JP2002126671A - プラズマ洗浄装置のチャンバ - Google Patents

プラズマ洗浄装置のチャンバ

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JP2002126671A
JP2002126671A JP2000331104A JP2000331104A JP2002126671A JP 2002126671 A JP2002126671 A JP 2002126671A JP 2000331104 A JP2000331104 A JP 2000331104A JP 2000331104 A JP2000331104 A JP 2000331104A JP 2002126671 A JP2002126671 A JP 2002126671A
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JP
Japan
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chamber
electrode
gas
plasma cleaning
gas outlet
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Application number
JP2000331104A
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English (en)
Inventor
Itsuo Nakayama
逸夫 中山
Eiji Komine
栄治 小峰
Masahito Nakada
正仁 中田
Sadamu Osawa
定 大沢
Eizo Higuchi
栄三 樋口
Tatsuya Ishii
辰也 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamato Scientific Co Ltd
Original Assignee
Yamato Scientific Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄用製品にガスが直接当るのを回避し、バ
ーニング現象を防ぐ。 【解決手段】 チャンバ1内に、内部をガス雰囲気とす
るガス吹出口13と、ホット電極27及びコールド電極
9とを有する一方、前記ガス吹出口13の前面に、垂直
方向に立上がる遮蔽部材25を設け、洗浄用製品にガス
を直接当るのを回避するようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマ洗浄装
置のチャンバに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プラズマ洗浄を行なうプラズマ洗
浄装置のチャンバにあっては、真空ポンプによって真空
状態が確保されるチャンバ本体内に、放電が行なわれる
ホット電極とコールド電極が配置される一方、内部空間
を、例えば、不活性ガスで満たすガス吹出口を有する構
造となっている。
【0003】これにより、チャンバ本体内の放電現象に
よってプラズマを発生させることでイオンシースを生成
し、そのイオンシースの物理的なスパッタ作用によっ
て、例えば、半導体等の製品に付着した汚れを落とすも
のである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】チャンバ本体内にセッ
トされる洗浄用製品の材質が例えば、合成樹脂の場合
に、プラズマ洗浄中にガス吹出口から吹き出されたガス
が直接当たる部分では焦げる等のバーニング現象が起き
る。
【0005】このバーニング現象を防ぐには、出力を落
とす等の対応策をとっているが洗浄効率の面で望ましく
なかった。
【0006】そこで、この発明は、バーニング現象が起
きないようにすると共に洗浄効率の面でも大変好ましい
プラズマ洗浄装置のチャンバを提供することを目的とし
ている。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明の請求項1によれば、チャンバ本体内に、
多数の貫通孔が設けられ垂直方向の電極面が対向し合う
一対のコールド電極と、コールド電極とコールド電極の
間に出し入れ自在に配置セットされホット電極になると
共に、内部が洗浄用製品をセットするセットステージに
形成された周壁に多数の貫通孔を有するマガジンと、チ
ャンバ本体内に不活性ガス等を吹出すガス吹出口とを有
し、前記ガス吹出口の前面に垂直方向に立上がる遮蔽部
材を設ける。
【0008】これにより、ガス吹出口から吹出されたガ
スは、遮蔽部材に当たることで、洗浄用製品にガスが直
接当たることが回避され、バーニング現象は起きない。
また、出力を落とすことなくプラズマ洗浄が行なえるた
め、効率のよい洗浄が可能となる。
【0009】また、この発明の請求項2によれば、遮蔽
部材を、コールド電極を兼ねる形状とする。
【0010】これにより、ガス吹出口から吹出されたガ
スが直接洗浄用製品に当たるのが回避されると共に、新
たに遮蔽部材を設けなくてもよいため、コストの面でも
大変好ましいものとなる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図1乃至図3の図面を参照
しながらこの発明の実施の形態について具体的に説明す
る。
【0012】図1はプラズマ洗浄装置のチャンバ1の概
要斜視図を示している。
【0013】チャンバ1は、チャンバ本体3の上方に着
脱可能なチャンバドア5を有し、チャンバドア5を開け
ることで、上方からの出し入れが可能となっている。
【0014】チャンバ本体3は、チャンバドア5による
全閉時に、チャンバ本体3の上端縁に連続して設けられ
たシール部材7によって内部空間の気密状態が確保され
るようになっている。
【0015】チャンバ本体3内には、コールド電極9
(マイナス側電極)とホット電極(プラス側電極)11
とガス吹出口13がそれぞれ配置され、内部空間は、真
空ポート15に接続される図外の真空ポンプによって所
定の真空状態が確保されるようになっている。
【0016】コールド電極9は、グランド17へ接続さ
れると共に、垂直方向の一対の電極面19,19が対向
し合うように平面からみてコ字状に配置され、チャンバ
本体3から延長された一対の支持ステー21によって固
定支持されている。
【0017】対向し合うコールド電極9の電極面19に
は、多数の貫通孔23が設けられている。貫通孔23
は、ガス吹出口13側に近い位置の開口径が一番小さ
く、以下、遠くなるに従い開口径が順次大きくなるよう
設定され、ガス吹出口13の近い位置から遠い位置まで
ほぼ全領域にわたってガスがほぼ均一に通過できるよう
になっている。
【0018】対向し合う電極面19と電極面19をつな
ぐガス吹出口13と対向し合うコールド電極9の領域
は、ガス吹出口から吹出されたガスが直接当たる盲板に
形成され遮蔽部材25を兼ねた形状となっている。
【0019】この場合、図2の鎖線で示すようにコール
ド電極9とは別体に形成され独立した形状であってもよ
い。
【0020】ホット電極11は、図外の発振器から高周
波エネルギーが与えられると共に、コールド電極9との
電極面19と電極面19の間に配置されている。ホット
電極11の電極面は水平方向となっていて、その電極面
の上面には、マガジン27が上方から出し入れ自在にセ
ットされている。
【0021】マガジン27は、前記ホット電極11に載
置することで、ホット電極となる金属製の角筒状に形成
され、周壁には貫通孔29が多数も設けられている。マ
ガジン27の内部は洗浄用製品をセットするセットステ
ージ31となっている。
【0022】ガス吹出口13は、パイプにノズ口を設け
ることで形成され、図外のタンクと接続しアルゴン等の
不活性ガスが供給されるようになっている。ガス吹出口
13は対向するコールド電極の各電極面19,19と直
交し合う状態で、遮蔽部材25とほぼ平行に配置されて
いる。
【0023】このように構成されたチャンバ1によれ
ば、ホット電極11の上面にマガジン27を載置セット
することでマガジン27はホット電極となる。また、ガ
ス吹出口13から吹出されたガスによりチャンバ1内は
ガス雰囲気となる一方、チャンバ1内の放電現象によっ
てプラズマを発生させることでイオンシースを生成し、
そのイオンシースの物理的なスパッタ作用によって製品
に付着した汚れを落とすものである。
【0024】このプラズマ洗浄時において、ガス吹出口
13から吹出されたガスは一旦、遮蔽部材25に当るこ
とで、製品にガスが直接当ることが回避され、バーニン
グ現象は起きない。
【0025】また、出力を落とすことなくプラズマ洗浄
が行なえるため、効率のよい洗浄が行なえるようにな
る。
【0026】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明のプラズマ
洗浄装置のチャンバによれば、洗浄用製品にガスが直接
当るのを回避することができるため、焦げる等のバーニ
ング現象を防ぐことができる。
【0027】また、出力を落とすことなくプラズマ洗浄
が行なえるため、効率のよい洗浄を行なうことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかるプラズマ洗浄装置のチャンバ
を示した概要斜視図。
【図2】チャンバを平面からみた説明図。
【図3】コールド電極に設けた貫通孔の説明図。
【符号の説明】
1 チャンバ 3 チャンバ本体 9 コールド電極 13 ガス吹出口 25 遮蔽部材 27 マガジン(ホット電極)
フロントページの続き (72)発明者 中田 正仁 山梨県中巨摩郡甲西町戸田322番地 ヤマ トラボテック株式会社内 (72)発明者 大沢 定 山梨県中巨摩郡甲西町戸田322番地 ヤマ トラボテック株式会社内 (72)発明者 樋口 栄三 山梨県中巨摩郡甲西町戸田322番地 ヤマ トラボテック株式会社内 (72)発明者 石井 辰也 東京都江東区南砂2−10−12 ヤマト硝子 株式会社内 Fターム(参考) 3B116 AA02 AA04 AB42 BC01

