JP2002167202A - Insulation film forming method for ozone generating electrode - Google Patents
Insulation film forming method for ozone generating electrodeInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、オゾン発生電極の
電極板上に絶縁皮膜を形成する方法に関するものであ
る。The present invention relates to a method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode.
【０００２】[0002]
【従来技術及びその課題】オゾン発生電極の、アルミニ
ウム又はアルミニウム合金からなる電極板上に形成され
る絶縁皮膜としては、従来から、ほうろうが用いられて
いる。何故なら、ほうろうは、完全に無機質であるこ
と、及び２００μｍまでの厚い成膜が可能であることに
因り、高濃度オゾン発生電極として要求される各種の性
能、即ち、ピンホールがないこと、絶縁耐力が５ｋＶ以
上であること、耐オゾン性が高いこと、耐放電スパッタ
性が高いこと、を満足できるからである。2. Description of the Related Art An enamel has conventionally been used as an insulating film formed on an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy for an ozone generating electrode. Because the enamel is completely inorganic and capable of forming a thick film up to 200 μm, various properties required for a high-concentration ozone generating electrode, that is, no pinhole, no insulation, This is because the proof stress is 5 kV or more, the ozone resistance is high, and the discharge sputter resistance is high.
【０００３】しかしながら、熱膨張の大きいアルミニウ
ムからなる電極板上に、高膜厚のほうろう皮膜を形成す
るためには、厳密な工程管理が必要であるので、それを
怠ると、忽ちに、ピンホールやコーナー割れなどの不良
が多量に発生してしまう恐れがあった。However, in order to form a high-thickness enamel film on an electrode plate made of aluminum having a large thermal expansion, strict process control is necessary. There was a possibility that a large amount of defects such as corner cracks would occur.
【０００４】ところで、無機質皮膜は、電気絶縁性だけ
でなく、耐薬品性、耐食性、耐候性、耐熱性、硬度など
の性能が、有機皮膜より優れている。そこで、種々の無
機質コーティング剤の開発が行われている。そして、無
機質皮膜を得る方法の１つとして、ゾルゲル法が知られ
ている。[0004] Incidentally, inorganic coatings are superior to organic coatings in performance such as chemical resistance, corrosion resistance, weather resistance, heat resistance and hardness as well as electrical insulation. Therefore, various inorganic coating agents have been developed. A sol-gel method is known as one of the methods for obtaining an inorganic film.
【０００５】しかしながら、ゾルゲル法では、完全無機
質の皮膜を成膜することはできるが、アルミニウム基板
に対しては１０μｍの膜厚が限界である。この程度の膜
厚では、高濃度オゾン発生電極の絶縁皮膜として要求さ
れる性能、例えば、ピンホールのないことや絶縁耐力が
５ｋＶ以上であることなどを満足させることができず、
しかも、大面積の電極への適用も困難である。[0005] However, in the sol-gel method, a completely inorganic film can be formed, but the film thickness of 10 µm is the limit for an aluminum substrate. At such a film thickness, the performance required as an insulating film of the high-concentration ozone generating electrode, for example, the absence of pinholes and the dielectric strength of 5 kV or more cannot be satisfied.
In addition, it is difficult to apply to a large area electrode.
【０００６】そこで、皮膜の、高膜厚化、更には靭性の
向上を目的として、金属酸化物ゾルの調製工程でアク
リル樹脂などの有機成分を混合する方法、金属酸化物
ゾルに添加剤として無機質粉末や無機ウィスカーを混合
する方法、が提案されている。Therefore, in order to increase the film thickness and further improve the toughness, a method of mixing an organic component such as an acrylic resin in the step of preparing the metal oxide sol, a method of adding an inorganic material to the metal oxide sol as an additive. A method of mixing powder and inorganic whiskers has been proposed.
【０００７】しかしながら、上記の方法で得た皮膜
は、当然ながら有機成分を含んでいるため、耐オゾン性
や耐放電スパッタ性が低く、高濃度オゾン発生電極の絶
縁皮膜としての使用に耐えない。However, since the film obtained by the above method naturally contains an organic component, it has low ozone resistance and discharge spatter resistance, and cannot be used as an insulating film for a high-concentration ozone generating electrode.
【０００８】上記の方法では、チタニヤ，シリカなど
の無機質粉末、炭酸カルシウム，窒化ケイ素などの無機
ウィスカーを用いることが知られている。しかしなが
ら、上記の無機質粉末を用いた場合、膜厚の増大は可能
であるが、それでも６０〜７０μｍが限界であった。ま
た、上記の無機ウィスカーを用いた場合には、無機質粉
末を用いる場合に比して靭性が向上し、１００μｍ程度
の膜厚を得ることができるが、金属酸化物ゾルに対する
ウィスカーの分散性や、ウィスカー表面と金属酸化物ゾ
ル中の無機成分との化学結合に、問題があるために、１
００μｍ以上の成膜は不可能であり、高濃度オゾン発生
電極の絶縁皮膜として要求される性能を得ることができ
ない。In the above method, it is known to use inorganic powders such as titania and silica, and inorganic whiskers such as calcium carbonate and silicon nitride. However, when the above inorganic powder is used, the film thickness can be increased, but the limit is still 60 to 70 μm. Further, when the above inorganic whiskers are used, the toughness is improved as compared with the case where the inorganic powder is used, and a film thickness of about 100 μm can be obtained. However, the dispersibility of the whiskers in the metal oxide sol, Due to a problem in the chemical bond between the whisker surface and the inorganic component in the metal oxide sol, 1
It is impossible to form a film having a thickness of 00 μm or more, and the performance required as an insulating film of a high-concentration ozone generating electrode cannot be obtained.
【０００９】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、オゾン発生電極の絶縁皮膜として、アルミニウ
ム又はアルミニウム合金からなる電極板上に、１００μ
ｍ以上の膜厚の無機質皮膜を得ることができる方法を提
供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has an effect that 100 μm is formed on an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy as an insulating film of an ozone generating electrode.
