JP2002114516A - 酸化インジウム系粒子、その製造方法および用途 - Google Patents

酸化インジウム系粒子、その製造方法および用途

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JP2002114516A JP2000300773A JP2000300773A JP2002114516A JP 2002114516 A JP2002114516 A JP 2002114516A JP 2000300773 A JP2000300773 A JP 2000300773A JP 2000300773 A JP2000300773 A JP 2000300773A JP 2002114516 A JP2002114516 A JP 2002114516A
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Mitsuo Takeda
光生 武田
Yumiko Ueda
弓子 上田
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸化インジウムに異種金属を添加することに
よって熱線遮蔽性等の特性を付与してなる、新規な酸化
インジウム系粒子と、その製造方法および用途を提供す
る。 【解決手段】 酸化インジウム系粒子は、Ti、Zr、
Hf、Si、Ge、Pb、P、Sb、V、NbおよびT
aから選ばれた少なくとも1種の異種金属(Md)をI
2 3 に添加してなる酸化インジウム系粒子であっ
て、異種金属の含有率(Md/In)が0.1〜20原
子%であり、かつ、前記酸化インジウム系粒子を1m2
当たり酸化物換算で6g含む塗膜に波長1.5μmの光
を照射した時の透過率が40%以下であることを特徴と
する。その製造方法は、水への溶解度(25℃)が25
重量%以下のアルコールを溶媒とし、インジウム化合物
および/または加水分解縮合物と異種金属(Md)の化
合物とを含有するアルコール溶液を加熱して酸化インジ
ウム系粒子を析出させる方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化インジウムに
異種金属を添加することによって熱線遮蔽性等の特性を
付与してなる、新規な酸化インジウム系粒子と、その製
造方法および用途に関する。
【0002】
【従来の技術】酸化インジウム(以下、In2 3 とす
ることがある)は、本質的には半導体であり、これに4
価の錫Sn(IV)を固溶化することによってIn2 3
の結晶内における自由電子密度が高まる。すなわち、原
子価が3価であるInの酸化物におけるInを4価のS
nが一部置換することによって、過剰の価電子が自由電
子となり、結晶内の自由電子密度が高まり、このため
に、Sn含有酸化インジウム(ITO)は、導電性とと
もに熱線遮蔽性を有していると考えられていた。近年、
ITOが実際に優れた熱線遮蔽性を有することが見出さ
れ、特開平7−69632号公報、特許公報第2715
859号および特許公報第2715860号には、IT
O微粉末を用いた熱線遮蔽剤や熱線遮蔽塗料等が開示さ
れている。
【0003】したがって、In2 3 にSnをドープし
たITO粒子は、導電性、熱線遮断性に優れており、導
電性粉末としては公知である。具体的用途においても、
熱線カット剤としてのITO微粉末(特開平7−696
32)、ITO微粉末を用いた赤外線カットオフ膜とそ
の形成材(特許公報2715859、2715860)
などが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような中で、本発
明者は、錫Sn以外の異種金属をドープすることによる
In2 3 粒子の特性向上を考えた。これまでの技術に
ついて見ると、異種金属Mとして、Sn以外の4価金
属、すなわち、Si,Ge,Sn,Zr,Tiが用いら
れ、導電性粉末として知られているが、熱線遮蔽剤とし
ては知られていない。より具体的に述べると、異種元素
Mを含有する結晶性酸化In微粒子が水/有機溶媒に分
散された酸化Inゾルが知られている(特開平8−13
1815、8−295513)。その機能としては導電
性が示されておる、具体的用途としては導電膜のみが挙
げられていて、赤外線(熱線)遮断性の開示はない。具
体的形態としては、溶媒ゾルと、これを塗布し低温(2
00℃)成膜した酸化In膜が開示されているのみであ
って、塗料等、樹脂を含む組成物としての開示はない。
【0005】そこで、本発明が解決しようとする課題
は、酸化インジウムに異種金属を添加することによって
熱線遮蔽性等の特性を付与してなる、新規な酸化インジ
ウム系粒子と、その製造方法および用途を提供すること
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するため、種々検討した結果、In2 3 系粒子の
作り方を工夫すれば熱線遮蔽性を発揮させることができ
ることを見いだした。すなわち、導電化は従来の製法、
つまりInと添加金属の共沈体水酸化物を高温で焼成す
る方法や酸化In粉末と添加金属の酸化物粉末の混合物
を焼成する方法でも行えるが、赤外線遮蔽性特に熱線領
域に遮蔽性能を有する固溶体を得ることはできない。と
ころが、特定のアルコールを溶媒として用いてIn化合
物と異種金属化合物を溶解した溶液を加熱すると、生成
したIn2 3 系粒子が熱線遮蔽性を持つようになるこ
とを見いだした。この方法ではSnが固溶化したIn2
3 が得られ、熱線遮蔽性能が実用レベルの超微粒子が
得られるのである。
【0007】上記の方法で、Tiを始めとする4価の異
種金属を添加して、製造条件と得られる粒子の熱線遮蔽
性能の関係を調べた結果、上記方法によれば、確実に実
用レベルの熱線遮蔽能、透明性能を有するIn2 3
粒子が得られることが分かり、本発明を完成した。すな
わち、本発明にかかる酸化インジウム系粒子は、Ti、
