JP2002231668A

JP2002231668A - スラリー移送装置

Info

Publication number: JP2002231668A
Application number: JP2001024836A
Authority: JP
Inventors: Seishi Harada; 晴司原田; Tadashi Denda; 正伝田; Yoshiki Kobayashi; 小林　　芳樹
Original assignee: ZEBIOSU KK; Mitsubishi Materials Silicon Corp
Current assignee: ZEBIOSU KK; Mitsubishi Materials Silicon Corp
Priority date: 2001-01-31
Filing date: 2001-01-31
Publication date: 2002-08-16

Abstract

(57)【要約】【課題】スラリー移送装置で遊離砥粒の堆積によるバ
ルブの詰まりを防止する。バルブの耐久性を高める。【解決手段】スラリーの流路にピンチバルブＶ１，Ｖ
２を配設する。遊離砥粒を含むスラリーを流しても、こ
の弁箱の内部流路に液溜まりが現出されにくい。その結
果、この液溜まりなどでの遊離砥粒の堆積によるバルブ
の詰まりを防止することができる。特に、ピンチバルブ
のスリーブが、四フッ化エチレン樹脂とシリコンゴムと
の共重合エラストマー製としたため、スラリーを流して
も、その内周面に遊離砥粒が付着しにくい。しかも、ス
リーブの耐久性も優れている。よって、バルブ寿命を長
くできる。これは、半導体ウェーハの研磨装置、ＣＭ
Ｐ、液晶用基板研磨装置などへのスラリー供給管に適用
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はスラリー移送装
置、詳しくはウェーハ研磨などに使用される粘性が高い
スラリーを移送する際、バルブ部分でスラリーの詰まり
が発生しにくいスラリー移送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】エッチングされたシリコンウェーハは、
次のポリッシング工程にて、その表面に機械的化学的研
磨が施される。ここでは研磨装置を使用し、そのウェー
ハ表面を平滑で無歪の鏡面に仕上げる。従来、研磨装置
の１種として、シリコンウェーハを１枚ずつ表面研磨す
る枚葉式のウェーハ研磨装置が知られている。この枚葉
式のウェーハ研磨装置は、上面に研磨布が展張された研
磨定盤と、研磨定盤の上方に対向配置された研磨ヘッド
と、研磨ヘッドに着脱自在に取り付けられ、下面に１枚
のシリコンウェーハが貼着される円盤状のキャリアプレ
ートとを備えている。シリコンウェーハの枚葉研磨時に
は、ノズルを介して、研磨布上にコロイダルシリカ（シ
リカゾル）などの遊離砥粒を含む研磨剤（スラリー）を
スラリー供給装置により供給しながら、研磨布とシリコ
ンウェーハとの間に所定の荷重および相対速度を与え
て、１枚のシリコンウェーハを研磨する。

【０００３】スラリー供給装置に配備された循環タンク
中の研磨剤は、スラリー供給管に連結されたスラリーポ
ンプの作動により、上記ノズルに圧送される。このスラ
リー供給管の途中部には、通常、スラリー供給管の流路
を開閉するためのバルブが設けられている。従来のバル
ブは、弾性を有するゴム製のダイヤフラム（弁体）によ
って、弁箱の内部に形成された内部流路を閉ざすダイヤ
フラム式バルブであった。この内部流路は、一般的に流
入側の部分流路と、開口部が形成された弁座を介して、
この流入側の部分流路の下流部に、略直角に連通された
流出側の部分流路とに２分割される。スラリー供給管の
閉弁時には、弁箱の上部に回動自在に軸支された弁軸を
回転し、この弁軸によってダイヤフラムの中央部を弾性
復帰自在に押し下げ、この押し下げられたダイヤフラム
の中央部で弁座の開口部を塞ぐことにより、この内部流
路が閉じる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のスラ
リー供給装置では、スラリー供給管の流路を閉じるため
の弁としてダイヤフラムバルブが採用されていた。その
ため、以下に示す問題点があった。すなわち、ダイヤフ
ラムバルブの場合には、内部流路の形状が複雑で、この
内部流路の途中に研磨剤の液溜まりが現出されやすかっ
た。その結果、このような液溜まり部で研磨剤に含まれ
る遊離砥粒が堆積し、それが固化してバルブが詰まると
いう懸念があった。

