JP2002184721A - 垂直型ウェーハソーイング装置 - Google Patents
垂直型ウェーハソーイング装置Info
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Abstract
で発生するシリコンくずや粉塵を効果的に除去できるウ
ェーハソーイング装置を提供する。 【解決手段】 ウェーハソーイング装置100は、ウェ
ーハを個別化する垂直型のウェーハソーイング装置であ
り、チャックテーブル111はウェーハ11が実装され
る第1の面と駆動手段が接続される第2の面とを有す
る。第1の面及び第2の面はチャックテーブル111の
支持面にほぼ垂直に配置されており、ウェーハ111は
地面に垂直な状態で切断歯121により切断される。そ
のため、水平方向へ面積を拡大する必要がなく、占有面
積を小さくすることができる。
Description
するための装置に関し、より詳細には、ウェーハを個別
半導体チップに分離するためのウェーハソーイング装置
に関する。
ェーハソーイング装置により半導体ウェーハを切断し、
個別半導体チップに分離する。ウェーハソーイング装置
は、主として切断機として切断刃を使用する。又は、レ
ーザ切断機が使用される。切断刃は、高速で回転し、ス
クライブラインに沿ってウェーハを切断する。従って、
ウェーハは、複数の個別ダイに分割される。
示す平面図である。図2は、従来のウェーハソーイング
装置を示す正面図である。図1及び図2を参照すると、
従来のウェーハソーイング装置300は、ウェーハ10
を固定的に実装するチャックテーブル311と、ウェー
ハ10をチップ11に分割するためにスクライブライン
13に沿ってウェーハ10を切断する切断刃321とを
備える。また、ウェーハソーイング装置300は、ウェ
ーハ10を収納するウェーハカセット20が載置される
積載部330と、チャックテーブル311とウェーハカ
セット20との間でウェーハ10を移送する移送部34
0、350とをさらに備える。
300は、ウェーハ10をウェーハカセット20に装入
するか、ウェーハ10をウェーハカセットから取り出す
第1の移送部340と、ウェーハ10を所定の角度で回
転させて、ウェーハ10をチャックテーブル311に移
送させる第2の移送部350とを含む。ウェーハソーイ
ング工程の際、ウェーハ10は、接着テープ15により
ウェーハリング17に支持されている。ここで、接着テ
ープは、ウェーハ10とリング17の両者の裏面に取り
付けられている。
いて、第1の移送部340は、積載部330に載置され
たウェーハカセット20からウェーハ10を取り出し、
その後、第2の移送部350は、ウェーハ10をチャッ
クテーブル311に移送する。この際、第2の移送部3
50は、ウェーハ10を水平回動する。さらに、第1及
び第2の移送部340、350は、真空吸着力によりウ
ェーハを固定させる真空吸着孔を有する。ウェーハ10
は、真空吸着力によりチャックテーブル311に吸着さ
れる。ウェーハ10をチャックテーブル311に固定し
た後、切断刃321でスクライブラインに沿ってウェー
ハ10を切断することによって、ウェーハ10を個別半
導体チップ11に分離することができる。
回動し、y軸駆動部317によりy軸方向に移動し、z
軸駆動部317によりz軸方向に移動する。一方、チャ
ックテーブル311は、x軸駆動部315によりx軸方
向に移動する。ここで、x軸及びy軸は、地面と平行に
駆動され、z軸は、地面に対して垂直に駆動される。ま
た、x軸は、y軸に垂直である。
0の表面を薄く削る時、シリコンくずが生ずる。これら
のシリコンくずは、ウェーハ10に残存するおそれがあ
り、これにより後続の工程で不良を引き起こすことがで
きる。従って、ウェーハソーイング装置300は、切断
刃321の側面に位置して、切断刃321及びウェーハ
の上面に洗浄液を吹き付ける噴射ノズル325を有す
る。しかしながら、洗浄液によるクリーニング作業は、
ウェーハを効果的にクリーンするに限界がある。
つが、特開平4−348546号公報に開示されてい
る。ここで提案されたウェーハソーイング装置が図3に
示されている。図3に示されたように、ウェーハソーイ
ング装置400は、ウェーハ10が実装され、かつ回転
ユニット415によりシリンダ417が連結された回転
チャックテーブル411を有する。シリコンくずを効果
的に除去するため、シリンダ417が回転チャックテー
