JP2002194066A - 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents

液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Info

Publication number
JP2002194066A
JP2002194066A JP2000398598A JP2000398598A JP2002194066A JP 2002194066 A JP2002194066 A JP 2002194066A JP 2000398598 A JP2000398598 A JP 2000398598A JP 2000398598 A JP2000398598 A JP 2000398598A JP 2002194066 A JP2002194066 A JP 2002194066A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
liquid
liquid sealing
preferable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000398598A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4696359B2 (ja
Inventor
Toshitaka Takahashi
寿登 高橋
Kozo Hirokawa
孝三 広川
Hisashi Tsukahara
寿 塚原
Yasuaki Nakamura
泰章 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2000398598A priority Critical patent/JP4696359B2/ja
Publication of JP2002194066A publication Critical patent/JP2002194066A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4696359B2 publication Critical patent/JP4696359B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】硬化物の表面が非鏡面になる液状封止用エポキ
シ樹脂組成物及びこれにより封止された素子を備えた電
子部品装置を提供する。 【解決手段】(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤を必
須成分とし、(B)硬化剤がアリル基含有フェノール樹
脂を含有し、かつ硬化物の表面の反射率が10%以下で
ある液状封止用エポキシ樹脂組成物、及びこの液状封止
用エポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えた電
子部品装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品装置の封
止用に好適な液状封止用エポキシ樹脂組成物及びこれに
より封止された素子を備えた電子部品装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、トランジスタ、IC等の電子
部品装置の素子封止の分野では生産性、コスト等の面か
ら樹脂封止が主流となり、エポキシ樹脂組成物が広く用
いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が作業
性、成形性、電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、イ
ンサート品との接着性等の諸特性にバランスがとれてい
るためである。COB(Chip on Board)、COG(Chi
p on Glass)等のベアチップ実装した半導体装置やTC
P(Tape Carrier Package)においては、液状封止用エ
ポキシ樹脂組成物が封止材として多く用いられている。
【0003】液状封止用エポキシ樹脂組成物の硬化に
は、高温で長時間の加熱が必要であり、近年、生産性の
向上を目的とした速硬化性の液状封止用エポキシ樹脂組
成物の需要が高まっている。また、最近では、液状封止
用エポキシ樹脂組成物の硬化後の評価に光学的自動検査
機を用いることが多いため、硬化後の表面は非鏡面が要
求されている。これは、光学的自動検査機においてハレ
ーションをおこさないためである。液状封止用エポキシ
樹脂組成物に、硬化剤として固形フェノールノボラック
樹脂を用いると、封止品の耐湿信頼性が良くなるという
長所がある反面、硬化後の外観が鏡面になりやすいとい
う短所がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる状況に
鑑みなされたもので、硬化物の表面が非鏡面になる液状
封止用エポキシ樹脂組成物及びこれにより封止された素
子を備えた電子部品装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、硬化剤としてア
リル基含有フェノール樹脂を用い、かつ硬化物の表面の
反射率が10%以下になるような液状封止用エポキシ樹
脂組成物により上記の目的を達成しうることを見い出
し、本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち、本発明は(1)(A)エポキシ
樹脂及び(B)硬化剤を必須成分とし、(B)硬化剤が
アリル基含有フェノール樹脂を含有し、かつ硬化物の表
面の反射率が10%以下である液状封止用エポキシ樹脂
組成物、(2)アリル基含有フェノール樹脂がアリル基
含有フェノールノボラック樹脂である上記(1)記載の
液状封止用エポキシ樹脂組成物、(3)(C)充填剤を
さらに含有する上記(1)又は(2)記載の液状封止用
エポキシ樹脂組成物、(4)(D)溶剤をさらに含有す
る上記(1)〜(3)のいずれかに記載の液状封止用エ
ポキシ樹脂組成物、(5)上記(1)〜(4)のいずれ
かに記載の液状封止用エポキシ樹脂組成物を用いたTC
P用封止材、(6)上記(1)〜(4)のいずれかに記
載の液状封止用エポキシ樹脂組成物を用いて封止された
素子を備えた電子部品装置及び(7)上記(1)〜
(4)のいずれかに記載の液状封止用エポキシ樹脂組成
物を用いて封止された素子を備えたTCPに関する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明において用いられる(A)
エポキシ樹脂は、硬化可能な1分子中に2個以上のエポ
キシ基を有するエポキシ樹脂であれば特に制限はなく、
液状封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されている
エポキシ樹脂を用いることができ、組成物が液状であれ
ば固形、液状のどちらか一方を用いても両者を併用して
も良い。たとえば、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、ナフタレ
ンジオール、水添ビスフェノールA等とエピクロルヒド
リンの反応により得られるグリシジルエーテル型エポキ
シ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を
はじめとするフェノール類とアルデヒド類とを縮合又は