【０００５】そこで、発明者は、鋭意研究の結果、ダイ
ヤフラムバルブに代えてピンチバルブを採用すれば、弁
箱に収納されたスリーブが略ストレートな管材であるた
め、このスリーブに粘性が高い研磨剤を流しても、ダイ
ヤフラムバルブのときのような液溜まりが現出されにく
いことを知見し、この発明を完成させた。しかも、この
スリーブの素材に、剥離性および耐久性が良い四フッ化
エチレン樹脂とシリコンゴムとの共重合エラストマーを
採用すれば、スリーブの内周面に遊離砥粒が付着しにく
くなり、閉弁時におけるバルブの高い密閉性を長期にわ
たって維持することができ、さらにスリーブの寿命、ひ
いてはピンチバルブの寿命も長くなることを知見し、こ
の発明を完成させた。

【０００６】

【発明の目的】この発明は、内部流路に液溜まりが現出
されにくく、このため遊離砥粒の堆積によるバルブの詰
まりを防止することができるスラリー移送装置を提供す
ることを、その目的としている。また、この発明は、ス
リーブの内周面に遊離砥粒が付着しにくく、スリーブの
耐久性も高まるスラリー移送装置を提供することを、そ
の目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、スラリーを使用する設備に対して、遊離砥粒を含む
スラリーを移送する複数のスラリー管と、隣り合うスラ
リー管とスラリー管との間に配設され、それらのスラリ
ー管の内部に形成されたスラリーの流路を開閉するピン
チバルブと、上記スラリーの流路を介してスラリーを移
送するスラリー移送手段とを備えたスラリー移送装置で
ある。

【０００８】スラリーを使用する設備としては、例えば
半導体ウェーハの製造装置、ガラス基板・石英基板など
の製造設備、各種のハードディスク製造設備などがあ
る。より具体的には、ワイヤソーなどのインゴット切断
装置、半導体ウェーハのラップ装置、半導体ウェーハの
外周部の面取り面を研磨するＰＣＲ加工装置、半導体ウ
ェーハの表面を研削する研削装置、半導体ウェーハの表
面を鏡面研磨する研磨装置、ＣＭＰなどである。スラリ
ー管は、スラリーを所定の半導体ウェーハの研磨装置な
どへ供給するスラリー供給管でもよく、この装置から使
用後のスラリーを排出するスラリー排出管でもよい。ス
ラリーの種類は限定されない。通常、スラリー管が連通
される半導体ウェーハの製造装置によって、スラリーの
種類およびスラリーを構成する各種の成分の配合比が決
定される。例えば、半導体ウェーハの研磨装置の場合
は、スラリーは研磨剤となる。研磨剤としては、例えば
焼成シリカやコロイダルシリカ（遊離砥粒）、アミン
（加工促進材）および有機高分子（ヘイズ抑制材）など
を混合したものを採用することができる（ロデールニッ
タ社製ＲＯＤＥＬ２３９８など）。

【０００９】ピンチバルブの構造は限定されない。要
は、スラリーの流路に連通する内部流路を有する弁箱
と、この内部流路に、内部流路の軸線にその軸線を揃え
て収納された弾性素材からなるスリーブと、弁箱にスリ
ーブの半径方向へ移動自在に支持され、スリーブをこの
半径方向外方から弾性復帰自在に押しつぶすことで、内
部流路を閉ざす弁軸とを備えていればよい。弁箱の素
材、大きさ、形状などは限定されない。要は、その内部
に流体の内部流路が形成され、しかもこの内部流路にス
リーブを収納することができればよい。スリーブはピン
チバルブの弁体を構成する。その直径、長さなどは限定
されない。スリーブの素材は限定されない。例えばゴ
ム、発泡性合成樹脂といった金属などの剛体よりも弾性
を有する素材であれば限定されない。また、これら以外
の弾性素材としては、例えば四フッ化エチレン樹脂とシ
リコンゴムとの共重合エラストマーなどを採用すること
ができる。要は、弁箱の内部流路に収納可能な筒体で、
弁軸の突出により、その半径方向外方から弾性復帰自在
に押しつぶすことができればよい。

