JP2002246200A - 粒子加速器の運転方法 - Google Patents

粒子加速器の運転方法

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JP2002246200A
JP2002246200A JP2001045494A JP2001045494A JP2002246200A JP 2002246200 A JP2002246200 A JP 2002246200A JP 2001045494 A JP2001045494 A JP 2001045494A JP 2001045494 A JP2001045494 A JP 2001045494A JP 2002246200 A JP2002246200 A JP 2002246200A
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Tetsuya Nakanishi
哲也 中西
Tetsuya Matsuda
哲也 松田
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 渦電流や磁気余効による磁場変動の少ない粒
子加速器の運転方法の提供。 【解決手段】 電磁石の励磁電流を操作して、荷電粒子
ビームを入射し、加速し、出射するパターンを繰り返す
粒子加速器の運転方法において、荷電粒子ビームの加速
時に磁場強度を最大に上げた後、出射に必要な励磁電流
に下げて出射し、出射の後には、次の荷電粒子ビームの
入射に必要な励磁電流に下げて入射することを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁石の励磁電流
を操作して、荷電粒子ビームを入射し、加速し、出射す
る粒子加速器の運転方法に関する。
【0002】
【従来の技術】粒子加速器(シンクロトロン)は、荷電
粒子ビームを入射し、加速し、出射したり、或いは、当
該ビームの軌道を偏向し、収束し、補正したりするため
各種の電磁石、例えば、偏向電磁石、四極電磁石、六極
電磁石、ステアリング電磁石等を備えている。これらの
電磁石は、求められる荷電粒子ビーム(以下、ビームと
もいう)のエネルギーに応じて磁場強度を変えるように
電磁石の励磁電流が操作される。例えば、ビームの入射
時には磁場強度が低くなるように操作され、加速時に
は、当該ビームが出射時に求められる所要のエネルギー
となるよう即ち磁場強度が上がるように操作され、出射
時には、こうして所要のエネルギーまで加速された後、
効率よく出射するために、前記エネルギーを一定に維持
するよう操作する。
【0003】ビームは、遅い取出しといわれる場合で
も、例えば、数百msから数秒かけて少しずつ取り出さ
れるため、一般の装置では、出射に必要な励磁電流を一
定に保った状態を維持しながら、出射用電磁石等を使っ
てビームパラメータを変化させて出射させている。勿
論、装置によっては、磁場強度を僅かに変えて出射する
こともある。何れにしても、ビームを効率良く入射し、
損失なく加速し、効率良く出射するには、入射、加速、
出射におけるそれぞれの磁場パターンを極めて精度良く
発生させる必要がある。この場合、偏向電磁石や四極電
磁石等の電磁石の励磁電流の操作が重要となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、磁場を
時間的に変化させる電磁石では、渦電流や磁気余効等の
問題が生じる。以下、これらについて説明する。粒子加
速器に装置される上記のような各種の電磁石は、磁極や
ヨークやビームを通過させる真空ダクト等が導電体で構
成されているため、時間的に磁場が変動すると、これら
の導電体に磁場の時間変化を打ち消すように渦電流が発
生する。
【0005】この渦電流を図6及び図7に基づいて説明
する。図6は渦電流と磁場との関係を示す概念図であ
り、図7は励磁電流による磁場と渦電流による磁場との
関係を示す図である。図7に示すように、図示の磁場強
度は直線的に増大して一定になる台形的パターンを示し
ているが、この場合、磁場強度が増大している間は、渦
電流による磁場は逆方向に或る一定の値で発生する。磁
場強度が一定になった場合に、導電体の抵抗がゼロだと
渦電流による磁場もゼロになるが、実際には有限の値を
持っているため、それによる時定数で指数関数的にゼロ
