JP2002245807A - Light radiation processing device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光化学反応用の紫
外線光源として使用され、誘電体バリア放電によってエ
キシマ分子を形成し該エキシマ分子から放射される光を
利用するいわゆる誘電体バリア放電ランプを具えた光照
射処理装置にする。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention comprises a so-called dielectric barrier discharge lamp which is used as an ultraviolet light source for a photochemical reaction, forms excimer molecules by dielectric barrier discharge, and utilizes light emitted from the excimer molecules. Light irradiation processing device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】本発明に関連した技術としては、例え
ば、特開平２−７３５３号があり、そこには、放電容器
にエキシマ分子を形成する放電用ガスを充填し、誘電体
バリヤ放電（別名オゾナイザ放電あるいは無声放電。電
気学会発行改定新版「放電ハンドブック」平成１年６月
再版７刷発行第２６３ページ参照）によってエキシマ分
子を形成せしめ、このエキシマ分子から放射される光を
取り出す放射器、すなわち誘電体バリヤ放電ランプにつ
いて記載されている。そして、放電容器の形状は円筒状
であり、放電容器の少なくとも一部は誘電体バリア放電
を行う誘電体を兼ねており、この誘電体の少なくとも一
部はエキシマ分子から放射されるエキシマ光（例えば、
波長２００ｎｍ以下の真空紫外光）に対して透過性であ
ることが開示されている。更に、放電容器の外面には一
方の電極として網状電極が設けられた誘電体バリア放電
ランプが記載されている。2. Description of the Related Art As a technique related to the present invention, there is, for example, JP-A-2-7353, in which a discharge vessel is filled with a discharge gas for forming excimer molecules, and a dielectric barrier discharge (also known as a dielectric barrier discharge). Ozonizer discharge or silent discharge, an excimer molecule that is formed by excimer molecules formed by the revised edition of the “Discharge Handbook” published by the Institute of Electrical Engineers of Japan, reprinted in June 2001, 7th edition, page 263), and that emits light emitted from these excimer molecules, A dielectric barrier discharge lamp is described. The shape of the discharge vessel is cylindrical, and at least a part of the discharge vessel also serves as a dielectric for performing a dielectric barrier discharge, and at least a part of the dielectric is excimer light (for example, excimer light emitted from excimer molecules). ,
It is disclosed that the film is transparent to vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less. Furthermore, a dielectric barrier discharge lamp having a reticulated electrode as one electrode on the outer surface of the discharge vessel is described.
【０００３】このような誘電体バリア放電ランプは、単
一の波長の光を効率良く放射するなどの特長を有してい
る。例えばＸｅガスを封入した誘電体バリア放電ランプ
では１７２ｎｍの真空紫外光を効率良く放射する。この
誘電体バリア放電ランプを用いた紫外線照射装置は、半
導体用ウエハや液晶製造工程のマザーガラスのドライ洗
浄や、製造工程中におけるウエハや液晶パネル基板など
のドライアッシングなどに用いられている。また、ＬＣ
Ｄプロセス、材料関連の分野における樹脂や金属材料の
表面活性化処理などにも用いられている。[0003] Such a dielectric barrier discharge lamp has features such as efficient emission of light of a single wavelength. For example, a dielectric barrier discharge lamp filled with Xe gas efficiently emits 172 nm vacuum ultraviolet light. An ultraviolet irradiation apparatus using this dielectric barrier discharge lamp is used for dry cleaning of semiconductor wafers and mother glass in a liquid crystal manufacturing process, and dry ashing of wafers and liquid crystal panel substrates in a manufacturing process. Also, LC
It is also used for surface activation treatment of resins and metal materials in the D process and material-related fields.
【０００４】ここで、誘電体バリア放電ランプの構成を
図２を参照して説明する。図２（ａ）は誘電体バリア放
電ランプ１の管軸方向の断面図であり、同図（ｂ）は同
図（ａ）のＡ−Ａ’における断面図である。誘電体バリ
ア放電ランプ１（以下、簡単に「ランプ１」ともい
う。）の放電容器は内側管２と外側管３とが略同軸に配
置されその両端で接合されて形成される。この放電容器
は石英ガラス製で、誘電体バリア放電における誘電体壁
を構成すると共に、エキシマ光を透過して光の出射窓を
構成する。前記放電空間４には例えばキセノンガスが適
宜の圧力で封入されて適宜のゲッタが配置される。外側
管３における外周面上には該外側管３の略全体に亘って
外側電極５が設けられ、一方、内側管２における内周面
上に内側電極６が設けられる。放電容器の長手方向の一
方の端部において、外側電極５及び内部電極６に適宜の
給電用部材を介してリード線７が接続され、該リード線
７は前記一方の端部より外部に導出されている。なおこ
の放電容器の端部にはランプ保持用のホルダＤ、Ｄ’が
装着され、同図の誘電体バリア放電ランプ１では（図面
上左端の）ホルダＤよりリード線７が導出されている。
リード線７は高周波電源８に接続され、この高周波電源
８より例えば周波数２０ｋＨｚとして８ｋＶの電圧を上
述の一対の電極５、６間に印加すると、放電空間４にエ
キシマ分子が形成されエキシマ光が出射する。放電用ガ
スとして例えばキセノンガスを使った場合は、波長１７
２ｎｍの光が放射されるようになる。なお、誘電体バリ
ア放電ランプ１においては、高周波電源８の周波数を、
例えば商用周波数の５０Ｈｚ程度から、数ＭＨｚ乃至数
ＧＨｚ、更にそれ以上にして当該ランプを点灯させても
エキシマ発光を得ることができる。Here, the structure of the dielectric barrier discharge lamp will be described with reference to FIG. 2A is a cross-sectional view of the dielectric barrier discharge lamp 1 in the tube axis direction, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. The discharge vessel of the dielectric barrier discharge lamp 1 (hereinafter, also simply referred to as "lamp 1") is formed by arranging an inner tube 2 and an outer tube 3 substantially coaxially and joining both ends thereof. This discharge vessel is made of quartz glass, and forms a dielectric wall in a dielectric barrier discharge, and forms an emission window for transmitting excimer light. For example, xenon gas is sealed in the discharge space 4 at an appropriate pressure and an appropriate getter is disposed. An outer electrode 5 is provided on the outer peripheral surface of the outer tube 3 over substantially the entire outer tube 3, while an inner electrode 6 is provided on an inner peripheral surface of the inner tube 2. At one end in the longitudinal direction of the discharge vessel, a lead wire 7 is connected to the outer electrode 5 and the inner electrode 6 via an appropriate power supply member, and the lead wire 7 is led out from the one end. ing. At the end of the discharge vessel, holders D and D 'for holding the lamp are mounted. In the dielectric barrier discharge lamp 1 in FIG. 1, the lead wire 7 is led out from the holder D (the left end in the drawing).
The lead wire 7 is connected to a high-frequency power source 8. When a voltage of 8 kV is applied between the pair of electrodes 5 and 6 at a frequency of 20 kHz from the high-frequency power source 8, excimer molecules are formed in the discharge space 4 and excimer light is emitted. I do. For example, when xenon gas is used as the discharge gas, the wavelength 17
2 nm light is emitted. In the dielectric barrier discharge lamp 1, the frequency of the high-frequency power source 8 is
For example, excimer light emission can be obtained even when the lamp is turned on from a commercial frequency of about 50 Hz to several MHz to several GHz or more.
【０００５】このような誘電体バリア放電ランプを利用
した半導体製造に係り、所定面積を一括で処理可能な光
照射処理装置としては例えば特許第２８３６０５８号に
記載のものがある。[0005] In connection with the manufacture of semiconductors using such a dielectric barrier discharge lamp, a light irradiation processing apparatus capable of processing a predetermined area at once is disclosed in, for example, Japanese Patent No. 2836058.
