JP2002133732A - Optical information recording medium and manufacturing method for optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium and manufacturing method for optical information recording medium

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JP2002133732A
JP2002133732A JP2000319669A JP2000319669A JP2002133732A JP 2002133732 A JP2002133732 A JP 2002133732A JP 2000319669 A JP2000319669 A JP 2000319669A JP 2000319669 A JP2000319669 A JP 2000319669A JP 2002133732 A JP2002133732 A JP 2002133732A
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optical information
recording medium
information recording
layer
substrate
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JP2000319669A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasutomo Aman
康知 阿萬
Katsunari Hanaoka
克成 花岡
Kiyoto Shibata
清人 柴田
Masaru Magai
勝 真貝
Yuji Miura
裕司 三浦
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium and a manufacturing method for the optical information recording medium with easy initialization or needing no initialization by crystallizing a recording layer or providing it in a mixed state of a crystal state and an amorphous state at a manufacturing stage. SOLUTION: A substrate of this optical information recording medium carried in from a substrate carrying in/out chamber of an optical information recording medium manufacturing device 1 is held by a substrate holder 10, it is conveyed sequentially through underlying protective layer forming chambers 3 and 4, a dry etching chamber 5, a recording layer forming chamber 6, an overlying protective layer forming chamber 7, and reflective layer forming chambers 8 and 9 using a telescopic arm 11 and a rotary shaft 12, and an underlying protective layer, the recording layer, an overlying protective layer and a reflective layer are formed on the substrate. The underlying layer formed before the rerecording layer is temporarily formed a predetermined thickness thicker than a desired thickness and then it is removed by dry etching and formed in the desired thickness. Accordingly, the recording layer can be crystallized or provided in the mixed state of the crystal state and the amorphous state at a film forming stage and the optical information recording medium with easy initialization or needing no initialization can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体及
び光情報記録媒体の製造方法に関し、詳細には、相変化
材料を用いた光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造
方法に関する。The present invention relates to an optical information recording medium and a method for manufacturing an optical information recording medium, and more particularly, to an optical information recording medium using a phase change material and a method for manufacturing an optical information recording medium.

【０００２】[0002]

【従来の技術】相変化材料からなる記録層を備えた光情
報記録媒体は、サブミクロンオーダーの光スポットに集
光したレーザビームが微小時間照射されて、微小な照射
部が局部的に所定の温度に加熱されると、照射部に原子
結合状態の変化が生じる。照射部は、結晶化温度以上に
上昇すると、結晶状態に転換し、融点以上に温度上昇す
ると、アモルファス化する。2. Description of the Related Art An optical information recording medium having a recording layer made of a phase-change material is irradiated with a laser beam focused on a submicron-order light spot for a short period of time. When heated to a temperature, a change in the state of atomic bonding occurs in the irradiated part. When the temperature rises above the crystallization temperature, the irradiated part changes to a crystalline state, and when the temperature rises above the melting point, it becomes amorphous.

【０００３】したがって、相変化材料からなる記録層を
備えた光情報記録媒体は、このようなアモルファス相、
結晶相のいずれかを記録状態、消去状態（未記録状態）
と設定することで、可逆的な情報の記録及び消去を行う
ことができ、また、このような記録層は、アモルファス
相と結晶相とで光学的な特性が異なるため、この特性差
を光学的に検出することで信号の検出（再生）を行うこ
とができる。なお、記録層の相変化を情報の記録に利用
する光情報記録媒体としては、アモルファス相−結晶相
間の相変化を利用するものだけでなく、結晶状態の高温
相と低温相の相変化を利用するものがある。この場合
に、高温相をアモルファス相、低温相を結晶相として、
上記アモルファス相と結晶相の場合と同様に取り扱うこ
とができる。[0003] Therefore, an optical information recording medium having a recording layer made of a phase-change material has such an amorphous phase,
Either the crystal phase is recorded or erased (unrecorded)
By setting, reversible information recording and erasing can be performed, and since such a recording layer has different optical characteristics between the amorphous phase and the crystalline phase, the difference in the characteristics is , The signal can be detected (reproduced). Optical information recording media that use the phase change of the recording layer for information recording use not only a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase but also a phase change between a high temperature phase and a low temperature phase in a crystalline state. There is something to do. In this case, the high-temperature phase is an amorphous phase, and the low-temperature phase is a crystalline phase.
It can be handled in the same manner as in the case of the amorphous phase and the crystalline phase.

【０００４】そして、記録層のアモルファス相と結晶相
の相変化を利用した光情報記録媒体では、通常、記録方
向を結晶相からアモルファス相への相変化としているた
め、情報の記録を行う前提として、記録層を予め結晶状
態に転換する、いわゆる初期化を行う必要がある。In an optical information recording medium using a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase of a recording layer, the recording direction is usually a phase change from a crystalline phase to an amorphous phase. It is necessary to perform a so-called initialization in which the recording layer is converted to a crystalline state in advance.

【０００５】この初期化の方法としては、従来、一般
に、大出力のレーザービームを光情報記録媒体の記録層
に逐次照射することで、結晶化させる方法が採用されて
いる。ところが、この初期化方法にあっては、初期化そ
のものに長時間を要し、生産性が悪いという問題があっ
た。Conventionally, as a method of the initialization, a method of crystallizing the recording layer of the optical information recording medium by sequentially irradiating the recording layer of the optical information recording medium with a high output laser beam has been generally adopted. However, this initialization method has a problem that the initialization itself takes a long time and productivity is poor.

【０００６】そこで、従来、高出力のフラッシュランプ
を用いて、記録層を一括して結晶化させて、初期化を短
時間に行う方法が提案されている（特開昭６３−２６１
５５３号公報等参照）。Therefore, there has been proposed a method of initializing the recording layer in a short time by crystallizing the recording layer at a time using a high-power flash lamp (Japanese Patent Laid-Open No. 63-261).
553).

【０００７】ところが、フラッシュランプを使用した初
期化方法にあっては、上記レーザービームを用いた初期
化方法に比較して、記録層を完全に結晶化することが難
しく、また、記録層の結晶化状態を均一にするのに必要
なエネルギーを与えることが非常に困難であることが実
験的に知られている。However, in the initialization method using a flash lamp, it is more difficult to completely crystallize the recording layer than in the initialization method using a laser beam. It is experimentally known that it is very difficult to provide the energy required to make the state of formation uniform.

【０００８】そこで、従来、結晶−アモルファス間の相
変化を生じる記録薄膜層を基板上に備えた光学的情報記
録媒体にフラッシュ光を照射し、上記記録薄膜の所定の
部分を一括して初期化状態である結晶状態に転換する方
法であって、上記光学的情報記録媒体を所定の位置に支
持する工程と、フラッシュ光源に供給する電気エネルギ
ーを蓄積回路部に充電する工程と、上記フラッシュ光源
にトリガをかけて発光を開始させる工程と、上記発光を
所定の時間継続させた後、上記フラッシュ光源に接続さ
れた遮断回路部を作動させ、上記放電を強制的に瞬時に
終了させて発光強度を実質的にゼロレベルまで降下させ
る工程とを備えている光学的情報記録媒体の初期化方法
が提案されている（特開平８−１５３３４３号公報参
照）。Therefore, conventionally, a flash light is applied to an optical information recording medium having a recording thin film layer on which a phase change between crystal and amorphous occurs on a substrate, and a predetermined portion of the recording thin film is collectively initialized. A method of converting the optical information recording medium to a predetermined state, a step of supporting the optical information recording medium at a predetermined position, a step of charging an electric energy supplied to a flash light source to a storage circuit unit, and a step of: A step of starting light emission by applying a trigger, and after continuing the light emission for a predetermined time, actuating a cut-off circuit unit connected to the flash light source, forcibly terminating the discharge instantaneously and reducing the light emission intensity. There has been proposed a method of initializing an optical information recording medium having a step of lowering to substantially zero level (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-153343).

【０００９】すなわち、この光学的情報記録媒体の初期
化方法は、フラッシュ光源の出力を精密に制御して、記
録層の結晶化状態を均一かつ完全に行おうとしている。In other words, this method for initializing an optical information recording medium attempts to precisely and precisely control the output of the flash light source so that the crystallization state of the recording layer is uniform and complete.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平８−１５３３４３号公報記載の初期化方法にあって
は、光情報記録媒体の記録層を均一に結晶化するために
は、装置が大掛かりになり、また、均一性を求めると、
初期化に長時間を必要とするという問題がある。さら
に、上記従来の初期化方法にあっては、短時間で結晶化
しようとすると、大きなエネルギーを短時間に付与する
必要があるため、光情報記録媒体の基板の変形や記録層
のクラックによる破壊を引き起こすおそれがある。すな
わち、ＤＶＤのように０．６ｍｍと薄い基板を使用した
光情報記録媒体において、基板の変形が顕著になり、い
かに基板に変形を生じさせることなく、光情報記録媒体
を初期化するかが重要な課題となっている。However, in the initialization method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-153343, a large-scale apparatus is required to uniformly crystallize the recording layer of the optical information recording medium. And when seeking uniformity,
There is a problem that a long time is required for initialization. Furthermore, in the above-mentioned conventional initialization method, when attempting to crystallize in a short time, it is necessary to apply a large amount of energy in a short time, so that the substrate of the optical information recording medium is deformed or the recording layer is broken by cracks. May cause That is, in an optical information recording medium using a substrate as thin as 0.6 mm, such as a DVD, the substrate is significantly deformed, and it is important to initialize the optical information recording medium without causing the substrate to be deformed. Is an important issue.

【００１１】また、上記従来の初期化方法は、いずれの
方法にあっても、光情報記録媒体の生産工程中に、記録
層の初期化工程を含むことを前提としており、初期化シ
ステムの構築に莫大な投資を必要とする。また、その高
速化においては、基板機械特性の劣化等が伴うため、生
産性の向上を図ることが極めて困難である。In addition, the above-mentioned conventional initialization method is premised on including an initialization step of a recording layer in a production process of an optical information recording medium in any method. Requires a huge investment. Further, the increase in the speed is accompanied by deterioration of the mechanical properties of the substrate and the like, so that it is extremely difficult to improve the productivity.

【００１２】そこで、請求項１記載の発明は、少なくと
も、レーザ光の照射前後でその光学特性が可逆的に変化
する記録層よりも前に形成される任意の膜の積層工程
で、当該任意の膜が、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だ
け厚く形成され、その後、ドライエッチングで除去され
て、所望の膜厚に形成されていることにより、記録層成
膜前のディスク基板温度を、任意の膜をドライエッチン
グすることで高温に設定し、成膜直後から、記録層を結
晶化あるいは結晶状態とアモルファス状態が混在した状
態として、初期化不要、あるいは、初期化容易なものと
し、初期化工程を省き、あるいは、初期化時間を短縮化
して、生産性が良好で安価な光情報記録媒体を提供する
ことを目的としている。In view of the above, the invention according to claim 1 includes a step of laminating an arbitrary film formed at least before a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after laser beam irradiation. The film is formed once more by a predetermined thickness than the desired thickness, and then removed by dry etching to form the desired thickness. The temperature of the recording layer is set to a high temperature by dry etching, and immediately after the film formation, the recording layer is crystallized or a state where the crystalline state and the amorphous state are mixed. It is an object of the present invention to provide an inexpensive optical information recording medium with good productivity by omitting the initialization step or shortening the initialization time.

【００１３】請求項２記載の発明は、任意の膜が、一旦
所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成され、その後、
ドライエッチングで除去されるという膜形成及び除去処
理が複数回行われて形成されていることにより、膜形成
段階で、記録層をより一層適切に結晶化、あるいは、結
晶状態に多少アモルファス状態が混在した状態として、
初期化不要、あるいは、初期化容易なものとし、初期化
工程を省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮化し
て、生産性がより一層良好で安価な光情報記録媒体を提
供することを目的としている。According to a second aspect of the present invention, an arbitrary film is formed once more by a predetermined thickness than a desired thickness.
Since the film is removed and removed by dry etching multiple times, the recording layer is more appropriately crystallized at the film formation stage, or the amorphous state is mixed in the crystalline state. As a state
The object of the present invention is to provide an optical information recording medium that has higher productivity and is more inexpensive by making initialization unnecessary or easy, eliminating the initialization step, and further shortening the initialization time. And

【００１４】請求項３記載の発明は、任意の膜を除去す
るのに用いるドライエッチングとして、Ａｒガスを用い
たスパッタエッチングを利用することにより、光情報記
録媒体の製造に一般的に用いられている枚葉式スパッタ
装置を用いて容易にドライエッチングを行い、生産性が
良好でより一層安価な光情報記録媒体を提供することを
目的としている。The invention according to claim 3 is generally used in the production of optical information recording media by utilizing sputter etching using Ar gas as dry etching used to remove an arbitrary film. It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium with good productivity and low cost by easily performing dry etching using a single-wafer sputtering apparatus.

【００１５】請求項４記載の発明は、記録層の直下層と
して、結晶化促進層が形成されていることにより、膜形
成段階で、記録層をより一層適切に結晶化、あるいは、
結晶状態に多少アモルファス状態が混在した状態とし
て、初期化不要、あるいは、初期化容易なものとし、初
期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮
化して、生産性がより一層良好で安価な光情報記録媒体
を提供することを目的としている。According to a fourth aspect of the present invention, since the crystallization promoting layer is formed immediately below the recording layer, the recording layer can be more appropriately crystallized in the film formation stage, or
As a state where the amorphous state is somewhat mixed with the crystalline state, initialization is unnecessary or it is easy to initialize, and the initialization step is omitted, or the initialization time is further shortened, and the productivity is further improved. It is intended to provide an inexpensive optical information recording medium.

【００１６】請求項５記載の発明は、結晶化促進層の材
料として、少なくともＢｉを含む材料を用いることによ
り、膜形成段階で、結晶化促進層により記録層をより一
層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモルファ
ス状態が混在した状態として、初期化不要、あるいは、
初期化容易なものとし、初期化工程を省き、あるいは、
初期化時間をより一層短縮化して、生産性がより一層良
好で安価な光情報記録媒体を提供することを目的として
いる。According to a fifth aspect of the present invention, by using a material containing at least Bi as the material of the crystallization promoting layer, the recording layer can be more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer at the film formation stage, or As a state where the amorphous state is mixed with the crystalline state to some extent, initialization is unnecessary, or
Initialization is easy, and the initialization process is omitted, or
It is an object of the present invention to provide an inexpensive optical information recording medium with further improved productivity by further reducing the initialization time.

【００１７】請求項６記載の発明は、記録層を、空間群
Ｆｍ３ｍに属する準安定Ｓｂ3 Ｔｅ相を有するものとす
ることにより、膜形成段階で、結晶化促進層により記録
層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少
アモルファス状態が混在した状態として、初期化不要、
あるいは、初期化容易なものとするとともに、高密度記
録可能で、かつ、優れた繰り返し記録特性を有したもの
とし、初期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより
一層短縮化して、生産性がより一層良好で安価な光情報
記録媒体を提供することを目的としている。According to a sixth aspect of the present invention, the recording layer has a metastable Sb 3 Te phase belonging to the space group Fm3m, so that the recording layer can be more appropriately formed by the crystallization promoting layer in the film formation stage. Crystallization, or as a state where the amorphous state is mixed with the crystalline state somewhat, initialization is unnecessary,
Alternatively, it is easy to initialize, high-density recording is possible, and it has excellent repetitive recording characteristics, and the initialization process is omitted or the initialization time is further shortened to improve productivity. However, it is an object of the present invention to provide a better and less expensive optical information recording medium.

【００１８】請求項７記載の発明は、少なくとも、レー
ザ光の照射前後でその光学特性が可逆的に変化する記録
層よりも前に形成される任意の膜の積層工程で、当該任
意の膜を、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成
し、その後、ドライエッチングで除去して、所望の膜厚
に形成することにより、記録層成膜前のディスク基板温
度を、任意の膜をドライエッチングすることで高温に設
定し、膜形成段階で、記録層を結晶化、あるいは、結晶
状態とアモルファス状態が混在した状態として、初期化
不要、あるいは、初期化容易なものとし、初期化工程を
省き、あるいは、初期化時間を短縮化して、生産性が良
好で安価な光情報記録媒体の製造方法を提供することを
目的としている。According to a seventh aspect of the present invention, at least a step of laminating an arbitrary film formed before a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after irradiation with a laser beam is performed. The disk substrate temperature before the formation of the recording layer can be set to an arbitrary value by forming the layer once more by a predetermined thickness than the desired thickness, and then removing the film by dry etching to form the desired thickness. The temperature is set to a high temperature by dry etching, and the recording layer is crystallized in the film formation stage, or the crystal state and the amorphous state are mixed, so that initialization is unnecessary or easy. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium with good productivity and low cost by eliminating the time or shortening the initialization time.