It is an object of the present invention to provide a method capable of obtaining an inorganic film having a thickness of at least m.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
オゾン発生電極の電極板上に絶縁皮膜を形成する方法に
おいて、チタン酸バリウムウィスカーを無機質金属酸化
物ゾルに混入させる、混入工程と、混入工程後の無機質
金属酸化物ゾルを、アルミニウム又はアルミニウム合金
からなる電極板上に塗布する、塗布工程と、塗布工程後
の無機質金属酸化物ゾルを熱処理して絶縁皮膜を形成す
る、熱処理工程と、を有することを特徴としている。According to the first aspect of the present invention,
In a method of forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode, mixing a barium titanate whisker into an inorganic metal oxide sol, a mixing step, and mixing the inorganic metal oxide sol after the mixing step with aluminum or an aluminum alloy. And a heat treatment step of heat-treating the inorganic metal oxide sol after the application step to form an insulating film.
【００１１】請求項２記載の発明は、オゾン発生電極の
電極板上に絶縁皮膜を形成する方法において、チタン酸
バリウム以外の酸化チタン系ウィスカーを、中和洗浄又
は沸騰水洗浄した後、含水率０．１〜５重量％まで乾燥
させる、前処理工程と、前処理工程後の酸化チタン系ウ
ィスカーを無機質金属酸化物ゾルに混入させる、混入工
程と、混入工程後の無機質金属酸化物ゾルを、アルミニ
ウム又はアルミニウム合金からなる電極板上に塗布す
る、塗布工程と、塗布工程後の無機質金属酸化物ゾルを
熱処理して絶縁皮膜を形成する、熱処理工程と、を有す
ることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode, wherein a titanium oxide-based whisker other than barium titanate is subjected to neutralization washing or boiling water washing and then to a water content A pretreatment step of drying to 0.1 to 5% by weight, a mixing step of mixing the titanium oxide whiskers after the pretreatment step with the inorganic metal oxide sol, and a mixing step of the inorganic metal oxide sol after the mixing step. The method is characterized by comprising a coating step of coating on an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy, and a heat treatment step of heat-treating the inorganic metal oxide sol after the coating step to form an insulating film.
【００１２】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、酸化チタン系ウィスカーが、酸化チタンウ
ィスカー又はチタン酸カリウムウィスカーであるもので
ある。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the titanium oxide-based whisker is a titanium oxide whisker or a potassium titanate whisker.
【００１３】請求項４記載の発明は、オゾン発生電極の
電極板上に絶縁皮膜を形成する方法において、酸化チタ
ン系ウィスカーを混入した無機質金属酸化物ゾルを塗布
する、主塗布工程と、ウィスカーを混入していない無機
質金属酸化物ゾルを最上層として塗布する、最終塗布工
程と、を少なくとも有し、主塗布工程及び最終塗布工程
を含む塗布工程によってアルミニウム又はアルミニウム
合金からなる電極板上に塗布された無機質金属酸化物ゾ
ルを、熱処理して複層絶縁皮膜を形成する、熱処理工程
と、を有することを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode, comprising: a main application step of applying an inorganic metal oxide sol mixed with titanium oxide whiskers; Coating a mixed inorganic metal oxide sol as an uppermost layer, a final coating step, at least having a coating step including a main coating step and a final coating step, the coating step being performed on an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy. Heat treatment of the inorganic metal oxide sol to form a multi-layer insulating film.
【００１４】請求項５記載の発明は、請求項４記載の発
明において、主塗布工程が、酸化チタン系ウィスカーを
混入した無機質金属酸化物ゾルを電極板上に塗布するも
のであり、最終塗布工程が、主塗布工程で得られた塗布
膜上に、ウィスカーを混入していない無機質金属酸化物
ゾルを塗布するものである。According to a fifth aspect of the present invention, in the invention of the fourth aspect, the main coating step is to apply an inorganic metal oxide sol mixed with titanium oxide whiskers onto the electrode plate, and the final coating step is performed. However, whisker-free inorganic metal oxide sol is applied onto the coating film obtained in the main coating step.
【００１５】請求項６記載の発明は、請求項４記載の発
明において、酸化チタン系ウィスカーが、酸化チタンウ
ィスカー、又はチタン酸カリウムウィスカー、又はチタ
ン酸バリウムウィスカーであるものである。According to a sixth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the titanium oxide-based whisker is a titanium oxide whisker, a potassium titanate whisker, or a barium titanate whisker.
【００１６】請求項７記載の発明は、請求項１、２、及
び４のいずれかに記載の発明において、無機質金属酸化
物ゾルが、式（Ｉ）のオルガノアルコキシシランの１種
又は２種以上の混合物の加水分解・縮合物であり、 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2）4-n …式（Ｉ） （Ｒ1は炭素数が１〜１０の有機基であり、Ｒ2は炭素数
が１〜５のアルキル基又は炭素数が１〜４のアシル基で
あり、ｎは０，１，２のいずれかである）又は、式（I
I）の金属アルコキシドの１種又は２種以上の混合物の
加水分解・縮合物であり、 Ｍ（ＯＲ3）4-n …式（II） （Ｍはチタン，ジルコニウム，アルミニウムのいずれか
であり、Ｒ3は炭素数が１〜４のアルキル基であり、ｎ
は、Ｍがチタン又はジルコニウムの場合は０、Ｍがアル
ミニウムの場合は１である）又は、式（Ｉ）のオルガノ
アルコキシシランの１種以上と式（II）の金属アルコキ
シドの１種以上との混合物の加水分解・縮合物であるも
のである。According to a seventh aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the inorganic metal oxide sol is one or more of the organoalkoxysilanes of the formula (I). R 1 n Si (OR 2 ) 4-n Formula (I) wherein R 1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms. Or an alkyl group having 5 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is any of 0, 1, 2) or a compound represented by the formula (I
A hydrolyzate / condensate of one or a mixture of two or more metal alkoxides of the formula (I); M (OR 3 ) 4-n ... (II) (where M is any of titanium, zirconium and aluminum; R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
Is 0 when M is titanium or zirconium, and 1 when M is aluminum) or a combination of one or more organoalkoxysilanes of the formula (I) and one or more metal alkoxides of the formula (II) It is a hydrolysis / condensate of the mixture.
