
りか、処理液例えば純水の回収率が低下して再利用の低
下をきたす恐れもあった。これに対して、排液切換弁の
開閉動作を外部から確認する指示部材や処理液視認孔等
を設けた構造のものにおいては、排液切換弁の動作確認
や排液切換弁の動作不具合を発見することはできるが、
目視による確認であるため、常時監視するものではな
い。したがって、この従来の構造のものにおいても、排
液切換弁の動作確認や排液切換弁の動作不具合の発見が
遅れて、異なる種類の排液が混合して廃棄処理の安全性
を損なうばかりか、処理液例えば純水の回収率が低下し
て再利用の低下をきたす恐れがある。However, when the switching operation of the drainage switching valve causes a malfunction, different types of drainage are mixed, which not only impairs the safety of the disposal process, but also reduces the processing liquid, for example. There was also a risk that the recovery rate of pure water was reduced, resulting in a decrease in reuse. On the other hand, in the case of a structure provided with an instruction member for confirming the opening / closing operation of the drainage switching valve from the outside and a processing liquid visual recognition hole, etc., the operation check of the drainage switching valve and the malfunction of the drainage switching valve may be performed. Can be found,
Since it is a visual confirmation, it is not always monitored. Therefore, even in this conventional structure, the operation check of the drainage switching valve and the discovery of the malfunction of the drainage switching valve are delayed, and not only the different types of drainage are mixed, but also the safety of the disposal is impaired. In addition, there is a possibility that the recovery rate of the processing liquid, for example, pure water is reduced and the reuse is reduced.

【０００８】また、排液切換弁の誤動作や排液切換弁の
動作確認の誤認等によって、処理部側に供給される処理
液の供給ミスを招く恐れもあり、この処理液の供給ミス
によって被処理体にダメージを与えるという恐れもあ
る。In addition, there is a possibility that an erroneous operation of the drainage switching valve or an erroneous confirmation of an operation check of the drainage switching valve may cause a supply error of the processing liquid supplied to the processing section. There is also a risk of damaging the processing object.

【０００９】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、常時排液切換弁の開閉状況を監視して、排液管への
異なる種類の排液の混入を未然に防止すると共に、例え
ば純水等の処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
り、また、処理液の供給ミスによる被処理体のダメージ
を抑制できるようにした液処理装置を提供することを目
的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and constantly monitors the opening / closing state of a drainage switching valve to prevent different types of drainage from being mixed into a drainage pipe and to prevent pure water from being mixed. It is an object of the present invention to provide a liquid processing apparatus capable of improving recovery by increasing a recovery rate of a processing liquid such as processing liquid, and suppressing damage to a processing target due to a supply error of the processing liquid. is there.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の発明は、処理槽内に収容される被処
理体に対して液処理を施す液処理装置において、 各々
異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管と、
上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管
に連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管と
の間に設けられ、各排液管の開閉を行うと共に、連結管
と各排液管との連通を切り換える切換手段と、 上記切
換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切
換検知手段からの検知信号に基づいて上記処理槽内の処
理液の排液開始を制御する制御手段と、を具備すること
を特徴とする。According to one aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank. A plurality of drain pipes for draining the processing solution of
A connecting pipe capable of communicating the processing liquid drained from the processing tank with the plurality of drain pipes, provided between the connecting pipe and the plurality of drain pipes, for opening and closing each drain pipe; Switching means for switching the communication between the connecting pipe and each drain pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; and a processing liquid in the processing tank based on a detection signal from the switching detection means. And control means for controlling the start of drainage.

【００１１】この発明において、上記切換手段は、連結
管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管の開閉を
行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り換えるも
のであれば、各連結管ごとに介設される複数の切換手段
であってもよく、あるいは、処理槽側に連通する１つの
ポートと、複数の排液管に連通する複数のポートとを切
り換える一体型の複数ポート複数位置切換手段のいずれ
であっても差し支えない。In the present invention, the switching means is provided between the connecting pipe and the plurality of drain pipes, opens and closes each drain pipe, and switches communication between the connecting pipe and each drain pipe. If so, a plurality of switching means interposed for each connection pipe may be used, or one port communicating with the processing tank side and a plurality of ports communicating with the plurality of drain pipes are switched. Any one of the integral multiple port multiple position switching means may be used.

【００１２】このように構成することによって、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て処理槽内の処理液の排液開始を制御することができ
る。したがって、排液管への異なる種類の排液（濃度の
異なる排液も含む）の混入を未然に防止することができ
ると共に、処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
ることができる。With this configuration, the switching state of the switching means is detected by the switching detection means, and the detection signal is transmitted to the control means, and the control signal from the control means discharges the processing liquid in the processing tank. Liquid start can be controlled. Accordingly, it is possible to prevent mixing of different types of drainage (including drainage with different concentrations) into the drainage pipe, and to increase the recovery rate of the processing liquid to improve the reuse. it can.

【００１３】請求項２記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 上記処理槽と、異なる種類の処理液の各供給源と
をそれぞれ連通する供給管と、 上記各供給管にそれぞ
れ介設される開閉手段と、 上記処理槽から排液される
処理液を複数の排液管に連通可能な連結管と、 上記連
結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管の開閉
を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り換える
切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換
検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づ
いて上記開閉手段の開閉制御を行う制御手段と、を具備
することを特徴とする。この場合、上記制御手段は、予
め記憶された処理工程と処理液の供給量や供給時間等の
情報と、この記憶された情報と切換検知手段からの検知
信号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うように形成
する方が好ましい（請求項３）。According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein the processing tank and each supply source of a different type of processing liquid are respectively provided. A supply pipe communicating with the supply pipe, an opening / closing means interposed between the supply pipes, a connection pipe capable of communicating a processing liquid discharged from the processing tank with a plurality of drain pipes, A switching unit provided between the drainage pipe, for opening and closing each drainage pipe, and switching communication between the connection pipe and each drainage pipe, switching detection means for detecting a switching state of the switching means, Control means for controlling the opening / closing of the opening / closing means based on the detection signal from the switching detection means. In this case, the control means controls the opening / closing of the opening / closing means based on the pre-stored information such as the processing step, the supply amount and the supply time of the processing liquid, and the stored information and the detection signal from the switching detection means. It is more preferable to perform the above (claim 3).

【００１４】このように構成することにより、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号が
制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によって
開閉手段を開閉制御することができる。したがって、処
理に供された処理液の排液の確認を行った後に、以後の
処理に供される処理液の供給を開始することができるの
で、被処理体が異なる処理液によって受けるダメージを
抑制することができる。この場合、制御手段に予め処理
工程と処理液の供給量や供給時間等の情報を記憶させて
おき、この記憶された情報と切換検知手段からの検知信
号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うことにより、
複数の処理工程を連続的に行うことができるので、処理
効率の向上を図ることができる。With this configuration, the switching state of the switching means is detected by the switching detecting means, the detection signal is transmitted to the control means, and the opening and closing of the opening and closing means is controlled by the control signal from the control means. it can. Therefore, after confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, thereby suppressing damage to the object to be processed by the different processing liquid. can do. In this case, information such as the processing step and the supply amount and supply time of the processing liquid is stored in the control means in advance, and the opening / closing control of the opening / closing means is performed based on the stored information and the detection signal from the switching detection means. By doing
Since a plurality of processing steps can be performed continuously, the processing efficiency can be improved.

【００１５】請求項４記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記処理槽内に供給される上記処理液のｐ
Ｈ値を検出するｐＨ値検出手段と、 上記処理槽から排
液される処理液を上記複数の排液管に連通可能な連結管
と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各
排液管の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通
を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を
検知する切換検知手段と、 上記ｐＨ値検出手段からの
検出信号に基づいて上記切換手段の切り換え動作を制御
する制御手段と、を具備することを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids are provided. And p of the processing liquid supplied into the processing tank.
PH value detecting means for detecting an H value; a connecting pipe capable of communicating a processing liquid discharged from the processing tank with the plurality of drain pipes; and a connecting pipe provided between the connecting pipe and the plurality of drain pipes. Switching means for opening and closing each drain pipe, and switching communication between the connecting pipe and each drain pipe, switching detection means for detecting a switching state of the switching means, and detection from the pH value detection means. Control means for controlling the switching operation of the switching means based on the signal.

【００１６】このように構成することによって、処理槽
内に供給される処理液のｐＨ値をｐＨ値検出手段によっ
て検出し、その検出信号を制御手段に伝達し、制御手段
からの制御信号に基づいて切換手段の切り換え動作を制
御することができるので、アルカリ系、酸系及び中性に
分離された処理液を所定の排液管から排液することがで
きる。また、切換手段の切換動作を切換検知手段によっ
て常時監視することができるので、排液管への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることがで
きる。With this configuration, the pH value of the processing solution supplied into the processing tank is detected by the pH value detecting means, the detection signal is transmitted to the control means, and based on the control signal from the control means. As a result, the switching operation of the switching means can be controlled, so that the processing liquid separated into an alkaline system, an acid system and neutral can be drained from a predetermined drain pipe. Further, since the switching operation of the switching unit can be constantly monitored by the switching detection unit, mixing of different types of drainage into the drainage pipe can be prevented beforehand, and
The recovery rate of the processing liquid can be increased, and the reuse can be improved.

【００１７】請求項５記載の発明は、請求項１ないし４
のいずれかに記載の発明に加えて、更に上記切換検知手
段からの検知信号に基づいて上記切換手段の切換状態を
知らせる切換確認手段を具備することを特徴とする。[0017] The invention according to claim 5 is the invention according to claims 1 to 4.
In addition to the invention described in any one of the above, further comprising a switching confirmation means for notifying a switching state of the switching means based on a detection signal from the switching detecting means.

【００１８】このように構成することにより、切換確認
手段によって切換手段の切換動作を確実に常時監視する
ことができるので、更に確実に排液管への異なる種類の
排液の混入を未然に防止することができると共に、処理
液の回収率を増大して再利用の向上を図ることができ
る。With this configuration, the switching operation of the switching means can be reliably monitored at all times by the switching confirmation means, so that mixing of different types of drainage into the drainage pipe can be more reliably prevented beforehand. In addition to the above, the recovery rate of the processing liquid can be increased to improve the reuse.

【００１９】請求項６記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段
と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段
と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上
記処理槽から処理液の排液を行う処理液排液手段と、を
具備することを特徴とする。この場合、上記処理液排液
手段からの処理液排液タイミングを遅延するように制御
可能な制御手段を更に具備してもよい（請求項７）。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids are provided. Switching means for switching the opening and closing of each drain pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; and drainage of the processing liquid from the processing tank after the switching detection means detects the switching state. And a treatment liquid draining means for performing the following. In this case, the apparatus may further include a control unit that can control the timing of draining the processing liquid from the processing liquid draining unit to be delayed.

【００２０】このように構成することによって、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液排液手段によって処理槽内の処理液が
排液される。したがって、排液管への異なる種類の排液
（濃度の異なる排液も含む）の混入を未然に防止するこ
とができると共に、処理液の回収率を増大して再利用の
向上を図ることができる。この場合、処理液排液手段か
らの処理液排液タイミングを遅延するように制御可能な
制御手段を更に具備することにより、処理に供された処
理液の排液の確認を確実にした後に、処理液排液手段に
よって排液を行うことができる（請求項７）。したがっ
て、異なる種類の排液（濃度の異なる排液も含む）の混
入を確実に防止することができる。With this configuration, the switching state of the switching means is detected by the switching detecting means, and the processing liquid in the processing tank is drained by the processing liquid draining means based on the detection signal. Accordingly, it is possible to prevent mixing of different types of drainage (including drainage with different concentrations) into the drainage pipe, and to increase the recovery rate of the processing liquid to improve the reuse. it can. In this case, by further providing a control unit that can be controlled to delay the processing liquid draining timing from the processing liquid draining unit, after confirming the drainage of the processing liquid subjected to the processing, Drainage can be performed by the processing liquid drainage means. Therefore, it is possible to reliably prevent mixing of different types of drains (including drains having different concentrations).

【００２１】請求項８記載の発明は、処理槽内に収容さ
れる被処理体に対して液処理を施す液処理装置におい
て、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の
排液管と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段
と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段
と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上
記処理槽に処理液の供給を行う処理液供給手段と、を具
備することを特徴とする。この場合、上記処理液供給手
段からの処理液供給開始タイミングを遅延するように制
御可能な制御手段を更に具備してもよい（請求項９）。According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids are provided. Switching means for switching the opening and closing of each drain pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; and supplying the processing liquid to the processing tank after the switching detection means detects the switching state. And a processing liquid supply unit. In this case, the apparatus may further include a control unit that can control so as to delay the processing liquid supply start timing from the processing liquid supply unit.