に近づいて行く。この磁場は、励磁電流による磁場強度
を下げる方向に発生しているため、一定モードになった
後にゼロに近づいて行くということは、全体の磁場強度
を上げて行くことになる。
【0006】次に、磁気余効について説明する。磁気余
効とは、磁気励磁電流を突然ゼロにした場合、電磁石に
発生している磁場は渦電流の影響がなくても励磁電流に
合わせてゼロになることはなく、或る値から徐々にゼロ
に近づいて行く、という現象をいう。この現象は、励磁
電流を突然立ち上げた場合も同様に起こり、図8に示す
ように、磁気余効による影響も渦電流による影響と同様
に一定モードになった後に、磁場強度を増やすことにな
る。
【0007】上記のような渦電流や磁気余効による悪影
響は、出射後の入射の際にも、即ち、次のビームを入射
するに際して、磁場強度を入射に必要な所要レベルまで
下げた時にも現れる。この場合、磁場強度は徐々に下が
る傾向を示す。又、出射の際にも、即ち、入射後の加速
によって一定モードになったビームを取り出す際には、
一般にビームの共鳴現象を利用するため、磁場強度は極
めて精度良く一定に制御される必要があるが、上記のよ
うな磁場変化によっても悪影響が現れて、ビームの出射
効率を悪化させていた。又、ビームを入射する際にも、
磁場強度を安定させないと上記の悪影響が現れて、ビー
ムを効率良く入射させることができなかった。
【0008】特に、この種の粒子加速器を医療用に用い
る場合には、患者や患部の症状等の治療目的に応じて、
求められる出射ビームエネルギーが当然異なるため、そ
れに応じた様々な磁場パターンが必要となるが、従来で
は、このような様々な磁気パターンに対応するように励
磁電流を操作するには、大変な労力とコストとを必要と
していた。
【0009】本発明は、粒子加速器における上記のよう
な諸問題を解消するため、渦電流や磁気余効による磁場
変動の少ない励磁電流の操作方法即ち運転方法の提供を
目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、電磁
石の励磁電流を操作して、荷電粒子ビームを入射し、加
速し、出射するパターンを繰り返す粒子加速器の運転方
法において、荷電粒子ビームの加速時に磁場強度を最大
に上げた後、出射に必要な励磁電流に下げて出射し、出
射の後には、次の荷電粒子ビームの入射に必要な励磁電
流に下げて入射することを特徴とする。
【0011】請求項2の発明は、請求項1に記載の粒子
加速器の運転方法において、加速時に磁場強度を最大に
上げた状態を一旦維持させることを特徴とする。
【0012】請求項3の発明は、請求項1又は請求項2
に記載の粒子加速器の運転方法において、荷電粒子ビー
ムを出射後、次の荷電粒子ビームの入射に際して、当該
荷電粒子ビームの入射に必要な励磁電流より下げた後、
入射に必要な励磁電流に上げて入射することを特徴とす
る。
【0013】請求項4の発明は、請求項3に記載の粒子
加速器の運転方法において、入射に必要な励磁電流より
下げた状態を一旦維持させることを特徴とする。
【0014】請求項5の発明は、請求項1乃至請求項4
の何れかに記載の粒子加速器の運転方法において、加速
時に磁場強度を最大に上げた後、出射に必要な励磁電流
より下げた後、出射に必要な励磁電流に上げて出射する
ことを特徴とする。
【0015】請求項6の発明は、請求項5に記載の粒子
加速器の運転方法において、出射に必要な励磁電流より
下げた状態を一旦維持させることを特徴とする。
【0016】請求項7の発明は、請求項1乃至請求項6
に記載の粒子加速器の運転方法のうち少なくとも2つの
運転方法を任意の順序で連続して運転することを特徴と
する。
【0017】
【発明の実施の形態】実施の形態1.実施の形態1にお
いて、荷電粒子ビームを入射し、加速し、出射する運転
パターンを繰り返す粒子加速器において励磁電流を操作
する運転方法を図1に基づいて説明する。図1は励磁電
流の運転パターンP1を示す。この形態で使用される粒
子加速器のシステムは、ビームを生成するイオン源(或
いは電子銃)、イオン源で生成されたビームを円形加速
器で加速可能なエネルギーまで加速する前段加速器、前
段加速器で加速されたビームを円形加速器に導く入射ビ
ーム輸送系、ビームを所望のエネルギーまで加速させる
円形加速器、加速されたビームを取り出し、所定の場所
まで導く出射ビーム輸送系等(非図示)で構成されてい
