JP2002190272A - Electron-spray ion source - Google Patents

Electron-spray ion source

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JP2002190272A
JP2002190272A JP2000388665A JP2000388665A JP2002190272A JP 2002190272 A JP2002190272 A JP 2002190272A JP 2000388665 A JP2000388665 A JP 2000388665A JP 2000388665 A JP2000388665 A JP 2000388665A JP 2002190272 A JP2002190272 A JP 2002190272A
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JP
Japan
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ion source
conductor plate
electrospray ion
atomizing nozzle
counter electrode
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000388665A
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Japanese (ja)
Inventor
Susumu Fujimaki
奨 藤巻
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrospray ion source which is capable of realizing high performance mass spectrometry by desolvating charged drops without heating while cooling the desolvating chamber atomized gas or charged drops. SOLUTION: The electrospray ion source comprises an atomizing nozzle to which atomized gas is supplied and a high voltage is applied, a conducive plate facing the atomizing nozzle with a prescribed angle, a counter electrode facing the conductive plate with a prescribed angle. Here, liquid drops atomized with the atomizing nozzle are collided against the conducive plate, then is reached to an orifice on the counter electrode.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、質量分析法で用い
られるエレクトロスプレー・イオン源に関し、特に、低
温で試料をイオン化させることを特徴とするコールド・
エレクトロスプレー・イオン源に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrospray ion source used in mass spectrometry, and more particularly to a cold ion source characterized by ionizing a sample at a low temperature.
It relates to an electrospray ion source.

【0002】[0002]

【従来の技術】強い電界の中に置かれた電気伝導性の液
体が電界の作用によって毛管の先端部から自然に噴霧す
る現象は、エレクトロスプレーと呼ばれ、古くから知ら
れていた。1980年代前半、このエレクトロスプレー
という現象が溶液試料の質量分析に応用され、エレクト
ロスプレー・イオン源として広く用いられるようになっ
た。
2. Description of the Related Art A phenomenon in which an electrically conductive liquid placed in a strong electric field sprays spontaneously from the tip of a capillary by the action of an electric field is called electrospray and has been known for a long time. In the early 1980's, the phenomenon called electrospray was applied to mass spectrometry of a solution sample, and became widely used as an electrospray ion source.

【0003】図1は、従来のエレクトロスプレー・イオ
ン源を示したものである。図中、1は、液体クロマトグ
ラフ(LC)装置や溶液溜などの溶液試料供給源であ
る。溶液試料供給源1の溶液試料(例えばLC移動相)
は、図示しないポンプなどによって毛管状のキャピラリ
ー2に送られる。このキャピラリー2は、金属で作られ
ており、内径30〜100μm、外径150〜250μ
mである。キャピラリー2に送られた溶液試料は、LC
ポンプまたは毛管現象により駆動されて、キャピラリー
2の内部に吸い上げられ、該キャピラリー2の先端部ま
で到達する。
FIG. 1 shows a conventional electrospray ion source. In the figure, reference numeral 1 denotes a solution sample supply source such as a liquid chromatograph (LC) device or a solution reservoir. Solution sample of solution sample supply source 1 (for example, LC mobile phase)
Is sent to the capillary 2 by a pump (not shown). This capillary 2 is made of metal and has an inner diameter of 30 to 100 μm and an outer diameter of 150 to 250 μm.
m. The solution sample sent to the capillary 2 is LC
It is driven by a pump or a capillary phenomenon, is sucked into the inside of the capillary 2, and reaches the tip of the capillary 2.

【0004】キャピラリー2と質量分析装置3の対向電
極4の間には、数kVの高電圧が印加されていて、強い
電界が形成されている。この電界の作用で、キャピラリ
ー2の中の溶液試料は、大気圧下、キャピラリー2と対
向電極4の間の空間に静電噴霧され、荷電液滴となって
大気中に分散する。このときの溶液試料の流量は、毎分
1〜10マイクロリットルである。このとき生成する荷
電液滴は、試料分子の回りに溶媒分子が集まってクラス
ター状になった帯電粒子なので、熱を加えて溶媒分子を
気化させると、試料分子のイオンだけにすることができ
る。
A high voltage of several kV is applied between the capillary 2 and the counter electrode 4 of the mass spectrometer 3, and a strong electric field is formed. Due to the action of this electric field, the solution sample in the capillary 2 is electrostatically sprayed under atmospheric pressure into the space between the capillary 2 and the counter electrode 4, and is dispersed as charged droplets in the atmosphere. The flow rate of the solution sample at this time is 1 to 10 microliters per minute. The charged droplets generated at this time are charged particles in which solvent molecules gather around the sample molecules to form clusters. Therefore, when heat is applied to vaporize the solvent molecules, only the ions of the sample molecules can be formed.