【００１７】無機質金属酸化物ゾルとは、その無機質金
属酸化物ゾルを熱処理して得られる絶縁皮膜の主骨格が
金属−酸素結合のみからなるものをいい、無機質金属酸
化物ゾルを熱処理して得られる絶縁皮膜は、無機質皮膜
である。The inorganic metal oxide sol is one in which the main skeleton of the insulating film obtained by heat-treating the inorganic metal oxide sol consists of only metal-oxygen bonds, and is obtained by heat-treating the inorganic metal oxide sol. The insulating film to be obtained is an inorganic film.
【００１８】ウィスカーとしては、誘電率の高い酸化チ
タン系のものであって、径０．１〜２μｍ及び長さ５〜
３０μｍの大きさのものを用いることができる。The whiskers are made of titanium oxide having a high dielectric constant and have a diameter of 0.1 to 2 μm and a length of 5 to 5 μm.
One having a size of 30 μm can be used.
【００１９】ウィスカーの添加量は、金属酸化物ゾルに
対して、１〜５０重量％、特に、５〜２０重量％が好ま
しい。何故なら、添加量が１重量％未満の場合には、皮
膜に充分な靭性が得られず、高膜厚が不可能となり、５
０重量％より多いと、金属酸化物ゾルが高粘度となり、
塗布作業を行いにくくなり、膜厚のばらつきも生じやす
くなるからである。The amount of whisker added is preferably 1 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 20% by weight, based on the metal oxide sol. If the amount is less than 1% by weight, sufficient toughness cannot be obtained in the film, and a high film thickness cannot be obtained.
If it is more than 0% by weight, the metal oxide sol has a high viscosity,
This is because it is difficult to perform the coating operation, and the film thickness tends to vary.
【００２０】オルガノアルコキシシランの具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルト
リエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、
ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシランなどが挙げら
れる。これらの内、特に、トリエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシランを用いるのが好ましい。Specific examples of the organoalkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane,
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i-propyltrimethoxysilane,
Examples thereof include i-propyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane. Among these, it is particularly preferable to use triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane.
【００２１】金属アルコキシドの具体例としては、ｉ−
プロポキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアル
ミニウム、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウムな
どが挙げられる。Specific examples of the metal alkoxide include i-
Propoxyaluminum, tri-sec-butoxyaluminum, tetra-i-propoxytitanium, tetra-s
ec-butoxytitanium, tetramethoxyzirconium and the like.
【００２２】塗布方法としては、ウィスカーを混入した
金属酸化物ゾルを、エアースプレー、エアレススプレ
ー、ロールコーター、刷毛、ディッピングなどの手段に
より塗布する方法が一般的に用いられる。なお、塗布
は、目的の膜厚まで一気に行ってもよいが、一回塗布し
て１００℃以下の温度で乾燥した後に次の塗布を行うよ
うに、数回に分けて行ってもよい。最終の熱処理温度
は、１２０〜５００℃、特に、１６０〜２５０℃が好ま
しい。As a coating method, a method of applying a metal oxide sol mixed with whiskers by means of air spray, airless spray, roll coater, brush, dipping or the like is generally used. The application may be performed at a stretch until the target film thickness is reached, or may be applied in several steps such that the application is performed once, dried at a temperature of 100 ° C. or lower, and then the next application is performed. The final heat treatment temperature is preferably from 120 to 500C, particularly preferably from 160 to 250C.
【００２３】なお、金属酸化物ゾルには、カラー化、厚
膜化、又は絶縁性の向上を目的として、充填剤を添加し
てもよい。充填剤としては、粒子状、繊維状、又は鱗片
状の無機化合物が挙げられ、具体的には、シリカ，アル
ミナ，ジルコニア，チタニアなどの酸化物粉末（これら
にはアエロジル、アクアゾルなども含む）、炭化ケイ
素，炭化チタンなどの炭化物粉末、窒化ケイ素，窒化チ
タン，窒化アルミニウム，窒化ホウ素などの窒化物、カ
オリン，マイカなどの天然鉱物及び合成鉱物、アルミ
ナ，窒化ケイ素などのウィスカー、ガラス，セラミック
スの粉末，ウィスカー，フレークなどが挙げられる。こ
れらは、単独で又は混合して用いられる。充填剤の量
は、３０重量％以下が好ましく、酸化チタン系ウィスカ
ーと合わせて５０重量％以下とする必要がある。It is to be noted that a filler may be added to the metal oxide sol for the purpose of increasing the color, increasing the thickness, or improving the insulating property. Examples of the filler include particulate, fibrous, and flaky inorganic compounds. Specifically, oxide powders such as silica, alumina, zirconia, and titania (these include aerosil, aquasol, and the like), Carbide powders such as silicon carbide and titanium carbide; nitrides such as silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride and boron nitride; natural and synthetic minerals such as kaolin and mica; whiskers such as alumina and silicon nitride; powders of glass and ceramics , Whiskers, flakes and the like. These may be used alone or as a mixture. The amount of the filler is preferably 30% by weight or less, and needs to be 50% by weight or less together with the titanium oxide whisker.
【００２４】請求項１記載の発明においては、チタン酸
バリウムウィスカーを用いているので、ウィスカーによ
り塗膜の靭性が向上し、絶縁皮膜の高膜厚化が可能とな
る。また、チタン酸バリウムウィスカーは殆ど酸成分も
アルカリ成分も含まない中性であるので、絶縁皮膜の絶
縁性は向上する。更に、チタン酸バリウムウィスカーは
比誘電率が高いので、絶縁皮膜におけるオゾン発生効率
に影響する誘電率も向上する。According to the first aspect of the present invention, since barium titanate whiskers are used, the whiskers improve the toughness of the coating film and make it possible to increase the thickness of the insulating film. Further, the barium titanate whiskers are neutral, containing almost no acid component and no alkali component, so that the insulating properties of the insulating film are improved. Further, since the barium titanate whisker has a high relative dielectric constant, the dielectric constant affecting the ozone generation efficiency in the insulating film is also improved.
