JP2002131919A - 平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】傷付きにくく、通常作業での取り扱いが容易な
サーマルタイプのポジ型平版印刷版の提供。 【解決手段】アルミニウム板に粗面化処理および陽極酸
化処理をしてなるアルミニウム支持体上に、加熱により
アルカリ可溶化する感光層を設けてなる平版印刷版であ
って、該感光層の表面の平均傾斜が０゜以上５゜以下で
あることを特徴とする平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版に関
し、特に、レーザ光の光熱変換によってアルカリ可溶化
する感光層を有するポジ型平版印刷版に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、画像形成技術の発展に伴い、細く
ビームを絞ったレーザ光をその版面上に走査させ、文字
原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フィルム原
稿を用いず直接製版することが可能となりつつある。レ
ーザ光照射により感光層中で光熱変換を起こすことによ
って感光層のアルカリ可溶化を引き起こしポジ画像を形
成する、いわゆるサーマルポジタイプの平版印刷版にお
いては、画像形成原理としてレーザ露光による感光層中
のバインダーの分子間相互作用の微妙な変化を利用して
いるために、露光／未露光部分のアルカリ可溶化のオン
／オフの程度の差が小さくなっている。このため、実用
に耐える明確なディスクリミネーションを得る目的で、
現像液に対する表面難溶化層を感光層の最上層として設
けて未露光部の現像溶解性を抑えた感光層構造を形成す
るという手段が用いられている。

【０００３】しかしながら、表面難溶化層が何らかの原
因で損傷すると、本来画像部であるとなる部分でも、現
像液に溶解しやすくなってしまう。つまり、実用上非常
に傷付きやすい印刷版になってしまっている。このた
め、印刷版のハンドリング時のぶつかり、合紙での微妙
な擦れ、版面への指の接触等の些細な接触によってもキ
ズ状の画像抜けが発生してしまうので、刷版作業時の取
り扱いが難しいのが現状である。この傷付きやすさを改
善する目的で、感光層表面にフッ素系の界面活性剤やワ
ックス剤の層を設けて摩擦係数を下げることが試みられ
ているが、未だ十分な対策とはなっていない。

【０００４】また、上述したような、接触等によるキズ
状の画像抜けは、感光層が表面難溶化層を有しない平版
印刷版においても問題となっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、傷付きにく
く、通常作業での取り扱いが容易なサーマルタイプのポ
ジ型平版印刷版を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究した結果、本発明を完成した。即
ち、本発明は、アルミニウム板に粗面化処理および陽極
酸化処理をしてなるアルミニウム支持体上に、加熱によ
りアルカリ可溶化する感光層を設けてなる平版印刷版で
あって、該感光層の表面の平均傾斜が０゜以上５゜以下
であることを特徴とする平版印刷版を提供する。

【０００７】本発明において「平均傾斜」とは、触針式
の表面粗さ計にて抽出した断面曲線から測定長さだけ抜
き取った部分における平均線と断面曲線とがなす角度の
平均値をいい、下記数式（１）で表される。

【０００８】

【数１】

【０００９】ここで、θ_a は平均傾斜、Ｌは測定長さ、
ｆ（ｘ）は断面曲線である。

【００１０】感光層表面には、支持体表面の凹凸に起因
する微細な凹凸が存在する。感光層に物体が接触した場
合、その物体によって感光層表面が擦られると、微細な
凸部の頂上部分がわずかに擦り取られ、支持体が部分的
に露出する。現像時には、この露出した部分から、支持
体と感光層との界面に現像液が浸透していきやすいた
め、感光層が支持体との界面付近から溶解し始める。即
ち、擦られた場所から優先的に現像されるのである。し
たがって、マクロ的に見るとキズ部分が白い線となって
観察される。本発明者は、鋭意研究の結果、上記知見を
得、更に、感光層表面の微細な凹凸の程度について、上
記平均傾斜θ_a が感光層表面の傷付きやすさを最も的確
に表しうる物性値であることを見出し、この値を上記範
囲のものとすることにより、傷付きにくい感光層表面を
実現したものである。

【００１１】また、本発明者は、感光層表面の微細な凹
凸の程度を決定する因子として、アルミニウム支持体の
表面形状が関与することを見出し、アルミニウム支持体
の表面の形状を特定のものとすることにより、感光層表
面の平均傾斜の値を上記範囲のものとすることができる
ことを見出した。即ち、本発明の平版印刷版は、以下の
二つの態様のいずれかであるのが好ましい。前記粗面
化処理が電解粗面化処理であり、前記アルミニウム支持
体の表面の凹部の平均深さが０．３μｍ未満である平版
印刷版。前記アルミニウム支持体の表面が、波長３〜
１０μｍの大波と波長０．０５〜２．０μｍの小波とか
らなる大小二重ピット構造を有し、該大波の凹部の平均
深さが０．３〜１．０μｍであり、該小波の凹部の平均
深さが０．０５〜０．４μｍである平版印刷版。

【００１２】以上説明したように、本発明によって、サ
ーマルポジタイプの平版印刷版において本質的問題であ
った傷付きやすさを大幅に改善することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。 ［アルミニウム支持体］ ＜アルミニウム板（圧延アルミ）＞本発明の平版印刷版
に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミ
ニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる。 純アルミニウム板のほか、
アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板
や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネート
されまたは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を
用いることもできる。更に、特公昭４８−１８３２７号
公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体
シートを用いることもできる。

【００１４】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる各種の基板をア
ルミニウム板と総称して用いる。 前記アルミニウム合金
に含まれてもよい異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は１０質
量％以下である。

【００１５】本発明においては、純アルミニウム板を用
いるのが好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精
錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有
するものでもよい。このように本発明に用いられるアル
ミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従
来より公知公用の素材もの、例えば、ＪＩＳ Ａ１０５
０、ＪＩＳ Ａ１１００、ＪＩＳ Ａ３００５、ＪＩＳ
Ａ３００４、国際登録合金 ３１０３Ａ等のアルミニ
ウム合金板を適宜利用することができる。 また、アルミ
ニウム板の製造方法は、連続鋳造方式およびＤＣ鋳造方
式のいずれでもよく、ＤＣ鋳造方式の中間焼鈍や、均熱
処理を省略したアルミニウム板も用いることができる。
最終圧延においては、積層圧延や転写等により凹凸を付
けたアルミニウム板を用いることもできる。また、本発
明に用いられるアルミニウム板の厚みは、０. １ｍｍ〜
０. ６ｍｍ程度である。 この厚みは印刷機の大きさ、印
刷版の大きさおよびユーザーの希望により適宜変更する
ことができる。

【００１６】本発明の平版印刷版に用いられるアルミニ
ウム支持体は、上記アルミニウム板に粗面化処理、アル
カリエッチング処理および陽極酸化処理をして得られる
が、このアルミニウム支持体の製造工程には、粗面化処
理、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理以外の
各種の工程が含まれていてもよい。

【００１７】＜粗面化処理（砂目立て処理）＞上記アル
ミニウム板は、より好ましい形状に砂目立て処理され
る。砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号公
報に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッ
チング、電解グレイン等がある。更に、塩酸電解液中ま
たは硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学
的砂目立て法（電気化学的粗面化、電解粗面化）や、ア
ルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラ
シグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂
目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤
で表面を砂目立てするブラシグレイン法等の機械的砂目
立て法を用いることができる。これらの砂目立て法は、
単独でまたは組み合わせて用いることができる。例え
ば、ナイロンブラシと研磨剤とによる機械的粗面化方法
と、塩酸電解液または硝酸電解液による電解粗面化との
組み合わせや、複数の電解粗面化の組み合わせが挙げら
れる。

【００１８】ブラシグレイン法の場合、研磨剤として使
用される粒子の平均粒径、最大粒径、使用するブラシの
毛径、密度、押し込み圧力等の条件を適宜選択すること
によって、アルミニウム支持体表面の長い波長成分（大
波）の凹部の平均深さを制御することができる。ブラシ
グレイン法により得られる凹部は、平均波長が３〜１０
μｍであるのが好ましく、平均深さが０．３〜１μｍで
あるのが好ましい。

【００１９】電気化学的粗面化方法としては、塩酸電解
液中または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化
学的方法が好ましい。好ましい電流密度は、陽極時電気
量５０〜４００Ｃ／ｄｍ² である。更に具体的には、例
えば、０．１〜５０質量％の塩酸または硝酸を含む電解
液中で、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流
密度１００〜４００Ｃ／ｄｍ² の条件で直流または交流
を用いて行われる。電気化学的粗面化によれば、表面に
微細な凹凸を付与することが容易であるため、感光層と
基板との密着性を向上させる上でも好適である。