【０００６】図６に光照射処理装置の構成の一例を示
す。同図において誘電体バリア放電ランプ１ａ、１ｂ、
１ｃは上記において図２で説明した構成に係るものであ
り、ワークＷ面に平行な平面上に当該ワークＷから所定
距離、具体的には数ｍｍ離間して並べられる。ワークＷ
は例えば、半導体ウエハーや液晶基板などである。誘電
体バリア放電ランプ１ａ、１ｂ、１ｃより出射した光が
ワークＷを照射すると、当該ワークＷ表面においてドラ
イ洗浄、表面改質等の処理が施されるようになる。FIG. 6 shows an example of the configuration of a light irradiation processing apparatus. In the figure, dielectric barrier discharge lamps 1a, 1b,
1c relates to the configuration described above with reference to FIG. 2, and is arranged on a plane parallel to the surface of the work W at a predetermined distance from the work W, specifically, at a distance of several mm. Work W
Is, for example, a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate. When light emitted from the dielectric barrier discharge lamps 1a, 1b, and 1c irradiates the work W, the surface of the work W is subjected to processing such as dry cleaning and surface modification.
【０００７】ドライ洗浄においては、ワーク表面に付着
している有機物の分子結合をエネルギーの高い真空紫外
光で切断し、更に介在する酸素に対して真空紫外光が照
射することで酸素からオゾンや活性酸素を発生させ、切
断された有機物と反応することでＣＯ２やＨ２Ｏのよう
な気体となり、飛散させることで洗浄を行う。上述のド
ライ洗浄や有機レジストのアッシングにおいては、汚れ
等を完全に分解することが目的であり、所定の処理が完
遂されるために最低限必要な積算光量（照射光の光量と
照射時間の積）以上に、ワークに光を照射すれば良い。In dry cleaning, molecular bonds of organic substances attached to the surface of a work are cut by high-energy vacuum ultraviolet light, and the intervening oxygen is irradiated with vacuum ultraviolet light to convert oxygen into ozone and ozone. Oxygen is generated, reacts with the cut organic substance to become a gas such as CO 2 or H 2 O, and is washed by being scattered. The purpose of the above-mentioned dry cleaning and ashing of an organic resist is to completely decompose dirt and the like, and the minimum integrated light amount (the product of the light amount of irradiation light and irradiation time) required to complete a predetermined process is completed. As described above, the work may be irradiated with light.
【０００８】ところで、近年、製造コストの削減や液晶
ディスプレイの大型化に伴ない、マザーガラスや液晶パ
ネル基板が大型化してきている。これにともない液晶製
造に係る装置においては、例えば１０００×１２００ｍ
ｍという大面積を処理可能な装置が要求されている。こ
のような事情から、図６の構成に係る光照射処理装置に
おいても、従来よりも処理面積が大きい装置が求められ
ており、用いる誘電体バリア放電ランプの本数を増やす
と共に誘電体バリア放電ランプ本体を長手方向に大きく
して係る要請に対応するようにしている。In recent years, mother glass and liquid crystal panel substrates have been increasing in size with reductions in manufacturing costs and enlargement of liquid crystal displays. Accordingly, in an apparatus for manufacturing a liquid crystal, for example, 1000 × 1200 m
An apparatus capable of processing a large area of m is required. Under such circumstances, the light irradiation processing apparatus according to the configuration of FIG. 6 is also required to have an apparatus having a larger processing area than the conventional apparatus, so that the number of dielectric barrier discharge lamps to be used is increased and the dielectric barrier discharge lamp body is Are increased in the longitudinal direction so as to respond to such a request.
【０００９】一方で、紫外線の照射コストの低減が望ま
れており、このため、ランプの出力を上げてランプの本
数を減らすことも望まれており、ワーク又は誘電体バリ
ア放電ランプを走査させながら照射を行う走査型の光照
射処理装置は、誘電体バリア放電ランプの本数を少なく
できる点で、上記一括処理型の光照射処理装に比して有
利であるといえる。また、走査型の光照射処理装置は、
一括処理型の光照射処理装よりも製造ライン長の短縮で
きるので高価なクリンルーム占有面積を低減させること
ができ、コストダウンを図ることができる。On the other hand, it is desired to reduce the irradiation cost of ultraviolet rays. Therefore, it is also desired to reduce the number of lamps by increasing the output of the lamps. It can be said that the scanning type light irradiation processing apparatus for performing irradiation is advantageous in comparison with the batch processing type light irradiation processing apparatus in that the number of dielectric barrier discharge lamps can be reduced. In addition, the scanning light irradiation processing device,
Since the production line length can be shorter than that of the batch processing type light irradiation processing apparatus, the area occupied by the expensive clean room can be reduced, and the cost can be reduced.
【００１０】なお、光照射処理装置を上記した走査型と
した場合でも、その被処理面の形状が長手方向と短手方
向を有するような形状、例えば矩形のワークの場合、処
理能力を向上させるためにもその短手方向に走査させる
方が好ましく、その際には誘電体バリア放電ランプの有
効発光長は少なくともワークの長手方向の幅よりも大き
くなければならない。このような事情からもランプを長
手方向に大きくすることが望まれている。[0010] Even when the light irradiation processing apparatus is of the above-mentioned scanning type, the processing capability is improved in the case where the surface to be processed has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction, for example, a rectangular work. Therefore, it is preferable to scan in the short direction. In this case, the effective emission length of the dielectric barrier discharge lamp must be at least larger than the width of the work in the longitudinal direction. Under such circumstances, it is desired to enlarge the lamp in the longitudinal direction.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】然るに、有効発光長が
例えば８００ｍｍ以上となるような長尺のランプは製造
が困難である上、係るランプを装置に組み込んで使用す
る際や輸送する際に機械的強度の点から信頼性に乏しく
なる、という問題がある。なお、誘電体バリア放電ラン
プにおける「有効発光長」とは、誘電体バリア放電ラン
プの管軸方向において当該ランプの最大照度を１００と
したときの相対照度が約９０％以上となる領域の長さで
ある。However, it is difficult to manufacture a long lamp having an effective light emission length of, for example, 800 mm or more. There is a problem that the reliability is poor in terms of the target strength. The “effective emission length” of the dielectric barrier discharge lamp refers to the length of a region where the relative illuminance when the maximum illuminance of the lamp is 100 in the tube axis direction of the dielectric barrier discharge lamp is about 90% or more. It is.
【００１２】また、誘電体バリア放電ランプの有効発光
長が長くなると発光効率が低下するという問題がある。
本発明者らは、誘電体バリア放電ランプへの給電を昇圧
トランスを介して行う光源装置において、この光源装置
の回路のインダクタンスをＬ、静電容量をＣとしたと
き、その積ＬＣが、ＬＣ≦２．８×１０−８（Ｃの単位
はＦ（ファラッド）、Ｌの単位はＨ（ヘンリー））の範
囲であれば発光効率が良いことを見出し、係る技術につ
いて先に提案した（特開平１１−３１７２０３号公
報）。ここで用いられる静電容量Ｃは、おおむねランプ
の静電容量に依存する。ランプの静電容量は、電極の表
面積、放電ギャップ、誘電体の誘電率に影響される。電
極の表面積は、ランプの構造によって多少変わるが、ラ
ンプの長さに略比例すると考えて良い。したがって、有
効発光長が長くなれば、つまりランプが長くなれば電極
の表面積も大きくなってＬＣの値は大きくなるため、発
光効率は低下する。Further, there is a problem that the luminous efficiency is reduced when the effective luminous length of the dielectric barrier discharge lamp is increased.
