JP2002226440A - 第１級アミン混合物の製法 - Google Patents
第１級アミン混合物の製法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C213/02—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions involving the formation of amino groups from compounds containing hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒の存在下に、ニトリルと水素とを反応さ
せて第１級アミンと第２級アミンとから成る混合物を製
造する方法を提供することである。 【解決手段】 式（ＩＩＩ）： Ｘ−ＣＮ （ＩＩＩ） のニトリルと水素とを、５０〜２５０℃、圧力５〜３５
０ｂａｒで、触媒の全量に対して支持体上にＰｄを０.
１〜１０質量％含有するＰｄ−含有触媒の存在下に反応
させて、式（Ｉ）： Ｘ−ＣＨ２−ＮＨ２ （Ｉ） の第１級アミンと式（ＩＩ）： （Ｘ−ＣＨ２−）２ＮＨ （ＩＩ） の第２級アミンとから成る混合物を製造する方法。
せて第１級アミンと第２級アミンとから成る混合物を製
造する方法を提供することである。 【解決手段】 式（ＩＩＩ）： Ｘ−ＣＮ （ＩＩＩ） のニトリルと水素とを、５０〜２５０℃、圧力５〜３５
０ｂａｒで、触媒の全量に対して支持体上にＰｄを０.
１〜１０質量％含有するＰｄ−含有触媒の存在下に反応
させて、式（Ｉ）： Ｘ−ＣＨ２−ＮＨ２ （Ｉ） の第１級アミンと式（ＩＩ）： （Ｘ−ＣＨ２−）２ＮＨ （ＩＩ） の第２級アミンとから成る混合物を製造する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パラジウム触媒上
でニトリルから第１級および第２級アミン混合物を製造
する方法に関する。
でニトリルから第１級および第２級アミン混合物を製造
する方法に関する。
【０００２】特に、パラジウム触媒上でニトリルからア
ミンを製造する方法は公知である。
ミンを製造する方法は公知である。
【０００３】ＤＥ−Ａ−３９３５６４１には、３−（ジ
メチルアミノ）プロピオニトリル（ＤＭＡＰＮ）からの
アミンの製造が記載されている。形成される生成物は、
ビス（３−ジメチルアミノ）プロピル）アミン（ビス−
ＤＭＡＰＡ）およびトリス（３−ジメチルアミノ）プロ
ピル）アミン（トリス−ＤＭＡＰＡ）である。反応は、
酸化アルミニウム上のパラジウムを触媒として使用して
実施される。ビス−ＤＭＡＰＡの割合は３２％を越えな
い。
メチルアミノ）プロピオニトリル（ＤＭＡＰＮ）からの
アミンの製造が記載されている。形成される生成物は、
ビス（３−ジメチルアミノ）プロピル）アミン（ビス−
ＤＭＡＰＡ）およびトリス（３−ジメチルアミノ）プロ
ピル）アミン（トリス−ＤＭＡＰＡ）である。反応は、
酸化アルミニウム上のパラジウムを触媒として使用して
実施される。ビス−ＤＭＡＰＡの割合は３２％を越えな
い。
【０００４】ＥＰ−Ａ−０８６９１１３は、ニトリルと
第２級アミンとから第３級アミンを製造する方法に関す
る。ここでは、第２級アミンを、支持体である酸化ジル
コニウム上にＰｄ０.９％およびＰｔ０.１％を含有する
触媒上で、水素の存在下に反応させている。
第２級アミンとから第３級アミンを製造する方法に関す
る。ここでは、第２級アミンを、支持体である酸化ジル
コニウム上にＰｄ０.９％およびＰｔ０.１％を含有する
触媒上で、水素の存在下に反応させている。
【０００５】ＷＯ９９／３２４２９は、ニトリルと第１
級アミンとから第２級アミンを製造する方法に関する。
反応は、前記と同じ酸化ジルコニウム上にＰｄ０.９％
およびＰｔ０.１％を含有する触媒を用いて、水素の存
在下に実施される。
級アミンとから第２級アミンを製造する方法に関する。
反応は、前記と同じ酸化ジルコニウム上にＰｄ０.９％
およびＰｔ０.１％を含有する触媒を用いて、水素の存
在下に実施される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、触媒
の存在下に、ニトリルと水素とを反応させて第１級アミ
ンと第２級アミンとから成る混合物を製造する方法を提
供することである。
の存在下に、ニトリルと水素とを反応させて第１級アミ
ンと第２級アミンとから成る混合物を製造する方法を提
供することである。
【０００７】特に、第１級および対称な第２級アミンか
ら成る混合物が製造される。
ら成る混合物が製造される。
【０００８】この課題は、式（ＩＩＩ）： Ｘ−ＣＮ （ＩＩＩ） のニトリルと水素とを、５０〜２５０℃、圧力５〜３５
０ｂａｒで、触媒の全量に対して支持体上にＰｄを０.
１〜１０質量％含有するＰｄ−含有触媒の存在下に反応
させて、式（Ｉ）： Ｘ−ＣＨ２−ＮＨ２ （Ｉ） の第１級アミンと式（ＩＩ）： （Ｘ−ＣＨ２−）２ＮＨ （ＩＩ） の第２級アミン [式中、Ｘは、非置換またはＣ１〜Ｃ２０−アルキル、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ ４〜Ｃ２０−アルキル
シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ２０−シクロアルキルアルキ
ル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４
−アリール、Ｃ７〜Ｃ２０−アルキルアリール、Ｃ７〜
Ｃ２０−アラルキル、Ｃ１〜２０−アルコキシ、ヒドロ
キシ、Ｃ１〜２０−ヒドロキシアルキル、アミノ、Ｃ１
〜Ｃ２０−アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ２０−ジアルキル
アミノ、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニルアミノ、Ｃ３〜Ｃ８
−シクロアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリール
アミノ、アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、ハロ
ゲン、メルカプト、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルコキシ、アリールオキシおよび
／またはＣ２〜Ｃ８−アルコキシカルボニルで置換され
たＣ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ ２〜Ｃ２０−アルケニル
またはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルである]とから成る
混合物を製造する方法により解決されることが見出され
た。
０ｂａｒで、触媒の全量に対して支持体上にＰｄを０.