【００１９】請求項８記載の発明は、任意の膜を形成す
るに際して、当該任意の膜を、一旦所望の膜厚よりも所
定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチングで除
去して所定の膜厚に形成するという膜形成及び除去処理
を複数回行って形成することにより、膜形成段階で、記
録層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多
少アモルファス状態が混在した状態として、初期化不
要、あるいは、初期化容易なものとし、初期化工程を省
き、あるいは、初期化時間をより一層短縮化して、生産
性がより一層良好で安価な光情報記録媒体の製造方法を
提供することを目的としている。According to the present invention, in forming an arbitrary film, the arbitrary film is formed to be once thicker by a predetermined thickness than a desired film thickness, and then removed by dry etching to obtain a predetermined film. By performing the film formation and removal processing of forming the film to a plurality of times to form a film thickness, in the film formation stage, the recording layer is more appropriately crystallized, or, as a state in which the crystalline state is somewhat mixed with an amorphous state, To provide a method for manufacturing an optical information recording medium with higher productivity and a lower cost by making initialization unnecessary or easy, eliminating the initialization step, or further shortening the initialization time. It is intended to be.

【００２０】請求項９記載の発明は、任意の膜を除去す
るのに用いるドライエッチングとして、Ａｒガスを用い
たスパッタエッチングを利用することにより、光情報記
録媒体の製造に一般的に用いられている枚葉式スパッタ
装置を用いて容易にドライエッチングを行い、生産性が
良好でより一層安価な光情報記録媒体の製造方法を提供
することを目的としている。According to the ninth aspect of the present invention, a sputter etching using Ar gas is used as a dry etching for removing an arbitrary film, so that it is generally used for manufacturing an optical information recording medium. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an optical information recording medium with good productivity and low cost by performing dry etching easily by using a single wafer type sputtering apparatus.

【００２１】請求項１０記載の発明は、記録層の直下層
として、結晶化促進層を形成した後、当該結晶化促進層
上に記録層を形成することにより、膜形成段階で、記録
層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少
アモルファス状態が混在した状態として、初期化不要、
あるいは、初期化容易なものとし、初期化工程を省き、
あるいは、初期化時間をより一層短縮化して、生産性が
より一層良好で安価な光情報記録媒体の製造方法を提供
することを目的としている。According to a tenth aspect of the present invention, a crystallization promoting layer is formed immediately below the recording layer, and then the recording layer is formed on the crystallization promoting layer. Crystallization more appropriately, or as a state where the amorphous state is mixed somewhat in the crystalline state, initialization is unnecessary,
Alternatively, the initialization is easy, and the initialization process is omitted.
Alternatively, it is another object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium with further improved productivity and a lower cost by further shortening the initialization time.

【００２２】請求項１１記載の発明は、結晶化促進層
を、少なくともＢｉを含んだ材料を用いて形成すること
により、膜形成段階で、結晶化促進層により記録層をよ
り一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモル
ファス状態が混在した状態として、初期化不要、あるい
は、初期化容易なものとし、初期化工程を省き、あるい
は、初期化時間をより一層短縮化して、生産性がより一
層良好で安価な光情報記録媒体の製造方法を提供するこ
とを目的としている。According to the eleventh aspect of the present invention, by forming the crystallization promoting layer using a material containing at least Bi, the recording layer can be more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer in the film formation stage. Or, as a state where the crystalline state is somewhat mixed with the amorphous state, initialization is unnecessary or it is easy to initialize, and the initialization step is omitted, or the initialization time is further shortened, and the productivity is improved. It is an object of the present invention to provide a better and less expensive method for manufacturing an optical information recording medium.

【００２３】請求項１２記載の発明は、成膜及びエッチ
ング時に光情報記録媒体の基板を保持する基板ホルダー
として、少なくとも当該基板と相対向する面が当該基板
と同じ熱伝導率あるいは近似する熱伝導率を有する材料
で形成されている基板ホルダーを用いることにより、基
板からの放熱を防いで、基板温度を高温に保つととも
に、基板面内での温度分布を均一にし、記録層の結晶化
をより一層促進させるとともに、均一に結晶化すること
のできる光情報記録媒体の製造方法を提供することを目
的としている。According to a twelfth aspect of the present invention, as a substrate holder for holding a substrate of an optical information recording medium during film formation and etching, at least a surface opposed to the substrate has the same thermal conductivity as the substrate or a thermal conductivity similar thereto. By using a substrate holder made of a material having a high rate, heat radiation from the substrate is prevented, the substrate temperature is kept high, the temperature distribution in the substrate surface is made uniform, and the crystallization of the recording layer is improved. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium capable of further promoting and uniformly crystallizing.

【００２４】請求項１３記載の発明は、基板としてポリ
カーボネイト樹脂等の高分子材料を用い、成膜及びエッ
チング時に光情報記録媒体の基板を保持する基板ホルダ
ーとして、少なくとも当該基板と相対向する面が、０．
１〜１．０（Ｋｃａｌ／ｍ・ｈｒ・℃）の熱伝導率を有
する材料で形成されている基板ホルダーを用いることに
より、基板からの放熱をより一層効率的に防いで、基板
温度をより一層高温に保つとともに、基板面内での温度
分布をより一層均一にし、記録層の結晶化をより一層促
進させるとともに、より一層均一に結晶化することので
きる光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的と
している。According to a thirteenth aspect of the present invention, a substrate made of a polymer material such as polycarbonate resin is used as a substrate, and at least a surface facing the substrate is used as a substrate holder for holding a substrate of an optical information recording medium during film formation and etching. , 0.
By using a substrate holder made of a material having a thermal conductivity of 1 to 1.0 (Kcal / m · hr · ° C.), heat radiation from the substrate can be prevented more efficiently, and the substrate temperature can be reduced. Provided is a method for manufacturing an optical information recording medium capable of maintaining a higher temperature, making the temperature distribution in the plane of the substrate more uniform, further promoting the crystallization of the recording layer, and crystallizing more uniformly. It is intended to be.

【００２５】[0025]

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の光
情報記録媒体は、少なくとも、レーザ光の照射前後でそ
の光学特性が可逆的に変化する記録層を有し、前記レー
ザ光を用いて記録、再生、消去の行われる光情報記録媒
体において、前記記録層よりも前に形成される任意の膜
の積層工程で、当該任意の膜が、一旦所望の膜厚よりも
所定膜厚だけ厚く形成され、その後、ドライエッチング
で除去されて、前記所望の膜厚に形成されていることに
より、上記目的を達成している。The optical information recording medium according to the present invention has at least a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after irradiation with a laser beam. In an optical information recording medium on which recording, reproduction, and erasure are performed, in the step of laminating an arbitrary film formed before the recording layer, the arbitrary film is once more than a desired film thickness by a predetermined thickness. The above-mentioned object is achieved by being formed thickly and then being removed by dry etching to form the desired film thickness.

【００２６】上記構成によれば、少なくとも、レーザ光
の照射前後でその光学特性が可逆的に変化する記録層よ
りも前に形成される任意の膜の積層工程で、当該任意の
膜が、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成さ
れ、その後、ドライエッチングで除去されて、所望の膜
厚に形成されているので、記録層成膜前のディスク基板
温度を、任意の膜をドライエッチングすることで高温に
設定して、成膜直後から、記録層を結晶化、あるいは、
結晶状態とアモルファス状態が混在した状態として、初
期化不要、あるいは、初期化容易なものとすることがで
き、初期化工程を省き、あるいは、初期化時間を短縮化
して、光情報記録媒体の生産性を向上させるとともに、
光情報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the above configuration, at least in the step of laminating an arbitrary film formed before the recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after the irradiation of the laser beam, the arbitrary film is temporarily Since the film is formed to be a predetermined thickness thicker than the desired film thickness and then removed by dry etching to form the desired film thickness, the temperature of the disk substrate before forming the recording layer is adjusted to a desired value. By setting to high temperature by etching, immediately after film formation, the recording layer is crystallized, or
As a state in which the crystalline state and the amorphous state are mixed, the initialization is unnecessary or the initialization can be easily performed, and the initialization process can be omitted or the initialization time can be shortened to produce the optical information recording medium. While improving the
The optical information recording medium can be inexpensive.

【００２７】請求項２記載の発明は、前記任意の膜は、
前記一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成され、
その後、ドライエッチングで除去されるという膜形成及
び除去処理が複数回行われて形成されていてもよい。According to a second aspect of the present invention, the optional film is
Once formed thicker by a predetermined thickness than the desired thickness,
Thereafter, the film may be formed by performing a film forming and removing process of being removed by dry etching a plurality of times.

【００２８】上記構成によれば、任意の膜が、一旦所望
の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成され、その後、ドラ
イエッチングで除去されるという膜形成及び除去処理が
複数回行われて形成されているので、膜形成段階で、記
録層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多
少アモルファス状態が混在した状態として、初期化不
要、あるいは、初期化容易なものとすることができ、初
期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮
化して、光情報記録媒体の生産性をより一層向上させる
ことができるとともに、光情報記録媒体を安価なものと
することができる。According to the above configuration, an arbitrary film is formed by performing a film forming and removing process a plurality of times, in which an arbitrary film is formed to be once thicker than a desired film thickness by a predetermined thickness, and then removed by dry etching. Therefore, in the film formation stage, the recording layer can be more appropriately crystallized, or as a state in which the amorphous state is mixed somewhat with the crystalline state, it is possible to make initialization unnecessary or easy. In addition, the initialization step can be omitted, or the initialization time can be further shortened, so that the productivity of the optical information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００２９】また、例えば、請求項３に記載するよう
に、前記ドライエッチングは、Ａｒガスを用いたスパッ
タエッチングであってもよい。Further, for example, the dry etching may be sputter etching using Ar gas.

【００３０】上記構成によれば、任意の膜を除去するの
に用いるドライエッチングとして、Ａｒガスを用いたス
パッタエッチングを利用しているので、光情報記録媒体
の製造に一般的に用いられている枚葉式スパッタ装置を
用いて容易にドライエッチングを行うことができ、光情
報記録媒体の生産性を向上させることができるととも
に、光情報記録媒体をより一層安価なものとすることが
できる。According to the above configuration, since sputter etching using Ar gas is used as dry etching for removing an arbitrary film, it is generally used for manufacturing an optical information recording medium. Dry etching can be easily performed using a single-wafer sputtering apparatus, so that the productivity of the optical information recording medium can be improved, and the optical information recording medium can be made more inexpensive.

【００３１】さらに、例えば、請求項４に記載するよう
に、前記光情報記録媒体は、前記記録層の直下層とし
て、結晶化促進層が形成されているものであってもよ
い。Further, for example, the optical information recording medium may have a crystallization promoting layer formed immediately below the recording layer.

【００３２】上記構成によれば、記録層の直下層とし
て、結晶化促進層を形成しているので、膜形成段階で、
記録層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に
多少アモルファス状態が混在した状態として、初期化不
要、あるいは、初期化容易なものとすることができ、初
期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮
化して、光情報記録媒体の生産性をより一層向上させる
ことができるとともに、光情報記録媒体を安価なものと
することができる。According to the above configuration, since the crystallization promoting layer is formed as a layer immediately below the recording layer, the crystallization promoting layer can be formed at the film forming stage.
The recording layer is more appropriately crystallized, or as a state in which the crystalline state is somewhat mixed with the amorphous state, it is not necessary to initialize, or it is possible to easily initialize the recording layer. As a result, the optical information recording medium can be made more inexpensive, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００３３】また、例えば、請求項５に記載するよう
に、前記結晶化促進層は、少なくともＢｉを含む材料で
形成されていてもよい。Also, for example, the crystallization promoting layer may be formed of a material containing at least Bi.

【００３４】上記構成によれば、結晶化促進層の材料と
して、少なくともＢｉを含む材料を用いているので、膜
形成段階で、結晶化促進層により記録層をより一層適切
に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態
が混在した状態として、初期化不要、あるいは、初期化
容易なものとすることができ、初期化工程を省き、ある
いは、初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒
体の生産性をより一層向上させることができるととも
に、光情報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the above configuration, since a material containing at least Bi is used as the material of the crystallization promoting layer, the recording layer is more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer at the film formation stage, or Optical information recording is possible by eliminating the initialization step or shortening the initialization time further by making initialization unnecessary or easy to initialize as a state where the amorphous state is somewhat mixed with the crystalline state. The productivity of the medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００３５】さらに、例えば、請求項６に記載するよう
に、前記記録層は、空間群Ｆｍ３ｍに属する準安定Ｓｂ
3 Ｔｅ相を有するものであってもよい。Further, for example, as described in claim 6, the recording layer is formed of a metastable Sb belonging to a space group Fm3m.
It may have a 3Te phase.

【００３６】上記構成によれば、記録層を、空間群Ｆｍ
３ｍに属する準安定Ｓｂ3 Ｔｅ相を有するものとしてい
るので、膜形成段階で、結晶化促進層により記録層をよ
り一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモル
ファス状態が混在した状態として、初期化不要、あるい
は、初期化容易なものとすることができるとともに、高
密度記録可能で、かつ、優れた繰り返し記録特性を有し
たものとすることができ、初期化工程を省き、あるい
は、初期化時間をより一層短縮化して、生産性をより一
層向上させることができるとともに、光情報記録媒体を
安価なものとすることができる。According to the above configuration, the recording layer is formed by the space group Fm
Since the recording layer has a metastable Sb 3 Te phase belonging to 3 m, the recording layer is more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer at the film formation stage, or the amorphous state is mixed with the crystalline state to some extent. Initialization is unnecessary, or initialization can be easily performed, high-density recording can be performed, and excellent repetitive recording characteristics can be achieved. The time required for the optical information recording medium can be further reduced, the productivity can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００３７】請求項７記載の発明の光情報記録媒体の製
造方法は、少なくとも、レーザ光の照射前後でその光学
特性が可逆的に変化する記録層を有し、前記レーザ光を
用いて記録、再生、消去の行われる光情報記録媒体の製
造方法において、前記記録層よりも前に形成される任意
の膜の積層工程で、当該任意の膜を、一旦所望の膜厚よ
りも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチン
グで除去して、前記所望の膜厚に形成することにより、
上記目的を達成している。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an optical information recording medium, comprising at least a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after irradiation with a laser beam. In the method for manufacturing an optical information recording medium in which reproduction and erasing are performed, in the step of laminating an arbitrary film formed before the recording layer, the arbitrary film is temporarily removed by a predetermined thickness from a desired thickness. By forming a thick, then removed by dry etching, by forming the desired thickness,
The above objective has been achieved.

【００３８】上記構成によれば、少なくとも、レーザ光
の照射前後でその光学特性が可逆的に変化する記録層よ
りも前に形成される任意の膜の積層工程で、当該任意の
膜を、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成し、
その後、ドライエッチングで除去して、所望の膜厚に形
成しているので、記録層成膜前のディスク基板温度を、
任意の膜をドライエッチングすることで高温に設定し
て、膜形成段階で、記録層を結晶化、あるいは、結晶状
態とアモルファス状態が混在した状態として、初期化不
要、あるいは、初期化容易なものとすることができ、初
期化工程を省き、あるいは、初期化時間を短縮化して、
光情報記録媒体の生産性を向上させることができるとと
もに、光情報記録媒体を安価なものとすることができ
る。According to the above configuration, at least in the step of laminating an arbitrary film formed before the recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after the irradiation of the laser beam, the arbitrary film is temporarily removed. Formed by a predetermined thickness greater than a desired thickness,
After that, the substrate was removed by dry etching to form a desired film thickness.
An arbitrary film is set to a high temperature by dry etching, and the recording layer is crystallized at the film forming stage, or the crystal state and the amorphous state are mixed, so that initialization is unnecessary or easy. It is possible to omit the initialization step or shorten the initialization time,
The productivity of the optical information recording medium can be improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００３９】この場合、例えば、請求項８に記載するよ
うに、前記光情報記録媒体の製造方法は、前記任意の膜
を形成するに際して、当該任意の膜を、一旦所望の膜厚
よりも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチ
ングで除去して所定の膜厚に形成するという膜形成及び
除去処理を複数回行って形成してもよい。In this case, for example, in the method of manufacturing an optical information recording medium according to claim 8, when forming the arbitrary film, the arbitrary film is temporarily set to a predetermined thickness smaller than a desired thickness. The film may be formed to have a thickness equal to the film thickness and then removed by dry etching to form a film having a predetermined thickness.

【００４０】上記構成によれば、任意の膜を形成するに
際して、当該任意の膜を、一旦所望の膜厚よりも所定膜
厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチングで除去し
て所定の膜厚に形成するという膜形成及び除去処理を複
数回行って形成しているので、膜形成段階で、記録層を
より一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモ
ルファス状態が混在した状態として、初期化不要、ある
いは、初期化容易なものとすることができ、初期化工程
を省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮化して、
光情報記録媒体の生産性をより一層向上させることがで
きるとともに、光情報記録媒体を安価なものとすること
ができる。According to the above configuration, when forming an arbitrary film, the arbitrary film is formed to be once thicker by a predetermined thickness than the desired film thickness, and then removed by dry etching to obtain the predetermined film thickness. Since the film is formed by performing the film formation and removal processes a plurality of times, the recording layer is more appropriately crystallized at the film formation stage, or the crystal state is changed to a state in which the amorphous state is mixed to some extent. It is possible to make initialization unnecessary or easy to initialize, and to omit the initialization process, or to further shorten the initialization time,
The productivity of the optical information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００４１】また、例えば、請求項９に記載するよう
に、前記ドライエッチングは、Ａｒガスを用いたスパッ
タエッチングであってもよい。Further, for example, the dry etching may be sputter etching using Ar gas.