In a light source device that supplies power to a dielectric barrier discharge lamp through a step-up transformer, when the inductance of the circuit of the light source device is L and the capacitance is C, the product LC is LC ≦ 2.8 × 10 -8 (C is the unit of F (farad), the unit of L is H (henry)) found that luminous efficiency is be in the range of, previously proposed for according technology (Patent 11-317203). The capacitance C used here largely depends on the capacitance of the lamp. Lamp capacitance is affected by electrode surface area, discharge gap, and dielectric constant of the dielectric. The surface area of the electrode varies somewhat depending on the structure of the lamp, but may be considered to be substantially proportional to the length of the lamp. Therefore, if the effective light emission length is long, that is, if the lamp is long, the surface area of the electrode is large and the value of LC is large, so that the luminous efficiency is reduced.
【００１３】また、誘電体バリア放電ランプは、先に図
２で説明したように、当該ランプの長手方向における一
方の端部において一対の電極間に電力が供給されて該一
方の端部よりリード線が導出される構造が主流である。
このような構成に係る誘電体バリア放電ランプ、つま
り、電極におけるリード線の導出側端部においてのみ、
給電用部材が接続されて電圧が印加されるものにおいて
は、有効発光長が長くなると当該ランプにおける他方の
端部側においてエキシマ光の出力が低下することがあ
る。このように誘電体バリア放電ランプの一方の端部側
と他方の端部側とでワーク面で積算光量に大きな差異が
生じると、ワーク面で所定の積算光量を得るために照射
時間を長くしなければならず処理効率が低下してしま
う。As described above with reference to FIG. 2, in the dielectric barrier discharge lamp, power is supplied between a pair of electrodes at one end in the longitudinal direction of the lamp, and a lead is supplied from the one end. The structure from which the line is derived is the mainstream.
The dielectric barrier discharge lamp according to such a configuration, that is, only at the lead-out end of the lead wire in the electrode,
When the voltage is applied by connecting the power supply member, the output of excimer light may decrease at the other end of the lamp when the effective emission length is increased. As described above, when a large difference occurs in the integrated light amount on the work surface between one end side and the other end side of the dielectric barrier discharge lamp, the irradiation time is lengthened to obtain a predetermined integrated light amount on the work surface. The processing efficiency must be reduced.
【００１４】なお、上記構成に係る誘電体バリア放電ラ
ンプでは、特に矩形波状の電圧波形、パルス状の電圧波
形においては電圧の立ち上がり速度が速い方が前記他方
の端部側における照度低下の割合が大きく、また、正弦
波でも低周波数よりも高周波数での点灯の場合に前記と
同様照度の低下が大きいことが判明した。この原因につ
いては詳細には解明されていないが次のように推察され
る。 対向する電極間に高電圧を印加すると、つまり
一方の電極に瞬時に高電圧が掛けられると、非常に短い
時間で見れば、給電部側と反給電部側には電圧の立ち上
がりに時間差が生じていると考えられる。この時間差
は、電子の移動速度による遅れと電極のインダクタンス
の影響から生じる遅れとによるものである。通常、対
向する電極間に電圧を印加するとその間の空間に電界を
生じる。ところが、誘電体バリア放電ランプでは、対向
する電極間に少なくとも１枚の誘電体が入っているの
で、つまり、誘電体を介して放電ガスに電圧を印加して
いるので、これによる電界は誘電体による分極の速度の
影響をうけて、誘電体が電極間に介在しない放電ランプ
における当該電極間のみで作り出されれる電界よりも少
し遅れて生じるようになる。更に、、の複合作用と
近傍（ランプ軸方向）の電界の影響をうけることによ
り、非常に短い時間での放電ガスに印加する電界はラン
プ軸方向で見れば複雑な分布になる。エキシマ発光の効
率は、先に示した特開平１１−３１７２０３号公報（と
くに、第３頁、段落番号〔０００５〕〜〔０００７〕）
に記載されているようにエネルギー注入の時間やその大
きさに影響されるものであり、これを決めるのは電界の
強さや時間変化である。従って、誘電体バリア放電ラン
プでは非常に短い時間であっても前述のような軸方向に
複雑な電界分布を持つため、その軸方向で発光効率に差
が生じ、その結果光出力に差が生じるものと推察され
る。In the dielectric barrier discharge lamp according to the above-described structure, the rate of decrease in illuminance at the other end side is higher when the rising speed of the voltage is higher, particularly in a rectangular waveform or a pulse waveform. It was found that the illuminance was large, and the illuminance was significantly reduced in the case of lighting at a higher frequency than at a low frequency, even for a sine wave. The reason for this has not been elucidated in detail, but is presumed as follows. When a high voltage is applied between the opposing electrodes, that is, when a high voltage is instantaneously applied to one of the electrodes, there is a time difference in the rise of the voltage between the power supply part and the counter power supply part in a very short time. It is thought that it is. This time difference is due to a delay caused by the moving speed of the electrons and a delay caused by the influence of the inductance of the electrode. Normally, when a voltage is applied between opposing electrodes, an electric field is generated in the space therebetween. However, in a dielectric barrier discharge lamp, since at least one dielectric is inserted between opposing electrodes, that is, a voltage is applied to the discharge gas through the dielectric, and the electric field caused by this is a dielectric field. Under the influence of the polarization speed caused by the electric field, the dielectric material is generated slightly later than the electric field created only between the electrodes in the discharge lamp in which no dielectric is interposed between the electrodes. Further, due to the combined action of the above and the influence of the electric field in the vicinity (in the lamp axis direction), the electric field applied to the discharge gas in a very short time has a complicated distribution when viewed in the lamp axis direction. The efficiency of excimer light emission is described in JP-A-11-317203 (particularly, page 3, paragraph numbers [0005] to [0007]).
As described in (1), it is affected by the time and the size of the energy injection, and it is determined by the strength of the electric field and the change with time. Therefore, even in a very short time, the dielectric barrier discharge lamp has a complicated electric field distribution in the axial direction as described above, so that a difference occurs in the luminous efficiency in the axial direction, resulting in a difference in light output. It is assumed that
【００１５】そこで、本願発明が解決しようとする課題
は、大きさが１０００×１２００ｍｍ以上となる大面積
のワークであっても、その全域を効率よく処理すること
が可能な誘電体バリア放電ランプを用いた光照射処理装
置を提供することにある。The problem to be solved by the present invention is to provide a dielectric barrier discharge lamp capable of efficiently processing the entire area of a large-sized work having a size of 1000 × 1200 mm or more. An object of the present invention is to provide a light irradiation processing device used.
【００１６】[0016]
【課題を解決する手段】複数の誘電体バリア放電ランプ
を具備し、該誘電体バリア放電ランプとワークとを相対
的に移動させながら該ワークの被処理面に誘電体バリア
放電ランプよりの光を照射して当該ワークの処理を行う
光照射処理装置であって、前記複数の誘電体バリア放電
ランプを前記ワークの搬送方向からみたときに、前記一
の誘電体バリア放電ランプが形成する光出射領域は、少
なくとも１つの他の誘電体バリア放電ランプが形成する
光出射領域と相違し、かつ、その少なくとも一部の領域
において重なることを特徴とする。A plurality of dielectric barrier discharge lamps are provided, and light from the dielectric barrier discharge lamp is applied to a surface to be processed of the work while relatively moving the dielectric barrier discharge lamp and the work. A light irradiation processing apparatus that irradiates and processes the work, wherein a light emission area formed by the one dielectric barrier discharge lamp when the plurality of dielectric barrier discharge lamps are viewed from a direction in which the work is transported. Is characterized by being different from a light emitting region formed by at least one other dielectric barrier discharge lamp and overlapping at least a part of the region.
【００１７】更に、誘電体バリア放電ランプのリード線
は、当該誘電体バリア放電ランプの長手方向の一方の端
部からのみ導出されているのが良い。Further, it is preferable that the lead wire of the dielectric barrier discharge lamp is led out only from one end in the longitudinal direction of the dielectric barrier discharge lamp.