る。
【0018】この形態1の運転方法を運転パターンP1
として図1に示す。この運転パターンP1では、円形加
速器に入射されたビームの加速時に、励磁電流を最大励
磁電流にまで、従って最大磁場強度(Bmax)まで一
旦上げた後に、出射に必要な励磁電流にまで、従って出
射に必要な所望の磁場強度(B1)まで下げて出射し、
出射の後には、ビームの入射に必要な励磁電流まで、従
って入射に適した磁場強度(Binj)に下げてから入射
するように励磁電流を操作している。
【0019】上記のように、ビームの加速時に、一旦、
励磁電流値を最大に上げて磁場強度を最大(最大磁場強
度Bmax)とした後に、所望の出射ビームエネルギー
に相当する磁場強度B1となるように励磁電流を下げる
操作を行うことにより、渦電流や磁気余効などの影響に
よる磁場変化の遅れを早めることができる。渦電流の影
響に対しては、励磁電流を下げる操作で反対方向の渦電
流が発生するため、全体としてキャンセルされるからで
ある。これにより、出射に必要な励磁電流まで下げた時
には、渦電流や磁気余効などの悪影響を小さくすること
ができる。この作用は、例えば、電気回路で時定数の問
題で立ち上がりの遅い電流波形を早めるために、立ち上
げ時に電圧を高くするのと似ている。
【0020】又、この形態1において、図2の運転方法
(運転パターンP2)に示すように、励磁電流を入射のレ
ベル、即ち、入射に必要な励磁電流(Binj)に下げ
る(減磁する)場合に、図示のように、一旦、入射に必
要な励磁電流(Binj)よりも低いレベルまで下げた
後に、入射に必要な励磁電流(Binj)まで上げる操
作を行うと、上記と実質的に同様の作用が生じて、渦電
流や磁気余効などの悪影響を更に小さくすることがで
き、常に安定した磁場で入射を効率良く行うことができ
る。以上の何れにおいても、繰り返される運転パターン
P1やP2における加速時に、常に磁場を最大磁場強度
まで一旦上げておくことにより、磁場の再現性をよくす
ることができる。
【0021】実施の形態2.実施の形態2は、図3の運
転パターンP3に示すように、上記実施の形態1におけ
る運転パターンP2において、加速時に、最大励磁電流
(最大磁場強度)まで上げた後、直ちに、出射に必要な
励磁電流B1まで下げる(減磁する)のではなく、最大
磁場強度(Bmax)まで上げた後、若干の時間(所要
時間)、その最大磁場強度(Bmax)を維持させるよ
う励磁電流を操作している。即ち、最大励磁電流に上げ
た状態(最大磁場強度)を一旦維持させた後に、出射に
必要な励磁電流B1に下げるように励磁電流を操作す
る。このように、最大磁場強度(Bmax)を維持する
時間を、最適化即ち適宜調整することによって、渦電流
や磁気余効などの悪影響を上記実施の形態1の場合より
更により小さくすることができる。
【0022】又、この運転方法(運転パターンP3)で
は、励磁電流を入射のレベル、即ち、入射に必要な励磁
電流(Binj)に下げる(減磁する)場合にも、図示
のように、一旦、入射に必要な励磁電流(Binj)よ
りも低いレベルまで下げて低い磁場強度とした後、その
低い磁場強度を、上記と同様に、若干の時間(所要時
間)、その磁場強度なまま維持させるよう励磁電流を操
作している。即ち、低いレベルの励磁電流に下げた状態
を一旦維持させた後に、入射に必要な励磁電流(Bin
j)に上げるように励磁電流を操作している。このよう
に、出射後、次のビームの入射に必要な励磁電流(Bi
nj)まで下げる(減磁する)際に、入射に必要な励磁
電流(Binj)よりも下げた状態を一旦維持させるよ
うに励磁電流を操作することによって、上記と同様の作
用が生じて、渦電流や磁気余効などの悪影響を一段と小
さくすることができ、常に安定した磁場で入射を効率良
く行うことができる。
【0023】実施の形態3.実施の形態3は、入射時の
磁場の変化が入射効率にあまり影響しない粒子加速器に
おける運転方法に関するもので、このような粒子加速器
の場合には、上記実施の形態1の運転パターンP2や形
態2の運転パターンP3(図2、図3)のように、出射
後、次のビームの入射に必要な励磁電流(Binj)ま
で下げる(減磁する)際に、入射に必要な励磁電流(B
inj)よりも下げたり、下げた状態を一旦維持させる
ように励磁電流を操作する必要はない。上記実施の形態