【００１０】弁軸の素材、断面形状、太さなどは限定さ
れない。この弁軸の断面形状は、通常、円形である。そ
の他にも、例えば楕円形、三角形以上の矩形状などであ
ってもよい。この弁軸の弁箱に対する支持構造は限定さ
れない。例えば、螺合構造などが挙げられる。要は、こ
の弁箱にスリーブの半径方向へ移動自在に支持され、ス
リーブをその半径方向外方から押しつぶすことができれ
ばよい。なお、このピンチバルブは、スラリー管だけで
なく、例えば半導体ウェーハ製造設備のエッチング装置
に連結されたエッチング液の移送管に設けてもよい。そ
の他、半導体ウェーハの露出面を洗浄する洗浄装置に連
結された洗浄液の移送管に設けたり、半導体ウェーハの
露出面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に連
結されたレジスト液の移送管に設けてもよい。

【００１１】また、上記スラリー移送手段の種類は限定
されない。通常は、スラリー管の上流側から下流側に向
かってスラリーを圧送するスラリーポンプである。スラ
リーポンプの種類は限定されない。例えば、弁箱の内部
で回転翼を回転させ、スラリーを連続的に移送するタイ
プでもよい。その他、シリンダ内でピストンを直線運動
させ、スラリーを間欠的に移送するタイプでもよい。ス
ラリーポンプ以外のスラリーの移送手段として、例えば
負圧力によりスラリー管の下流側からスラリーを吸引す
るスラリー吸引移送装置などを採用することもできる。

【００１２】また、請求項２の発明は、上記スラリー管
が、スラリーを半導体ウェーハの研磨装置へ供給するス
ラリー供給管である請求項１に記載の半導体ウェーハ製
造設備のスラリー移送装置である。

【００１３】請求項３の発明は、上記ピンチバルブが、
上記スラリーの流路に連通する内部流路を有する弁箱
と、上記内部流路に、この内部流路の軸線にその軸線を
揃えて収納された弾性素材からなるスリーブと、上記弁
箱にスリーブの半径方向へ移動自在に支持され、このス
リーブをスリーブの半径方向外方から弾性復帰自在に押
しつぶすことで、上記内部流路を閉ざす弁軸とを備え、
上記スリーブの弾性素材が、四フッ化エチレン樹脂とシ
リコンゴムとの共重合エラストマーである請求項１また
は請求項２に記載のスラリー移送装置である。スリーブ
の素材は、四フッ化エチレン樹脂とシリコンゴムとの共
重合エラストマーである。

【００１４】

【作用】この発明によれば、スラリー移送手段によりス
ラリーの流路を移送中のスラリーは、ピンチバルブを閉
弁することで流れが絶たれる。具体的には、弁箱に収納
されたスリーブを、その半径方向外方から弾性復帰自在
に押しつぶす。スリーブは、屈曲していない略ストレー
トな弾性素材からなる筒体である。したがって、スリー
ブに遊離砥粒を含むスラリーを流しても、従来のダイヤ
フラムバルブのように、弁箱の内部流路に液溜まりが現
出されにくい。その結果、この液溜まりなどでの遊離砥
粒の堆積によるバルブの詰まりを防止することができ
る。

【００１５】特に、請求項３の発明によれば、スリーブ
が、四フッ化エチレン樹脂とシリコンゴムとの共重合エ
ラストマー製であるので、スリーブ自体がスラリーに対
して良好な剥離性を有している。したがって、スラリー
の流路にスラリーを流しても、スリーブの内周面に遊離
砥粒が付着してバルブが詰まるおそれが少ない。しか
も、四フッ化エチレン樹脂とシリコンゴムとの共重合エ
ラストマーは、耐久性も優れている。したがって、スリ
ーブが損傷しにくく、スリーブの寿命、ひいてはピンチ
バルブの寿命を長くすることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施例を図面
を参照して説明する。図１は、この発明の一実施例に係
るスラリー移送装置の概略構成図である。図２は、この
発明の一実施例に係る半導体ウェーハ製造設備のスラリ
ー移送装置の一部を構成するピンチバルブの縦断面図で
ある。図３は、この発明の一実施例に係るスラリー移送
装置の一部を構成するピンチバルブの一部断面図を含む
正面図である。図１において、１０は半導体ウェーハ製
造設備のスラリー移送装置（以下、スラリー移送装置）
であり、このスラリー移送装置１０は、シリコンウェー
ハＷの表面を１枚ずつ表面研磨する枚葉式のウェーハ研
磨装置１１にスラリーを連続的に供給する。