【００１８】更に、前記誘電体バリア放電ランプのリー
ド線は、前記ワークの搬送方向からみたとき前記光照射
処理装置の処理領域よりも外側の領域で導出されている
のか良い。Further, it is preferable that the lead wire of the dielectric barrier discharge lamp is led out in a region outside the processing region of the light irradiation processing device when viewed from the conveying direction of the work.
【００１９】更に、前記誘電体バリア放電ランプには、
前記リード線の導出されている一方の端部においてのみ
ホルダが装着されているのが良い。Further, the dielectric barrier discharge lamp includes:
It is preferable that the holder is mounted only at one end from which the lead wire is led out.
【００２０】前記一の誘電体バリア放電ランプと前記他
の誘電体バリア放電ランプとからなるランプユニットを
少なくとも２組具備してなり、前記ランプユニットを前
記ワークの搬送方向からみたときに、一のランプユニッ
トにより形成された前記誘電体バリア放電ランプよりの
光出射領域が重なる領域は、その少なくとも一部の領域
において、他のランプユニットにより形成された前記誘
電体バリア放電ランプよりの光出射領域が重なる領域
と、相違しているのが良い。[0020] At least two sets of lamp units each including the one dielectric barrier discharge lamp and the other dielectric barrier discharge lamp are provided. A region where the light emission region from the dielectric barrier discharge lamp formed by the lamp unit overlaps has a light emission region from the dielectric barrier discharge lamp formed by another lamp unit in at least a part of the region. It is good to be different from the overlapping area.
【００２１】更に、前記複数の誘電体バリア放電ランプ
は、それらの管軸方向同士が平行に伸びるように配置さ
れているのが好ましい。Further, it is preferable that the plurality of dielectric barrier discharge lamps are arranged so that their tube axes extend in parallel.
【００２２】更に、前記複数の誘電体バリア放電ランプ
はいずれもその管軸方向が、前記ワークの搬送方向と、
直交するのが好ましい。Further, in each of the plurality of dielectric barrier discharge lamps, the tube axis direction is the same as the transport direction of the work, and
It is preferably orthogonal.
【００２３】又、前記ワークの搬送方向に対して、前記
複数の誘電体バリア放電ランプの管軸の角度を変えるこ
とができるのが好ましい。It is preferable that the angles of the tube axes of the plurality of dielectric barrier discharge lamps can be changed with respect to the work transport direction.
【００２４】[0024]
【作用】短波長の真空紫外光によりワークの洗浄、表面
改質を行う場合、酸素を必要とする一方、例えば波長１
７２ｎｍ付近の光は酸素に吸収され易いため、大気中に
おいてはランプにおける光取り出し部とワーク表面との
距離が約３ｍｍ離れると照度は１／２乃至１／３に減衰
してしまう。そしてこれ以上に距離が離れるなるとほと
んどの光が到達しなくなる。ランプとワークとの距離を
３ｍｍ以下にするのが好ましく、より好ましくは１ｍｍ
以下である。光照射処理装置において、その照射領域の
全幅を、比較的短尺の誘電体バリア放電ランプを２本以
上用いて照射する場合、当該ランプの端部同士を突き合
わせて一線上に配置する構成を考えることができる。し
かしながら、上述のようにランプとワークとの距離が近
接していると、比較的小さい範囲ではあるが、ランプの
突き合わせ部分において配光が極端に落ち込んでしま
う。このような問題に鑑み、突き合わせ部分における配
光を上げるためにランプへの投入電力を大きくしたとし
ても、ランプとワークの被照射面とが近接しているため
に配光の改善に寄与されず、入力を増大した分ワーク面
における照度（絶対値）の差が益々大きくなってしま
う。又、照射時間を長くする場合も、効率が悪く、更に
は時間当たりの処理効率も低下して実用には不向きなも
のとなってしまう。When cleaning and surface reforming of a workpiece with vacuum ultraviolet light having a short wavelength, oxygen is required.
Since light near 72 nm is easily absorbed by oxygen, the illuminance is reduced to １ ／ to る と when the distance between the light extraction part of the lamp and the work surface is about 3 mm apart in the atmosphere. If the distance is further increased, most of the light will not reach. The distance between the lamp and the workpiece is preferably 3 mm or less, more preferably 1 mm
It is as follows. When irradiating the entire width of the irradiation area with two or more relatively short dielectric barrier discharge lamps in the light irradiation processing apparatus, consider a configuration in which the ends of the lamps are aligned with one another by abutting the ends thereof. Can be. However, when the distance between the lamp and the workpiece is short as described above, the light distribution drops extremely at the butted portion of the lamp, although it is relatively small. In view of such a problem, even if the input power to the lamp is increased in order to increase the light distribution at the abutting portion, it does not contribute to the improvement of the light distribution because the lamp and the irradiated surface of the work are close to each other. As a result, the difference in illuminance (absolute value) on the work surface increases as the input increases. Also, when the irradiation time is lengthened, the efficiency is low, and the processing efficiency per time is also reduced, which is not suitable for practical use.
【００２５】本発明によれば、ワークの搬送方向で、光
出射領域が異なる複数の誘電体バリア放電ランプを用い
て光照射処理装置の照射領域を形成すると共に、これら
誘電体バリア放電ランプの光出射領域が重なる領域が少
なくとも一部に形成されるので、光照射処理装置の照射
領域の全幅よりもその全長が小さい誘電体バリア放電ラ
ンプを用いることができる。よって、生産性、機械的強
度、及び、発光効率の何れも低下させることのない比較
的短尺の誘電体バリア放電ランプを用いることができ、
よって、大面積のワークを効率よく処理できて生産性の
高い光照射処理装置を提供できる。According to the present invention, the irradiation area of the light irradiation processing apparatus is formed by using a plurality of dielectric barrier discharge lamps having different light emission areas in the work transfer direction, and the light of the dielectric barrier discharge lamp is formed. Since at least part of the region where the emission regions overlap is formed, a dielectric barrier discharge lamp having a smaller overall length than the entire width of the irradiation region of the light irradiation processing device can be used. Therefore, it is possible to use a relatively short dielectric barrier discharge lamp that does not reduce any of productivity, mechanical strength, and luminous efficiency,
Therefore, it is possible to provide a light irradiation processing apparatus capable of efficiently processing a large-area work and having high productivity.
【００２６】[0026]
【発明の実施の形態】図１は本発明の誘電体バリア放電
ランプ（後段において「誘電体バリア放電ランプ」を単
に「ランプ」ともいう。）を使った光処理装置の一実施
形態の概略図である。同図において、この実施形態に係
る光照射処理装置は、ランプユニットＵの下方に、図示
省略の搬送機構により搬送される液晶パネル基板等のワ
ークＷの被処理面に対し、前記誘電体バリア放電ランプ
からエキシマ光を照射して、該ワークＷの処理を行う。
無論このような機構に限定されることなく、ワークＷを
固定してランプユニットＵを駆動させるものであっても
よい。要は、エキシマ光が照射されるべくランプユニッ
トＵとワークＷとが相対的に移動する機構を具備してい
ればよい。FIG. 1 is a schematic view of an embodiment of a light processing apparatus using a dielectric barrier discharge lamp of the present invention (the "dielectric barrier discharge lamp" is simply referred to as "lamp" in a later stage). It is. In the same figure, the light irradiation processing apparatus according to this embodiment performs the above-described dielectric barrier discharge on a surface to be processed of a work W such as a liquid crystal panel substrate carried by a carrying mechanism (not shown) below a lamp unit U. The work W is processed by irradiating excimer light from a lamp.
Of course, without being limited to such a mechanism, the work W may be fixed and the lamp unit U may be driven. In short, it is only necessary to provide a mechanism for relatively moving the lamp unit U and the work W so that the excimer light is irradiated.
【００２７】同図において、ランプユニットＵは、ラン
プ管軸方向が平行に伸びる２本の誘電体バリア放電ラン
プ、により構成される。In the figure, the lamp unit U is composed of two dielectric barrier discharge lamps whose lamp tube axes extend in parallel.