【0005】荷電液滴から試料イオンを作る方法として
は、キャピラリー2と対向電極4の間の空間に70℃程
度に加熱した窒素ガスを供給し、そこに荷電液滴を静電
噴霧することによって液滴の溶媒を気化させる方法や、
質量分析装置3の対向電極4に設けられたサンプリング
・オリフィス5を80℃程度に加熱して、その輻射熱、
あるいは熱伝導で荷電液滴の溶媒を気化させる方法など
がある。これらの方法をイオン・エバポレーションと呼
んでいる。
As a method of forming sample ions from charged droplets, a nitrogen gas heated to about 70 ° C. is supplied to a space between the capillary 2 and the counter electrode 4 and the charged droplets are electrostatically sprayed there. A method of vaporizing the solvent of the droplet,
The sampling orifice 5 provided on the counter electrode 4 of the mass spectrometer 3 is heated to about 80 ° C.
Alternatively, there is a method of evaporating the solvent of the charged droplet by heat conduction. These methods are called ion evaporation.

【0006】イオン・エバポレーションによって生成し
た試料イオンは、対向電極4に設けられたサンプリング
・オリフィス5から質量分析装置3の内部に取り込まれ
る。大気圧下の試料イオンを真空の質量分析装置3に導
入するために、差動排気壁が構成される。すなわち、サ
ンプリング・オリフィス5とスキマー・オリフィス6で
囲まれた区画は図示しないロータリー・ポンプ(RP)
で200Pa程度に排気されている。また、スキマー・
オリフィス6と隔壁7で囲まれた区画は図示しないター
ボ・モレキュラー・ポンプ(TMP)で1Pa程度に排
気されている。そして、隔壁7の後段は、TMPによっ
て10-3Pa程度に排気され、質量分析部8が置かれて
いる。
[0006] Sample ions generated by ion evaporation are taken into the mass spectrometer 3 from a sampling orifice 5 provided in the counter electrode 4. In order to introduce the sample ions under the atmospheric pressure into the vacuum mass spectrometer 3, a differential exhaust wall is configured. That is, a section surrounded by the sampling orifice 5 and the skimmer orifice 6 is a rotary pump (RP) (not shown).
To about 200 Pa. Also, skimmers
A section surrounded by the orifice 6 and the partition 7 is evacuated to about 1 Pa by a turbo molecular pump (TMP) (not shown). The latter part of the partition 7 is evacuated by TMP to about 10 −3 Pa, and the mass spectrometer 8 is placed.

【0007】また、サンプリング・オリフィス5とスキ
マー・オリフィス6で囲まれた低真空の区画には、試料
イオンの拡散を防ぐためのリングレンズ9が置かれてい
て、試料イオンが正イオンの場合には正電圧、試料イオ
ンが負イオンの場合には負電圧が印加されるようになっ
ている。また、スキマー・オリフィス6と隔壁7で囲ま
れた中真空の区画には、試料イオンを質量分析部8まで
導くためのイオンガイド10が置かれ、高周波電圧が印
加されている。
In a low vacuum section surrounded by the sampling orifice 5 and the skimmer orifice 6, a ring lens 9 for preventing diffusion of sample ions is provided. Is applied with a positive voltage, and when the sample ions are negative ions, a negative voltage is applied. An ion guide 10 for guiding sample ions to the mass spectrometer 8 is placed in a medium vacuum section surrounded by the skimmer orifice 6 and the partition 7, and a high-frequency voltage is applied.

