JP2002250799A - 電子ビーム処理装置 - Google Patents
電子ビーム処理装置Info
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- JP2002250799A JP2002250799A JP2001049357A JP2001049357A JP2002250799A JP 2002250799 A JP2002250799 A JP 2002250799A JP 2001049357 A JP2001049357 A JP 2001049357A JP 2001049357 A JP2001049357 A JP 2001049357A JP 2002250799 A JP2002250799 A JP 2002250799A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子線管から放射される電子線量のみを正確
に測定することのできる電子ビーム処理装置を提供する
こと。 【解決手段】 電子放射窓１１を備えた電子線管１から
放射される電子線量を検出する電子線量検出部２を電子
放射窓１１の外部に備えた電子ビーム処理装置におい
て、電子線量検出部２で検出された検出信号を伝達する
接続線３は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によ
って生成されたプラズマによる影響を受けないように絶
縁被膜する。
に測定することのできる電子ビーム処理装置を提供する
こと。 【解決手段】 電子放射窓１１を備えた電子線管１から
放射される電子線量を検出する電子線量検出部２を電子
放射窓１１の外部に備えた電子ビーム処理装置におい
て、電子線量検出部２で検出された検出信号を伝達する
接続線３は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によ
って生成されたプラズマによる影響を受けないように絶
縁被膜する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空管型の電子線
管から放射される電子線を利用して、半導体ウエハ等の
層間絶縁膜やレジストの硬化や各種印刷物に塗布された
インクの乾燥等、各種被処理物の表面改質、薄膜形成、
電子線硬化、ドライ洗浄等の処理に利用される電子ビー
ム処理装置に関する。
管から放射される電子線を利用して、半導体ウエハ等の
層間絶縁膜やレジストの硬化や各種印刷物に塗布された
インクの乾燥等、各種被処理物の表面改質、薄膜形成、
電子線硬化、ドライ洗浄等の処理に利用される電子ビー
ム処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子ビーム処理装置に用いられる
電子線管が市販されるようになってきており、その電子
線管は真空容器内の電子線放出部から放出される熱電子
を電子線加速部で加速して窓から電子線を透過させるよ
うに構成されている。
電子線管が市販されるようになってきており、その電子
線管は真空容器内の電子線放出部から放出される熱電子
を電子線加速部で加速して窓から電子線を透過させるよ
うに構成されている。
【０００３】図１１は、先に出願人が提案した電子ビー
ム処理装置の一例を示す図である。同図に示すように、
電子線管１０１の内部には、フィラメント１１１とグリ
ッド１１２とを備え、フィラメント１１１とグリッド１
１２には直流高圧電源１０２から、例えば、１０〜７０
ｋＶの高電圧が印加される。また、フィラメント１１１
にはフィラメント電源１０３が接続され、フィラメント
１１１は該電源から供給される電流により加熱され、熱
電子を放出する。放出された電子はグリッド電源１０４
によって制御されたグリッド１１２の電界によりビーム
形状１１５が整形される。整形された電子線は、フラン
ジ１１３に設けた窓１１４から電子線管１０１外に放射
される。
ム処理装置の一例を示す図である。同図に示すように、
電子線管１０１の内部には、フィラメント１１１とグリ
ッド１１２とを備え、フィラメント１１１とグリッド１
１２には直流高圧電源１０２から、例えば、１０〜７０
ｋＶの高電圧が印加される。また、フィラメント１１１
にはフィラメント電源１０３が接続され、フィラメント
１１１は該電源から供給される電流により加熱され、熱
電子を放出する。放出された電子はグリッド電源１０４
によって制御されたグリッド１１２の電界によりビーム
形状１１５が整形される。整形された電子線は、フラン
ジ１１３に設けた窓１１４から電子線管１０１外に放射