１〜１０質量％含有するＰｄ−含有触媒の存在下に反応
させて、式（Ｉ）： Ｘ−ＣＨ２−ＮＨ２ （Ｉ） の第１級アミンと式（ＩＩ）： （Ｘ−ＣＨ２−）２ＮＨ （ＩＩ） の第２級アミン [式中、Ｘは、非置換またはＣ１〜Ｃ２０−アルキル、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ ４〜Ｃ２０−アルキル
シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ２０−シクロアルキルアルキ
ル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４
−アリール、Ｃ７〜Ｃ２０−アルキルアリール、Ｃ７〜
Ｃ２０−アラルキル、Ｃ１〜２０−アルコキシ、ヒドロ
キシ、Ｃ１〜２０−ヒドロキシアルキル、アミノ、Ｃ１
〜Ｃ２０−アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ２０−ジアルキル
アミノ、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニルアミノ、Ｃ３〜Ｃ８
−シクロアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリール
アミノ、アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、ハロ
ゲン、メルカプト、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルコキシ、アリールオキシおよび
／またはＣ２〜Ｃ８−アルコキシカルボニルで置換され
たＣ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ ２〜Ｃ２０−アルケニル
またはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルである]とから成る
混合物を製造する方法により解決されることが見出され
た。
【０００９】触媒は有利に、周期表の第ＩＢ族およびＶ
ＩＩＩ族、セリウムおよびランタンから選択される少な
くとも１種の付加的な金属をさらに０.１〜１０質量％
で含有する。
ＩＩＩ族、セリウムおよびランタンから選択される少な
くとも１種の付加的な金属をさらに０.１〜１０質量％
で含有する。
【００１０】本発明において、ニトリルと水素とを反応
させて第１級および第２級アミン混合物を取得する際に
前記触媒を使用することにより、触媒の実用寿命または
長期安定性が向上する。
させて第１級および第２級アミン混合物を取得する際に
前記触媒を使用することにより、触媒の実用寿命または
長期安定性が向上する。
【００１１】本発明で使用する触媒は、触媒の総量に対
して、パラジウム０.１〜１０質量％、有利に０.１〜５
質量％、特に有利には０.２〜１質量％を含有する。
して、パラジウム０.１〜１０質量％、有利に０.１〜５
質量％、特に有利には０.２〜１質量％を含有する。
【００１２】さらに、触媒は、触媒の総量に対して、元
素の周期表第ＩＢ族およびＶＩＩＩ族、セリウムおよび
ランタンから選択される少なくとも付加的な金属を０.
１〜１０質量％、有利には０.１〜５質量％、特に有利
には０.２〜１質量％含有する。１種の別の金属または
複数の別の金属混合物を使用できる。有利には銅、白金
およびそれらの混合物、特に有利には白金を使用する。
特に有利に触媒は、触媒の総量に対して、パラジウム
０.２〜１質量％および白金０.２〜１質量％、特に、パ
ラジウム０.３〜０.５質量％および白金０.３〜０.５質
量％を含有する。
素の周期表第ＩＢ族およびＶＩＩＩ族、セリウムおよび
ランタンから選択される少なくとも付加的な金属を０.
１〜１０質量％、有利には０.１〜５質量％、特に有利
には０.２〜１質量％含有する。１種の別の金属または
複数の別の金属混合物を使用できる。有利には銅、白金
およびそれらの混合物、特に有利には白金を使用する。
特に有利に触媒は、触媒の総量に対して、パラジウム
０.２〜１質量％および白金０.２〜１質量％、特に、パ
ラジウム０.３〜０.５質量％および白金０.３〜０.５質
量％を含有する。
【００１３】特に有利には支持体であるＺｒＯ２上に、
触媒の総量に対して、Ｐｄ約０.４質量％およびＰｔ約
０.４質量％を含有する。
触媒の総量に対して、Ｐｄ約０.４質量％およびＰｔ約
０.４質量％を含有する。
【００１４】触媒は有利に、唯一の活性成分としてＰｄ
およびＰｔを含有する。触媒は特に支持体上にＰｄおよ
びＰｔを含有する。ここで、ＰｄおよびＰｔは有利に、
ほぼ同量または正に同量の質量で含有される。
およびＰｔを含有する。触媒は特に支持体上にＰｄおよ
びＰｔを含有する。ここで、ＰｄおよびＰｔは有利に、
ほぼ同量または正に同量の質量で含有される。
【００１５】公知なように、適当な支持体を支持体とし
て使用できる。例えば、支持体は、活性炭、炭化ケイ素
および金属酸化物から選択される。有利な金属酸化物
は、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、
二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムまた
はその混合物であり、これらは場合により、アルカリ金
属酸化物および／またはアルカリ土類金属酸化物でドー
プ処理されていてよい。特に有利にはγ−酸化アルミニ
ウム、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウムまたは酸化チ
タンまたはその混合物であり、特に有利にはＺｒＯ２で
ある。使用される支持体は任意の形体であってよい；例
えば射出形、ペレットまたはタブレットとして使用でき
る。触媒は、使用される金属成分から成る溶液を用いた
支持体の含浸などの一般公知の方法により製造できる。
例えばＰｄＣｌ２またはＰｄ（ＮＯ ３）２溶液での支持
体の含浸により、パラジウムを施すことができる。
て使用できる。例えば、支持体は、活性炭、炭化ケイ素
および金属酸化物から選択される。有利な金属酸化物
は、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、
二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムまた
はその混合物であり、これらは場合により、アルカリ金
属酸化物および／またはアルカリ土類金属酸化物でドー
プ処理されていてよい。特に有利にはγ−酸化アルミニ
ウム、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウムまたは酸化チ
タンまたはその混合物であり、特に有利にはＺｒＯ２で
ある。使用される支持体は任意の形体であってよい；例
えば射出形、ペレットまたはタブレットとして使用でき
る。触媒は、使用される金属成分から成る溶液を用いた
支持体の含浸などの一般公知の方法により製造できる。
例えばＰｄＣｌ２またはＰｄ（ＮＯ ３）２溶液での支持
体の含浸により、パラジウムを施すことができる。
【００１６】例えば、支持体は、金属前駆体で被覆でき
る。好適な金属前駆体は、金属塩、例えばニトレート、
ニトロシルニトレート、ハライド、カーボネート、カル
ボキシレート、アセチルアセテート、クロロ錯体、ニト
リト錯体およびアミン錯体である。有利には、ニトレー