【0008】また、図1には図示されていないが、最近
のシステムでは、LCの移動相など10〜1000マイ
クロリットル/分の大流量の試料にも対応できるように
するために、キャピラリー2の周囲に霧化ガスを流せる
シース管を設け、電界力だけでは霧化しきれない10マ
イクロリットル以上の大流量の試料溶液を、霧化ガスの
力によって強制的かつ完全に霧化させるように構成した
新しいタイプのエレクトロスプレー・イオン源も登場し
ている。
Although not shown in FIG. 1, a recent system uses a capillary 2 in order to cope with a large flow rate of a sample such as an LC mobile phase of 10 to 1000 microliters / minute. A sheath tube through which the atomizing gas can flow is provided, and the sample solution having a large flow rate of 10 microliter or more, which cannot be atomized only by the electric field force, is forcibly and completely atomized by the force of the atomizing gas. New types of electrospray ion sources have also emerged.

【0009】エレクトロスプレー・イオン源の特徴は、
試料分子のイオン化に際して、高熱をかけたり高エネル
ギー粒子を衝突させたりしない非常にソフトなイオン化
法であるという点にある。従って、ペプチド、タンパク
質、核酸などの極性の強い生体高分子をほとんど破壊す
ることなく、多価イオンとして容易にイオン化すること
ができる。また、多価イオンなので、分子量が1万以上
のものでも、比較的小型な質量分析装置で測定すること
が可能である。
The features of the electrospray ion source are as follows:
It is a very soft ionization method that does not apply high heat or collide with high energy particles when ionizing sample molecules. Therefore, highly polar biopolymers such as peptides, proteins, and nucleic acids can be easily ionized as polyvalent ions with almost no destruction. In addition, since it is a multiply-charged ion, it can be measured even with a molecular weight of 10,000 or more with a relatively small mass spectrometer.

【0010】ところが、最近、エレクトロスプレー・イ
オン化法のような非常にソフトなイオン化法であって
も、イオン化の際に、試料イオンの分子構造が破壊され
てしまうというサンプルの例が報告されるようになっ
た。それは、例えば、巨大な有機金属錯体、例えば、プ
ラチナなどの遷移金属錯体の自己集合によって高度な秩
序を備えた超分子化合物などの例である。これらの金属
錯体は、イオンの衝撃や熱に対してのみならず、ソフト
なイオン化法であるエレクトロスプレーによるイオン化
に対しても不安定であり、イオン気化の際に分子構造の
破壊が起きる。
However, recently, it has been reported that even with a very soft ionization method such as the electrospray ionization method, an example of a sample in which the molecular structure of sample ions is destroyed during ionization is reported. Became. It is an example of, for example, supramolecular compounds with a high degree of order due to the self-assembly of large organometallic complexes, for example transition metal complexes such as platinum. These metal complexes are unstable not only against ion impact and heat, but also against ionization by electrospray, which is a soft ionization method, and the molecular structure is destroyed during ion vaporization.

【0011】この問題を解決するために、最近、エレク
トロスプレー・イオン源に供給される霧化ガスや液滴の
脱溶媒チャンバーなどを液体窒素などの冷媒で冷却し、
イオン化の際に試料イオンに熱が加わることを極力避け
るようにした新しいタイプのエレクトロスプレー・イオ
ン源が開発された(特開2000−285847号公
報)。この方法は、コールド・エレクトロスプレー・イ
オン化法と呼ばれ、この方法により、初めて、前述のよ
うな不安定な自己集合有機金属錯体などの精密な質量数
の測定が可能になった。
In order to solve this problem, recently, a desolvation chamber for atomizing gas or droplets supplied to an electrospray ion source is cooled with a refrigerant such as liquid nitrogen.
A new type of electrospray ion source has been developed which minimizes the application of heat to sample ions during ionization (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-285847). This method is called a cold electrospray ionization method, and for the first time, it has become possible to accurately measure the mass number of the unstable self-assembled organometallic complex as described above.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】このようなコールド・
エレクトロスプレー・イオン源の特徴は、何と言っても
霧化ガスや荷電液滴の脱溶媒チャンバーなどを液体窒素
などの冷媒で冷却し、試料イオンに熱が加わることを極
力避けるようにしたところにある。ところが、その結
果、イオンを含んだ荷電液滴中に多くの溶媒分子が取り
残され、荷電液滴の充分な乾燥が得られないまま、荷電
液滴が対向電極のオリフィスに取り込まれるという事態
が発生することになった。
SUMMARY OF THE INVENTION
The most characteristic of the electrospray ion source is that it cools the desolvation chamber for atomized gas and charged droplets with a coolant such as liquid nitrogen to minimize the heating of sample ions. is there. However, as a result, many solvent molecules are left in the charged droplets containing ions, and the charged droplets are taken into the orifice of the counter electrode without sufficient drying of the charged droplets. I decided to do it.