【００２８】前記誘電体バリア放電ランプは、例えば先
に説明した図２の誘電体バリア放電ランプの構成に係
り、再び図２を参照してこれを説明する。図２に示すよ
うに、誘電体バリア放電ランプ１は、全体形状が円筒状
で、放電容器は誘電体バリア放電における誘電体壁であ
ると共にエキシマ光を透過する石英ガラスよりなり、同
軸に配置された内側管２と外側管３がその両端が閉塞さ
れることにより、円筒形の放電空間４を形成して構成さ
れる。放電空間４には、例えばキセノンガスが適宜の圧
力で封入される。また放電空間４には適宜のゲッタが配
置される。The dielectric barrier discharge lamp is, for example, related to the configuration of the dielectric barrier discharge lamp of FIG. 2 described above, and will be described again with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the dielectric barrier discharge lamp 1 has a cylindrical shape as a whole, and the discharge vessel is a dielectric wall in the dielectric barrier discharge and is made of quartz glass that transmits excimer light, and is arranged coaxially. The inner tube 2 and the outer tube 3 are closed at both ends to form a cylindrical discharge space 4. For example, xenon gas is sealed in the discharge space 4 at an appropriate pressure. An appropriate getter is disposed in the discharge space 4.
【００２９】上記構成において具体的数値例を挙げる
と、ランプ１は有効発光長が７００ｍｍ、外径が２７ｍ
ｍ、内側管２の外径が１６ｍｍ、内側管２と外側管３の
肉厚が１ｍｍである。To give specific numerical examples in the above configuration, the lamp 1 has an effective emission length of 700 mm and an outer diameter of 27 m.
m, the outer diameter of the inner tube 2 is 16 mm, and the thickness of the inner tube 2 and the outer tube 3 is 1 mm.
【００３０】外側管３における外周面上には外側電極５
が設けられ、一方内側２管における内周面上に内側電極
６が設けられて一対の電極が構成される。外側電極５は
例えば光透過性を具備する網状電極よりなりシームレス
に構成されて全体として伸縮性を具備している。内側電
極６は例えば金属パイプ或いは断面がＣ字状の金属片に
より構成される。An outer electrode 5 is provided on the outer peripheral surface of the outer tube 3.
The inner electrode 6 is provided on the inner peripheral surface of the two inner tubes to form a pair of electrodes. The outer electrode 5 is made of, for example, a light-transmitting mesh electrode and is seamlessly configured, and has elasticity as a whole. The inner electrode 6 is made of, for example, a metal pipe or a metal piece having a C-shaped cross section.
【００３１】外側電極５及び内部電極６には、放電容器
の長手方向の一方の端部において、図示省略の給電用部
材を介してリード線７が接続され、当該リード線７は前
記一方の端部より外部に導出される。放電容器の端部に
はホルダＤ、Ｄ’が装着される。リード線７が高周波電
源８に接続され、該高周波電源８より上述の一対の電極
５、６間に例えば、周波数が２０ｋＨｚで８ｋＶの電圧
が印加される。前記放電空間４にエキシマ分子が形成さ
れ、エキシマ光が出射する。放電用ガスがキセノンであ
る場合は、波長１７２ｎｍの光が放射されるようにな
る。A lead wire 7 is connected to the outer electrode 5 and the inner electrode 6 via a power supply member (not shown) at one end in the longitudinal direction of the discharge vessel, and the lead wire 7 is connected to the one end. From outside. Holders D and D 'are attached to the ends of the discharge vessel. The lead wire 7 is connected to a high frequency power supply 8, and a voltage of, for example, a frequency of 20 kHz and 8 kV is applied between the pair of electrodes 5 and 6 from the high frequency power supply 8. Excimer molecules are formed in the discharge space 4, and excimer light is emitted. When the discharge gas is xenon, light having a wavelength of 172 nm is emitted.
【００３２】図１を参照して本発明に係る光照射処理装
置の構成について説明する。同図においてランプユニッ
トＵは上述したように、２本の誘電体バリア放電ランプ
により構成され、同図に示すように第１の誘電体バリア
放電ランプ１ａ、第２の誘電体バリア放電ランプ１ｂと
称す。光照射処理装置内において、前記第１の誘電体バ
リア放電ランプ１ａと前記第２の誘電体バリア放電ラン
プ１ｂは、管軸が平行関係を有すると共に、ワークの搬
送方向（Ｙ方向）でリード線導出側の一方の端部が交互
に位置され、搬送されたワークＷ面と所定距離離間し
て、当該ワークＷ面と平行な面に配置される。Referring to FIG. 1, the configuration of the light irradiation processing apparatus according to the present invention will be described. In the figure, the lamp unit U is composed of two dielectric barrier discharge lamps as described above, and as shown in the figure, a first dielectric barrier discharge lamp 1a, a second dielectric barrier discharge lamp 1b and Call it. In the light irradiation processing apparatus, the first dielectric barrier discharge lamp 1a and the second dielectric barrier discharge lamp 1b have a parallel tube axis and a lead wire in the work transfer direction (Y direction). One end on the lead-out side is alternately positioned, is separated from the conveyed work W surface by a predetermined distance, and is arranged on a surface parallel to the work W surface.
【００３３】Ｙ方向からみて、第１の誘電体バリア放電
ランプ１ａ及び第２誘電体バリア放電ランプ１ｂは、そ
れぞれ、Ｘ方向で相違する位置にＰ１、Ｐ２となるよう
な光出射領域を形成し、これら光出射領域Ｐ１、Ｐ２に
より、光照射処理装置の処理領域Ｒが形成される。前記
ランプよりの光出射領域Ｐ１、Ｐ２は、前記光照射処理
装置の処理領域Ｒ内において、領域Ｑにおいて重なって
おり、従って、ワークＷが搬送されると、当該領域Ｑに
おいては、当該ワークＷ表面には第１のランプからの出
射光と第２のランプからの出射光が照射されるようにな
る。これにより、処理領域Ｒ内において、ワークＷが、
配光の低下するランプ端部や当該ランプに装着されたホ
ルダＤ’の下方を通過しても、当該ワークＷの搬送が搬
送されたときには、処理領域Ｒ内における積算光量は、
一のランプによる出射光の配光の低下分が他のランプよ
りの出射光が照射されることにより賄われるため部分的
に低下するようなことがなくなる。ここで、ワークを１
回の搬送したときに得られる一の誘電体バリア放電ラン
プの出射光よりの積算光量を１００％としたとき、上記
光出射領域Ｐ１、Ｐ２が重なる領域Ｑにおける積算光量
を相対値で約９０％以上とすると、従来の光照射処理装
置に比して一の誘電体バリア放電ランプの有効発光長、
つまり相対照度９０％以上の領域が伸びたこととになる
ので、大面積のワークであっても処理に掛かる所要時間
は従来の小面積ワークを処理する所要時間と同程度で済
むようになる。よって、非常に効率のよい大面積のワー
ク用の光照射処理装置を提供できるようになる。When viewed from the Y direction, the first dielectric barrier discharge lamp 1a and the second dielectric barrier discharge lamp 1b form light emission areas at positions P1 and P2 different from each other in the X direction. The light emitting regions P1 and P2 form a processing region R of the light irradiation processing device. The light emission regions P1 and P2 from the lamp overlap in the region Q in the processing region R of the light irradiation processing device. Therefore, when the work W is transported, the work W The surface is irradiated with the light emitted from the first lamp and the light emitted from the second lamp. Thereby, in the processing region R, the work W
Even when the work W is conveyed even if it passes below the lamp end where the light distribution is reduced or the holder D ′ attached to the lamp, the integrated light amount in the processing region R is:
Since the decrease in the light distribution of the emitted light from one lamp is covered by the irradiation of the emitted light from the other lamp, there is no partial decrease. Here, 1
Assuming that the integrated light amount from the emitted light of one dielectric barrier discharge lamp obtained after one transport is 100%, the integrated light amount in the region Q where the light emitting regions P1 and P2 overlap is about 90% as a relative value. As described above, the effective emission length of one dielectric barrier discharge lamp as compared with the conventional light irradiation processing apparatus,
In other words, since the region having a relative illuminance of 90% or more is extended, the time required for processing even a large-area work can be substantially the same as the time required for processing a conventional small-area work. Therefore, it is possible to provide a very efficient light irradiation processing apparatus for a large area work.