【００４２】上記構成によれば、任意の膜を除去するの
に用いるドライエッチングとして、Ａｒガスを用いたス
パッタエッチングを利用しているので、光情報記録媒体
の製造に一般的に用いられている枚葉式スパッタ装置を
用いて容易にドライエッチングを行うことができ、光情
報記録媒体の生産性を向上させることができるととも
に、光情報記録媒体をより一層安価なものとすることが
できる。According to the above configuration, since the sputter etching using Ar gas is used as the dry etching used to remove an arbitrary film, it is generally used for manufacturing an optical information recording medium. Dry etching can be easily performed using a single-wafer sputtering apparatus, so that the productivity of the optical information recording medium can be improved, and the optical information recording medium can be made more inexpensive.

【００４３】さらに、例えば、請求項１０に記載するよ
うに、前記光情報記録媒体の製造方法は、前記記録層の
直下層として、結晶化促進層を形成した後、当該結晶化
促進層上に前記記録層を形成してもよい。Further, for example, in the method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention, after forming a crystallization promoting layer as a layer immediately below the recording layer, the crystallization promoting layer is formed on the crystallization promoting layer. The recording layer may be formed.

【００４４】上記構成によれば、記録層の直下層とし
て、結晶化促進層を形成した後、当該結晶化促進層上に
記録層を形成しているので、膜形成段階で、記録層をよ
り一層適切に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモル
ファス状態が混在した状態として、初期化不要、あるい
は、初期化容易なものとすることができ、初期化工程を
省き、あるいは、初期化時間をより一層短縮化して、光
情報記録媒体の生産性をより一層向上させることができ
るとともに、光情報記録媒体を安価なものとすることが
できる。According to the above configuration, the crystallization promoting layer is formed immediately below the recording layer, and then the recording layer is formed on the crystallization promoting layer. Crystallization more appropriately, or, as a state in which the amorphous state is mixed with the crystalline state to some extent, it is not necessary to initialize, or it can be easy to initialize, the initialization step is omitted, or the initialization time is reduced. By further shortening the optical information recording medium, the productivity of the optical information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００４５】また、例えば、請求項１１に記載するよう
に、前記光情報記録媒体の製造方法は、前記結晶化促進
層を、少なくともＢｉを含んだ材料を用いて形成しても
よい。For example, in the method of manufacturing an optical information recording medium, the crystallization promoting layer may be formed using a material containing at least Bi.

【００４６】上記構成によれば、結晶化促進層を、少な
くともＢｉを含んだ材料を用いて形成しているので、膜
形成段階で、結晶化促進層により記録層をより一層適切
に結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態
が混在した状態として、初期化不要、あるいは、初期化
容易なものとすることができ、初期化工程を省き、ある
いは、初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒
体の生産性をより一層向上させることができるととも
に、光情報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the above configuration, since the crystallization promoting layer is formed using a material containing at least Bi, the recording layer can be more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer at the film formation stage. Alternatively, as a state in which a crystalline state is somewhat mixed with an amorphous state, initialization can be made unnecessary or easy, so that the initialization step can be omitted or the initialization time can be further shortened, The productivity of the information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【００４７】さらに、例えば、請求項１２に記載するよ
うに、前記光情報記録媒体の製造方法は、前記成膜及び
前記エッチング時に前記光情報記録媒体の基板を保持す
る基板ホルダーとして、少なくとも当該基板と相対向す
る面が当該基板と同じ熱伝導率あるいは近似する熱伝導
率を有する材料で形成されている基板ホルダーを用いて
もよい。Further, for example, as set forth in claim 12, in the method for manufacturing an optical information recording medium, at least the substrate as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium during the film formation and the etching. Alternatively, a substrate holder may be used in which the surface opposite to the substrate is made of a material having the same or similar thermal conductivity as the substrate.

【００４８】上記構成によれば、成膜及びエッチング時
に光情報記録媒体の基板を保持する基板ホルダーとし
て、少なくとも当該基板と相対向する面が当該基板と同
じ熱伝導率あるいは近似する熱伝導率を有する材料で形
成されている基板ホルダーを用いているので、基板から
の放熱を防いで、基板温度を高温に保つことができると
ともに、基板面内での温度分布を均一にすることがで
き、記録層の結晶化をより一層促進させることができる
とともに、均一に結晶化することができる。According to the above configuration, as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium at the time of film formation and etching, at least the surface facing the substrate has the same or similar thermal conductivity as the substrate. The use of a substrate holder made of the same material prevents heat radiation from the substrate, keeps the substrate temperature at a high temperature, and makes the temperature distribution in the substrate surface uniform, and enables recording. Crystallization of the layer can be further promoted and uniform crystallization can be achieved.

【００４９】また、例えば、請求項１３に記載するよう
に、前記光情報記録媒体の製造方法は、前記基板として
ポリカーボネイト樹脂等の高分子材料を用い、前記成膜
及び前記エッチング時に前記光情報記録媒体の基板を保
持する基板ホルダーとして、少なくとも当該基板と相対
向する面が、０．１〜１．０（Ｋｃａｌ／ｍ・ｈｒ・
℃）の熱伝導率を有する材料で形成されている基板ホル
ダーを用いてもよい。For example, in the method for manufacturing an optical information recording medium, the substrate may be made of a polymer material such as polycarbonate resin, and the optical information recording medium may be formed during the film formation and the etching. As a substrate holder for holding a substrate of a medium, at least a surface facing the substrate has a thickness of 0.1 to 1.0 (Kcal / m · hr ·
(C) may be used as the substrate holder.

【００５０】上記構成によれば、基板としてポリカーボ
ネイト樹脂等の高分子材料を用い、成膜及びエッチング
時に光情報記録媒体の基板を保持する基板ホルダーとし
て、少なくとも当該基板と相対向する面が、０．１〜
１．０（Ｋｃａｌ／ｍ・ｈｒ・℃）の熱伝導率を有する
材料で形成されている基板ホルダーを用いているので、
基板からの放熱をより一層効率的に防いで、基板温度を
より一層高温に保つことができるとともに、基板面内で
の温度分布をより一層均一にすることができ、記録層の
結晶化をより一層促進させることができるとともに、よ
り一層均一に結晶化することができる。According to the above configuration, a polymer material such as a polycarbonate resin is used as the substrate, and at least a surface facing the substrate is used as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium during film formation and etching. .1 to
Since a substrate holder made of a material having a thermal conductivity of 1.0 (Kcal / m · hr · ° C.) is used,
By preventing the heat radiation from the substrate more efficiently, the substrate temperature can be kept higher, the temperature distribution in the substrate surface can be made more uniform, and the crystallization of the recording layer can be more improved. The crystallization can be further promoted and the crystallization can be performed more uniformly.

【００５１】[0051]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. It should be noted that the embodiments described below are preferred embodiments of the present invention, and therefore, various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention is not limited to the following description. The embodiments are not limited to these embodiments unless otherwise specified.

【００５２】図１及び図２は、本発明の光情報記録媒体
及び光情報記録媒体の製造方法の第１の実施の形態を示
す図であり、本実施の形態は、請求項１、請求項３、請
求項５及び請求項７、請求項９、請求項１１〜請求項１
３に対応するものである。FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of an optical information recording medium and a method of manufacturing an optical information recording medium according to the present invention. 3, claim 5, claim 7, claim 9, claim 11 to claim 1
This corresponds to No. 3.

【００５３】図１は、本発明の光情報記録媒体及び光情
報記録媒体の製造方法の第１の実施の形態を適用した光
情報記録媒体製造装置１の要部構成平面図であり、光情
報記録媒体製造装置１は、スパッタ及びドライエッチン
グ装置であって、基板搬入・搬出室２、下地保護層成膜
室３、下地保護層成膜室４、ドライエッチング室５、記
録層成膜室６、上地保護層成膜室７、反射層成膜室８、
反射層成膜室９、基板ホルダー１０、伸縮アーム１１、
回転軸１２等を備えている。FIG. 1 is a plan view of a main part of an optical information recording medium manufacturing apparatus 1 to which an optical information recording medium and an optical information recording medium manufacturing method according to a first embodiment of the present invention are applied. The recording medium manufacturing apparatus 1 is a sputtering and dry etching apparatus, and includes a substrate loading / unloading chamber 2, a base protective layer film forming chamber 3, a base protective layer film forming chamber 4, a dry etching chamber 5, and a recording layer film forming chamber 6. An upper protective layer film forming chamber 7, a reflective layer film forming chamber 8,
Reflective layer deposition chamber 9, substrate holder 10, telescopic arm 11,
A rotating shaft 12 and the like are provided.

【００５４】光情報記録媒体製造装置１は、基板搬入・
搬出室２から搬入した光情報記録媒体２０の基板２１
（図２（ａ）〜（ｃ）参照）を、伸縮アーム１１の先端
に取り付けられた基板ホルダー１０で保持し、回転軸１
２を回転させて、下地保護層成膜室３、４、ドライエッ
チング室５、記録層成膜室６、上地保護層成膜室７及び
反射層成膜室８、９に順次搬送して、図２（ａ）〜
（ｃ）に示すように、基板２１上に、下地保護層２２、
記録層２３、上地保護層２４及び反射層２５を成膜して
光情報記録媒体２０を形成する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 carries a substrate
Substrate 21 of optical information recording medium 20 carried in from carry-out room 2
2 (a) to 2 (c) are held by a substrate holder 10 attached to the distal end of a telescopic arm 11, and the rotating shaft 1
2 is rotated, and sequentially transferred to the base protective layer film forming chambers 3 and 4, the dry etching chamber 5, the recording layer film forming chamber 6, the upper layer protective layer film forming chamber 7, and the reflective layer film forming chambers 8 and 9. , FIG.
As shown in (c), an undercoat protective layer 22 is formed on a substrate 21.
The optical information recording medium 20 is formed by forming the recording layer 23, the upper protective layer 24, and the reflective layer 25.

【００５５】すなわち、光情報記録媒体製造装置１は、
図２（ａ）に示すように、下地保護層成膜室３及び下地
保護層成膜室４では、搬送されて収納された基板２１上
に所定膜厚Ｔｄの下地保護層２２を成膜し、ドライエッ
チング室５では、下地保護層２２の上部の所定厚さ（Ｔ
ｄ−Ｔ）だけをＡｒを用いたスパッタエッチングにより
除去する。That is, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1
As shown in FIG. 2A, in the underlayer protection layer deposition chamber 3 and the underlayer protection layer deposition chamber 4, the underlayer protection layer 22 having a predetermined thickness Td is formed on the substrate 21 transported and stored. In the dry etching chamber 5, a predetermined thickness (T
Only dT) is removed by sputter etching using Ar.

【００５６】このドライエッチングの方法としては、大
きく分けて、プラズマエッチング、スパッタエッチン
グ、イオンビームエッチング等があるが、後述するよう
に、下地保護層２２のエッチングにより下地保護層２２
を通して基板２１を加熱することのできる方法であれ
ば、いずれの方法であってもよい。なお、一般的に光情
報記録媒体の製造に枚葉式スパッタ装置が用いられてい
ることから、不活性ガスであるＡｒガスを用いたスパッ
タエッチング、いわゆる逆スパッタ方法を用いると、光
情報記録媒体製造装置１を安価なものとすることができ
るとともに、例えば、光情報記録媒体製造装置１の上地
保護層２４の成膜室である上地保護層成膜室７とドライ
エッチング室５を兼ねることもでき、また、エッチング
ガスとしてＡｒガスを用いることから、腐食性の反応ガ
スを使用する場合に比較して、特別なガス除外設備を必
要とせず、光情報記録媒体製造装置１をより一層簡単で
安価なものとすることができる。The method of the dry etching is roughly classified into plasma etching, sputter etching, ion beam etching, and the like.
Any method can be used as long as it can heat the substrate 21 through the substrate. Since a single-wafer sputtering apparatus is generally used for manufacturing an optical information recording medium, a sputter etching using an inert gas, Ar gas, a so-called reverse sputtering method, The manufacturing apparatus 1 can be made inexpensive, and, for example, also serves as the upper protective layer film forming chamber 7 which is a film forming chamber for the upper protective layer 24 of the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the dry etching chamber 5. In addition, since the Ar gas is used as the etching gas, no special gas exclusion equipment is required as compared with the case where a corrosive reaction gas is used, and the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 can be further improved. It can be simple and inexpensive.

【００５７】光情報記録媒体製造装置１は、記録層成膜
室６では、エッチングにより上部の除去された下地保護
層２２の上に、記録層２３を成膜し、上地保護層成膜室
７では、下地保護層２２上に形成された記録層２３の上
に、上地保護層２４を成膜する。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, in the recording layer film forming chamber 6, the recording layer 23 is formed on the underlying protective layer 22 whose upper portion has been removed by etching, and the upper layer protective film forming chamber 6 is formed. 7, an upper protective layer 24 is formed on the recording layer 23 formed on the lower protective layer 22.

【００５８】光情報記録媒体製造装置１は、反射層成膜
室８及び反射層成膜室９では、上地保護層２４の上に、
所定膜厚の反射層２５を成膜し、反射層２５の成膜され
た基板２１を伸縮アーム１１を縮めて反射層成膜室９か
ら取り出す。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, in the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9,
A reflective layer 25 having a predetermined thickness is formed, and the substrate 21 on which the reflective layer 25 is formed is taken out of the reflective layer deposition chamber 9 by contracting the telescopic arm 11.

【００５９】次に、本実施の形態の作用を説明する。本
実施の形態の光情報記録媒体製造装置１は、基板搬入・
搬出室２を介して光情報記録媒体２０の基板２１を、伸
縮アーム１１の先端に取り付けられた基板ホルダー１０
で保持し、回転軸１２を回転させて、下地保護層成膜室
３及び下地保護層成膜室４の位置に順次基板２１を搬送
して、伸縮アーム１１を伸ばして下地保護層成膜室３及
び下地保護層成膜室４内に順次収納する。Next, the operation of the present embodiment will be described. The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment
The substrate 21 of the optical information recording medium 20 is transferred via the unloading chamber 2 to the substrate holder 10 attached to the tip of the telescopic arm 11.
The substrate 21 is sequentially transported to the positions of the base protection layer film forming chamber 3 and the base protection layer film formation chamber 4 by rotating the rotating shaft 12, and the telescopic arm 11 is extended to thereby extend the base protection layer film formation chamber. 3 and the base protective layer deposition chamber 4.

【００６０】この基板２１は、例えば、射出成形により
形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカー
ボネイト基板である。The substrate 21 is, for example, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm formed by injection molding.

【００６１】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
成膜室３及び下地保護層成膜室４で、図２に示すよう
に、基板２１上に下地保護層２２を成膜する。下地保護
層２２は、例えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 を用
いて、１２０ｎｍの厚さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms the undercoat protective layer 22 on the substrate 21 in the undercoat protective layer deposition chamber 3 and undercoat protective layer deposition chamber 4 as shown in FIG. The base protective layer 22 is formed to a thickness of 120 nm using, for example, ZnS / SiO 2 as a material.

【００６２】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
２２の成膜された基板２１を伸縮アーム１１を縮めて下
地保護層成膜室４から取り出して、回転軸１２により基
板２１を保持した基板ホルダー１０をドライエッチング
室５の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基
板ホルダー１０に保持された基板２１をドライエッチン
グ室５内に収納する。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, the substrate 21 on which the base protective layer 22 is formed is taken out of the base protective layer film forming chamber 4 by contracting the telescopic arm 11, and the substrate 21 is held by the rotating shaft 12. The substrate holder 10 is rotated to the position of the dry etching chamber 5, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 21 held by the substrate holder 10 is stored in the dry etching chamber 5.

【００６３】光情報記録媒体製造装置１は、ドライエッ
チング室５で、図２（ｂ）に示すように、膜厚Ｔｄの下
地保護層２２の上部を所定厚さ（Ｔｄ−Ｔ）だけ、Ａｒ
を用いたスパッタエッチングにより除去し、下地保護層
２２を厚さＴの膜厚にする。例えば、下地保護層２２の
膜厚Ｔｄが、１２０ｎｍであると、所定厚さ（Ｔｄ−
Ｔ）として、２０ｎｍだけスパッタエッチングにより除
去し、下地保護層２２の膜厚Ｔを、１００ｎｍとする。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, in the dry etching chamber 5, as shown in FIG. 2B, the upper part of the underlayer protective layer 22 having a thickness Td is reduced by a predetermined thickness (Td−T).
The underlayer protection layer 22 is removed to a thickness T by sputtering. For example, when the film thickness Td of the base protective layer 22 is 120 nm, the predetermined thickness (Td−
T) is removed by sputter etching by 20 nm, and the film thickness T of the base protective layer 22 is set to 100 nm.

【００６４】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
２２のエッチングの完了した基板２１を伸縮アーム１１
を縮めてドライエッチング室５から取り出して、回転軸
１２により基板２１を保持した基板ホルダー１０を記録
層成膜室６の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばし
て、基板ホルダー１０に保持された基板２１を記録層成
膜室６内に収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 mounts the substrate 21 on which the base protective layer 22 has been etched
The substrate holder 10 holding the substrate 21 was rotated by the rotating shaft 12 to the position of the recording layer film forming chamber 6, and the telescopic arm 11 was extended and held by the substrate holder 10. The substrate 21 is housed in the recording layer deposition chamber 6.