【００２５】金属酸化物ゾル中に酸成分やアルカリ成分
が含まれていると、ゾルゲル反応においてそれら成分が
局所的なゲル化を生じさせ、その結果、ウィスカーの分
散性が悪くなる恐れがあるが、請求項２記載の発明にお
いては、酸化チタン系ウィスカーが含んでいる酸成分や
アルカリ成分が、ウィスカーを、中和洗浄し、又は沸騰
水洗浄し、又は中和洗浄した後に沸騰水洗浄することに
よって消失するので、ウィスカーの分散性が向上する。
また、上記酸成分やアルカリ成分が絶縁皮膜中に残存す
ると、絶縁性が低下してしまうが、請求項２記載の発明
においては、上記酸成分やアルカリ成分が消失するため
に絶縁皮膜中に残存しないので、そのような絶縁性の低
下は生じない。更に、水分量はゾルゲル反応やウィスカ
ーの分散性に影響を及ぼすが、請求項２記載の発明にお
いては、ウィスカーの含水率が適正値に制御されている
ので、この点からも、ウィスカーの分散性が向上する。When an acid component or an alkali component is contained in the metal oxide sol, the components may cause local gelation in the sol-gel reaction, and as a result, the dispersibility of the whiskers may be deteriorated. In the invention according to claim 2, the acid component or the alkali component contained in the titanium oxide-based whisker may be subjected to neutralizing washing or boiling water washing of the whisker, or washing with boiling water after neutralizing washing. As a result, the dispersibility of the whiskers is improved.
In addition, if the acid component or the alkali component remains in the insulating film, the insulating property is reduced. However, in the invention according to claim 2, the acid component or the alkali component remains in the insulating film because the acid component or the alkali component disappears. Therefore, such a decrease in insulation does not occur. Further, the water content affects the sol-gel reaction and the dispersibility of the whiskers. In the invention according to claim 2, the water content of the whiskers is controlled to an appropriate value. Is improved.
【００２６】請求項３記載の発明においては、酸化チタ
ンウィスカーが含んでいる酸成分、チタン酸カリウムウ
ィスカーが含んでいるアルカリ成分が、中和洗浄又は沸
騰水洗浄によって消失する。なお、チタン酸バリウムウ
ィスカーについて、前処理工程を、即ち、中和洗浄又は
沸騰水洗浄、更には含水率調整を、行ってもよい。According to the third aspect of the present invention, the acid component contained in the titanium oxide whiskers and the alkali component contained in the potassium titanate whiskers disappear by neutralization washing or boiling water washing. Note that the barium titanate whisker may be subjected to a pretreatment step, that is, a neutralization washing or a boiling water washing, and further, a water content adjustment.
【００２７】絶縁皮膜中にウィスカーが含まれている
と、皮膜表面にウィスカーによる若干の凹凸ができてし
まい、オゾン発生の際の放電が不均一となり、オゾン発
生効率が低下してしまう恐れがあるが、請求項４記載の
発明においては、最上層としてウィスカーを含んでいな
い無機質金属酸化物ゾルを塗布するので、得られた絶縁
皮膜の表面は平滑なものとなり、オゾン発生効率は向上
する。なお、主塗布工程及び最終塗布工程以外に、酸化
チタン系ウィスカーを含んだ又は含まない無機質金属酸
化物ゾルを塗布してもよく、その無機質金属酸化物ゾル
には上述した充填剤を添加してもよい。If whiskers are contained in the insulating film, the surface of the film may have some irregularities due to the whiskers, causing non-uniform discharge at the time of ozone generation, which may reduce the ozone generation efficiency. However, in the invention according to claim 4, since the inorganic metal oxide sol containing no whisker is applied as the uppermost layer, the surface of the obtained insulating film becomes smooth and the ozone generation efficiency is improved. In addition, in addition to the main coating step and the final coating step, an inorganic metal oxide sol containing or not containing a titanium oxide whisker may be applied, and the inorganic metal oxide sol may be added with the filler described above. Is also good.
【００２８】請求項５記載の発明においては、二層絶縁
皮膜が得られる。According to the fifth aspect of the present invention, a two-layer insulating film is obtained.
【００２９】請求項６記載の発明においては、複層絶縁
皮膜が良好に得られる。According to the sixth aspect of the present invention, a multilayer insulating film can be favorably obtained.
【００３０】請求項７記載の発明においては、絶縁皮膜
を形成するためのゾルゲル反応が良好に進行する。In the present invention, the sol-gel reaction for forming the insulating film proceeds favorably.
【００３１】[0031]
【発明の実施の形態】（実施例１）テトラエトキシシラ
ン１０ｇと、メチルトリメトキシシラン２０ｇと、ジメ
チルジメトキシシラン７０ｇと、ｉ−プロポキシアルミ
ニウム１０ｇと、ｎ−ブタノール３０ｇと、水１０ｇと
で、金属酸化物ゾル１５０ｇを調製し、これに、平均繊
維径０．５〜１μｍ、平均繊維長５〜６μｍの、チタン
酸バリウムウィスカー１５ｇを混入した。即ち、混入工
程を行った。なお、金属酸化物ゾルに対するウィスカー
の添加量は１０重量％であった。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Example 1 10 g of tetraethoxysilane, 20 g of methyltrimethoxysilane, 70 g of dimethyldimethoxysilane, 10 g of i-propoxyaluminum, 30 g of n-butanol, and 10 g of water 150 g of oxide sol was prepared, and 15 g of barium titanate whisker having an average fiber diameter of 0.5 to 1 μm and an average fiber length of 5 to 6 μm was mixed therein. That is, the mixing step was performed. The amount of whisker added to the metal oxide sol was 10% by weight.
【００３２】次に、混入工程後の金属酸化物ゾルを、ア
セトンで脱脂したアルミニウム板（Ａ１１００Ｐ，３０
０×３００×４ｍｍ）上に、エアースプレーにより塗布
した。即ち、塗布工程を行った。塗布量は、熱処理後の
膜厚が１５０μｍとなる量に設定した。Next, the metal oxide sol after the mixing step was degreased with acetone to an aluminum plate (A1100P, 30).
0 × 300 × 4 mm) by air spray. That is, a coating process was performed. The amount of application was set so that the film thickness after the heat treatment became 150 μm.
【００３３】そして、塗布工程で得られた塗布膜を、１
８０℃で３０分間熱処理した。即ち、熱処理工程を行っ
た。こうして、白色で１５０μｍの膜厚の絶縁皮膜が得
られた。この絶縁皮膜は、クラックや剥離などの無い良
好なものであった。Then, the coating film obtained in the coating step is
Heat treatment was performed at 80 ° C. for 30 minutes. That is, a heat treatment step was performed. Thus, a white insulating film having a thickness of 150 μm was obtained. This insulating film was good without cracking or peeling.