Zr、Hf、Si、Ge、Pb、P、Sb、V、Nbお
よびTaから選ばれた少なくとも1種の異種金属(M
d)をIn2 3 に添加してなる酸化インジウム系粒子
であって、異種金属の含有率(Md/In)が0.1〜
20原子%であり、かつ、前記酸化インジウム系粒子を
1m2 当たり酸化物換算で6g含む塗膜に波長1.5μ
mの光を照射した時の透過率が40%以下であることを
特徴とする。
【0008】本発明にかかる酸化インジウム系粒子の製
造方法は、水への溶解度(25℃)が25重量%以下の
アルコールを溶媒とし、下記一般式(I)で示されるイ
ンジウム化合物および/または加水分解縮合物と異種金
属(Md)の化合物とを含有するアルコール溶液を加熱
して酸化インジウム系粒子を析出させる方法である。 In(O)(3-x-y-z)/2(OCOR)x(OH)y(OR’)z (I) (但し、Rは、水素原子、置換基があってもよいアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル
基から選ばれた少なくとも1種;R’は、置換基があっ
てもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基お
よびアラルキル基から選ばれた少なくとも1種;x、y
およびzは、x+y+z≦3、0<x≦3、0≦y<
3、0≦z<3を満たす。) 本発明にかかる酸化インジウム系粒子含有組成物は、少
なくとも、バインダー樹脂と上記酸化インジウム系粒子
とを含有し、前記バインダー樹脂に対する前記酸化イン
ジウム系粒子の割合が0.1重量%以上である組成物で
ある。
【0009】本発明にかかる熱線遮断膜は、少なくと
も、バインダー樹脂と上記酸化インジウム系粒子とを含
有し、前記バインダー樹脂に対する前記酸化インジウム
系粒子の割合が0.1重量%以上である膜である。
【0010】
【発明の実施の形態】〔酸化インジウム系粒子〕本発明
にかかる酸化インジウム系粒子は、異種金属(Md)を
In23に添加してなる粒子である。本発明にかかる酸
化インジウム系粒子において、異種金属(Md)の含有
率(Md/In)は、0.1〜20原子%であり、好ま
しくは1〜15原子%、さらに好ましくは2〜10原子
%である。異種金属(Md)としては、熱線遮蔽性およ
び可視光の透過率が共に高い点で、Ti、Zr、Hf、
Si、Ge、Pb、P、Sb、V、NbおよびTaから
選ばれた少なくとも1種の異種金属が好ましい。
【0011】本発明にかかる酸化インジウム系粒子に
は、アモルファス粒子も含まれるが、X線回折学的に見
てインジウムの酸化物結晶性を示すものが熱線遮蔽性に
優れるため好適である。本発明にかかる酸化インジウム
系粒子の1次粒子径は、透明性が高い点で0.1μm以
下が好ましい。具体的には、以下の(1)および/また
は(2)を満足することが特に好ましい。 (1)ウィルソン法を用いて求めた、結晶子の大きさ
(結晶子径)をDwとするとき、Dw≦100nmであ
ること。
【0012】(2)下記数式で算出される比表面積径を
Dsとするとき、1nm≦Ds≦100nmであるこ
と。 Ds=6/(ρ×S) ここで、Ds:μm (但し、ρ:酸化インジウム系粒子の真比重、S:B.
E.T.法で測定される酸化インジウム系粒子の比表面
積(m2/g)) 上記結晶子径は、可視光に対する透過性や透明性に優れ
る点で、好ましくはDw≦50nm、さらに好ましくは
Dw≦20nmである。酸化インジウム系粒子の分散粒
子径Ddは、同様の理由で、好ましくはDd≦100n
m、さらに好ましくはDd≦50nm、最も好ましくは
Dd≦20nmである。なお、分散粒子径は、動的光散
乱法、遠心分離法等により測定することができる重量基
準の平均粒子径である。
【0013】本発明にかかる酸化インジウム系粒子は、
熱線遮蔽性に優れ、これを1m2 当たり酸化物換算で6
g含む塗膜に波長1.5μmの光を照射した時の透過率
が40%以下であり、好ましくは30%以下である。上
記熱線遮蔽性の評価は、酸化インジウム系粒子を27w
t%、バインダーとしてのアクリル樹脂(酸価:2、水
酸基価:50、重量平均分子量:8,000)を18w
t%含み、全固形分が45wt%の塗料を調製し、この
塗料を、透明ガラス基板に塗布し110℃、5分間熱風
乾燥することにより得られた塗工品の分光透過率(例え
ば、積分球付属装置((株)島津製作所製のISR−3
100)を、試料室に取り付けた自記分光光度計
((株)島津製作所製のUV−3100)で測定して行
った。
【0014】本発明にかかる酸化インジウム系粒子は、
可視光に対する透過率が高い方が好ましい。上記と同様
の評価を行ったときの波長0.5μmの光に対する透過
率は、75%以上であり、80%以上が好ましい。本発
明にかかる酸化インジウム系粒子は、透明性が高い方が
好ましい。上記評価を行ったときの膜のヘイズ値は、3
%以下であり、1%以下が好ましい。なお、ヘイズ値の
測定は濁度計(日本電色工業社製、NDH−1101
DP)を用いて行うことができる。本発明にかかる酸化
インジウム系粒子は、カルボン酸(残)基を含有するこ
とが好ましい。ここで、カルボン酸(残)基とは、−C
OO−基を意味し、具体的には、カルボキシル基(−C
OOH)、カルボキシレート基(−COO-)、加水分
解によってカルボキシル基および/またはカルボキシレ
ート基を生成するエステル基等のことである。カルボン
酸(残)基としては、飽和脂肪酸(残)基が好ましく、
炭素数1〜4の脂肪酸(残)基がさらに好ましく、アセ
トキシ基(CH3COO−)が最も好ましい。
【0015】カルボン酸(残)基は、吸着および/また
は化学結合で酸化インジウム系粒子の表面に存在するこ
とにより、2次凝集を抑えて分散性を向上させるので、
この酸化インジウム系粒子を含有する樹脂組成物を塗料
としたときに塗膜の透明性が高くなる。カルボン酸
(残)基の含有量は、インジウムに対し好ましくは0.