【００６５】光情報記録媒体製造装置１は、記録層成膜
室６で、図２（ｃ）に示すように、エッチングにより上
部の除去された下地保護層２２の上に、記録層２３を成
膜する。記録層２３は、例えば、材料として、ＡｇＩｎ
ＳｂＴｅを用いて、例えば、２０ｎｍの厚さに形成され
る。なお、記録層２３の材料としては、他に、例えば、
ＧｅＳｂＴｅ、ＧｅＩｎＳｂＴｅ等を用いることができ
るが、これらに限るものではなく、要は、レーザ光の照
射前後でその光学的特性が可逆的に変化する、すなわ
ち、熱的な作用により結晶化状態とアモルファス状態の
遷移が可逆的に変化する材料であれば、用いることがで
きる。記録層２３の材料として、例えば、空間群Ｆｍ３
ｍに属する準安定Ｓｂ3Ｔｅ相を有したものを用いる
と、熱的な作用により結晶化状態とアモルファス状態の
遷移が可逆的に変化させることができるとともに、高密
度記録が可能で、かつ、優れた繰り返し記録特性を得る
ことができる。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 2C, the recording layer 23 is formed on the underlayer protective layer 22 whose upper portion has been removed by etching in the recording layer film forming chamber 6. Film. The recording layer 23 is made of, for example, AgIn
It is formed to a thickness of, for example, 20 nm using SbTe. In addition, as a material of the recording layer 23, for example,
GeSbTe, GeInSbTe, etc. can be used, but are not limited to these. The point is that the optical characteristics change reversibly before and after laser beam irradiation, that is, the crystallization state and the amorphous state due to thermal action. Any material whose state transition reversibly changes can be used. As a material of the recording layer 23, for example, the space group Fm3
When a material having a metastable Sb 3 Te phase belonging to m is used, the transition between the crystallized state and the amorphous state can be reversibly changed by thermal action, high-density recording is possible, and Excellent repetitive recording characteristics can be obtained.

【００６６】光情報記録媒体製造装置１は、記録層２３
の成膜された基板２１を伸縮アーム１１を縮めて記録層
成膜室６から取り出して、回転軸１２により基板２１を
保持した基板ホルダー１０を上地保護層成膜室７の位置
に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー
１０に保持された基板２１を上地保護層成膜室７内に収
納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes a recording layer 23
The substrate 21 having the film formed thereon is retracted from the recording layer film forming chamber 6 by retracting the telescopic arm 11, and the substrate holder 10 holding the substrate 21 is rotated to the position of the upper protective layer film forming chamber 7 by the rotating shaft 12. Then, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 21 held by the substrate holder 10 is stored in the upper protective layer deposition chamber 7.

【００６７】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
成膜室７で、図２（ｃ）に示すように、記録層２３の上
に、上地保護層２４を成膜する。上地保護層２４は、例
えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 を用いて、２０ｎ
ｍの厚さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms the upper protective layer 24 on the recording layer 23 in the upper protective layer film forming chamber 7 as shown in FIG. The upper protective layer 24 is made of, for example, ZnS / SiO 2 as a material and has a thickness of 20 n.
m.

【００６８】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
２４の成膜された基板２１を伸縮アーム１１を縮めて上
地保護層成膜室７から取り出して、回転軸１２により基
板２１を保持した基板ホルダー１０を反射層成膜室８の
位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホル
ダー１０に保持された基板２１を反射層成膜室８及び反
射層成膜室９内に順次収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 takes out the substrate 21 on which the upper protective layer 24 is formed from the upper protective layer film forming chamber 7 by retracting the telescopic arm 11, and removes the substrate 21 by the rotating shaft 12. The held substrate holder 10 is rotated to the position of the reflective layer film forming chamber 8, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 21 held by the substrate holder 10 is moved into the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9. Store sequentially.

【００６９】光情報記録媒体製造装置１は、反射層成膜
室８及び反射層成膜室９で、図２（ｃ）に示すように、
上地保護層２４の上に、反射層２５を成膜する。反射層
２５は、例えば、材料として、Ａｌを用いて、２００ｎ
ｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 2 (c), in the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9,
The reflective layer 25 is formed on the upper protective layer 24. The reflective layer 25 is made of, for example, Al,
m.

【００７０】光情報記録媒体製造装置１は、反射層２５
の成膜された基板２１を伸縮アーム１１を縮めて反射層
成膜室９から取り出す。光情報記録媒体製造装置１は、
反射層成膜室９から基板２１を取り出すと、回転軸１２
により基板２１を保持した基板ホルダー１０を基板搬入
・搬出室２の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばし
て、基板搬入・搬出室２を介して、製造された光情報記
録媒体２０を光情報記録媒体製造装置１外に取り出す。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes the reflection layer 25
The substrate 21 having the film formed thereon is taken out of the reflective layer film forming chamber 9 by contracting the telescopic arm 11. The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes:
When the substrate 21 is taken out from the reflection layer film forming chamber 9, the rotating shaft 12
By rotating the substrate holder 10 holding the substrate 21 to the position of the substrate loading / unloading chamber 2 by extending the telescopic arm 11, the manufactured optical information recording medium 20 is transferred through the substrate loading / unloading chamber 2 to optical information. It is taken out of the recording medium manufacturing apparatus 1.

【００７１】このようにして製造された光情報記録媒体
２０は、上記材料、すなわち、下地保護層２２及び上地
保護層２４として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 、記録層２３とし
て、ＡｇＩｎＳｂＴｅ及び反射層２５として、Ａｌを用
い、エッチング後の下地保護層２２を、１００ｎｍ、記
録層２３を、２０ｎｍ、上地保護層２４を、２０ｎｍ、
反射層２５を、２００ｎｍの膜厚にそれぞれ形成したと
ころ、光情報記録媒体２０の記録層２３には、アモルフ
ァス状態が残存し、完全な初期化にまでは至らなかった
が、この光情報記録媒体２０をレーザービーム照射で初
期化を行ったところ、従来の初期化方法では、初期化す
るのに６０ｓｅｃを要していたが、本実施の形態の光情
報記録媒体製造装置１で製造した光情報記録媒体２０
は、初期化するのに、２０ｓｅｃしか要しなかった。し
たがって、初期化時間を大幅に短縮することができ、初
期化された光情報記録媒体２０を製造するのうえでのス
ループットを大幅に向上させることができる。The optical information recording medium 20 manufactured as described above is made of the above-mentioned materials, that is, ZnS / SiO 2 as the underlayer protection layer 22 and the upper layer protection layer 24, and AgInSbTe as the recording layer 23 and the reflection layer 25. , Al, the underlayer protective layer 22 after etching is 100 nm, the recording layer 23 is 20 nm, the upper protective layer 24 is 20 nm,
When the reflective layer 25 was formed to a thickness of 200 nm, the amorphous state remained in the recording layer 23 of the optical information recording medium 20 and did not reach complete initialization. When the optical information recording medium 20 was initialized by laser beam irradiation, it took 60 seconds to initialize in the conventional initialization method, but the optical information manufactured by the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 of the present embodiment was used. Recording medium 20
Required only 20 seconds to initialize. Therefore, the initialization time can be significantly reduced, and the throughput in manufacturing the initialized optical information recording medium 20 can be greatly improved.

【００７２】なお、本実施の形態の光情報記録媒体製造
装置１は、上記材料と膜厚で製造した光情報記録媒体２
０の記録層２３にアモルファス状態が残存していたが、
記録層２３の結晶化の状態は、記録層２３の材料系、あ
るいは、ドライエッチングにより除去する下地保護層２
２の膜厚（Ｔｄ−Ｔ）によって、様々に変化するので、
記録層２３の材料に応じて、上地保護層２４の除去膜厚
の適正な組み合わせを選定することにより、光情報記録
媒体製造装置１で光情報記録媒体２０を製造した段階
で、記録層２３を完全にアモルファス状態とすることが
でき、光情報記録媒体製造装置１で完全に初期化を完了
した状態の光情報記録媒体２０を製造することができ
る。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 of the present embodiment uses the optical information recording medium 2 manufactured with the above-mentioned material and film thickness.
Although the amorphous state remained in the recording layer 23 of No. 0,
The state of crystallization of the recording layer 23 may be determined by the material system of the recording layer 23 or the underlying protective layer 2 to be removed by dry etching.
2 varies depending on the thickness (Td−T) of
By selecting an appropriate combination of the removed film thicknesses of the upper protective layer 24 according to the material of the recording layer 23, the optical information recording medium 20 is manufactured at the stage of manufacturing the optical information recording medium 20 by the optical information recording medium manufacturing apparatus 1. Can be completely in an amorphous state, and the optical information recording medium 20 in a state where the initialization has been completely completed by the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 can be manufactured.

【００７３】このように、本実施の形態の光情報記録媒
体製造装置１及び光情報記録媒体２０は、レーザ光が照
射されることでその光学特性が可逆的に変化する記録層
２３を形成する下地保護層２２を、一旦所望の膜厚Ｔよ
りも所定膜厚（Ｔｄ−Ｔ）だけ厚く形成し、その後、ド
ライエッチングで除去して、最終の所望の膜厚Ｔに形成
している。このドライエッチングのエネルギー照射によ
り所望の膜厚Ｔの下地保護層２２を通して基板２１を加
熱することができ、記録層２３の成膜前の基板２１の温
度を高温に設定することができる。この記録層２３の成
膜前の基板２１のプリヒートにより、成膜直後に該記録
層２３を結晶化状態、あるいは少なくとも結晶状態とア
モルファス状態の混在した状態として、初期化不要、あ
るいは、初期化容易なものとすることができ、初期化工
程を省き、あるいは、初期化時間を短縮化して、光情報
記録媒体２０の生産性を向上させるとともに、光情報記
録媒体２０を安価なものとすることができる。As described above, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the optical information recording medium 20 of the present embodiment form the recording layer 23 whose optical characteristics are reversibly changed by the irradiation of the laser beam. The underlayer protection layer 22 is formed to be once thicker by a predetermined thickness (Td-T) than the desired thickness T, and then removed by dry etching to form a final desired thickness T. By irradiating the energy of the dry etching, the substrate 21 can be heated through the base protective layer 22 having a desired film thickness T, and the temperature of the substrate 21 before forming the recording layer 23 can be set to a high temperature. Due to the preheating of the substrate 21 before the formation of the recording layer 23, the recording layer 23 is brought into a crystallized state immediately after the film formation, or at least a mixed state of a crystalline state and an amorphous state, so that initialization is unnecessary or easy. It is possible to eliminate the initialization step or shorten the initialization time to improve the productivity of the optical information recording medium 20 and to make the optical information recording medium 20 inexpensive. it can.

【００７４】また、本実施の形態の光情報記録媒体製造
装置１及び光情報記録媒体２０は、上地保護層２２を除
去するのに用いるドライエッチングとして、Ａｒガスを
用いたスパッタエッチングを利用している。Further, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the optical information recording medium 20 of the present embodiment use sputter etching using Ar gas as dry etching for removing the upper protective layer 22. ing.

【００７５】したがって、光情報記録媒体２０の製造に
一般的に用いられている枚葉式スパッタ装置を用いて容
易にドライエッチングを行うことができ、光情報記録媒
体２０の生産性を向上させることができるとともに、光
情報記録媒体２０をより一層安価なものとすることがで
きる。Accordingly, dry etching can be easily performed by using a single-wafer sputtering apparatus generally used for manufacturing the optical information recording medium 20, and the productivity of the optical information recording medium 20 can be improved. And the optical information recording medium 20 can be made more inexpensive.

【００７６】さらに、本実施の形態の光情報記録媒体製
造装置１及び光情報記録媒体２０は、上記製造プロセス
において、下地保護層２２の任意膜厚Ｔｄの成膜とドラ
イエッチングを任意回数だけ交互に繰り返すことで、記
録層２３の成膜前の基板２１の温度をより高温に設定す
ることができ、記録層２３の結晶化効果をより一層増大
させることができるとともに、下地保護層２２の成膜と
エッチングの膜厚を調整することで、基板２１の温度を
制御することができる。Further, in the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the optical information recording medium 20 of the present embodiment, in the above manufacturing process, the formation of the underlayer protective layer 22 having an arbitrary film thickness Td and the dry etching are alternately performed an arbitrary number of times. By repeating this step, the temperature of the substrate 21 before the formation of the recording layer 23 can be set at a higher temperature, the crystallization effect of the recording layer 23 can be further increased, and the formation of the underlying protective layer 22 can be further improved. The temperature of the substrate 21 can be controlled by adjusting the thickness of the film and the thickness of the etching.

【００７７】また、少なくとも、下地保護層２２の成膜
及びエッチング中に、基板２１を保持する基板ホルダー
１０の少なくとも基板２１と相対する面を、基板２１と
熱伝導率が近いか同じ材料とすると、基板２１からの放
熱を防ぐことができ、基板２１の温度を高温に保つこと
ができるとともに、基板２１の面内での温度分布を均一
にすることができ、記録層２３の結晶化の促進及び均一
結晶化を実現することができる。例えば、基板２１の材
料として、代表的なポリカーボネイト樹脂等の高分子材
料を用いる場合には、基板ホルダー１０の少なくとも基
板２１と相対する面の材料として、熱伝導率が、０．１
〜１．０（Ｋｃａｌ／ｍ・ｈｒ・℃）のものを選定する
ことが望ましい。Further, at least during the formation and etching of the undercoat protective layer 22, at least the surface of the substrate holder 10 holding the substrate 21 facing the substrate 21 is made of a material having a thermal conductivity close to or the same as that of the substrate 21. In addition, heat radiation from the substrate 21 can be prevented, the temperature of the substrate 21 can be maintained at a high temperature, the temperature distribution in the plane of the substrate 21 can be made uniform, and the crystallization of the recording layer 23 can be promoted. And uniform crystallization can be realized. For example, when a polymer material such as a typical polycarbonate resin is used as the material of the substrate 21, at least the surface of the substrate holder 10 facing the substrate 21 has a thermal conductivity of 0.1.
It is desirable to select a value of about 1.0 (Kcal / m · hr · ° C.).

【００７８】さらに、任意膜厚Ｔｄの下地保護層２２の
成膜後で、かつ、記録層２３の成膜直前に、結晶化促進
層を成膜すると、記録層２３の結晶化をより一層促進す
ることができる。この結晶化促進層により、上記製造プ
ロセスを実施した際に完全に結晶状態となる材料系にお
いては、結晶化時間を短縮して生産のスループットを向
上させることができ、また、結晶状態とアモルファス状
態が混在した状態となる材料系においては、結晶化状態
となる割合を増大、あるいは、完全に結晶化することが
できる。また、ドライエッチングを行う膜を結晶化促進
層とした場合にも、上記同様の効果が得られる。この結
晶化促進層としては、少なくともＢｉを含む材料が有効
である。Further, if the crystallization promoting layer is formed after the underlayer protective layer 22 having an arbitrary thickness Td and immediately before the formation of the recording layer 23, the crystallization of the recording layer 23 is further promoted. can do. The crystallization promoting layer can shorten the crystallization time and improve the production throughput in a material system that is completely crystalline when the above manufacturing process is performed. In a material system in which is mixed, it is possible to increase the ratio of being in a crystallized state or to completely crystallize. The same effect as described above can be obtained also when the film on which dry etching is performed is used as the crystallization promoting layer. As the crystallization promoting layer, a material containing at least Bi is effective.

【００７９】図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の光情報記
録媒体及び光情報記録媒体の製造方法の第２の実施の形
態を示す図であり、本実施の形態は、請求項２及び請求
項８に対応するものである。FIGS. 3A to 3D are views showing a second embodiment of the optical information recording medium and the method for manufacturing the optical information recording medium according to the present invention. This corresponds to claim 2 and claim 8.

【００８０】なお、本実施の形態は、上記第１の実施の
形態と同様の光情報記録媒体製造装置を用いて光情報記
録媒体を製造する場合に適用したものであり、本実施の
形態の説明においては、上記第１の実施の形態の図１で
用いた符号をそのまま用いて説明する。This embodiment is applied to a case where an optical information recording medium is manufactured by using the same optical information recording medium manufacturing apparatus as that of the first embodiment. In the description, the same reference numerals used in FIG. 1 of the first embodiment are used as they are.

【００８１】本実施の形態においては、上記図１の光情
報記録媒体製造装置１を用いて図３（ａ）から（ｄ）に
示す光情報記録媒体３０を製造するが、下地保護層成膜
室４に、Ａｒガスによるスパッタエッチングの機能を付
加し、ドライエッチング室５を使用しないで、光情報記
録媒体３０の製造を行う。すなわち、下地保護層成膜室
４を下地保護層成膜兼ドライエッチング室として利用す
る。In this embodiment, the optical information recording medium 30 shown in FIGS. 3A to 3D is manufactured using the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 shown in FIG. The optical information recording medium 30 is manufactured without using the dry etching chamber 5 by adding the function of sputter etching using Ar gas to the chamber 4. That is, the base protective layer film forming chamber 4 is used as a base protective layer film forming and dry etching chamber.

