JP2002126678A - 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置Info
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- JP2002126678A JP2002126678A JP2000325836A JP2000325836A JP2002126678A JP 2002126678 A JP2002126678 A JP 2002126678A JP 2000325836 A JP2000325836 A JP 2000325836A JP 2000325836 A JP2000325836 A JP 2000325836A JP 2002126678 A JP2002126678 A JP 2002126678A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 付着したサブミクロン粒子まで洗浄除去で
き、かつ短時間で乾燥させることができる密閉型容器の
洗浄方法及び洗浄装置の提供にある。 【解決手段】 洗浄槽と乾燥槽とを分離し、洗浄槽は、
蓋を外した密閉型容器１００を、その開口部を下にした
状態で載置し昇降する受台２３を有するとともに、洗浄
液を噴射する高圧シャワー２７，２８を有し、かつ洗浄
液中に前記容器を浸漬する際に前記容器の内部に残留す
るエアを排出するエア抜きパイプ２５機構を備え、超音
波振動による超音波洗浄が行える。乾燥槽は、前記洗浄
工程を終了した密閉型容器を収納して熱風を送り込み熱
風加熱させる熱風送風機３４を有するとともに、内部を
減圧する減圧機構３５を有する乾燥槽３０とを備える。
き、かつ短時間で乾燥させることができる密閉型容器の
洗浄方法及び洗浄装置の提供にある。 【解決手段】 洗浄槽と乾燥槽とを分離し、洗浄槽は、
蓋を外した密閉型容器１００を、その開口部を下にした
状態で載置し昇降する受台２３を有するとともに、洗浄
液を噴射する高圧シャワー２７，２８を有し、かつ洗浄
液中に前記容器を浸漬する際に前記容器の内部に残留す
るエアを排出するエア抜きパイプ２５機構を備え、超音
波振動による超音波洗浄が行える。乾燥槽は、前記洗浄
工程を終了した密閉型容器を収納して熱風を送り込み熱
風加熱させる熱風送風機３４を有するとともに、内部を
減圧する減圧機構３５を有する乾燥槽３０とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ等の半導体
基板を収納するための密閉型容器を洗浄する方法及び装
置に関するものである。
基板を収納するための密閉型容器を洗浄する方法及び装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造は多数の工程を極めて高い
クリーン度のもとで行わなければならないが、全ての工
程におよぶ広大な環境を高いクリーン度に保つのはコス
ト面で限界がある。このため、最近では局所環境（ミニ
・エンバイロメント）だけを高いクリーン度に保つ手段
の開発が進められている。例えば、ウエハをＦＯＵＰ
（Front Opening Unified Pod）と呼ばれる密閉型容器
で搬送し、密閉型容器ごとウエハを半導体製造工程に入
れ、密閉型容器を直接製造装置とドッキングさせて作業
を進めるもので、密閉型容器内部の環境を管理すること
で製造工程内におけるウエハの高いクリーン度を維持す
ることができることになる。
クリーン度のもとで行わなければならないが、全ての工
程におよぶ広大な環境を高いクリーン度に保つのはコス
ト面で限界がある。このため、最近では局所環境（ミニ
・エンバイロメント）だけを高いクリーン度に保つ手段
の開発が進められている。例えば、ウエハをＦＯＵＰ
（Front Opening Unified Pod）と呼ばれる密閉型容器
で搬送し、密閉型容器ごとウエハを半導体製造工程に入