【００２０】機械的粗面化の後の電気化学的粗面化によ
り、平均直径約０．０５〜２．０μｍ（平均波長０．０
５〜２．０μｍ）、平均深さ０．０５〜０．４μｍのク
レーター状またはハニカム状のピット（上記大波より短
い波長の波長成分（小波）の凹部）をアルミニウム板の
表面に８０〜１００％の面積率で生成し、大小二重ピッ
ト構造を形成することができる。なお、機械的粗面化方
法を行わずに、電気化学的粗面化方法のみを行う場合に
は、ピットの平均深さを０．３μｍ未満とするのが好ま
しい。設けられたピットは、印刷版の非画像部の汚れに
くさおよび耐刷力を向上する作用を有する。電気化学的
処理では、十分なピットを表面に設けるために必要なだ
けの電気量、即ち、電流と電流を流した時間との積が、
電気化学的粗面化における重要な条件となる。より少な
い電気量で十分なピットを形成できることは、省エネの
観点からも望ましい。粗面化処理後の表面粗さは、ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１−１９９４に準拠してカットオフ値０．
８ｍｍ、評価長さ３．０ｍｍで測定した算術平均粗さ
（Ｒａ）が、０．２〜０．５μｍであるのが好ましい。

【００２１】＜アルカリエッチング処理＞このように砂
目立て処理されたアルミニウム板は、アルカリにより化
学的にエッチングされる。本発明において好適に用いら
れるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセ
イソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸
ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムが挙げられる。アルカリエッチング処理の条件は、Ａ
ｌの溶解量が０．０５〜３０ｇ／ｍ² となるような条件
であれば、特に限定されないが、アルカリの濃度は１〜
５０質量％であるのが好ましく、５〜３０質量％である
のがより好ましく、また、アルカリの温度は２０〜１０
０℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのがより
好ましい。アルカリエッチング処理は、１種の方法に限
らず、複数の工程を組み合わせることができる。

【００２２】このアルカリエッチングにより、大小二重
ピット構造における大波および／または小波の波長をあ
る程度好ましい範囲の値に制御することができる。

【００２３】アルカリエッチング処理を行った後、表面
に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが
行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫
酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸が挙
げられる。特に、電気化学的粗面化処理後のスマット除
去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３
９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の
１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方法が挙げられ
る。

【００２４】＜陽極酸化処理＞以上のように処理された
アルミニウム板には、更に、陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で
行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム
酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
の単独のまたは２種以上を組み合わせた水溶液または非
水溶液の中で、アルミニウム板に直流または交流を流す
とアルミニウム板の表面に陽極酸化皮膜を形成すること
ができる。

【００２５】この際、少なくともＡｌ合金板、電極、水
道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれ
ていても構わない。更には、第２、第３の成分が添加さ
れていても構わない。ここでいう第２、第３の成分とし
ては、例えば、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａ
ｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等
の金属のイオン；アンモニウムイオン等の陽イオン；硝
酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、
フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ
酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、０〜
１００００ｐｐｍ程度の濃度で含まれていてもよい。

【００２６】陽極酸化処理の条件は、使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液濃度１〜８０質量％、液温−５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１０〜２００秒であるのが適当である。こ
れらの陽極酸化処理の中でも、英国特許第１，４１２，
７６８号明細書に記載されている、硫酸電解液中で高電
流密度で陽極酸化する方法が特に好ましい。

【００２７】本発明においては、陽極酸化皮膜の量は１
〜１０ｇ／ｍ² であるのが好ましい。１ｇ／ｍ² 未満で
あると版に傷が入りやすくなり、一方、１０ｇ／ｍ² を
超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利
となる。陽極酸化皮膜の量は、１．５〜７ｇ／ｍ² であ
るのがより好ましく、２〜５ｇ／ｍ² であるのが特に好
ましい。

【００２８】＜アルカリ金属ケイ酸塩処理＞上記のよう
に処理して得られる陽極酸化皮膜が形成されたアルミニ
ウム支持体を、必要に応じて、アルカリ金属ケイ酸塩の
水溶液を用いて浸せき処理する。処理条件は、特に限定
されないが、例えば、濃度０．０１〜５．０質量％の水
溶液を用いて、温度５〜４０℃で、１〜６０秒間浸せき
し、その後、流水により洗浄する。より好ましい浸せき
処理温度は１０〜４０℃であり、より好ましい浸せき時
間は２〜２０秒間である。

【００２９】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ
酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶
液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム等を適当量含有してもよい。また、アルカリ金属ケ
イ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または４族（第
ＩＶＢ族）金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属
塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチ
ウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩；硫
酸塩；塩酸塩；リン酸塩；酢酸塩；シュウ酸塩；ホウ酸
塩が挙げられる。４族（第ＩＶＢ族）金属塩としては、
例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカ
リウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ
化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙
げられる。これらのアルカリ土類金属塩および４族（第
ＩＶＢ族）金属塩は、単独でまたは２種以上組み合わせ
て用いられる。

【００３０】アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着す
るＳｉ量は蛍光Ｘ線分析装置により測定され、その吸着
量は約１．０〜１５．０ｍｇ／ｍ² であるのが好まし
い。このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、アルミニウ
ム支持体表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上効
果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑
制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低
減することができる。

【００３１】［画像形成層］本発明の平版印刷版は、上
記のようにして得られたアルミニウム支持体上に、アル
カリ易溶性の中間層および加熱によりアルカリ可溶化す
る感光層を順次設けてなる。以下、アルカリ易溶性の中
間層および加熱によりアルカリ可溶化する感光層につい
て説明する。

【００３２】＜中間層＞本発明の平版印刷版におけるア
ルカリ易溶性の中間層は、アルカリ易溶性の層であれば
特に限定されないが、酸基を有するモノマーを有する重
合体を含有するのが好ましく、酸基を有するモノマーお
よびオニウム基を有するモノマーを有する重合体を含有
するのがより好ましい。なお、本発明の平版印刷版に
は、以下に説明する「中間層」および「感光層」のよう
な２層構成をとるもののほか、１層の感光層において、
アルミニウム支持体側におけるアルカリに対する溶解性
が、表面側における溶解性より高くなっているような構
成のものが含まれる。以下、中間層に含有される重合体
について詳しく説明する。中間層に含有される重合体
は、少なくとも酸基を有するモノマーを重合してなる化
合物であり、好ましくは、酸基を有するモノマーおよび
オニウム基を有するモノマーを重合してなる化合物であ
る。ここで、酸基としては、酸解離指数（ｐＫａ）が７
以下の酸基が好ましく、より好ましくは−ＣＯＯＨ、−
ＳＯ₃ Ｈ、−ＯＳＯ₃ Ｈ、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 、−ＯＰＯ ₃ Ｈ
₂ 、−ＣＯＮＨＳＯ₂ 、−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂ −であり、
特に好ましくは−ＣＯＯＨである。また、オニウム基と
して好ましいものは、周期律表１５族（第ＶＡ族）また
は１６族（第ＩＶＡ族）の原子を含有するオニウム基で
あり、より好ましくは窒素原子、リン原子またはイオウ
原子を含有するオニウム基であり、特に好ましくは窒素
原子を含有するオニウム基である。

【００３３】本発明に用いられる重合体は、好ましく
は、主鎖構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリス
チレンのようなビニル系ポリマー、ウレタン樹脂、ポリ
エステルまたはポリアミドであることを特徴とする重合
体化合物である。より好ましくは、この重合体の主鎖構
造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのよ
うなビニル系ポリマーであることを特徴とする重合体化
合物である。特に好ましくは、酸基を有するモノマーが
下記の一般式（１）または一般式（２）で表される化合
物であり、オニウム基を有するモノマーが後記の一般式
（３）、一般式（４）または一般式（５）で表される化
合物であることを特徴とする重合体化合物である。

【００３４】

【化１】

【００３５】式中、Ａは２価の連結基を表す。Ｂは芳香
族基または置換芳香族基を表す。ＤおよびＥはそれぞれ
独立して２価の連結基を表す。Ｇは３価の連結基を表
す。ＸおよびＸ´はそれぞれ独立してｐＫａが７以下の
酸基またはそのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩
を表す。Ｒ₁ は水素原子、アルキル基またはハロゲン原
子を表す。ａ、ｂ、ｄおよびｅはそれぞれ独立して０ま
たは１を表す。ｔは１〜３の整数である。酸基を有する
モノマーの中でより好ましくは、Ａは−ＣＯＯ−または
−ＣＯＮＨ−を表し、Ｂはフェニレン基または置換フェ
ニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子ま
たはアルキル基である。ＤおよびＥはそれぞれ独立して
アルキレン基または分子式がＣ_n Ｈ_2nＯ、Ｃ_n Ｈ_2nＳま
たはＣ_n Ｈ_2n+1Ｎで表される２価の連結基を表す。Ｇは
分子式がＣ_n Ｈ_2n-1、Ｃ_n Ｈ_2n-1Ｏ、Ｃ_n Ｈ_2n-1Ｓまた
はＣ_n Ｈ_2nＮで表される３価の連結基を表す。ただし、
ここで、ｎは１〜１２の整数を表す。ＸおよびＸ´はそ
れぞれ独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、
硫酸モノエステルまたはリン酸モノエステルを表す。Ｒ
₁ は水素原子またはアルキル基を表す。ａ、ｂ、ｄおよ
びｅはそれぞれ独立して０または１を表すが、ａとｂは
同時に０ではない。酸基を有するモノマーの中で特に好
ましくは一般式（１）で示す化合物であり、Ｂはフェニ
レン基または置換フェニレン基を表し、その置換基は水
酸基または炭素数１〜３のアルキル基である。Ｄおよび
Ｅはそれぞれ独立して炭素数１〜２のアルキレン基また
は酸素原子で連結した炭素数１〜２のアルキレン基を表
す。Ｒ₁ は水素原子またはアルキル基を表す。Ｘはカル
ボン酸基を表す。ａは０であり、ｂは１である。