される。
【０００４】電子線管１０１の窓１１４の外側近傍（例
えば、窓から距離５ｍｍ）には電子線量検出部１０６を
備えた電子線量測定部１０５が設けられている。この電
子線量検出部１０６は通常導電体であるステンレス、
銅、アルミニウム、または半導体であるシリコン、ゲル
マニウム、化合物半導体等で構成され、後述するプラズ
マによる浮遊電荷等弱いエネルギーの電子線が電子線量
検出部１０６に入らないように、つまり、該当する電子
線管１０１から放出された強いエネルギーの電子線のみ
が電子線量検出部１０６に入り、正確に当該電子線管１
０１から放射される電子線のみを測定するために、電子
線量検出部１０６は導体または半導体の表面がアルミ
ナ、シリカ等で構成される絶縁被膜で覆われている。そ
して電子線管１０１から放射された電子線は、その一部
がこの電子線量検出部１０６で検出され、検出信号が制
御部１０７に送られる。制御部１０７では、検出した信
号値を予め入力されて設定されている設定値と比較し、
この比較値に基づいてフィラメント電源１０３を制御す
る。フィラメント電源１０３はフィラメント１１１に流
入する電流を制御し、電子線管１０１から放射される電
子線の量を一定かつ安定した値に制御する。
えば、窓から距離５ｍｍ）には電子線量検出部１０６を
備えた電子線量測定部１０５が設けられている。この電
子線量検出部１０６は通常導電体であるステンレス、
銅、アルミニウム、または半導体であるシリコン、ゲル
マニウム、化合物半導体等で構成され、後述するプラズ
マによる浮遊電荷等弱いエネルギーの電子線が電子線量
検出部１０６に入らないように、つまり、該当する電子
線管１０１から放出された強いエネルギーの電子線のみ
が電子線量検出部１０６に入り、正確に当該電子線管１
０１から放射される電子線のみを測定するために、電子
線量検出部１０６は導体または半導体の表面がアルミ
ナ、シリカ等で構成される絶縁被膜で覆われている。そ
して電子線管１０１から放射された電子線は、その一部
がこの電子線量検出部１０６で検出され、検出信号が制
御部１０７に送られる。制御部１０７では、検出した信
号値を予め入力されて設定されている設定値と比較し、
この比較値に基づいてフィラメント電源１０３を制御す
る。フィラメント電源１０３はフィラメント１１１に流
入する電流を制御し、電子線管１０１から放射される電
子線の量を一定かつ安定した値に制御する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の電子ビ
ーム処理装置では、電子線量検出部１０６から引き出さ
れた接続線１０８の一部が図示されていない処理室に露
出して設けられていた。そのため、電子線管１０１から
放出された直接的な電子線や処理室の壁面から反射した
間接的な反射電子線の一部が接続線１０８に流入し、さ
らに通常、電子線管１０１から放射された電子線により
処理室内の雰囲気ガスがプラズマ化され、そのプラズマ
により浮遊電荷が発生し、また処理室の壁等からの２次
電子による浮遊電荷が発生すると、この浮遊電荷（電
子）の一部も接続線１０８に流入し、電子線量測定部１
０５では電子線量検出部１０６から取り込まれる電子の
みを正確に測定できないという問題があった。特に、処
理室内が減圧されてプラズマの発生領域が拡がっている
ような場合は、その傾向が顕著に現れていた。
ーム処理装置では、電子線量検出部１０６から引き出さ
れた接続線１０８の一部が図示されていない処理室に露
出して設けられていた。そのため、電子線管１０１から
放出された直接的な電子線や処理室の壁面から反射した
間接的な反射電子線の一部が接続線１０８に流入し、さ
らに通常、電子線管１０１から放射された電子線により
処理室内の雰囲気ガスがプラズマ化され、そのプラズマ
により浮遊電荷が発生し、また処理室の壁等からの２次
電子による浮遊電荷が発生すると、この浮遊電荷（電
子）の一部も接続線１０８に流入し、電子線量測定部１
０５では電子線量検出部１０６から取り込まれる電子の
みを正確に測定できないという問題があった。特に、処
理室内が減圧されてプラズマの発生領域が拡がっている
ような場合は、その傾向が顕著に現れていた。
【０００６】また、処理室内に複数個の電子線管１が配
置されているような場合は、処理室内の各電子線量検出
部１０６から処理室外まで引き出される接続線１０８の
経路、長さ等も異なり、接続線１０８によっては当該電
子線管１０１から放出された直接的な電子線や間接的な
反射電子線やプラズマによる浮遊電荷以外にも他の電子
線管１０１から放出された直接的な電子線や間接的な反