共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化した
ノボラック型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の
多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグ
リシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニル
メタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒ
ドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキ
シ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得
られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂な
どが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み
合わせて用いてもよい。なかでも、低粘度化の観点から
は液状エポキシ樹脂が好ましく、フェノール樹脂との反
応性の観点からはビスフェノール型液状エポキシ樹脂が
より好ましい。また、これらのエポキシ樹脂は、十分に
精製されたもので、イオン性不純物が少ないものが好ま
しい。例えば、遊離Naイオン及び遊離Clイオンは5
00ppm以下であることが好ましい。
【0008】本発明において用いられる(B)硬化剤と
しては、アリル基含有フェノール樹脂を含有していれば
特に制限はなく、エポキシ樹脂の硬化剤として一般に使
用されているものを用いることができる。たとえば、フ
ェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、ユリア樹
脂、イソシアネート、脂肪族ポリアミン、ポリアミド樹
脂、芳香族ジアミン等のアミン化合物、酸無水物、ルイ
ス酸錯化合物などが挙げられ、これらを単独で用いても
2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、保存
安定性の観点からはフェノール樹脂が好ましく、接着性
の観点からは芳香族アミンが好ましい。また、組成物が
液状であれば固形硬化剤及び液状硬化剤のどちらか一方
を用いても両者を併用してもよいが、低粘度化の観点か
らは液状硬化剤が好ましい。
【0009】本発明において硬化剤として用いられるア
リル基含有フェノール樹脂としては、アリル基を有する
ものであれば特に制限はないが、たとえば、下記一般式
(I)〜(V)で示される化合物等が挙げられ、これら
の1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いても
よい。
【化1】 (ここで、式(I)〜(V)中のRは水素原子、置換又
は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置
換の炭素数1〜10のアルコキシ基、置換又は非置換の
炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数
1〜10のアリル基及び置換又は非置換の炭素数1〜1
2のアリール基から選ばれ、m、nはそれぞれ独立に1
以上の整数を示す。)
【0010】なかでも、硬化物の表面が非鏡面になる観
点及び入手容易性の観点からは上記一般式(I)又は
(IV)で示されるフェノール樹脂が好ましく、硬化物表
面の非鏡面性と速硬化性の両立の観点からは上記一般式
(I)で示されるフェノール樹脂等のアリル基含有フェ
ノールノボラック樹脂がより好ましい。上記一般式
(I)で示されるフェノール樹脂としては、低粘度化の
観点から、Rが水素原子でnが平均2〜3であるものが
より好ましい。また、同様に観点から、上記一般式
(I)で示されるフェノール樹脂の重量平均分子量は6
00以下が好ましく、500未満がより好ましく、45
0以下がさらに好ましく、粘度は、25℃における粘度
が5〜80Pa・sであることが好ましく、10〜50
Pa・sであることがより好ましく、15〜40Pa・
sであることがさらに好ましく、水酸基当量は、100
〜200が好ましく、120〜170がより好ましく、
130〜160がさらに好ましい。上記一般式(IV)で
示されるフェノール樹脂としては、m個の繰り返し単位
及びn個の繰り返し単位のランダム共重合体でもブロッ
ク共重合体でも交互共重合体でもかまわないが、硬化物
の表面が非鏡面になる観点及び低粘度化の観点から、R
が水素原子でm、nがそれぞれ平均1〜2であるものが
より好ましい。また、同様に観点から、上記一般式(I
V)で示されるフェノール樹脂の重量平均分子量は20
0〜1200が好ましく、300〜1000がより好ま
しく、400〜600がさらに好ましく、粘度は、60
℃における粘度が0.5〜20Pa・sであることが好
ましく、1〜10Pa・sであることがより好ましく、
3〜6Pa・sであることがさらに好ましく、水酸基当
量は、50〜500が好ましく、100〜350がより
好ましく、150〜250がさらに好ましい。ここで、
重量平均分子量とは、GPC測定によるポリスチレン換
算の重量平均分子量のことをいう。
【0011】アリル基含有フェノール樹脂の配合量は、
その性能を発揮するために(B)硬化剤全量に対して3
0重量%以上が好ましく、40重量%以上がより好まし
く、60重量%以上がさらに好ましい。
【0012】(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤との当
量比は特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく
抑えるために、エポキシ樹脂に対して硬化剤を0.6〜
1.6当量の範囲に設定することが好ましく、0.7〜
1.4当量がより好ましく、0.8〜1.2当量がさら
に好ましい。0.6.〜1.6当量の範囲からはずれた
場合、硬化反応が不充分となり信頼性が低下する傾向が
ある。ここで、当量とは反応当量であり、たとえば、フ
ェノール樹脂の当量はエポキシ基1個に対しフェノール
性水酸基1個が反応するものとして計算され、芳香族ア
ミンの当量はエポキシ基1個に対しアミノ基の活性水素
1個が反応するものとして計算され、酸無水物の当量は
エポキシ基1個に対し酸無水物基1個が反応するものと
して計算される。
【0013】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物に
は、必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。硬
化促進剤としては液状封止用エポキシ樹脂組成物に一般
に使用されるもので特に制限はないが、たとえば、1,
8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、
1,5−ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5、
6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,
4,0)ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及び
これらの誘導体、これらのフェノール樹脂塩等の塩、又
はこれらの化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキ
ノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、
2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベン
ゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−
ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキ
ノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合
物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合
をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合
物、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、
トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ト
リス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミ
ン化合物、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシル
イミダゾール等のイミダゾール化合物、トリブチルホス
フィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン
等の有機ホスフィン化合物及びこれらの誘導体、又はこ
れらの化合物に上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタ
ン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加して
なる分子内分極を有する化合物等の有機リン化合物、ト
リフェニルホスフィントリフェニルボロン、テトラフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレート、2−エチル
−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N
−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のフェニ
ルボロン塩等及びこれらの誘導体などが挙げられ、これ
らの1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いて
もよい。硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成さ
れる量であれば特に制限されるものではないが、(A)
エポキシ樹脂に対して0.1〜20重量%が好ましく、
より好ましくは1〜15重量%である。0.1重量%未
満では短時間での硬化性に劣る傾向があり、20重量%
を超えると硬化速度が速すぎて制御が困難になったりポ
ットライフ、シェルライフ等の保存安定性が劣ったりす
る傾向がある。
【0014】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物に
は、必要に応じて(C)充填剤を配合することができ
る。(C)充填剤としては、液状封止用エポキシ樹脂組
成物に一般に使用されるもので特に制限はないが、吸湿
性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上の観点
から無機充填剤が好ましい。たとえば、溶融シリカ、結
晶シリカ等のシリカ、炭酸カルシウム、タルク、クレ
ー、酸化アルミナ等のアルミナ、窒化珪素、炭化珪素、
窒化ホウ素、珪酸カルシウム、チタン酸カリウム、窒化
アルミ、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステラ
イト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等
の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維な
どが挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤と
しては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸
亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。これらの充填
剤は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。なかでも、粘度上昇の抑制及び硬化物物性の観点か
らはシリカが好ましく、溶融シリカがより好ましい。
【0015】充填剤の形状は、流動性等の成形性の観点
から球形に近いことが好ましく、最密充填するように粒
度分布を広げた球形溶融シリカがより好ましい。(C)
充填剤の平均粒径は、特に球形シリカの場合、1〜20
μmの範囲が好ましく、2〜10μmの範囲がより好ま
しい。平均粒径が1μm未満では液状樹脂への分散性に
劣る傾向や液状封止用エポキシ樹脂組成物にチキソトロ
ピック性が付与されて流動特性に劣る傾向があり、20
μmを超えるとフィラ沈降を起こしやすくなる傾向や、
液状封止用エポキシ樹脂組成物の微細間隙への浸透性・
流動性が低下してボイド・未充填を招きやすくなる傾向
がある。また、これらの充填剤は、必要に応じて表面を
カップリング処理したものを用いてもよい。(C)充填
剤の配合量は、液状封止用エポキシ樹脂組成物の20〜
90重量%が好ましく、30〜85重量%がより好まし
く、50〜80重量%さらに好ましい。配合量が20重
量%未満では熱膨張係数の低減効果が低くなり耐熱衝撃
性に劣る傾向があり、90重量%を超えると液状封止用
エポキシ樹脂組成物の粘度が上昇し、流動性、浸透性及
びディスペンス性の低下を招く傾向がある。
【0016】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物に
は、低粘度化のために必要に応じて(D)溶剤を配合す
ることができる。特に、固体のエポキシ樹脂及び硬化剤
を用いる場合には、液状の組成物を得るために、溶剤を
配合することが必要である。(D)溶剤としては、特に
制限はないが、たとえば、メチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等の
アルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン系溶剤、エチレングリコールエチルエーテル、エ
チレングリコールメチルエーテル、エチレングリコール
ブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレ
ングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメ
チルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶
剤、ブチロラクトン、バレロラクトン、カプロラクトン
等のラクトン系溶剤、ジメチルアセトアミド、ジメチル
ホルムアミド等のアミド系溶剤、トルエン、キシレンな
ど有機溶剤が挙げられ、これらの1種を単独で用いても