ト、クロリド、クロロ錯体およびアミン錯体である。共
沈または共含浸（joint impregnation）により被覆する
のが有利である。金属前駆体は、同時にまたは連続して
施せる。活性成分を施す順序は、自由に選択できる。
る。好適な金属前駆体は、金属塩、例えばニトレート、
ニトロシルニトレート、ハライド、カーボネート、カル
ボキシレート、アセチルアセテート、クロロ錯体、ニト
リト錯体およびアミン錯体である。有利には、ニトレー
ト、クロリド、クロロ錯体およびアミン錯体である。共
沈または共含浸（joint impregnation）により被覆する
のが有利である。金属前駆体は、同時にまたは連続して
施せる。活性成分を施す順序は、自由に選択できる。
【００１７】本発明で使用される触媒を製造するための
別の方法は当業者に公知であり、蒸着、スパッタリング
および共沈が含まれる。
別の方法は当業者に公知であり、蒸着、スパッタリング
および共沈が含まれる。
【００１８】触媒の表面積、孔体積および孔径分布は、
広い範囲で制限を受けない。
広い範囲で制限を受けない。
【００１９】本発明の方法は、５０〜２００℃、有利に
は９０〜１７０℃、特に有利には１２０〜１６０℃で、
圧力５〜３００ｂａｒ、有利には５０〜２５０ｂａｒ、
特に有利には７０〜２１０ｂａｒで、オートクレーブ等
の圧力装置または有利には管状反応容器中でバッチワイ
ズまたは有利には連続的に実施される。圧力は有利に反
応容器中の水素による圧力である。管状反応装置を使用
する場合、使用する触媒は固定床触媒としても存在でき
る。
は９０〜１７０℃、特に有利には１２０〜１６０℃で、
圧力５〜３００ｂａｒ、有利には５０〜２５０ｂａｒ、
特に有利には７０〜２１０ｂａｒで、オートクレーブ等
の圧力装置または有利には管状反応容器中でバッチワイ
ズまたは有利には連続的に実施される。圧力は有利に反
応容器中の水素による圧力である。管状反応装置を使用
する場合、使用する触媒は固定床触媒としても存在でき
る。
【００２０】反応は有利に液層中で、上向きの流れまた
は下向きの流れで、特に有利には上向きの流れで実施で
きる。特に、有利には、アンモニアを使用せずに反応さ
せる。
は下向きの流れで、特に有利には上向きの流れで実施で
きる。特に、有利には、アンモニアを使用せずに反応さ
せる。
【００２１】使用するニトリルに関する触媒の空間速度
は、有利に０.１〜２ｋｇ／（１・ｈ）、特に約０.１ｋ
ｇ／（１・ｈ）である。反応装置から流出する液体の一
部は反応へ再循環できる。反応は、有利には反応容器か
ら流出した１〜２０ｋｇ／（１ｃａｔ・ｈ）、特に５〜
１０ｋｇ／（１ｃａｔ・ｈ）の量の液体を再循環させて
実施できる。
は、有利に０.１〜２ｋｇ／（１・ｈ）、特に約０.１ｋ
ｇ／（１・ｈ）である。反応装置から流出する液体の一
部は反応へ再循環できる。反応は、有利には反応容器か
ら流出した１〜２０ｋｇ／（１ｃａｔ・ｈ）、特に５〜
１０ｋｇ／（１ｃａｔ・ｈ）の量の液体を再循環させて
実施できる。
【００２２】本発明の方法は、溶剤不含で、または水、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、メチル
ｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはＮ−メチルピロリドン
等の溶剤中で実施できる。式（ＩＩＩ）のニトリルは溶
剤に溶解できる。溶剤は、別個に、任意の時点で反応容
器中に供給してよい。有利には溶剤不含で反応を実施す
る。
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、メチル
ｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはＮ−メチルピロリドン
等の溶剤中で実施できる。式（ＩＩＩ）のニトリルは溶
剤に溶解できる。溶剤は、別個に、任意の時点で反応容
器中に供給してよい。有利には溶剤不含で反応を実施す
る。
【００２３】本発明の方法で得られる式（Ｉ）および
（ＩＩ）のアミンは、混合物から分離でき、例えば蒸留
等の自体公知の方法で精製できる。
（ＩＩ）のアミンは、混合物から分離でき、例えば蒸留
等の自体公知の方法で精製できる。
【００２４】例えば、純粋な第２級アミンを含有する蒸
気と第１級アミンを含有する蒸気とを精留により取得し
て、第１級アミンを含有する蒸気を合成に戻すことがで
きる。
気と第１級アミンを含有する蒸気とを精留により取得し
て、第１級アミンを含有する蒸気を合成に戻すことがで
きる。
【００２５】本発明において、式（Ｉ）の第１級アミン
および式（ＩＩ）の第２級アミンは、有利に１０：１〜
１：１０、より有利には２〜４：５の割合で形成され
る。第３級アミンは、有利に少量だけ形成され、特に有
利には第３級アミンは形成されない。形成される第３級
アミンの量は、反応容器からの流出物（溶剤を除く）に
対して有利に１５質量％を下回り、特に有利には１０質
量％を下回る。
および式（ＩＩ）の第２級アミンは、有利に１０：１〜
１：１０、より有利には２〜４：５の割合で形成され
る。第３級アミンは、有利に少量だけ形成され、特に有
利には第３級アミンは形成されない。形成される第３級
アミンの量は、反応容器からの流出物（溶剤を除く）に
対して有利に１５質量％を下回り、特に有利には１０質
量％を下回る。
【００２６】本発明の方法において、式（ＩＩＩ）のニ
トリルを反応させる。
トリルを反応させる。
【００２７】Ｘ−ＣＮ （ＩＩＩ） Ｘは、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロア
ルキル、Ｃ４〜Ｃ２０−アルキルシクロアルキル、Ｃ４
〜Ｃ２０−シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ ２０−ア
ルコキシアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ
２０−アルキルアリール、Ｃ７〜Ｃ２０−アラルキル、
Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２０
−ヒドロキシアルキル、アミノ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキ
ルアミノ、Ｃ２〜Ｃ２０−ジアルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ
１２−アルケニルアミノ、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル
アミノ、アリールアミノ、ジアリールアミノ、アリール
−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、ハロゲン、メルカプ
ト、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ８−シ
クロアルコキシ、アリールオキシおよび／またはＣ２〜
Ｃ８−アルコキシカルボニルで置換されていてよいＣ１
〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルまたは
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキルである。