【００３４】（比較例１）チタン酸バリウムウィスカー
を添加しない点以外は、実施例１と同様にして、絶縁皮
膜を形成した。但し、膜厚は、５０μｍ、１００μｍ、
１５０μｍとなるようにした。Comparative Example 1 An insulating film was formed in the same manner as in Example 1 except that barium titanate whiskers were not added. However, the film thickness is 50 μm, 100 μm,
The thickness was set to 150 μm.
【００３５】１００μｍの膜厚の絶縁皮膜ではクラック
が生じ、１５０μｍの膜厚の絶縁皮膜ではコーナー部に
おいて剥離が生じたが、５０μｍの膜厚の絶縁皮膜は、
透明で、クラックや剥離などの無い良好なものであっ
た。Cracks occurred in an insulating film having a thickness of 100 μm, and peeling occurred in a corner portion in an insulating film having a thickness of 150 μm.
It was transparent and free of cracks and peeling.
【００３６】（実施例２）平均繊維径０．３〜０．６μ
ｍ、平均繊維長１０〜２０μｍの、チタン酸カリウムウ
ィスカーを、沸騰させた純水に１時間懸濁させた後、含
水率１．０重量％まで乾燥させた。即ち、前処理工程を
行った。Example 2 Average fiber diameter: 0.3 to 0.6 μm
m, and a potassium titanate whisker having an average fiber length of 10 to 20 μm was suspended in boiling pure water for 1 hour, and then dried to a water content of 1.0% by weight. That is, a pretreatment step was performed.
【００３７】次に、テトラエトキシシラン１０ｇと、メ
チルトリメトキシシラン２０ｇと、ジメチルジメトキシ
シラン７０ｇと、ｉ−プロポキシアルミニウム５ｇと、
テトラメトキシジルコニウム５ｇと、イソプロパノール
３０ｇと、水１０ｇとから調製した金属酸化物ゾル１５
０ｇに、上記前処理工程後のチタン酸カリウムウィスカ
ー７５ｇを混入した。即ち、混入工程を行った。なお、
金属酸化物ゾルに対するウィスカーの添加量は５０重量
％であった。Next, 10 g of tetraethoxysilane, 20 g of methyltrimethoxysilane, 70 g of dimethyldimethoxysilane, 5 g of i-propoxyaluminum,
Metal oxide sol 15 prepared from 5 g of tetramethoxyzirconium, 30 g of isopropanol, and 10 g of water
To 0 g, 75 g of potassium titanate whisker after the above pretreatment step was mixed. That is, the mixing step was performed. In addition,
The amount of whisker added to the metal oxide sol was 50% by weight.
【００３８】次に、混入工程後の金属酸化物ゾルを、ア
セトンで脱脂したアルミニウム板（Ａ５０５２Ｐ，５０
０×５００×４ｍｍ）上に、エアースプレーにより塗布
した。即ち、塗布工程を行った。塗布量は、熱処理後の
膜厚が２５０μｍとなる量に設定した。Next, the metal oxide sol after the mixing step is degreased with acetone to an aluminum plate (A5052P, 50).
0 × 500 × 4 mm) by air spray. That is, a coating process was performed. The amount of application was set so that the film thickness after the heat treatment became 250 μm.
【００３９】そして、塗布工程で得られた塗布膜を、２
００℃で４０分間熱処理した。即ち、熱処理工程を行っ
た。こうして、白色で２５０μｍの膜厚の絶縁皮膜が得
られた。この絶縁皮膜は、クラックや剥離などの無い良
好なものであった。Then, the coating film obtained in the coating step is
Heat treatment was performed at 00 ° C. for 40 minutes. That is, a heat treatment step was performed. Thus, a white insulating film having a thickness of 250 μm was obtained. This insulating film was good without cracking or peeling.
【００４０】（実施例３）前処理工程において含水率
０．１重量％まで乾燥させた点以外は、実施例２と同様
にして、絶縁皮膜を形成した。Example 3 An insulating film was formed in the same manner as in Example 2 except that the water content was dried to 0.1% by weight in the pretreatment step.
【００４１】（実施例４）前処理工程において含水率
５．０重量％まで乾燥させた点以外は、実施例２と同様
にして、絶縁皮膜を形成した。Example 4 An insulating film was formed in the same manner as in Example 2 except that the water content was dried to 5.0% by weight in the pretreatment step.
【００４２】（比較例２）チタン酸カリウムウィスカー
の前処理を行わない点以外は、実施例２と同様にして、
絶縁皮膜を形成した。絶縁皮膜は、白色で２５０μｍの
膜厚を有し、クラックや剥離などの無い良好なものであ
った。Comparative Example 2 The procedure of Example 2 was repeated except that the pretreatment of the potassium titanate whisker was not performed.
An insulating film was formed. The insulating film was white, had a thickness of 250 μm, and was free from cracks and peeling.
【００４３】（実施例５）平均繊維径０．１〜１μｍ、
平均繊維長１０〜２０μｍの、酸化チタンウィスカー
を、純水に懸濁させ、希アンモニア水で中和し、次い
で、沸騰させた純水に１時間懸濁させた後、含水率０．
５重量％まで乾燥させた。即ち、前処理工程を行った。Example 5 Average fiber diameter: 0.1 to 1 μm
Titanium oxide whiskers having an average fiber length of 10 to 20 μm are suspended in pure water, neutralized with dilute aqueous ammonia, and then suspended in boiling pure water for 1 hour.
Dried to 5% by weight. That is, a pretreatment step was performed.
【００４４】次に、金属酸化物ゾルとして市販されてい
るセラミックコーティング剤（株式会社日板研究所製、
商品番号「Ｇ−９２−５」）２００ｇに、上記前処理工
程後の酸化チタンウィスカー１０ｇを混入した。即ち、
混入工程を行った。なお、金属酸化物ゾルに対するウィ
スカーの添加量は５重量％であった。Next, a ceramic coating agent commercially available as a metal oxide sol (manufactured by Nippon Laboratories, Inc.
200 g of product number "G-92-5") was mixed with 10 g of titanium oxide whiskers after the pretreatment step. That is,
A mixing step was performed. The amount of whisker added to the metal oxide sol was 5% by weight.