【００１７】以下、このスラリー移送装置１０の構成を
詳細に説明する。このスラリー移送装置１０は、研磨剤
を調合する調合槽１２と、調合された研磨剤を第１のス
ラリー供給管１３Ａ，第２のスラリー供給管１３Ｂを介
していったん貯液する循環タンク１４と、第１のスラリ
ー供給管１３Ａと第２のスラリー供給管１３Ｂとの間に
配設され、それらのスラリー供給管１３Ａ，１３Ｂの内
部に形成されたスラリーの流路を開閉するピンチバルブ
Ｖ１と、この循環タンク１４に貯液された研磨剤を、第
３のスラリー供給管１５Ａ，第４のスラリー供給管１５
Ｂを介して、ウェーハ研磨装置１１の一部を構成する研
磨定盤１６の上面に展張された研磨布１７に供給するノ
ズル１８と、第３のスラリー供給管１５Ａと第４のスラ
リー供給管１５Ｂとの間に配設され、それらのスラリー
供給管１５Ａ，１５Ｂの内部に形成されたスラリーの流
路を開閉するピンチバルブＶ２と、この第３のスラリー
供給管１５Ａの上流側の端部に設けられ、循環タンク１
４内の研磨剤をウェーハ研磨装置１１側へ圧送するスラ
リーポンプ（スラリー移送手段）２０と、第３のスラリ
ー供給管１５Ａのスラリーポンプ２０よりも下流部に設
けられ、循環タンク１４から排出された研磨剤中の異物
を除去するフィルタ２１と、第３のスラリー供給管１５
Ａのフィルタ２１よりも下流部に設けられ、異物をろ過
した研磨剤を任意の加熱媒体との熱交換により昇温する
熱交換器２２とを備えている。

【００１８】上記調合槽１２では研磨剤の作製が行なわ
れる。具体的には、調合槽１２に５０リットルの「ＲＯ
ＤＥＬ２３９８」を入れ、１０倍程度に希釈する。循環
タンク１４には、５０リットル程度の研磨剤が貯液され
ている。研磨剤の液面下には、濃度計２４の濃度検出部
が浸漬されている。

【００１９】また、このスラリー移送装置１０では、研
磨後の研磨カスなどを含むスラリーを回収し、これを循
環タンク１４に戻して再利用するようにしている。すな
わち、研磨定盤１６の下方に、使用後の研磨剤を受ける
受液槽２３を配置し、この受液槽２３に溜まった使用済
みの研磨剤を、受液槽２３の底部に形成された排出口か
ら、スラリー戻し管２５を介して循環タンク１４に戻
す。スラリー戻し管２５の上流部には、使用済みの研磨
剤を圧送するスラリーポンプ２６が連結されている。

【００２０】ここで、上記枚葉式のウェーハ研磨装置１
１の構成を簡単に説明する。研磨定盤１６の上方には、
研磨ヘッド２７が配置されている。この研磨ヘッド２７
の下面には、キャリアプレート２８を介して、シリコン
ウェーハＷがワックス貼着されている。ウェーハ枚葉研
磨時には、ノズル１８から研磨剤を供給しながら、所定
速度で回転中の研磨ヘッド２７を下降させ、キャリアプ
レート２８に貼着されたシリコンウェーハＷの表面（下
面）を、研磨定盤１６とともに所定速度で回転中の研磨
布１７の研磨作用面（上面）に押し付けて、１枚ずつ研
磨する。

【００２１】次に、図２および図３を参照して、上記ピ
ンチバルブＶ１，Ｖ２を詳細に説明する。なお、両ピン
チバルブＶ１，Ｖ２は同じ構成を有している。そのた
め、ここではピンチバルブＶ２を例に説明する。ピンチ
バルブＶ２は、バルブ内への圧縮空気の給排により、第
３のスラリー供給管１５Ａと第４のスラリー供給管１５
Ｂとの内部に形成された研磨剤の流路を開閉する全自動
弁である。このピンチバルブＶ２は、主に、第３のスラ
リー供給管１５Ａと第４のスラリー供給管１５Ｂとの流
路に連通可能な内部流路３０ａを有する弁箱３０と、内
部流路３０ａの軸線にその軸線を揃えてこの内部流路３
０ａに収納された弾性素材からなるスリーブ３１と、弁
箱３０に取り付けられ、スリーブ３１をこのスリーブ３
１の半径方向外方から弾性復帰自在に押しつぶすことに
より、内部流路３０ａを閉ざす弁軸３２とを有してい
る。