【００８２】上記光情報記録媒体製造装置１を用いて、
光情報記録媒体３０を製造するには、まず、基板搬入・
搬出室２を介して光情報記録媒体３０の基板３１を、伸
縮アーム１１の先端に取り付けられた基板ホルダー１０
で保持し、回転軸１２を回転させて、下地保護層成膜室
３及び下地保護層成膜室４の位置に順次基板３１を搬送
して、伸縮アーム１１を伸ばして下地保護層成膜室３及
び下地保護層成膜室４内に順次収納する。Using the above optical information recording medium manufacturing apparatus 1,
To manufacture the optical information recording medium 30, first, the substrate
The substrate 31 of the optical information recording medium 30 is transferred via the unloading chamber 2 to the substrate holder 10
The substrate 31 is sequentially transported to the positions of the base protective layer film forming chamber 3 and the base protective layer film forming chamber 4 by rotating the rotating shaft 12, and the telescopic arm 11 is extended so that the base protective layer film forming chamber 3 is extended. 3 and the base protective layer deposition chamber 4.

【００８３】この基板３１は、例えば、射出成形により
形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカー
ボネイト基板である。The substrate 31 is, for example, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm formed by injection molding.

【００８４】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
成膜室３及び下地保護層成膜室４で、図３（ａ）に示す
ように、基板３１上に下地保護層３２を成膜する。下地
保護層３２は、例えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2
を用いて、所定膜厚Ｔｓ、例えば、１１０ｎｍの厚さに
形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 3A, a base protective layer 32 is formed on a substrate 31 in the base protective layer film forming chamber 3 and the base protective layer film forming chamber 4. I do. The underlying protective layer 32 is made of, for example, ZnS / SiO 2 as a material.
Is formed to a predetermined thickness Ts, for example, 110 nm.

【００８５】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
３２の成膜された基板３１を移動させることなく、下地
保護層成膜兼ドライエッチング室である下地保護層成膜
室４で、図（ｂ）に示すように、膜厚Ｔｓの下地保護層
３２の上部を所定厚さ（Ｔｓ−Ｔｒ）だけ、Ａｒガスを
用いたスパッタエッチングにより除去し、下地保護層３
２を厚さＴｒの膜厚にする。例えば、下地保護層３２の
膜厚Ｔｓが、１１０ｎｍであると、所定厚さ（Ｔｓ−Ｔ
ｒ）として、２０ｎｍだけスパッタエッチングにより除
去し、下地保護層３２の膜厚Ｔｒを、９０ｎｍとする。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 does not move the substrate 31 on which the underlying protective layer 32 has been formed, and moves the substrate 31 in the underlying protective layer film forming chamber 4, which is a chamber for forming the underlying protective layer and performing dry etching. As shown in (b), the upper portion of the underlayer protective layer 32 having the thickness Ts is removed by a predetermined thickness (Ts-Tr) by sputter etching using Ar gas, and the underlayer protective layer 3 is removed.
2 is set to a thickness Tr. For example, when the film thickness Ts of the base protective layer 32 is 110 nm, the predetermined thickness (Ts−T
As r), only 20 nm is removed by sputter etching, and the film thickness Tr of the base protective layer 32 is set to 90 nm.

【００８６】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
３２のエッチングの完了した基板３１を、下地保護層成
膜室４で、再度、所定厚さ（Ｔｓ−Ｔｒ）だけ下地保護
層３２を成膜して、図３（ａ）に示した状態とする。こ
の下地保護層３２を再度スパッタエッチングにより所定
厚さ（Ｔｓ−Ｔｒ）だけ除去し、再度、所定厚さ（Ｔｓ
−Ｔｒ）だけ下地保護層３２を成膜する下地保護層３２
の成膜と除去を所定回数、例えば、５回繰り返し実行す
る。そして、最後に、下地保護層成膜室４で、厚さＴｓ
に成膜されている下地保護層３２を、図３（ｃ）に示す
ように、所定厚さ（Ｔｓ−Ｔ）だけ除去し、下地保護層
３２を所定厚さＴの膜厚にする。例えば、下地保護層３
２の膜厚Ｔｓが、１１０ｎｍであると、所定厚さ（Ｔｓ
−Ｔ）として、１０ｎｍだけスパッタエッチングにより
除去し、下地保護層３２の膜厚Ｔを、１００ｎｍとす
る。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, the substrate 31 on which the etching of the undercoat protective layer 32 is completed is again applied to the undercoat protective layer 32 by a predetermined thickness (Ts-Tr) in the undercoat protective film forming chamber 4. After the film is formed, the state shown in FIG. The underlying protective layer 32 is removed again by a predetermined thickness (Ts-Tr) by sputter etching, and is again removed by a predetermined thickness (Ts-Tr).
−Tr) to form the underlying protective layer 32 only
Is repeatedly performed a predetermined number of times, for example, five times. Finally, the thickness Ts is set in the base protection layer deposition chamber 4.
3C, a predetermined thickness (Ts-T) is removed to form the base protective layer 32 to have a predetermined thickness T, as shown in FIG. For example, the base protective layer 3
2 is 110 nm, the predetermined thickness (Ts
As −T), 10 nm is removed by sputter etching, and the film thickness T of the underlying protective layer 32 is set to 100 nm.

【００８７】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
成膜室４で最終のエッチングが完了して下地保護層３２
の成膜された基板３１を伸縮アーム１１を縮めて下地保
護層成膜室４から取り出して、回転軸１２により基板３
１を保持した基板ホルダー１０を記録層成膜室６の位置
に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー
１０に保持された基板３１を記録層成膜室６内に収納す
る。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, the final etching is completed in the
The substrate 31 on which the film is formed is retracted by retracting the telescopic arm 11 and taken out of the base protection layer film forming chamber 4, and the substrate 3 is rotated by the rotating shaft 12.
The substrate holder 10 holding 1 is rotated to the position of the recording layer film forming chamber 6, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 31 held by the substrate holder 10 is stored in the recording layer film forming chamber 6.

【００８８】光情報記録媒体製造装置１は、記録層成膜
室６で、図３（ｄ）に示すように、下地保護層３２の上
に、記録層３３を成膜する。記録層３３は、例えば、材
料として、ＡｇＩｎＳｂＴｅを用いて、２０ｎｍの厚さ
に形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms the recording layer 33 on the undercoat protective layer 32 in the recording layer film forming chamber 6 as shown in FIG. The recording layer 33 is formed to a thickness of 20 nm using, for example, AgInSbTe as a material.

【００８９】光情報記録媒体製造装置１は、記録層３３
の成膜された基板３１を伸縮アーム１１を縮めて記録層
成膜室６から取り出して、回転軸１２により基板３１を
保持した基板ホルダー１０を上地保護層成膜室７の位置
に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー
１０に保持された基板３１を上地保護層成膜室７内に収
納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes a recording layer 33
The substrate 31 on which the film 31 is formed is retracted from the recording layer film forming chamber 6 by retracting the telescopic arm 11, and the substrate holder 10 holding the substrate 31 is rotated to the position of the upper protective layer film forming chamber 7 by the rotating shaft 12. Then, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 31 held by the substrate holder 10 is stored in the upper protective layer deposition chamber 7.

【００９０】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
成膜室７で、図３（ｄ）に示すように、記録層３３の上
に、上地保護層３４を成膜する。上地保護層３４は、例
えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 を用いて、例え
ば、２０ｎｍの厚さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms the upper protective layer 34 on the recording layer 33 in the upper protective layer film forming chamber 7 as shown in FIG. The upper protective layer 34 is formed to a thickness of, for example, 20 nm using ZnS / SiO 2 as a material, for example.

【００９１】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
３４の形成された基板３１を伸縮アーム１１を縮めて上
地保護層成膜室７から取り出して、回転軸１２により基
板３１を保持した基板ホルダー１０を反射層成膜室８の
位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホル
ダー１０に保持された基板３１を反射層成膜室８及び反
射層成膜室９内に順次収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 takes out the substrate 31 on which the upper protective layer 34 is formed from the upper protective layer film forming chamber 7 by shrinking the telescopic arm 11, and holds the substrate 31 by the rotating shaft 12. The rotated substrate holder 10 is rotated to the position of the reflective layer film forming chamber 8, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 31 held by the substrate holder 10 is sequentially placed in the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9. To store.

【００９２】光情報記録媒体製造装置１は、反射層成膜
室８及び反射層成膜室９で、図３（ｄ）に示すように、
上地保護層３４の上に、反射層３５を成膜する。反射層
３５は、例えば、材料として、Ａｌを用いて、２００ｎ
ｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 3D, in the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9,
The reflection layer 35 is formed on the upper protection layer 34. The reflection layer 35 is made of, for example, 200 n using Al as a material.
m.

【００９３】光情報記録媒体製造装置１は、反射層３５
の成膜された基板３１を伸縮アーム１１を縮めて反射層
成膜室９から取り出す。光情報記録媒体製造装置１は、
反射層成膜室９から基板３１を取り出すと、回転軸１２
により基板３１を保持した基板ホルダー１０を基板搬入
・搬出室２の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばし
て、基板搬入・搬出室２を介して、製造された光情報記
録媒体３０を光情報記録媒体製造装置１外に取り出す。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes the reflection layer 35
The substrate 31 on which the film is formed is retracted by retracting the telescopic arm 11 and taken out of the reflective layer film forming chamber 9. The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes:
When the substrate 31 is taken out from the reflection layer deposition chamber 9, the rotation shaft 12
By rotating the substrate holder 10 holding the substrate 31 to the position of the substrate loading / unloading chamber 2 by extending the telescopic arm 11, the optical information recording medium 30 manufactured by the substrate loading / unloading chamber 2 It is taken out of the recording medium manufacturing apparatus 1.

【００９４】このようにして製造された光情報記録媒体
３０は、上記材料、すなわち、下地保護層３２及び上地
保護層３４として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 、記録層３３とし
て、ＡｇＩｎＳｂＴｅ及び反射層３５として、Ａｌを用
い、最終のエッチング後の下地保護層３２を、１１０ｎ
ｍ、記録層３３を、２０ｎｍ、上地保護層３４を、２０
ｎｍ、反射層３５を、２００ｎｍの膜厚にそれぞれ形成
し、反射率の評価を行ったところ、光情報記録媒体３０
の記録層３３は、十分に初期化されており、初期化が完
了していることを確認することができた。The optical information recording medium 30 manufactured in this manner is made of the above-mentioned materials, that is, ZnS / SiO 2 as the underlayer protection layer 32 and the upper layer protection layer 34, and AgInSbTe and the reflection layer 35 as the recording layer 33. , Al, and the underlying protective layer 32 after the final etching is
m, the recording layer 33 is 20 nm, and the upper protective layer 34 is 20 nm.
The reflective layer 35 was formed to a thickness of 200 nm, and the reflectance was evaluated.
Of the recording layer 33 was sufficiently initialized, and it was confirmed that the initialization was completed.

【００９５】したがって、光情報記録媒体３０の初期化
プロセスを省略することができ、従来のような光情報記
録媒体を初期化するための初期化システムに要する膨大
な設備投資を削減することができる。Therefore, the initialization process of the optical information recording medium 30 can be omitted, and the enormous capital investment required for the conventional initialization system for initializing the optical information recording medium can be reduced. .

【００９６】上記実施の形態においては、下地保護層３
２に関するトータルの成膜膜厚（トータル膜厚）Ｔｄが
２１０ｎｍ（（Ｔｓ＋５×（Ｔｓ−Ｔｒ））、トータル
の除去膜厚（トータル除去膜厚）が、１１０ｎｍ（（Ｔ
ｓ−Ｔｒ）×５＋（Ｔｓ−Ｔ））となる。In the above embodiment, the base protective layer 3
2, the total film thickness (total film thickness) Td is 210 nm ((Ts + 5 × (Ts−Tr)), and the total removed film thickness (total removed film thickness) is 110 nm ((T
s−Tr) × 5 + (Ts−T)).

【００９７】このようにして、下地保護層３２のトータ
ル除去膜厚を厚くすると、エッチングにおける下地保護
層３２の表面へのトータルのエネルギー照射量を増大さ
せることができ、記録層３３の成膜前の基板３１の温度
を高温にすることができ、記録層３３をより一層完全に
結晶化させることができた。As described above, when the total thickness of the removed underlying protective layer 32 is increased, the total amount of energy applied to the surface of the underlying protective layer 32 during etching can be increased. The temperature of the substrate 31 can be increased, and the recording layer 33 can be more completely crystallized.

【００９８】なお、本実施の形態における下地保護層３
２の成膜膜厚、エッチング膜厚及び成膜とエッチングの
繰り返し回数は、限定されるものではなく、記録層３３
が結晶化されるのに必要十分な条件を適宜設定すること
ができる。Note that the underlayer protective layer 3 in the present embodiment is
The film thickness of film 2, the etching film thickness, and the number of repetitions of film formation and etching are not limited.
The conditions necessary and sufficient for crystallization of can be appropriately set.

【００９９】また、下地保護層３２の成膜膜厚とエッチ
ング膜厚は、成膜とエッチングの繰り返し毎に同じ膜厚
にする必要はなく、下地保護層３２が除去されない範囲
であれば、適宜設定することができる。The film thickness and the etching film thickness of the underlying protective layer 32 do not need to be the same every time the film forming and the etching are repeated, and may be appropriately set as long as the underlying protective layer 32 is not removed. Can be set.

【０１００】このように、本実施の形態の光情報記録媒
体製造装置１及び光情報記録媒体３０は、下地保護層３
２を、記録層３３の成膜前に、一旦所望の膜厚Ｔよりも
所定膜厚だけ厚い膜厚Ｔｓに形成し、その後、ドライエ
ッチングで除去する膜形成及び除去処理を複数回行った
後、再度、所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成した
後、ドライエッチングで最終の所望の膜厚Ｔに形成して
いる。As described above, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the optical information recording medium 30 of this embodiment
2 is formed to a thickness Ts that is once more than the desired thickness T by a predetermined thickness before the formation of the recording layer 33, and then a plurality of times of film formation and removal processing for removing by dry etching are performed. After forming again a predetermined thickness larger than the desired film thickness, the final desired film thickness T is formed by dry etching.

【０１０１】したがって、記録層３３を成膜する前に、
基板３１を高温にして、膜形成段階で、記録層３３をよ
り一層適切に結晶化状態として、初期化不要なものとす
ることができ、初期化工程を省いて、光情報記録媒体３
０の生産性をより一層向上させることができるととも
に、光情報記録媒体３０を安価なものとすることができ
る。Therefore, before forming the recording layer 33,
The substrate 31 is heated to a high temperature, and in the film formation stage, the recording layer 33 is more appropriately crystallized, so that the initialization is unnecessary. The initialization process can be omitted, and the optical information recording medium 3 can be omitted.
0 can be further improved, and the optical information recording medium 30 can be made inexpensive.

【０１０２】また、本実施の形態においても、下地保護
層３２を除去するのに用いるドライエッチングとして、
Ａｒガスを用いたスパッタエッチングを利用しているの
で、光情報記録媒体３０の製造に一般的に用いられてい
る枚葉式スパッタ装置を用いて容易にドライエッチング
を行うことができ、光情報記録媒体３０の生産性を向上
させることができるとともに、光情報記録媒体３０をよ
り一層安価なものとすることができる。Also in the present embodiment, the dry etching used to remove the underlying protective layer 32 is performed as follows.
Since sputter etching using Ar gas is used, dry etching can be easily performed using a single-wafer sputtering apparatus generally used for manufacturing the optical information recording medium 30, and optical information recording can be performed. The productivity of the medium 30 can be improved, and the optical information recording medium 30 can be made more inexpensive.

【０１０３】図４（ａ）〜図４（ｃ）は、本発明の光情
報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法の第３の実施
の形態を示す図であり、本実施の形態は、請求項２及び
請求項８に対応するものである。FIGS. 4A to 4C are diagrams showing a third embodiment of the optical information recording medium and the method for manufacturing the optical information recording medium according to the present invention. This corresponds to claims 2 and 8.

【０１０４】なお、本実施の形態は、上記第１の実施の
形態と同様の光情報記録媒体製造装置を用いて光情報記
録媒体を製造する場合に適用したものであり、本実施の
形態の説明においては、上記第１の実施の形態の図１で
用いた符号をそのまま用いて説明する。This embodiment is applied to a case where an optical information recording medium is manufactured by using the same optical information recording medium manufacturing apparatus as that of the first embodiment. In the description, the same reference numerals used in FIG. 1 of the first embodiment are used as they are.

【０１０５】本実施の形態においては、上記図１の光情
報記録媒体製造装置１を用いて図４（ａ）〜（ｃ）に示
す光情報記録媒体４０を製造するが、ドライエッチング
室５を、結晶化促進層成膜室とし、さらに、下地保護層
成膜室４を、Ａｒガスによるスパッタエッチングの機能
を付加し、下地保護層成膜兼ドライエッチング室として
利用して、光情報記録媒体４０の製造を行う。In the present embodiment, the optical information recording medium 40 shown in FIGS. 4A to 4C is manufactured by using the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 shown in FIG. And a crystallization promoting layer film forming chamber, and a base protective layer film forming chamber 4 with an additional sputter etching function using Ar gas, and is used as a base protective layer film forming and dry etching chamber. 40 is manufactured.