射電子線やプラズマによる浮遊電荷も取り込んでしま
い、各電子線管１０１から放射された電子線量を正確に
検出できないという問題があった。本発明の目的は、上
記の種々の問題点に鑑み、該当する電子線管から放射さ
れる電子線量のみを正確に測定することのできる電子ビ
ーム処理装置を提供することにある。
置されているような場合は、処理室内の各電子線量検出
部１０６から処理室外まで引き出される接続線１０８の
経路、長さ等も異なり、接続線１０８によっては当該電
子線管１０１から放出された直接的な電子線や間接的な
反射電子線やプラズマによる浮遊電荷以外にも他の電子
線管１０１から放出された直接的な電子線や間接的な反
射電子線やプラズマによる浮遊電荷も取り込んでしま
い、各電子線管１０１から放射された電子線量を正確に
検出できないという問題があった。本発明の目的は、上
記の種々の問題点に鑑み、該当する電子線管から放射さ
れる電子線量のみを正確に測定することのできる電子ビ
ーム処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、次のような手段を採用した。第１の手
段は、電子放射窓を備えた電子線管から放射される電子
線量を検出する電子線量検出部を前記電子放射窓の外部
に備えた電子ビーム処理装置において、前記電子線量検
出部で検出された検出信号を伝達する接続線は、少なく
とも、前記電子線や前記電子線によって生成されたプラ
ズマによる影響を受けないように絶縁被膜されているこ
とを特徴とする。
解決するために、次のような手段を採用した。第１の手
段は、電子放射窓を備えた電子線管から放射される電子
線量を検出する電子線量検出部を前記電子放射窓の外部
に備えた電子ビーム処理装置において、前記電子線量検
出部で検出された検出信号を伝達する接続線は、少なく
とも、前記電子線や前記電子線によって生成されたプラ
ズマによる影響を受けないように絶縁被膜されているこ
とを特徴とする。
【０００８】第２の手段は、第１の手段において、前記
電子線管は複数個配置され、各電子線管に設けられた電
子線量検出部で検出された検出信号を伝達する各接続線
は、少なくとも、各電子線管から放射された電子線や電
子線によって生成されたプラズマによる影響を受けない
ように絶縁被膜されていることを特徴とする。
電子線管は複数個配置され、各電子線管に設けられた電
子線量検出部で検出された検出信号を伝達する各接続線
は、少なくとも、各電子線管から放射された電子線や電
子線によって生成されたプラズマによる影響を受けない
ように絶縁被膜されていることを特徴とする。
【０００９】第３の手段は、電子放射窓を備えた電子線
管から放射される電子線量を検出する電子線量検出部を
前記電子放射窓の外部に備えた電子ビーム処理装置にお
いて、前記電子線量検出部で検出された検出信号を伝達
する裸線接続線は、少なくとも、前記電子線や前記電子
線によって生成されたプラズマによる影響を受ける領域
において、絶縁された保持部材内に保持されていること
を特徴とする。
管から放射される電子線量を検出する電子線量検出部を
前記電子放射窓の外部に備えた電子ビーム処理装置にお
いて、前記電子線量検出部で検出された検出信号を伝達
する裸線接続線は、少なくとも、前記電子線や前記電子
線によって生成されたプラズマによる影響を受ける領域
において、絶縁された保持部材内に保持されていること
を特徴とする。
【００１０】第４の手段は、第３の手段の手段におい
て、前記保持部材は、石英からなる２枚の保持板の少な
くとも一方に設けられた凹部に前記接続線を収納して前
記２枚の保持板を合わせて構成されることを特徴とす
る。
て、前記保持部材は、石英からなる２枚の保持板の少な
くとも一方に設けられた凹部に前記接続線を収納して前
記２枚の保持板を合わせて構成されることを特徴とす
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態を図１乃
至図４を用いて説明する。図１は本実施形態に係る電子
ビーム処理装置の構成を示す正面断面図、図２は図１の
Ｘ−Ｘから見た図である。これらの図において、１は電
子線管、２は電子線管１から電子線が放射される電子線
放射窓１１の前方に配置された電子線量検出部であり、
この電子線量検出部２は、プラズマによる浮遊電荷等弱
いエネルギーの電子線が電子線量検出部２に入らないよ
うに、つまり、該当する電子線管１から放出された強い
エネルギーの電子線のみが電子線量検出部２に入り、正
確に当該電子管１から放射される電子線のみを測定する