【００２２】弁箱３０は、平面視して四角形の縦長な角
柱である。ここでは設計の都合上、弁箱３０の底部を別
体で形成している。ピンチバルブＶ２の組み立て時、こ
の底部は弁箱３０の本体部分に一体的に固着される。内
部流路３０ａは断面矩形状で、弁箱３０の下部内に、こ
の弁箱３０の前面と後面とを貫通して形成されている。
また、この弁箱３０の下部の前面部と後面部とには、１
対の断面円形状を有する短尺なゴム製の連結用プラグ３
３，３３がそれぞれ取り付けられている。両連結用プラ
グ３３，３３の元部には、それぞれ固定用のフランジ３
３ａ，３３ａが一体形成されている。これらの固定用の
フランジ３３ａ，３３ａを、それぞれ対応する、内部流
路３０ａの前端部の形成部に形成された環状の掛止溝３
０ｂ、または、内部流路３０ａの後端部の形成部に形成
された環状の掛止溝３０ｂに掛止することで、両連結用
プラグ３３，３３が、弁箱３０にしっかりと固定され
る。また、各連結用プラグ３３，３３の外周面には、そ
れぞれ外ねじが形成されている。

【００２３】上記スリーブ３１は、四フッ化エチレン樹
脂とシリコンゴムとの共重合エラストマー製である。こ
のスリーブ３１は断面円形状で、その軸線方向の両端部
が内部流路３０ａからそれぞれ外方へ突出している。こ
のスリーブ３１の両端部が、両連結用プラグ３３，３３
の内部空間にそれぞれ挿入されている。また、スリーブ
３１の両端部には、円筒形状を有する１対のインサート
プッシュ３４，３４の各小径な元部がそれぞれ嵌入され
ている。一方、両インサードプッシュ３４，３４の大径
な先部には内ねじがそれぞれ形成されている。これに対
して、第３のスラリー供給管１５Ａの下流側の端部と、
第４のスラリー供給管１５Ｂの上流側の端部とには、そ
れぞれ外ねじが形成されている。したがって、上流側の
インサードプッシュ３４には、対応する内ねじと外ねじ
とを介して、第３のスラリー供給管１５Ａの下流側の端
部がねじ込まれている。また、下流側のインサードプッ
シュ３４には、対応する内ねじと外ねじを介して、第４
のスラリー供給管１５Ｂの上流側の端部がねじ込まれて
いる。そして、各連結用プラグ３３，３３には、上記外
ねじを介して、それぞれのインサードプッシュ３４，３
４を外方から包み込むように、ナット３５，３５が螺合
されている。こうして、ピンチバルブＶ２が、第３のス
ラリー供給管１５Ａと第４のスラリー供給管１５Ｂとの
間にしっかりと連結される。

【００２４】一方、この弁箱３０の略上半分には、圧縮
空気の導入または排出によって、弁軸３２をスリーブ３
１の半径方向外方から内部流路３０ａに抜き差しするア
クチュエータ部３６が一体的に設けられている。このア
クチュエータ部３６は、主に、上端面が開口されたシリ
ンダ３７と、シリンダ３７に収納されたピストン３８
と、シリンダ３７のスリーブ３１側（下側）とは反対側
（上側）の上室に収納され、ピストン３８を常にスリー
ブ３１側へ付勢するスプリング３９と、シリンダ３７の
スリーブ３１側の下室に、ピストン３８を押し上げる圧
縮空気を供給したり、この下室内から圧縮空気を排出す
る空気給排部４０とを備えている。