2種以上を組合わせて用いてもよい。なかでも、速硬化
性、成膜性等の成形性の観点からはグリコールエーテル
系溶剤及びラクトン系溶剤が好ましい。また、加熱硬化
時の急激な揮発による気泡形成を避ける観点からは沸点
が100℃以上の溶剤が好ましい。(D)溶剤の配合
は、本発明の効果が得られる量であれば特に制限はない
が、液状封止用エポキシ樹脂組成物に対して、速硬化性
の観点から5〜30重量%とすることが好ましく、10
〜20重量%がより好ましい。
【0017】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物に
は、その他の添加剤として、赤燐、リン酸エステル、メ
ラミン、メラミン誘導体、トリアジン環を有する化合
物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素
含有化合物、シクロホスファゼン等の燐窒素含有化合
物、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、フェロセン等
の金属化合物、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、
五酸化アンチモン等の酸化アンチモン、ブロム化エポキ
シ樹脂などの難燃剤、ハイドロタルサイト類、マグネシ
ウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス
等の元素の含水酸化物などのイオントラップ剤、高級脂
肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオ
レフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン
等の離型剤、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等
の応力緩和剤、染料、カーボンブラック等の着色剤、希
釈剤、レベリング剤、消泡剤などを必要に応じて配合す
ることができる。
【0018】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物
は、成形後の硬化物の表面を非鏡面とする観点から、硬
化物の表面の反射率が10%以下であることが必要であ
る。ここで、硬化物の表面の反射率とは、硬化物に入射
角45℃〜75℃で光照射した場合の光の反射率をい
い、入射角が45℃〜60℃での反射率が5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることが好ましく、2
%以下であることがさらに好ましい。硬化物の表面の反
射率の測定方法としては特に制限はないが、たとえば、
図1にその概略を示すように、デジタル変角光沢計を用
いて、本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物
1に光源4から45〜75°の入射角6で白色光を照射
し、入射光2の光量に対する反射光3の光量を測定し、
白色板での測定値で校正して反射率を求める等の一般的
な手法が挙げられる。図1において、5は測定器を示
す。本発明においては、液状封止用エポキシ樹脂組成物
に配合する各種成分の組み合わせ及び配合量を調整する
ことによって、硬化物の表面の反射率が10%以下であ
る液状封止用エポキシ樹脂組成物を得ることができる。
(B)硬化剤の選定とその配合量が特に重要である。
【0019】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物
は、上記各種成分を均一に分散混合できるのであれば、
いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法と
して、所定の配合量の成分を秤量し、らいかい機、ミキ
シングロール、プラネタリミキサ等を用いて混合、混練
し、必要に応じて脱泡することによって得ることができ
る。
【0020】本発明で得られる液状封止用エポキシ樹脂
組成物により素子を封止して得られる電子部品装置とし
ては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配
線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体
チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能
動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、ス
イッチ等の受動素子などの素子を搭載し、必要な部分を
本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物で封止して得ら
れる電子部品装置などが挙げられる。このような電子部
品装置としては、例えば、リードフレーム上に半導体素
子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリ
ード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本
発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物を用いてディスペ
ンス方式等により封止してなる、PLCC(Plastic Le
aded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、
SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Out
line J-leaded package)、TSOP(Thin Small Outl
ine Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)
等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにリード
ポンディングした半導体チップを、本発明の液状封止用
エポキシ樹脂組成物で封止したTCP(Tape Carrier P
ackage)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤ
ーボンディング、フリップチップボンディング、はんだ
等で接続した半導体チップを、本発明の液状封止用エポ
キシ樹脂組成物で封止したCOB(Chip On Board)、
COG(Chip On Glass)等のベアチップ実装した半導
体装置、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤー
ボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等
で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、
サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗
体、コイル等の受動素子を、本発明の液状封止用エポキ
シ樹脂組成物で封止したハイブリッドIC、マルチチッ
プモジュール、マザーボード接続用の端子を形成したイ
ンターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまた
はワイヤボンディングにより半導体チップとインターポ
ーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の液状