ために、ステンレス、銅、アルミニウム等の導体、また
はシリコン、ゲルマニウム、化合物半導体等の半導体の
表面がアルミナ、シリカ等で構成される絶縁被膜で被覆
されたものである。３は電子線量検出部２によって検出
された信号を電源装置８にフィードバックするために接
続された接続線、４は電子線管１を支持するために設け
られた電子線管保持枠、５は電子線量検出部２を支持す
るために設けられた電子線量検出部保持部、６は電子線
管１から放射された電子線によって被処理物７を処理す
るために設けられた処理室である。図３は、接続線３の
断面図であり、接続線３は、ステンレスやニッケルや銅
等の導体３１に、電子線管１から放出された直接的な電
子線や処理室６の壁面から反射した間接的な反射電子線
や電子線によって生成されたプラズマによる浮遊電荷
（電子）が流入されない程度の種類や厚さを有するアル
ミナ、シリカ等の絶縁被膜３２で構成されている。
至図４を用いて説明する。図１は本実施形態に係る電子
ビーム処理装置の構成を示す正面断面図、図２は図１の
Ｘ−Ｘから見た図である。これらの図において、１は電
子線管、２は電子線管１から電子線が放射される電子線
放射窓１１の前方に配置された電子線量検出部であり、
この電子線量検出部２は、プラズマによる浮遊電荷等弱
いエネルギーの電子線が電子線量検出部２に入らないよ
うに、つまり、該当する電子線管１から放出された強い
エネルギーの電子線のみが電子線量検出部２に入り、正
確に当該電子管１から放射される電子線のみを測定する
ために、ステンレス、銅、アルミニウム等の導体、また
はシリコン、ゲルマニウム、化合物半導体等の半導体の
表面がアルミナ、シリカ等で構成される絶縁被膜で被覆
されたものである。３は電子線量検出部２によって検出
された信号を電源装置８にフィードバックするために接
続された接続線、４は電子線管１を支持するために設け
られた電子線管保持枠、５は電子線量検出部２を支持す
るために設けられた電子線量検出部保持部、６は電子線
管１から放射された電子線によって被処理物７を処理す
るために設けられた処理室である。図３は、接続線３の
断面図であり、接続線３は、ステンレスやニッケルや銅
等の導体３１に、電子線管１から放出された直接的な電
子線や処理室６の壁面から反射した間接的な反射電子線
や電子線によって生成されたプラズマによる浮遊電荷
（電子）が流入されない程度の種類や厚さを有するアル
ミナ、シリカ等の絶縁被膜３２で構成されている。
【００１２】図４は、電源装置８から電子線管１に印加
される加速電圧と電子線が導体３１まで透過しない絶縁
被膜材料３２毎の膜厚との関係を示す図である。ここ
で、図４（ａ）は、電子線管１の電子線放射窓１１がシ
リコン（Ｓｉ）で形成され、その厚さが３μｍの場合
の、前記加速電圧と電子線管１から放射された電子線が
透過しない絶縁被膜材料がＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２ であ
るときの絶縁被膜の厚さとの関係を示し、図４（ｂ）
は、電子線管１の電子線放射窓１１がチタン（Ｔｉ）で
形成され、その厚さが８μｍの場合の、前記加速電圧と
電子線管１から放射された電子線が透過しない絶縁被膜
材料がＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２ であるときの絶縁被膜の
厚さとの関係を示している。なお、ここで、加速電圧と
は電子線管の加速電圧であり、電子線放射窓から出力さ
れた電子のエネルギーではない。
される加速電圧と電子線が導体３１まで透過しない絶縁
被膜材料３２毎の膜厚との関係を示す図である。ここ
で、図４（ａ）は、電子線管１の電子線放射窓１１がシ
リコン（Ｓｉ）で形成され、その厚さが３μｍの場合
の、前記加速電圧と電子線管１から放射された電子線が
透過しない絶縁被膜材料がＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２ であ
るときの絶縁被膜の厚さとの関係を示し、図４（ｂ）
は、電子線管１の電子線放射窓１１がチタン（Ｔｉ）で
形成され、その厚さが８μｍの場合の、前記加速電圧と
電子線管１から放射された電子線が透過しない絶縁被膜
材料がＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２ であるときの絶縁被膜の
厚さとの関係を示している。なお、ここで、加速電圧と
は電子線管の加速電圧であり、電子線放射窓から出力さ
れた電子のエネルギーではない。
【００１３】なお、本実施形態に係る電子線管１および