【０１０６】上記光情報記録媒体製造装置１を用いて、
光情報記録媒体４０を製造するには、まず、基板搬入・
搬出室２を介して光情報記録媒体４０の基板４１を、伸
縮アーム１１の先端に取り付けられた基板ホルダー１０
で保持し、回転軸１２を回転させて、下地保護層成膜室
３及び下地保護層成膜室４の位置に順次基板４１を搬送
して、伸縮アーム１１を伸ばして下地保護層成膜室３及
び下地保護層成膜室４内に順次収納する。Using the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 described above,
To manufacture the optical information recording medium 40, first,
The substrate 41 of the optical information recording medium 40 is transferred through the unloading chamber 2 to the substrate holder 10
The substrate 41 is sequentially transported to the positions of the base protective layer film forming chamber 3 and the base protective layer film forming chamber 4 by rotating the rotation shaft 12, and the telescopic arm 11 is extended to extend the base protective layer film forming chamber 3. 3 and the base protective layer deposition chamber 4.

【０１０７】この基板４１は、例えば、射出成形により
形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカー
ボネイト基板である。The substrate 41 is, for example, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm formed by injection molding.

【０１０８】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
成膜室３及び下地保護層成膜室４で、図４（ａ）に示す
ように、基板４１上に下地保護層４２を成膜する。下地
保護層４２は、例えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2
を用いて、所定膜厚Ｔｄ、例えば、１２０ｎｍの厚さに
形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 4A, a base protective layer 42 is formed on a substrate 41 in the base protective layer film forming chamber 3 and the base protective layer film forming chamber 4. I do. The underlying protective layer 42 is made of, for example, ZnS / SiO 2 as a material.
Is formed to a predetermined thickness Td, for example, a thickness of 120 nm.

【０１０９】さらに、光情報記録媒体製造装置１は、下
地保護層４２の成膜された基板４１を移動させることな
く、下地保護層成膜兼ドライエッチング室である下地保
護層成膜室４で、図４（ｂ）に示すように、膜厚Ｔｄの
下地保護層４２の上部を所定厚さ（Ｔｄ−Ｔ）だけ、Ａ
ｒガスを用いたスパッタエッチングにより除去し、下地
保護層４２を厚さＴの膜厚にする。例えば、下地保護層
４２の膜厚Ｔｄが、１２０ｎｍであると、所定厚さ（Ｔ
ｄ−Ｔ）として、２０ｎｍだけスパッタエッチングによ
り除去し、下地保護層４２の膜厚Ｔを、１００ｎｍとす
る。Further, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 does not move the substrate 41 on which the underlayer protective layer 42 is formed, but moves the substrate 41 in the underlayer protective layer film forming chamber 4 which is the underlayer protective layer film formation and dry etching chamber. As shown in FIG. 4B, the upper portion of the underlayer protective layer 42 having a thickness Td is formed by a predetermined thickness (Td-T).
The base protective layer 42 is removed by sputter etching using an r gas to have a thickness T. For example, when the film thickness Td of the undercoat protective layer 42 is 120 nm, the predetermined thickness (T
As d-T), only 20 nm is removed by sputter etching, and the film thickness T of the base protective layer 42 is set to 100 nm.

【０１１０】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
４２のエッチングの完了した基板４１を伸縮アーム１１
を縮めて下地保護層成膜室４から取り出して、回転軸１
２により基板４１を保持した基板ホルダー１０を結晶化
促進層成膜室であるドライエッチング室５の位置に回転
させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー１０に
保持された基板４１をドライエッチング室５内に順次収
納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 mounts the substrate 41 on which the base protective layer 42 has been etched
Is taken out of the underlayer protective layer film forming chamber 4 and
2, the substrate holder 10 holding the substrate 41 is rotated to the position of the dry etching chamber 5 which is a crystallization promoting layer film forming chamber, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 41 held by the substrate holder 10 is moved to the dry etching chamber. 5 sequentially.

【０１１１】光情報記録媒体製造装置１は、結晶化促進
層成膜室であるドライエッチング室５で、図４（ｃ）に
示すように、下地保護層４２の上に、結晶化促進層４３
を成膜する。結晶化促進層４３は、例えば、材料とし
て、Ｂｉを用いて、３ｎｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 4 (c), the crystallization promoting layer 43
Is formed. The crystallization promoting layer 43 is formed to a thickness of 3 nm, for example, using Bi as a material.

【０１１２】光情報記録媒体製造装置１は、結晶化促進
層４３の成膜された基板４１を伸縮アーム１１を縮めて
ドライエッチング室５から取り出して、回転軸１２によ
り基板４１を保持した基板ホルダー１０を記録層成膜室
６の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板
ホルダー１０に保持された基板４１を記録層成膜室６内
に収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 removes the substrate 41 on which the crystallization promoting layer 43 is formed from the dry etching chamber 5 by shrinking the telescopic arm 11, and holds the substrate 41 by the rotating shaft 12. The substrate 10 is rotated to the position of the recording layer film forming chamber 6, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 41 held by the substrate holder 10 is stored in the recording layer film forming chamber 6.

【０１１３】光情報記録媒体製造装置１は、図４（ｃ）
に示すように、結晶化促進層４３の上に、記録層成膜室
６で、記録層４４を成膜する。記録層４４は、例えば、
材料として、ＡｇＩｎＳｂＴｅを用いて、２０ｎｍの厚
さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 is shown in FIG.
As shown in (5), a recording layer 44 is formed on the crystallization promoting layer 43 in the recording layer film forming chamber 6. The recording layer 44 includes, for example,
It is formed to a thickness of 20 nm using AgInSbTe as a material.

【０１１４】光情報記録媒体製造装置１は、記録層４４
の成膜された基板４１を伸縮アーム１１を縮めて記録層
成膜室６から取り出して、回転軸１２により基板４１を
保持した基板ホルダー１０を上地保護層成膜室７の位置
に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー
１０に保持された基板４１を上地保護層成膜室７内に収
納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes a recording layer 44
The substrate 41 on which the film 41 is formed is retracted from the recording layer film forming chamber 6 by retracting the telescopic arm 11, and the substrate holder 10 holding the substrate 41 is rotated by the rotating shaft 12 to the position of the upper protective layer film forming chamber 7. Then, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 41 held by the substrate holder 10 is stored in the upper protective layer deposition chamber 7.

【０１１５】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
成膜室７で、図４（ｃ）に示すように、記録層４４の上
に、上地保護層４５を成膜する。上地保護層４５は、例
えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 を用いて、例え
ば、２０ｎｍの厚さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms an upper protective layer 45 on the recording layer 44 in the upper protective layer film forming chamber 7 as shown in FIG. The upper protective layer 45 is formed to a thickness of, for example, 20 nm using ZnS / SiO 2 as a material, for example.

【０１１６】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
４５の成膜された基板４１を伸縮アーム１１を縮めて上
地保護層成膜室７から取り出して、回転軸１２により基
板４１を保持した基板ホルダー１０を反射層成膜室８の
位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホル
ダー１０に保持された基板４１を反射層成膜室８及び反
射層成膜室９内に順次収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 removes the substrate 41 on which the upper protective layer 45 has been formed from the upper protective layer film forming chamber 7 by contracting the telescopic arm 11, and removes the substrate 41 by the rotating shaft 12. The held substrate holder 10 is rotated to the position of the reflective layer film forming chamber 8, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 41 held by the substrate holder 10 is moved into the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9. Store sequentially.

【０１１７】光情報記録媒体製造装置１は、反射層成膜
室８及び反射層成膜室９で、図４（ｃ）に示すように、
上地保護層４５の上に、反射層４６を成膜する。反射層
４６は、例えば、材料として、Ａｌを用いて、２００ｎ
ｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG.
On the upper protective layer 45, a reflective layer 46 is formed. The reflection layer 46 is made of, for example, Al
m.

【０１１８】光情報記録媒体製造装置１は、反射層４６
の成膜された基板４１を伸縮アーム１１を縮めて反射層
成膜室９から取り出す。光情報記録媒体製造装置１は、
反射層成膜室９から基板４１を取り出すと、回転軸１２
により基板４１を保持した基板ホルダー１０を基板搬入
・搬出室２の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばし
て、基板搬入・搬出室２を介して、製造された光情報記
録媒体４０を光情報記録媒体製造装置１外に取り出す。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes the reflection layer 46.
The substrate 41 on which the film is formed is retracted by retracting the telescopic arm 11 and taken out of the reflective layer film forming chamber 9. The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes:
When the substrate 41 is taken out of the reflection layer deposition chamber 9, the rotation shaft 12
By rotating the substrate holder 10 holding the substrate 41 to the position of the substrate loading / unloading chamber 2 by extending the telescopic arm 11, the optical information recording medium 40 manufactured through the substrate loading / unloading chamber 2 is subjected to optical information. It is taken out of the recording medium manufacturing apparatus 1.

【０１１９】このようにして製造された光情報記録媒体
４０は、上記材料、すなわち、下地保護層４２及び上地
保護層４５として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 、結晶化促進層４
３として、Ｂｉ、記録層４４として、ＡｇＩｎＳｂＴｅ
及び反射層４６として、Ａｌを用い、最終のエッチング
後の下地保護層４２を、１００ｎｍ、結晶化促進層４３
を、３ｎｍ、記録層４４を、２０ｎｍ、最終のエッチン
グ後の上地保護層４５を、２０ｎｍ、反射層４６を、２
００ｎｍの膜厚にそれぞれ形成し、反射率の評価を行っ
たところ、光情報記録媒体４０の記録層４４は、十分に
初期化されており、初期化が完了していることを確認す
ることができた。The optical information recording medium 40 manufactured as described above is made of the above-mentioned materials, that is, ZnS / SiO 2 , the crystallization promoting layer 4 as the underlayer protective layer 42 and the upper layer protective layer 45.
3, as Bi, and as the recording layer 44, AgInSbTe.
Al is used as the reflection layer 46, and the base protection layer 42 after the final etching is
3 nm, the recording layer 44 is 20 nm, the upper protective layer 45 after the final etching is 20 nm, and the reflection layer 46 is 2 nm.
When each was formed to a thickness of 00 nm and the reflectance was evaluated, it was confirmed that the recording layer 44 of the optical information recording medium 40 was sufficiently initialized and the initialization was completed. did it.

【０１２０】したがって、光情報記録媒体４０の初期化
プロセスを省略することができ、従来のような光情報記
録媒体を初期化するための初期化システムに要する膨大
な設備投資を削減することができる。Therefore, the initialization process of the optical information recording medium 40 can be omitted, and the enormous capital investment required for the initialization system for initializing the optical information recording medium can be reduced. .

【０１２１】このようにして、下地保護層４２と記録層
４４の間に、結晶化促進層４３を形成すると、エッチン
グにおける下地保護層４２の表面へのエネルギー照射に
より、十分に加熱された基板４１により結晶化促進層４
３の作用と相まって、記録層４４をより一層完全に結晶
化させることができる。In this manner, when the crystallization promoting layer 43 is formed between the underlying protective layer 42 and the recording layer 44, the surface of the underlying protective layer 42 can be sufficiently heated by irradiating the surface of the underlying protective layer 42 with energy during etching. Crystallization promoting layer 4
3, the recording layer 44 can be more completely crystallized.

【０１２２】このように、本実施の形態の光情報記録媒
体製造装置１及び光情報記録媒体４０は、記録層４４の
直下層として、結晶化促進層４３を形成している。As described above, in the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 and the optical information recording medium 40 of the present embodiment, the crystallization promoting layer 43 is formed immediately below the recording layer 44.

【０１２３】したがって、膜形成段階で、記録層４４を
より一層適切に結晶化した状態として、初期化不要なも
のとすることができ、初期化工程を省いて、光情報記録
媒体４０の生産性をより一層向上させることができると
ともに、光情報記録媒体４０を安価なものとすることが
できる。Therefore, in the film formation stage, the recording layer 44 can be more appropriately crystallized so that the initialization is unnecessary. The initialization process is omitted, and the productivity of the optical information recording medium 40 is reduced. Can be further improved, and the optical information recording medium 40 can be made inexpensive.

【０１２４】また、基板ホルダー１０として、基板４１
と同じ材料のポリカーボネイト樹脂製のものを用いたと
ころ、下地保護層４２のエッチング膜厚を１５ｎｍとし
た場合にも、光情報記録媒体４０の記録層４４は、十分
に初期化されており、初期化が完了しているとともに、
基板ホルダー１０が結晶化面の反射率分布を均一にする
効果を奏することを確認することができた。The substrate 41 is used as the substrate holder 10.
When using the same material made of polycarbonate resin as above, the recording layer 44 of the optical information recording medium 40 was sufficiently initialized even when the etching thickness of the underlying protective layer 42 was set to 15 nm. Has been completed,
It was confirmed that the substrate holder 10 exhibited an effect of making the reflectance distribution of the crystallized surface uniform.

【０１２５】図５（ａ）〜（ｃ）は、本発明の光情報記
録媒体及び光情報記録媒体の製造方法の第４の実施の形
態を示す図であり、本実施の形態は、請求項４、請求項
５及び請求項１０、請求項１１に対応するものである。FIGS. 5A to 5C are views showing a fourth embodiment of the optical information recording medium and the method for manufacturing the optical information recording medium according to the present invention. It corresponds to claim 4, claim 5, claim 10, and claim 11.

【０１２６】なお、本実施の形態は、上記第１の実施の
形態と同様の光情報記録媒体製造装置を用いて光情報記
録媒体を製造する場合に適用したものであり、本実施の
形態の説明においては、上記第１の実施の形態の図１で
用いた符号をそのまま用いて説明する。This embodiment is applied to a case where an optical information recording medium is manufactured by using the same optical information recording medium manufacturing apparatus as that of the first embodiment. In the description, the same reference numerals used in FIG. 1 of the first embodiment are used as they are.

【０１２７】本実施の形態においては、上記図１の光情
報記録媒体製造装置１を用いて図５（ａ）〜（ｃ）に示
す光情報記録媒体５０を製造するが、ドライエッチング
室５を、結晶化促進層成膜室兼ドライエッチング室とし
て利用して、光情報記録媒体５０の製造を行う。In this embodiment, the optical information recording medium 50 shown in FIGS. 5A to 5C is manufactured by using the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 shown in FIG. The optical information recording medium 50 is manufactured using the crystallization promoting layer film forming chamber and the dry etching chamber.

【０１２８】上記光情報記録媒体製造装置１を用いて、
光情報記録媒体５０を製造するには、まず、基板搬入・
搬出室２を介して光情報記録媒体５０の基板５１を、伸
縮アーム１１の先端に取り付けられた基板ホルダー１０
で保持し、回転軸１２を回転させて、下地保護層成膜室
３及び下地保護層成膜室４の位置に順次基板５１を搬送
して、伸縮アーム１１を伸ばして下地保護層成膜室３及
び下地保護層成膜室４内に順次収納する。Using the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 described above,
To manufacture the optical information recording medium 50, first,
The substrate 51 of the optical information recording medium 50 is transferred via the unloading chamber 2 to the substrate holder 10 attached to the distal end of the telescopic arm 11.
The substrate 51 is sequentially transferred to the positions of the base protective layer film forming chamber 3 and the base protective layer film forming chamber 4 by rotating the rotating shaft 12, and the telescopic arm 11 is extended so that the base protective layer film forming chamber 3 is extended. 3 and the base protective layer deposition chamber 4.

【０１２９】この基板５１は、例えば、射出成形により
形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカー
ボネイト基板である。This substrate 51 is, for example, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm formed by injection molding.

【０１３０】光情報記録媒体製造装置１は、下地保護層
成膜室３及び下地保護層成膜室４で、図５（ａ）に示す
ように、基板５１上に下地保護層５２を成膜する。下地
保護層５２は、例えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2
を用いて、所定膜厚Ｔｄ、例えば、１００ｎｍの厚さに
形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 5A, the underlayer protection layer 52 is formed on the substrate 51 in the underlayer protection layer deposition chamber 3 and the underlayer protection layer deposition chamber 4. I do. The underlying protective layer 52 is made of, for example, ZnS / SiO 2 as a material.
Is formed to a predetermined film thickness Td, for example, a thickness of 100 nm.

【０１３１】さらに、光情報記録媒体製造装置１は、下
地保護層５２の成膜された基板５１を伸縮アーム１１を
縮めて下地保護層成膜室４から取り出して、回転軸１２
により基板５１を保持した基板ホルダー１０を結晶化促
進層成膜室兼ドライエッチング室であるドライエッチン
グ室５の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、
基板ホルダー１０に保持された基板５１をドライエッチ
ング室５内に収納する。Further, the optical information recording medium manufacturing apparatus 1 takes out the substrate 51 on which the undercoat protective layer 52 has been formed from the undercoat protective layer film forming chamber 4 by shrinking the telescopic arm 11, and
By rotating the substrate holder 10 holding the substrate 51 to the position of the dry etching chamber 5 which is a crystallization promoting layer film forming chamber and a dry etching chamber, the telescopic arm 11 is extended,
The substrate 51 held by the substrate holder 10 is housed in the dry etching chamber 5.