1の運転パターンP1で説明したように、励磁電流を入
射に必要なレベルに下げるだけでよい。即ち、上記運転
パターンP1において、出射時の磁場強度B1から次の
ビームの入射に必要な励磁電流(Binj)まで直線的
に減磁するよう励磁電流を操作すればよい。
【0024】実施の形態4.医療用等に用いられる粒子
加速器には、様々なエネルギーの出射ビームが要求され
る。この実施の形態4は、このような粒子加速器の運転
方法に関するもので、例えば、図4に示すように、最大
加速エネルギー即ち最大磁場強度(Bmax)よりも相
当低いエネルギー即ち磁場強度B3で出射が行われる場
合の励磁電流の操作に関する。このように、最大磁場強
度(Bmax)よりも相当低い磁場強度B3で出射が行
われる場合には、出射に必要な励磁電流B3まで下げた
時に、渦電流や磁気余効による悪影響が生じる。このた
め、図4の運転パターンP4に示すように、出射に必要
な励磁電流B3まで下げる際には、一旦、出射に必要な
励磁電流B3より下げてから出射に必要な励磁電流B3
に上げて出射させるように励磁電流を操作する。
【0025】このように操作することにより、上記実施
の形態1の運転パターンP1、P2において、一旦、出
射に必要な励磁電流B1を越えた磁場強度(この例では
最大磁場強度Bmax)とした後、或いは、実施の形態
2の運転パターンP3において、出射に必要な励磁電流
B1を越えた磁場強度の状態を一旦維持させた後に、出
射に必要な励磁電流B1とする操作を行ったのと実質的
に同様な作用が生じて、出射時における磁場強度B3に
対する渦電流や磁気余効の悪影響を小さくすることがで
きる。
【0026】実施の形態5.実施の形態5は、上記実施
の形態1乃至形態4で説明した粒子加速器の各種の運転
方法(運転パターンP1乃至P4)やこれらを使用目的に
応じて応用した運転パターンP5やP6を適宜組み合わ
せて、例えば、少なくとも2つの運転方法を任意の順序
で連続させて運転する形態を示したものである。これを
図5に示す。図において、このように、上記実施の形態
1乃至形態4で示した運転方法やこれらの運転方法を適
用した運転パターン(P3−P5−P4−P7・・・)
を組み合わせて運転しても、従来の運転に比べて、効率
の良い入射、加速、出射を行うことができる。従って、
この運転方法は、パターン毎に出射エネルギーを変える
運転が要求される医療用としての粒子加速器の運転にお
いて極めて有効である。
【0027】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、従来の運転方
法に比べて、磁場の再現性が良く、且つ、出射時の渦電
流や磁気余効などの悪影響による磁場変動を小さくする
ことができる。
【0028】請求項2の発明によれば、上記請求項1の
発明の効果に比べて、更に、出射時における渦電流や磁
気余効などの悪影響による磁場変動を小さくすることが
できる。
【0029】請求項3の発明によれば、出射時だけでな
く入射時における渦電流や磁気余効などの悪影響による
磁場変動を小さくすることができる。
【0030】請求項4の発明によれば、上記請求項3の
発明の効果に比べて、更に、入射時における渦電流や磁
気余効などの悪影響による磁場変動を小さくすることが
できる。
【0031】請求項5の発明によれば、上記請求項1乃
至請求項4の何れの発明においても、最大事場強度より
相当低いレベルの磁場強度にて出射する場合に、上記請
求項1乃至請求項4の何れの発明による効果に比べて
も、出射時における渦電流や磁気余効などの悪影響によ
る磁場変動を小さくすることができ、所望の出射ビーム
エネルギーを得ることができる。
【0032】請求項6の発明によれば、請求項5の発明
の効果に比べて、更に、出射における渦電流や磁気余効
などの悪影響による磁場変動を小さくすることができ
る。
【0033】請求項7の発明によれば、運転毎に出射エ
ネルギーの変化を要求される医療用としての粒子加速器
の運転において、渦電流や磁気余効による磁場変動によ
る悪影響が少なく、効率の良い入射、加速、出射を行う
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1の運転パターンを示す図であ
る。
【図2】 実施の形態3の運転パターンを示す図であ
る。
【図3】 実施の形態2の運転パターンを示す図であ
る。