01〜14モル%、より好ましくは0.1〜7モル%、
最も好ましくは1〜5モル%である。カルボン酸(残)
基の含有量がインジウムに対し0.01モル%未満であ
ると、粒子の分散性が低下し、粒子が2次凝集しやすく
なる。他方、カルボン酸(残)基の含有量がインジウム
に対し14モル%超であると、金属酸化物としての機
能、たとえば、赤外線遮蔽性や紫外線遮蔽性が低下す
る。
【0016】本発明にかかる酸化インジウム系粒子の粒
子形状は特に限定されない。形状の具体例としては、球
状、楕円球状、立方体状、直方体状、ピラミッド状、針
状、柱状、棒状、筒状、りん片状、(六角)板状等の薄
片状などが例示される。上記酸化インジウム系粒子の製
造方法については、特に限定はないが、たとえば、以下
に詳述する製造方法を好ましい方法として挙げることが
できる。 〔酸化インジウム系粒子の製造方法〕本発明の酸化イン
ジウム系粒子の製造方法は、インジウム化合物および/
または加水分解縮合物と異種金属(Md)の化合物とを
含有するアルコール溶液を加熱して酸化インジウム系粒
子を析出させる工程を含み、アルコールの水への溶解度
(25℃)が25重量%以下であることを特徴とする。
【0017】本発明の方法で用いられるインジウム化合
物としては、下記一般式(I)で示されるインジウム化
合物および/または加水分解縮合物を挙げることができ
る。 In(O)(3-x-y-z)/2(OCOR)x(OH)y(OR’)z (I) (但し、Rは、水素原子、置換基があってもよいアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル
基から選ばれた少なくとも1種;R’は、置換基があっ
てもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基お
よびアラルキル基から選ばれた少なくとも1種;x、y
およびzは、x+y+z≦3、0<x≦3、0≦y<
3、0≦z<3を満たす。) 上記一般式(I)における、RやR’としては、分散性
の高い酸化インジウム系粒子が得られやすくなるため、
メチル基等の炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メ
チル基が特に好ましい。上記一般式(I)における、x
としては1≦x≦3を満たすものが好ましく、yとして
は0≦x<1.5を満たすものが好ましく、zとしては
1≦x<1.5を満たすものが好ましい。これらの場合
に、分散性の高い酸化インジウム系粒子が得られやすい
からである。
【0018】一般式(I)で表される化合物の加水分解
縮合物は、一般式(I)で示される構造を有するインジ
ウム化合物を加水分解および/または縮合して得られる
加水分解物および/または縮合物であり、モノマーから
高分子化合物までの化合物である。縮合物は、インジウ
ム原子と酸素(O)とがメタロキサン結合した結合鎖−
(In−O)n(但し、nは1以上)を有する化合物で
ある。縮合物の縮合度については、限定はなく、結晶子
の大きさ、形態のそろった酸化インジウム系粒子を得る
ためには、縮合度(平均)が好ましくは10以下であ
る。一般式(I)で表される化合物のIn当量として
は、200以上が好ましい。この化合物は結晶水等で水
和していても良いが、熱線遮蔽性および分散性に優れる
In2 3 系粒子を得るためには無水物が好ましい。
【0019】本発明にかかる製造方法で用いられる異種
金属(Md)の化合物としては、たとえば、上記一般式
(I)でインジウム原子を前述の異種金属(Md)に代
えた化学構造を有する化合物の他、異種金属(Md)を
含むカルボン酸塩、金属アルコキシド、β−ジケトン等
の錯体等を挙げることができる。チタンテトラn−ブト
キシドの部分加水分解物である4量体等の縮合物も用い
ることができるが、熱線遮蔽性能の点で縮合体よりもモ
ノマーが好ましい。また、異種金属(Md)の化合物と
しては、Ti、Zr、Hf、Si、Ge、Pb、P、S
b、V、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の
異種金属を含む化合物が好ましい。
【0020】異種金属(Md)の化合物の使用量は、得
られるインジウム系粒子の熱線遮蔽性が優れるため、M
d/In(原子比)が1〜15%であると好ましく、2
〜10%であるとさらに好ましい。異種金属(Md)の
化合物の使用量が上記範囲よりも少ないと熱線遮蔽性が
低くなる。一方、上記範囲より多いと、酸化インジウム
結晶内に固溶化せずに異種金属(Md)の酸化物として
偏析し、2次凝集の原因や成膜時の光の散乱による透明
性の低下の原因になることがある。本発明にかかる製造
方法で用いられるアルコールは、水への溶解度(25
℃)が25重量%以下であり、1〜10重量%であると
好ましい。
【0021】上記水への溶解度(25℃)が25重量%
以下であるアルコールとしては、たとえば、n−ブタノ
ール、sec−ブタノール、イソブチルアルコール、2
−メチルー1−ブタノール、3−メチルー2−ブタノー
ル、1−ペンタノール(n−アミルアルコール)、s−
アミルアルコール、3−ペンタノール、t−アミルアル
コール、イソアミルアルコール、ネオペンチルアルコー
ル、4−メチル−2−ペンタノール、1−ヘキサノー
ル、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタ
ノール、2−エチルブタノール、2−エチルヘキサノー
ル、1−オクタノール、2−オクタノール、1−ノナノ
ール、1−デカノール、n−ウンデカノール、シクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、α−テル
ピネオール、ベンジルアルコール、などの鎖状、環状の
1価アルコール等の他、プロピレングリコール−t−ブ
チルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、1,3
−オクチレングリコール、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエー
テル等を挙げることができる。
【0022】上記水への溶解度(25℃)が1〜10重
量%であるアルコールとしては、たとえば、n−ブタノ
ール、イソブチルアルコール、2−メチル−1−ブタノ