れ、密閉型容器を直接製造装置とドッキングさせて作業
を進めるもので、密閉型容器内部の環境を管理すること
で製造工程内におけるウエハの高いクリーン度を維持す
ることができることになる。
【０００３】ところで、このような密閉型容器は、多数
のウエハを収納して搬送するのであるが、その際にウエ
ハと容器内面とが擦れて内部にパーティクル等の汚れが
生じ、また容器はクリーン度の低いところを移送される
ため外面が汚染され易く、蓋を外したときに内部に収納
したウエハを汚染するおそれがある。そこで、容器を定
期的に洗浄する必要がある。
のウエハを収納して搬送するのであるが、その際にウエ
ハと容器内面とが擦れて内部にパーティクル等の汚れが
生じ、また容器はクリーン度の低いところを移送される
ため外面が汚染され易く、蓋を外したときに内部に収納
したウエハを汚染するおそれがある。そこで、容器を定
期的に洗浄する必要がある。
【０００４】従来、密閉型容器の洗浄方法は、容器本体
の方は蓋を外した状態で開口部を下側に向けて洗浄槽中
に配置し、先ず内外面を高圧シャワーで洗浄し、洗浄が
終了した時点で容器内外にクリーン温風を吹き付けて乾
燥させている。
の方は蓋を外した状態で開口部を下側に向けて洗浄槽中
に配置し、先ず内外面を高圧シャワーで洗浄し、洗浄が
終了した時点で容器内外にクリーン温風を吹き付けて乾
燥させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ウエハ等の
半導体基板を収納する密閉型容器は、サブミクロン粒子
の汚れを除去する必要があるが、高圧シャワーによる洗
浄のみでは満足する洗浄性を得られない。また、洗浄後
の乾燥においても、ウエハ搬送容器のように形状が複雑
で重なり合うような部分が多い容器では、温風吹きつけ
により完全乾燥させるには約４０分を要する。温風の温
度を高めれば乾燥時間を短縮することが可能ではないか
と考えられるが、容器の材質が樹脂（耐熱１００℃）で
あるので温度をあまり高くすることができない（通常７
０〜８０℃）。
半導体基板を収納する密閉型容器は、サブミクロン粒子
の汚れを除去する必要があるが、高圧シャワーによる洗
浄のみでは満足する洗浄性を得られない。また、洗浄後
の乾燥においても、ウエハ搬送容器のように形状が複雑
で重なり合うような部分が多い容器では、温風吹きつけ
により完全乾燥させるには約４０分を要する。温風の温
度を高めれば乾燥時間を短縮することが可能ではないか
と考えられるが、容器の材質が樹脂（耐熱１００℃）で
あるので温度をあまり高くすることができない（通常７
０〜８０℃）。
【０００６】本発明の課題は、付着したサブミクロン粒
子まで洗浄除去でき、かつ短時間で乾燥させることがで
きる密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置の提供にある。
子まで洗浄除去でき、かつ短時間で乾燥させることがで
きる密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置の提供にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述課題を解決するため
に、本発明は、次のような手段を採用した。請求項１の
密閉型容器の洗浄方法は、超音波洗浄槽内に洗浄液を供
給するとともに蓋を外した密閉型容器をその開口部を下
に向けて前記洗浄液中に浸漬し、かつ前記容器の内部に
残留するエアを排出して超音波洗浄を行う工程と、洗浄
液を排出し或いはそのままで容器の内外部を高圧シャワ
ーにて洗浄する工程とを有する洗浄工程と、前記洗浄工
程を終了した密閉型容器を乾燥槽に搬送して熱風を送り
込み熱風加熱する工程と、乾燥槽内を減圧して減圧乾燥
する工程とを有する乾燥工程とを備えたものである。こ
の場合に、前記洗浄工程は、超音波洗浄を行う工程と高
圧シャワーによる洗浄工程とを交互に複数回繰り返すよ
うに構成し、前記乾燥工程も熱風加熱する工程と減圧工