ルキル、Ｃ４〜Ｃ２０−アルキルシクロアルキル、Ｃ４
〜Ｃ２０−シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ ２０−ア
ルコキシアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ
２０−アルキルアリール、Ｃ７〜Ｃ２０−アラルキル、
Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２０
−ヒドロキシアルキル、アミノ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキ
ルアミノ、Ｃ２〜Ｃ２０−ジアルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ
１２−アルケニルアミノ、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル
アミノ、アリールアミノ、ジアリールアミノ、アリール
−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、ハロゲン、メルカプ
ト、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ３〜Ｃ８−シ
クロアルコキシ、アリールオキシおよび／またはＣ２〜
Ｃ８−アルコキシカルボニルで置換されていてよいＣ１
〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルまたは
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキルである。
【００２８】Ｘは、有利にＣ１〜Ｃ１２−、特に有利に
Ｃ１〜Ｃ８−、非常に有利にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ
４−アルキルであり、これは分枝鎖または直鎖であって
よく、有利には直鎖である。例えば、構造単位として
１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１
２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０
のメチレン単位、Ｃ（Ｃ）−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−
Ｃ、Ｃ−Ｃ−（Ｃ）２−Ｃを有する直鎖の基が挙げられ
る。有利な構造単位は、Ｃ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−
Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−
Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ（ＣＮ）−
Ｃ−Ｃ−Ｃ、特に有利にはＣ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ
−Ｃ−Ｃ−Ｃである。
Ｃ１〜Ｃ８−、非常に有利にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ
４−アルキルであり、これは分枝鎖または直鎖であって
よく、有利には直鎖である。例えば、構造単位として
１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１
２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０
のメチレン単位、Ｃ（Ｃ）−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−
Ｃ、Ｃ−Ｃ−（Ｃ）２−Ｃを有する直鎖の基が挙げられ
る。有利な構造単位は、Ｃ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−
Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−
Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ（Ｃ）−Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ（ＣＮ）−
Ｃ−Ｃ−Ｃ、特に有利にはＣ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｃ−Ｃ、Ｃ
−Ｃ−Ｃ−Ｃである。
【００２９】Ｘは、前記したように、置換されていてよ
い。置換される場合、置換基の数は、Ｘ中の置換可能な
水素原子の数までである。基の種類に応じて、１〜５
個、有利には１〜３個、特に有利には０、１または２個
の置換基が存在してよい。可能な置換基は： −Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、有利にはＣ１〜Ｃ８−ア
ルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ
ｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキ
シ、イソペントキシ、ｓｅｃ−ペントキシ、ネオペント
キシ、１,２−ジメチルプロポキシ、ｎ−ヘキソキシ、
イソヘキソキシ、ｓｅｃ−ヘキソキシ、ｎ−ヘプトキ
シ、イソヘプトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオクトキ
シ、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ、例えばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシおよびｔ
ｅｒｔ−ブトキシ、−ヒドロキシ、−Ｃ１〜Ｃ２０−ヒ
ドロキシアルキル、有利にはＣ１〜Ｃ８−ヒドロキシア
ルキル、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−ヒドロキシアルキ
ル、例えばヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、
２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシ−２−プロピル
および３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、−アミノ、−Ｃ
１〜Ｃ２０−アルキルアミノ、有利にはＣ１〜Ｃ８−ア
ルキルアミノ、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−アルキルアミ
ノ、例えばメチルアミノ、または相当のアミノアルキ
ル、１−アミノエチル、２−アミノエチル、２−アミノ
−ｎ−プロピルおよび３−アミノ−ｎ−プロピル、−Ｃ
２〜Ｃ２０−ジアルキルアミノ、有利にはＣ２〜Ｃ１２
−ジアルキルアミノ、特に有利にはＣ２〜Ｃ８−ジアル
キルアミノ、例えばＮ,Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ
エチルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ−
（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ,Ｎ−ジブチルアミ