【００３６】酸基を有するモノマーの具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。 （酸基を有するモノマーの具体例）アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸

【００３７】

【化２】

【００３８】

【化３】

【００３９】

【化４】

【００４０】つぎに、オニウム基を有するモノマーであ
る、下記一般式（３）、（４）または（５）で表される
ポリマーについて説明する。

【００４１】

【化５】

【００４２】式中、Ｊは２価の連結基を表す。Ｋは芳香
族基または置換芳香族基を表す。Ｍはそれぞれ独立して
２価の連結基を表す。Ｙ₁ は周期率表１５族（第ＶＡ
族）の原子を表し、Ｙ₂ は周期率表１６族（第ＶＩＡ
族）の原子を表す。Ｚ^- は対アニオンを表す。Ｒ₂ は水
素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。Ｒ₃ 、
Ｒ ₄ 、Ｒ₅ およびＲ₇ はそれぞれ独立して水素原子また
は、場合によっては置換基が結合してもよいアルキル
基、芳香族基もしくはアラルキル基を表し、Ｒ₆ はアル
キリジン基または置換アルキリジンを表すが、Ｒ₃ とＲ
₄ またはＲ₆ とＲ₇ はそれぞれ結合して環を形成しても
よい。ｊ、ｋおよびｍはそれぞれ独立して０または１を
表す。ｕは１〜３の整数を表す。オニウム基を有するモ
ノマーの中でより好ましくは、Ｊは−ＣＯＯ−または−
ＣＯＮＨ−を表し、Ｋはフェニレン基または置換フェニ
レン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子また
はアルキル基である。Ｍはアルキレン基または分子式が
Ｃ_n Ｈ_2nＯ、Ｃ_n Ｈ_2nＳもしくはＣ_n Ｈ_2n+1Ｎで表され
る２価の連結基を表す。ただし、ここで、ｎは１〜１２
の整数を表す。Ｙ₁ は窒素原子またはリン原子を表し、
Ｙ₂ はイオウ原子を表す。Ｚ^- はハロゲンイオン、ＰＦ
₆ ^- 、ＢＦ ₄ ^- またはＲ₈ ＳＯ₃ ^- を表す。Ｒ₂ は水素
原子またはアルキル基を表す。Ｒ₃、Ｒ₄ 、Ｒ₅ および
Ｒ₇ はそれぞれ独立して水素原子または、場合によって
は置換基が結合してもよい炭素数１〜１０のアルキル
基、芳香族基もしくはアラルキル基を表し、Ｒ₆ は炭素
数１〜１０のアルキリジン基または置換アルキリジンを
表すが、Ｒ₃ とＲ₄ 、および、Ｒ₆ とＲ₇ はそれぞれ結
合して環を形成してもよい。ｊ、ｋおよびｍはそれぞれ
独立して０または１を表すが、ｊとｋは同時に０ではな
い。Ｒ₈ は置換基が結合してもよい炭素数１〜１０のア
ルキル基、芳香族基またはアラルキル基を表す。オニウ
ム基を有するモノマーの中で特に好ましくは、Ｋはフェ
ニレン基または置換フェニレン基を表し、その置換基は
水素原子または炭素数１〜３のアルキル基である。Ｍは
炭素数１〜２のアルキレン基または酸素原子で連結した
炭素数１〜２のアルキレン基を表す。Ｚ^- は塩素イオン
またはＲ₈ ＳＯ₃ ^- を表す。Ｒ₂は水素原子またはメチ
ル基を表す。ｊは０であり、ｋは１である。Ｒ₈ は炭素
数１〜３のアルキル基を表す。

【００４３】オニウム基を有するモノマーの具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。（オニウム基を有するモノマーの具体例）

【００４４】

【化６】

【００４５】

【化７】

【００４６】

【化８】

【００４７】酸基を有するモノマーは単独で用いても、
２種以上組み合わせて用いてもよく、また、オニウム基
を有するモノマーは単独で用いても、２種以上組み合わ
せて用いてもよい。更に、本発明に用いられる重合体
は、モノマー、組成比または分子量の異なるものを２種
以上混合して用いてもよい。この際、酸基を有するモノ
マーを重合成分として有する重合体は、酸基を有するモ
ノマーを１モル％以上含むのが好ましく、５モル％以上
含むのがより好ましく、また、オニウム基を有するモノ
マーを重合成分として有する重合体は、オニウム基を有
するモノマーを１モル％以上含むのが好ましく、５モル
％以上含むのがより好ましい。

【００４８】更に、これらの重合体は、以下の（１）〜
（１４）に示す重合性モノマーから選ばれる少なくとも
１種を共重合成分として含んでいてもよい。 （１）Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド
またはＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、ｏ−、ｍ−またはｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ま
たはｍ−ブロモ−ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−または
ｍ−クロル−ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−また
はｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリ
レート等の芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類およびビドロキシスチレン類、（２）アク
リル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸お
よびそのハーフエステル、イタコン酸、無水イタコン酸
およびそのハーフエステル等の不飽和カルボン酸、

【００４９】（３）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスル
ホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）アクリルアミド等のアクリルアミド
類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）
ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホ
ニルエチル）メタクリルアミド等のメタクリルアミド
類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレー
ト、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−
アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３−ア
ミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレート等のア
クリル酸エステル類等の不飽和スルホンアミド、ｏ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニ
ルフェニルナフチル）メタクリレート等のメタクリル酸
エステル類等の不飽和スルホンアミド、

【００５０】（４）トシルアクリルアミドのように置換
基があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、
およびトシルメタクリルアミドのような置換基があって
もよいフェニルスルホニルメタクリルアミド、（５）脂
肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およびメタク
リル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
（６）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−２−クロロエチル、アクリル酸４−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等の（置換）アクリル酸エ
ステル、（７）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸
フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−
クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、グ
リシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメ
タクリレート等の（置換）メタクリル酸エステル、

【００５１】（８）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよび
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアクリ
ルアミドまたはメタクリルアミド、（９）エチルビニル
エーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキ
シエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテル等のビニルエーテル類、

【００５２】（１０）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類、（１１）スチレン、α−メチルスチレ
ン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレ
ン類、（１２）メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等の
ビニルケトン類、（１３）エチレン、プロピレン、イソ
ブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、
（１４）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。

【００５３】なお、ここで使用する重合体には酸基を有
するモノマーを１モル％以上含むのが好ましく、５モル
％以上含むのがより好ましく、また、オニウム基を有す
るモノマーを１モル％以上含むのが好ましく、５モル％
以上含むのがより好ましい。更に、酸基を有するモノマ
ーが２０モル％以上含まれると、アルカリ現像時の溶解
除去が一層促進され、オニウム基を有するモノマーが１
モル％以上含まれると酸基との相乗効果により密着性が
一層向上される。また、酸基を有する構成成分は単独で
用いても、２種以上組み合わせて用いてもよく、また、
オニウム基を有するモノマーは単独で用いても、２種以
上組み合わせて用いてもよい。更に、本発明に用いられ
る重合体は、モノマー、組成比または分子量の異なるも
のを２種以上混合して用いてもよい。つぎに、本発明に
用いられる重合体の代表的な例を以下に示す。なお、ポ
リマー構造の組成比はモル百分率を表す。

【００５４】

【化９】

【００５５】

【化１０】

【００５６】

【化１１】

【００５７】

【化１２】

【００５８】

【化１３】

【００５９】

【化１４】

【００６０】

【化１５】

【００６１】

【化１６】

【００６２】

【化１７】

【００６３】本発明に用いられる重合体は、一般にはラ
ジカル連鎖重合法を用いて製造することができる（“Ｔ
ｅｘｔｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃ
ｅ”３ｒｄ ｅｄ．（１９８４）Ｆ．Ｗ．Ｂｉｌｌｍｅ
ｙｅｒ，Ａ Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ参照）。

【００６４】本発明に用いられる重合体の分子量は広範
囲であってもよいが、光散乱法を用いて測定したとき、
重量平均分子量（Ｍ_w ）が５００〜２，０００，０００
であるのが好ましく、１，０００〜６００，０００の範
囲であるのがより好ましい。また、ＮＭＲ測定における
末端基と側鎖官能基との積分強度より算出される数平均
分子量（Ｍ_n ）が３００〜５００，０００であるのが好
ましく、５００〜１００，０００の範囲であるのがより
好ましい。分子量が上記の範囲よりも小さいと、基板と
の密着力が弱くなり、耐刷性の劣化が生じる場合があ
る。一方、分子量が上記の範囲を超えて大きくなると、
支持体への密着力が強くなりすぎ、非画像部の感光層残
渣を十分に除去することができなくなる場合がある。ま
た、この重合体中に含まれる未反応モノマー量は広範囲
であってもよいが、２０質量％以下であるのが好まし
く、１０質量％以下であるのがより好ましい。