程とを交互に複数回繰り返すように構成するのが好まし
い。
に、本発明は、次のような手段を採用した。請求項１の
密閉型容器の洗浄方法は、超音波洗浄槽内に洗浄液を供
給するとともに蓋を外した密閉型容器をその開口部を下
に向けて前記洗浄液中に浸漬し、かつ前記容器の内部に
残留するエアを排出して超音波洗浄を行う工程と、洗浄
液を排出し或いはそのままで容器の内外部を高圧シャワ
ーにて洗浄する工程とを有する洗浄工程と、前記洗浄工
程を終了した密閉型容器を乾燥槽に搬送して熱風を送り
込み熱風加熱する工程と、乾燥槽内を減圧して減圧乾燥
する工程とを有する乾燥工程とを備えたものである。こ
の場合に、前記洗浄工程は、超音波洗浄を行う工程と高
圧シャワーによる洗浄工程とを交互に複数回繰り返すよ
うに構成し、前記乾燥工程も熱風加熱する工程と減圧工
程とを交互に複数回繰り返すように構成するのが好まし
い。
【０００８】請求項３の密閉型容器の洗浄装置は、蓋を
外した密閉型容器を、その開口部を下にした状態で載置
し昇降する機構を有するとともに、洗浄液を噴射する高
圧シャワーを有し、かつ洗浄液中に前記容器を浸漬する
際に前記容器の内部に残留するエアを排出する機構を備
え、超音波振動による超音波洗浄が行える超音波洗浄槽
と、前記超音波洗浄槽による洗浄工程を終了した密閉型
容器を収納して熱風を送り込み熱風加熱させる熱風送風
機構を有するとともに、内部を減圧する減圧機構を有す
る乾燥槽とを備えたものである。なお、この場合に前記
超音波洗浄槽は、高圧シャワー洗浄と超音波洗浄と交互
に複数回繰り返すように構成し、前記乾燥槽も熱風加熱
と減圧乾燥とを交互に複数回繰り返すように構成するの
が好ましい。
外した密閉型容器を、その開口部を下にした状態で載置
し昇降する機構を有するとともに、洗浄液を噴射する高
圧シャワーを有し、かつ洗浄液中に前記容器を浸漬する
際に前記容器の内部に残留するエアを排出する機構を備
え、超音波振動による超音波洗浄が行える超音波洗浄槽
と、前記超音波洗浄槽による洗浄工程を終了した密閉型
容器を収納して熱風を送り込み熱風加熱させる熱風送風
機構を有するとともに、内部を減圧する減圧機構を有す
る乾燥槽とを備えたものである。なお、この場合に前記
超音波洗浄槽は、高圧シャワー洗浄と超音波洗浄と交互
に複数回繰り返すように構成し、前記乾燥槽も熱風加熱
と減圧乾燥とを交互に複数回繰り返すように構成するの
が好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る密閉型容器の洗浄装置の実施の形態について説明す
る。図１は、本発明に係る密閉型容器の洗浄装置の実施
の形態を模式的に表した図である。密閉型容器の洗浄装
置１０は従来のものと異なり、洗浄部と乾燥部とが分離
されている。すなわち、洗浄部は洗浄槽２０により構成
され、乾燥部は乾燥槽３０によって構成されている。前
記洗浄槽２０は、洗浄液を貯留することができる洗浄槽
本体２１を有しており、該洗浄槽本体２１の底面には超
音波振動子２２が取り付けられていて超音波洗浄が行え
るように構成されている。また、洗浄槽２０は、蓋を外
した密閉型容器１００を開口部を下にした状態で載置す
る受台２３を有する。この受台２３は、洗浄槽本体２１
の液面より上方で密閉型容器１００を受け、洗浄槽本体
２１内に貯留する洗浄液２４中に出し入れできるように
昇降自在に構成されたものである。なお、密閉型容器１
００を受台２４を洗浄槽本体２１内に下降させておき、
後から洗浄液２４を供給することも当然可能である。
係る密閉型容器の洗浄装置の実施の形態について説明す
る。図１は、本発明に係る密閉型容器の洗浄装置の実施
の形態を模式的に表した図である。密閉型容器の洗浄装
置１０は従来のものと異なり、洗浄部と乾燥部とが分離
されている。すなわち、洗浄部は洗浄槽２０により構成
され、乾燥部は乾燥槽３０によって構成されている。前
記洗浄槽２０は、洗浄液を貯留することができる洗浄槽