ノ、Ｎ,Ｎ−ジ−（１−メチルプロピル）アミノ、Ｎ,Ｎ
−ジ−（２−メチルプロピル）アミノ、Ｎ,Ｎ−ジ−
（１,１−ジメチルエチル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−
メチル−Ｎ−（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル
−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチルプ
ロピル）アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、Ｎ−（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−メ
チルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル−
Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（１−メチルプロ
ピル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（１,１−ジメチルエチ
ル）アミノ、Ｎ−（１−メチルエチル）−Ｎ−プロピル
アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１−
メチルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１−メ
チルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（２−メチ
ルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１,１−ジ
メチルエチル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ
−（１−メチルエチル）アミノ、ｎ−（１−メチルエチ
ル）−Ｎ−（１−メチルプロピル）アミノ、Ｎ−（１−
メチルエチル）−Ｎ−（１−メトプロピル）アミノ、Ｎ
−（１−メチルエチル）−Ｎ−（２−メチルプロピル）
アミノ、Ｎ−（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−（１−
メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−メチル
プロピル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−メチルプロ
ピル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１,１−ジメチルエ
チル）アミノ、Ｎ−（１−メチルプロピル）−Ｎ−（２
−メチルプロピル）アミノ、ｎ−（１,１−ジメチルエ
チル）−Ｎ−（１−メチルプロピル）アミノおよびＮ−
（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、−Ｃ３〜Ｃ１２−アザシクロアルキル、有
利にはＣ３〜Ｃ８−アザシクロアルキルアミノ、特に有
利にはＣ５〜Ｃ８−アザシクロアルキル、例えばピロリ
ジン、ピペリジン、アゼパン、ピペラジン、Ｎ−アルキ
ルピペラジンおよびモルホリン、−Ｃ３〜Ｃ８−シクロ
アルキルアミノ、例えばシクロプロピルアミノ、シクロ
ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシル
アミノ、シクロヘプチルアミノおよびシクロオクチルア
ミノ、有利にはシクロペンチルアミノ、シクロヘキシル
アミノおよびシクロオクチルアミノ、特に有利にはシク
ロペンチルアミノおよびシクロヘキシルアミノ、−Ｃ３
〜Ｃ８−ジシクロアルキルアミノ、−アリールアミノ、
例えばフェニルアミノ、１−ナフチルアミノおよび２−
ナフチルアミノ、有利にはフェニルアミノ、−アリール
−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、有利にはフェニル−Ｃ
１〜Ｃ８−アルキルアミノ、特に有利にはフェニル−Ｃ
１〜４−アルキルアミノ、例えばフェニルメチルアミノ
およびフェニルエチルアミノ、−ハロゲン、有利にはフ
ッ素、塩素および臭素、特に有利にはフッ素および塩
素、−メルカプト、−Ｃ２〜Ｃ２０−オキサシクロアル
キル、有利にはＣ２〜Ｃ８−オキサシクロアルキル、特
に有利にはＣ２〜Ｃ８−オキサシクロアルキル、例えば
２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニ
ル、２−フラニルおよび３−フラニル、−Ｃ３〜Ｃ８−
シクロアルコキシ、例えばシクロプロポキシ、シクロブ
トキシ、シクロペントキシ、シクロヘプトキシおよびシ
クロオクトキシ、有利にはシクロペントキシ、シクロヘ
キソキシ、特に有利にはシクロペントキシおよびシクロ
ヘキソキシ、−アリールオキシ、例えばフェノキシ、１
−ナフトキシおよび２−ナフトキシ、有利にはフェノキ
シである。
い。置換される場合、置換基の数は、Ｘ中の置換可能な
水素原子の数までである。基の種類に応じて、１〜５
個、有利には１〜３個、特に有利には０、１または２個
の置換基が存在してよい。可能な置換基は： −Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、有利にはＣ１〜Ｃ８−ア
ルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ
ｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキ
シ、イソペントキシ、ｓｅｃ−ペントキシ、ネオペント
キシ、１,２−ジメチルプロポキシ、ｎ−ヘキソキシ、
イソヘキソキシ、ｓｅｃ−ヘキソキシ、ｎ−ヘプトキ
シ、イソヘプトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオクトキ
シ、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ、例えばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシおよびｔ
ｅｒｔ−ブトキシ、−ヒドロキシ、−Ｃ１〜Ｃ２０−ヒ
ドロキシアルキル、有利にはＣ１〜Ｃ８−ヒドロキシア
ルキル、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−ヒドロキシアルキ
ル、例えばヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、
２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシ−２−プロピル
および３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、−アミノ、−Ｃ
１〜Ｃ２０−アルキルアミノ、有利にはＣ１〜Ｃ８−ア
ルキルアミノ、特に有利にはＣ１〜Ｃ４−アルキルアミ
ノ、例えばメチルアミノ、または相当のアミノアルキ
ル、１−アミノエチル、２−アミノエチル、２−アミノ
−ｎ−プロピルおよび３−アミノ−ｎ−プロピル、−Ｃ
２〜Ｃ２０−ジアルキルアミノ、有利にはＣ２〜Ｃ１２