【００６５】上記範囲の分子量を有する重合体は、対応
する単量体を共重合する際に、重合開始剤および連鎖移
動剤を併用し、添加量を調整することより得ることがで
きる。なお、連鎖移動剤とは、重合反応において連鎖移
動反応により、反応の活性点を移動させる物質のことを
いい、その移動反応の起こりやすさは、連鎖移動定数Ｃ
ｓで表される。本発明で用いられる連鎖移動剤の連鎖移
動定数Ｃｓ×１０⁴ （６０℃）は、０．０１以上である
のが好ましく、０．１以上であるのがより好ましく、１
以上であるのが特に好ましい。重合開始剤としては、ラ
ジカル重合の際に一般によく用いられる過酸化物、アゾ
化合物、レドックス開始剤をそのまま利用することがで
きる。これらの中でアゾ化合物が特に好ましい。

【００６６】連鎖移動剤の具体例としては、四塩化炭
素、四臭化炭素等のハロゲン化合物、イソプロピルアル
コール、イソブチルアルコール等のアルコール類、２−
メチル−１−ブテン、２，４−ジフェニル−４−メチル
−１−ペンテン等のオレフィン類、エタンチオール、ブ
タンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノー
ル、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸
メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプ
ロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、
ｓｅｃ−ブチルジスルフィド、２−ヒドロキシエチルジ
スルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、チオク
レゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメルカプ
タン等の含イオウ化合物が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。より好ましくは、エタンチオー
ル、ブタンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエ
タノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピ
オン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカ
プトプロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフ
ィド、ｓｅｃ−ブチルジスルフィド、２−ヒドロキシエ
チルジスルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、
チオクレゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメ
ルカプタンであり、特に好ましくは、エタンチオール、
ブタンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノ
ール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン
酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプト
プロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィ
ド、ｓｅｃ−ブチルジスルフィド、２−ヒドロキシエチ
ルジスルフィドである。

【００６７】また、この重合体中に含まれる未反応モノ
マー量は広範囲であってもよいが、２０質量％以下であ
ることが好ましく、また１０質量％以下であることが更
に好ましい。

【００６８】つぎに、本発明に用いられる重合体の合成
例を示す。 〔合成例１〕重合体（Ｎｏ．１）の合成ｐ−ビニル安息
香酸（北興化学工業社製）５０．４ｇ、トリエチル（ｐ
−ビニルベンジル）アンモニウムクロリド１５．２ｇ、
メルカプトエタノール１．９ｇおよびメタノール１５
３．１ｇを２Ｌ容の三つ口フラスコに取り、窒素気流下
かくはんしながら、加熱し６０℃に保った。この溶液に
２，２´−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル２．８ｇを加
え、そのまま３０分間かくはんを続けた。その後、この
反応液に、ｐ−ビニル安息香酸２０１．５ｇ、トリエチ
ル（ｐ−ビニルベンジル）アンモニウムクロリド６０．
９ｇ、メルカプトエタノール７．５ｇおよび２，２´−
アゾビス（イソ酪酸）ジメチル１１．１ｇをメタノール
６１２．３ｇに溶解させた溶液を２時間かけて滴下し
た。滴下終了後、温度を６５℃に上げ、窒素気流下１０
時間かくはんを続けた。反応終了後、室温まで放冷する
と、この反応液の収量は１１３２ｇであり、その固形分
濃度は３０．５質量％であった。更に、得られた生成物
の数平均分子量（Ｍ_n ）を¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルより
求めた結果、その値は２１００であった。

【００６９】〔合成例２〕重合体（Ｎｏ．２）の合成ト
リエチル（ｐ−ビニルベンジル）アンモニウムクロリド
の代わりに、トリエチル（ビニルベンジル）アンモニウ
ムクロリドのｍ／ｐ体（２／１）混合物を用い、メルカ
プトエタノールの代わりにメルカプトプロピオン酸エチ
ルを用いた以外は、合成例１と同様の操作を行い、数平
均分子量（Ｍ_n ）４，８００の重合体を得た。

【００７０】〔合成例３〕重合体（Ｎｏ．２５）の合成
ｐ−ビニル安息香酸（北興化学工業社製）１４６．９ｇ
（０．９９ｍｏｌ）、ビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロリド４４．２ｇ（０．２１ｍｏｌ）および２
−メトキシエタノール４４６ｇを１Ｌ容の三つ口フラス
コに取り、窒素気流下かくはんしながら、加熱し７５℃
に保った。つぎに、２，２−アゾビス（イソ酪酸）ジメ
チル２，７６ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加え、かくはんを続
けた。２時間後、２，２−アゾビス（イソ酪酸）ジメチ
ル２，７６ｇ（１２ｍｍｏｌ）を追加した。更に、２時
間後、２，２−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル２．７６
ｇ（１２ｍｍｏｌ）を追加した。２時間かくはんした
後、室温まで放冷した。この反応液をかくはん下、１２
Ｌの酢酸エチル中に注いだ。析出する固体をろ取し、乾
燥した。その収量は１８９．５ｇであった。得られた固
体は光散乱法で分子量測定を行った結果、重量平均分子
量（Ｍ_w ）は３．２万であった。

【００７１】本発明に用いられる他の重合体も同様の方
法で合成される。

【００７２】また、本発明の平版印刷版の中間層には、
前記重合体に加え、下記一般式（６）で示される化合物
を添加することもできる。

【００７３】

【化１８】

【００７４】（式中、Ｒ₁ は炭素数６〜１４のアリーレ
ン基を表し、ｍおよびｎは独立して１〜３の整数を表
す。） 上記一般式（６）で示される化合物について、以下に説
明する。Ｒ₁ で表されるアリーレン基の炭素数は６〜１
４であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好まし
い。Ｒ₁ で表されるアリーレン基として具体的には、例
えば、フェニレン基、ナフチル基、アンスリル基、フェ
ナスリル基が挙げられる。Ｒ₁ で表されるアリーレン基
は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のア
ルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、炭素数６
〜１０のアリール基、カルボン酸エステル基、アルコキ
シ基、フェノキシ基、スルホン酸エステル基、ホスホン
酸エステル基、スルホニルアミド基、ニトロ基、ニトリ
ル基、アミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、エチレ
ンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、トリエチル
アンモニウムクロライド基等で置換されていてもよい。

【００７５】一般式（６）で示される化合物の具体的な
例としては、例えば、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒ
ドロキシ安息香酸、サリチル酸、１−ヒドロキシー２−
ナフトエ酸、２−ヒドロキシー１−ナフトエ酸、２−ヒ
ドロシキー３−ナフトエ酸、２，４−ジヒドロキシ安息
香酸、１０−ヒドロキシ−９−アントラセンカルボン酸
が挙げられる。ただし、上記の具体例に限定されるもの
ではない。また、一般式（６）で示される化合物を単独
で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。

【００７６】本発明に用いられる上記重合体と、必要に
応じて添加される上記一般式（６）で示される化合物を
含む中間層は、上述したアルミニウム支持体上に種々の
方法により塗布して設けられる。

【００７７】この中間層を設ける方法としては、例え
ば、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤またはこれらの有機
溶剤と水との混合溶剤に本発明に用いられる重合体およ
び必要に応じて添加される一般式（６）で示される化合
物を溶解させた溶液をアルミニウム支持体上に塗布し乾
燥して設ける塗布方法、メタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤
またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤に、本発明に
用いられる重合体および必要に応じて添加される一般式
（６）で示される化合物を溶解させた溶液に、アルミニ
ウム支持体を浸せきした後、水洗または空気等によって
洗浄し乾燥して設ける方法を挙げることができる。

【００７８】前者の方法では、上記化合物の合計で０．
００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布で
きる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布等のいずれの方法を用いてもよい。
また、後者の方法では、溶液の濃度は０．００５〜２０
質量％、好ましくは０．０１％〜１０質量％であり、浸
せき温度は０℃〜７０℃、好ましくは５〜６０℃であ
り、浸せき時間は０．１秒〜５分、好ましくは０．５秒
〜１２０秒である。

【００７９】上記の溶液は、アンモニア、トリエチルア
ミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸等の無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸等の有機スルホン酸、フェニ
ルホスホン酸等の有機ホスホン酸、安息香酸、クマル
酸、リンゴ酸等の有機カルボン酸等種々有機酸性物質、
ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンスルホニル
クロライド等の有機クロライド等によりｐＨを調整し、
ｐＨ＝０〜１２、より好ましくはｐＨ＝０〜６の範囲で
使用することもできる。また、平版印刷版の調子再現性
改良のために紫外光や可視光、赤外光等を吸収する物質
を添加することもできる。