【0013】一般的に言って、脱溶媒(溶媒除去)が不
十分な液滴では、高感度な質量分析は望めない。したが
って、従来のエレクトロスプレー・イオン源では、高感
度な質量分析を行なうために、前述のように、穏やかに
荷電液滴を加熱し、主にイオン・エバポレーションによ
り、イオンを生成していたのであるが、コールド・エレ
クトロスプレー・イオン源の場合、霧化ガスや液滴の脱
溶媒チャンバーなどを冷却しているために、効果的にイ
オン・エバポレーションを行なわせることができないと
いう問題があった。
Generally speaking, high-sensitivity mass spectrometry cannot be expected for droplets with insufficient solvent removal (solvent removal). Therefore, in the conventional electrospray ion source, in order to perform high-sensitivity mass analysis, as described above, the charged droplet is gently heated and ions are generated mainly by ion evaporation. However, in the case of a cold electrospray ion source, there was a problem that ion evaporation could not be performed effectively because the desolvation chamber for atomizing gas and droplets was cooled. .

【0014】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、霧化ガスや荷電液滴の脱溶媒チ
ャンバーなどを冷却したまま、荷電液滴を全く加熱する
ことなく脱溶媒化して、高感度質量分析を可能にするエ
レクトロスプレー・イオン源を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to remove a charged droplet without heating a charged droplet while keeping a desolvation chamber or the like for atomized gas or charged droplet. It is an object of the present invention to provide an electrospray ion source that can be solvated to enable high-sensitivity mass spectrometry.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明にかかるエレクトロスプレー・イオン源は、
霧化ガスが供給され高電圧が印加された霧化ノズルと、
該霧化ノズルと所定の角度を成して対向する導体板と、
該導体板と所定の角度を成して対向する対向電極とを備
え、前記霧化ノズルで霧化させた液滴を、前記導体板に
衝突させ、しかる後に前記対向電極上のオリフィスに到
達させるようにしたことを特徴としている。
In order to achieve this object, an electrospray ion source according to the present invention comprises:
An atomizing nozzle to which an atomizing gas is supplied and a high voltage is applied,
A conductor plate facing the atomizing nozzle at a predetermined angle,
A counter electrode facing the conductor plate at a predetermined angle is provided, and the droplet atomized by the atomizing nozzle is caused to collide with the conductor plate, and then reaches an orifice on the counter electrode. It is characterized by doing so.

【0016】また、前記霧化ガスは、冷却されているこ
とを特徴としている。
Further, the atomized gas is cooled.

【0017】また、前記霧化ノズルと前記導体板との間
には、所定の電位差が設けられていることを特徴として
いる。
Further, a predetermined potential difference is provided between the atomizing nozzle and the conductor plate.

【0018】また、前記導体板と前記対向電極との間に
は、所定の電位差が設けられていることを特徴としてい
る。
Further, a predetermined potential difference is provided between the conductor plate and the counter electrode.

【0019】また、前記霧化ノズルと前記導体板との成
す角度は可変できることを特徴としている。
Further, the angle formed between the atomizing nozzle and the conductor plate can be changed.

【0020】また、前記導体板と前記対向電極との成す
角度は可変できることを特徴としている。
Further, an angle formed between the conductor plate and the counter electrode is variable.

【0021】また、前記導体板は冷却されていることを
特徴としている。
Further, the conductor plate is cooled.

【0022】また、前記導体板は加熱されていることを
特徴としている。
Further, the invention is characterized in that the conductor plate is heated.