−ジアルキルアミノ、特に有利にはＣ２〜Ｃ８−ジアル
キルアミノ、例えばＮ,Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ
エチルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ−
（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ,Ｎ−ジブチルアミ
ノ、Ｎ,Ｎ−ジ−（１−メチルプロピル）アミノ、Ｎ,Ｎ
−ジ−（２−メチルプロピル）アミノ、Ｎ,Ｎ−ジ−
（１,１−ジメチルエチル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−
メチル−Ｎ−（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル
−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチルプ
ロピル）アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、Ｎ−（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−メ
チルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−（１−メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル−
Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（１−メチルプロ
ピル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−（１,１−ジメチルエチ
ル）アミノ、Ｎ−（１−メチルエチル）−Ｎ−プロピル
アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１−
メチルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１−メ
チルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（２−メチ
ルプロピル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−（１,１−ジ
メチルエチル）−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ
−（１−メチルエチル）アミノ、ｎ−（１−メチルエチ
ル）−Ｎ−（１−メチルプロピル）アミノ、Ｎ−（１−
メチルエチル）−Ｎ−（１−メトプロピル）アミノ、Ｎ
−（１−メチルエチル）−Ｎ−（２−メチルプロピル）
アミノ、Ｎ−（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−（１−
メチルエチル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−メチル
プロピル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−メチルプロ
ピル）アミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１,１−ジメチルエ
チル）アミノ、Ｎ−（１−メチルプロピル）−Ｎ−（２
−メチルプロピル）アミノ、ｎ−（１,１−ジメチルエ
チル）−Ｎ−（１−メチルプロピル）アミノおよびＮ−
（１,１−ジメチルエチル）−Ｎ−（２−メチルプロピ
ル）アミノ、−Ｃ３〜Ｃ１２−アザシクロアルキル、有
利にはＣ３〜Ｃ８−アザシクロアルキルアミノ、特に有
利にはＣ５〜Ｃ８−アザシクロアルキル、例えばピロリ
ジン、ピペリジン、アゼパン、ピペラジン、Ｎ−アルキ
ルピペラジンおよびモルホリン、−Ｃ３〜Ｃ８−シクロ
アルキルアミノ、例えばシクロプロピルアミノ、シクロ
ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシル
アミノ、シクロヘプチルアミノおよびシクロオクチルア
ミノ、有利にはシクロペンチルアミノ、シクロヘキシル
アミノおよびシクロオクチルアミノ、特に有利にはシク
ロペンチルアミノおよびシクロヘキシルアミノ、−Ｃ３
〜Ｃ８−ジシクロアルキルアミノ、−アリールアミノ、
例えばフェニルアミノ、１−ナフチルアミノおよび２−
ナフチルアミノ、有利にはフェニルアミノ、−アリール
−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、有利にはフェニル−Ｃ
１〜Ｃ８−アルキルアミノ、特に有利にはフェニル−Ｃ
１〜４−アルキルアミノ、例えばフェニルメチルアミノ
およびフェニルエチルアミノ、−ハロゲン、有利にはフ
ッ素、塩素および臭素、特に有利にはフッ素および塩
素、−メルカプト、−Ｃ２〜Ｃ２０−オキサシクロアル
キル、有利にはＣ２〜Ｃ８−オキサシクロアルキル、特
に有利にはＣ２〜Ｃ８−オキサシクロアルキル、例えば
２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニ
ル、２−フラニルおよび３−フラニル、−Ｃ３〜Ｃ８−
シクロアルコキシ、例えばシクロプロポキシ、シクロブ
トキシ、シクロペントキシ、シクロヘプトキシおよびシ
クロオクトキシ、有利にはシクロペントキシ、シクロヘ
キソキシ、特に有利にはシクロペントキシおよびシクロ
ヘキソキシ、−アリールオキシ、例えばフェノキシ、１
−ナフトキシおよび２−ナフトキシ、有利にはフェノキ
シである。
【００３０】０、１または２個のＯＨまたはＣ２〜Ｃ
１２−、有利にはＣ２〜Ｃ６−、特に有利にはＣ２〜Ｃ
４−ジアルキルアミノ置換基が存在する。特に、置換基
はジメチルアミノまたはＯＨである。
１２−、有利にはＣ２〜Ｃ６−、特に有利にはＣ２〜Ｃ
４−ジアルキルアミノ置換基が存在する。特に、置換基
はジメチルアミノまたはＯＨである。
【００３１】式（ＩＩＩ）の有利なニトリルは、アセト
ニトリル、プロピオニトリル、イソプロピオニトリル、
ブチロニトリル、バレロニトリル、ペンテンニトリル、
レテンニトリル、３−ヒドロキシプロピオニトリル、３
−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニ
トリル、３−プロポキシプロピオニトリル、３−イソプ
ロポキシプロピオニトリル、３−シクロヘキソキシプロ
ピオニトリル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピオニ
トリル、３−メトキシ−２−メチルプロピオニトリル、
３−エトキシ−２−メチルプロピオニトリル、２−メチ
ル−３−プロポキシプロピオニトリル、３−イソプロポ
キシ−２−メチル−プロピオニトリル、３−シクロヘキ
ソキシ−２−メチルプロピオニトリル、３−メチル−３
−ヒドロキシプロピオニトリル、３−メトキシ−３−メ
チルプロピオニトリル、３−エトキシ−３−メチルプロ
ピオニトリル、３−メチル−３−プロポキシプロピオニ
トリル、３−イソプロポキシ−３−メチルプロピオニト
リル、３−シクロヘキソキシ−３−メチルプロピオニト
リル、３−アミノプロピオニトリル、３−メチルアミノ
プロピオニトリル、３−ジメチルアミノプロピオニトリ