【００２２】このように構成することにより、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号に
基づいて処理液供給手段によって処理槽内に処理液が供
給される。したがって、処理に供された処理液の排液の
確認を行った後に、以後の処理に供される処理液の供給
を開始することができるので、被処理体が異なる処理液
によって受けるダメージを抑制することができる。この
場合、処理液供給手段からの処理液供給開始タイミング
を遅延するように制御可能な制御手段を更に具備するこ
とにより、処理に供された処理液の排液の確認を確実に
した後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始す
ることができる（請求項９）。したがって、被処理体が
異なる処理液によって受けるダメージを確実に抑制する
ことができる。With this configuration, the switching state of the switching unit is detected by the switching detection unit, and the processing liquid is supplied into the processing tank by the processing liquid supply unit based on the detection signal. Therefore, after confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, thereby suppressing damage to the object to be processed by the different processing liquid. can do. In this case, by further providing a control unit that can be controlled so as to delay the processing liquid supply start timing from the processing liquid supply unit, it is ensured that the processing liquid supplied to the processing is drained, and thereafter, The supply of the processing liquid used for the above processing can be started (claim 9). Therefore, it is possible to reliably suppress damage to the object by the different processing liquids.

【００２３】請求項１０記載の発明は、処理槽内に収容
される被処理体に対して液処理を施す液処理方法におい
て、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供
給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工程と、
各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液
管をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液
管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、
上記処理槽から上記処理液を排液する工程と、を有する
ことを特徴とする。この場合、上記検知工程で各排液管
の開閉状態が異常であることを検知した場合、予め設定
された処理液の排液開始を遅延させるようにしてもよい
（請求項１１）。また、上記検知工程で各排液管の開閉
状態が異常であることを検知した場合、再び上記開閉工
程と検知工程を行うようにしてもよい（請求項１４）。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a liquid processing method for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a processing liquid is supplied to the processing tank, Cleaning the object to be processed with a liquid,
A step of respectively opening and closing a plurality of drainage pipes for draining different types of processing liquids, a step of detecting an open / closed state of each opened and closed drainage pipe, and after the detection step,
Draining the treatment liquid from the treatment tank. In this case, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drainage pipe is abnormal, the start of the preset drainage of the processing liquid may be delayed (claim 11). Further, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drain pipe is abnormal, the open / close step and the detection step may be performed again (claim 14).

【００２４】請求項１０記載の発明によれば、各々異な
る種類の処理液を排液するための複数の排液管の開閉状
態を検知した後、処理槽から処理液を排液するので、排
液管への異なる種類の排液（濃度の異なる排液も含む）
の混入を未然に防止することができると共に、処理液の
回収率を増大して再利用の向上を図ることができる。こ
の場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異常であるこ
とを検知した場合、予め設定された処理液の排液開始を
遅延させることにより、処理に供された処理液の排液の
確認を確実にした後に、処理液の排液を開始することが
できる。したがって、異なる種類の排液（濃度の異なる
排液も含む）の混入を確実に防止することができる（請
求項１１）。また、上記検知工程で各排液管の開閉状態
が異常であることを検知した場合、再び上記開閉工程と
検知工程を繰り返すことにより、処理に供された処理液
の排液の確認を更に確実にした後に、処理に供された処
理液の排液を開始することができる（請求項１４）。According to the tenth aspect of the present invention, the processing liquid is drained from the processing tank after detecting the open / close state of a plurality of drain pipes for discharging different types of processing liquid. Different types of drainage into the liquid tube (including drains with different concentrations)
Can be prevented beforehand, and the recovery rate of the processing solution can be increased to improve reuse. In this case, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drainage pipe is abnormal, the start of drainage of the processing liquid set in advance is delayed so that the drainage of the processing liquid subjected to the processing is performed. After confirming the confirmation, the drainage of the processing liquid can be started. Therefore, it is possible to reliably prevent mixing of different types of drains (including drains having different concentrations). Further, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drain pipe is abnormal, the above-mentioned open / close step and the detection step are repeated again to further confirm the drainage of the processing liquid used for the processing. After that, the drainage of the processing liquid used for the processing can be started (claim 14).

【００２５】請求項１２記載の発明は、処理槽内に収容
される被処理体に対して液処理を施す液処理方法におい
て、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供
給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工程と、
各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液
管をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液
管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、
上記処理液と異なる処理液を上記処理槽に供給し被処理
体を洗浄処理する工程と、を有することを特徴とする。
この場合、上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常で
あることを検知した場合、予め設定された処理液の供給
開始を遅延させるようにしてもよい（請求項１３）。ま
た、上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であるこ
とを検知した場合、再び上記開閉工程と検知工程を行う
ようにしてもよい（請求項１４）。According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a liquid processing method for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a step of supplying a processing liquid to the processing tank; Cleaning the object to be processed with a liquid,
A step of respectively opening and closing a plurality of drainage pipes for draining different types of processing liquids, a step of detecting an open / closed state of each opened and closed drainage pipe, and after the detection step,
Supplying a processing liquid different from the processing liquid to the processing tank to perform a cleaning process on the object to be processed.
In this case, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drainage pipe is abnormal, the start of supply of the processing liquid set in advance may be delayed (claim 13). Further, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drain pipe is abnormal, the open / close step and the detection step may be performed again (claim 14).

【００２６】請求項１２記載の発明によれば、切換手段
の切換状態を切換検知手段にて検知した後、処理に供さ
れた処理液と異なる処理液を処理槽内に供給して洗浄処
理を施すことができる。したがって、処理に供された処
理液の排液の確認を行った後に、以後の処理に供される
処理液の供給を開始することができるので、被処理体が
異なる処理液によって受けるダメージを抑制することが
できる。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異
常であることを検知した場合、予め設定された処理液の
供給開始を遅延させることにより、処理に供された処理
液の排液の確認を確実にした後に、以後の処理に供され
る処理液の供給を開始することができる（請求項１
３）。したがって、被処理体が異なる処理液によって受
けるダメージを確実に抑制することができる。また、検
知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを検知し
た場合、再び上記開閉工程と検知工程を繰り返すことに
より、処理に供された処理液の排液の確認を更に確実に
した後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始す
ることができる（請求項１４）。According to the twelfth aspect of the present invention, after the switching state of the switching means is detected by the switching detection means, a processing liquid different from the processing liquid used for the processing is supplied into the processing tank to perform the cleaning processing. Can be applied. Therefore, after confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, thereby suppressing damage to the object to be processed by the different processing liquid. can do. In this case, when it is detected in the detection step that the opening / closing state of each drainage pipe is abnormal, the start of supply of the preset processing liquid is delayed to confirm the drainage of the processing liquid subjected to the processing. After ensuring that the supply of the processing liquid to be used in the subsequent processing can be started (claim 1).
3). Therefore, it is possible to reliably suppress damage to the object by the different processing liquids. In addition, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drainage pipe is abnormal, the above-mentioned open / close step and the detection step are repeated again to more reliably confirm the drainage of the processing liquid used for the processing. After that, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started (claim 14).

【００２７】[0027]

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、被処理体で
ある半導体ウエハ（以下にウエハという）の洗浄処理を
行う液処理装置について説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Here, a liquid processing apparatus that performs a cleaning process on a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer) that is an object to be processed will be described.

【００２８】図１は、この発明に係る液処理装置を具備
する洗浄処理システムを示す概略構成図、図２は、液処
理装置を示す概略構成図、図３は、液処理装置の処理工
程を示すタイムチャート、図４は、液処理装置の処理工
程を示すフローチャート、図５は、液処理装置の一例を
示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a cleaning system including a liquid processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a liquid processing apparatus, and FIG. FIG. 4 is a flowchart showing processing steps of the liquid processing apparatus, and FIG. 5 is a schematic sectional view showing an example of the liquid processing apparatus.

【００２９】上記洗浄処理システムは、被処理体である
ウエハＷ表面の自然酸化膜や金属汚染を除去する例えば
希フッ酸（ＤＨＦ）を使用する第１の薬液処理ユニット
ＳＵ１と、ウエハＷ表面の有機汚染を除去する例えば硫
酸過水｛Ｈ2ＳＯ4／Ｈ2Ｏ2}（ＳＰＭ）を使用する第２
の薬液処理ユニットＳＵ２と、ウエハＷ表面のパーティ
クルを除去するアンモニア過水｛ＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2／
Ｈ2Ｏ}（ＳＣ１）を使用する第３の薬液処理ユニットＳ
Ｕ３と、ウエハＷ表面のパーティクル、自然酸化膜や金
属汚染等の除去とケミカル酸化膜生成を行う希フッ酸
（ＤＨＦ），塩酸過水｛ＨＣｌ／Ｈ2Ｏ2／Ｈ2Ｏ}（ＳＣ
２），アンモニア過水｛ＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2／Ｈ2Ｏ}を
選択使用する第４の薬液処理ユニットＳＵ４とを具備
し、更に、ウエハＷ表面の水洗処理を行う純水を使用す
る洗浄処理ユニットＳＵ５と、ウエハＷの乾燥処理を行
う乾燥処理ユニットＳＵ６とを具備している。The cleaning processing system includes a first chemical liquid processing unit SU1 using, for example, dilute hydrofluoric acid (DHF) for removing a natural oxide film and metal contamination on the surface of the wafer W as an object to be processed, and a wafer W surface. A second method using organic peroxide {H2SO4 / H2O2} (SPM) to remove organic pollution
And a chemical solution processing unit SU2, and an aqueous ammonia / NH4OH / H2O2 /
Third chemical solution processing unit S using H2O} (SC1)
U3, dilute hydrofluoric acid (DHF) for removing particles on the surface of the wafer W, natural oxide film, metal contamination, etc. and forming a chemical oxide film, HCl / H 2 O 2 / H 2 O} (SC
2) a fourth chemical solution processing unit SU4 that selectively uses ammonia peroxide {NH4OH / H2O2 / H2O}, and a cleaning unit SU5 that uses pure water for performing a water cleaning process on the surface of the wafer W; And a drying unit SU6 for performing a drying process on the wafer W.

【００３０】また、洗浄処理システムには、第１〜第４
の薬液処理ユニットＳＵ１〜ＳＵ４と、洗浄処理ユニッ
トＳＵ５及び乾燥処理ユニットＳＵ６から排出される排
液を分離して排液する６系列の排液管１〜６が配管され
ている。すなわち、第１の薬液処理ユニットＳＵ１に
は、開閉弁Ｖａを介設した連結管７ａを介して高濃度酸
ドレンの排液管１（以下に高濃度酸排液管１という）が
連通されている。また、第２の薬液処理ユニットＳＵ２
には、冷却機構８及び開閉弁Ｖｂを介設した連結管７ｂ
を介して高濃度の硫酸の排液管２（以下にＳＰＭ排液管
２という）が連通されている。また、第３の薬液処理ユ
ニットＳＵ３には、開閉弁Ｖｃを介設した連結管７ｃを
介して高濃度アルカリドレンの排液管３（以下に高濃度
アルカリ排液管３という）が連通されている。また、第
４の薬液処理ユニットＳＵ４には、後述する切換手段で
ある排液切換弁１０を介設する複数例えば３本の連結管
７ｄを介して酸ドレンの排液管４（以下に酸排液管４と
いう）と、アルカリドレンの排液管５（以下にアルカリ
排液管５という）及び純水の回収ドレンの排液管６（以
下に回収排液管６という）が連通されている。なお、洗
浄処理ユニットＳＵ５には、切換手段である排液切換弁
１０ａを介設する２本のＤＨＦとＩＰＡと純水の排液用
の連結管７ｅを介して酸排液管４と回収排液管６が連通
されている。また、乾燥処理ユニットＳＵ６には、切換
手段である排液切換弁１０ｂを介設する２本のＤＨＦと
ＩＰＡと純水の排液用の連結管７ｆを介してアルカリ排
液管５と回収排液管６が連通されている。The cleaning system includes first to fourth
And six series of drainage pipes 1 to 6 for separating and draining the drainage discharged from the cleaning unit SU5 and the drying unit SU6. That is, the first chemical treatment unit SU1 is connected to the drain pipe 1 of the high-concentration acid drain (hereinafter referred to as the high-concentration acid drain pipe 1) through the connection pipe 7a provided with the on-off valve Va. I have. Further, the second chemical solution processing unit SU2
Has a connecting pipe 7b provided with a cooling mechanism 8 and an on-off valve Vb.
A drain pipe 2 for high-concentration sulfuric acid (hereinafter referred to as an SPM drain pipe 2) is communicated through the. Further, a drain pipe 3 for high-concentration alkaline drain (hereinafter referred to as a high-concentration alkaline drain pipe 3) is connected to the third chemical processing unit SU3 via a connection pipe 7c provided with an on-off valve Vc. I have. Further, the fourth chemical solution processing unit SU4 is connected to a drain pipe 4 (hereinafter referred to as an acid drain pipe) of the acid drain through a plurality of, for example, three connecting pipes 7d provided with a drain switching valve 10 as a switching means to be described later. A liquid drain pipe 5 (hereinafter referred to as an alkaline drain pipe 5) and a drain pipe 6 of a pure water recovery drain (hereinafter referred to as a recovery drain pipe 6) communicate with each other. . The cleaning unit SU5 is connected to the acid drain pipe 4 and the drainage pipe 4 via two connecting pipes 7e for draining DHF, IPA and pure water, which are provided with a drainage switching valve 10a as a switching means. The liquid pipe 6 is connected. Further, the drying unit SU6 is connected to the alkali drain pipe 5 and the recovery drain pipe via two connecting pipes 7f for draining the DHF, IPA and pure water provided with a drain switching valve 10b as a switching means. The liquid pipe 6 is connected.