ール、3−メチル−2−ブタノール、1−ペンタノール
(n−アミルアルコール)、s−アミルアルコール、イ
ソアミルアルコール、ネオペンチルアルコール、4−メ
チルー2−ペンタノール、3−ペンタノール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、エチレングリコールモノヘキシ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテルを挙げる
ことができる。
【0023】アルコールの使用量については、インジウ
ム化合物に対するモル比が9〜40であると、反応収率
および熱線遮蔽性能が高い粒子が得られるため好まし
く、12〜20であるとさらに好ましい。本発明にかか
る製造方法は、上記インジウム化合物および/または加
水分解縮合物と異種金属(Md)の化合物とアルコール
を含有する溶液を加熱して、酸化インジウム系粒子を得
る方法であり、その反応温度は、熱線遮蔽性が高い粒子
が得られため、200℃以上が好ましく、260℃以上
がさらに好ましい。上記加熱時の反応圧力は、加圧が好
ましく、反応圧力が高い方がさらに好ましい。加熱時の
反応圧力は、たとえば、気相部の圧力として、5kg/
cm2 以上が好ましく、さらに20kg/cm2 以上が
さらに好ましい。
【0024】上記加熱時の反応時間は、反応温度が26
0℃以上であれば通常4時間以上、200℃〜260℃
であれば8時間以上であると、得られる酸化インジウム
系粒子の熱線遮蔽性が高まるため好ましい。なお、ここ
でいう反応とは、アルコール中で異種金属(Md)が含
有された酸化インジウム粒子が生成した後の熟成反応も
包含する。本発明の製造方法の具体的な操作方法として
は、たとえば、アルコールを200℃以上に加熱してお
き、一般式(I)で表される化合物と異種金属(Md)
の化合物を添加して反応させる方法、アルコールにこれ
らの化合物を混合した後に昇温して200℃以上で加熱
して反応させる方法などを採用することができる。な
お、反応時に水が副生するが、この水を加熱しながら留
去することが、分散性の高い粒子を得るためには好まし
い。
【0025】上記製造方法によれば、熱線遮蔽性等の機
能に優れる酸化インジウム系粒子を容易に得させること
ができる。 〔酸化インジウム系粒子の用途〕本発明にかかる酸化イ
ンジウム系粒子含有組成物は、上記した本発明の酸化イ
ンジウム系粒子を0.1重量%以上含有する組成物であ
る。例えば、バインダー樹脂に対して上記した異種金属
(Md)を含有する酸化インジウム系粒子を0.1重量
%以上含有する塗料組成物や成形材料組成物やフィルム
である。この組成物は、上記本発明にかかる酸化インジ
ウム系粒子を含むため、熱線遮蔽性等の特性が特に優れ
ており、熱線遮断膜等に用いることができる。
【0026】以下に、塗料組成物と成形材料組成物と酸
化インジウム系粒子含有フィルムについて、順に詳しく
説明する。塗料組成物 本発明の熱線遮蔽性に優れる酸化インジウム系粒子を含
む塗料組成物は、経済性および熱性遮蔽性と可視光透過
性に優れ、しかも、Snを含まないために環境適応性に
も優れ、極めて有用である。また、塗布量にもよるが、
275〜320nmより長波長の紫外線に対して透過性
に優れるという特徴を有する。塗料組成物に用いられる
バインダー樹脂としては、熱可塑性または熱硬化性(熱
硬化性、紫外線硬化性、電子線硬化性、湿気硬化性、こ
れらの併用等も含む)の各種合成樹脂や天然樹脂等の有
機系バインダーや、無機系バインダー等を挙げることが
できる。
【0027】合成樹脂としては、たとえば、アルキド樹
脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、熱硬化性不
飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、塩素化ポリオ
レフィン樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹
脂、フッ素樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、ケトン樹
脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、液状ポリブタジエン、
クマロン樹脂等を挙げることができ、これらが1種また
は2種以上使用される。天然樹脂としては、たとえば、
セラック、ロジン(松脂)、エステルガム、硬化ロジ
ン、脱色セラック、白セラック等を挙げることができ、
これらが1種または2種以上使用される。
【0028】合成樹脂として、エチレン−プロピレン共
重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム等の天
然または合成のゴム等を用いてもよい。合成樹脂と併用
する成分として、硝酸セルロース、セルロースアセテー
トブチレート、酢酸セルロース、エチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース等を挙げることができる。塗料組成物に用い
られるバインダー樹脂の形態については、特に限定はな
く、溶剤可溶型、水溶性型、エマルション型、分散型
(水/有機溶剤等の任意の溶剤)等を挙げることができ
る。
【0029】水溶性型のバインダー樹脂としては、たと
えば、水溶性アルキド樹脂、水溶性アクリル変性アルキ
ド樹脂、水溶性オイルフリーアルキド樹脂(水溶性ポリ
エステル樹脂)、水溶性アクリル樹脂、水溶性エポキシ
エステル樹脂、水溶性メラミン樹脂等を挙げることがで
きる。エマルション型のバインダー樹脂としては、たと
えば、(メタ)アクリル酸アルキル共重合ディスパージ
ョン;酢酸ビニル樹脂エマルション、酢酸ビニル共重合
樹脂エマルション、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂エ
マルション、アクリル酸エステル(共)重合樹脂エマル
ション、スチレン−アクリル酸エステル(共)重合樹脂
エマルション、エポキシ樹脂エマルション、ウレタン樹
脂エマルション、アクリル−シリコーンエマルション、
フッ素樹脂エマルション等を挙げることができる。
【0030】無機系バインダーとしては、シリカゲル、
アルカリケイ酸、シリコンアルコキシド等の金属アルコ