本体２１を有しており、該洗浄槽本体２１の底面には超
音波振動子２２が取り付けられていて超音波洗浄が行え
るように構成されている。また、洗浄槽２０は、蓋を外
した密閉型容器１００を開口部を下にした状態で載置す
る受台２３を有する。この受台２３は、洗浄槽本体２１
の液面より上方で密閉型容器１００を受け、洗浄槽本体
２１内に貯留する洗浄液２４中に出し入れできるように
昇降自在に構成されたものである。なお、密閉型容器１
００を受台２４を洗浄槽本体２１内に下降させておき、
後から洗浄液２４を供給することも当然可能である。
【００１０】開口部を下側にした密閉型容器１００を洗
浄液中に浸漬していくと、密閉型容器１００の内部に溜
まっているエアを排出する機構が必要になる。この洗浄
槽２０では、図３に示すように、前記受台２３と一体に
組み付けられて先端部が受台２３に載置された密閉型容
器１００の底近傍まで届くエア抜きパイプ２５が設けら
れており、受台２３が降下して密閉型容器１００が洗浄
液中に浸漬されていくと、容器１００内に残留するエア
は容器１００の重量により圧力が高まりエア抜きパイプ
２５を介して自然に排出される。なお、エア抜きパイプ
２５は、図４に示すように、洗浄槽本体２１の中に支持
具２６によって固定させておいてもよい。その場合、エ
ア抜きパイプ２５の先端部は受台２３が降下して密閉型
容器１００が洗浄液中に浸漬され最も下にきたときに、
密閉型容器１００の底近傍まで届くように配置する必要
がある。この方法で行う場合、洗浄液は密閉型容器１０
０が洗浄槽本体２１内の受台２３に置かれた状態で供給
する。洗浄液が供給されて洗浄槽本体２１内の液面が上
昇するにしたがって、密閉型容器１００中の空気は徐々
にエア抜きパイプ２５を通って排出される。
浄液中に浸漬していくと、密閉型容器１００の内部に溜
まっているエアを排出する機構が必要になる。この洗浄
槽２０では、図３に示すように、前記受台２３と一体に
組み付けられて先端部が受台２３に載置された密閉型容
器１００の底近傍まで届くエア抜きパイプ２５が設けら
れており、受台２３が降下して密閉型容器１００が洗浄
液中に浸漬されていくと、容器１００内に残留するエア
は容器１００の重量により圧力が高まりエア抜きパイプ
２５を介して自然に排出される。なお、エア抜きパイプ
２５は、図４に示すように、洗浄槽本体２１の中に支持
具２６によって固定させておいてもよい。その場合、エ
ア抜きパイプ２５の先端部は受台２３が降下して密閉型
容器１００が洗浄液中に浸漬され最も下にきたときに、
密閉型容器１００の底近傍まで届くように配置する必要
がある。この方法で行う場合、洗浄液は密閉型容器１０
０が洗浄槽本体２１内の受台２３に置かれた状態で供給
する。洗浄液が供給されて洗浄槽本体２１内の液面が上
昇するにしたがって、密閉型容器１００中の空気は徐々
にエア抜きパイプ２５を通って排出される。
【００１１】また、洗浄槽２０の受台２３には、密閉型
容器１００の内面を洗浄するため先端部から洗浄液を噴
射する高圧シャワー用配管２７が並設されているととも
に、洗浄槽本体２１の側面にも密閉型容器１００の外面
を高圧シャワー洗浄するため多数のノズル２８が設けら
れており、これらノズル２８には高圧シャワー用配管
（図示を省略）が接続されている。なお、エア抜きパイ
プ２５が前述したのように、洗浄槽本体２１側に直接取
り付ける場合には、高圧シャワー用配管２７も、同様に
洗浄槽本体２１側に設けることになる。また、図におけ
る、符号２９は洗浄槽本体２１の側面に設けられている
オーバーフロー装置である。また、洗浄液を供給する機
構や排出する機構は従来と同様の構成になっているので
図示を省略した。
容器１００の内面を洗浄するため先端部から洗浄液を噴
射する高圧シャワー用配管２７が並設されているととも
に、洗浄槽本体２１の側面にも密閉型容器１００の外面
を高圧シャワー洗浄するため多数のノズル２８が設けら
れており、これらノズル２８には高圧シャワー用配管