ル、３−エチルアミノプロピオニトリル、３−ジエチル
アミノプロピオニトリル、３−プロピルアミノプロピオ
ニトリル、３−ジプロピルアミノプロピオニトリル、３
−イソプロピルアミノプロピオニトリル、３−ジイソプ
ロピルアミノプロピオニトリル、３−シクロヘキシルア
ミノプロピオニトリル、３−ジシクロヘキシルアミノプ
ロピオニトリル、Ｎ−（シアノエチル）−Ｎ−メチルア
ニリンである。特に有利には３−ヒドロキシプロピオニ
トリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−ジメチル
アミノプロピオニトリル、３−ジエチルアミノプロピオ
ニトリル、３−シクロヘキシルアミノプロピオニトリル
および３−メチルアミノプロピオニトリル、特にビスシ
アノエチルエーテル、ビスシアノエチルアミン、Ｎ−メ
チル−ビスシアノエチルアミン、Ｎ−エチルビスシアノ
エチルアミン、Ｎ−ｎ−プロピルビスシアノエチルアミ
ン、ポリイソブチレンニトリル、Ｎ−ポリイソブチレン
アミノプロピオニトリル、トリシアノエチルアミン、５
−アミノバレロニトリル、５−メチルアミノバレロニト
リル、５−ジメチルアミノバレロニトリル、６−アミノ
カプロニトリル、６−メチルアミノカプロニトリル、６
−ジメチルアミノカプロニトリル、５−アミノ−４−メ
チルバレロニトリル、５−メチルアミノ−４−メチルバ
レロニトリル、５−ジエチルアミノ−４−メチルバレロ
ニトリル、５−エチルアミノ−４−メチルバレロニトリ
ル、５−ジエチルアミノ−４−メチルバレロニトリル、
５−アミノ−２−メチルバレロニトリル、５−メチルア
ミノ−２−メチルバレロニトリル、５−ジメチルアミノ
−２−バレロニトリル、５−エチルアミノ−２−メチル
バレロニトリル、５−ジエチルアミノ−２−メチルバレ
ロニトリル、４−シアノスベロニトリル、アクリロニト
リルである。
ニトリル、プロピオニトリル、イソプロピオニトリル、
ブチロニトリル、バレロニトリル、ペンテンニトリル、
レテンニトリル、３−ヒドロキシプロピオニトリル、３
−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニ
トリル、３−プロポキシプロピオニトリル、３−イソプ
ロポキシプロピオニトリル、３−シクロヘキソキシプロ
ピオニトリル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピオニ
トリル、３−メトキシ−２−メチルプロピオニトリル、
３−エトキシ−２−メチルプロピオニトリル、２−メチ
ル−３−プロポキシプロピオニトリル、３−イソプロポ
キシ−２−メチル−プロピオニトリル、３−シクロヘキ
ソキシ−２−メチルプロピオニトリル、３−メチル−３
−ヒドロキシプロピオニトリル、３−メトキシ−３−メ
チルプロピオニトリル、３−エトキシ−３−メチルプロ
ピオニトリル、３−メチル−３−プロポキシプロピオニ
トリル、３−イソプロポキシ−３−メチルプロピオニト
リル、３−シクロヘキソキシ−３−メチルプロピオニト
リル、３−アミノプロピオニトリル、３−メチルアミノ
プロピオニトリル、３−ジメチルアミノプロピオニトリ
ル、３−エチルアミノプロピオニトリル、３−ジエチル
アミノプロピオニトリル、３−プロピルアミノプロピオ
ニトリル、３−ジプロピルアミノプロピオニトリル、３
−イソプロピルアミノプロピオニトリル、３−ジイソプ
ロピルアミノプロピオニトリル、３−シクロヘキシルア
ミノプロピオニトリル、３−ジシクロヘキシルアミノプ
ロピオニトリル、Ｎ−（シアノエチル）−Ｎ−メチルア
ニリンである。特に有利には３−ヒドロキシプロピオニ
トリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−ジメチル
アミノプロピオニトリル、３−ジエチルアミノプロピオ
ニトリル、３−シクロヘキシルアミノプロピオニトリル
および３−メチルアミノプロピオニトリル、特にビスシ
アノエチルエーテル、ビスシアノエチルアミン、Ｎ−メ
チル−ビスシアノエチルアミン、Ｎ−エチルビスシアノ
エチルアミン、Ｎ−ｎ−プロピルビスシアノエチルアミ
ン、ポリイソブチレンニトリル、Ｎ−ポリイソブチレン
アミノプロピオニトリル、トリシアノエチルアミン、５
−アミノバレロニトリル、５−メチルアミノバレロニト
リル、５−ジメチルアミノバレロニトリル、６−アミノ
カプロニトリル、６−メチルアミノカプロニトリル、６
−ジメチルアミノカプロニトリル、５−アミノ−４−メ
チルバレロニトリル、５−メチルアミノ−４−メチルバ
レロニトリル、５−ジエチルアミノ−４−メチルバレロ
ニトリル、５−エチルアミノ−４−メチルバレロニトリ
ル、５−ジエチルアミノ−４−メチルバレロニトリル、
５−アミノ−２−メチルバレロニトリル、５−メチルア
ミノ−２−メチルバレロニトリル、５−ジメチルアミノ
−２−バレロニトリル、５−エチルアミノ−２−メチル
バレロニトリル、５−ジエチルアミノ−２−メチルバレ
ロニトリル、４−シアノスベロニトリル、アクリロニト
リルである。
【００３２】特に有利にはアジポニトリル、３−ジメチ
ルアミノプロピオニトリル（ＤＭＡＰＮ）および３−ヒ
ドロキシプロピオニトリル、特にＤＭＡＰＮである。
ルアミノプロピオニトリル（ＤＭＡＰＮ）および３−ヒ
ドロキシプロピオニトリル、特にＤＭＡＰＮである。
【００３３】アミン混合物、有利にはＤＭＡＰＡおよび
ビス−ＤＭＡＰＡが、エポキシ樹脂のための硬化剤、ポ
リウレタンのための触媒、第４級アンモニウム化合物製
造のための中間体、可塑化剤、腐蝕防止剤、繊維助剤、
染料および乳化剤である。多官能化された第３級アミン
も、合成樹脂、イオン交換体、医薬品、作物保護剤およ
び殺虫剤を製造するために使用される。
ビス−ＤＭＡＰＡが、エポキシ樹脂のための硬化剤、ポ
リウレタンのための触媒、第４級アンモニウム化合物製
造のための中間体、可塑化剤、腐蝕防止剤、繊維助剤、
染料および乳化剤である。多官能化された第３級アミン
も、合成樹脂、イオン交換体、医薬品、作物保護剤およ
び殺虫剤を製造するために使用される。
【００３４】本発明を以下の実施例により詳細に説明す
る。
る。
【００３５】
【実施例】内直径が３０ｍｍで、総長が２.０ｍであ
り、直径が１２ｍｍの中央熱電対を装備した電気加熱管
反応装置に、触媒５７０ｇ（＝５００ｍｌ）およびステ
ンレススチール充填成分４５０ｍｌを装入する。触媒
は、支持体である二酸化ジルコニウム上にＰｔ０.４質
量％およびＰｄ０.４質量％を含有し、直径が７ｍｍ
で、厚さが３ｍｍで、孔直径が３ｍｍの環形を成してい
る。
り、直径が１２ｍｍの中央熱電対を装備した電気加熱管
反応装置に、触媒５７０ｇ（＝５００ｍｌ）およびステ
ンレススチール充填成分４５０ｍｌを装入する。触媒
は、支持体である二酸化ジルコニウム上にＰｔ０.４質
量％およびＰｄ０.４質量％を含有し、直径が７ｍｍ
で、厚さが３ｍｍで、孔直径が３ｍｍの環形を成してい
る。
【００３６】反応前に、周囲圧力下に１６０℃で１２時
間かけて、純粋な水素により触媒を還元する。
間かけて、純粋な水素により触媒を還元する。
【００３７】３−（ジメチルアミノ）プロピオニトリル
（ＤＭＡＰＮ）５００ｇ／ｈ、反応装置からの液体流出
物４.０ｋｇ／ｈおよび水素０.３８標準ｍ３／ｈを下方
向から並流で通過させる。出発物質を反応装置の上流で
１４０℃まで加熱する。反応装置を１４０℃、総圧８０
ｂａｒで維持する。
（ＤＭＡＰＮ）５００ｇ／ｈ、反応装置からの液体流出