キシド、これらの(加水分解)縮合物、リン酸塩等を挙
げることができる。塗料組成物を後述の熱線遮断性フィ
ルムの製造に用いる場合、成膜温度等の成膜条件や、得
られるフィルムの可撓性や耐候性の観点からは、塗料組
成物に用いられるバインダー樹脂としては、ポリウレタ
ン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂等が好ましい。塗料
組成物中の酸化インジウム系粒子の割合は、たとえば、
酸化インジウム系粒子およびバインダー樹脂の固形分合
計量に対して0.1〜99重量%であり、好ましくは1
0〜90重量%である。酸化インジウム系粒子の割合が
0.1重量%未満であると、熱線遮断性を得るためには
膜厚を大きくする必要があり、実用的でない。他方、酸
化インジウム系粒子の割合が90重量%を超えると、可
視光透過性および可撓性が低下する。塗料組成物に含ま
れる酸化インジウム系粒子が導電性で、塗料組成物から
得られる塗膜を導電膜、帯電防止膜等の機能膜として用
いる場合は、塗料組成物中の酸化インジウム系粒子の割
合は、さらに好ましくは、酸化インジウム系粒子および
バインダー樹脂の固形分合計量に対して50〜90重量
%である。
【0031】塗料組成物は、酸化インジウム系粒子とバ
インダー樹脂以外に要求性能に従って、架橋剤等の硬化
剤;硬化助剤等の硬化触媒;可塑剤;消泡剤・レベリン
グ剤;チクソトロピック剤;艶消し剤;界面活性剤;難
燃剤;顔料湿潤剤・分散剤;滑剤;紫外線吸収剤;光安
定剤;酸化防止剤;その他(熱)安定剤;防腐剤;防か
び剤;防藻剤;防食・防錆剤;染料;顔料等の添加剤を
含有するものでもよい。硬化剤としては、たとえば、空
気(酸素)等の乾性油系に用いられる硬化剤;単官能ま
たは多官能の不飽和モノマー等のポリエステル樹脂、ポ
リアクリル樹脂、エポキシ樹脂に用いられる硬化剤;1
級、2級アミノ基を含むポリアミン、ポリアミドや、メ
チロール基を有するアミノ樹脂、カルボキシル基を有す
る多塩基酸や高酸価ポリエステル等のエポキシ基を有す
るバインダー樹脂に用いられる硬化剤;イソシアネート
基を有するポリイソシアネート、ウレタン基を有するポ
リイソシアネート、メチロール基、1級および/または
2級のアミノ基、アルコキシメチレン基を有するアミノ
樹脂等の水酸基を有するバインダー樹脂に用いられる硬
化剤;金属キレート剤等のカルボキシル基を有するバイ
ンダー樹脂に用いられる硬化剤;水分、多官能エポキシ
化合物、水酸基含有化合物等のシリコーン基を有するバ
インダー樹脂に用いられる硬化剤等を挙げることがで
き、これらが1種または2種以上使用される。
【0032】塗料組成物を後述の酸化インジウム系粒子
含有フィルムの製造等に用いる場合、塗料組成物が光安
定剤を含むものであると、耐候性が向上する。塗料組成
物が硬化剤としてポリイソシアネートを含むものである
と、汎用性が高い。フィルムを製造する場合の塗料組成
物の硬化方法については、経済的に加熱硬化法が好まし
い。塗料組成物は、溶媒を含むものでもよく、塗料組成
物の使用目的やバインダー樹脂の種類によって適宜選択
される。溶媒としては、たとえば、アルコール類、脂肪
族および芳香族カルボン酸エステル類、ケトン類、エー
テル類、エーテルエステル類、脂肪族および芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類等の有機系溶剤;水;鉱
物油;植物油、ワックス油、シリコーン油等を挙げるこ
とができ、これらが1種または2種以上使用される。
【0033】塗料組成物の製造方法としては、たとえ
ば、溶媒に酸化インジウム系粒子を添加しスラリー化し
た後述の酸化インジウム系粒子含有溶媒分散体を予め調
製した後、この酸化インジウム系粒子を含むスラリー
に、バインダー樹脂を混合して塗料組成物を製造する方
法等を挙げることができる。塗料組成物は、たとえば、
ガラス、陶器等の無機物や、樹脂等の有機物等の基材の
表面に塗布することができる。上記無機物や有機物の形
状については、特に限定はなく、フィルム状、シート
状、板状、繊維状等の形状を挙げることができる。これ
らのうちでも、後述のフィルムや、繊維等に有用であ
る。このようにして得られた塗膜は、熱線遮蔽膜として
有用である。
【0034】上記基材として用いられる樹脂の材質とし
ては、特に限定はなく、たとえば、LDPE、HDP
E、アモルファスポリエチレン、OPP(延伸ポリプロ
ピレン)、CPP(結晶化ポリプロピレン)等のポリプ
ロピレン、ポリイソブチレンなどのポリオレフィン系;
EVA(エチレン・酢酸ビニル共重合体)系;ポリスチ
レン系;軟質又は硬質ポリ塩化ビニル;EVOH(エチ
レン・ビニルアルコール共重合体)系;PVA系(ビニ
ロン系);PVDC系(ポリ塩化ビニリデン);ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポ
リブチレンナフタレート等のポリエステル系;ポリカー
ボネート系;ポリウレタン系;ポリアミド系;ポリイミ
ド系;ポリアクリロニトリル系;ポリサルフォン系;ポ
リエーテルサルフォン系;ポリフェニレンサルファイド
系;ポリアリレート系;ポリエーテルイミド系;アラミ
ド系;(メタ)アクリル系;ポリエーテルエーテルケト
ン系;テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体、テ
トラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重
合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロ
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、
テトラフルオロエチレン・ペルフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体、ポリフッ化ビニル、テトラフルオロ
エチレン・ヘキサフルオロプロピレン・ペルフルオロア
ルキルビニルエーテル共重合体、ポリクロロトリフルオ
ロエチレンなどのフッ素系樹脂等を挙げることができ
る。
【0035】光学レンズ等の極めて高度な可視光透過
性、透明性が要求される用途で用いる場合には、PMM
A、MMA−スチレンランダム共重合体、ポリカーボネ