封止用エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側を封止
したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size P
ackage)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げら
れる。また、プリント回路板にも本発明の液状封止用エ
ポキシ樹脂組成物は使用できる。なかでも、本発明の液
状封止用エポキシ樹脂組成物を使用したTCPやCO
B、COG等のベアチップ実装した半導体装置で優れた
特性を得ることができる。TCPは薄型、軽量で耐折り
曲げ実装性に優れ、ノート型パソコン等の液晶ドライ
バ、積層メモリモジュール等に用いられる。
【0021】本発明の液状封止用エポキシ樹脂組成物を
用いて素子を封止する方法としては、ディスペンス方
式、注型方式、印刷方式等が挙げられる。
【0022】
【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、本発
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0023】実施例1及び比較例1 エポキシ樹脂としてエポキシ当量160のビスフェノー
ルF型液状エポキシ樹脂(東都化成株式会社製商品名Y
DF−8170C)、ビスフェノールAD型液状エポキ
シ樹脂(三井化学株式会社製商品名R−710)、o−
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会
社製商品名ESCN−195−6)、硬化剤として重量
平均分子量が426、水酸基当量が141、25℃にお
ける粘度が25Pa・sで下記式(VI)で示されるアリ
ル基含有フェノール樹脂1、重量平均分子量が710、
水酸基当量が210、60℃における粘度が4.4Pa
・sで、下記式(VII)で示されモル比m/nが1/1
のランダム共重合体であるアリル基含有フェノール樹脂
2、重量平均分子量が750、水酸基当量が105、軟
化点が83℃のフェノールノボラック樹脂(明和化成株
式会社製商品名H−100)、硬化促進剤として1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7のフェ
ノールノボラック樹脂塩(サンアプロ株式会社製商品名
SA−841)、充填剤として比表面積1m/g、平
均粒径4μmの球状溶融シリカ、溶剤としてプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテートとγ−ブチロ
ラクトンとの重量比1/1の混合溶剤を、それぞれ表1
に示す重量部で配合し、三本ロールにて混練分散した
後、真空脱泡して、実施例1、2及び比較例1の液状封
止用エポキシ樹脂組成物を作製した。組成物の25℃に
おける粘度はいずれも3Pa・sであった。
【0024】
【化2】 (ここで、m及びnは上記の重量平均分子量を示す1以
上の整数である。)
【0025】
【表1】
【0026】作製した実施例及び比較例の液状封止用エ
ポキシ樹脂組成物を用いて次の各試験を行なった。 (1)反射率 硬化物の表面の反射率を測定し、非鏡面か否かを評価し
た。TCP(チップサイズ15.6×1.9×0.65
mm、デバイス孔16.1×2.1mm、リードピッ
チ:65〜195μm、ポリイミド製テープキャリア)
を、実施例1、2及び比較例1の液状封止用エポキシ樹
脂組成物を用いてディスペンス方式により140℃/1
5分の加熱条件で成形して作製し、液状封止用エポキシ
樹脂組成物(硬化物)の表面の反射率を、デジタル変角
光沢計(スガ試験器株式会社製)を用いて、図2に概略
図で示すように測定した。白色光源4を用いて、光源入
射角6を45°、60°又は75°として測定した値
を、表面コーティングされたセラミック白色板で校正し
た。結果を表2に示す。 (2)速硬化性 実施例1及び比較例1の液状封止用エポキシ樹脂組成物
をディスペンス方式により130℃又は140℃で所定
時間加熱して300μm厚のシート状に成形した硬化物
を、長さ70mm、幅10mmの短冊状に切り取り試験
片とし、引張試験機(株式会社島津製作所製)を用い
て、JIS−K−6911に準拠した3点支持型の曲げ
試験を行い、スパン距離24mm、曲げ速度2mm/m
inの条件で曲げ強度(σ、単位:MPa)及び曲げ弾
性率(E、単位:GPa)を求め、140℃/60分の
加熱条件で成形した硬化物の値に対する百分率を算出し
て速硬化性を評価した。結果を表3に示す。
【0027】
【表2】
【0028】
【表3】
【0029】次に、光学的自動検査機を用いて液状封止
用エポキシ樹脂組成物の硬化後の評価を行なったとこ
ろ、いずれの入射角でも硬化物表面の反射率が10%以
下である実施例1及び2では、硬化物の表面が非鏡面で
あり、ハレーションを起こさず容易に評価できたのに対
して、反射率が40%以上の比較例1では、硬化物の表
面が鏡面で、ハレーションを起こして評価が困難であっ
た。また、速硬化性の評価では、曲げ強度及び曲げ弾性
率は、ともに140℃/60分で成形した硬化物に対す
る百分率が、成形温度130℃、140℃のいずれの場
合でも、実施例1は比較例1よりも高い。特に140℃
/10分の値を比較すると、実施例1では曲げ強度、曲
げ弾性率ともに100%であるのに対して、比較例1で
はそれぞれ90.7%、97.2%で著しく劣る。これ
らの結果から実施例1の液状封止用エポキシ樹脂組成物
が速硬化性であることが確認される。
【0030】
【発明の効果】本発明になる液状封止用エポキシ樹脂組
成物は、実施例で示したように、表面が非鏡面の硬化物
が得られるので光学的自動検査機においてハレーション
をおこさず評価が容易で、この液状封止用エポキシ樹脂
組成物を用いて素子を封止すれば半導体装置等の電子部
品装置の製造工程での管理等も簡便になり、その工業的
価値は大である。特に液状封止材が多く用いられるCO
B、COG等のベアチップ実装した半導体装置やTCP
に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】硬化物表面の反射率の測定方法を示す概略図
【図2】TCPにおいて液状封止用エポキシ樹脂組成物
の硬化物表面の反射率の測定方法を示す概略図
【符号の説明】
1:液状封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物 2:入射光 3:反射光 4:光源 5:測定器 6:入射角 7:ソルダーレジスト 8:テープキャリア 9:Cuリード 10:Auバンプ 11:半導体チップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/31 (72)発明者 中村 泰章 茨城県結城市大字鹿窪1772−1 日立化成 工業株式会社下館事業所内 Fターム(参考) 4J002 CC052 CD011 CD021 CD051 CD061 DE146 DE186 DE236 DF016 DJ006 DJ016 DJ046 DK006 FD016 FD207 GJ02 GQ05 HA01 HA05 4J036 AA01 AC01 AC05 AD01 AD08 AD21 AF08 AH07 DA01 DA02 FA02 FA05 FB08 JA07 4M109 AA01 BA03 BA05 EA02 EC11