【００３１】なお、上記第１〜第４の薬液処理ユニット
ＳＵ１〜ＳＵ４と洗浄処理ユニットＳＵ５には、図１に
おいて図示しないが、ウエハＷを収容する処理槽と、処
理槽内に処理液を供給する処理液供給源が具備されてい
る。Although not shown in FIG. 1, the first to fourth chemical liquid processing units SU1 to SU4 and the cleaning processing unit SU5 are provided with a processing tank for accommodating a wafer W and a processing liquid supplied to the processing tank. A processing liquid supply source is provided.

【００３２】次に、この発明に係る液処理装置につい
て、図２及び図５に示す第４の薬液処理ユニットＳＵ４
を参照して詳細に説明する。Next, in the liquid processing apparatus according to the present invention, a fourth chemical liquid processing unit SU4 shown in FIGS.
This will be described in detail with reference to FIG.

【００３３】上記液処理装置は、ウエハＷの薬液処理部
２０と、薬液処理部２０に処理液例えばＤＨＦ，ＳＣ
２，ＳＣ１や純水を供給する処理液供給部３０（処理液
供給手段）と、薬液処理部２０から処理に供された処理
液を排液する排液部４０（処理液排液手段）とで主要部
が構成されている。The liquid processing apparatus includes a chemical processing section 20 for the wafer W and a processing liquid such as DHF, SC
2, a treatment liquid supply section 30 (treatment liquid supply means) for supplying SC1 and pure water, and a discharge section 40 (treatment liquid discharge means) for discharging the treatment liquid supplied for processing from the chemical liquid treatment section 20. The main part is constituted by.

【００３４】上記薬液処理部２０は、複数枚例えば５０
枚（カセット２個分）のウエハＷを適宜間隔をおいて垂
直状態に保持するウエハボート２１と、このウエハボー
ト２１によってウエハＷを収容する処理槽２２と、処理
槽２２の下部に配置されて、必要に応じて処理槽に超音
波を伝達する超音波発生装置２３とで主に構成されてい
る。The chemical processing section 20 includes a plurality of
A wafer boat 21 for holding a plurality of wafers W (for two cassettes) in a vertical state at appropriate intervals, a processing tank 22 for accommodating wafers W by the wafer boat 21, and a lower part of the processing tank 22 And an ultrasonic generator 23 for transmitting ultrasonic waves to the processing tank as needed.

【００３５】この場合、処理槽２２は、上記複数枚（５
０枚）のウエハＷを収容する内槽２２ａと、この内槽２
２ａからオーバーフローした処理液を受け止める外槽２
２ｂとで構成されており、内槽２２ａ内の下部に処理液
供給ノズル２４が配設されている。なお、内槽２２ａの
底面は長手方向の一端から他端に向かって傾斜しており
傾斜下端側に開閉弁Ｖ７を介設した内槽ドレン管２５が
連通されている。また、外槽２２ｂの底部には外槽ドレ
ン管２６が連通されている。In this case, the processing tank 22 is provided with a plurality of (5
(0) wafer W, and the inner tank 2a.
Outer tank 2 for receiving the processing solution overflowing from 2a
2b, and a processing liquid supply nozzle 24 is provided at a lower portion in the inner tank 22a. The bottom surface of the inner tank 22a is inclined from one end in the longitudinal direction to the other end, and an inner tank drain pipe 25 provided with an on-off valve V7 is communicated with the lower end of the inclination. An outer tank drain pipe 26 communicates with the bottom of the outer tank 22b.

【００３６】超音波発生装置２３は、内槽２２ａの下部
を浸漬する振動伝播用の液体を貯留する超音波槽２３ａ
と、この超音波槽２３ａの底部に配設される超音波発振
手段２３ｂとを具備している。なお、超音波槽２３ａ内
の振動伝播用液体は、ドレン管２３ｃを介して専用の排
液管２７に連通されている（図５参照）。この超音波発
生装置２３は、処理槽２２内に例えばＳＣ１が供給され
る際に使用されるようになっている。The ultrasonic generator 23 is an ultrasonic tank 23a for storing a liquid for vibration propagation in which the lower part of the inner tank 22a is immersed.
And an ultrasonic oscillation unit 23b disposed at the bottom of the ultrasonic tank 23a. The liquid for vibration propagation in the ultrasonic bath 23a is connected to a dedicated drain pipe 27 via a drain pipe 23c (see FIG. 5). The ultrasonic generator 23 is used when, for example, SC1 is supplied into the processing tank 22.

【００３７】上記処理槽２２及び超音波発生装置２３の
超音波槽２３ａは、これら処理槽２２すなわち内槽２２
ａ及び外槽２２ｂや超音波槽２３ａから零れたり飛散す
る処理液等を受け止めるパンを有するシンクボックス５
０内に配置されている。このシンクボックス５０の底部
には、このシンクボックス５０内に飛散あるいは漏液さ
れた液を検知する後述する漏液センサ１０３，１０４が
配設されている。また、シンクボックス５０の上方に
は、第１〜第４の薬液タンク３３ａ〜３３ｄを収容する
薬液タンク収容室５１が設けられている。この薬液タン
ク収容室５１底部にも、第１〜第４の薬液タンク３３ａ
〜３３ｄから飛散あるいは漏液された液を検知する後述
する漏液センサ１０３，１０４が配設されている。The processing tank 22 and the ultrasonic tank 23a of the ultrasonic generator 23 are provided with the processing tank 22, that is, the inner tank 22.
a and a sink box 5 having a pan for receiving a processing liquid or the like spilled or scattered from the outer tank 22b or the ultrasonic tank 23a.
0. At the bottom of the sink box 50, there are provided liquid leakage sensors 103 and 104, which will be described later, for detecting liquid scattered or leaked into the sink box 50. Above the sink box 50, a chemical liquid tank storage chamber 51 that stores the first to fourth chemical liquid tanks 33a to 33d is provided. The first to fourth chemical tanks 33a are also provided at the bottom of the chemical tank storage chamber 51.
Liquid leakage sensors 103 and 104, which will be described later, which detect the liquid scattered or leaked from the liquid crystals 33d.

【００３８】上記排液部４０は、上記シンクボックス５
０の底部に設けられた連通孔（図示せず）を介して上記
内槽ドレン管２５及び外槽ドレン管２６と、上記酸排液
管４、回収排液管６及びアルカリ排液管５とを連通する
連結管７ｄを具備している。そして、この連結管７ｄに
は、処理槽２２と各排液管４，５，６との連通を切り換
える切換手段である排液切換弁１０が介設されている。
また、排液切換弁１０には、この排液切換弁１０の各排
液管４，５，６への切換状態を検知する切換検知手段で
ある切換検知用のセンサ１１（以下に切換検知センサ１
１という）が設けられている。また、切換検知センサ１
１にて検知した検知信号は制御手段である中央演算処理
装置６０（以下にＣＰＵ６０という）に伝達され、ＣＰ
Ｕ６０からの制御信号に基づいて切換確認手段例えばモ
ニタ７０あるいはランプ７１にて排液切換弁１０の切換
状態が常時確認できるように構成されている。The drain unit 40 is provided with the sink box 5.
The inner drain pipe 25 and the outer drain pipe 26, the acid drain pipe 4, the recovery drain pipe 6, and the alkali drain pipe 5 are connected to each other through a communication hole (not shown) provided at the bottom of the pipe 0. Is provided with a connecting pipe 7d that communicates with. The connection pipe 7d is provided with a drainage switching valve 10 as switching means for switching the communication between the processing tank 22 and the drainage pipes 4, 5, and 6.
Further, the drainage switching valve 10 includes a switching detection sensor 11 (hereinafter, a switching detection sensor) which is a switching detection means for detecting a switching state of the drainage switching valve 10 to each of the drainage pipes 4, 5, and 6. 1
1). Switching detection sensor 1
1 is transmitted to a central processing unit 60 (hereinafter referred to as a CPU 60) as a control means,
The switching state of the drainage switching valve 10 can be constantly confirmed by the switching confirmation means such as the monitor 70 or the lamp 71 based on the control signal from the U60.

【００３９】この場合、排液切換弁１０は、図６及び図
７に示すように、処理槽２２側に連通する１つの流入側
ポートＰ１と、複数の排液管４，５，６に連通する３個
の流出側ポートＰ２，Ｐ３，Ｐ４とを切り換える一体型
の４ポート３位置切換弁にて形成されている。このよう
に形成される排液切換弁１０には、流入側ポートＰ１と
流出側ポートＰ２，Ｐ３，Ｐ４（図７では、流出側ポー
トＰ２の場合を示す）とを切り換える（開閉する）弁体
１２が、シリンダ室１３内に摺動可能に嵌挿されるピス
トンロッド１４に連結されており、シリンダ室１３の両
端部に設けられたエアー給排ポート１５ａ，１５ｂに図
示しないエアー供給源からエアーが選択的に供給される
ことによって弁体１２が切換動作し得るように構成され
ている。また、ピストンロッド１４の弁体１２と反対側
には切換動作確認用のロッド１６がシリンダ室１３の外
部に突出可能に連結されており、このロッド１６の突出
の有無を上記切換検知センサ１１例えば発光素子１１ａ
と受光素子１１ｂとからなるホトセンサによって検知し
得るように構成されている。すなわち、ロッド１６は、
弁体１２が閉鎖状態（ＯＦＦ状態）のときには、シリン
ダ室１３内に引っ込み外部には露出しないので、切換検
知センサ１１の光はロッド１６によって遮られず、切換
動作しないと判断して、その検知信号をＣＰＵ６０に伝
達する（図７（ａ）参照）。また、ロッド１６は、弁体
１２が開放状態（ＯＮ状態）のときには、シリンダ室１
３の外部に突出するので、切換検知センサ１１の光はロ
ッド１６によって遮られ、切換動作状態であると判断し
て、その検知信号をＣＰＵ６０に伝達する（図７（ｂ）
参照）。なお、ピストンロッド１４及びロッド１６の摺
動部には、Ｏリング等のシール部材１７，１８が配設さ
れて気水密の維持が図られている。In this case, as shown in FIGS. 6 and 7, the drain switching valve 10 communicates with one inlet port P1 communicating with the processing tank 22 and a plurality of drain pipes 4, 5, and 6. And three outflow ports P2, P3, and P4. The drainage switching valve 10 thus formed has a valve body that switches (opens and closes) between the inflow-side port P1 and the outflow-side ports P2, P3, and P4 (in FIG. 7, the case of the outflow-side port P2 is shown). 12 is connected to a piston rod 14 that is slidably inserted into the cylinder chamber 13, and air is supplied from an air supply source (not shown) to air supply / discharge ports 15 a and 15 b provided at both ends of the cylinder chamber 13. The valve element 12 is configured to be able to perform a switching operation by being selectively supplied. A rod 16 for confirming the switching operation is connected to the piston rod 14 on the side opposite to the valve element 12 so as to be able to protrude outside the cylinder chamber 13. Light emitting element 11a
And a light sensor 11b. That is, the rod 16
When the valve element 12 is in the closed state (OFF state), it is retracted into the cylinder chamber 13 and is not exposed to the outside. Therefore, the light of the switching detection sensor 11 is not blocked by the rod 16 and it is determined that the switching operation is not performed. The signal is transmitted to the CPU 60 (see FIG. 7A). When the valve body 12 is in the open state (ON state), the rod 16 is in the cylinder chamber 1.
3, the light from the switching detection sensor 11 is blocked by the rod 16, it is determined that the switching operation is being performed, and the detection signal is transmitted to the CPU 60 (FIG. 7B).
reference). In addition, seal members 17 and 18 such as O-rings are provided on sliding portions of the piston rod 14 and the rod 16 to maintain airtightness.

【００４０】また、ＣＰＵ６０には、処理工程と処理液
の供給量や供給時間等の情報が予め記憶されており、こ
の記憶された情報と切換検知センサ１１からの検知信号
とに基づいて後述する開閉手段の開閉制御が行われるよ
うに形成されている。Further, the CPU 60 previously stores information such as the processing step and the supply amount and supply time of the processing liquid, and will be described later based on the stored information and the detection signal from the switching detection sensor 11. The opening and closing control of the opening and closing means is formed.