ート、透明ポリプロピレン、MMAとα−メチルスチレ
ンまたはシクロヘキシルメタクリレート等の共重合体、
ABS樹脂のMMA変性タイプ、ポリスチレン、ポリア
リレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、
透明エポキシ樹脂、ポリ−4−メチルペンテン−1、フ
ッ素化ポリイミド、非晶質フッ素樹脂、透明フェノキシ
樹脂、非晶質ナイロン樹脂、フルオレン系等の各種樹脂
を基材として使用することができる。
【0036】また、廃棄処理問題から、生分解性に対す
る要求に応えるものとして、生分解性樹脂を基材として
用いることは今後ますます重要になる。このような場
合、たとえば、ポリ−3−ハイドロキシ酪酸エステル、
キチン・キトサン系、ポリアミノ酸系、セルロース系、
ポリカプロラクトン系、アルギン酸系、ポリビニルアル
コール系、脂肪族ポリエステル系、糖類系、ポリウレタ
ン系、ポリエーテル系などの生分解性プラスチック等を
基材として用いることが好ましい。基材としては、上述
の基材に予めUV吸収膜を配したものや、塗料組成物か
らなる塗膜と基材との密着性などを高める目的でプライ
マー層等を予め配したものものでもよい。
【0037】これらの中でも、プラスチックフィルム、
シートのうち、耐候性が高い点でフッ素系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂が好ましい。塗料組成物を塗布する方法につ
いては、特に限定はなく、ディッピング法、ロールコー
ター法、フローコート法、スクリーン印刷法、バーコー
ター法、スピンコーター法、刷毛塗り法、スプレー法等
を挙げることができる。また、塗料組成物を塗布して得
られる乾燥膜厚については、特に限定はなく、好ましく
は0.5〜100μm、さらに好ましくは1〜30μm
である。
【0038】塗料組成物を塗布・成膜した後、耐水性、
耐溶剤性、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、耐擦傷性等
の点から、熱硬化(室温硬化を含む)、湿気硬化、紫外
線硬化、電子線硬化等の硬化方法で硬化膜とすることが
好ましい。塗料組成物をガラス板等の透明板に塗布して
得られた中間膜が透明板上に形成された塗工透明板を用
いて、合わせガラスを得ることができる。合わせガラス
は、接着剤シートを塗工透明板と別に用意した透明板と
で挟むように重ねて製造することができる。なお、塗工
透明板の中間膜と接着剤シートとを重ねるようにする。
【0039】接着剤シートとしては、ポリビニルブチラ
ール系樹脂、ポリウレタン樹脂、エチレン−酢酸ビニル
共重合体系樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸エステ
ル共重合体系樹脂等の軟質樹脂または硬質樹脂を材質と
するシートを挙げることができ、軟質樹脂が好ましい。
接着剤シートの厚みは、好ましくは0.1〜2mm、さ
らに好ましくは0.5〜1mmである。上記合わせガラ
スでは、中間膜が熱線遮断膜として用いられているた
め、熱線を効果的に遮ることができる。成形材料組成物 この成形材料組成物は、光選択透過性機能等の光機能、
導電機能等の電気機能、光触媒機能等の触媒機能等の各
種機能性に優れ、熱線遮蔽性、耐候性および可撓性の高
い成形体を得させることができる。
【0040】成形材料組成物に用いられるバインダー樹
脂としては、ポリアミド(6−ナイロン、66−ナイロ
ン、12−ナイロン等)、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリオレフィン(ポリエチレン、ポロプロピレン等)、
ポリエステル(PET,PBT,PEN等)、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリス
チレン、(メタ)アクリル樹脂、ABS樹脂、シリコー
ン樹脂、フッ素樹脂およびこれらの原料となる単量体等
の熱可塑性樹脂;フェノール樹脂(フェノール・ホルマ
リン樹脂、クレゾール・ホルマリン樹脂等)、エポキシ
樹脂、アミノ樹脂(尿素樹脂、メラミン樹脂、グアナミ
ン樹脂等)およびこれらの原料となる単量体等の熱硬化
性樹脂等を挙げることができ、これらが1種または2種
以上使用される。
【0041】成形材料組成物に用いられるバインダー樹
脂としては、ポリビニルブチラール系、ポリウレタン
系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系、エチレン−(メ
タ)アクリル酸エステル共重合体系等の軟質樹脂または
硬質樹脂等も挙げることができ、これらが1種または2
種以上使用される。成形材料組成物に用いられるバイン
ダー樹脂として、上述の無機系バインターを用いてもよ
い。成形材料組成物中の酸化インジウム系粒子の割合
は、たとえば、酸化インジウム系粒子およびバインダー
樹脂の固形分合計量に対して0.1〜99重量%であ
り、好ましくは0.1〜10重量%である。酸化インジ
ウム系粒子の割合が0.1重量%未満であると、熱線遮
断効果が低下する。他方、酸化インジウム系粒子の割合
が99重量%を超えると、強度や、可視光透過性および
可撓性が低下する。
【0042】成形材料組成物は、酸化インジウム系粒子
とバインダー樹脂以外に要求性能に従って、硬化剤、硬
化促進剤、着色剤、離型剤、カップリング剤、シリコー
ン化合物、反応性希釈剤、可塑剤、安定化剤、難燃助
剤、架橋剤等の添加剤を含有するものでもよい。硬化剤
は、バインダー樹脂として熱硬化性樹脂を用いる際に必
要となる場合がある。たとえば、バインダー樹脂として
エポキシ樹脂を用いる場合は、ポリアミド類、脂肪族ポ
リアミン類、環状脂肪族ポリアミン類、芳香族ポリアミ
ン類あるいはこれらの一部を変性したアミン類、酸無水
物類、ジシアンジアミド類、イミダゾール類、アミンイ
ミド類、ヒドラジド類、フェノールノボラック、クレゾ
ールノボラック等のノボラック系硬化剤等を挙げること
ができ、これらが1種または2種以上使用される。ま
た、バインダー樹脂としてフェノール樹脂を用いる場合
は、ウロトロピンやホルマール等を挙げることができ、
これらが1種または2種以上使用される。これらの使用
量は、バインダー樹脂に対して適宜の量で用いられる。
【0043】可塑剤は、組成物の加工性をさらに向上さ