電源装置８の構成、および電子ビーム処理装置としての
動作は図１１に示した電子ビーム処理装置のものと略同
じであるので説明を省略する。
電源装置８の構成、および電子ビーム処理装置としての
動作は図１１に示した電子ビーム処理装置のものと略同
じであるので説明を省略する。
【００１４】本実施形態に係る電子ビーム処理装置は、
上記のように構成されるので、例えば、図２に示すよう
に、各電子線管１の電子線放射窓１１から放射された電
子線は網目状に形成された電子線量検出部２で検出さ
れ、その検出信号は各接続線３を介して電源装置８に伝
達される。その際、各接続線３は、当該電子線管１から
放出された直接的な電子線や間接的な反射電子線や電子
線管１によって生成されるプラズマ領域の近傍や他の電
子線管１から放出された直接的な電子線や間接的な反射
電子線や他の電子線管１によって生成されるプラズマ領
域の近傍を通過しても、接続線３は絶縁被膜３２によっ
てその影響を受けずに、該当する電子線管１の検出信号
のみを正確に伝達することができる。
上記のように構成されるので、例えば、図２に示すよう
に、各電子線管１の電子線放射窓１１から放射された電
子線は網目状に形成された電子線量検出部２で検出さ
れ、その検出信号は各接続線３を介して電源装置８に伝
達される。その際、各接続線３は、当該電子線管１から
放出された直接的な電子線や間接的な反射電子線や電子
線管１によって生成されるプラズマ領域の近傍や他の電
子線管１から放出された直接的な電子線や間接的な反射
電子線や他の電子線管１によって生成されるプラズマ領
域の近傍を通過しても、接続線３は絶縁被膜３２によっ
てその影響を受けずに、該当する電子線管１の検出信号
のみを正確に伝達することができる。
【００１５】次に、本発明の第２の実施形態を図５乃至
図７を用いて説明する。図５は本実施形態に係る電子ビ
ーム処理装置の構成を示す正面断面図、図６は図５のＸ
−Ｘから見た図、図７は電子線量検出部付近を構成する
各部の拡大斜視図である。これらの図において、２１
は、ステンレスやニッケルや銅等の材料で構成された導
体で、電子線量検出部２によって検出された検出信号を
電源装置８にフィードバックするために設けられた裸線
接続線、２２，２３はそれぞれ電子線量検出部２や裸線
接続部２１を保持する石英で構成された保持部材である
検出部保持板、２４はステンレス（ＳＵＳ）等で構成さ
れた電子線管１のフランジ部である。
図７を用いて説明する。図５は本実施形態に係る電子ビ
ーム処理装置の構成を示す正面断面図、図６は図５のＸ
−Ｘから見た図、図７は電子線量検出部付近を構成する
各部の拡大斜視図である。これらの図において、２１
は、ステンレスやニッケルや銅等の材料で構成された導
体で、電子線量検出部２によって検出された検出信号を
電源装置８にフィードバックするために設けられた裸線
接続線、２２，２３はそれぞれ電子線量検出部２や裸線
接続部２１を保持する石英で構成された保持部材である
検出部保持板、２４はステンレス（ＳＵＳ）等で構成さ
れた電子線管１のフランジ部である。
【００１６】ここで、図７に示すように、検出部保持板
２２，２３およびフランジ部２４にはそれぞれ電子線を
通過させるための開口部が設けられているが、一方の検
出部保持板２２には、各電子線管１に対応して配置され
る電子線量検出部２を載置する載置部２２１と裸線接続
線２１を配設する凹部２２２とが設けられており、電子
線量検出部２および裸線接続線２１は、それぞれ検出部
保持板２２の載置部２２１および凹部２２２に収納さ
れ、上部から他方の検出部保持板２３によって挟持され
保持される。なお、保持部材２２，２３は石英以外に、
ガラスやセラミックであっても良く、さらには、保持部
材２２，２３はそれらの部材以外に、アルミニウム、ス
テンレス等の金属板の表面に絶縁物であるガラスやセラ
ミックや樹脂等を被覆した構成であっても良い。要は、
保持部材２２，２３の少なくとも表面が絶縁され、保持
部材２２，２３の間に配置された裸接続線２１と絶縁状
態になっていれば良い。なお、その他の構成は図１乃至
図３に示す同符号の構成に対応するので説明を省略す
る。
２２，２３およびフランジ部２４にはそれぞれ電子線を
通過させるための開口部が設けられているが、一方の検
出部保持板２２には、各電子線管１に対応して配置され
る電子線量検出部２を載置する載置部２２１と裸線接続
線２１を配設する凹部２２２とが設けられており、電子
線量検出部２および裸線接続線２１は、それぞれ検出部
保持板２２の載置部２２１および凹部２２２に収納さ