【００４１】一方、上記処理液供給部３０は、処理液供
給ノズル２４と処理液供給源である純水供給源３１（Ｄ
ＩＷ）とを連通する主供給管３２と、この主供給管３２
と処理液供給源である第１の薬液供給源３３ａ（以下に
第１の薬液タンク３３ａという）とを連通する第１の薬
液供給管３４ａと、主供給管３２と処理液供給源である
第２の薬液供給源３３ｂ（以下に第２の薬液タンク３３
ｂという）とを連通する第２の薬液供給管３４ｂと、主
供給管３２と処理液供給源である第３の薬液供給源３３
ｃ（以下に第３の薬液タンク３３ｃという）とを連通す
る第３の薬液供給管３４ｃと、主供給管３２と処理液供
給源である第４の薬液供給源３３ｄ（以下に第４の薬液
タンク３３ｄという）とを連通する第４の薬液供給管３
４ｄとを具備している。On the other hand, the processing liquid supply section 30 includes a processing liquid supply nozzle 24 and a pure water supply source 31 (D
IW), and a main supply pipe 32 communicating with the main supply pipe 32
A first chemical liquid supply pipe 34a that communicates with a first chemical liquid supply source 33a (hereinafter referred to as a first chemical liquid tank 33a) that is a processing liquid supply source; The second chemical liquid supply source 33b (hereinafter referred to as the second chemical liquid tank 33)
b), a main chemical supply pipe 32 and a third chemical supply source 33 which is a processing liquid supply source.
c (hereinafter, referred to as a third chemical liquid tank 33c), a third chemical liquid supply pipe 34c, a main chemical supply pipe 32, and a fourth chemical liquid supply source 33d as a processing liquid supply source (hereinafter, a fourth chemical liquid supply 33d). 4th chemical | medical solution supply pipe | tube 3 which communicates with the tank 33d).
4d.

【００４２】この場合、第１〜第４の薬液タンク３３ａ
〜３３ｄ内に貯留された薬液は、薬液タンク３３ａ〜３
３ｄ内に供給される圧送用ガス例えばＮ2ガスの加圧に
よって薬液供給管３４ａ〜３４ｄ側に流れるようになっ
ている。なお、第１〜第４の薬液タンク３３ａ〜３３ｄ
内の薬液の量は、各薬液タンク３３ａ，３３ｂ，３３
ｃ，３３ｄの外側に配設された複数の液位センサ３５に
よって監視されている。In this case, the first to fourth chemical liquid tanks 33a
The liquid medicines stored in the liquid medicine tanks 33a to 33d
The gas is supplied to the inside of 3d and flows to the side of the chemical supply pipes 34a to 34d by pressurization of a gas for pressure feeding, for example, N2 gas. The first to fourth chemical liquid tanks 33a to 33d
The amount of the chemical solution in each of the chemical solution tanks 33a, 33b, 33
It is monitored by a plurality of liquid level sensors 35 disposed outside c and 33d.

【００４３】また、主供給管３２には、純水供給源３１
側から順に開閉手段である純水供給用の主開閉弁Ｖ01と
流量調整用のレギュレータ３６が介設されている。な
お、主供給管３２における主開閉弁Ｖ01の上流側（一次
側）とレギュレータ３６の流出側（二次側）とにバイパ
ス管３７が連通されており、このバイパス管３７に開閉
手段である節水用の開閉弁Ｖが介設されている。また、
主供給管３２における主開閉弁Ｖの流出側（二次側）
と、別の純水供給源であるホット純水供給源３１ａ（Ｈ
ＯＴＤＩＷ）とがホット純水供給管３２ａを介して連通
されている。なお、ホット純水供給管３２ａには開閉手
段である開閉弁Ｖ02が介設されている。The main supply pipe 32 has a pure water supply source 31.
A main opening / closing valve V01 for supplying pure water, which is an opening / closing means, and a regulator 36 for adjusting the flow rate are provided in this order from the side. A bypass pipe 37 is connected to an upstream side (primary side) of the main opening / closing valve V01 in the main supply pipe 32 and to an outlet side (secondary side) of the regulator 36. Opening / closing valve V is provided. Also,
Outflow side (secondary side) of main open / close valve V in main supply pipe 32
And a hot pure water supply source 31a (H
OTDIW) is communicated through a hot pure water supply pipe 32a. The hot pure water supply pipe 32a is provided with an opening / closing valve V02 as opening / closing means.

【００４４】また、第１〜第３の薬液供給管３４ａ〜３
４ｄには、それぞれ第１〜第３の薬液タンク３３ａ〜３
３ｃ側から順に第１〜第３の可変オリフィス３８ａ，３
８ｂ，３８ｃと開閉手段である第１〜第３の開閉弁Ｖ
１，Ｖ２，Ｖ３が介設されている。また、第４の薬液供
給管３４ｄは、２ラインに分岐されており、分岐部分に
おいて、第１〜第３の薬液供給管３４ａ〜３４ｃと同様
に、第４及び第５の可変オリフィス３８ｄ，３８ｅと開
閉手段である第４及び第５の開閉弁Ｖ４，Ｖ５が介設さ
れている。The first to third chemical supply pipes 34a to 34a-3
4d includes first to third chemical liquid tanks 33a to 33d, respectively.
The first to third variable orifices 38a, 38c are sequentially arranged from the 3c side.
8b, 38c and first to third on-off valves V as opening / closing means
1, V2 and V3 are interposed. Further, the fourth chemical supply pipe 34d is branched into two lines, and at the branch portion, similarly to the first to third chemical supply pipes 34a to 34c, the fourth and fifth variable orifices 38d, 38e. And fourth and fifth opening / closing valves V4 and V5 as opening / closing means.

【００４５】この場合、上記可変オリフィス３８ａ〜３
８ｅは、例えば第３の可変オリフィス３８ｃを代表して
説明すると、第３の可変オリフィス３８ｃは、図８に示
すように、第３の薬液供給管３４ｃの途中に設けられた
小径通路８０の上流側（一次側）の開口８１内に進退可
能なニードル８２と、このニードル８２の端部に連結さ
れる熱膨張率の高い材質例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフ
ルオロエチレン）等の合成樹脂製の熱膨張ブロック８３
と、この熱膨張ブロック８３の外周近傍位置に配設され
るヒータ８４と、熱膨張ブロック８３の温度を検出する
温度センサ８５と、温度センサ８５からの検出信号に基
づいてヒータ８４の温度を制御する制御手段であるＣＰ
Ｕ（図示せず）とで主に構成されている。In this case, the variable orifices 38a to 38a-3
8e is representative of, for example, the third variable orifice 38c. As shown in FIG. 8, the third variable orifice 38c is located upstream of a small-diameter passage 80 provided in the middle of the third chemical liquid supply pipe 34c. A needle 82 which can advance and retreat into an opening 81 on the side (primary side), and a thermal expansion block made of a synthetic resin such as PTFE (polytetrafluoroethylene) or the like having a high thermal expansion coefficient connected to an end of the needle 82 83
And a heater 84 disposed near the outer periphery of the thermal expansion block 83, a temperature sensor 85 for detecting the temperature of the thermal expansion block 83, and controlling the temperature of the heater 84 based on a detection signal from the temperature sensor 85. CP as control means
U (not shown).

【００４６】このように構成されて可変オリフィス３８
ｃによれば、ヒータ８４によって熱膨張ブロック８３を
加熱することで、熱膨張ブロック８３が膨張し、その膨
張分ニードル８２が小径通路８０の開口８１内に進入し
て開口８１とニードル８２のテーパー面との隙間を調整
することができる。この際、熱膨張ブロック８３の熱膨
張率のデータを予めＣＰＵに記憶させておき、この記憶
された熱膨張率のデータと温度センサ８５からの検出信
号とに基づいてヒータ８４を温度制御することによっ
て、薬液の供給量を調整することができる。したがっ
て、Ｎ2ガスの供給量の調節では困難であった薬液の高
精度の微量調整が可能となる。The variable orifice 38 constructed as described above
According to c, when the thermal expansion block 83 is heated by the heater 84, the thermal expansion block 83 expands, and the expansion needle 82 enters the opening 81 of the small-diameter passage 80, and the taper between the opening 81 and the needle 82. The gap with the surface can be adjusted. At this time, data of the coefficient of thermal expansion of the thermal expansion block 83 is stored in the CPU in advance, and the temperature of the heater 84 is controlled based on the stored data of the coefficient of thermal expansion and a detection signal from the temperature sensor 85. Thereby, the supply amount of the chemical solution can be adjusted. Therefore, it is possible to perform a high-precision micro-adjustment of the chemical solution, which has been difficult by adjusting the supply amount of the N2 gas.

【００４７】なお、上記純水供給源３１に補助供給管３
２ｂを介して上記処理槽２２の上方に配設される洗浄ノ
ズル３９が連通されている。また、補助供給管３２ｂに
は、洗浄用開閉弁Ｖ８が介設されており、この洗浄用開
閉弁Ｖ６の上流側（一次側）から分岐する分岐管３２ｃ
が上記超音波槽２３ａ内に配設される振動伝播用液体供
給ノズル２３ｄに連通されている。The auxiliary water supply pipe 3 is connected to the pure water supply source 31.
A cleaning nozzle 39 disposed above the processing tank 22 is communicated via 2b. Further, a cleaning on-off valve V8 is provided in the auxiliary supply pipe 32b, and a branch pipe 32c branched from the upstream side (primary side) of the cleaning on-off valve V6.
Are connected to a vibration-propagating liquid supply nozzle 23d provided in the ultrasonic bath 23a.

【００４８】なお、上記第１〜第４の薬液処理ユニット
ＳＵ１〜ＳＵ４、洗浄処理ユニットＳＵ５のうちで、薬
液あるいは純水を所定の温度に保温する必要がある場合
には、薬液供給源３２ａ〜３２ｄあるいは純水供給源３
１からヒータが設けられた秤量タンク２２Ａに一旦貯留
して加温される。例えば、図９に示すように、洗浄処理
ユニットＳＵ５における秤量タンク２２Ａの下面には複
数のヒータ９０が取り付けられている。このヒータ９０
は、洗浄処理槽２２の側面に着脱可能に装着されるヒー
ターカバー９１に取り付けられたコネクタ９２を介して
図示しない電源側に接続されている。なお、ヒーターカ
バー９１の側端部には、ヒーターカバー９１の装着状態
と取外し状態とを検知するリミット・スイッチ９３が取
り付けられ、また、ヒーターカバー９１には化粧カバー
９４が着脱可能に取り付けられている。このように、ヒ
ータ９０をコネクタ９２を介して電源側に接続すること
により、ヒータ９０の交換時にコネクタ９２を外す必要
があるので、交換時には必ず電源が遮断される。したが
って、ヒータ９０の交換時に電源の切り忘れによる災害
を防止することができる。In the first to fourth chemical processing units SU1 to SU4 and the cleaning processing unit SU5, when it is necessary to keep the chemical or pure water at a predetermined temperature, the chemical supply sources 32a to 32c are used. 32d or pure water source 3
From 1 is temporarily stored in a weighing tank 22A provided with a heater and heated. For example, as shown in FIG. 9, a plurality of heaters 90 are attached to the lower surface of the weighing tank 22A in the cleaning unit SU5. This heater 90
Is connected to a power supply (not shown) via a connector 92 attached to a heater cover 91 which is detachably attached to the side surface of the cleaning tank 22. A limit switch 93 for detecting a mounted state and a detached state of the heater cover 91 is attached to a side end portion of the heater cover 91, and a decorative cover 94 is detachably attached to the heater cover 91. I have. Since the heater 90 is connected to the power supply via the connector 92 in this manner, the connector 92 needs to be disconnected when the heater 90 is replaced, so that the power is always shut off when the heater 90 is replaced. Therefore, a disaster caused by forgetting to turn off the power when replacing the heater 90 can be prevented.

【００４９】また、上記第１〜第４の薬液処理ユニット
ＳＵ１〜ＳＵ４、洗浄処理ユニットＳＵ５及び乾燥処理
ユニットＳＵ６においては、装置稼働時は勿論、メンテ
ナンス時や停電時においても常時、排気及び漏液状態が
監視できるように排気及び漏液管理システムが組み込ま
れている。この排気及び漏液管理システムについて、図
１０及び図１１に示す複数の薬液処理ユニット例えばＤ
ＨＦ等の酸系の薬液及びＩＰＡ等の有機溶媒を使用する
乾燥処理ユニットＳＵＡと、例えばＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2
／Ｈ2Ｏ等のアルカリ系薬液を使用する薬液処理ユニッ
トＳＵＢ（ＳＣ１）と、例えばＨ2ＳＯ4／Ｈ2Ｏ2等の酸
系の薬液を使用する薬液処理ユニットＳＵＣ（ＳＰＭ）
と、例えばＤＨＦ等の酸系の薬液を使用する薬液処理ユ
ニットＳＵＤ（ＤＨＦ）を参照して説明する。In the first to fourth chemical processing units SU1 to SU4, the cleaning processing unit SU5, and the drying processing unit SU6, exhaust and liquid leakage are always performed not only during operation of the apparatus but also during maintenance or power failure. An exhaust and leak management system is incorporated so that conditions can be monitored. Regarding this exhaust and liquid leakage management system, a plurality of chemical processing units such as D shown in FIGS.
A drying processing unit SUA using an acid-based chemical such as HF and an organic solvent such as IPA, for example, NH4OH / H2O2
Chemical treatment unit SUB (SC1) using an alkaline chemical such as / H2O and a chemical treatment unit SUC (SPM) using an acid chemical such as H2SO4 / H2O2
For example, a description will be given with reference to a chemical processing unit SUD (DHF) using an acid-based chemical such as DHF.