【0023】また、前記導体板は超音波で振動させるこ
とができることを特徴としている。
Further, the present invention is characterized in that the conductor plate can be vibrated by ultrasonic waves.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。図2は、本発明にかかるエレク
トロスプレー・イオン源の一実施例を示したものであ
る。図中11は、試料溶液を通すキャピラリーである。
キャピラリー11の周囲には、霧化ガスを通すためのシ
ース管12が設けられ、キャピラリー11と合わせて霧
化ノズル13を構成している。霧化ガスには、例えば、
窒素ガスや炭酸ガスなどの不活性ガスが用いられる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 shows an embodiment of the electrospray ion source according to the present invention. In the figure, reference numeral 11 denotes a capillary through which a sample solution passes.
A sheath tube 12 for passing atomized gas is provided around the capillary 11, and constitutes an atomizing nozzle 13 together with the capillary 11. Atomized gas, for example,
An inert gas such as a nitrogen gas or a carbon dioxide gas is used.

【0025】これらの霧化ガスは、不安定試料の分子構
造が熱によって破壊されないようにするため、予め低温
に冷却されていることが望ましい。従って、そのガス源
としては、液体窒素や液化炭酸ガスなどが用いられる。
It is desirable that these atomized gases are previously cooled to a low temperature so that the molecular structure of the unstable sample is not destroyed by heat. Therefore, liquid nitrogen, liquefied carbon dioxide, or the like is used as the gas source.

【0026】霧化ノズル13の前方には、霧化ノズル1
3に対して所定の角度だけ傾斜させて配置させたステン
レスなどでできた導体板14が置かれている。霧化ノズ
ル13と導体板14との間には、通常、3kV程度の電
位差が設けられ、霧化ノズル13から導体板14に向か
って試料溶液の静電噴霧が起きるように構成されてい
る。また、導体板14の置かれた向きに対して所定の角
度だけ傾いた方向には、質量分析装置の対向電極15が
配置されている。導体板14と対向電極15との間に
は、通常、0〜5kV程度の電位差が設けられている。
また、対向電極15の中心付近には、試料イオンを質量
分析装置内に取り込むためのサンプリング・オリフィス
16が開口している。これらの諸ユニットは、図示され
ない冷却された脱溶媒チャンバー内に置かれている。
In front of the atomizing nozzle 13, the atomizing nozzle 1
A conductor plate 14 made of stainless steel or the like, which is arranged at a predetermined angle with respect to 3, is placed. Normally, a potential difference of about 3 kV is provided between the atomizing nozzle 13 and the conductor plate 14 so that the sample solution is electrostatically sprayed from the atomizing nozzle 13 toward the conductor plate 14. The counter electrode 15 of the mass spectrometer is disposed in a direction inclined by a predetermined angle with respect to the direction in which the conductor plate 14 is placed. Usually, a potential difference of about 0 to 5 kV is provided between the conductor plate 14 and the counter electrode 15.
A sampling orifice 16 for taking sample ions into the mass spectrometer is opened near the center of the counter electrode 15. These units are placed in a cooled desolvation chamber (not shown).

【0027】このような構成を持った本発明のエレクト
ロスプレー・イオン源は、次のように動作する。まず、
霧化ノズル13から低温の霧化ガスと電界の作用とによ
って静電噴霧された荷電液滴は、霧化ノズル13に対し
て所定の角度だけ傾斜させて配置された導体板14に向
けて飛行し、導体板14に衝突することによって粉砕さ
れる。これにより、試料液滴はより微細な荷電液滴に変
化して、脱溶媒化(溶媒除去)の進行が促される。溶媒
分子を取り除かれた荷電液滴は、ほとんど試料イオンだ
けの状態となった後、導体板14に対して所定の角度だ
け傾斜させて配置された対向電極15に向かって飛行
し、対向電極15の中心付近に設けられたサンプリング
・オリフィス16から質量分析装置内に取り込まれる。
その結果、低温での静電噴霧にもかかわらず、溶媒分子
の除去が進行しているので、高感度な質量分析を行なわ
せることができる。
The electrospray ion source of the present invention having such a configuration operates as follows. First,
The charged droplet electrostatically sprayed from the atomizing nozzle 13 by the action of the low-temperature atomizing gas and the electric field flies toward the conductor plate 14 arranged at a predetermined angle with respect to the atomizing nozzle 13. Then, the powder is crushed by colliding with the conductor plate 14. Thereby, the sample droplet changes to a finer charged droplet, and the progress of desolvation (solvent removal) is promoted. The charged droplet from which the solvent molecules have been removed becomes almost only the sample ions, and then flies toward the counter electrode 15 arranged at a predetermined angle with respect to the conductor plate 14, and the counter electrode 15 Is taken into the mass spectrometer from the sampling orifice 16 provided near the center of the mass spectrometer.
As a result, despite the electrostatic spraying at a low temperature, the removal of the solvent molecules is progressing, so that highly sensitive mass spectrometry can be performed.