れ、上部から他方の検出部保持板２３によって挟持され
保持される。なお、保持部材２２，２３は石英以外に、
ガラスやセラミックであっても良く、さらには、保持部
材２２，２３はそれらの部材以外に、アルミニウム、ス
テンレス等の金属板の表面に絶縁物であるガラスやセラ
ミックや樹脂等を被覆した構成であっても良い。要は、
保持部材２２，２３の少なくとも表面が絶縁され、保持
部材２２，２３の間に配置された裸接続線２１と絶縁状
態になっていれば良い。なお、その他の構成は図１乃至
図３に示す同符号の構成に対応するので説明を省略す
る。
【００１７】本実施形態に係る電子ビーム処理装置は、
上記のように構成されるので、例えば、図６に示すよう
に、各電子線管１の電子線放射窓１１から放射された電
子線は網目状に形成された電子線量検出部２で検出さ
れ、その検出信号は各裸線接続線２１を介して電源装置
８に伝達される。その際、各裸線接続線２１は、一方の
検出部保持板２２の凹部２２２に収納されて他方の検出
部保持板２３によって覆われるので、該当する電子線管
１から放出される直接的な電子線や間接的な反射電子線
や電子線管１によって生成されるプラズマの影響を受け
ないと共に、他の電子線管１から放出される直接的な電
子線や間接的な反射電子線や電子線管１によって生成さ
れるプラズマからも隔離されるので、該当する電子線管
１の検出信号のみを正確に電源装置８に伝達することが
できる。
上記のように構成されるので、例えば、図６に示すよう
に、各電子線管１の電子線放射窓１１から放射された電
子線は網目状に形成された電子線量検出部２で検出さ
れ、その検出信号は各裸線接続線２１を介して電源装置
８に伝達される。その際、各裸線接続線２１は、一方の
検出部保持板２２の凹部２２２に収納されて他方の検出
部保持板２３によって覆われるので、該当する電子線管
１から放出される直接的な電子線や間接的な反射電子線
や電子線管１によって生成されるプラズマの影響を受け
ないと共に、他の電子線管１から放出される直接的な電
子線や間接的な反射電子線や電子線管１によって生成さ
れるプラズマからも隔離されるので、該当する電子線管
１の検出信号のみを正確に電源装置８に伝達することが
できる。
【００１８】そして、本実施形態の電子ビーム処理装置
では、第１の実施形態のものと比べて、裸線接続線２１
には絶縁被膜が施されていないので、絶縁被膜が剥がれ
落ちること等による処理室６内の汚染を確実に防止する
ことができる。
では、第１の実施形態のものと比べて、裸線接続線２１
には絶縁被膜が施されていないので、絶縁被膜が剥がれ
落ちること等による処理室６内の汚染を確実に防止する
ことができる。
【００１９】次に、本発明の第３の実施形態を図８乃至
図１０を用いて説明する。図８は本実施形態に係る電子
ビーム処理装置の構成を示す正面断面図、図９は図８の
Ｘ−Ｘから見た図、図１０は電子線量検出部付近を構成
する各部の拡大斜視図である。本実施形態は、第２の実
施形態の電子ビーム処理装置に設けられていたフランジ
部２４が備えられていない点で相違する。
図１０を用いて説明する。図８は本実施形態に係る電子
ビーム処理装置の構成を示す正面断面図、図９は図８の
Ｘ−Ｘから見た図、図１０は電子線量検出部付近を構成
する各部の拡大斜視図である。本実施形態は、第２の実
施形態の電子ビーム処理装置に設けられていたフランジ
部２４が備えられていない点で相違する。
【００２０】本実施形態の電子ビーム処理装置は、第２
の実施形態と同様の効果を奏することができるが、第２
の実施形態のものでは複数の電子線管１の配置とアース
が容易化されるの対して、本実施形態では電子ビーム処
理装置としての構造が簡素化される利点がある。
の実施形態と同様の効果を奏することができるが、第２
の実施形態のものでは複数の電子線管１の配置とアース
が容易化されるの対して、本実施形態では電子ビーム処
理装置としての構造が簡素化される利点がある。
【００２１】
【発明の効果】請求項求項１に記載の発明は、電子線量
検出部で検出された検出信号を伝達する接続線は、少な
くとも、前記電子線や前記電子線によって生成されたプ
ラズマによる影響を受けないように絶縁被膜されている
ので、接続線は該当する電子線量検出部によって検出さ
れた検出信号のみを正確にフィードバックすることがで
きる。
検出部で検出された検出信号を伝達する接続線は、少な
くとも、前記電子線や前記電子線によって生成されたプ
ラズマによる影響を受けないように絶縁被膜されている
ので、接続線は該当する電子線量検出部によって検出さ
れた検出信号のみを正確にフィードバックすることがで