【００５０】上記排気及び漏液管理システムは、各薬液
処理ユニットＳＵＡ〜ＳＵＤに配管される排気管１００
に配設されて排気管１００中の排気圧を検知する複数す
なわち第１及び第２の排気圧センサ１０１，１０２と、
シンクボックス５０の底部に配設されてシンクボックス
５０内の漏液を検出する複数すなわち第１及び第２の漏
液センサ１０３，１０４とを具備している。これら排気
圧センサ１０１，１０２と漏液センサ１０３，１０４の
うち、第１の排気圧センサ１０１と第１の漏液センサ１
０３は、動作停止の回路１１０を介して制御手段６０Ａ
に電気的に接続されて、装置の稼働中に排気圧の低下や
漏液の異常が発生した場合に、制御手段６０Ａからの信
号によってパトライト１２０が点灯すると共に、ブザー
１２１が作動するようになっている。また、第２の排気
圧センサ１０２と第２の漏液センサ１０４は、バックア
ップ要電源１４０によって作動する監視の回路１３０を
介して制御手段６０Aに電気的に接続されて、装置の停
止中や停電時に排気圧の低下や漏液の異常が発生した場
合に、制御手段６０Ａからの信号によってパトライト１
２０が点灯すると共に、ブザー１２１が作動するように
なっている。なお、バックアップ要電源１４０の持続時
間は、処理状況に応じて適宜設定しておけばよい。例え
ば、薬液処理槽が主電源の停止後、節水に切り換わり純
水に置換する時間が６０分とすると、この処理時間６０
分に安全率１．５をかけた時間９０分をバックアップ要
電源１４０の持続時間とすることができる。The exhaust and liquid leakage management system includes an exhaust pipe 100 that is connected to each of the chemical processing units SUA to SUD.
A plurality of first and second exhaust pressure sensors 101 and 102 which are disposed in the exhaust pipe 100 to detect the exhaust pressure in the exhaust pipe 100;
A plurality of, that is, first and second leak sensors 103 and 104 are provided at the bottom of the sink box 50 and detect a leak in the sink box 50. Among the exhaust pressure sensors 101 and 102 and the liquid leak sensors 103 and 104, the first exhaust pressure sensor 101 and the first liquid leak sensor 1
03 is a control unit 60A via the operation stop circuit 110.
When the exhaust pressure is reduced or a liquid leakage abnormality occurs during the operation of the apparatus, the signal from the control means 60A turns on the signal light 120 and activates the buzzer 121. ing. Further, the second exhaust pressure sensor 102 and the second liquid leak sensor 104 are electrically connected to the control means 60A via a monitoring circuit 130 operated by a backup power supply 140, so that the apparatus is stopped or a power failure occurs. When the exhaust pressure drops or a liquid leakage abnormality occurs, the signal from the control
20 is turned on, and the buzzer 121 is operated. Note that the duration of the backup power supply 140 may be set as appropriate according to the processing situation. For example, assuming that the time required for the chemical solution treatment tank to switch to water saving and to be replaced with pure water after the main power supply is stopped is 60 minutes, the processing time is 60 minutes.
The duration of the backup power source 140 can be set to 90 minutes, which is obtained by multiplying the safety factor by 1.5.

【００５１】なお、図１０において、符号ＭＣは、メイ
ンコントローラであり、このメインコントローラＭＣか
らの制御信号がモニタＭに伝達されるようになってい
る。また、符号ＳＴは、薬液処理ユニットＳＵＡの制御
手段６０Ａからの制御信号を受けて所定の信号例えば点
灯等を発するシグナルタワーである。なお、図１１にお
いて、符号ＨＣは、ヒーターコントローラであり、符号
ＳＶは、薬液タンクの安全弁である。In FIG. 10, reference numeral MC denotes a main controller, and a control signal from the main controller MC is transmitted to the monitor M. Reference numeral ST denotes a signal tower that receives a control signal from the control unit 60A of the chemical solution processing unit SUA and emits a predetermined signal such as lighting. In FIG. 11, reference numeral HC denotes a heater controller, and reference numeral SV denotes a safety valve of a chemical liquid tank.

【００５２】上記のように、排気圧センサ１０１，１０
２と漏液センサ１０３，１０４を二重化した排気及び漏
液管理システムを用いることにより、装置の稼働中に、
排気圧の低下が発生した場合には、動作停止の回路１１
０が作動して、各薬液処理ユニットＳＵＡ〜ＳＵＤのポ
ンプを停止し、ヒーターをＯＦＦ状態にし、更に装置の
駆動を停止すると共に、ブザー１２１をＯＮにする一
方、監視の回路１３０が作動して、パトライト１２０を
点灯すると共に、ブザー１２１をＯＮにする。また、装
置の稼働中に、漏液が発生した場合には、動作停止の回
路１１０が作動して、各薬液処理ユニットＳＵＡ〜ＳＵ
Ｄのポンプを停止すると共に、ヒーターをＯＦＦ状態に
し、ブザー１２１をＯＮにする一方、監視の回路１３０
が作動して、パトライト１２０を点灯すると共に、ブザ
ー１２１をＯＮにする。また、装置が停止中や停電によ
り工場からの電源の供給がない時に、排気圧の低下や漏
液が発生した場合には、監視の回路１３０が作動して、
パトライト１２０を点灯すると共に、ブザー１２１をＯ
Ｎにすることができる。As described above, the exhaust pressure sensors 101, 10
During the operation of the device, the exhaust gas and the liquid leakage management system in which the sensor 2 and the liquid leakage sensors 103 and 104 are duplicated is used.
When the exhaust pressure decreases, the operation of the circuit 11 is stopped.
0 operates, stops the pumps of the respective chemical solution processing units SUA to SUD, turns off the heaters, further stops the driving of the apparatus, turns on the buzzer 121, and activates the monitoring circuit 130. , The patrol light 120 is turned on, and the buzzer 121 is turned on. If a liquid leak occurs during the operation of the apparatus, the operation stop circuit 110 is activated, and each of the chemical processing units SUA to SU is operated.
While the pump of D is stopped, the heater is turned off, the buzzer 121 is turned on, and the monitoring circuit 130 is turned on.
Operates to turn on the patrol light 120 and turn on the buzzer 121. Further, when the power is not supplied from the factory due to the stoppage of the apparatus or due to a power outage, when a decrease in the exhaust pressure or a leak occurs, the monitoring circuit 130 operates,
Turn on the patrol light 120 and turn off the buzzer 121
N.

【００５３】したがって、装置停止時にメンテナンスを
行う者にとって安全の確認ができるため、メンテナンス
作業を安全に行うことができる。また、停電時において
も、同様にメンテナンス者が異常の有無を確認後にメン
テナンス作業を行うことができるので、メンテナンス者
への安全保障を図ることができる。Therefore, the safety can be confirmed for a person who performs maintenance when the apparatus is stopped, so that the maintenance work can be performed safely. Also, at the time of a power outage, the maintenance person can perform the maintenance work after confirming the presence or absence of the abnormality, so that the security for the maintenance person can be ensured.

【００５４】図２に示す第１、第２、第３及び第４の薬
液タンク３２ａ，３２ｂ，３２ｃ及び３２ｄには、各々
例えばＨＦ，ＨＣｌ，ＮＨ4ＯＨ，Ｈ2Ｏ2が貯留されて
おり、これらの液の混合により、処理槽２２に供給可能
な処理液として、アルカリ系の薬液では、ＣＳ１｛ＮＨ
4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2／Ｈ2Ｏ｝、酸系の薬液では、ＳＣ２｛Ｈ
Ｃｌ／Ｈ2Ｏ2／Ｈ2Ｏ｝とＤＨＦ｛ＨＦ／Ｈ2Ｏ｝、中性
のリンス液では、Ｈ2Ｏがある。そこで、例えば、ＳＣ
１→リンス→ＳＣ２→リンスのレシピに基づいて、図２
に示した、液処理装置の動作態様の一例について、図３
に示すタイムチャート及び図４に示すフローチャートを
参照して説明する。In the first, second, third and fourth chemical liquid tanks 32a, 32b, 32c and 32d shown in FIG. 2, for example, HF, HCl, NH4OH and H2O2 are stored, respectively. As a processing liquid that can be supplied to the processing tank 22 by mixing, in the case of an alkaline chemical, CS1 ｛NH
4OH / H2O2 / H2O}, SC2 @ H
Cl / H2O2 / H2O} and DHF {HF / H2O}, and a neutral rinsing liquid includes H2O. So, for example, SC
Figure 2 based on the recipe of 1 → Rinse → SC2 → Rinse
FIG. 3 shows an example of the operation mode of the liquid processing apparatus shown in FIG.
This will be described with reference to the time chart shown in FIG.

【００５５】まず、装置の稼働に関係なく、図２に示す
ように、バイパス管３７に介設された節水用の開閉弁Ｖ
のみが開放して純水が処理槽２２内に供給された節水状
態になる（ステップ４−１）。次に、純水供給用の主開
閉弁Ｖ01が開放して純水が処理槽２２内に供給される。
この際、ウエハＷは既に処理槽２２内に収容されるか、
純水の供給と同時に処理槽２２内に収容される。この純
水供給の際に、純水の供給量の安定状態が確認された
後、排液切換弁１０がアルカリ排液管５側に切り換わ
る。この切換状態は切換検知センサ１１によって検知さ
れる（ステップ４−２）。ここで、排液切換弁１０がア
ルカリ排液管５側に切り換わっていないことが確認され
ると開閉弁Ｖ３は開放せず、純水供給状態が維持され
る。このとき、各切換検知センサ１１の開閉の組み合わ
せが正常でない場合、すなわち、アルカリのみ開でない
場合に、開閉弁Ｖ３，Ｖ４を開放せずに薬液の供給を開
始させないようにする。つまり、開閉弁Ｖ３，Ｖ４を開
くための信号を送らずに、その間に排液切換弁１０の各
弁体１２に繰り返し各切換検知センサ１１の検知信号が
正しくなるまで開閉信号を送る。このとき、繰り返し開
閉信号を送る時間の上限を設定しておき、この設定時間
内に排液切換弁１０の各弁体１２の開閉状態が正しく行
われない場合は、アラームを出すようにする。First, irrespective of the operation of the apparatus, as shown in FIG. 2, the water-saving on-off valve V provided in the bypass pipe 37 is used.
Only the pure water is released, and the pure water is supplied into the processing tank 22 to save water (step 4-1). Next, the main open / close valve V01 for supplying pure water is opened, and pure water is supplied into the treatment tank 22.
At this time, the wafer W is already stored in the processing tank 22 or
The pure water is supplied into the processing tank 22 at the same time. At the time of this pure water supply, after the stable state of the pure water supply amount is confirmed, the drainage switching valve 10 is switched to the alkali drainage pipe 5 side. This switching state is detected by the switching detection sensor 11 (step 4-2). Here, when it is confirmed that the drain switching valve 10 has not been switched to the alkaline drain pipe 5, the on-off valve V3 is not opened, and the pure water supply state is maintained. At this time, when the combination of opening and closing of the switching detection sensors 11 is not normal, that is, when only the alkali is not opened, the supply of the chemical liquid is not started without opening the on-off valves V3 and V4. That is, a signal for opening the on-off valves V3 and V4 is not sent, but an on-off signal is repeatedly sent to each valve body 12 of the drainage switching valve 10 until the detection signal of each switching detection sensor 11 becomes correct. At this time, the upper limit of the time for repeatedly sending the open / close signal is set, and if the opening / closing state of each valve element 12 of the drainage switching valve 10 is not correctly performed within this set time, an alarm is issued.

【００５６】なお、別の方法として、切換検知センサ１
１が異常を検知したら、再度開閉信号を送って再び切換
検知センサ１１が開閉状態を検知するまでの時間分だけ
開閉弁Ｖ３，Ｖ４の開放時間を遅延させる。正常になる
までこれを複数回例えば３回繰り返すようにしてもよ
い。As another method, the switching detection sensor 1
When 1 detects an abnormality, it sends an open / close signal again and delays the open time of the on-off valves V3 and V4 by the time until the switching detection sensor 11 detects the open / closed state again. This may be repeated a plurality of times, for example, three times, until it becomes normal.