（図示を省略）が接続されている。なお、エア抜きパイ
プ２５が前述したのように、洗浄槽本体２１側に直接取
り付ける場合には、高圧シャワー用配管２７も、同様に
洗浄槽本体２１側に設けることになる。また、図におけ
る、符号２９は洗浄槽本体２１の側面に設けられている
オーバーフロー装置である。また、洗浄液を供給する機
構や排出する機構は従来と同様の構成になっているので
図示を省略した。
【００１２】次に、乾燥槽３０について説明する。乾燥
槽３０は、図１に示すように、上辺にスライド蓋３１ａ
を有する密閉型の乾燥槽本体３１を有しており、該乾燥
槽本体３１内部には、開口部を下側に向けた密閉型容器
１００を載置する受台３３が設けられている。また、乾
燥槽本体３１には、熱風送風機３４が取り付けられてい
る。この熱風送風機３４は、ブロア３４ａ、ヒータ３４
ｂ、フィルタ（HEPA: high efficiency particulate fi
lter）３４ｃにより構成されており、バルブＶ１を介し
て配管３６により乾燥槽本体３１に接続されている。ま
た、配管３６の一部３６ａは分岐され乾燥槽本体３１の
側面を貫通して前記受台３３の下側から上方に延出され
ていて、受台３３に載置された密閉型容器１００の内面
に、外面と同様に熱風（７０〜８０℃、最高９０℃）を
送ることができるようになっている。
槽３０は、図１に示すように、上辺にスライド蓋３１ａ
を有する密閉型の乾燥槽本体３１を有しており、該乾燥
槽本体３１内部には、開口部を下側に向けた密閉型容器
１００を載置する受台３３が設けられている。また、乾
燥槽本体３１には、熱風送風機３４が取り付けられてい
る。この熱風送風機３４は、ブロア３４ａ、ヒータ３４
ｂ、フィルタ（HEPA: high efficiency particulate fi
lter）３４ｃにより構成されており、バルブＶ１を介し
て配管３６により乾燥槽本体３１に接続されている。ま
た、配管３６の一部３６ａは分岐され乾燥槽本体３１の
側面を貫通して前記受台３３の下側から上方に延出され
ていて、受台３３に載置された密閉型容器１００の内面
に、外面と同様に熱風（７０〜８０℃、最高９０℃）を
送ることができるようになっている。
【００１３】また、乾燥槽本体３１の底面には、排気用
配管３７が取り付けられており、該排気用配管３７には
バルブＶ２を介して真空ポンプ３５が取り付けられてい
るととともに、排気用配管３７にはバルブＶ３を介して
熱風排気と、バルブＶ４を介してドレインも排出できる
ように構成されている。
配管３７が取り付けられており、該排気用配管３７には
バルブＶ２を介して真空ポンプ３５が取り付けられてい
るととともに、排気用配管３７にはバルブＶ３を介して
熱風排気と、バルブＶ４を介してドレインも排出できる
ように構成されている。
【００１４】次に、この密閉型容器１００の洗浄装置の
使用方法について説明する。先ず、図２に示すような搬
送機５０によって洗浄対象物である密閉型容器１００
を、図１に示す洗浄槽２０まで搬送する。搬送機５０
は、左右方向に移動自在でかつ昇降自在な本体５１を有
しており、本体５１の上部５１ａから水平に２本の平行
なバー５２が延びていて、それぞれのバー５２には２本
のアーム５３が垂直に固着されている。各アーム５３の
下端部は内側に曲げられており、開口部が下側になった
密閉型容器１００の開口部端部を支持するフック５３ａ
として形成されている。また、前記棒５２は、本体５１
の上部５１ａ内に設けられた装置によって回転するよう
に構成されており、バー５２を回転させると、バー５２
に固着されているアーム５３は図の矢印Ａのように動
く。
使用方法について説明する。先ず、図２に示すような搬
送機５０によって洗浄対象物である密閉型容器１００
を、図１に示す洗浄槽２０まで搬送する。搬送機５０
は、左右方向に移動自在でかつ昇降自在な本体５１を有
しており、本体５１の上部５１ａから水平に２本の平行
なバー５２が延びていて、それぞれのバー５２には２本