きる。
【００２２】請求項２に記載の発明は、前記電子線管は
複数個配置され、各電子線管に設けられた電子線量検出
部で検出された検出信号を伝達する各接続線は、少なく
とも、各電子線管から放射された電子線や電子線によっ
て生成されたプラズマによる影響を受けないように絶縁
被膜されているので、いずれの接続線も該当する電子線
量検出部によって検出された検出信号のみを正確にフィ
ードバックすることができる。
複数個配置され、各電子線管に設けられた電子線量検出
部で検出された検出信号を伝達する各接続線は、少なく
とも、各電子線管から放射された電子線や電子線によっ
て生成されたプラズマによる影響を受けないように絶縁
被膜されているので、いずれの接続線も該当する電子線
量検出部によって検出された検出信号のみを正確にフィ
ードバックすることができる。
【００２３】請求項３乃至請求項４に記載の発明は、電
子線量検出部で検出された検出信号を伝達する裸線接続
線は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によって生
成されたプラズマによる影響を受ける領域において、絶
縁された保持部材内に保持されているので、いずれの裸
線接続線も該当する電子線量検出部によって検出された
検出信号のみを正確にフィードバックすることができる
と共に、裸線接続線は絶縁被膜が施されていないので、
絶縁被膜が剥がれ落ちること等による処理室内の汚染を
防止することができる。
子線量検出部で検出された検出信号を伝達する裸線接続
線は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によって生
成されたプラズマによる影響を受ける領域において、絶
縁された保持部材内に保持されているので、いずれの裸
線接続線も該当する電子線量検出部によって検出された
検出信号のみを正確にフィードバックすることができる
と共に、裸線接続線は絶縁被膜が施されていないので、
絶縁被膜が剥がれ落ちること等による処理室内の汚染を
防止することができる。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る電子ビーム処理
装置の構成を示す正面断面図である。
装置の構成を示す正面断面図である。
【図２】図１のＸ−Ｘから見た図である。
【図３】図２に示す電子ビーム処理装置における接続線
３の断面図である。
３の断面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る、電源装置８か
ら電子線管１に印加される加速電圧と電子線が透過しな
い絶縁被膜材料毎の膜厚との関係を示す図である。
ら電子線管１に印加される加速電圧と電子線が透過しな
い絶縁被膜材料毎の膜厚との関係を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る電子ビーム処理
装置の構成を示す正面断面図である。
装置の構成を示す正面断面図である。
【図６】図５のＸ−Ｘから見た図である。
【図７】図６に示す電子ビーム処理装置の電子線量検出
部付近を構成する各部の拡大斜視図である。
部付近を構成する各部の拡大斜視図である。
【図８】本発明の第３の実施形態に係る電子ビーム処理
装置の構成を示す正面断面図である。
装置の構成を示す正面断面図である。
【図９】図８のＸ−Ｘから見た図である。
【図１０】図９に示す電子ビーム処理装置の電子線量検
出部付近を構成する各部の拡大斜視図である。
出部付近を構成する各部の拡大斜視図である。
【図１１】本発明の先行技術に係る電子ビーム処理装置
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
１ 電子線管 １１ 電子線放射窓 ２ 電子線量検出部 ３ 接続線 ３１ 導体 ３２ 絶縁被膜 ４ 電子線管保持枠 ５ 電子線量検出部保持部 ６ 処理室 ７ 被処理物 ８ 電源装置 ２１ 接続線 ２２ 検出部保持板 ２２１ 載置部 ２２２ 凹部 ２３ 検出部保持板 ２４ フランジ部
Claims (4)
- 【請求項１】 電子放射窓を備えた電子線管から放射さ
れる電子線量を検出する電子線量検出部を前記電子放射
窓の外部に備えた電子ビーム処理装置において、 前記電子線量検出部で検出された検出信号を伝達する接
続線は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によって
生成されたプラズマによる影響を受けないように絶縁被
膜されていることを特徴とする電子ビーム処理装置。 - 【請求項２】 前記電子線管は複数個配置され、各電子