【００８０】本発明の平版印刷版の中間層を構成する化
合物の乾燥後の被覆量は、合計で１〜１００ｍｇ／ｍ²
が適当であり、好ましくは２〜７０ｍｇ／ｍ² である。
上記被覆量が１ｍｇ／ｍ² よりも少ないと十分な効果が
得られない場合がある。また、１００ｍｇ／ｍ² よりも
多い場合も同様である。

【００８１】＜感光層＞本発明の平版印刷版における加
熱によりアルカリ可溶化する感光層は、赤外線レーザ用
ポジ型感光性組成物（以下、単に「感光性組成物」とも
いう。）を含有する。感光層に含まれる赤外線レーザ用
ポジ型感光性組成物は、少なくとも、（Ａ）アルカリ可
溶性高分子化合物、（Ｂ）該アルカリ可溶性高分子化合
物と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶
液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解
性低下作用が減少する化合物、および（Ｃ）光を吸収し
て発熱する化合物を含有し、更に必要に応じて、（Ｄ）
その他の成分を含有する。

【００８２】（Ａ）アルカリ可溶性高分子化合物 本発明に使用されるアルカリ可溶性高分子化合物は、特
に限定されず従来公知のものを用いることができるが、
（１）フェノール性水酸基、（２）スルホンアミド基、
および（３）活性イミド基のいずれかの官能基を分子内
に有する高分子化合物であるのが好ましい。例えば、以
下のものが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。

【００８３】（１）フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ
−、ｐ−およびｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）混
合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロ
ールアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を
有する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノー
ル性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合させ、または、該モノマーに他の重合
性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げ
られる。

【００８４】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、例えば、フェノール性水酸基を有するアク
リルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル；ヒドロキシスチレンが挙げられ
る。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルア
クリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、
ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、
２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、２種以上を組み合わせて使
用してもよい。更に、米国特許第４，１２３，２７９号
明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノール
ホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換
基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重
合体を併用してもよい。

【００８５】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する重合性モノマーを単独重合させ、または、該
モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる
高分子化合物が挙げられる。スルホンアミド基を有する
重合性モノマーとしては、例えば、１分子中に、窒素原
子上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンア
ミド基−ＮＨ−ＳＯ₂−と、重合可能な不飽和結合をそ
れぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノ
マーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリ
ル基またはビニロキシ基と、モノ置換アミノスルホニル
基または置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合
物が好ましい。このような化合物としては、例えば、下
記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される化合物が挙げられ
る。

【００８６】

【化１９】

【００８７】式中、Ｘ¹ およびＸ² は、それぞれ−Ｏ−
または−ＮＲ₇ −を示す。Ｒ₁ およびＲ₄ は、それぞれ
水素原子または−ＣＨ₃ を表す。Ｒ₂ 、Ｒ₅ 、Ｒ₉ 、Ｒ
₁₂およびＲ₁₆は、それぞれ置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、ア
リーレン基またはアラルキレン基を表す。Ｒ₃ 、Ｒ₇お
よびＲ₁₃は、水素原子またはそれぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基またはアラルキル基を表す。また、Ｒ₆
およびＲ₁₇は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素
数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基またはアラルキル基を示す。Ｒ₈ 、Ｒ ₁₀およびＲ
₁₄は、水素原子または−ＣＨ₃ を表す。Ｒ₁₁およびＲ₁₅
は、それぞれ単結合、または置換基を有していてもよい
炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基もしくはアラルキレン基を表す。Ｙ¹ およ
びＹ²は、それぞれ単結合または−ＣＯ−を表す。具体
的には、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリ
ルアミド等を好適に使用することができる。

【００８８】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物は、下記式で表される活性イミド基を分
子内に有するものが好ましく、この高分子化合物として
は、１分子中に、下記式で表される活性イミド基と、重
合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化
合物からなる重合性モノマーを単独重合させ、または、
該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られ
る高分子化合物が挙げられる。

【００８９】

【化２０】

【００９０】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【００９１】更に、本発明に用いられるアルカリ可溶性
高分子化合物としては、前記フェノール性水酸基を有す
る重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モ
ノマー、および活性イミド基を有する重合性モノマーの
うちの２種以上を重合させた高分子化合物、またはこれ
ら２種以上の重合性モノマーに他の重合性モノマーを共
重合させて得られる高分子化合物が好適に挙げられる。
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホ
ンアミド基を有する重合性モノマーおよび／または活性
イミド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合に
は、これら成分の配合質量比は５０：５０から５：９５
の範囲にあるのが好ましく、４０：６０から１０：９０
の範囲にあるのがより好ましい。

【００９２】アルカリ可溶性高分子化合物が前記フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド
基を有する重合性モノマー、または活性イミド基を有す
る重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共重合体
である場合には、アルカリ可溶性を付与するモノマーを
１０モル％以上含むものが好ましく、２０モル％以上含
むものがより好ましい。共重合成分が１０モル％より少
ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラ
チチュードの向上効果が十分達成されないことがある。

【００９３】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、ま
たは活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させ
るモノマー成分としては、例えば、下記（１）〜（１
２）に挙げるモノマーを用いることができるが、これら
に限定されるものではない。 （１）２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するア
クリル酸エステル類およびメタクリル酸エステル類。 （２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。

【００９４】（４）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドおよびメタクリルアミ
ド。 （５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。

【００９５】（７）スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 （９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【００９６】本発明においてアルカリ可溶性高分子化合
物が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、または
活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体また
は共重合体である場合、重量平均分子量が２，０００以
上であり、数平均分子量が５００以上であるものが好ま
しい。より好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜
３００，０００であり、数平均分子量が８００〜２５
０，０００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分
子量）が１．１〜１０であるものである。また、本発明
においてアルカリ可溶性高分子化合物がフェノールホル
ムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂
である場合には、重量平均分子量が５００〜２０，００
０であり、数平均分子量が２００〜１０，０００である
ものが好ましい。

【００９７】これらアルカリ可溶性高分子化合物は、そ
れぞれ単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用い
てもよく、感光層の全固形分中、好ましくは３０〜９９
質量％、より好ましくは４０〜９５質量％、特に好まし
くは５０〜９０質量％の添加量で用いられる。アルカリ
可溶性高分子化合物の添加量が３０質量％未満であると
感光層の耐久性が悪化し、また、９９質量％を超えると
感度および耐久性の両面で好ましくない。

【００９８】（Ｂ）前記アルカリ可溶性高分子化合物と
相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶液へ
の溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性低
下作用が減少する化合物 この（Ｂ）成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、（Ａ）アルカリ可溶性高分子化合物と
の相溶性が良好であり、均一な塗布液を形成し得るとと
もに、（Ａ）成分との相互作用により、該高分子化合物
のアルカリ可溶性を抑制する機能を有する化合物を指
す。また、この化合物は加熱によりこの溶解性低下作用
が消滅するが、（Ｂ）成分自体が加熱により分解する化
合物である場合、分解に十分なエネルギーがレーザの出
力や照射時間等の条件によって付与されないと、溶解性
の抑制作用の低下が不十分となり、感度が低下するおそ
れがあるため、（Ｂ）成分の熱分解温度は１５０℃以上
であることが好ましい。

【００９９】本発明に用いられる好適な（Ｂ）成分とし
ては、例えば、スルホン化合物、アンモニウム塩、ホス
ホニウム塩、アミド化合物等の前記（Ａ）成分と相互作
用する化合物が挙げられる。（Ｂ）成分は、上述したよ
うに、（Ａ）成分との相互作用を考慮して適宜選択され
るべきであり、具体的には、例えば、（Ａ）成分として
ノボラック樹脂を単独で用いる場合、後に例示するシア
ニン染料Ａ等が好適に用いられる。

【０１００】（Ａ）成分と（Ｂ）成分との配合比は、通
常、９９／１〜７５／２５の範囲であるのが好ましい。
９９／１よりも（Ｂ）成分が少ない場合、（Ａ）成分と
の相互作用が不十分となり、アルカリ可溶性を阻害でき
ず、良好な画像形成ができにくい。また、７５／２５よ
りも（Ｂ）成分が多い場合、相互作用が過大であるため
著しく感度が低下し、いずれも好ましくない。

【０１０１】（Ｃ）光を吸収して発熱する化合物 本発明における光を吸収して発熱する化合物とは、７０
０ｎｍ以上、好ましくは７５０〜１２００ｎｍの赤外域
に光吸収域があり、この範囲の波長の光において、光／
熱変換能を発現するものを指す。具体的には、この波長
域の光を吸収し熱を発生する種々の顔料または染料を用
いることができる。前記顔料としては、市販の顔料また
はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便
覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔
料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）および「印
刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載され
ている顔料が利用できる。

【０１０２】前記顔料の種類としては、例えば、黒色顔
料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、
紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔
料、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶
性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレート
アゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔
料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソイ
ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラックを用いるこ
とができる。

【０１０３】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法
には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート）を顔
料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印
刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【０１０４】前記顔料の粒径は、０．０１〜１０μｍの
範囲にあるのが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲にあ
るのがより好ましく、０．１〜１μｍの範囲にあるのが
特に好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは
分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましくな
く、また、１０μｍを超えると感光層の均一性の点で好
ましくない。