【００３４】ここで具体的数値例を挙げると、上記図２
の構成に係る誘電体バリア放電ランプを用いて、面積が
１０００×１２００ｍｍのワークＷを短辺方向に走査
し、処理可能な光処理装置とするには、θ＝９０°の場
合、当該光照射処理装置における処理領域Ｒが１２４０
ｍｍ、第１のランプの光出射領域Ｐ１が７００ｍｍ、第
２のランプの光出射領域Ｐ２が７００ｍｍである。そし
て、処理領域Ｒ内において各ランプよりの光出射領域が
重なる領域Ｑは１６０ｍｍである。Here, a specific numerical example will be described with reference to FIG.
In order to use a dielectric barrier discharge lamp according to the above configuration to scan a work W having an area of 1000 × 1200 mm in the short side direction and to process the work W, when θ = 90 °, the light irradiation The processing area R in the processing device is 1240
mm, the light emitting area P1 of the first lamp is 700 mm, and the light emitting area P2 of the second lamp is 700 mm. In the processing region R, the region Q where the light emitting regions from the lamps overlap is 160 mm.
【００３５】上記実施形態に係る光照射処理装置によれ
ば、ワークの搬送方向からみて、処理領域内で光出射領
域が異なる第１及び第２のランプを、各々ランプよりの
光出射領域がその少なくとも一部において重なるように
配置したので、ワークが大面積であっても比較的短い時
間で当該ワークの全域を確実に処理することができる。
なお、搭載される誘電体バリア放電ランプ本体において
は、生産性、機械的強度、発光効率等において優位点を
有する比較的短尺のものを採用できるので、製作が容易
であって信頼性の高い、処理効率の高い、光照射処理装
置とすることができる。According to the light irradiation processing apparatus according to the above-described embodiment, the first and second lamps having different light emission areas within the processing area when viewed from the direction of transport of the work are each provided with a light emission area from the lamp. Since the work is arranged to overlap at least in part, even if the work has a large area, the entire area of the work can be reliably processed in a relatively short time.
In addition, in the mounted dielectric barrier discharge lamp body, a relatively short one having advantages in productivity, mechanical strength, luminous efficiency, etc. can be adopted, so that it is easy to manufacture and has high reliability, A light irradiation treatment device with high treatment efficiency can be provided.
【００３６】なお、上記実施形態において、第１、第２
の誘電体バリア放電ランプの一方の端部よりリード線を
導出させると共に、当該一方の端部が処理領域Ｒの外方
に位置されるように、当該第１、第２の誘電体バリア放
電ランプを配置すると、リード線の引き回しが容易にな
るので好適である。また、リード線に直接光が当たり、
被覆が劣化するのを防止するための遮光板を設けること
が容易になる。In the above embodiment, the first and second
Lead wires are drawn out from one end of the dielectric barrier discharge lamp, and the first and second dielectric barrier discharge lamps are arranged such that the one end is located outside the processing region R. Is preferable because the lead wires can be easily routed. Also, direct light hits the lead wire,
It becomes easy to provide a light shielding plate for preventing the coating from deteriorating.
【００３７】図３は、本発明に係る光照射処理装置に搭
載されるランプユニットの形態を説明する図であり、図
１に示したものと同様の構成要素については同じ符号を
付してある。誘電体バリア放電ランプに、リード線の導
出側端部（Ｃ）とは反対側の端部（Ｃ’）において、ホ
ルダが装着されてないこと以外は、先に示した図１の実
施形態に係るランプユニットと同様の構成を有してい
る。FIG. 3 is a view for explaining a form of a lamp unit mounted on the light irradiation processing apparatus according to the present invention. Components similar to those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. . The dielectric barrier discharge lamp has the same configuration as that of the embodiment shown in FIG. 1 except that the holder is not mounted at the end (C ′) opposite to the lead end (C) of the lead wire. It has a configuration similar to that of the lamp unit.
【００３８】この形態に係るランプユニットＵによれ
ば、第１の誘電体バリア放電ランプ１ａと第２の誘電体
バリア放電ランプ１ｂとをホルダの外周分管軸を近接し
て配置することができるので、１組のランプユニットが
占有するＹ方向の幅Ｈを小さくすることができる。光照
射処理装置にこの実施形態に係るランプユニットを搭載
することにより、ワークの搬送距離を短くでき、当該装
置の小型化を達成できる。According to the lamp unit U according to this embodiment, the first dielectric barrier discharge lamp 1a and the second dielectric barrier discharge lamp 1b can be arranged close to the outer branch tube axis of the holder. (1) The width H in the Y direction occupied by one set of lamp units can be reduced. By mounting the lamp unit according to this embodiment in the light irradiation processing apparatus, the work transfer distance can be shortened, and the apparatus can be downsized.
【００３９】続いて、図４は、他の実施形態に係る光照
射処理装置の実施形態を説明するための図で、図１に示
したものと同様の構成要素については同じ符号を付して
ある。同図において、光照射処理装置には、ランプユニ
ットＵ１、Ｕ２が搭載される。ランプユニットＵ１、Ｕ
２は何れも、２本の誘電体バリア放電ランプにより構成
されており、個々のランプユニットＵ１、Ｕ２に係る構
成は、先に示した図１の実施形態に係るランプユニット
と同様の構成を有している。ランプユニットＵ１はこれ
を構成する２本の誘電他バリア放電ランプにより、光出
射領域が重なる領域Ｑ１を、ランプユニットＵ２はこれ
を構成する２本の誘電他バリア放電ランプにより、光出
射領域が重なる領域Ｑ２を、それぞれ光照射処理装置の
処理領域Ｒ内に形成している。FIG. 4 is a view for explaining an embodiment of a light irradiation processing apparatus according to another embodiment. Components similar to those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. is there. In the figure, lamp units U1 and U2 are mounted on the light irradiation processing device. Lamp units U1, U
2 is composed of two dielectric barrier discharge lamps, and each lamp unit U1, U2 has the same configuration as the lamp unit according to the embodiment of FIG. 1 shown above. are doing. The lamp unit U1 has an area Q1 where the light emitting areas are overlapped by two dielectric and other barrier discharge lamps constituting the lamp unit, and the lamp unit U2 has an light emitting area which is overlapped by the two dielectric and other barrier discharge lamps constituting the lamp. The region Q2 is formed in the processing region R of the light irradiation processing device.
【００４０】光照射処理装置における照射領域Ｒにおい
て、この光出射領域の重なる領域Ｑ１、Ｑ２は、Ｙ方向
からみると、Ｘ方向で異なった位置に形成されている。
このように、複数のランプユニットが搭載された光照射
処理装置において、各ランプユニットが形成する光出射
領域が重なる領域（Ｑ）を、Ｘ方向で配分することによ
り、前記処理領域内で積算光量の均一化を図ることがで
きるようになる。In the irradiation area R in the light irradiation processing apparatus, the overlapping areas Q1 and Q2 of the light emission areas are formed at different positions in the X direction when viewed from the Y direction.
As described above, in the light irradiation processing device in which a plurality of lamp units are mounted, the area (Q) where the light emission regions formed by the lamp units overlap is distributed in the X direction, so that the integrated light amount in the processing region is obtained. Can be made uniform.