【００４５】次に、混入工程後の金属酸化物ゾルを、ブ
ラスト処理したアルミニウム板（Ａ３００３Ｓ，２４０
×１６０×１０ｍｍ）上に、エアースプレーにより塗布
した。即ち、主塗布工程を行った。塗布量は、熱処理後
の膜厚が１８０μｍとなる量に設定した。Next, the metal oxide sol after the mixing step was blasted with an aluminum plate (A3003S, 240
× 160 × 10 mm) by air spray. That is, the main coating step was performed. The amount of application was set so that the film thickness after heat treatment became 180 μm.
【００４６】次に、主塗布工程で得られた塗布膜上に、
ウィスカーを混入していない上記セラミックコーティン
グ剤を、エアースプレーにより塗布した。即ち、最終塗
布工程を行った。塗布量は、熱処理後の、上記塗布膜と
合わせた総膜厚が２００μｍとなる量に設定した。Next, on the coating film obtained in the main coating step,
The above ceramic coating agent without whisker was applied by air spray. That is, the final coating step was performed. The coating amount was set so that the total film thickness combined with the coating film after heat treatment was 200 μm.
【００４７】そして、主塗布工程及び最終塗布工程で得
られた塗布膜を、２００℃で３０分間熱処理した。即
ち、熱処理工程を行った。こうして、白色で２００μｍ
の膜厚の絶縁皮膜が得られた。この絶縁皮膜は、クラッ
クや剥離などの無い良好なものであった。Then, the coating film obtained in the main coating step and the final coating step was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes. That is, a heat treatment step was performed. Thus, 200 μm in white
An insulating film having the following film thickness was obtained. This insulating film was good without cracking or peeling.
【００４８】（比較例３）最終塗布工程を行わない点及
び主塗布工程で膜厚が２００μｍとなるようにした点以
外は、実施例５と同様にして、絶縁皮膜を形成した。絶
縁皮膜は、白色で２００μｍの膜厚を有し、クラックや
剥離などの無い良好なものであった。Comparative Example 3 An insulating film was formed in the same manner as in Example 5, except that the final coating step was not performed and the main coating step was performed so that the film thickness became 200 μm. The insulating film was white, had a thickness of 200 μm, and was free of cracks and peeling.
【００４９】（実施例６）実施例５と同じ前処理工程を
行った。Example 6 The same pretreatment step as in Example 5 was performed.
【００５０】実施例５と同じ混入工程を行った。The same mixing process as in Example 5 was performed.
【００５１】実施例５と同じ主塗布工程を行った。但
し、塗布量は、熱処理後の膜厚が１６０μｍとなる量に
設定した。The same main coating process as in Example 5 was performed. However, the coating amount was set to an amount such that the film thickness after the heat treatment became 160 μm.
【００５２】一方、金属酸化物ゾルとして市販されてい
るセラミックコーティング剤（株式会社日板研究所製、
商品番号「Ｇ−９２−５」）２００ｇに、市販されてい
る合成雲母（コープケミカル株式会社製、商品番号「Ｍ
Ｋ−２００」）１０ｇを充填剤として混入した。なお、
金属酸化物ゾルに対する合成雲母の添加量は５重量％で
あった。そして、この充填剤が混入された金属酸化物ゾ
ルを、主塗布工程で得られた塗布膜上に、エアースプレ
ーにより塗布した。即ち、中間の塗布工程を行った。塗
布量は、熱処理後の、上記塗布膜と合わせた総膜厚が１
８０μｍとなる量に設定した。On the other hand, a ceramic coating agent commercially available as a metal oxide sol (manufactured by Nippon R & D Co., Ltd.
A commercially available synthetic mica (manufactured by Corp Chemical Co., Ltd., product number "M") was added to 200 g of product number "G-92-5".
K-200 ") as a filler. In addition,
The amount of synthetic mica added to the metal oxide sol was 5% by weight. Then, the metal oxide sol in which the filler was mixed was applied on the coating film obtained in the main coating step by air spray. That is, an intermediate coating process was performed. The amount of the coating is such that the total film thickness including the above-mentioned coating film after the heat treatment is 1
The amount was set to 80 μm.
【００５３】次に、中間の上記塗布工程で得られた塗布
膜上に、ウィスカー及び充填剤を混入していない上記セ
ラミックコーティング剤を、エアースプレーにより塗布
した。即ち、最終塗布工程を行った。塗布量は、熱処理
後の、上記塗布膜と合わせた総膜厚が２００μｍとなる
量に設定した。Next, the ceramic coating agent containing no whisker and filler was applied by air spray onto the coating film obtained in the intermediate coating step. That is, the final coating step was performed. The coating amount was set so that the total film thickness combined with the coating film after heat treatment was 200 μm.
【００５４】そして、主塗布工程、中間の塗布工程、及
び最終塗布工程で得られた塗布膜を、２００℃で３０分
間熱処理した。即ち、熱処理工程を行った。こうして、
白色で２００μｍの膜厚の絶縁皮膜が得られた。この絶
縁皮膜は、クラックや剥離などの無い良好なものであっ
た。Then, the coating film obtained in the main coating step, the intermediate coating step, and the final coating step was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes. That is, a heat treatment step was performed. Thus,
A white insulating film having a thickness of 200 μm was obtained. This insulating film was good without cracking or peeling.