【００５７】排液切換弁１０がアルカリ排液管５側に切
り換わったことが確認されると、開閉弁Ｖ３，Ｖ４が開
放して（ステップ４−３）、第３の薬液タンク３３ｃ内
に貯留されたＮＨ4ＯＨ及び第４の薬液タンク３３ｄ内
に貯留されたＨ2Ｏ2が純水に混合されて、アルカリ調合
が行われる（ステップ４−４）。所定の時間、開閉弁Ｖ
３，Ｖ４が開放した後、開閉弁Ｖ３，Ｖ４と主開閉弁Ｖ
01及び節水用開閉弁Ｖが閉じて（ステップ４−５）、ア
ルカリ洗浄処理が行われる（ステップ４−６）。このア
ルカリ洗浄処理の際に、上記超音波発振装置２３が作動
し、図示しない発振器の駆動により生じた超音波振動が
超音波槽２３ａ内の振動伝播用液体を伝播して内槽２２
ａに貯留された薬液まで伝わり、この超音波振動によっ
てウエハＷに付着したパーティクル等が除去される。When it is confirmed that the drain switching valve 10 has been switched to the alkaline drain pipe 5, the on-off valves V3 and V4 are opened (step 4-3), and the third chemical tank 33c is opened. The stored NH4OH and the H2O2 stored in the fourth chemical liquid tank 33d are mixed with pure water to perform alkali blending (step 4-4). For a predetermined time, the on-off valve V
3 and V4 are opened, the on-off valves V3 and V4 and the main on-off valve V
01 and the water-saving on-off valve V are closed (step 4-5), and an alkali cleaning process is performed (step 4-6). At the time of this alkali cleaning treatment, the ultrasonic oscillation device 23 is operated, and the ultrasonic vibration generated by the driving of the oscillator (not shown) propagates through the vibration propagating liquid in the ultrasonic bath 23a and the inner bath 22
The ultrasonic vibration transmits the chemical solution stored in a, and particles and the like attached to the wafer W are removed by the ultrasonic vibration.

【００５８】所定の時間アルカリ洗浄を行った後、開閉
弁Ｖ６が開放して純水を洗浄ノズル３９からウエハＷに
供給する一方、内槽２２ａの開閉弁Ｖ７が開放して急速
排液が行われる（ステップ４−７）。その後、主開閉弁
Ｖ01が開放する一方、開閉弁Ｖ６，Ｖ７が閉じて水洗処
理が行われ（ステップ４−８）、引き続き純水供給状態
となる（ステップ４−９）。この純水供給の際に、純水
の供給量の安定状態が確認された後、排液切換弁１０が
酸排液管４側に切り換わる。この切換状態は切換検知セ
ンサ１１によって検知される（ステップ４−１０）。こ
こで、排液切換弁１０が酸排液管４側に切り換わってい
ないことが確認されると開閉弁Ｖ２，Ｖ５は開放せず、
純水供給状態が維持される。一方、排液切換弁１０が酸
排液管４側に切り換わったことが確認されると、開閉弁
Ｖ２，Ｖ５が開放して（ステップ４−１１）、第２及び
第４の薬液タンク３３ｂ及び３３ｄ内に貯留された薬液
（ＨＣＬ及びＨ2Ｏ2）が純水に混合されて、酸調合が行
われる（ステップ４−１２）。所定の時間、開閉弁Ｖ
２，Ｖ５が開放した後、開閉弁Ｖ１あるいはＶ２が閉じ
て（ステップ４−１３）、酸洗浄処理が行われる（ステ
ップ４−１４）。但し、開閉弁Ｖ４，Ｖ５は各々ＳＣ
１，ＳＣ２の混合比に対応する配管に介設されている。After performing alkaline cleaning for a predetermined time, the on-off valve V6 is opened to supply pure water to the wafer W from the cleaning nozzle 39, while the on-off valve V7 of the inner tank 22a is opened to perform rapid drainage. (Step 4-7). Thereafter, while the main on-off valve V01 is opened, the on-off valves V6 and V7 are closed to perform a water-washing process (step 4-8), and the pure water supply state continues (step 4-9). At the time of this pure water supply, after the stable state of the pure water supply amount is confirmed, the drainage switching valve 10 switches to the acid drainage pipe 4 side. This switching state is detected by the switching detection sensor 11 (step 4-10). Here, if it is confirmed that the drainage switching valve 10 has not been switched to the acid drainage pipe 4 side, the on-off valves V2 and V5 are not opened,
The pure water supply state is maintained. On the other hand, when it is confirmed that the drain switching valve 10 has been switched to the acid drain pipe 4, the on-off valves V2 and V5 are opened (step 4-11), and the second and fourth chemical tanks 33b are opened. Then, the chemicals (HCL and H2O2) stored in 33d are mixed with pure water to perform acid preparation (step 4-12). For a predetermined time, the on-off valve V
After the opening of V2 and V5, the on-off valve V1 or V2 is closed (Step 4-13), and the acid cleaning process is performed (Step 4-14). However, on-off valves V4 and V5 are SC
It is interposed in a pipe corresponding to the mixing ratio of 1 and SC2.

【００５９】所定の時間酸洗浄を行った後、開閉弁Ｖ６
が開放して純水を洗浄ノズル３９からウエハＷに供給す
る一方、内槽２２ａの開閉弁Ｖ７が開放して急速排液が
行われる（ステップ４−１５）。その後、主開閉弁Ｖ01
が開放する一方、開閉弁Ｖ６，Ｖ７が閉じて水洗処理が
行われる（ステップ４−１６）。この水洗処理を所定時
間行った後、主開閉弁Ｖ01が閉じると共に、節水用開閉
弁Ｖが開放して節水状態となり、この状態で排液切換弁
１０が回収排液管６側に切り換わる。この切換状態は切
換検知センサ１１によって検知される（ステップ４−１
７）。ここで、排液切換弁１０が回収排液管６側に切り
換わっていないことが確認されると、処理工程は終了せ
ず、節水状態が維持される。一方、排液切換弁１０が回
収排液管６側に切り換わったことが確認されると、内槽
２２ａの開閉弁Ｖ７が開放して（ステップ４−１８）、
洗浄処理に供された純水が回収排液管６側に排液され、
処理工程が終了する。After the acid cleaning for a predetermined time, the on-off valve V6
Is opened to supply pure water to the wafer W from the cleaning nozzle 39, while the on-off valve V7 of the inner tank 22a is opened to perform rapid drainage (step 4-15). After that, the main on-off valve V01
Are opened, and the on-off valves V6 and V7 are closed to perform the water washing process (step 4-16). After performing the water washing process for a predetermined time, the main on-off valve V01 is closed, and the water-saving on-off valve V is opened to save water. In this state, the drainage switching valve 10 is switched to the recovery drainage pipe 6 side. This switching state is detected by the switching detection sensor 11 (step 4-1).
7). Here, if it is confirmed that the drainage switching valve 10 has not been switched to the recovery drainage pipe 6 side, the processing step does not end and the water saving state is maintained. On the other hand, when it is confirmed that the drainage switching valve 10 has been switched to the recovery drainage pipe 6, the on-off valve V7 of the inner tank 22a is opened (step 4-18).
The pure water subjected to the cleaning treatment is drained to the collection drain pipe 6 side,
The processing steps end.

【００６０】なお、上記処理工程の説明では、アルカリ
洗浄工程と酸洗浄工程の後に、急速排液工程を行う場合
について説明したが、急速排液工程を行わずに水洗処理
工程を行うようにしてもよい。In the above description of the processing step, the case where the rapid draining step is performed after the alkali cleaning step and the acid cleaning step has been described. However, the water cleaning step is performed without performing the rapid draining step. Is also good.

【００６１】上記実施形態の液処理装置を用いることに
より、排液切換弁１０の切換状態を切換検知センサ１１
にて検知し、その検知信号に基づいて切換状態を切換確
認手段であるモニタ７０やランプ７１によって知らせる
ことができるので、常時、排液切換弁１０の切換動作を
監視することができる。したがって、排液管４〜６への
異なる種類の排液の混入を未然に防止することができる
と共に、回収排液管６から回収される純水の回収率を増
大して再利用の向上を図ることができる。By using the liquid processing apparatus of the above embodiment, the switching state of the drainage switching valve 10 can be determined by the switching detection sensor 11.
, And the switching state can be notified by the monitor 70 or the lamp 71 as switching confirmation means based on the detection signal, so that the switching operation of the drainage switching valve 10 can be constantly monitored. Therefore, mixing of different types of drainage into the drainage pipes 4 to 6 can be prevented beforehand, and the recovery rate of pure water recovered from the recovery drainage pipe 6 is increased to improve reuse. Can be planned.

【００６２】また、排液切換弁１０の切換状態を切換検
知センサ１１にて検知し、その検知信号がＣＰＵ６０に
伝達され、ＣＰＵ６０からの制御信号によって開閉弁Ｖ
01，Ｖ，Ｖ１〜Ｖ７を開閉制御することができる。した
がって、次の処理に供される処理液の排液経路の確保が
確認された後に、以後の処理に供される処理液（薬液）
の供給を開始することができるので、ウエハＷが異なる
処理液（薬液）によって受けるダメージを抑制すること
ができる。このダメージは、例えば排液側の排液切換弁
１０の切換と供給側の開閉弁Ｖ３とＶ４の開放を同時の
タイミングで信号を送って、排液切換弁１０が何等かの
原因で切り換えできず、供給側の開閉弁Ｖ３とＶ４を閉
じたときに、処理槽２２内に少量だけ薬液が流れて薬液
の濃度が不明になるときに起こる現象である。この場
合、ＣＰＵ６０に予め処理工程と処理液（薬液）の供給
量や供給時間等の情報を記憶させておき、この記憶され
た情報と切換検知センサ１１からの検知信号とに基づい
て開閉弁Ｖ01，Ｖ，Ｖ１〜Ｖ７の開閉制御を行うことに
より、複数の処理工程を連続的に行うことができるの
で、処理効率の向上を図ることができる。The switching state of the drainage switching valve 10 is detected by the switching detection sensor 11, and the detection signal is transmitted to the CPU 60, and the opening / closing valve V is controlled by the control signal from the CPU 60.
01, V, V1 to V7 can be controlled to open and close. Therefore, after it is confirmed that a drainage path for the processing liquid to be used for the next processing is secured, the processing liquid (chemical solution) to be used for the subsequent processing
Can be started, so that damage to the wafer W by different processing liquids (chemical liquids) can be suppressed. This damage can be caused, for example, by switching the drain switching valve 10 on the drain side and opening the on-off valves V3 and V4 on the supply side at the same time to send a signal to switch the drain switching valve 10 for any reason. However, when the supply-side on-off valves V3 and V4 are closed, a small amount of the chemical flows into the processing tank 22 and the concentration of the chemical becomes unknown. In this case, the CPU 60 stores in advance information such as the processing step and the supply amount and supply time of the processing liquid (chemical liquid), and based on the stored information and the detection signal from the switching detection sensor 11, the opening / closing valve V01. , V, and V1 to V7, a plurality of processing steps can be continuously performed, so that processing efficiency can be improved.

【００６３】上記実施形態では、第４の薬液処理ユニッ
トＳＵ４における薬液処理について説明したが、その他
の第１〜第３の薬液処理ユニットＳＵ１〜ＳＵ３や洗浄
処理ユニットＳＵ５においても同様に処理を行うことが
できる。この場合、洗浄処理ユニットＳＵ５において
は、排液切換弁１０ａの切換によって水洗槽（図示せ
ず）内の薄い薬液（例えば薄い酸）を酸ドレン側に排水
し、水洗槽内の純水を回収ドレン側に排水して、回収す
ることができる（図１参照）。In the above embodiment, the chemical processing in the fourth chemical processing unit SU4 has been described. However, the processing is similarly performed in the other first to third chemical processing units SU1 to SU3 and the cleaning processing unit SU5. Can be. In this case, in the cleaning processing unit SU5, by switching the drainage switching valve 10a, a thin chemical solution (for example, a thin acid) in the washing tank (not shown) is drained to the acid drain side, and pure water in the washing tank is recovered. It can be recovered by draining to the drain side (see FIG. 1).

【００６４】上記実施形態では、排液切換弁１０の切換
動作を予め記憶された情報に基づいて行う場合について
説明したが、別の情報（信号）に基づいて排液切換弁１
０を切換制御するようにしてもよい。例えば、処理槽２
２内に供給される処理液のｐＨ値を検出して、その検出
されたｐＨ値に基づいて排液切換弁１０を切り換えるよ
うにしてもよい。In the above embodiment, the case where the switching operation of the drainage switching valve 10 is performed based on information stored in advance has been described, but the drainage switching valve 1 is based on another information (signal).
0 may be switched. For example, processing tank 2
It is also possible to detect the pH value of the processing liquid supplied to the inside 2 and switch the drain switching valve 10 based on the detected pH value.