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チャンバ本体内に、多数の貫通孔が設け
    られ垂直方向の電極面が対向し合う一対のコールド電極
    と、コールド電極とコールド電極の間に出し入れ自在に
    配置セットされホット電極になると共に、内部が洗浄用
    製品をセットするセットステージに形成された周壁に多
    数の貫通孔を有するマガジンと、チャンバ本体内に不活
    性ガス等を吹出すガス吹出口とを有し、前記ガス吹出口
    の前面に垂直方向に立上がる遮蔽部材を設けるようにし
    たことを特徴とするプラズマ洗浄装置のチャンバ。
  2. 【請求項2】 遮蔽部材は、コールド電極を兼ねる形状
    となっていることを特徴とする請求項1記載のプラズマ
    洗浄装置のチャンバ。
JP2000331104A 2000-10-30 2000-10-30 プラズマ洗浄装置のチャンバ Pending JP2002126671A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008186994A (ja) * 2007-01-30 2008-08-14 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd プラズマ洗浄装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11297677A (ja) * 1998-04-10 1999-10-29 Samuko International Kenkyusho:Kk プラズマ表面処理装置
JP2000091320A (ja) * 1998-09-10 2000-03-31 Foi:Kk プラズマ処理装置
JP2000178769A (ja) * 1998-12-11 2000-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ処理装置

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