せるためのもので、たとえば、リン酸エステル類、フタ
ル酸エステル類、脂肪族−または二塩基酸エステル類、
二価アルコールエステル類、オキシ酸エステル類、ポリ
グリコール類等が挙げられ、特にバインダー樹脂として
エポキシ樹脂を用いる場合はポリグリコール類が好まし
い。安定化剤は、バインダー樹脂の分解を抑制するもの
であり、たとえば、ステアリン酸鉛、ステアリン酸亜鉛
等が挙げられる。成形材料組成物の製造方法としては、
たとえば、酸化インジウム系粒子とバインダー樹脂等
を、ロール、ニーダー、ミキサー等の混合装置を用いて
均一に混合する方法等を挙げることができる。また、成
形材料組成物が可塑剤を含む場合は、後述の酸化インジ
ウム系粒子含有可塑剤分散体を調製しておいて、バイン
ダー樹脂等を混合して成形材料組成物を得てもよい。
【0044】成形材料組成物の成形方法としては、たと
えば、押出し成形、射出成形、注形、圧縮成形、低圧ト
ランスファー成形、キャスト成形等を挙げることができ
る。成形材料組成物は、たとえば、フィルム状に成形し
てもよく、得られたフィルムは、粒子の熱線遮蔽性が高
く、可視光透過性に優れる。成形材料組成物を成形して
得られた酸化インジウム系粒子含有シートをガラス板等
の透明板で挟み、適宜硬化させることによって、合わせ
ガラスを得ることができる。酸化インジウム系粒子含有
シートの厚みは、好ましくは0.1〜2mm、さらに好
ましくは0.5〜1mmである。酸化インジウム系粒子含有フィルム 酸化インジウム系粒子含有フィルムは、上記本発明にか
かる酸化インジウム系粒子含有組成物(塗料組成物)か
ら得られた塗膜を基材フィルム上に形成したフィルムで
ある。この酸化インジウム系粒子含有フィルムは、本発
明の酸化インジウム系粒子を含むため、熱線遮断性、可
視光透過性、紫外線透過性に優れ、耐候性も高い。
【0045】酸化インジウム系粒子含有フィルムに用い
られる基材フィルムとしては、塗料組成物の項で詳しく
説明した、基材として用いられる樹脂からなるフィルム
等を挙げることができる。好ましいものについても同様
である。基材フィルムの膜厚については、特に限定はな
く、好ましくは5〜500μm、さらに好ましくは10
〜200μmである。基材フィルム表面に塗料組成物を
塗布する方法、乾燥膜厚等については、特に限定はな
く、上述のものが好ましい。酸化インジウム系粒子含有
フィルムは、塗料組成物から得られる塗膜が基材フィル
ム上に形成されたものであれば特に限定はなく、用途、
要求特性等に応じてさらに加工されたものでもよい。酸
化インジウム系粒子含有フィルムは、基材フィルムと接
しない塗膜の表面、および/または、塗膜と接しない基
材フィルムの表面に、粘着層や保護層(耐擦傷性付与の
ためのハードコート膜等)を形成したものでもよく、他
のフィルムとラミネートしたラミネートフィルムであっ
てもよい。
【0046】酸化インジウム系粒子含有フィルムを熱線
遮蔽性フィルムとして用いる場合の熱線透過率について
は、特に限定はないが、1.5μm光に対する透過率で
好適には50%以下、さらに好適には40%以下、特に
好ましくは30%以下である。また、酸化インジウム系
粒子含有フィルムの可視光透過率については、特に限定
はないが、0.5μm光に対する透過率で好適には70
%以上、さらに好適には80%以上、特に好ましくは8
5%以上である。熱線透過率および可視光透過率は、J
IS R 3106記載の装置および測定方法で得られ
る値である。酸化インジウム系粒子含有フィルムのヘイ
ズについては、特に限定はないが、好適には10%以
下、さらに好適には5%以下、最も好適には3%以下で
ある。ヘイズは、濁度計で測定して得られた値である。
【0047】酸化インジウム系粒子含有フィルムの耐侯
性は、JIS B 7753−93に記載のサイシャイ
ンカーボンアーク灯式耐光性および耐候性試験機を用い
て、促進耐候性試験を行って、初期100時間後のヘイ
ズ値および色相を基準にして、さらに1000時間試験
後のヘイズ値および色相を比較した場合、ヘイズの変化
が2%未満であると好ましく、着色(変色)がないとさ
らに好ましい。 (その他の用途)酸化インジウム系粒子含有溶媒分散体 酸化インジウム系粒子含有溶媒分散体は、上記酸化イン
ジウム系粒子および溶媒をスラリー化させて得られる。
酸化インジウム系粒子を上記製造方法等で得た場合は、
酸化インジウム系粒子を含む反応液について、遠心分
離、再分散、加熱溶媒置換等の操作を行って、酸化イン
ジウム系粒子含有溶媒分散体を調製してもよく、また、
上記反応液から溶媒等を留去して、粉末状の酸化インジ
ウム系粒子を単離した後、溶媒に再分散させて、酸化イ
ンジウム系粒子含有溶媒分散体を調製してもよい。
【0048】酸化インジウム系粒子含有溶媒分散体は、
塗料組成物や成形材料組成物の中間体として用いること
ができる。酸化インジウム系粒子含有可塑剤分散体 酸化インジウム系粒子含有可塑剤分散体は、上記酸化イ
ンジウム系粒子および可塑剤を混合して得られる。酸化
インジウム系粒子を上記製造方法等で得た場合は、酸化
インジウム系粒子を含む反応液から溶媒等を留去して、
粉末状の酸化インジウム系粒子を単離した後、可塑剤と
混合して、酸化インジウム系粒子含有可塑剤分散体を調
製してもよい。
【0049】酸化インジウム系粒子含有可塑剤分散体
は、塗料組成物や成形材料組成物の中間体として用いる
ことができる。特に、合わせガラス用の中間膜(樹脂シ
ート)の製造に有効である。本発明にかかる酸化インジ
ウム系粒子およびこれを含む各種組成物は、自動車や建
築用の窓ガラス、合わせガラス、複層ガラス、自動車用
のサンルーフ、農業用の温室やビニールハウス、衣服、
スポーツ衣料、布団等の繊維製品、メガネ、サンバイザ
ー、光ファイバー、プリペイドカード、化粧料などの、
熱線および赤外線の遮蔽効果、反射効果、あるいは保温
効果などを必要とする各種の用途に用いることができ、
その安全性は高い。さらに、熱線遮断用途以外、例え
ば、溶媒分散体を基材に焼き付けて得られる透明導電
膜、あるいは塗料組成物を塗布して得られる帯電防止膜
や電磁遮蔽膜などとしても有用である。
【0050】
【実施例】以下に実施例によりさらに詳細に本発明を説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、以下では、「部」は「重量部」を示す。本実施例に