【００６５】すなわち、図１２に示すように、上記処理
槽２２内に供給される処理液のｐＨ値を検出するｐＨ値
検出手段であるｐＨセンサ２００を配設し、このｐＨセ
ンサ２００にて検出された処理液中の水素イオン濃度の
ｐＨ値｛酸性：ｐＨ＜７、中和：ｐＨ＝７、アルカリ
性：ｐＨ＞７｝の信号を制御手段であるＣＰＵ６０に伝
達し、ＣＰＵ６０からの制御信号によって上記排液切換
弁１０を切換制御するようにしてもよい。この実施形態
においても、排液切換弁１０には、上記実施形態と同様
に、アルカリ排液管５、酸排液管４及び回収排液管６へ
の切換状態を検知する切換検知センサ１１が設けられて
おり、この切換検知センサ１１によって排液切換弁１０
の切換動作が確認できるようになっている。That is, as shown in FIG. 12, a pH sensor 200 which is a pH value detecting means for detecting the pH value of the processing liquid supplied into the processing tank 22 is provided. The signal of the pH value of the hydrogen ion concentration in the treated solution {acidity: pH <7, neutralization: pH = 7, alkalinity: pH> 7} is transmitted to the CPU 60 as the control means, and the control signal from the CPU 60 The drainage switching valve 10 may be switched and controlled. Also in this embodiment, the drainage switching valve 10 includes a switching detection sensor 11 for detecting a switching state to the alkali drainage pipe 5, the acid drainage pipe 4, and the recovery drainage pipe 6, as in the above-described embodiment. The drain detection switching valve 10 is provided by the switching detection sensor 11.
Can be confirmed.

【００６６】なお、図１２に示す実施形態において、そ
の他の部分は上記実施形態と同じであるので、同一部分
には同一符号を付して、その説明は省略する。In the embodiment shown in FIG. 12, the other parts are the same as those in the above embodiment, and the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【００６７】上記のように構成することにより、例えば
ｐＨセンサ２００により処理液（薬液）中の水素イオン
濃度がｐＨ＞７のときには、排液切換弁１０がアルカリ
排液管５側に切り換わり、また、処理液（薬液）中の水
素イオン濃度がｐＨ＜７のときには、排液切換弁１０が
酸排液管４側に切り換わり、また、処理液中の水素イオ
ン濃度がｐＨ＝７のときには、排液切換弁１０が回収排
液管６に切り換わる。これにより、処理槽２２内の処理
液（薬液、純水）中の水素イオン濃度のｐＨ値に基づい
て排液切換弁１０をアルカリ排液管５、酸排液管４ある
いは回収排液管６側に自動的に切り換えることができ
る。したがって、処理済みの処理液をアルカリ系、酸系
及び中性（純水）に正確に分離して排液することができ
ると共に、中性の純水の回収率の向上を図ることがで
き、純水の再利用の向上を図ることができる。With the above configuration, for example, when the pH sensor 200 detects that the hydrogen ion concentration in the processing liquid (chemical solution) is pH> 7, the drain switching valve 10 is switched to the alkali drain pipe 5 side, When the hydrogen ion concentration in the processing liquid (chemical liquid) is pH <7, the drainage switching valve 10 switches to the acid drain pipe 4 side. When the hydrogen ion concentration in the processing liquid is pH = 7, Then, the drainage switching valve 10 is switched to the recovery drainage pipe 6. Thereby, based on the pH value of the hydrogen ion concentration in the processing liquid (chemical liquid, pure water) in the processing tank 22, the drain switching valve 10 is set to the alkali drain pipe 5, the acid drain pipe 4, or the recovery drain pipe 6 Side can be automatically switched. Therefore, it is possible to accurately separate the treated solution into an alkaline system, an acid system, and neutral (pure water) and to drain the same, and to improve the recovery rate of neutral pure water. Reuse of pure water can be improved.

【００６８】また、図１２に示す実施形態においても、
排液切換弁１０の切換状態を切換検知センサ１１によっ
て検知することができるので、常時、排液切換弁１０の
切換動作を監視することができる。したがって、アルカ
リ排液管５、酸排液管４及び回収排液管６への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液特に純水の回収率を増大して再利用の向上を図る
ことができる。Also, in the embodiment shown in FIG.
Since the switching state of the drainage switching valve 10 can be detected by the switching detection sensor 11, the switching operation of the drainage switching valve 10 can be constantly monitored. Therefore, it is possible to prevent different types of wastewater from being mixed into the alkaline drainage pipe 5, the acid drainage pipe 4, and the recovery drainage pipe 6, and
The recovery rate of the processing liquid, especially pure water, can be increased to improve the reuse.

【００６９】なお、上記実施形態では、被処理体が半導
体ウエハの洗浄処理を行う液処理装置について説明した
が、この発明の液処理装置は、半導体ウエハ以外の例え
ばＬＣＤ基板等の被処理体の洗浄処理やその他の液処理
装置にも適用できることは勿論である。In the above embodiment, the liquid processing apparatus for cleaning the semiconductor wafer of the object to be processed has been described. However, the liquid processing apparatus of the present invention is applicable to the processing of objects other than the semiconductor wafer, such as LCD substrates. Of course, the present invention can be applied to a cleaning process and other liquid processing devices.

【００７０】[0070]

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような効
果が得られる。As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained because of the configuration described above.

【００７１】１）請求項１記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て処理槽内の処理液の排液開始を制御することができ
る。したがって、排液管への異なる種類の排液（濃度の
異なる排液も含む）の混入を未然に防止することができ
ると共に、処理液の回収率を増大して再利用の向上を図
ることができる。1) According to the first aspect of the present invention, the switching state of the switching means is detected by the switching detection means, and the detection signal is transmitted to the control means, and the control signal from the control means controls the switching state of the processing tank. The start of the drainage of the processing liquid can be controlled. Accordingly, it is possible to prevent mixing of different types of drainage (including drainage with different concentrations) into the drainage pipe, and to increase the recovery rate of the processing liquid to improve the reuse. it can.

【００７２】２）請求項２記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
が制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号によっ
て開閉手段を開閉制御することができる。したがって、
処理に供された処理液の排液の確認を行った後に、以後
の処理に供される処理液の供給を開始することができる
ので、被処理体が異なる処理液によって受けるダメージ
を抑制することができる。この場合、制御手段に予め処
理工程と処理液の供給量や供給時間等の情報を記憶させ
ておき、この記憶された情報と切換検知手段からの検知
信号とに基づいて開閉手段の開閉制御を行うことによ
り、複数の処理工程を連続的に行うことができるので、
処理効率の向上を図ることができる（請求項３）。2) According to the second aspect of the invention, the switching state of the switching means is detected by the switching detection means, and the detection signal is transmitted to the control means, and the opening / closing means is opened / closed by the control signal from the control means. Can be controlled. Therefore,
After confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, so that damage to the object to be processed by the different processing liquid can be suppressed. Can be. In this case, information such as the processing step and the supply amount and supply time of the processing liquid is stored in the control means in advance, and the opening / closing control of the opening / closing means is performed based on the stored information and the detection signal from the switching detection means. By performing, a plurality of processing steps can be performed continuously,
The processing efficiency can be improved (claim 3).

【００７３】３）請求項４記載の発明によれば、処理槽
内に供給される処理液のｐＨ値をｐＨ値検出手段によっ
て検出し、その検出信号を制御手段に伝達し、制御手段
からの制御信号に基づいて切換手段の切り換え動作を制
御することができるので、アルカリ系、酸系及び中性に
分離された処理液を所定の排液管から排液することがで
きる。また、切換手段の切換動作を切換検知手段によっ
て常時監視することができるので、排液管への異なる種
類の排液の混入を未然に防止することができると共に、
処理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることがで
きる。3) According to the fourth aspect of the present invention, the pH value of the processing liquid supplied into the processing tank is detected by the pH value detecting means, and the detection signal is transmitted to the control means. Since the switching operation of the switching means can be controlled based on the control signal, it is possible to drain the alkali-based, acid-based and neutrally separated processing liquid from a predetermined drain pipe. Further, since the switching operation of the switching unit can be constantly monitored by the switching detection unit, mixing of different types of drainage into the drainage pipe can be prevented beforehand, and
The recovery rate of the processing liquid can be increased, and the reuse can be improved.

【００７４】４）請求項５記載の発明によれば、切換確
認手段によって切換手段の切換動作を確実に常時監視す
ることができるので、上記１）〜３）に加えて更に確実
に排液管への異なる種類の排液の混入を未然に防止する
ことができると共に、処理液の回収率を増大して再利用
の向上を図ることができる。4) According to the fifth aspect of the present invention, the switching operation of the switching means can be surely constantly monitored by the switching confirmation means. It is possible to prevent the mixing of different types of wastewater into the wastewater beforehand, and it is possible to increase the recovery rate of the processing liquid and improve the reuse.

【００７５】５）請求項６記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液排液手段によって処理槽内の処理液が
排液される。したがって、排液管への異なる種類の排液
（濃度の異なる排液も含む）の混入を未然に防止するこ
とができると共に、処理液の回収率を増大して再利用の
向上を図ることができる。この場合、処理液排液手段か
らの処理液排液タイミングを遅延するように制御可能な
制御手段を更に具備することにより、処理に供された処
理液の排液の確認を確実にした後に、処理液排液手段に
よって排液を行うことができるので、異なる種類の排液
（濃度の異なる排液も含む）の混入を確実に防止するこ
とができる（請求項７）。5) According to the sixth aspect of the invention, the switching state of the switching means is detected by the switching detecting means, and the processing liquid in the processing tank is drained by the processing liquid draining means based on the detection signal. Is done. Accordingly, it is possible to prevent mixing of different types of drainage (including drainage with different concentrations) into the drainage pipe, and to increase the recovery rate of the processing liquid to improve the reuse. it can. In this case, by further providing a control unit that can be controlled to delay the processing liquid draining timing from the processing liquid draining unit, after confirming the drainage of the processing liquid subjected to the processing, Since the liquid can be drained by the processing liquid draining means, it is possible to reliably prevent mixing of different types of drains (including drains having different concentrations).

【００７６】６）請求項８記載の発明によれば、切換手
段の切換状態を切換検知手段にて検知し、その検知信号
に基づいて処理液供給手段によって処理槽内に処理液が
供給される。したがって、処理に供された処理液の排液
の確認を行った後に、以後の処理に供される処理液の供
給を開始することができるので、被処理体が異なる処理
液によって受けるダメージを抑制することができる。こ
の場合、処理液供給手段からの処理液供給開始タイミン
グを遅延するように制御可能な制御手段を更に具備する
ことにより、処理に供された処理液の排液の確認を確実
にした後に、以後の処理に供される処理液の供給を開始
することができるので、被処理体が異なる処理液によっ
て受けるダメージを確実に抑制することができる（請求
項９）。6) According to the invention, the switching state of the switching means is detected by the switching detection means, and the processing liquid is supplied into the processing tank by the processing liquid supply means based on the detection signal. . Therefore, after confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, thereby suppressing damage to the object to be processed by the different processing liquid. can do. In this case, by further providing a control unit that can be controlled so as to delay the processing liquid supply start timing from the processing liquid supply unit, it is ensured that the processing liquid supplied to the processing is drained, and thereafter, Since the supply of the processing liquid used for the above processing can be started, damage to the object to be processed by the different processing liquid can be reliably suppressed (claim 9).

【００７７】７）請求項１０記載の発明によれば、各々
異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管の開
閉状態を検知した後、処理槽から処理液を排液するの
で、排液管への異なる種類の排液（濃度の異なる排液も
含む）の混入を未然に防止することができると共に、処
理液の回収率を増大して再利用の向上を図ることができ
る。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態が異常で
あることを検知した場合、予め設定された処理液の排液
開始を遅延させることにより、処理に供された処理液の
排液の確認を確実にした後に、処理液の排液を開始する
ことができるので、異なる種類の排液（濃度の異なる排
液も含む）の混入を確実に防止することができる（請求
項１１）。また、上記検知工程で各排液管の開閉状態が
異常であることを検知した場合、再び上記開閉工程と検
知工程を繰り返すことにより、処理に供された処理液の
排液の確認を更に確実にした後に、処理に供された処理
液の排液を開始することができる（請求項１４）。7) According to the tenth aspect of the invention, the processing liquid is drained from the processing tank after detecting the open / close state of a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquid. In addition, mixing of different types of drainage (including drainage with different concentrations) into the drainage pipe can be prevented beforehand, and the recovery rate of the processing liquid can be increased to improve reuse. . In this case, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drainage pipe is abnormal, the start of drainage of the processing liquid set in advance is delayed so that the drainage of the processing liquid subjected to the processing is performed. Since the drainage of the processing liquid can be started after the confirmation is assured, it is possible to reliably prevent the mixing of different types of drainage (including drains with different concentrations) (claim 11). Further, when it is detected in the detection step that the open / close state of each drain pipe is abnormal, the above-mentioned open / close step and the detection step are repeated again to further confirm the drainage of the processing liquid used for the processing. After that, the drainage of the processing liquid used for the processing can be started (claim 14).