のアーム５３が垂直に固着されている。各アーム５３の
下端部は内側に曲げられており、開口部が下側になった
密閉型容器１００の開口部端部を支持するフック５３ａ
として形成されている。また、前記棒５２は、本体５１
の上部５１ａ内に設けられた装置によって回転するよう
に構成されており、バー５２を回転させると、バー５２
に固着されているアーム５３は図の矢印Ａのように動
く。
【００１５】このアーム５３のフック５３ａによって、
開口部が下側に向いた密閉型容器１００の開口部端部を
支持して、容器１００を洗浄槽２０の上方まで搬送し、
アーム５３を開いて容器１００を受台２３に移す。洗浄
槽本体２１内には、純水（洗浄液）を所定量供給する。
純水の供給が終了したらバルブＶ５を閉め、バルブＶ６
を開けておく。容器１００を載置した受台２３はエア抜
きパイプ２５と一体となって洗浄槽本体２１の洗浄液２
４の中に下降していく。容器１００の内部に溜まってい
るエアはエア抜きパイプ２５を介して開けてあるバルブ
Ｖ６を介し自然に排出される。受台２３が所定位置まで
降下したら止まり、洗浄槽本体２１の底面に取り付けら
れている超音波振動子２２を振動させ容器１００を超音
波洗浄する。
開口部が下側に向いた密閉型容器１００の開口部端部を
支持して、容器１００を洗浄槽２０の上方まで搬送し、
アーム５３を開いて容器１００を受台２３に移す。洗浄
槽本体２１内には、純水（洗浄液）を所定量供給する。
純水の供給が終了したらバルブＶ５を閉め、バルブＶ６
を開けておく。容器１００を載置した受台２３はエア抜
きパイプ２５と一体となって洗浄槽本体２１の洗浄液２
４の中に下降していく。容器１００の内部に溜まってい
るエアはエア抜きパイプ２５を介して開けてあるバルブ
Ｖ６を介し自然に排出される。受台２３が所定位置まで
降下したら止まり、洗浄槽本体２１の底面に取り付けら
れている超音波振動子２２を振動させ容器１００を超音
波洗浄する。
【００１６】超音波洗浄を所定時間行った後、洗浄槽本
体２１内の洗浄液２４を排水して、バルブＶ６を閉め
て、バルブＶ５を開けて純水を高圧シャワー用配管２７
及びノズル２８に供給して容器１００の内外面に高圧シ
ャワー洗浄を行う。この時当然に、洗浄槽本体２１の排
水口は開けておき、高圧シャワーで使用した純水を排出
する。所定時間高圧シャワー洗浄を行った後、洗浄槽本
体２１の排水口を閉めて中に純水を供給し、先ほどと同
じように所定時間超音波洗浄を行い、排水して続いて高
圧シャワー洗浄を行う。超音波洗浄と高圧シャワー洗浄
とを交互に数回繰り返して洗浄を終了する。勿論、繰り
返しを行わなくても汚れを除去できれば繰り返えさなく
てもよい。なお、上記の例では、高圧シャワー洗浄を行
うときに、洗浄液２４を排出して行ったが、排出しない
状態のまま液中噴流洗浄を行ってもよい。また、洗浄対
象の汚れの種類によって超音波洗浄と高圧シャワー洗浄
のいずれか一方のみを行うこともできる。
体２１内の洗浄液２４を排水して、バルブＶ６を閉め
て、バルブＶ５を開けて純水を高圧シャワー用配管２７
及びノズル２８に供給して容器１００の内外面に高圧シ
ャワー洗浄を行う。この時当然に、洗浄槽本体２１の排
水口は開けておき、高圧シャワーで使用した純水を排出
する。所定時間高圧シャワー洗浄を行った後、洗浄槽本
体２１の排水口を閉めて中に純水を供給し、先ほどと同
じように所定時間超音波洗浄を行い、排水して続いて高
圧シャワー洗浄を行う。超音波洗浄と高圧シャワー洗浄
とを交互に数回繰り返して洗浄を終了する。勿論、繰り
返しを行わなくても汚れを除去できれば繰り返えさなく
てもよい。なお、上記の例では、高圧シャワー洗浄を行
うときに、洗浄液２４を排出して行ったが、排出しない
状態のまま液中噴流洗浄を行ってもよい。また、洗浄対
象の汚れの種類によって超音波洗浄と高圧シャワー洗浄
のいずれか一方のみを行うこともできる。
【００１７】洗浄が終了すると、受台２３が洗浄槽本体