【００５５】（性能試験）実施例１〜６及び比較例１〜
３において得られた絶縁皮膜について、各種の性能試験
を行った。 ・密着性…ＪＩＳ Ｋ−５４００の碁盤目付着性試験に
準拠した。 ・硬度…ＪＩＳ Ｋ−５４００の鉛筆引っかき試験に準
拠した。 ・耐衝撃性…ＪＩＳ Ｋ−５４００のデュポン式耐衝撃
試験に準拠した。 ・耐熱衝撃性…試験片を３００℃で３０分間加熱した
後、２０℃の水に浸漬する方法で行った。 ・ピンホール試験…「ホリスターＴＹＰＥ１」（株式会
社サンコウ電子研究所製）を用いて、印加設定電圧９ｋ
Ｖで行った。 ・絶縁耐力…「低域耐電圧試験器ＴＯＳ８７００」（菊
水電子工業株式会社製）を用いて行った。 ・オゾン発生試験…「オゾン発生装置ＩＯＺ−２０」
（石川島播磨重工業株式会社製）に試験片を取り付け、
反応面積０．１２ｍ2の下で、オゾン発生量を測定し
た。 試験結果は表１に示す通りとなった。(Performance Test) Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to
Various performance tests were performed on the insulating film obtained in No. 3. Adhesion: Adhered to the grid adhesion test of JIS K-5400. Hardness: conformed to the pencil scratch test of JIS K-5400. -Impact resistance: conformed to the JIS K-5400 Dupont impact resistance test. -Thermal shock resistance: The test piece was heated at 300 ° C for 30 minutes and then immersed in water at 20 ° C.・ Pinhole test: Using “Holister TYPE 1” (manufactured by Sanko Electronics Research Laboratories), applied voltage 9 k
V. -Dielectric strength: Performed using "Low range withstand voltage tester TOS8700" (manufactured by Kikusui Electronics Corporation).・ Ozone generation test: "Ozone generator IOZ-20"
(Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd.)
The amount of ozone generated was measured under a reaction area of 0.12 m 2 . The test results were as shown in Table 1.
【００５６】[0056]
【表１】 [Table 1]
【００５７】比較例１では、ピンホールが生じており、
絶縁耐力も小さかった。比較例２では、絶縁耐力が小さ
かった。実施例５と比較例３とのオゾン発生量を比較し
たところ、実施例５の方が約１２％発生量が多かった。
実施例６は実施例５に比して絶縁耐力が若干大きかっ
た。In Comparative Example 1, a pinhole was formed.
The dielectric strength was also small. In Comparative Example 2, the dielectric strength was small. When the amount of generated ozone was compared between Example 5 and Comparative Example 3, the amount of generated ozone in Example 5 was about 12% larger.
Example 6 had a slightly higher dielectric strength than Example 5.
【００５８】[0058]
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、１００μ
ｍ以上の高膜厚の無機質絶縁皮膜を得ることができ、し
かも、皮膜の絶縁性を向上でき、更には、皮膜の誘電率
も向上できる。According to the first aspect of the present invention, 100 μm
m or more, an inorganic insulating film having a high film thickness of at least m can be obtained, the insulating property of the film can be improved, and the dielectric constant of the film can be improved.
【００５９】請求項２記載の発明によれば、ウィスカー
の分散性を向上して、１００μｍ以上の高膜厚の無機質
絶縁皮膜を得ることができ、しかも、皮膜の絶縁性も向
上できる。According to the second aspect of the present invention, the dispersibility of the whiskers can be improved, and an inorganic insulating film having a high film thickness of 100 μm or more can be obtained, and the insulating property of the film can be improved.
【００６０】請求項３記載の発明によれば、酸化チタン
ウィスカーが含んでいる酸成分や、チタン酸カリウムウ
ィスカーが含んでいるアルカリ成分を、消失させること
ができ、ウィスカーの分散性を向上できる。According to the third aspect of the present invention, the acid component contained in the titanium oxide whiskers and the alkali component contained in the potassium titanate whiskers can be eliminated, and the dispersibility of the whiskers can be improved.
【００６１】請求項４記載の発明によれば、表面が平滑
な絶縁皮膜を得ることができ、従って、オゾン発生効率
を向上できる。According to the fourth aspect of the present invention, an insulating film having a smooth surface can be obtained, and thus the ozone generation efficiency can be improved.
【００６２】請求項５記載の発明によれば、二層絶縁皮
膜を得ることができる。According to the invention described in claim 5, a two-layer insulating film can be obtained.
【００６３】請求項６記載の発明によれば、複層絶縁皮
膜を良好に得ることができる。According to the sixth aspect of the present invention, a multilayer insulating film can be favorably obtained.
【００６４】請求項７記載の発明によれば、ゾルゲル反
応を良好に進行させて良好な絶縁皮膜を得ることができ
る。According to the seventh aspect of the present invention, a good insulating film can be obtained by satisfactorily progressing the sol-gel reaction.
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０１Ｂ 33/12 Ｃ０１Ｂ 33/12 Ｚ Ｃ０１Ｇ 23/00 Ｃ０１Ｇ 23/00 Ｂ 23/04 23/04 Ｚ (72)発明者 舟ヶ崎 貴士 大阪府大阪市淀川区三国本町３丁目９番39 号 株式会社日本アルミ内 Ｆターム(参考） 4G042 CA01 CC05 CC21 DA01 DA02 DB11 DC03 DD02 DE09 DE13 4G047 CA02 CA05 CA06 CA07 CC03 CD05 4G072 AA25 AA35 AA36 AA37 AA38 BB09 FF04 GG02 HH28 HH29 HH30 JJ46 RR05 RR12 TT30 UU01 UU30 4K022 AA02 AA41 BA02 BA15 BA20 BA22 BA26 BA33 BA36 DA06 DB01 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) // C01B 33/12 C01B 33/12 Z C01G 23/00 C01G 23/00 B 23/04 23/04 Z (72) Inventor Takashi Funagasaki 3-9-39 Mikunihonmachi, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka F-term in Japan Aluminum Co., Ltd. 4G042 CA01 CC05 CC21 DA01 DA02 DB11 DC03 DD02 DE09 DE13 4G047 CA02 CA05 CA06 CA07 CC03 CD05 4G072 AA25 AA35 AA36 AA37 AA38 BB09 FF04 GG02 HH28 HH29 HH30 JJ46 RR05 RR12 TT30 UU01 UU30 4K022 AA02 AA41 BA02 BA15 BA20 BA22 BA26 BA33 BA36 DA06 DB01
Claims (7)
形成する方法において、 チタン酸バリウムウィスカーを無機質金属酸化物ゾルに
混入させる、混入工程と、 混入工程後の無機質金属酸化物ゾルを、アルミニウム又
はアルミニウム合金からなる電極板上に塗布する、塗布
工程と、 塗布工程後の無機質金属酸化物ゾルを熱処理して絶縁皮
膜を形成する、熱処理工程と、を有することを特徴とす
るオゾン発生電極用絶縁皮膜の形成方法。1. A method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode, comprising: mixing a barium titanate whisker into an inorganic metal oxide sol; and mixing the inorganic metal oxide sol after the mixing step with: An ozone generating electrode comprising: a coating step of coating an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy; and a heat treatment step of heat-treating the inorganic metal oxide sol after the coating step to form an insulating film. Method of forming insulating film for use.