ブル411を取り上げて、ウェーハ10を垂直に位置さ
せる。切断刃421は、x軸、y軸及びz軸方向に移動
可能であり、これにより、ウェーハ10の切断深さを調
節することができる。x軸及びy軸は、地面と平行し、
z軸は、地面に垂直である。また、x軸は、y軸に垂直
である。
含めて従来のウェーハソーイング装置では、チャックテ
ーブルが水平に位置するので、チャックテーブルが比較
的大きい面積を占める。従って、ウェーハソーイング装
置の全体サイズが大きくなる。このような問題は、ウェ
ーハのサイズが増加する場合、一層深刻になる。例え
ば、直径が200mmのウェーハ(すなわち8インチウ
ェーハ)の場合、ウェーハソーイング装置は、約1.5
8平方メートル(1.35m×1.17m)の面積を占
める。直径が300mmのウェーハ(すなわち12イン
チウェーハ)の場合、ウェーハソーイング装置の面積
は、約2.55平方メートル(1.82m×1.4m)
と増加する。従って、占有面積が小さく、かつシリコン
くずや粉塵等の汚染物質をより効果的に除去できるウェ
ーハソーィング装置が要望されている。
面積が小さなウェーハソーイング装置を提供することに
ある。また、本発明の他の目的は、ウェーハソーイング
工程で発生するシリコンくずや粉塵が効果的に除去され
るウェーハソーイング装置を提供することにある。
に、本発明に係るウェーハソーイング装置は、複数の半
導体チッブが形成され、かつ隣接するチップ間にそれぞ
れ複数のスクライブラインが形成されたウェーハを個別
化する垂直型ウェーハソーイング装置において、表面を
有するウェーハを実装するための第1の面と、駆動手段
が接続される第2の面とを有するチャックテーブルで、
前記第1及び前記第2の面が前記チャックテーブルの支
持面にほぼ垂直に配置されるチャックテーブルと、前記
ウェーハをスクライブラインに沿って複数の個別チップ
に切断する切断手段とを備えている。また、ウェーハソ
ーイング装置は、前記ウェーハを前記チャックテーブル
に移送して実装するための移送手段をさらに備え、前記
ウェーハは、前記移送手段により直立位置で前記チャッ
クテーブルに固定的に支持される。
軸、y軸又はz軸方向に移動可能である。ここで、前記
xの方向はウェーハステージに対して垂直に駆動され地
面又はチャックテーブルの支持面と平行に駆動され、y
軸の方向はウェーハステージと平行にかつ地面と平行に
駆動され、前記z軸の方向はウェーハステージと平行に
かつ地面に対して垂直に駆動される。前記切断手段は、
前記駆動手段により回転する1つ以上のレーザ切断機又
は切断刃を有していてもよく、切断刃は地面と平行又は
地面に対して垂直に配置される。
ウェーハソーイング装置の設置面積を低減することがで
きる。さらに、ウェーハソーイング工程時にウェーハ上
のシリコンくずや粉塵を効果的に除去することができ
る。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴及
び利点は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
明の好ましい複数の実施形態を詳細に説明する。 (第1実施例)図4及び図5は、本発明の第1実施例に
よる垂直型ウェーハソーイング装置を示す図である。第
1実施例によるウェーハソーイング装置100は、ウェ
ーハ10を固定的に実装するチャックテーブル111
と、ウェーハ10をチップ11に分割するために、スク
ライブライン13に沿ってウェーハ10を切断する切断
刃121とを備える。また、ウェーハソーイング装置1
00は、チャックテーブル11とウェーハカセット20
との間でウェーハ10を移送する移送部140、150
をさらに備える。噴射ノズル125は、切断工程時に発
生するクリコンくずや粉塵を除去するために、ウェーハ
10の上部に位置する。
に位置するから、チャッテーブル11に固定されたウェ
ーハ10もy−z面と平行となる。チャックテーブル1
11は、回転駆動部113によりx軸を中心に回転する
ことができ、z軸駆動部119によりz軸方向に移動す
ることができる。
れ、かつ駆動モータ123により高速でy軸を中心に回
転する。切断刃121は、x軸駆動部115によりx軸
方向に移動し、y軸駆動部117によりy軸方向に移動
する。ここで、x軸は地面(チャックテーブルの支持
面)と平行かつチャックテーブルに垂直に駆動され、y
軸は地面及びチャックテーブル111の両者と平行にな