２１の上方まで上昇し、搬送機５０のアーム５３によっ
て容器１００が受け取られ乾燥槽３０の上方まで搬送さ
れる。乾燥槽本体３１の上部の蓋３１ａが開くと、搬送
機５０が下降して容器１００を乾燥槽本体３１内に設け
られた受台３３に移す。容器１００を放した搬送機５０
は上昇し、乾燥槽本体３１の蓋３１ａが閉じられる。
２１の上方まで上昇し、搬送機５０のアーム５３によっ
て容器１００が受け取られ乾燥槽３０の上方まで搬送さ
れる。乾燥槽本体３１の上部の蓋３１ａが開くと、搬送
機５０が下降して容器１００を乾燥槽本体３１内に設け
られた受台３３に移す。容器１００を放した搬送機５０
は上昇し、乾燥槽本体３１の蓋３１ａが閉じられる。
【００１８】先ず、バルブＶ１、Ｖ３，Ｖ４を開けた状
態で熱風送風機３４から乾燥槽本体３１内に熱風を送っ
て容器１００の加熱を行う。所定時間経過した後、バル
ブＶ１、Ｖ３，Ｖ４を閉じ、バルブＶ２を開けて真空ポ
ンプ３５を作動し、乾燥機本体３１内部を減圧して容器
１００の減圧乾燥を行う。所定時間減圧した後、バルブ
Ｖ７を開けて乾燥槽本体３１内を大気開放し、常圧に戻
してから、バルブＶ１、Ｖ３，Ｖ４を開けた状態でまた
熱風送風機３４から乾燥槽本体３１内に熱風を送って容
器１００の加熱を行い、所定時間経過した後また減圧乾
燥を行う。熱風加熱と減圧乾燥とを数回繰り返して乾燥
を終了する。この場合も、洗浄と同じに、繰り返しを行
わなくても十分な乾燥ができれば繰り返して行わなくと
もよい。乾燥が終了した時点で、乾燥槽本体３１の上部
の蓋３１ａを開け、搬送機５０によって容器１００を乾
燥槽本体３１から取り出して、容器１００の洗浄が終了
する。
態で熱風送風機３４から乾燥槽本体３１内に熱風を送っ
て容器１００の加熱を行う。所定時間経過した後、バル
ブＶ１、Ｖ３，Ｖ４を閉じ、バルブＶ２を開けて真空ポ
ンプ３５を作動し、乾燥機本体３１内部を減圧して容器
１００の減圧乾燥を行う。所定時間減圧した後、バルブ
Ｖ７を開けて乾燥槽本体３１内を大気開放し、常圧に戻
してから、バルブＶ１、Ｖ３，Ｖ４を開けた状態でまた
熱風送風機３４から乾燥槽本体３１内に熱風を送って容
器１００の加熱を行い、所定時間経過した後また減圧乾
燥を行う。熱風加熱と減圧乾燥とを数回繰り返して乾燥
を終了する。この場合も、洗浄と同じに、繰り返しを行
わなくても十分な乾燥ができれば繰り返して行わなくと
もよい。乾燥が終了した時点で、乾燥槽本体３１の上部
の蓋３１ａを開け、搬送機５０によって容器１００を乾
燥槽本体３１から取り出して、容器１００の洗浄が終了
する。
【００１９】容器１００の乾燥を密閉型の乾燥槽本体３
１で熱風加熱と減圧乾燥とを交互に繰り返し行うので、
従来の乾燥方法では乾燥に４０分程かかったものが１０
分程度に短縮することができた。
１で熱風加熱と減圧乾燥とを交互に繰り返し行うので、
従来の乾燥方法では乾燥に４０分程かかったものが１０
分程度に短縮することができた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
洗浄槽と乾燥槽とを分離して洗浄槽では超音波洗浄と高
圧シャワー洗浄とを交互に行えるようにしたので、サブ
ミクロンの塵芥まで洗浄でき、かつ乾燥槽では熱風加熱
と減圧乾燥とを交互に行えるようにしたので、乾燥時間
を大幅に短縮することができる。
洗浄槽と乾燥槽とを分離して洗浄槽では超音波洗浄と高
圧シャワー洗浄とを交互に行えるようにしたので、サブ
ミクロンの塵芥まで洗浄でき、かつ乾燥槽では熱風加熱
と減圧乾燥とを交互に行えるようにしたので、乾燥時間
を大幅に短縮することができる。
【図１】本発明の実施の形態を模式的に示した図であ
る。
る。
【図２】本発明に利用する搬送機を模式的に示した図で
ある。
ある。
【図３】本発明を構成する超音波洗浄槽の受台と高圧シ
ャワーとの位置関係の一例を示す図である。
ャワーとの位置関係の一例を示す図である。
【図４】本発明を構成する超音波洗浄槽の高圧シャワー