【００７８】８）請求項１２記載の発明によれば、切換
手段の切換状態を切換検知手段にて検知した後、処理に
供された処理液と異なる処理液を処理槽内に供給して洗
浄処理を施すことができる。したがって、処理に供され
た処理液の排液の確認を行った後に、以後の処理に供さ
れる処理液の供給を開始することができるので、被処理
体が異なる処理液によって受けるダメージを抑制するこ
とができる。この場合、検知工程で各排液管の開閉状態
が異常であることを検知した場合、予め設定された処理
液の供給開始を遅延させることにより、処理に供された
処理液の排液の確認を確実にした後に、以後の処理に供
される処理液の供給を開始することができるので、被処
理体が異なる処理液によって受けるダメージを確実に抑
制することができる（請求項１３）。また、検知工程で
各排液管の開閉状態が異常であることを検知した場合、
再び上記開閉工程と検知工程を繰り返すことにより、処
理に供された処理液の排液の確認を更に確実にした後
に、以後の処理に供される処理液の供給を開始すること
ができる（請求項１４）。8) According to the twelfth aspect of the present invention, after the switching state of the switching means is detected by the switching detecting means, a processing liquid different from the processing liquid used for the processing is supplied into the processing tank for cleaning. Processing can be performed. Therefore, after confirming the drainage of the processing liquid used for the processing, the supply of the processing liquid used for the subsequent processing can be started, thereby suppressing damage to the object to be processed by the different processing liquid. can do. In this case, when it is detected in the detection step that the opening / closing state of each drainage pipe is abnormal, the start of supply of the preset processing liquid is delayed to confirm the drainage of the processing liquid subjected to the processing. Since the supply of the processing liquid to be used in the subsequent processing can be started after ensuring the above, the damage to the object to be processed by the different processing liquid can be reliably suppressed (claim 13). Also, when it is detected in the detection process that the open / close state of each drain pipe is abnormal,
By repeating the opening / closing step and the detecting step again, it is possible to more surely confirm the drainage of the processing liquid subjected to the processing, and then to start supplying the processing liquid used in the subsequent processing. Item 14).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】この発明に係る液処理装置を具備する洗浄処理
システムを示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a cleaning system including a liquid processing apparatus according to the present invention.

【図２】上記液処理装置を示す概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the liquid processing apparatus.

【図３】上記液処理装置の処理工程を示すタイムチャー
トである。FIG. 3 is a time chart showing processing steps of the liquid processing apparatus.

【図４】上記液処理装置の処理工程を示すフローチャー
トである。FIG. 4 is a flowchart showing processing steps of the liquid processing apparatus.

【図５】上記液処理装置の一例を示す概略断面図であ
る。FIG. 5 is a schematic sectional view showing an example of the liquid processing apparatus.

【図６】この発明における排液切換弁を示す平面図であ
る。FIG. 6 is a plan view showing a drainage switching valve according to the present invention.

【図７】図６のＩ−Ｉ線に沿う弁閉鎖状態を示す断面図
（ａ）及び弁開放状態を示す断面図（ｂ）である。FIGS. 7A and 7B are a cross-sectional view showing a valve closed state and a cross-sectional view showing a valve open state along a line II in FIG. 6;

【図８】この発明における可変オリフィスの一部を断面
で示す概略図（ａ）及びその要部を拡大して示す断面図
（ｂ）である。FIG. 8 is a schematic view (a) showing a part of the variable orifice in the present invention in cross section, and a sectional view (b) showing an enlarged main part thereof.

【図９】この発明における処理槽にヒーターを取り付け
る状態を示す分解斜視図である。FIG. 9 is an exploded perspective view showing a state where a heater is attached to the processing tank in the present invention.

【図１０】この発明における排気圧及び漏液検出システ
ムの一例を示す概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing an example of an exhaust pressure and liquid leak detection system according to the present invention.

【図１１】上記排気圧及び漏液検出システムの電気回路
図である。FIG. 11 is an electric circuit diagram of the exhaust pressure and leak detection system.

【図１２】この発明の別の実施形態の要部を示す概略断
面図である。FIG. 12 is a schematic sectional view showing a main part of another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ４ 酸排液管 ５ アルカリ排液管 ６ 回収排液管 ７ｄ 連結管 １０ 排液切換弁（切換手段） １１ 切換検知センサ（切換検知手段） ２０ 薬液処理部 ２２ 処理槽 ３０ 処理液供給部 ３１ 純水供給源（処理液供給源） ３３ａ〜３３ｄ 第１〜第４の薬液タンク（処理液供給
源） ４０ 排液部 ６０ ＣＰＵ（制御手段） ７０ モニタ（切換確認手段） ７１ ランプ（切換確認手段） Ｖ01，Ｖ02，Ｖ，Ｖ１〜Ｖ７ 開閉弁（開閉手段）W Semiconductor wafer (object to be processed) 4 Acid drain pipe 5 Alkaline drain pipe 6 Recovery drain pipe 7d Connecting pipe 10 Drainage switching valve (switching means) 11 Switching detection sensor (switching detecting means) 20 Chemical processing section 22 Processing Tank 30 Treatment liquid supply unit 31 Pure water supply source (treatment liquid supply source) 33a to 33d First to fourth chemical liquid tanks (treatment liquid supply source) 40 Drainage unit 60 CPU (control means) 70 Monitor (switch confirmation means) ) 71 lamp (switching confirmation means) V01, V02, V, V1 to V7 Open / close valve (opening / closing means)

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 処理槽内に収容される被処理体に対して
液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
と、 上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管に
連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記処理槽
内の処理液の排液開始を制御する制御手段と、を具備す
ることを特徴とする液処理装置。1. A liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, comprising: a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids; A connecting pipe capable of communicating the processing liquid to be drained to the plurality of drain pipes, provided between the connecting pipe and the plurality of drain pipes, and opening and closing each drain pipe; Switching means for switching the communication with each drain pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; and starting discharge of the processing liquid in the processing tank based on a detection signal from the switching detection means. Control means for controlling the liquid processing apparatus. 【請求項２】 処理槽内に収容される被処理体に対して
液処理を施す液処理装置において、 上記処理槽と、異なる種類の処理液の各供給源とをそれ
ぞれ連通する供給管と、 上記各供給管にそれぞれ介設される開閉手段と、 上記処理槽から排液される処理液を複数の排液管に連通
可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記開閉手
段の開閉制御を行う制御手段と、を具備することを特徴
とする液処理装置。2. A liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, comprising: a supply pipe that communicates the processing tank with a supply source of a different type of processing liquid; Opening / closing means interposed in each of the supply pipes, a connecting pipe capable of communicating a processing liquid drained from the processing tank to a plurality of drain pipes, and a connection pipe between the connecting pipe and the plurality of drain pipes. Switching means for opening and closing each drainage pipe, and switching communication between the connecting pipe and each drainage pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; Control means for controlling the opening and closing of the opening and closing means based on the detection signal. 【請求項３】 請求項２記載の液処理装置において、 上記制御手段は、予め記憶された処理工程と処理液の供
給量や供給時間等の情報と、この記憶された情報と切換
検知手段からの検知信号とに基づいて開閉手段の開閉制
御を行うように形成されることを特徴とする液処理装
置。3. The liquid processing apparatus according to claim 2, wherein the control means includes information on a pre-stored processing step, supply amount and supply time of the processing liquid, and the stored information and the switching detection means. A liquid processing apparatus formed to perform opening / closing control of the opening / closing means based on the detection signal. 【請求項４】 処理槽内に収容される被処理体に対して
液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
と、 上記処理槽内に供給される上記処理液のｐＨ値を検出す
るｐＨ値検出手段と、 上記処理槽から排液される処理液を上記複数の排液管に
連通可能な連結管と、 上記連結管と複数の排液管との間に設けられ、各排液管
の開閉を行うと共に、連結管と各排液管との連通を切り
換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記ｐＨ値検出手段からの検出信号に基づいて上記切換
手段の切り換え動作を制御する制御手段と、を具備する
ことを特徴とする液処理装置。4. A liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, comprising: a plurality of drain pipes for draining processing liquids of different types; A pH value detecting means for detecting a pH value of the processing liquid supplied to the processing tank; a connection pipe capable of communicating the processing liquid discharged from the processing tank with the plurality of drain pipes; A switching unit provided between the drainage pipe, for opening and closing each drainage pipe, and switching communication between the connection pipe and each drainage pipe, switching detection means for detecting a switching state of the switching means, Control means for controlling a switching operation of the switching means based on a detection signal from the pH value detecting means. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の液
処理装置において、 上記切換検知手段からの検知信号に基づいて上記切換手
段の切換状態を知らせる切換確認手段を更に具備するこ
とを特徴とする液処理装置。5. The liquid processing apparatus according to claim 1, further comprising a switching confirmation unit that notifies a switching state of the switching unit based on a detection signal from the switching detection unit. Liquid processing device. 【請求項６】 処理槽内に収容される被処理体に対して
液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上記処理
槽から処理液の排液を行う処理液排液手段と、を具備す
ることを特徴とする液処理装置。6. A liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed accommodated in a processing tank, wherein a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids, Switching means for switching the opening and closing of the pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; and a processing liquid drainage for draining the processing liquid from the processing tank after the switching detection means detects the switching state. Means for treating the liquid. 【請求項７】 請求項６記載の液処理装置において、 上記処理液排液手段からの処理液排液タイミングを遅延
するように制御可能な制御手段を更に具備することを特
徴とする液処理装置。7. The liquid processing apparatus according to claim 6, further comprising control means capable of controlling a timing of discharging the processing liquid from the processing liquid discharging means to be delayed. . 【請求項８】 処理槽内に収容される被処理体に対して
液処理を施す液処理装置において、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
と、 上記各排液管の開閉を切り換える切換手段と、 上記切換手段の切換状態を検知する切換検知手段と、 上記切換検知手段が上記切換状態を検知後に、上記処理
槽に処理液の供給を行う処理液供給手段と、を具備する
ことを特徴とする液処理装置。8. A liquid processing apparatus for performing liquid processing on an object to be processed housed in a processing tank, wherein a plurality of drain pipes for draining different types of processing liquids, Switching means for switching the opening and closing of the pipe; switching detection means for detecting a switching state of the switching means; processing liquid supply means for supplying a processing liquid to the processing tank after the switching detection means detects the switching state; A liquid processing apparatus, comprising: 【請求項９】 請求項８記載の液処理装置において、 上記処理液供給手段からの処理液供給開始タイミングを
遅延するように制御可能な制御手段を更に具備すること
を特徴とする液処理装置。9. The liquid processing apparatus according to claim 8, further comprising control means capable of controlling the timing of starting the supply of the processing liquid from the processing liquid supply means to be delayed. 【請求項１０】 処理槽内に収容される被処理体に対し
て液処理を施す液処理方法において、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工
程と、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、上記処理槽から上記処理液を排液す
る工程と、を有することを特徴とする液処理方法。10. A liquid processing method for performing liquid processing on an object to be processed accommodated in a processing tank, comprising: supplying a processing liquid to the processing tank; Cleaning a plurality of drainage pipes for draining different types of processing liquids, detecting the opened / closed state of the opened / closed drainage pipes, Draining the treatment liquid from the treatment tank after the step. 【請求項１１】 請求項１０記載の液処理方法におい
て、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
検知した場合、予め設定された処理液の排液開始を遅延
させることを特徴とする液処理方法。11. The liquid processing method according to claim 10, wherein when the open / close state of each drain pipe is detected to be abnormal in the detecting step, a preset start of drainage of the processing liquid is delayed. A liquid processing method characterized by the above-mentioned. 【請求項１２】 処理槽内に収容される被処理体に対し
て液処理を施す液処理方法において、 上記処理槽に処理液を供給する工程と、 上記供給された処理液で上記被処理体を洗浄処理する工
程と、 各々異なる種類の処理液を排液するための複数の排液管
をそれぞれ開閉する工程と、 上記開閉された各排液管の開閉状態を検知する工程と、 上記検知工程の後、上記処理液と異なる処理液を上記処
理槽に供給し被処理体を洗浄処理する工程と、を有する
ことを特徴とする液処理方法。12. A liquid processing method for performing a liquid treatment on an object to be processed accommodated in a processing tank, wherein: a step of supplying a processing liquid to the processing tank; Cleaning a plurality of drainage pipes for draining different types of processing liquids, detecting the opened / closed state of the opened / closed drainage pipes, After the step, a step of supplying a treatment liquid different from the treatment liquid to the treatment tank to wash the object to be treated. 【請求項１３】 請求項１２記載の液処理方法におい
て、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
検知した場合、予め設定された処理液の供給開始を遅延
させることを特徴とする液処理方法。13. The liquid processing method according to claim 12, wherein when the opening / closing state of each drainage pipe is detected to be abnormal in the detecting step, a preset start of supply of the processing liquid is delayed. Characteristic liquid treatment method. 【請求項１４】 請求項１０又は１２記載の液処理方法
において、 上記検知工程で各排液管の開閉状態が異常であることを
検知した場合、再び上記開閉工程と検知工程を行うこと
を特徴とする液処理方法。14. The liquid processing method according to claim 10, wherein when the open / close state of each drain pipe is detected to be abnormal in the detecting step, the open / close step and the detecting step are performed again. Liquid treatment method.