【０１３２】光情報記録媒体製造装置１は、結晶化促進
層成膜室兼ドライエッチング室であるドライエッチング
室５で、図５（ａ）に示すように、下地保護層５２の上
に、結晶化促進層５３を成膜する。結晶化促進層５３
は、例えば、材料として、Ｂｉを用いて、所定膜厚Ｔｄ
として、例えば、１０ｎｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 5A, a crystal is formed on the undercoat protective layer 52 in a dry etching chamber 5 which is a crystallization promoting layer film forming chamber and a dry etching chamber. The oxidation promoting layer 53 is formed. Crystallization promoting layer 53
Is, for example, using Bi as a material and a predetermined film thickness Td.
Is formed to a thickness of, for example, 10 nm.

【０１３３】光情報記録媒体製造装置１は、結晶化促進
層５３の形成された基板５１を移動させることなく、結
晶化促進層成膜室兼ドライエッチング室であるドライエ
ッチング室５で、図５（ｂ）に示すように、膜厚Ｔｄの
結晶化促進層５３の上部を所定厚さ（Ｔｄ−Ｔ）だけ、
Ａｒガスを用いたスパッタエッチングにより除去し、結
晶化促進層５３を厚さＴの膜厚にする。例えば、結晶化
促進層５３の膜厚Ｔｄが、１０ｎｍであると、所定厚さ
（Ｔｄ−Ｔ）として、７ｎｍだけＡｒを用いたスパッタ
エッチングにより除去し、結晶化促進層５３の膜厚Ｔ
を、３ｎｍとする。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 does not move the substrate 51 on which the crystallization accelerating layer 53 is formed, and moves the substrate 51 in the dry etching chamber 5 which is a crystallization accelerating layer film forming chamber and a dry etching chamber. As shown in (b), the upper part of the crystallization promoting layer 53 having the thickness Td is formed by a predetermined thickness (Td-T).
The crystallization promoting layer 53 is removed by sputtering etching using an Ar gas to have a thickness T. For example, if the film thickness Td of the crystallization promoting layer 53 is 10 nm, a predetermined thickness (Td-T) is removed only by 7 nm by sputtering etching using Ar.
Is 3 nm.

【０１３４】光情報記録媒体製造装置１は、結晶化促進
層５３のエッチングの完了した基板５１を伸縮アーム１
１を縮めてドライエッチング室５から取り出して、回転
軸１２により基板５１を保持した基板ホルダー１０を記
録層成膜室６の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ば
して、基板ホルダー１０に保持された基板５１を記録層
成膜室６内に収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 mounts the substrate 51 on which the etching of the crystallization promoting layer 53 has been completed
1, the substrate holder 10 holding the substrate 51 is rotated by the rotating shaft 12 to the position of the recording layer film forming chamber 6, and the telescopic arm 11 is extended to be held by the substrate holder 10. The substrate 51 is stored in the recording layer deposition chamber 6.

【０１３５】光情報記録媒体製造装置１は、図５（ｃ）
に示すように、結晶化促進層５３の上に、記録層成膜室
６で、記録層５４を成膜する。記録層５４は、例えば、
材料として、ＡｇＩｎＳｂＴｅを用いて、２０ｎｍの厚
さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 is shown in FIG.
As shown in (5), a recording layer 54 is formed on the crystallization promoting layer 53 in the recording layer film forming chamber 6. The recording layer 54 is, for example,
It is formed to a thickness of 20 nm using AgInSbTe as a material.

【０１３６】光情報記録媒体製造装置１は、記録層５４
の成膜された基板５１を伸縮アーム１１を縮めて記録層
成膜室６から取り出して、回転軸１２により基板５１を
保持した基板ホルダー１０を上地保護層成膜室７の位置
に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホルダー
１０に保持された基板５１を上地保護層成膜室７内に収
納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes a recording layer 54
The substrate 51 on which the film 51 is formed is retracted from the recording layer film forming chamber 6 by contracting the telescopic arm 11, and the substrate holder 10 holding the substrate 51 is rotated to the position of the upper protective layer film forming chamber 7 by the rotating shaft 12. Then, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 51 held by the substrate holder 10 is stored in the upper protective layer deposition chamber 7.

【０１３７】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
成膜室７で、図５（ｃ）に示すように、記録層５４の上
に、上地保護層５５を成膜する。上地保護層５５は、例
えば、材料として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 を用いて、例え
ば、２０ｎｍの厚さに形成される。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 forms an upper protective layer 55 on the recording layer 54 in the upper protective layer film forming chamber 7 as shown in FIG. The upper protective layer 55 is formed to a thickness of, for example, 20 nm using ZnS / SiO 2 as a material, for example.

【０１３８】光情報記録媒体製造装置１は、上地保護層
５５の成膜された基板５１を伸縮アーム１１を縮めて上
地保護層成膜室７から取り出して、回転軸１２により基
板５１を保持した基板ホルダー１０を反射層成膜室８の
位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばして、基板ホル
ダー１０に保持された基板５１を反射層成膜室８及び反
射層成膜室９内に順次収納する。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 takes out the substrate 51 on which the upper protective layer 55 is formed from the upper protective layer film forming chamber 7 by contracting the telescopic arm 11, and removes the substrate 51 by the rotating shaft 12. The held substrate holder 10 is rotated to the position of the reflective layer film forming chamber 8, the telescopic arm 11 is extended, and the substrate 51 held by the substrate holder 10 is moved into the reflective layer film forming chamber 8 and the reflective layer film forming chamber 9. Store sequentially.

【０１３９】光情報記録媒体製造装置１は、反射層成膜
室８及び反射層成膜室９で、図５（ｃ）に示すように、
上地保護層５５の上に、反射層５６を成膜する。反射層
５６は、例えば、材料として、Ａｌを用いて、２００ｎ
ｍの厚さに形成される。In the optical information recording medium manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 5C, the reflection layer film forming chamber 8 and the reflection layer film formation chamber 9 are used.
The reflection layer 56 is formed on the upper protection layer 55. The reflection layer 56 is made of, for example, 200 n using Al as a material.
m.

【０１４０】光情報記録媒体製造装置１は、反射層５６
の成膜された基板５１を伸縮アーム１１を縮めて反射層
成膜室９から取り出す。光情報記録媒体製造装置１は、
反射層成膜室９から基板５１を取り出すと、回転軸１２
により基板５１を保持した基板ホルダー１０を基板搬入
・搬出室２の位置に回転させ、伸縮アーム１１を伸ばし
て、基板搬入・搬出室２を介して、製造された光情報記
録媒体５０を光情報記録媒体製造装置１外に取り出す。The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes a reflecting layer 56
The substrate 51 on which is formed the film is taken out of the reflective layer film forming chamber 9 by contracting the telescopic arm 11. The optical information recording medium manufacturing apparatus 1 includes:
When the substrate 51 is taken out from the reflective layer deposition chamber 9, the rotating shaft 12
By rotating the substrate holder 10 holding the substrate 51 to the position of the substrate loading / unloading chamber 2 by extending the telescopic arm 11, the manufactured optical information recording medium 50 is It is taken out of the recording medium manufacturing apparatus 1.

【０１４１】このようにして製造された光情報記録媒体
５０は、上記材料、すなわち、下地保護層５２及び上地
保護層５５として、ＺｎＳ／ＳｉＯ2 、結晶化促進層５
３として、Ｂｉ、記録層５４として、ＡｇＩｎＳｂＴｅ
及び反射層５６として、Ａｌを用い、下地保護層５２
を、１００ｎｍ、最終のエッチング後の結晶化促進層５
３を、３ｎｍ、記録層５４を、２０ｎｍ、上地保護層５
５を、２０ｎｍ、反射層５６を、２００ｎｍの膜厚にそ
れぞれ形成し、反射率の評価を行ったところ、光情報記
録媒体５０の記録層５４は、十分に初期化されており、
初期化が完了していることを確認することができた。The optical information recording medium 50 manufactured as described above is made of the above-mentioned materials, that is, ZnS / SiO 2 , the crystallization promoting layer 5 as the underlayer protective layer 52 and the upper layer protective layer 55.
3, as Bi, and as the recording layer 54, AgInSbTe.
And the reflective layer 56 is made of Al,
100 nm, crystallization promoting layer 5 after final etching
3 is 3 nm, the recording layer 54 is 20 nm, and the upper protective layer 5
5 was formed to a thickness of 20 nm, and the reflective layer 56 was formed to a thickness of 200 nm, and the reflectance was evaluated. As a result, the recording layer 54 of the optical information recording medium 50 was sufficiently initialized.
It was confirmed that the initialization was completed.

【０１４２】したがって、光情報記録媒体５０の初期化
プロセスを省略することができ、従来のような光情報記
録媒体を初期化するための初期化システムに要する膨大
な設備投資を削減することができる。Therefore, the initialization process of the optical information recording medium 50 can be omitted, and the enormous capital investment required for the conventional initialization system for initializing the optical information recording medium can be reduced. .

【０１４３】このようにして、下地保護層５２と記録層
５４の間に、結晶化促進層５３を形成すると、エッチン
グにおける結晶化促進層５３の表面へのエネルギー照射
により、十分に加熱された基板５１により結晶化促進層
５３の作用と相まって、記録層５４をより一層完全に結
晶化させることができる。As described above, when the crystallization promoting layer 53 is formed between the undercoat protective layer 52 and the recording layer 54, the substrate heated sufficiently by the irradiation of energy to the surface of the crystallization promoting layer 53 during etching. The combination of 51 with the function of the crystallization promoting layer 53 allows the recording layer 54 to be more completely crystallized.

【０１４４】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the above, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【０１４５】[0145]

【発明の効果】請求項１記載の発明の光情報記録媒体に
よれば、少なくとも、レーザ光の照射前後でその光学特
性が可逆的に変化する記録層よりも前に形成される任意
の膜の積層工程で、当該任意の膜が、一旦所望の膜厚よ
りも所定膜厚だけ厚く形成され、その後、ドライエッチ
ングで除去されて、所望の膜厚に形成されているので、
記録層成膜前のディスク基板温度を、任意の膜をドライ
エッチングすることで高温に設定して、成膜直後から、
記録層を結晶化、あるいは、結晶状態とアモルファス状
態が混在した状態として、初期化不要、あるいは、初期
化容易なものとすることができ、初期化工程を省き、あ
るいは、初期化時間を短縮化して、光情報記録媒体の生
産性を向上させるとともに、光情報記録媒体を安価なも
のとすることができる。According to the optical information recording medium of the present invention, at least an arbitrary film formed before the recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after the irradiation of the laser beam. In the laminating step, the arbitrary film is formed once more by a predetermined thickness than the desired film thickness, and then removed by dry etching to form the desired film thickness.
The disk substrate temperature before recording layer deposition is set to a high temperature by dry etching of any film, and immediately after film deposition,
The recording layer can be crystallized, or as a state in which the crystalline state and the amorphous state are mixed, the initialization can be made unnecessary or easy, and the initialization step can be omitted or the initialization time can be shortened. Thus, the productivity of the optical information recording medium can be improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【０１４６】請求項２記載の発明の光情報記録媒体によ
れば、任意の膜が、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ
厚く形成され、その後、ドライエッチングで除去される
という膜形成及び除去処理が複数回行われて形成されて
いるので、膜形成段階で、記録層をより一層適切に結晶
化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態が混在
した状態として、初期化不要、あるいは、初期化容易な
ものとすることができ、初期化工程を省き、あるいは、
初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒体の生
産性をより一層向上させることができるとともに、光情
報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the optical information recording medium of the second aspect of the present invention, an arbitrary film is formed once more than a desired film thickness by a predetermined film thickness and then removed by dry etching. Since the removal process is performed a plurality of times, the recording layer is more appropriately crystallized in the film formation stage, or the amorphous state is mixed with the crystalline state, so that the initialization is unnecessary or the initial state is not required. That can be easily initialized, eliminating the initialization step, or
The initialization time can be further reduced, the productivity of the optical information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【０１４７】請求項３記載の発明の光情報記録媒体によ
れば、任意の膜を除去するのに用いるドライエッチング
として、Ａｒガスを用いたスパッタエッチングを利用し
ているので、光情報記録媒体の製造に一般的に用いられ
ている枚葉式スパッタ装置を用いて容易にドライエッチ
ングを行うことができ、光情報記録媒体の生産性を向上
させることができるとともに、光情報記録媒体をより一
層安価なものとすることができる。According to the optical information recording medium of the third aspect of the present invention, since the sputter etching using Ar gas is used as the dry etching used to remove an arbitrary film, Dry etching can be easily performed by using a single-wafer sputtering apparatus generally used in manufacturing, and the productivity of the optical information recording medium can be improved. It can be.

【０１４８】請求項４記載の発明の光情報記録媒体によ
れば、記録層の直下層として、結晶化促進層を形成して
いるので、膜形成段階で、記録層をより一層適切に結晶
化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態が混在
した状態として、初期化不要、あるいは、初期化容易な
ものとすることができ、初期化工程を省き、あるいは、
初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒体の生
産性をより一層向上させることができるとともに、光情
報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the optical information recording medium of the present invention, since the crystallization promoting layer is formed immediately below the recording layer, the recording layer can be more appropriately crystallized at the film forming stage. Or, as a state in which the crystalline state is somewhat mixed with the amorphous state, initialization is unnecessary, or initialization can be easily performed, and the initialization step is omitted, or
The initialization time can be further reduced, the productivity of the optical information recording medium can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【０１４９】請求項５記載の発明の光情報記録媒体によ
れば、結晶化促進層の材料として、少なくともＢｉを含
む材料を用いているので、膜形成段階で、結晶化促進層
により記録層をより一層適切に結晶化、あるいは、結晶
状態に多少アモルファス状態が混在した状態として、初
期化不要、あるいは、初期化容易なものとすることがで
き、初期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより一
層短縮化して、光情報記録媒体の生産性をより一層向上
させることができるとともに、光情報記録媒体を安価な
ものとすることができる。According to the optical information recording medium of the present invention, since the material containing at least Bi is used as the material of the crystallization promoting layer, the recording layer is formed by the crystallization promoting layer at the film formation stage. Crystallization more appropriately, or as a state in which the amorphous state is mixed somewhat with the crystalline state, initialization can be unnecessary or can be easily performed, and the initialization step can be omitted or the initialization time can be reduced. Further shortening can improve the productivity of the optical information recording medium, and can reduce the cost of the optical information recording medium.

【０１５０】請求項６記載の発明の光情報記録媒体によ
れば、記録層を、空間群Ｆｍ３ｍに属する準安定Ｓｂ3
Ｔｅ相を有するものとしているので、膜形成段階で、結
晶化促進層により記録層をより一層適切に結晶化、ある
いは、結晶状態に多少アモルファス状態が混在した状態
として、初期化不要、あるいは、初期化容易なものとす
ることができるとともに、高密度記録可能で、かつ、優
れた繰り返し記録特性を有したものとすることができ、
初期化工程を省き、あるいは、初期化時間をより一層短
縮化して、生産性をより一層向上させることができると
ともに、光情報記録媒体を安価なものとすることができ
る。According to the optical information recording medium of the invention, the recording layer is formed of a metastable Sb 3 belonging to the space group Fm3m.
Since the recording layer has a Te phase, the recording layer is more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer in the film formation stage, or the amorphous state is mixed in the crystalline state to some extent, so that the initialization is unnecessary or the initial state is not required. In addition to being able to be easily made, high-density recording is possible, and can have excellent repetitive recording characteristics,
The initialization step can be omitted, or the initialization time can be further shortened, and the productivity can be further improved, and the optical information recording medium can be made inexpensive.

【０１５１】請求項７記載の発明の光情報記録媒体の製
造方法によれば、少なくとも、レーザ光の照射前後でそ
の光学特性が可逆的に変化する記録層よりも前に形成さ
れる任意の膜の積層工程で、当該任意の膜を、一旦所望
の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライ
エッチングで除去して、所望の膜厚に形成しているの
で、記録層成膜前のディスク基板温度を、任意の膜をド
ライエッチングすることで高温に設定して、膜形成段階
で、記録層を結晶化、あるいは、結晶状態とアモルファ
ス状態が混在した状態として、初期化不要、あるいは、
初期化容易なものとすることができ、初期化工程を省
き、あるいは、初期化時間を短縮化して、光情報記録媒
体の生産性を向上させることができるとともに、光情報
記録媒体を安価なものとすることができる。According to the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention, at least an arbitrary film formed before a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after laser beam irradiation. In the laminating step, the arbitrary film is once formed to a thickness larger than the desired film thickness by a predetermined thickness, and then is removed by dry etching to form the desired film thickness. The previous disk substrate temperature is set to a high temperature by dry-etching an arbitrary film, and in the film formation stage, the recording layer is crystallized, or the crystal state and the amorphous state are mixed, so that initialization is unnecessary. Or,
It can be easily initialized, can eliminate the initialization step, or can shorten the initialization time, improve the productivity of the optical information recording medium, and use an inexpensive optical information recording medium. It can be.

【０１５２】請求項８記載の発明の光情報記録媒体の製
造方法によれば、任意の膜を形成するに際して、当該任
意の膜を、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成
し、その後、ドライエッチングで除去して所定の膜厚に
形成するという膜形成及び除去処理を複数回行って形成
しているので、膜形成段階で、記録層をより一層適切に
結晶化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態が
混在した状態として、初期化不要、あるいは、初期化容
易なものとすることができ、初期化工程を省き、あるい
は、初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒体
の生産性をより一層向上させることができるとともに、
光情報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention, when forming an arbitrary film, the arbitrary film is formed to be once thicker by a predetermined thickness than a desired thickness. Thereafter, since the film is formed by performing film formation and removal processing a plurality of times by removing the film by dry etching to form a predetermined film thickness, the recording layer is more appropriately crystallized or crystallized in the film formation stage. The optical information recording medium is a state in which the initialization is unnecessary or easy to initialize as a state in which the state is somewhat mixed with the amorphous state, and the initialization step can be omitted or the initialization time can be further shortened. Productivity can be further improved,
The optical information recording medium can be inexpensive.