の設置位置の他の例を示す図である。
の設置位置の他の例を示す図である。
１０ 密閉型容器の洗浄装置 ２０ 洗浄槽 ２１ 洗浄槽本体 ２２ 超音波振動子 ２３ 受台 ２４ 洗浄液 ２５ エア抜きパイプ ２７ 高圧シャワー用配管 ２８ ノズル ３０ 乾燥槽 ３３ 受台 ３４ 熱風送風機 ３５ 真空ポンプ ５０ 搬送機 １００ 密閉型容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B116 AA21 AB08 AB42 BB03 BB22 BB33 BB85 BB90 CC03 CD11 3B201 AA21 AB08 AB42 BB04 BB22 BB33 BB85 BB90 BB93 CB12 CC12 CC15 CD11 5F031 DA08 PA24
Claims (4)
- 【請求項１】 超音波洗浄槽内に洗浄液を供給するとと
もに蓋を外した密閉型容器をその開口部を下に向けて前
記洗浄液中に浸漬し、かつ前記容器の内部に残留するエ
アを排出して超音波洗浄を行う工程と、洗浄液を排出し
或いはそのままで容器の内外部を高圧シャワーにて洗浄
する工程とを有する洗浄工程と、 前記洗浄工程を終了した密閉型容器を乾燥槽に搬送して
熱風を送り込み熱風加熱する工程と、乾燥槽内を減圧し
て減圧乾燥する工程とを有する乾燥工程とを備えた密閉
型容器の洗浄方法。 - 【請求項２】 前記洗浄工程は、超音波洗浄を行う工程
と高圧シャワーによる洗浄工程とを交互に複数回繰り返
すように構成されるとともに、前記乾燥工程も熱風加熱
する工程と減圧工程とを交互に複数回繰り返すように構
成されていることを特徴とする請求項１記載の密閉型容
器の洗浄方法。 - 【請求項３】 蓋を外した密閉型容器を、その開口部を
下にした状態で載置し昇降する機構を有するとともに、
洗浄液を噴射する高圧シャワーを有し、かつ洗浄液中に
前記容器を浸漬する際に前記容器の内部に残留するエア
を排出する機構を備え、超音波振動による超音波洗浄が
行える超音波洗浄槽と、 前記超音波洗浄槽による洗浄工程を終了した密閉型容器
を収納して熱風を送り込み熱風加熱させる熱風送風機構
を有するとともに、内部を減圧する減圧機構を有する乾
燥槽とを備えた密閉型容器の洗浄装置。 - 【請求項４】 前記超音波洗浄槽は、高圧シャワー洗浄
と超音波洗浄と交互に複数回繰り返すように構成されて
いるとともに、前記乾燥槽も熱風加熱と減圧乾燥とを交
互に複数回繰り返すように構成されていることを特徴と
する請求項３記載の密閉型容器の洗浄装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000325836A JP3494293B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 |
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| JP2000325836A JP3494293B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 |
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| JP2002126678A true JP2002126678A (ja) | 2002-05-08 |
| JP3494293B2 JP3494293B2 (ja) | 2004-02-09 |
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| JP2000325836A Expired - Fee Related JP3494293B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 |
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