【００２５】ピストン３８の外周面には、１本のＯリン
グ３８ａが外挿されている。また、このピストン３８の
スリーブ３１側の面（下面）の中央部には、円筒突起３
８ｂが垂設されている。この円筒突起３８ｂは、弁箱３
０の内部流路３０ａの上面形成部の中央部に形成され
た、内部流路３０ａの軸線と直交する上下方向へ延びる
弁軸孔３０ｃに遊挿されている。弁軸孔３０ｃの上端部
の内周面の形成部には、小径な１本のＯリング３０ｄが
内挿されている。また、この弁軸孔３０ｃの下部は、後
述するゴムキャップ４１を収納できるように、横長な矩
形状を有している。円筒突起３８ｂの内部空間には、上
記弁軸３２が挿入されている。この弁軸３２の下端部
は、円筒突起３８ｂの先端面から下方へ突出している。
この突出部分には外ねじが形成され、この外ねじを介し
て、弁軸３２の下端部に横長なゴムキャップ４１が螺合
されている。ゴムキャップ４１は、スプリング３９のば
ね力で弁軸３２が内部流路３０ａへ突出したとき、上記
スリーブ３１を上方から押しつぶす。

【００２６】上記空気給排部４０は、シリンダ３７の下
端部の外周面の一部分に突設されており、図示しない圧
縮空気発生装置から延びた圧縮空気の供給ホースの先端
部が連結されている。これらの空気給排部４０内の流路
とシリンダ３７の下室とは、シリンダ３７の下端に形成
された細孔により連通されている。したがって、圧縮空
気発生装置からの圧縮空気は、連結ホース、空気給排部
４０、細孔を経て下室へ供給される。図２および図３に
おいて、４２はシリンダ３７の蓋体である。

【００２７】次に、この一実施例に係るスラリー移送装
置１０の作動を説明する。図１に示すように、まず調合
槽１２の内部で、遊離砥粒を含む研磨剤（ＲＯＤＥＬ２
３９８）を調合する。こうして得た研磨剤は、ピンチバ
ルブＶ１を開弁することで、第１のスラリー供給管１３
Ａ，第２のスラリー供給管１３Ｂを経て、いったん循環
タンク１４に貯液される。その後、ピンチバルブＶ２を
開弁し、スラリーポンプ２０を作動する。これにより、
循環タンク１４の底部から第３のスラリー供給管１５Ａ
内に圧送された研磨剤は、フィルタ２１による異物の除
去、熱交換器２２による約３０℃の昇温後、ピンチバル
ブＶ２の内部流路３０ａを通過し、第４のスラリー供給
管１５Ｂを介して、上記ノズル１８から研磨布１７の中
央部の上面へ１リットル／分で供給される。研磨布１７
は研磨定盤１６と一体的に回転しており、この研磨布１
７の研磨作用面（上面）に回転中の研磨ヘッド２７を押
し当てる。こうして、シリコンウェーハＷの表面が所定
の研磨レートで研磨される。この研磨時、研磨カスを含
む使用済みの研磨剤は、受液槽２３に溜まる。この溜ま
った研磨剤の廃液は、スラリーポンプ２６によって、受
液槽２３の排出口からスラリー戻し管２５を経て循環タ
ンク１４に戻される。

【００２８】ここで、図２および図３を参照して、ピン
チバルブＶ１，Ｖ２の作動を説明する。なお、ここでも
ピンチバルブＶ２を例に説明する。開弁時には、圧縮空
気発生装置からの圧縮空気を、空気給排部４０から細孔
を介してシリンダ３７の下室に供給する。すると、スプ
リング３９のばね力に抗して、ピストン３８がシリンダ
３７内で押し上げられる。それに伴い、弁軸３２がピス
トン３８と一体的に引き上げられ、ゴムキャップ４１が
弁軸孔３０ｃの下部の矩形状の孔部分に収納される。こ
れにより、スリーブ３１内の流路、すなわち弁箱３０の
内部流路３０ａが開く。

【００２９】一方、閉弁時には、上記下室への圧縮空気
の供給を停止する。これにより、スプリング３９のばね
力によりピストン３８が押し下げられ、この下室内の空
気が細孔から外部へ排出される。それと同時に、弁軸孔
３０ｃ内を円筒突起３８ｂとともに弁軸３２が下降す
る。これにより、ゴムキャップ４１がスリーブ３１の中
間部の上部に当接される。この下降がさらに進むこと
で、スリーブ３１がその半径方向外方（上方）から押し
つぶされる。そして、最終的にこの押しつぶされた部分
が、スリーブ３１の中間部の下部に強い力で圧着され
る。この結果、スリーブ３１内の流路、すなわち弁箱３
０の内部流路３０ａが閉じる。なお、上記ピンチバルブ
Ｖ１も同様の作動となる。