【0028】尚、本発明には、さまざまな変形が可能で
ある。例えば、霧化ノズル13と導体板14との成す角
度、および/または、導体板14と対向電極15との成
す角度は、任意に可変できるように構成されていても良
い。これにより、試料イオンの飛行方向の微調節が可能
になり、サンプリング・オリフィス16への試料イオン
の取り込み効率を高めることができる。
Various modifications can be made to the present invention. For example, the angle formed between the atomizing nozzle 13 and the conductor plate 14 and / or the angle formed between the conductor plate 14 and the counter electrode 15 may be arbitrarily variable. As a result, fine adjustment of the flight direction of the sample ions becomes possible, and the efficiency of capturing the sample ions into the sampling orifice 16 can be increased.

【0029】また、荷電液滴を衝突させる導体板14
は、予め、低温に冷却されていても良い。これにより、
不安定試料が導体板14に衝突した際の、導体板14の
熱による衝撃を抑えることができる。
The conductor plate 14 against which the charged droplets collide
May be previously cooled to a low temperature. This allows
When the unstable sample collides with the conductor plate 14, the impact of the conductor plate 14 due to heat can be suppressed.

【0030】また、荷電液滴を衝突させる導体板14
は、予め、適度の温度に加熱されていても良い。これに
より、導体板14の表面に溜まる噴霧液の溜まりが除去
されて、導体板14の表面を常時清浄に保つことができ
る。荷電液滴が導体板14に衝突する時間は極めて短
く、また、実際の衝突表面のイオン(衝突に関与するイ
オン)は少数であるので、衝突による試料の熱分解や生
成した試料イオンのディスチャージなどの影響は少な
い。
The conductor plate 14 against which the charged droplets collide is
May be heated to an appropriate temperature in advance. Thereby, the accumulation of the spray liquid accumulated on the surface of the conductor plate 14 is removed, and the surface of the conductor plate 14 can be always kept clean. The time during which the charged droplet collides with the conductor plate 14 is extremely short, and the ions on the actual collision surface (ions involved in the collision) are few in number. Is less affected.

【0031】また、荷電液滴を衝突させる導体板14
は、超音波で振動させることができるように構成されて
いても良い。これにより、荷電液滴の衝突に際して、荷
電液滴の粉砕効率を高めることができる。
The conductor plate 14 against which the charged droplets collide is
May be configured to be capable of being vibrated by ultrasonic waves. Thereby, at the time of collision of charged droplets, the crushing efficiency of charged droplets can be increased.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上述べたごとく、本発明のエレクトロ
スプレー・イオン源によれば、霧化ガスが供給され高電
圧が印加された霧化ノズルと、該霧化ノズルと所定の角
度を成して対向する導体板と、該導体板と所定の角度を
成して対向する対向電極とを備えたので、前記霧化ノズ
ルで霧化させた荷電液滴を前記導体板に衝突させ、粉砕
することによって、低温の状態で荷電液滴の脱溶媒化
(溶媒除去)を促進させることが可能になった。その結
果、溶媒分子をほとんど含まない荷電液滴を質量分析装
置に取り込ませることが可能になり、高感度でイオンの
質量数を分析することが可能になった。
As described above, according to the electrospray ion source of the present invention, an atomizing nozzle to which an atomizing gas is supplied and a high voltage is applied forms a predetermined angle with the atomizing nozzle. And a counter electrode facing the conductor plate at a predetermined angle, so that the charged droplets atomized by the atomizing nozzle collide with the conductor plate and are crushed. This has made it possible to promote desolvation (solvent removal) of charged droplets at low temperatures. As a result, a charged droplet containing almost no solvent molecules can be taken into the mass spectrometer, and the mass number of ions can be analyzed with high sensitivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のエレクトロスプレー・イオン源を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a conventional electrospray ion source.