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤を必
    須成分とし、(B)硬化剤がアリル基含有フェノール樹
    脂を含有し、かつ硬化物の表面の反射率が10%以下で
    ある液状封止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】アリル基含有フェノール樹脂がアリル基含
    有フェノールノボラック樹脂である請求項1記載の液状
    封止用エポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】(C)充填剤をさらに含有する請求項1又
    は請求項2記載の液状封止用エポキシ樹脂組成物。
  4. 【請求項4】(D)溶剤をさらに含有する請求項1〜3
    のいずれかに記載の液状封止用エポキシ樹脂組成物。
  5. 【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載の液状封止
    用エポキシ樹脂組成物を用いたTCP用封止材。
  6. 【請求項6】請求項1〜4のいずれかに記載の液状封止
    用エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子を備えた
    電子部品装置。
  7. 【請求項7】請求項1〜4のいずれかに記載の液状封止
    用エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子を備えた
    TCP。
JP2000398598A 2000-12-27 2000-12-27 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 Expired - Lifetime JP4696359B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000398598A JP4696359B2 (ja) 2000-12-27 2000-12-27 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000398598A JP4696359B2 (ja) 2000-12-27 2000-12-27 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002194066A true JP2002194066A (ja) 2002-07-10
JP4696359B2 JP4696359B2 (ja) 2011-06-08