物４.０ｋｇ／ｈおよび水素０.３８標準ｍ３／ｈを下方
向から並流で通過させる。出発物質を反応装置の上流で
１４０℃まで加熱する。反応装置を１４０℃、総圧８０
ｂａｒで維持する。
【００３８】反応容器に残った混合物を冷却し、液体の
一部を反応装置の注入口へ再循環させ、残留物を周囲圧
力まで圧抜きする。ガスクロマトグラフィーによる分析
で、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン（ビス
−ＤＭＡＰＡ）５０質量％、３−ジメチルアミノプロピ
ルアミン（ＤＭＡＰＡ）３０質量％、ＤＭＡＰＮ３.０
質量％および種々の副生成物１７質量％が反応装置から
の流出物中に含まれることが見出された。ＤＭＡＰＮの
変換率は従って９７％であった。
一部を反応装置の注入口へ再循環させ、残留物を周囲圧
力まで圧抜きする。ガスクロマトグラフィーによる分析
で、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン（ビス
−ＤＭＡＰＡ）５０質量％、３−ジメチルアミノプロピ
ルアミン（ＤＭＡＰＡ）３０質量％、ＤＭＡＰＮ３.０
質量％および種々の副生成物１７質量％が反応装置から
の流出物中に含まれることが見出された。ＤＭＡＰＮの
変換率は従って９７％であった。
【００３９】次いで、反応容器からの液体流出物２３０
０ｇをランダム充填構造（２０個の理論段）を有するカ
ラムを使用した実験室用蒸留装置中で、頭頂部の圧力が
３０ｍｂａｒ（絶対圧力）および還流比が５：１となる
ようにしてバッチワイズで蒸留した。これにより、ＤＭ
ＡＰＡ９０.０質量％、ＤＭＡＰＮ５.５％および副生成
物４.５％を含有する７３０ｇの第一フラクション（４
５℃で）およびビス−ＤＭＡＰＡ９９.３質量％を含有
する９６０ｇの第二フラクション（１２５℃で）を得
た。
０ｇをランダム充填構造（２０個の理論段）を有するカ
ラムを使用した実験室用蒸留装置中で、頭頂部の圧力が
３０ｍｂａｒ（絶対圧力）および還流比が５：１となる
ようにしてバッチワイズで蒸留した。これにより、ＤＭ
ＡＰＡ９０.０質量％、ＤＭＡＰＮ５.５％および副生成
物４.５％を含有する７３０ｇの第一フラクション（４
５℃で）およびビス−ＤＭＡＰＡ９９.３質量％を含有
する９６０ｇの第二フラクション（１２５℃で）を得
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル ヒュルマン ドイツ連邦共和国 ベンスハイム テオド ール−シュトルム−ヴェーク 16 (72)発明者 アルトゥール ヘーン ドイツ連邦共和国 キルヒハイム オーベ ラー ヴァルトヴェーク 17 (72)発明者 フランク フンケ ドイツ連邦共和国 マンハイム クー７ 12アー (72)発明者 フランク オールバッハ ドイツ連邦共和国 デュッセルドルフ エ ルフトシュトラーセ 28 (72)発明者 ティル ゲルラッハ ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン アム ヴァイデンシュラーク 18 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC52 BA05 BA08 BA18 BA22 BA25 BA26 BA55 BC10 BC11 BE20 4H039 CA71 CB30
Claims (9)
- 【請求項１】 式（ＩＩＩ）： Ｘ−ＣＮ （ＩＩＩ） のニトリルと水素とを、５０〜２５０℃、圧力５〜３５
０ｂａｒで、触媒の全量に対して支持体上にＰｄを０.
１〜１０質量％含有するＰｄ−含有触媒の存在下に反応
させて、式（Ｉ）： Ｘ−ＣＨ２−ＮＨ２ （Ｉ） の第１級アミンと式（ＩＩ）： （Ｘ−ＣＨ２−）２ＮＨ （ＩＩ） の第２級アミン [式中、Ｘは、非置換またはＣ１〜Ｃ２０−アルキル、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ ４〜Ｃ２０−アルキル
シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ２０−シクロアルキルアルキ
ル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４
−アリール、Ｃ７〜Ｃ２０−アルキルアリール、Ｃ７〜
Ｃ２０−アラルキル、Ｃ１〜２０−アルコキシ、ヒドロ
キシ、Ｃ１〜２０−ヒドロキシアルキル、アミノ、Ｃ１
〜Ｃ２０−アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ２０−ジアルキル
アミノ、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニルアミノ、Ｃ３〜Ｃ８
−シクロアルキルアミノ、アリールアミノ、ジアリール
アミノ、アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルアミノ、ハロ
ゲン、メルカプト、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルコキシ、アリールオキシおよび
／またはＣ２〜Ｃ８−アルコキシカルボニルで置換され
たＣ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ ２〜Ｃ２０−アルケニル
またはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルである]とから成る
混合物を製造する方法。 - 【請求項２】 触媒が、さらに、周期表のＩＢ族および
ＶＩＩＩ族、セリウムおよびランタンから選択される少
なくとも１種の付加的な金属を０.１〜１０質量％含有
することを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 触媒が、Ｐｄ０.２〜１質量％およびＰ
ｔ０.２〜１質量％を含有することを特徴とする、請求
項２に記載の方法。 - 【請求項４】 支持体を、活性炭、炭化ケイ素および金
属酸化物から選択することを特徴とする、請求項１から
３までのいずれか１項の方法。 - 【請求項５】 支持体がＺｒＯ２であることを特徴とす
る、請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 Ｘが、２個までの置換基を有する直鎖Ｃ
１〜Ｃ６−アルキルであることを特徴とする、請求項１
から５までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 置換基がＣ２〜Ｃ１２−ジアルキルアミ
ノまたはＯＨであることを特徴とする、請求項６に記載
の方法。 - 【請求項８】 式（ＩＩＩ）のニトリルが、ビス（３−
（ジメチルアミノ）プロピル）アミン）と３−（ジメチ
ルアミノ）プロピルアミンとから成る混合物へ変換され
る、３−（ジメチルアミノ）プロピオニトリル（ＤＭＡ
ＰＮ）であることを特徴とする、請求項７に記載の方
法。 - 【請求項９】 式（Ｉ）の第１級アミンと式（ＩＩ）の
第２級アミンが、質量比１０：１〜１：１０で形成され
ることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１
項に記載の方法。
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