【図2】本発明にかかるエレクトロスプレー・イオン源
の一実施例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing one embodiment of an electrospray ion source according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・溶液試料供給源、2・・・キャピラリー、3・・・質量
分析装置、4・・・対向電極、5・・・サンプリング・オリフ
ィス、6・・・スキマー・オリフィス、7・・・隔壁、8・・・
質量分析部、9・・・リングレンズ、10・・・イオンガイ
ド、11・・・キャピラリー、12・・・シース管、13・・・
霧化ノズル、14・・・導体板、15・・・対向電極、16・・
・サンプリング・オリフィス。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Solution sample supply source, 2 ... Capillary, 3 ... Mass spectrometer, 4 ... Counter electrode, 5 ... Sampling orifice, 6 ... Skimmer orifice, 7 ... Partition wall, 8 ...
Mass analysis unit, 9: ring lens, 10: ion guide, 11: capillary, 12: sheath tube, 13:
Atomizing nozzle, 14 ... conductor plate, 15 ... counter electrode, 16 ...
・ Sampling orifice.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】霧化ガスが供給され高電圧が印加された霧
化ノズルと、該霧化ノズルと所定の角度を成して対向す
る導体板と、該導体板と所定の角度を成して対向する対
向電極とを備え、前記霧化ノズルで霧化させた液滴を、
前記導体板に衝突させ、しかる後に前記対向電極上のオ
リフィスに到達させるようにしたことを特徴とするエレ
クトロスプレー・イオン源。
An atomizing nozzle to which an atomizing gas is supplied and to which a high voltage is applied, a conductor plate facing the atomizing nozzle at a predetermined angle, and a conductor plate forming a predetermined angle with the conductor plate And a counter electrode opposed to the droplets, the droplets atomized by the atomizing nozzle,
An electrospray ion source characterized in that it strikes the conductor plate and then reaches an orifice on the counter electrode.
【請求項2】前記霧化ガスは、冷却されていることを特
徴とする請求項1記載のエレクトロスプレー・イオン
源。
2. The electrospray ion source according to claim 1, wherein said atomized gas is cooled.
【請求項3】前記霧化ノズルと前記導体板との間には、
所定の電位差が設けられていることを特徴とする請求項
1または2記載のエレクトロスプレー・イオン源。
3. The method according to claim 2, wherein the atomizing nozzle and the conductor plate are provided between:
3. An electrospray ion source according to claim 1, wherein a predetermined potential difference is provided.
【請求項4】前記導体板と前記対向電極との間には、所
定の電位差が設けられていることを特徴とする請求項
1、2、または3記載のエレクトロスプレー・イオン
源。
4. The electrospray ion source according to claim 1, wherein a predetermined potential difference is provided between said conductor plate and said counter electrode.
【請求項5】前記霧化ノズルと前記導体板との成す角度
は可変できることを特徴とする請求項1、2、3、また
は4記載のエレクトロスプレー・イオン源。
5. An electrospray ion source according to claim 1, wherein an angle between said atomizing nozzle and said conductor plate is variable.
【請求項6】前記導体板と前記対向電極との成す角度は
可変できることを特徴とする請求項1、2、3、4、ま
たは5記載のエレクトロスプレー・イオン源。
6. An electrospray ion source according to claim 1, wherein an angle formed between said conductor plate and said counter electrode is variable.
【請求項7】前記導体板は冷却されていることを特徴と
する請求項1、2、3、4、5、または6記載のエレク
トロスプレー・イオン源。
7. An electrospray ion source according to claim 1, wherein said conductor plate is cooled.
【請求項8】前記導体板は加熱されていることを特徴と
する請求項1、2、3、4、5、または6記載のエレク
トロスプレー・イオン源。
8. An electrospray ion source according to claim 1, wherein said conductive plate is heated.
【請求項9】前記導体板は超音波で振動させることがで
きることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、
7、または8記載のエレクトロスプレー・イオン源。
9. The apparatus according to claim 1, wherein said conductor plate can be vibrated by ultrasonic waves.
An electrospray ion source according to claim 7 or 8.
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