る。上述したように、ウェーハソーイング装置100
は、第1の移送部140及び第2の移送部150を含
む。第1の移送部140は、ウェーハ10をウェーハカ
セット20に装入、またはウェーハ10をウェーハカセ
ット20から取り出す。第2の移送部150は、ウェー
ハ10をチャックテーブル311に移送する。第2の移
送部150は、x軸移送部151と、z軸移送部153
と、回転子152と、ピッカー154とを含む。
ウェーハカセット20から積載部130に移送される
と、第2の移送部150のピッカー154によりウェー
ハ10を吸着固定した状態でz軸移送部153がウェー
ハ10を上昇させる。その後、ウェーハ10がx軸移送
部151により移動される。回転子152がy軸を中心
に90゜回転して、ウェーハ10をチャックテーブル1
11と平行に配置させる。その後、ウェーハ10をx軸
移送部151によりチャックテーブル111に移送し、
チャックテーブル111に固定させて、チャックテーブ
ル111に配置されたウェーハ10を、地面に対して垂
直に配置させる。切断刃121は、y軸駆動部117に
より所定の位置、例えばウェーハ切断工程が始まる開始
点に移動する。その後、チャックテーブル111は、z
軸駆動部119により所定の位置に移動する。切断の深
さは、x軸駆動部115により調節される。切断刃12
1が切断を開始すると、z軸駆動部119が垂直移動し
て、スクライブライン13が切断される。このような工
程が各横のスクライブラインに対して繰り返される。
に沿って完全に切断された時、チャックテーブル111
が回転駆動部113により略90゜回転し、前述の工程
が縦のスクライブライン13に対して再開される。切断
工程の時、切断刃121の上部に位置した噴射ノズル1
25から切断刃及びウェーハの上面に洗浄液が吹き付け
られて、シリコンくずや粉塵などの汚染物質が除去され
る。
第2実施例による垂直型ウェーハソーイング装置を示す
図である。第2実施例による垂直型ウェーハソーイング
装置200は、前述の第1実施例と類似している。例え
ば、移送部230、240は、図4及び図5に示された
第1実施例のもの(130、140)と同一である。他
方、第2実施例では、ウェーハソーイング装置200が
y軸駆動部217、x軸駆動部215及びz軸駆動部2
19を備えている点で前述の第1実施例と異なる。y軸
駆動部217は、y軸方向にチャックテーブルを移動さ
せ、x軸駆動部215及びz軸駆動部219は、各々x
軸及びz軸方向に切断刃221を移動させる。切断刃2
21は、チャックテーブル211に対して垂直で、かつ
地面と平行な状態を有する。切断工程の時、切断刃12
1の上部に位置した噴射ノズル125から切断刃221
及びウェーハ10の上面に洗浄液が吹き付けられる。
17によりスクライブライン開始点に移動する。ウェー
ハ10の切断深さは、x軸駆動部215により調節され
る。チャックテーブル211が移動した後、切断刃22
1がx軸駆動部215及びz軸駆動部219により移動
し、ウェーハ10が個別半導体チップ11に分離され
る。
例による垂直型ウェーハソーイング装置を示す図であ
る。本発明の第3実施例による垂直型ウェーハソーイン
グ装置500は、前述の第1実施例および第2実施例と
類似している。しかしながら、第3実施例では、ウェー
ハソーイング装置500は切断刃の代わりにレーザ切断
機521を有する。ウェーハソーイング装置300は、
x軸駆動部551及びz軸駆動部553及びピッカー5
54を含む第2の移送部を有する。さらに、ウェーハ1
0が地面に対して垂直状態になるようにウェーハカセッ
ト20を積載させることが必要である。
カー554がz軸移送部553により垂直運動する。ま
た、ピッカー554がウェーハ10をクランプし、ウェ
ーハカセット20からウェーハ10をピックアップす
る。その後、x軸移送部551は、ウェーハ10がクラ
ンプされたピッカー554をチャックテーブル511に
移送する。移送されたウェーハ10は、チャックテーブ
ル511に固定され、レーザー切断機521により個別
半導体チップに分離される。
ソーイング装置は、いずれもウェーハ10の面が地面に
垂直な面になるように位置するチャックテーブルを有す
る。したがって、ウェーハのサイズが増加するほど、ウ
ェーハソーイング装置の高さが増加する。例えば、直径
が300mmのウェーハ(すなわち12インチウェー
ハ)の場合、ウェーハソーイング装置の面積は、約1.