【０１５３】請求項９記載の発明の光情報記録媒体の製
造方法によれば、任意の膜を除去するのに用いるドライ
エッチングとして、Ａｒガスを用いたスパッタエッチン
グを利用しているので、光情報記録媒体の製造に一般的
に用いられている枚葉式スパッタ装置を用いて容易にド
ライエッチングを行うことができ、光情報記録媒体の生
産性を向上させることができるとともに、光情報記録媒
体をより一層安価なものとすることができる。According to the method for manufacturing an optical information recording medium according to the ninth aspect of the present invention, the sputter etching using Ar gas is used as the dry etching for removing an arbitrary film. Dry etching can be easily performed using a single-wafer sputtering apparatus generally used in the production of recording media, and the productivity of optical information recording media can be improved. It can be even cheaper.

【０１５４】請求項１０記載の発明の光情報記録媒体の
製造方法によれば、記録層の直下層として、結晶化促進
層を形成した後、当該結晶化促進層上に記録層を形成し
ているので、膜形成段階で、記録層をより一層適切に結
晶化、あるいは、結晶状態に多少アモルファス状態が混
在した状態として、初期化不要、あるいは、初期化容易
なものとすることができ、初期化工程を省き、あるい
は、初期化時間をより一層短縮化して、光情報記録媒体
の生産性をより一層向上させることができるとともに、
光情報記録媒体を安価なものとすることができる。According to the method of manufacturing an optical information recording medium according to the tenth aspect, after forming a crystallization promoting layer immediately below the recording layer, the recording layer is formed on the crystallization promoting layer. Therefore, in the film formation stage, the recording layer can be more appropriately crystallized, or a state in which the amorphous state is mixed with the crystalline state can be made initialization unnecessary or easy. Omitting the initialization process, or by further shortening the initialization time, it is possible to further improve the productivity of the optical information recording medium,
The optical information recording medium can be inexpensive.

【０１５５】請求項１１記載の発明の光情報記録媒体の
製造方法によれば、結晶化促進層を、少なくともＢｉを
含んだ材料を用いて形成しているので、膜形成段階で、
結晶化促進層により記録層をより一層適切に結晶化、あ
るいは、結晶状態に多少アモルファス状態が混在した状
態として、初期化不要、あるいは、初期化容易なものと
することができ、初期化工程を省き、あるいは、初期化
時間をより一層短縮化して、光情報記録媒体の生産性を
より一層向上させることができるとともに、光情報記録
媒体を安価なものとすることができる。According to the method for manufacturing an optical information recording medium according to the eleventh aspect, since the crystallization promoting layer is formed using a material containing at least Bi,
The recording layer can be more appropriately crystallized by the crystallization promoting layer, or as a state in which the amorphous state is mixed in the crystalline state to some extent, the initialization is unnecessary or the initialization can be easily performed. It is possible to omit or to further reduce the initialization time, to further improve the productivity of the optical information recording medium, and to make the optical information recording medium inexpensive.

【０１５６】請求項１２記載の発明の光情報記録媒体の
製造方法によれば、成膜及びエッチング時に光情報記録
媒体の基板を保持する基板ホルダーとして、少なくとも
当該基板と相対向する面が当該基板と同じ熱伝導率ある
いは近似する熱伝導率を有する材料で形成されている基
板ホルダーを用いているので、基板からの放熱を防い
で、基板温度を高温に保つことができるとともに、基板
面内での温度分布を均一にすることができ、記録層の結
晶化をより一層促進させることができるとともに、均一
に結晶化することができる。According to the method of manufacturing an optical information recording medium of the twelfth aspect of the present invention, at least a surface facing the substrate is used as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium during film formation and etching. Uses a substrate holder made of a material with the same or similar thermal conductivity to prevent heat radiation from the substrate and keep the substrate temperature high, Can be made uniform, the crystallization of the recording layer can be further promoted, and the crystallization can be performed uniformly.

【０１５７】請求項１３記載の発明の光情報記録媒体の
製造方法によれば、基板としてポリカーボネイト樹脂等
の高分子材料を用い、成膜及びエッチング時に光情報記
録媒体の基板を保持する基板ホルダーとして、少なくと
も当該基板と相対向する面が、０．１〜１．０（Ｋｃａ
ｌ／ｍ・ｈｒ・℃）の熱伝導率を有する材料で形成され
ている基板ホルダーを用いているので、基板からの放熱
をより一層効率的に防いで、基板温度をより一層高温に
保つことができるとともに、基板面内での温度分布をよ
り一層均一にすることができ、記録層の結晶化をより一
層促進させることができるとともに、より一層均一に結
晶化することができる。According to the method of manufacturing an optical information recording medium according to the thirteenth aspect, a polymer material such as polycarbonate resin is used as the substrate, and the substrate is used as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium during film formation and etching. At least the surface facing the substrate is 0.1 to 1.0 (Kca).
(1 / m · hr · ° C.), since the substrate holder is formed of a material having a thermal conductivity of 1 / m · hr · ° C., heat radiation from the substrate can be prevented more efficiently, and the substrate temperature can be kept higher. In addition, the temperature distribution in the substrate surface can be made more uniform, the crystallization of the recording layer can be further promoted, and the crystallization can be made more uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の光情報記録媒体及び光情報記録媒体の
製造方法の第１の実施の形態を適用した光情報記録媒体
製造装置の要部構成図。FIG. 1 is a main part configuration diagram of an optical information recording medium manufacturing apparatus to which a first embodiment of an optical information recording medium and an optical information recording medium manufacturing method according to the present invention is applied.

【図２】図１の光情報記録媒体製造装置で基板上に下地
保護層、記録層及び上地保護層を形成する製造過程を示
す光情報記録媒体の正面拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged front cross-sectional view of the optical information recording medium showing a manufacturing process of forming a base protective layer, a recording layer, and an upper protective layer on a substrate by the optical information recording medium manufacturing apparatus of FIG.

【図３】本発明の光情報記録媒体及び光情報記録媒体の
製造方法の第２の実施の形態を適用した光情報記録媒体
製造装置で基板上に下地保護層、記録層及び上地保護層
を形成する製造過程を示す光情報記録媒体の正面拡大断
面図。FIG. 3 shows an optical information recording medium and an optical information recording medium manufacturing apparatus to which an optical information recording medium manufacturing method according to a second embodiment of the present invention is applied. FIG. 4 is an enlarged front cross-sectional view of the optical information recording medium, showing a manufacturing process for forming a recording medium.

【図４】本発明の光情報記録媒体及び光情報記録媒体の
製造方法の第３の実施の形態を適用した光情報記録媒体
製造装置で基板上に下地保護層、結晶化促進層、記録層
及び上地保護層を形成する製造過程を示す光情報記録媒
体の正面拡大断面図。FIG. 4 shows an optical information recording medium and an optical information recording medium manufacturing apparatus to which an optical information recording medium manufacturing method according to a third embodiment of the present invention is applied. FIG. 4 is an enlarged front cross-sectional view of the optical information recording medium showing a manufacturing process for forming an upper protection layer.

【図５】本発明の光情報記録媒体及び光情報記録媒体の
製造方法の第４の実施の形態を適用した光情報記録媒体
製造装置で基板上に下地保護層、結晶化促進層、記録層
及び上地保護層を形成する製造過程を示す光情報記録媒
体の正面拡大断面図。FIG. 5 shows an optical information recording medium and an optical information recording medium manufacturing apparatus to which an optical information recording medium manufacturing method according to a fourth embodiment of the present invention is applied. FIG. 4 is an enlarged front cross-sectional view of the optical information recording medium showing a manufacturing process for forming an upper protection layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 光情報記録媒体製造装置 ２ 基板搬入・搬出
室 ３ 下地保護層成膜室 ４ 下地保護層成膜
室 ５ 記録層成膜室 ６ 上地保護層成膜
室 ７ ドライエッチング室 ８ 反射層成膜室 ９ 反射層成膜室 １０ 基板ホルダー １１ 伸縮アーム １２ 回転軸 ２０ 光情報記録媒体 ２１ 基板 ２２ 下地保護層 ２３ 記録層 ２４ 上地保護層 ２５ 反射層 ３０ 光情報記録媒体 ３１ 基板 ３２ 下地保護層 ３３ 記録層 ３４ 上地保護層 ３５ 反射層 ４０ 光情報記録媒体 ４１ 基板 ４２ 下地保護層 ４３ 結晶化促進層 ４４ 記録層 ４５ 上地保護層 ４６ 反射層 ５０ 光情報記録媒
体 ５１ 基板 ５２ 下地保護層 ５３ 結晶化促進層 ５４ 記録層 ５５ 上地保護層 ５６ 反射層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical information recording medium manufacturing apparatus 2 Substrate carry-in / carry-out room 3 Base protective layer film forming room 4 Base protective layer film forming room 5 Recording layer film forming room 6 Upper ground protective layer film forming room 7 Dry etching room 8 Reflective layer film forming Chamber 9 Reflective layer deposition chamber 10 Substrate holder 11 Telescopic arm 12 Rotating axis 20 Optical information recording medium 21 Substrate 22 Underlayer protective layer 23 Recording layer 24 Upper layer protective layer 25 Reflective layer 30 Optical information recording medium 31 Substrate 32 Underlayer protective layer 33 Recording layer 34 Upper protective layer 35 Reflective layer 40 Optical information recording medium 41 Substrate 42 Under protective layer 43 Crystallization promoting layer 44 Recording layer 45 Upper protective layer 46 Reflective layer 50 Optical information recording medium 51 Substrate 52 Under protective layer 53 Crystal Layer 54 Recording layer 55 Upper layer protective layer 56 Reflective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 真貝 勝 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 三浦 裕司 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA23 FA01 FA23 FB12 GA01 GA11 5D029 HA05 HA06 JA01 JB03 5D121 AA03 EE03 EE27 EE28 GG04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masaru Makashi 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Company (72) Inventor Yuji Miura 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Share F-term in Ricoh Company (reference) 2H111 EA03 EA23 FA01 FA23 FB12 GA01 GA11 5D029 HA05 HA06 JA01 JB03 5D121 AA03 EE03 EE27 EE28 GG04

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】少なくとも、レーザ光の照射前後でその光
学特性が可逆的に変化する記録層を有し、前記レーザ光
を用いて記録、再生、消去の行われる光情報記録媒体に
おいて、前記記録層よりも前に形成される任意の膜の積
層工程で、当該任意の膜が、一旦所望の膜厚よりも所定
膜厚だけ厚く形成され、その後、ドライエッチングで除
去されて、前記所望の膜厚に形成されていることを特徴
とする光情報記録媒体。1. An optical information recording medium having at least a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after irradiation with a laser beam, wherein recording, reproduction and erasing are performed using the laser beam. In the step of laminating an arbitrary film formed before the layer, the arbitrary film is formed to be once thicker by a predetermined thickness than a desired thickness, and then removed by dry etching to obtain the desired film. An optical information recording medium characterized by being formed thick. 【請求項２】前記任意の膜は、前記一旦所望の膜厚より
も所定膜厚だけ厚く形成され、その後、ドライエッチン
グで除去されるという膜形成及び除去処理が複数回行わ
れて形成されていることを特徴とする請求項１記載の光
情報記録媒体。2. The method according to claim 1, wherein the arbitrary film is formed by performing a film forming and removing process a plurality of times by temporarily forming the film by a predetermined thickness greater than the desired film thickness and then removing the film by dry etching. 2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein: 【請求項３】前記ドライエッチングは、Ａｒガスを用い
たスパッタエッチングであることを特徴とする請求項１
または請求項２記載の光情報記録媒体。3. The method according to claim 1, wherein the dry etching is sputter etching using Ar gas.
Or the optical information recording medium according to claim 2. 【請求項４】前記光情報記録媒体は、前記記録層の直下
層として、結晶化促進層が形成されていることを特徴と
する請求項１から請求項３のいずれかに記載の光情報記
録媒体。4. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium has a crystallization promoting layer formed immediately below the recording layer. Medium. 【請求項５】前記結晶化促進層は、少なくともＢｉを含
む材料で形成されていることを特徴とする請求項４記載
の光情報記録媒体。5. The optical information recording medium according to claim 4, wherein said crystallization promoting layer is formed of a material containing at least Bi. 【請求項６】前記記録層は、空間群Ｆｍ３ｍに属する準
安定Ｓｂ3 Ｔｅ相を有することを特徴とする請求項１か
ら請求項５のいずれかに記載の光情報記録媒体。6. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer has a metastable Sb 3 Te phase belonging to a space group Fm3m. 【請求項７】少なくとも、レーザ光の照射前後でその光
学特性が可逆的に変化する記録層を有し、前記レーザ光
を用いて記録、再生、消去の行われる光情報記録媒体の
製造方法において、前記記録層よりも前に形成される任
意の膜の積層工程で、当該任意の膜を、一旦所望の膜厚
よりも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチ
ングで除去して、前記所望の膜厚に形成することを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法。7. A method for producing an optical information recording medium comprising a recording layer whose optical characteristics change reversibly before and after irradiation with a laser beam, and wherein recording, reproduction, and erasure are performed using the laser beam. In the step of laminating an arbitrary film formed before the recording layer, the arbitrary film is once formed to be thicker by a predetermined thickness than a desired thickness, and then removed by dry etching, A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising forming a film to a desired thickness. 【請求項８】前記光情報記録媒体の製造方法は、前記任
意の膜を形成するに際して、当該任意の膜を、一旦所望
の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライ
エッチングで除去して所定の膜厚に形成するという膜形
成及び除去処理を複数回行って形成することを特徴とす
る請求項７記載の光情報記録媒体の製造方法。8. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein, when forming the optional film, the optional film is formed to be once thicker by a predetermined thickness than a desired thickness, and then dry-etched. 8. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 7, wherein the film is formed by performing a film forming and removing process of removing and forming a predetermined film thickness a plurality of times. 【請求項９】前記ドライエッチングは、Ａｒガスを用い
たスパッタエッチングであることを特徴とする請求項７
または請求項８記載の光情報記録媒体の製造方法。9. The method according to claim 7, wherein the dry etching is sputter etching using Ar gas.
9. A method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 8. 【請求項１０】前記光情報記録媒体の製造方法は、前記
記録層の直下層として、結晶化促進層を形成した後、当
該結晶化促進層上に前記記録層を形成することを特徴と
する請求項７から請求項９のいずれかに記載の光情報記
録媒体の製造方法。10. The method for manufacturing an optical information recording medium, wherein a crystallization promoting layer is formed immediately below the recording layer, and then the recording layer is formed on the crystallization promoting layer. A method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 7. 【請求項１１】前記光情報記録媒体の製造方法は、前記
結晶化促進層を、少なくともＢｉを含んだ材料を用いて
形成することを特徴とする請求項１０記載の光情報記録
媒体の製造方法。11. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 10, wherein said crystallization promoting layer is formed using a material containing at least Bi. . 【請求項１２】前記光情報記録媒体の製造方法は、前記
成膜及び前記エッチング時に前記光情報記録媒体の基板
を保持する基板ホルダーとして、少なくとも当該基板と
相対向する面が当該基板と同じ熱伝導率あるいは近似す
る熱伝導率を有する材料で形成されている基板ホルダー
を用いることを特徴とする請求項７から請求項１１のい
ずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法。12. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: as a substrate holder for holding a substrate of the optical information recording medium during the film formation and the etching, at least a surface facing the substrate has the same heat as the substrate. The method for manufacturing an optical information recording medium according to any one of claims 7 to 11, wherein a substrate holder made of a material having a conductivity or a similar thermal conductivity is used. 【請求項１３】前記光情報記録媒体の製造方法は、前記
基板としてポリカーボネイト樹脂等の高分子材料を用
い、前記成膜及び前記エッチング時に前記光情報記録媒
体の基板を保持する基板ホルダーとして、少なくとも当
該基板と相対向する面が、０．１〜１．０（Ｋｃａｌ／
ｍ・ｈｒ・℃）の熱伝導率を有する材料で形成されてい
る基板ホルダーを用いることを特徴とする請求項７から
請求項１１のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方
法。13. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the substrate is made of a polymer material such as polycarbonate resin, and at least as a substrate holder for holding the substrate of the optical information recording medium during the film formation and the etching. The surface facing the substrate is 0.1 to 1.0 (Kcal /
12. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 7, wherein a substrate holder formed of a material having a thermal conductivity of (m · hr · ° C.) is used.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7602525B2 (en) 2002-01-09 2009-10-13 Seiko Epson Corporation Method of producing color conversion table, image processing device, image processing method, program and recording medium

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7602525B2 (en) 2002-01-09 2009-10-13 Seiko Epson Corporation Method of producing color conversion table, image processing device, image processing method, program and recording medium

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