【０１０５】前記顔料を分散する方法としては、インク
製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用
できる。分散機としては、例えば、超音波分散器、サン
ドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボ
ールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロ
イドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダ
ーが挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭ
Ｃ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１０６】前記染料としては、市販の染料および文献
（例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４
５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料等の染料を用いることができる。

【０１０７】本発明においては、これらの顔料または染
料の中でも、赤外光または近赤外光を吸収するものが、
赤外光または近赤外光を発光するレーザの利用に適する
点で特に好ましい。

【０１０８】そのような赤外光または近赤外光を吸収す
る顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられる。
また、赤外光または近赤外光を吸収する染料としては、
例えば、特開昭５８−１２５２４６号公報、特開昭５９
−８４３５６号公報、特開昭５９−２０２８２９号公
報、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載されている
シアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号公報、特開
昭５８−１８１６９０号公報、特開昭５８−１９４５９
５号公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−
１１２７９３号公報、特開昭５８−２２４７９３号公
報、特開昭５９−４８１８７号公報、特開昭５９−７３
９９６号公報、特開昭６０−５２９４０号公報、特開昭
６０−６３７４４号公報等に記載されているナフトキノ
ン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載され
ているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５
号明細書に記載のシアニン染料、米国特許第５，３８
０，６３５号明細書に記載のジヒドロペリミジンスクア
リリウム染料を挙げることができる。

【０１０９】また、前記染料として米国特許第５，１５
６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に
用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細
書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウ
ム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第
４，３２７，１６９号明細書）に記載のトリメチンチア
ピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号公報、特開
昭５８−２２０１４３号公報、特開昭５９−４１３６３
号公報、特開昭５９−８４２４８号公報、特開昭５９−
８４２４９号公報、特開昭５９−１４６０６３号公報、
特開昭５９−１４６０６１号公報に記載されているピリ
リウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記
載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明
細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平
５−１３５１４号公報、特公平５−１９７０２号公報に
開示されているピリリウム化合物、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ
ＩＩＩ−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ ＩＩＩ−１３０、
Ｅｐｏｌｉｇｈｔ ＩＩＩ−１２５、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ
ＩＶ−６２Ａ等は特に好ましく用いられる。

【０１１０】また、前記染料として特に好ましい別の例
として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式
（Ｉ）または（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収
染料を挙げることができる。

【０１１１】これらの顔料または染料は、感光層の全固
形分に対して、好ましくは０．０１〜５０質量％、より
好ましくは０．１〜１０質量％、染料の場合、特に好ま
しくは０．５〜１０質量％、顔料の場合、特に好ましく
は３．１〜１０質量％の割合で前記感光性組成物中に添
加することができる。顔料または染料の添加量が０．０
１質量％未満であると感度が低くなり、また、５０質量
％を超えると感光層の均一性が失われ、感光層の耐久性
が悪くなる。これらの染料または顔料は他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加し
てもよい。別の層とする場合、本発明の熱分解性であり
かつ分解しない状態ではアルカリ可溶性高分子化合物の
溶解性を実質的に低下させる物質を含む層に隣接する層
へ添加するのが好ましい。また、染料または顔料とアル
カリ可溶性高分子化合物は同一の層に含まれるのが好ま
しいが、別の層でも構わない。

【０１１２】（Ｂ＋Ｃ）成分 本発明においては、（Ｂ）アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶液
への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性
低下作用が減少する化合物と、（Ｃ）光を吸収して発熱
する化合物とに代えて、双方の特性を有する一つの化合
物（以下、「（Ｂ＋Ｃ）成分」ともいうう。）を含有す
ることもできる。そのような化合物としては、例えば、
下記一般式（Ｚ）で表されるものが挙げられる。

【０１１３】

【化２１】

【０１１４】前記一般式（Ｚ）中、Ｒ₁ 〜Ｒ₄ は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を有してもよい炭素数
１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
シクロアルキル基もしくはアリール基を表し、Ｒ₁ とＲ
₂ 、Ｒ₃ とＲ₄ はそれぞれ結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、Ｒ₁ 〜Ｒ₄ としては、具体的には、
水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル
基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル
基等が挙げられる。また、これらの基が置換基を有する
場合、その置換基としては、ハロゲン原子、カルボニル
基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシ
ル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙
げられる。Ｒ₅ 〜Ｒ₁₀は、それぞれ独立に置換基を有し
てもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表し、ここで、
Ｒ₅ 〜Ｒ₁₀としては、具体的には、メチル基、エチル
基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、
アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、こ
れらの基が置換基を有する場合、その置換基としては、
ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、
スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、
スルホン酸エステル等が挙げられる。

【０１１５】Ｒ₁₁〜Ｒ₁₃は、それぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８
のアルキル基を表し、ここで、Ｒ₁₂は、Ｒ₁₁またはＲ₁₃
と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の場合
は、複数のＲ₁₂同士が結合して環構造を形成していても
よい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₃としては、具体的には、塩素原子、シ
クロヘキシル基、Ｒ₁₂同士が結合してなるシクロペンチ
ル環、シクロヘキシル環等が挙げられる。また、これら
の基が置換基を有する場合、その置換基としては、ハロ
ゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スル
ホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スル
ホン酸エステル等が挙げられる。また、ｍは１〜８の整
数を表し、好ましくは１〜３である。Ｒ₁₄およびＲ
₁₅は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または置
換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表し、
Ｒ₁₄はＲ₁₅と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ
＞２の場合は、複数のＲ₁₄同士が結合して環構造を形成
していてもよい。Ｒ₁₄およびＲ₁₅としては、具体的に
は、塩素原子、シクロヘキシル基、Ｒ₁₄同士が結合して
なるシクロペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ
る。また、これらの基が置換基を有する場合、その置換
基としては、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、
ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン
酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられる。ま
た、ｍは１〜８の整数を表し、好ましくは１〜３であ
る。

【０１１６】前記一般式（Ｚ）において、Ｘ^- は、アニ
オンを表す。アニオンとなる化合物の具体例としては、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トル
エンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−
クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スル
ホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸が挙
げられる。これらの中でも、特に六フッ化リン酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や、２，５−ジメチ
ルベンゼンスルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が
好ましく用いられる。

【０１１７】前記一般式（Ｚ）で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明は
この具体例により限定されるものではない。

【０１１８】

【化２２】

【０１１９】前記（Ｂ＋Ｃ）成分は、光を吸収して熱を
発生する性質（即ち、（Ｃ）成分の特性）を有し、しか
も７００〜１２００ｎｍの赤外域に吸収域をもち、更に
アルカリ可溶性高分子化合物との相溶性も良好であり、
塩基性染料であり、分子内にアンモニウム基、イミニウ
ム基等のアルカリ可溶性高分子化合物と相互作用する基
を有する（即ち、（Ｂ）成分の特性を有する）ために、
該高分子化合物と相互作用して、そのアルカリ可溶性を
制御することができ、本発明に好適に用いることができ
る。

【０１２０】本発明において、（Ｂ）成分および（Ｃ）
成分に代えて、前記のシアニン染料のような双方の特性
を兼ね備える化合物（Ｂ＋Ｃ）成分を用いる場合、この
化合物の添加量は、（Ａ）成分に対して、９９／１〜７
０／３０の範囲であるのが感度の観点から好ましく、９
９／１〜７５／２５の範囲であるのがより好ましい。

【０１２１】（Ｄ）その他の成分 本発明に用いられる前記感光性組成物には、更に必要に
応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ば、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノ
ール類、有機酸類、スルホニル化合物類を併用すること
もできる。環状酸無水物としては、例えば、米国特許第
４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４−テトラヒドロ無
水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン
酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン
酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸が挙げられる。
フェノール類としては、例えば、ビスフェノールＡ、ｐ
−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，
４，４´−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベン
ゾフェノン、４，４´，４″−トリヒドロキシトリフェ
ニルメタン、４，４´，３”，４”−テトラヒドロキシ
−３，５，３´，５´−テトラメチルトリフェニルメタ
ンが挙げられる。

【０１２２】有機酸類としては、例えば、特開昭６０−
８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報等に記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類が挙げられる。具体的には、例えば、ｐ−トル
エンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン
酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジ
フェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−
トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アス
コルビン酸、ビスヒドロキシフェニルスルホン、メチル
フェニルスルホン、ジフェニルジスルホンが挙げられ
る。

【０１２３】上記の環状酸無水物、フェノール類、有機
酸類およびスルホニル化合物類の前記感光性組成物の固
形分中に占める割合は、０．０５〜２０質量％であるの
が好ましく、０．１〜１５質量％であるのがより好まし
く、０．１〜１０質量％であるのが特に好ましい。