49平方メートル(1.3m×1.15m)である。そ
こで、上述した従来のウェーハソーイング装置と比べて
全体寸法を約42%減少させることができる。
は、ウェーハの切断時、チャックテーブル及び切断刃の
両者がスクライブラインに沿って移動できるように、付
加的な空間を必要とする。この付加的な空間は、ウェー
ハの直径より大きいことが要求される。しかしながら、
上記の本発明の各実施例による垂直型ウェーハソーイン
グ装置は、ウェーハのスクライブラインがz軸方向に回
動する切断刃により分離されるので、付加的な空間を必
要としない。従って、ウェーハソーイング装置の全体寸
法は、ウェーハサイズの増加にもかかわらず増大するこ
とがない。
型ウェーハソーイング装置は、少なくとも1つの切断部
材、例えば駆動モータ又はレーザにより移動する切断刃
を有する。また、ウェーハカセットを積載部に垂直的に
積載するか、ウェーハをウェーハカセットに垂直的に積
載することが可能である。完全に積載した後、移送部が
ウェーハを積載された状態で垂直的に移動させる。第1
の移送部を必要としないので、ウェーハソーイング装置
の寸法を低減することができる。なお、本発明の複数の
実施例に係る垂直型ウェーハソーイング装置は、ウェー
ハレベルパッケージ、チップスケールパッケージ及び単
位基板の切断工程に適用可能である。
ることなく、他の種々の形態で実施することができる。
前述の実施例は、あくまでも、本発明の技術内容を明ら
かにするものであって、そのような具体例のみに限定し
て狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と
特許請求の範囲内で、いろいろと変更して実施すること
ができるものである。
型ウェーハソーイング装置は、ウェーハが垂直した状態
で切断作業が行われるので、優秀な洗浄効果を得ること
ができると同時に、設置面積を低減することができる。
ある。
ある。
ある。
イング装置を示す平面図である。
イング装置を示す正面図である。
イング装置を示す平面図である。
イング装置を示す正面図である。
イング装置を示す正面図である。
Claims (14)
- 【請求項1】 複数の半導体チッブが形成され、かつ隣
接するチップ間にそれぞれ複数のスクライブラインが形
成されたウェーハを個別化する垂直型ウェーハソーイン
グ装置において、 表面を有するウェーハを実装するための第1の面と、駆
動手段が接続される第2の面とを有するチャックテーブ
ルで、前記第1の面及び前記第2の面が前記チャックテ
ーブルの支持面にほぼ垂直に配置されるチャックテーブ
ルと、 前記ウェーハをスクライブラインに沿って複数の個別チ
ップに切断する切断手段とを備えることを特徴とする垂
直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項2】 前記ウェーハを前記チャックテーブルに
移送して実装するための移送手段をさらに備え、前記ウ
ェーハは前記移送手段により直立位置で前記チャックテ
ーブルに固定的に支持されることを特徴とする請求項1
に記載の垂直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項3】 前記移送手段は、前記ウェーハを略90
゜回転させて、前記ウェーハを前記チャックテーブルと
平行に配置する回転子を有することを特徴とする請求項
2に記載の垂直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項4】 前記移送手段はx軸、y軸又はz軸方向
に移動し、前記x軸及び前記y軸は前記チャックテーブ
ルの支持面と平行に駆動され、前記z軸は前記チャック
テーブルの支持面と垂直に駆動され、前記x軸及び前記
y軸は互いに直交することを特徴とする請求項2に記載
の垂直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項5】 前記切断手段は、前記駆動手段により回
転する1つ以上の切断刃であることを特徴とする請求項
1に記載の垂直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項6】 前記1つ以上の切断刃は、垂直的に配置
されることを特徴とする請求項5に記載の垂直型ウェー
ハソーイング装置。 - 【請求項7】 前記1つ以上の切断刃は、水平的に配置
されることを特徴とする請求項5に記載の垂直型ウェー
ハソーイング装置。 - 【請求項8】 前記切断手段は、レーザー切断機である
ことを特徴とする請求項1に記載の垂直型ウェーハソー
イング装置。 - 【請求項9】 前記切断手段は、1つ以上の3直交軸に
沿って移動することを特徴とする請求項1に記載の垂直
型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項10】 前記切断手段は、2つの垂直水平軸に
沿って移動することを特徴とする請求項9に記載の垂直
型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項11】 前記駆動手段は、1つ以上の3直交軸
に沿って移動することを特徴とする請求項1に記載の垂
直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項12】 前記駆動手段は、垂直軸に沿って移動
することを特徴とする請求項11に記載の垂直型ウェー
ハソーイング装置。 - 【請求項13】 前記切断手段は、前記ウェーハの表面
と垂直に移動することを特徴とする請求項1に記載の垂
直型ウェーハソーイング装置。 - 【請求項14】 前記チャックテーブルは、回転駆動部
により回転されることを特徴とする請求項1に記載の垂
直型ウェーハソーイング装置。
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