【００４１】なお、上記実施形態に係る装置において、
各ランプユニットにおける光出射領域が重なる領域
（Ｑ）をＸ方向で配分する手段としては、上記実施形態
のように誘電体バリア放電ランプの全長を適宜に変えて
ランプユニットを構成することによるほか、例えば、同
じ仕様のランプユニットを用いる場合は、光出射領域が
重なる領域（Ｑ）がＸ方向で配分されるようにランプユ
ニットをＸ方向に移動させて、装置に搭載すればよい。
なお、この実施形態において、ランプユニットを前記ワ
ークの搬送方向からみたときに、一のランプユニットに
より形成された前記誘電体バリア放電ランプよりの光出
射領域が重なる領域は、その少なくとも一部の領域にお
いて、他のランプユニットにより形成された光出射領域
が重なる領域と相違していれば、積算光量の均一化に対
して効果を有するものである。In the apparatus according to the above embodiment,
The means for distributing the area (Q) where the light emitting areas in each lamp unit overlap in the X direction is not only by configuring the lamp unit by appropriately changing the overall length of the dielectric barrier discharge lamp as in the above embodiment, For example, when using a lamp unit having the same specifications, the lamp unit may be moved in the X direction so that the region (Q) where the light emitting regions overlap is distributed in the X direction, and mounted on the device.
In this embodiment, when the lamp unit is viewed from the conveyance direction of the work, the region where the light emission region from the dielectric barrier discharge lamp formed by one lamp unit overlaps is at least a part of the region. In this case, if the light emitting regions formed by the other lamp units are different from the overlapping regions, it is effective in making the integrated light amount uniform.
【００４２】図５は、更に他の実施形態に係る光照射処
理装置の説明図で、図１に示したものと同様の構成要素
については同じ符号を付してある。同図において、誘電
体バリア放電ランプ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは、ランプ
の管軸が平行関係を有すると共にＹ方向からみて隣接す
るランプ同士間に光出射領域の重なる領域Ｑ１、Ｑ２、
Ｑ３が形成されるように配置されている。これらランプ
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの各々におけるリード線導出側
の一方の端部ＣにはホルダＤが装着されている。FIG. 5 is an explanatory view of a light irradiation processing apparatus according to still another embodiment, in which the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the figure, dielectric barrier discharge lamps 1a, 1b, 1c and 1d have a lamp axis parallel to each other and have overlapping regions Q1 and Q2 of light emitting regions between adjacent lamps when viewed from the Y direction.
It is arranged so that Q3 is formed. A holder D is attached to one end C of each of the lamps 1a, 1b, 1c, and 1d on the lead wire lead-out side.
【００４３】前記ホルダＤは、図示省略のランプ保持用
部材により保持され、図示省略の操作機構により前記保
持用部材を介して、ホルダを支点としてＹ方向（ワーク
の搬送方向）に対してランプ（１ａ、１ｂ、１ｃ、１
ｄ）管軸の角度を変更できるようになっている。Ｙ方向
とランプ管軸方向とのなす角θ’の大きさは０°＜θ’
≦９０°の範囲であり、上述の操作機構等により、ワー
クＷのＸ方向の幅Ｓに合わせて、ランプ（１ａ、１ｂ、
１ｃ、１ｄ）よりの処理領域Ｒを所望に変更することが
可能となっている。The holder D is held by a lamp holding member (not shown), and the operation of the operating mechanism (not shown) causes the holder (supporting member) to support the lamp (in the Y-direction (transfer direction of the workpiece)) in the Y-direction (transfer direction of the work). 1a, 1b, 1c, 1
d) The angle of the tube axis can be changed. The angle θ ′ between the Y direction and the lamp tube axis direction is 0 ° <θ ′.
.Ltoreq.90.degree., And the lamps (1a, 1b,
The processing region R from 1c and 1d) can be changed as desired.
【００４４】上記実施形態に係る光照射処理装置によれ
ば、ワークの搬送が搬送されると、一のランプからの出
射光が当該一のランプ端部近傍において低下していて
も、このランプに隣接する他のランプよりの出射光が、
ワークにおける前記一のランプの端部近傍を照射するの
で、ワークの搬送が終了したときには積算光量が部分的
に低下するような部分が形成されなくなる。よって、大
面積のワークであっても従来と同程度の所要時間で所定
の処理を完遂させることができるようになる。According to the light irradiation processing apparatus of the above-described embodiment, when the work is conveyed, even if the light emitted from one of the lamps decreases near the end of the one of the lamps, the light is applied to the lamp. Outgoing light from other adjacent lamps,
Since the area near the end of the one lamp on the work is irradiated, when the transfer of the work is completed, a portion where the integrated light amount is partially reduced is not formed. Therefore, even for a work having a large area, a predetermined process can be completed in the same required time as in the related art.
【００４５】ランプを保持してワークの搬送方向に対し
てそのランプの管軸の向きを変えることができるので、
ワークの幅Ｓに合わせてランプよりの処理領域Ｒを適宜
変えることができるので、種々の幅のワークＷを効率よ
く処理できる光照射処理装置を提供できるようになる。
なお、ワークＷの搬送方向とランプ管軸方向とのなす角
θ’の角度が小さいほどランプの下方を通過する時間が
長くなり、処理能力は向上するようになる。Since the direction of the tube axis of the lamp can be changed with respect to the workpiece transfer direction while holding the lamp,
Since the processing region R from the lamp can be appropriately changed according to the width S of the work, it is possible to provide a light irradiation processing apparatus capable of efficiently processing works W of various widths.
It should be noted that the smaller the angle θ ′ formed between the transport direction of the workpiece W and the axis of the lamp tube, the longer the time to pass under the lamp and the higher the processing ability.
【００４６】なお、この実施形態のように、各ランプに
おけるリード線の導出側端部を、ランプの管軸方向で同
方向に配置しておくと、ランプの保持及びリード線の取
り出しが簡単になり好適である。If the lead-out ends of the lead wires of the respective lamps are arranged in the same direction in the lamp axis direction as in this embodiment, it is easy to hold the lamp and take out the lead wires. This is preferred.
【００４７】以上、本願発明に係る実施形態を説明した
が、本願発明は上記構成に限定されることなく適宜変更
が可能である。例えば、誘電体バリア放電ランプに係る
構成について上記は一例であって、ランプの放電容器が
外側管と内側管を有する形態に以外に適宜変更可能であ
るのは言うまでもない。なお、上記実施形態において、
前述のランプユニットは、光出射領域の異なる２以上の
誘電体バリア放電ランプが、光照射処理装置における処
理領域内において光出射領域の少なくとも一部が重なる
ように配置されて、構成されていればよく、ランプユニ
ットごとに誘電体バリア放電ランプを区分する必要はな
い。無論、ランプユニット毎で誘電体バリア放電ランプ
を区分するよう構成しても良い。また更に、本発明に係
る光照射処理装置において、上述の構成を備えたランプ
ユニットを複数用意し、ワークの搬送方向から該複数の
ランプユニットをみたときに、一のランプユニットによ
り形成される光出射領域が少なくとも１つの他のランプ
ユニットにより形成される光出射領域と相違するよう
に、かつ、その少なくとも一部領域において重なるよう
にこれらを配置すれば、更に処理領域の大きな光照射処
理装置とすることができる。Although the embodiment according to the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described configuration, and can be appropriately changed. For example, the configuration relating to the dielectric barrier discharge lamp is merely an example, and it goes without saying that the discharge vessel of the lamp can be appropriately modified other than in a form having an outer tube and an inner tube. In the above embodiment,
The above-described lamp unit is configured so that two or more dielectric barrier discharge lamps having different light emission regions are arranged so that at least a part of the light emission region overlaps in the processing region in the light irradiation processing device. Often, it is not necessary to classify the dielectric barrier discharge lamp for each lamp unit. Needless to say, the dielectric barrier discharge lamp may be configured to be divided for each lamp unit. Still further, in the light irradiation processing apparatus according to the present invention, a plurality of lamp units having the above-described configuration are prepared, and when the plurality of lamp units are viewed from the work conveyance direction, the light formed by one lamp unit is obtained. By arranging these so that the emission area is different from the light emission area formed by at least one other lamp unit, and at least partially overlaps the light emission area, the light irradiation processing apparatus having a larger processing area can be provided. can do.