【０１２４】また、本発明における前記感光性組成物中
には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特
開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１
４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、
特開昭５９−１２１０４４号公報や特開平４−１３１４
９号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加
することができる。前記非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテルが挙げられる。前記両性界面活性剤の具体例とし
ては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキル
ポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−
カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニ
ウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型
（例えば、商品名「アモーゲンＫ」、第一工業社製）が
挙げられる。上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の前記感光性組成物の固形分中に占める割合は、
０．０５〜１５質量％であるのが好ましく、０．１〜５
質量％であるのがより好ましい。

【０１２５】本発明に用いられる前記感光性組成物中に
は、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出
し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることが
できる。焼き出し剤としては、露光による加熱によって
酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成しうる有
機染料との組み合わせが例示される。具体的には、特開
昭５０−３６２０９号公報、特開昭５３−８１２８号公
報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組み合わせ
や、特開昭５３−３６２２３号公報、特開昭５４−７４
７２８号公報、特開昭６０−３６２６号公報、特開昭６
１−１４３７４８号公報、特開昭６１−１５１６４４号
公報および特開昭６３−５８４４０号公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料との組み
合わせが挙げられる。かかるトリハロメチル化合物とし
ては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とが
あり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像
を与える。

【０１２６】画像着色剤としては、前述の塩形成性有機
染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有
機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性
染料が挙げられる。具体的には、例えば、オイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業社製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタル
バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレ
ット（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ロ
ーダミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグ
リーン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．
Ｉ．５２０１５）が挙げられる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報および特開平５−３１３３５９号公報
に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料
は、前記感光性組成物の固形分に対し、好ましくは０．
０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜３質量％の
割合で前記感光性組成物中に添加することができる。

【０１２７】また、本発明に用いられる前記感光性組成
物中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために
可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエ
チレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル
酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフル
フリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーお
よびポリマーが用いられる。更に、本発明に用いられる
前記感光性組成物中には必要に応じ、キノンジアジド
類、ジアゾ化合物等の光により分解する化合物を添加し
てもよい。これらの化合物の添加量は、前記感光性組成
物の固形分に対し、１〜５質量％であるのが好ましい。

【０１２８】本発明にかかる感光層は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、例えば、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチル
アセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、
トルエンを挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。これらの溶媒は単独でまたは混合して使
用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）
の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。

【０１２９】また、塗布乾燥後に得られる支持体上の感
光層塗布量（固形分）は、０．５〜５．０ｇ／ｍ² であ
るのが好ましい。

【０１３０】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布が挙げられ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見掛けの感度は大き
くなるが、感光膜の皮膜特性は低下する。

【０１３１】前記感光層中に、塗布性を向上させるため
の界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公
報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加す
ることができる。好ましい添加量は前記感光層の全固形
分に対して０．０１〜１質量％であり、より好ましくは
０．０５〜０．５質量％である。

【０１３２】

【実施例】以下に実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 １．平版印刷版の作成 （実施例１）Ｓｉ：０. ０６質量％、Ｆｅ：０．３０質
量％、Ｃｕ：０. ０１７質量％、Ｍｎ：０．００１質量
％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量
％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可
避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶
湯処理およびろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１
２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成した。表面を平均
１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃
で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったとこ
ろで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とし
た。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行っ
た後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板
に仕上げた。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにし
た後、以下に示す表面処理を連続的に行った。

【０１３３】（ａ）機械的粗面化処理 図１に示したような装置を使って、比重１．１２の研磨
剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてア
ルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状
ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤
の平均粒径は２０μｍ、最大粒径は１００μｍであっ
た。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長は
５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブ
ラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密
になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブ
ラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は
３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させ
る駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板
に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるま
で押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の
移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐ
ｍであった。

【０１３４】（ｂ）アルカリ剤によるエッチング処理 上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．
６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度
７０℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミ
ニウム板を１０ｇ／ｍ² 溶解した。その後、スプレーに
よる水洗を行った。

【０１３５】（ｃ）デスマット処理 温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイ
オンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマ
ット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を
用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。

【０１３６】（ｄ）電気化学的粗面化処理 ６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面
化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０ｇ／Ｌ
水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウム
イオンを０．００７質量％含む。）、温度８０℃であっ
た。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値が
ゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０ｍｓｅｃ、
ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボ
ン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。
補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽
は図３に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク
値で３０Ａ／ｄｍ² 、電気量はアルミニウム板が陽極時
の電気量の総和で１２０Ｃ／ｄｍ² であった。補助陽極
には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、
スプレーによる水洗を行った。

【０１３７】（ｅ）アルカリエッチング処理 アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミ
ニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチ
ング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２ｇ／
ｍ² 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を
行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とする
スマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ
部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、ス
プレーによる水洗を行った。

【０１３８】（ｆ）デスマット処理 温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウム
イオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行っ
た。

【０１３９】（ｇ）陽極酸化処理 図４に示す構造の二段給電電解処理法の陽極酸化装置
（第一および第二電解部長各６ｍ、第一および第二給電
部長各３ｍ、第一および第二給電電極長各２．４ｍ）を
用いて陽極酸化処理を行った。第一および第二電解部に
供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、い
ずれも、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを
０．５質量％含む。）、温度４３℃であった。その後、
スプレーによる水洗を行った。

【０１４０】前記陽極酸化装置においては、電源６７ａ
および６７ｂからの電流は、第一給電部６２ａに設けら
れた第一給電電極６５ａに流れ、電解液を介してアルミ
ニウム板１１に流れ、第一電解部６３ａでアルミニウム
板１１の表面に酸化皮膜を生成させ、第一電解部６３ａ
に設けられた電解電極６６ａおよび６６ｂを通り、電源
６７ａおよび６７ｂに戻る。一方、電源６７ｃおよび６
７ｄからの電流は、第二給電部６２ｂに設けられた第二
給電電極６５ｂに流れ、前記と同様に電解液を介してア
ルミニウム板１１に流れ、第二電解部６３ｂでアルミニ
ウム板１１の表面に酸化皮膜を生成させる。

【０１４１】電源６７ａおよび６７ｂから第一給電部６
２ａに給電される電気量と、電源６７ｃおよび６７ｄか
ら第二給電部６２ｂに給電される電気量とは等しく、ま
た、第一電解部６３ａおよび第二電解部６３ｂにおける
電流密度はともに約２５Ａ／ｄｍ² であった。第二給電
部６２ｂでは、第一電解部６３ａで生成した１．３５ｇ
／ｍ² の酸化皮膜面を通じて給電したことになる。最終
的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ² であった。

【０１４２】（ｈ）アルカリ金属ケイ酸塩処理 陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度
３０℃の３号ケイ酸ソーダの１質量％水溶液の処理層中
へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩
処理（シリケート処理）を行った。その後、スプレーに
よる水洗を行った。

【０１４３】（ｉ）中間層（下塗り層）の形成 上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後
のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布
し、８０℃で１５秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥
後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ² であった。

【０１４４】＜下塗り液組成＞ ・下記高分子化合物 ０．３ｇ ・メタノール １００ ｇ ・水 １ ｇ

【０１４５】

【化２３】

【０１４６】（ｊ）感光層の形成 ついで、下記組成の感光層塗布液１を調製し、下塗りし
たアルミニウム支持体に、この感光層塗布液１を乾燥後
の塗布量（感光層塗布量）が１．０ｇ／ｍ² になるよう
塗布し、乾燥して感光層を形成させ、実施例１の平版印
刷版を得た。

【０１４７】 ＜感光層塗布液１組成＞ ・カプリン酸 ０．０３ ｇ ・後述する特定の共重合体１ ０．７５ ｇ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量３，５ ００、未反応クレゾール０．５質量％含有） ０．２５ ｇ ・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００３ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０３ ｇ ・下記構造式で表されるシアニン染料Ａ ０．０１７ｇ

【０１４８】

【化２４】

【０１４９】 ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１−ナフタレンスルホン酸アニ オンにした染料 ０．０１５ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業社製 ） ０．０５ ｇ ・γ−ブチルラクトン １０ ｇ ・メチルエチルケトン １０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １ ｇ

【０１５０】＜特定の共重合体１＞かくはん機、冷却管
および滴下ロートを備えた５００ｍＬ容の三つ口フラス
コに、メタクリル酸３１．０ｇ（０．３６ｍｏｌ）、ク
ロロギ酸エチル３９．ｌｇ（０．３６ｍｏｌ）およびア
セトニトリル２００ｍＬを入れ、氷水浴で冷却しながら
混合物をかくはんした。この混合物にトリエチルアミン
３６．４ｇ（０．３６ｍｏｌ）を約１時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、
室温下で３０分間混合物をかくはんした。

【０１５１】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０ｍｏｌ）を加え、油
浴にて７０℃に温めながら混合物を１時間かくはんし
た。反応終了後、この混合物を水１Ｌにこの水をかくは
んしながら投入し、３０分間得られた混合物をかくはん
した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを
水５００ｍＬでスラリーにした後、このスラリーをろ過
し、得られた固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が
得られた（収量４６．９ｇ）。