線管に設けられた電子線量検出部で検出された検出信号
を伝達する各接続線は、少なくとも、各電子線管から放
射された電子線や電子線によって生成されたプラズマに
よる影響を受けないように絶縁被膜されていることを特
徴とする請求項１に記載の電子ビーム処理装置。 - 【請求項３】 電子放射窓を備えた電子線管から放射さ
れる電子線量を検出する電子線量検出部を前記電子放射
窓の外部に備えた電子ビーム処理装置において、 前記電子線量検出部で検出された検出信号を伝達する裸
線接続線は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によ
って生成されたプラズマによる影響を受ける領域におい
て、絶縁された保持部材内に保持されていることを特徴
とする電子ビーム処理装置。 - 【請求項４】 前記保持部材は、石英からなる２枚の保
持板の少なくとも一方に設けられた凹部に前記裸線接続
線を収納して前記２枚の保持板を合わせて構成されるこ
とを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001049357A JP2002250799A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 電子ビーム処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001049357A JP2002250799A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 電子ビーム処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002250799A true JP2002250799A (ja) | 2002-09-06 |
Family
ID=18910471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001049357A Pending JP2002250799A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 電子ビーム処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002250799A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513973A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 電子ビームを感知するための多層検出器及び方法 |
| JP2016501082A (ja) * | 2012-12-03 | 2016-01-18 | テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムＴｅｔｒａ Ｌａｖａｌ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＆ Ｆｉｎａｎｃｅ Ｓ．Ａ． | 複数の導体を有する電気センサを介して電子ビームを監視するためのデバイス |
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| JP2000009900A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-14 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 電子線照射装置および電子線照射方法 |
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-
2001
- 2001-02-23 JP JP2001049357A patent/JP2002250799A/ja active Pending
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051121 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060110 |
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| A02 | Decision of refusal |
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