形成する方法において、 チタン酸バリウム以外の酸化チタン系ウィスカーを、中
和洗浄又は沸騰水洗浄した後、含水率０．１〜５重量％
まで乾燥させる、前処理工程と、 前処理工程後の酸化チタン系ウィスカーを無機質金属酸
化物ゾルに混入させる、混入工程と、 混入工程後の無機質金属酸化物ゾルを、アルミニウム又
はアルミニウム合金からなる電極板上に塗布する、塗布
工程と、 塗布工程後の無機質金属酸化物ゾルを熱処理して絶縁皮
膜を形成する、熱処理工程と、を有することを特徴とす
るオゾン発生電極用絶縁皮膜の形成方法。2. A method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generating electrode, wherein a titanium oxide whisker other than barium titanate is subjected to neutralization washing or boiling water washing, and then to a water content of 0.1 to 5% by weight. %
An electrode made of aluminum or an aluminum alloy, in which the titanium oxide-based whisker after the pretreatment step is mixed with the inorganic metal oxide sol, and the inorganic metal oxide sol after the mixing step is dried. A method of forming an insulating film for an ozone generating electrode, comprising: a step of applying a coating on a plate; and a heat treatment step of heat-treating the inorganic metal oxide sol after the applying step to form an insulating film.
ウィスカー又はチタン酸カリウムウィスカーである請求
項２記載のオゾン発生電極用絶縁皮膜の形成方法。3. The method according to claim 2, wherein the titanium oxide whisker is a titanium oxide whisker or a potassium titanate whisker.
形成する方法において、 酸化チタン系ウィスカーを混入した無機質金属酸化物ゾ
ルを塗布する、主塗布工程と、 ウィスカーを混入していない無機質金属酸化物ゾルを最
上層として塗布する、最終塗布工程と、を少なくとも有
し、 主塗布工程及び最終塗布工程を含む塗布工程によってア
ルミニウム又はアルミニウム合金からなる電極板上に塗
布された無機質金属酸化物ゾルを、熱処理して複層絶縁
皮膜を形成する、熱処理工程と、を有することを特徴と
するオゾン発生電極用絶縁皮膜の形成方法。4. A method for forming an insulating film on an electrode plate of an ozone generation electrode, comprising: a main application step of applying an inorganic metal oxide sol mixed with a titanium oxide whisker; and an inorganic metal not mixed with a whisker. An inorganic metal oxide sol applied on an electrode plate made of aluminum or an aluminum alloy by an application step including a main application step and a final application step; A heat treatment step of forming a multilayer insulating film by heat-treating the insulating film.
を混入した無機質金属酸化物ゾルを電極板上に塗布する
ものであり、 最終塗布工程が、主塗布工程で得られた塗布膜上に、ウ
ィスカーを混入していない無機質金属酸化物ゾルを塗布
するものである、請求項４記載のオゾン発生電極用絶縁
皮膜の形成方法。5. The main coating step is to coat an inorganic metal oxide sol mixed with titanium oxide whiskers on the electrode plate, and the final coating step is to coat the coating film obtained in the main coating step with: The method for forming an insulating film for an ozone generating electrode according to claim 4, wherein an inorganic metal oxide sol containing no whiskers is applied.
ウィスカー、又はチタン酸カリウムウィスカー、又はチ
タン酸バリウムウィスカーである請求項４記載のオゾン
発生電極用絶縁皮膜の形成方法。6. The method according to claim 4, wherein the titanium oxide whisker is a titanium oxide whisker, a potassium titanate whisker, or a barium titanate whisker.
ルガノアルコキシシランの１種又は２種以上の混合物の
加水分解・縮合物であり、 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2）4-n …式（Ｉ） （Ｒ1は炭素数が１〜１０の有機基であり、Ｒ2は炭素数
が１〜５のアルキル基又は炭素数が１〜４のアシル基で
あり、ｎは０，１，２のいずれかである） 又は、式（II）の金属アルコキシドの１種又は２種以上
の混合物の加水分解・縮合物であり、 Ｍ（ＯＲ3）4-n …式（II） （Ｍはチタン，ジルコニウム，アルミニウムのいずれか
であり、Ｒ3は炭素数が１〜４のアルキル基であり、ｎ
は、Ｍがチタン又はジルコニウムの場合は０、Ｍがアル
ミニウムの場合は１である）又は、式（Ｉ）のオルガノ
アルコキシシランの１種以上と式（II）の金属アルコキ
シドの１種以上との混合物の加水分解・縮合物である請
求項１、２、及び４のいずれかに記載のオゾン発生電極
用絶縁皮膜の形成方法。7. The inorganic metal oxide sol is a hydrolyzate / condensate of one or a mixture of two or more organoalkoxysilanes of the formula (I), wherein R 1 n Si (OR 2 ) 4-n . Formula (I) (R 1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is 0, 1 , 2) or a hydrolysis / condensate of one or a mixture of two or more metal alkoxides of the formula (II), and M (OR 3 ) 4-n . Is any of titanium, zirconium and aluminum; R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
Is 0 when M is titanium or zirconium, and 1 when M is aluminum) or a combination of one or more organoalkoxysilanes of the formula (I) and one or more metal alkoxides of the formula (II) 5. The method for forming an insulating film for an ozone generating electrode according to claim 1, wherein the method is a hydrolysis / condensate of a mixture.
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|---|---|---|---|
| JP2000361063A JP2002167202A (en) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | Insulation film forming method for ozone generating electrode |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225738A (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing metal oxide film and apparatus for producing metal oxide film |
| KR101001441B1 (en) | 2004-08-17 | 2010-12-14 | 삼성전자주식회사 | Organic-Inorganic Metal Hybrid Material and Organic Insulator Composition Comprising the Same |
-
2000
- 2000-11-28 JP JP2000361063A patent/JP2002167202A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101001441B1 (en) | 2004-08-17 | 2010-12-14 | 삼성전자주식회사 | Organic-Inorganic Metal Hybrid Material and Organic Insulator Composition Comprising the Same |
| JP2006225738A (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing metal oxide film and apparatus for producing metal oxide film |
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