【図4】 実施の形態4の運転パターンを示す図であ
る。
【図5】 実施の形態5の運転パターンを示す図であ
る。
【図6】 渦電流と磁場との関係を示す概念図である。
【図7】 励磁電流による磁場と渦電流による磁場との
関係を示す図である。
【図8】 励磁電流と磁場強度との関係を示す図であ
る。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電磁石の励磁電流を操作して、荷電粒子
    ビームを入射し、加速し、出射するパターンを繰り返す
    粒子加速器の運転方法において、 荷電粒子ビームの加速時に磁場強度を最大に上げた後、
    出射に必要な励磁電流に下げて出射し、出射の後には、
    次の荷電粒子ビームの入射に必要な励磁電流に下げて入
    射することを特徴とする粒子加速器の運転方法。
  2. 【請求項2】 加速時に磁場強度を最大に上げた状態を
    一旦維持させることを特徴とする請求項1に記載の粒子
    加速器の運転方法。
  3. 【請求項3】 荷電粒子ビームを出射後、次の荷電粒子
    ビームの入射に際して、当該荷電粒子ビームの入射に必
    要な励磁電流より下げた後、入射に必要な励磁電流に上
    げて入射することを特徴とする請求項1又は請求項2に
    記載の粒子加速器の運転方法。
  4. 【請求項4】 入射に必要な励磁電流より下げた状態を
    一旦維持させることを特徴とする請求項3に記載の粒子
    加速器の運転方法。
  5. 【請求項5】 加速時に磁場強度を最大に上げた後、出
    射に必要な励磁電流より下げた後、出射に必要な励磁電
    流に上げて出射することを特徴とする請求項1乃至請求
    項4の何れかに記載の粒子加速器の運転方法。
  6. 【請求項6】 出射に必要な励磁電流より下げた状態を
    一旦維持させることを特徴とする請求項5に記載の粒子
    加速器の運転方法。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至請求項6に記載の粒子加速
    器の運転方法のうち少なくとも2つの運転方法を任意の
    順序で連続して運転することを特徴とする粒子加速器の
    運転方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010063725A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Ltd 粒子線照射装置とその運転方法
JP2015028876A (ja) * 2013-07-30 2015-02-12 株式会社東芝 加速器の制御装置及び重粒子線治療装置
WO2018123063A1 (ja) * 2016-12-29 2018-07-05 三菱電機株式会社 粒子線治療装置
CN109462934A (zh) * 2018-11-13 2019-03-12 惠州离子科学研究中心 缩短同步加速器的运行周期的方法
CN111462975A (zh) * 2020-03-31 2020-07-28 清华大学 一种磁场产生方法、同步加速器、存储介质和设备

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010063725A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Ltd 粒子線照射装置とその運転方法
JP2015028876A (ja) * 2013-07-30 2015-02-12 株式会社東芝 加速器の制御装置及び重粒子線治療装置
WO2018123063A1 (ja) * 2016-12-29 2018-07-05 三菱電機株式会社 粒子線治療装置
CN109462934A (zh) * 2018-11-13 2019-03-12 惠州离子科学研究中心 缩短同步加速器的运行周期的方法
CN111462975A (zh) * 2020-03-31 2020-07-28 清华大学 一种磁场产生方法、同步加速器、存储介质和设备
CN111462975B (zh) * 2020-03-31 2021-05-18 清华大学 一种磁场产生方法、同步加速器、存储介质和设备

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