【０１５２】つぎに、かくはん機、冷却管および滴下ロ
ートを備えた２０ｍＬ容の三つ口フラスコに、Ｎ−（ｐ
−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６
１ｇ（０．０１９２ｍｏｌ）、メタクリル酸エチル２．
９４ｇ（０．０２５８ｍｏｌ）、アクリロニトリル０．
８０ｇ（０．０１５ｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルア
セトアミド２０ｇを入れ、湯水浴により６５℃に加熱し
ながら混合物をかくはんした。この混合物に「Ｖ−６
５」（和光純薬社製）０．１５ｇを加え、６５℃に保ち
ながら窒素気流下で、混合物を２時間かくはんした。こ
の反応混合物に更にＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸エチル
２．９４ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミドおよび「Ｖ−６５」０．１５ｇの混
合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、更に、得られた混合物を６５℃で２時間かくはん
した。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、
冷却し、得られた混合物を水２Ｌにこの水をかくはんし
ながら投入し、３０分混合物をかくはんした後、析出物
をろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白
色固体の特定の共重合体１を得た。得られた特定の共重
合体１の重量平均分子量をゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーにより測定したところ、５３，０００（ポ
リスチレン標準）であった。

【０１５３】（実施例２）上記（ａ）機械的粗面化処理
を行わず、かつ、上記（ｄ）電気化学的粗面化処理にお
ける電気量をアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で
１００Ｃ／ｄｍ²とした以外は、実施例１と同様の方法
により、実施例２の平版印刷版を得た。

【０１５４】（実施例３）上記（ｄ）電気化学的粗面化
処理において、電解液として硝酸１１ｇ／Ｌ水溶液（ア
ルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを
０．００７質量％含む。）、電解液温度を５０℃とし、
交流電圧の交流電源波形のＴＰを０．８ｍｓｅｃとし、
電気量をアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２４
０Ｃ／ｄｍ²とし、かつ、上記（ｅ）アルカリエッチン
グ処理におけるアルミニウム板の溶解量を４ｇ／ｍ² と
した以外は、実施例２と同様の方法により、実施例３の
平版印刷版を得た。

【０１５５】（実施例４）上記（ａ）機械的粗面化処理
において、押さえつけの負荷を５ｋＷとし、かつ、上記
（ｄ）電気化学的粗面化処理および（ｅ）アルカリエッ
チング処理を行わなかった以外は、実施例１と同様の方
法により、実施例４の平版印刷版を得た。

【０１５６】（比較例１）上記（ａ）機械的粗面化処理
において、研磨剤の平均粒径を５０μｍ、最大粒径を２
００μｍとし、かつ、上記（ｄ）電気化学的粗面化処理
において、電解液温度を４０℃とし、電気量をアルミニ
ウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ² とし
た以外は、実施例１と同様の方法により、比較例１の平
版印刷版を得た。

【０１５７】（比較例２）上記（ｄ）電気化学的粗面化
処理において、電解液温度を３５℃とし、電気量をアル
ミニウム板が陽極時の電気量の総和で３１０Ｃ／ｄｍ²
とし、かつ、上記（ｅ）アルカリエッチング処理を行わ
なかった以外は、実施例１と同様の方法により、比較例
２の平版印刷版を得た。

【０１５８】２．アルミニウム支持体の表面の凹部の平
均深さの測定 平版印刷版を１８０゜に曲げて露出させた陽極酸化皮膜
と感光層の破断面を、日本電子社製のＴ−２０型走査電
子顕微鏡を用いて、倍率２００００倍で観察し、支持体
表面における波長０．０５〜２．０μｍの小波の凹部の
平均深さを測定した。凹部の平均深さは、支持体断面に
てお椀状に見える凹部の両端を結んだ線と、その凹部の
曲線上の任意の点との距離のうち、最も長いものを凹部
の深さとし、２０箇所の凹部について凹部の深さを測定
し、平均することによって行った。波長３〜１０μｍ以
上の大波の凹部の平均深さについても、観察倍率を１０
０００倍とした以外は、上記と同様にして測定した。結
果を第１表に示す。なお、第１表中、「−」は、該当す
る波長の凹部がなかったことを示す。

【０１５９】３．平版印刷版の傷付きにくさの評価 上記のようにして得られた平版印刷版について、傷付き
にくさの評価を行った。平版印刷版の感光層表面に合紙
を置き、その上下を段ボール紙で挟み、２５℃、５０％
ＲＨの環境下で３日間放置した。その後、平版印刷版の
感光層表面を木綿製の手袋で５往復擦り、富士写真フイ
ルム（株）製のＰＳ版用現像液ＤＴ−１を標準使用条件
で用いて、自動現像機９００ＮＰにより現像した。擦っ
た部分が傷付いて白く抜けている程度を目視で観察して
評価した。現像前と全く変化なかったものを○、ほぼ支
持体が見えてしまい感光層の色がほとんど見えなかった
ものを×、その中間レベルを○△、△、△×で表した。
結果を第１表に示す。

【０１６０】４．感光層の表面の平均傾斜θ_a の測定 上記傷付きにくさの評価に用いたサンプルの擦っていな
い部分を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさで切り出し、感
光層の表面の平均傾斜θ_a を測定した。平均傾斜θ_a の
測定は、触針式の表面粗さ計（東京精密社製Ｓｕｒｆｃ
ｏｍ５７５、触針径：１μｍＲ）を用いて、測定長さ３
ｍｍ、走査速度０．０３ｍｍ／ｓ、カットオフ値０．０
８ｍｍの条件で、アルミニウム支持体の圧延方向と垂直
方向に走査して断面曲線を求め、上記数式（１）を用い
て算出した。この際、２ＣＲフィルタを用い、Ｖ−ＭＡ
Ｇは２００００、傾斜補正は水平（ＦＬＡＴ−ＭＬ）を
選択した。平均傾斜θ_a の測定は７回行い、最大値およ
び最小値を除いた５回の平均値を平均傾斜θ_a とした。
結果を第１表に示す。

【０１６１】本発明の平版印刷版は、傷付きにくいこと
が分かる（実施例１〜４）。これに対して、感光層表面
の平均傾斜が本発明の範囲にない場合は、傷付きやすい
（比較例１および２）。

【０１６２】

【表１】

【０１６３】

【発明の効果】本発明の平版印刷版は、傷付きにくく、
通常作業での取り扱いが容易である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の平版印刷版に用いられるアルミニウ
ム支持体の作成における機械粗面化処理に用いられるブ
ラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。

【図２】 本発明の平版印刷版に用いられるアルミニウ
ム支持体の作成における電気化学的な粗面化処理に用い
られる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。

【図３】 本発明の平版印刷版に用いられるアルミニウ
ム支持体の作成における電気化学的な粗面化処理に用い
られる二つ以上のラジアルドラムローラを連結した装置
の概略構成図である。

【図４】 本発明の平版印刷版に用いられるアルミニウ
ム支持体の作成における陽極酸化処理に用いられる二段
給電電解法の陽極酸化処理装置の概略図である。

【符号の説明】

１ アルミニウム板 ２、４ ローラ状ブラシ ３ 研磨スラリー液 ５、６、７、８ 支持ローラ １１ アルミニウム板 １２ ラジアルドラムローラ １３ａ、１３ｂ 主極 １４ 電解処理液 １５ 電解液供給口 １６ スリット １７ 電解液通路 １８ 補助陽極 １９ａ、１９ｂ サイリスタ ２０ 交流電源 ４０、４１ 主電解槽 ５０、５１ 補助陽極槽 ６２ａ 第一給電部 ６２ｂ 第二給電部 ６３ａ 第一電解部 ６３ｂ 第二電解部 ６４ａ、６４ｂ ニップローラ ６５ａ 第一給電電極 ６５ｂ 第二給電電極 ６６ａ、６６ｂ、６６ｃ、６６ｄ 電解電極 ６７ａ、６７ｂ、６７ｃ、６７ｄ 電源

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/039 Ｇ０３Ｆ 7/039 (72)発明者 安竹 輝芳 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA13 AB03 AC08 AD03 BH03 CB52 CC11 DA20 FA10 2H096 AA06 BA09 CA03 EA04 EA23 GA08 2H114 AA04 AA10 AA11 AA14 AA23 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA48 DA52 DA53 DA59 EA01 EA02 FA01 GA08 GA09

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】アルミニウム板に粗面化処理および陽極酸
   化処理をしてなるアルミニウム支持体上に、加熱により
   アルカリ可溶化する感光層を設けてなる平版印刷版であ
   って、 該感光層の表面の平均傾斜が０゜以上５゜以下であるこ
   とを特徴とする平版印刷版。
2. 【請求項２】前記粗面化処理が電解粗面化処理であり、
   前記アルミニウム支持体の表面の凹部の平均深さが０．
   ３μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の平
   版印刷版。
3. 【請求項３】前記アルミニウム支持体の表面が、波長３
   〜１０μｍの大波と波長０．０５〜２．０μｍの小波と
   からなる大小二重ピット構造を有し、該大波の凹部の平
   均深さが０．３〜１．０μｍであり、該小波の凹部の平
   均深さが０．０５〜０．４μｍであることを特徴とする
   請求項１に記載の平版印刷版。