【００４８】[0048]
【発明の効果】本発明によれば、ワークの搬送方向で各
ランプよりの光出射領域が重なるようにして、複数の誘
電体バリア放電ランプを配置して、該ランプと該ワーク
とを相対的に移動させるようにしたので、ワークＷの全
域で部分的に積算光量が低下するような部分が形成され
ないので、効率よくワークの処理を行うことができる。
従って、大面積のワークであっても、従来と同程度の所
要時間で所定の処理を完遂させることができるようにな
る。また、ワークの幅よりもその全長が小さい誘電体バ
リア放電ランプを用いることができランプ本体の生産
性、機械的強度、及び、発光効率に優れ、従って、生産
性が良くて処理効率が高い光照射処理装置を提供でき
る。According to the present invention, a plurality of dielectric barrier discharge lamps are arranged so that the light emission areas from the lamps overlap in the work transfer direction, and the lamps and the work are relatively positioned. , The portion where the integrated light amount is partially reduced over the entire area of the work W is not formed, so that the work can be efficiently processed.
Therefore, even if the work has a large area, it is possible to complete the predetermined processing in the same required time as in the related art. In addition, a dielectric barrier discharge lamp whose overall length is smaller than the width of the work can be used, and the productivity, mechanical strength, and luminous efficiency of the lamp body are excellent, and therefore, light with high productivity and high processing efficiency can be used. An irradiation treatment device can be provided.
【図１】 本発明の誘電体バリア放電ランプを使った光
処理装置の説明図FIG. 1 is an explanatory view of an optical processing apparatus using a dielectric barrier discharge lamp of the present invention.
【図２】 （ａ）誘電体バリア放電ランプの管軸方向の
断面図、（ｂ）（ａ）のＡ−Ａ’における断面図2A is a cross-sectional view of the dielectric barrier discharge lamp in the tube axis direction, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
【図３】 ランプユニットの説明図FIG. 3 is an explanatory view of a lamp unit.
【図４】 他の実施形態に係る光照射処理装置を上から
みた説明図FIG. 4 is an explanatory view of a light irradiation processing apparatus according to another embodiment as viewed from above.
【図５】 更に他の実施形態に係る光照射処理装置の説
明図FIG. 5 is an explanatory view of a light irradiation processing apparatus according to still another embodiment.
【図６】 従来の誘電体バリア放電ランプを使った光処
理装置の説明図FIG. 6 is an explanatory view of a light processing apparatus using a conventional dielectric barrier discharge lamp.
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ 誘電体バリア放電ランプ ２ 内側管 ３ 外側管 ４ 放電空間 ５ 外側電極 ６ 内側電極 ７ リード線 ８ 電源 Ｗ ワーク Ｄ、Ｄ’ホルダ Ｕ、Ｕ１、Ｕ２ ランプユニット 1a, 1b, 1c, 1d Dielectric barrier discharge lamp 2 Inner tube 3 Outer tube 4 Discharge space 5 Outer electrode 6 Inner electrode 7 Lead wire 8 Power supply W Work D, D 'holder U, U1, U2 Lamp unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５７４ // Ｈ０１Ｊ 65/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/304 645 H01L 21/30 574 // H01J 65/00
Claims (8)
し、該誘電体バリア放電ランプとワークとを相対的に移
動させながら該ワークの被処理面に誘電体バリア放電ラ
ンプよりの光を照射して当該ワークの処理を行う光照射
処理装置であって、 前記複数の誘電体バリア放電ランプを前記ワークの搬送
方向からみたときに、前記一の誘電体バリア放電ランプ
が形成する光出射領域は、少なくとも１つの他の誘電体
バリア放電ランプが形成する光出射領域と相違し、か
つ、その少なくとも一部の領域において重なることを特
徴とする光照射処理装置。A plurality of dielectric barrier discharge lamps for irradiating a surface of the workpiece with light from the dielectric barrier discharge lamp while relatively moving the dielectric barrier discharge lamp and the workpiece; A light irradiation processing apparatus that performs processing of the work, wherein the light emission area formed by the one dielectric barrier discharge lamp when the plurality of dielectric barrier discharge lamps are viewed from the conveyance direction of the work, A light irradiation processing apparatus, which is different from a light emission area formed by at least one other dielectric barrier discharge lamp and overlaps at least a part of the area.
当該誘電体バリア放電ランプの長手方向の一方の端部か
らのみ導出されていることを特徴とする請求項１に記載
の光照射処理装置。2. The lead wire of the dielectric barrier discharge lamp comprises:
The light irradiation processing apparatus according to claim 1, wherein the light irradiation processing apparatus is led out only from one end in the longitudinal direction of the dielectric barrier discharge lamp.
は、前記ワークの搬送方向からみたとき、前記光照射処
理装置の処理領域よりも外側の領域で導出されているこ
とを特徴とする請求項２に記載の光照射処理装置。3. The dielectric barrier discharge lamp according to claim 1, wherein a lead wire is led out of a region outside a processing region of the light irradiation processing device when viewed from a conveying direction of the workpiece. 3. The light irradiation processing device according to 2.
リード線の導出されている一方の端部においてのみホル
ダが装着されていることを特徴とする請求項２または３
に記載の光照射処理装置。4. The dielectric barrier discharge lamp according to claim 2, wherein a holder is attached to only one end of the lead wire from which the lead wire extends.
A light irradiation processing apparatus according to claim 1.
他の誘電体バリア放電ランプとからなるランプユニット
を少なくとも２組具備してなり、 前記ランプユニットを前記ワークの搬送方向からみたと
きに、一のランプユニットにより形成された前記誘電体
バリア放電ランプよりの光出射領域が重なる領域は、そ
の少なくとも一部の領域において、他のランプユニット
により形成された前記誘電体バリア放電ランプよりの光
出射領域が重なる領域と、相違していることを特徴とす
る請求項１乃至７のいずれか１に記載の光照射処理装
置。5. At least two sets of lamp units each including the one dielectric barrier discharge lamp and the other dielectric barrier discharge lamp, wherein when the lamp unit is viewed from a transport direction of the work, A region where the light emission region from the dielectric barrier discharge lamp formed by one lamp unit overlaps at least a part of the region where light emission from the dielectric barrier discharge lamp formed by another lamp unit is performed. The light irradiation processing apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the region is different from an overlapping region.
それらの管軸方向同士が平行に伸びるように配置されて
いることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記
載の光照射処理装置。6. The plurality of dielectric barrier discharge lamps,
The light irradiation processing apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the tube axis directions are arranged so as to extend in parallel with each other.
ずれもその管軸方向が、前記ワークの搬送方向と、直交
することを特徴とする請求項６に記載の光照射処理装
置。7. The light irradiation processing apparatus according to claim 6, wherein a tube axis direction of each of the plurality of dielectric barrier discharge lamps is orthogonal to a transfer direction of the workpiece.
数の誘電体バリア放電ランプの管軸の角度を変えること
ができることを特徴とする請求項６または７に記載の光
照射処理装置。8. The light irradiation processing apparatus according to claim 6, wherein an angle of a tube axis of each of the plurality of dielectric barrier discharge lamps can be changed with respect to a transfer direction of the workpiece.
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|---|---|---|---|---|
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| JP2013034989A (en) * | 2011-07-13 | 2013-02-21 | Gs Yuasa Corp | Ultraviolet irradiation apparatus |
| JP2021040026A (en) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium |
-
2001
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