【００３０】このように、この実施例では、スリーブ３
１の素材として、高い剥離性を有する四フッ化エチレン
樹脂とシリコンゴムとの共重合エラストマーを採用し
た。そのため、第１〜第４のスラリー供給管１３Ａ，１
３Ｂ，１５Ａ，１５Ｂに遊離砥粒を含む研磨剤を流して
も、スリーブ３１の内周面に研磨剤の遊離砥粒が付着し
にくい。また、この四フッ化エチレン樹脂とシリコンゴ
ムとの共重合エラストマーは、耐久性に対しても優れて
いる。そのため、スリーブ３１が損傷しにくく、スリー
ブ３１の寿命、ひいてはピンチバルブＶ１，Ｖ２の寿命
も長くなる。よって、例えば１年間に行なわれるピンチ
バルブＶ１，Ｖ２のメンテナンスの回数を減らすことも
できる。

【００３１】

【発明の効果】この発明によれば、スラリー管とスラリ
ー管との間にピンチバルブを設けたので、ピンチバルブ
の内部流路に液溜まりが現出されにくく、遊離砥粒の堆
積によるバルブの詰まりを防止することができる。

【００３２】特に、請求項３の発明によれば、スリーブ
の素材に、剥離性の高い四フッ化エチレン樹脂とシリコ
ンゴムとの共重合エラストマーを採用したので、スラリ
ーの流路にスラリーを流した際、スリーブの内周面に遊
離砥粒が付着してバルブが詰りにくい。しかも、この四
フッ化エチレン樹脂とシリコンゴムとの共重合エラスト
マーは耐久性に優れているので、スリーブの寿命、ひい
てはピンチバルブの寿命を長くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例に係る半導体ウェーハ製造
設備のスラリー移送装置の概略構成図である。

【図２】この発明の一実施例に係る半導体ウェーハ製造
設備のスラリー移送装置の一部を構成するピンチバルブ
の縦断面図である。

【図３】この発明の一実施例に係る半導体ウェーハ製造
設備のスラリー移送装置の一部を構成するピンチバルブ
の一部断面図を含む正面図である。

【符号の説明】

１０半導体ウェーハ製造設備のスラリー移送装置、１１ウェーハ研磨装置（半導体ウェーハの製造装
置）、１３Ａ第１のスラリー供給管、１３Ｂ第２のスラリー供給管、１５Ａ第３のスラリー供給管、１５Ｂ第４のスラリー供給管、２０スラリーポンプ（スラリー移送手段）、３０ａ内部流路、３０弁箱、３１スリーブ、３２弁軸Ｖ１，Ｖ２ピンチバルブ、Ｗ半導体ウェーハ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｂ２４Ｂ 37/00 Ｆ１６Ｌ 55/00 Ｍ (72)発明者伝田正東京都千代田区大手町１丁目５番１号三菱マテリアルシリコン株式会社内 (72)発明者小林芳樹埼玉県入間市中神508−２株式会社ゼビオス内Ｆターム(参考） 3C047 GG00 3C058 AA07 AC01 AC04 CB06 DA02 DA17 3H025 BA21 BB05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】スラリーを使用する設備に対して、遊離
砥粒を含むスラリーを移送する複数のスラリー管と、隣り合うスラリー管とスラリー管との間に配設され、そ
れらのスラリー管の内部に形成されたスラリーの流路を
開閉するピンチバルブと、上記スラリーの流路を介してスラリーを移送するスラリ
ー移送手段とを備えたスラリー移送装置。
【請求項２】上記スラリー管が、スラリーを半導体ウ
ェーハの研磨装置へ供給するスラリー供給管である請求
項１に記載のスラリー移送装置。
【請求項３】上記ピンチバルブが、上記スラリーの流路に連通する内部流路を有する弁箱
と、上記内部流路に、この内部流路の軸線にその軸線を揃え
て収納された弾性素材からなるスリーブと、上記弁箱にスリーブの半径方向へ移動自在に支持され、
このスリーブをスリーブの半径方向外方から弾性復帰自
在に押しつぶすことで、上記内部流路を閉ざす弁軸とを
備え、上記スリーブの弾性素材が、四フッ化エチレン樹脂とシ
リコンゴムとの共重合エラストマーである請求項１また
は請求項２に記載のスラリー移送装置。