Family

ID=18863528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000398598A Expired - Lifetime JP4696359B2 (ja) 2000-12-27 2000-12-27 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4696359B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004083761A (ja) * 2002-08-27 2004-03-18 Matsushita Electric Works Ltd 液状封止材料及び半導体装置
US8232355B2 (en) 2005-11-25 2012-07-31 Hitachi Chemical Co., Ltd. Liquid resin composition for electronic components and electronic component device
KR20150097435A (ko) * 2014-02-18 2015-08-26 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
WO2015126174A1 (ko) * 2014-02-18 2015-08-27 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
WO2015147600A1 (ko) * 2014-03-27 2015-10-01 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
US10103353B2 (en) 2014-03-27 2018-10-16 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device comprising the same

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07173236A (ja) * 1993-12-17 1995-07-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JPH0812745A (ja) * 1994-06-29 1996-01-16 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物
JPH0867805A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物
JPH0885719A (ja) * 1994-07-19 1996-04-02 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物及びその製造方法
JPH0931167A (ja) * 1995-07-19 1997-02-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 封止用液状エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JPH10251377A (ja) * 1997-03-12 1998-09-22 Hitachi Chem Co Ltd 封止用成形材料及び電子部品
JP2000169537A (ja) * 1998-12-04 2000-06-20 Meiwa Kasei Kk 液状フェノールノボラック樹脂及び半導体封止用硬化剤
JP2001031740A (ja) * 1999-07-19 2001-02-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd 液状封止樹脂組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2001298146A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Mitsubishi Electric Corp 多層配線基体の製造方法および多層配線基体

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07173236A (ja) * 1993-12-17 1995-07-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JPH0812745A (ja) * 1994-06-29 1996-01-16 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物
JPH0885719A (ja) * 1994-07-19 1996-04-02 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物及びその製造方法
JPH0867805A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物
JPH0931167A (ja) * 1995-07-19 1997-02-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 封止用液状エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JPH10251377A (ja) * 1997-03-12 1998-09-22 Hitachi Chem Co Ltd 封止用成形材料及び電子部品
JP2000169537A (ja) * 1998-12-04 2000-06-20 Meiwa Kasei Kk 液状フェノールノボラック樹脂及び半導体封止用硬化剤
JP2001031740A (ja) * 1999-07-19 2001-02-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd 液状封止樹脂組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2001298146A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Mitsubishi Electric Corp 多層配線基体の製造方法および多層配線基体

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004083761A (ja) * 2002-08-27 2004-03-18 Matsushita Electric Works Ltd 液状封止材料及び半導体装置
US8232355B2 (en) 2005-11-25 2012-07-31 Hitachi Chemical Co., Ltd. Liquid resin composition for electronic components and electronic component device
KR20150097435A (ko) * 2014-02-18 2015-08-26 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
WO2015126174A1 (ko) * 2014-02-18 2015-08-27 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
CN106030844A (zh) * 2014-02-18 2016-10-12 株式会社Lg化学 包封薄膜以及含有该包封薄膜的有机电子器件
KR102001612B1 (ko) * 2014-02-18 2019-07-18 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
US10720600B2 (en) 2014-02-18 2020-07-21 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device including the same
WO2015147600A1 (ko) * 2014-03-27 2015-10-01 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
US10103353B2 (en) 2014-03-27 2018-10-16 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP4696359B2 (ja) 2011-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7485009B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
KR100893022B1 (ko) 경화 촉진제, 경화성 수지 조성물 및 전자 부품 장치
KR20000062775A (ko) 캡슐화재료조성물 및 전자장치
JP4892984B2 (ja) 硬化性樹脂組成物及び電子部品装置
JP2005029641A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP4696359B2 (ja) 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
TW202108655A (zh) 密封用樹脂組成物、電子零件裝置及電子零件裝置的製造方法
JP2001151866A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2004156035A (ja) 硬化性樹脂の硬化促進剤、硬化性樹脂組成物及び電子部品装置
JP2001207021A (ja) 液状エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2011179008A (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
WO2020129248A1 (ja) 封止用樹脂組成物及び電子部品装置
JP2014129485A (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2003034747A (ja) 液状エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP5156156B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JPH1121427A (ja) 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品
JP4631165B2 (ja) 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
KR102127589B1 (ko) 에폭시 수지 조성물 및 전자 부품 장치
JP2021084980A (ja) 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法
JPWO2020067016A1 (ja) 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法
JP2001011290A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP3659150B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2012107209A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2002037865A (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2000129094A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071128

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100623

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100701

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100825

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101019

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101216

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110214

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4696359

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140311

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term