おける評価等は次の手法により行った。 1.酸化インジウム系粒子の評価 <粉末試料の作製法>得られた反応液中の粒子を遠心分
離操作によって分離した後、メタノールによる洗浄、さ
らにアセトンによる洗浄を充分行った後、30℃で1日
真空乾燥し、さらに80℃にて1日真空乾燥し、揮発成
分を完全に除去して粒子の粉末を得、これを粉末試料と
した。 <カルボン酸(残)基含有量>粉末試料1gを0.01
Nの水酸化ナトリウム水溶液に混合し、3日間撹拌した
後、遠心分離操作によって得た上澄みをイオンクロマト
分析することによって測定した。ここでは、主金属
(M)に対するアセトキシ基等のカルボン酸(残)基の
モル%を算出した。 <結晶性>粉末X線回折により評価した。 <結晶子径Dw>粉末試料の粉末X線回折測定を行い求
めた。
【0051】Dw:Wilson法を用いて求めた結晶
子の大きさ <熱線遮蔽性能、可視光透過性能、透明性>評価方法:
酸化インジウム系粒子を含む反応液を遠心分離により、
この粒子を含む沈降物を得た後、この沈降物をトルエン
に粒子濃度5wt%となるように再分散し、再度、遠心
分離し、粒子を含む沈降物を得た。次に、この沈降物を
トルエンに粒子濃度5wt%となるように再分散し、再
度、遠心分離し、沈降物を粒子濃度30wt%となりよ
うにトルエンに分散させた。このトルエン分散体に、ア
クリル樹脂溶液を加え、12時間攪拌することにより、
以下の塗料をテスト用調製した。
【0052】全固形分:45wt% 粒子/アクリル樹脂(固形分)=6/4(重量比) 溶媒組成:トルエン/n−ブタノール=9/1(重量
比) ここで、アクリル樹脂としては、酸価:2、水酸基価:
50、重量平均分子量:8,000のものを用いた。テ
スト用塗料を各種膜厚に透明ガラス基板に塗布し110
℃5分間熱風乾燥することにより各種膜厚の塗工品を得
た。得られた塗工品の分光透過率を測定し、粒子換算塗
布量と各波長における透過率との関係曲線を得た。分光
透過率は、積分球付属装置((株)島津製作所製のIS
R−3100)を試料室に取り付けた自記分光光度計
((株)島津製作所製のUV−3100)を用いて測定
した。
【0053】次に、得られた塗工品の透明性(ヘイズ
値)を測定し、粒子換算塗布量とヘイズ値との関係曲線
を得た。なお、ヘイズ値の測定は濁度計(日本電色工業
社製、NDH−1101 DP)で行った。 1)粒子の熱線遮蔽性能 酸化物換算で6g/m2 塗布時の波長1.5μm光に対
する透過率を測定し、以下の評価基準で評価した。 40%以上:× 30%以上〜40%未満:○ (ランクB) 30%未満:○ (ランクA) 2)粒子の可視光透過性能 波長1.5μm光に対する透過率が40%のときに、波
長0.5μm光に対する透過率を測定し、以下の評価基
準で評価した。
【0054】 80%以上:○ 80%未満:× 3)粒子の透明性能 酸化物換算で6g/m2 塗布時のヘイズ値を求め、以下
の評価基準で評価した。 1%未満:○ 1%以上かつ10%未満:△ 10%以上:× 2.組成物の評価 <熱線遮蔽性、可視光透過性、透明性>塗工品、積層ガ
ラスに関し、これらを直接、前記と同じ装置で測定し
た。
【0055】1)熱線遮蔽性 1.5μm光に対する透過率を測定し、40%以下であ
れば○と評価した。 2)可視光透過性 0.5μm光に対する透過率を測定し、80%以上であ
れば○と評価した。 3)透明性 ヘイズ値が3%以下であれば○と評価した。 −実施例1−1− 攪拌機、添加口、温度計、留出ガス出口、窒素ガス導入
口を備え、外部より加熱し得る耐圧100kg/cm2
のステンレス(SUS316)製反応器、および添加口
にボールバルブを介して直結する添加槽、留出ガス出口
に直結する冷却器および留出液トラップを備えた反応装
置(反応装置全体が耐圧100kg/cm2 の耐圧仕
様)を用意した(以下、オートクレーブ装置)。冷却器
と留出ガス出口はバルブ(A)を介して直結しており、
冷却器下部にはリークラインとして圧力調整弁が設置さ
れている。
【0056】酢酸インジウム粉末58.4部を、n−ブ
タノール208部に混合しパイプラインミキサーで分散
処理を行った後、オートクレーブ装置に仕込み、チタン
テトラ−n−ブトキシド3.40部をn−ブタノールに
溶解した溶液17.4部を添加混合した。気相部を窒素
ガスで置換した後、バルブ(A)を閉じた状態で、常温
より昇温し、280℃に昇温した。このときの気相部圧
(初期圧)は43.8kg/cm2であった。280℃
±2℃に温度を保持しながら4時間反応を行った。反応
中の気相部圧は45.5kg/cm2まで変化した。常
温まで冷却し、解圧した後、200メッシュのSUS製
金網でろ過することにより反応液280部を得た。得ら
れた反応液は、粒子濃度9.9wt%であり、酸化物換
算収率97%であった。反応液中の粒子の評価、解析結
果を、表2に示す。
【0057】 −実施例1−2〜1−5、比較例1−1〜1−2− 実施例1−1において、異種金属(M)の化合物(以
下、Md化合物という)の種類、反応溶媒の種類、原料
に仕込比などを表1に示す通りに変えた以外は、実施例
1−1と同様に反応を行った。得られた反応液中の粒子
の評価、解析結果を表2に示す。 −実施例2−1− 実施例1−1で得られたTi含有酸化In粒子の反応液
100部より加熱溶媒置換により、粒子濃度30wt%
のキシレン分散体33部を得た。この分散体に表3に示
すアクリル樹脂溶液(B1)を添加混合し攪拌した後、
硬化剤としてのイソシアヌレート変性ヘキサメチレンジ
イソシアナートを添加混合し、20℃で30分間攪拌し
たのち、塗料(1)を得た。
【0058】塗料(1)をヘイズ0.5%のPETフィ
ルムに塗布、熱風乾燥機で90℃で2分間乾燥して、フ
ィルム状の塗工品(1)を得た。 −実施例2−2− 実施例2−1においてバインダー成分としてアクリル樹
脂(B1)の代わりに表3に示すフッ素樹脂(B2)を
用いた以外は同様にして塗料(2)を得た。この塗料を
ヘイズ2%のフッ素フィルムに塗布、熱風乾燥機で10
0℃で2分間乾燥して、フィルム状の塗工品(2)を得
た。塗工品(1)および塗工品(2)は、可視光透過
性、透明性、熱線遮蔽性のいずれもが○であった。
【0059】−実施例3− 実施例1−1で得られたTi含有酸化In粒子の反応液
100部より加熱溶媒置換により、粒子濃度10wt%
の可塑剤(ジオクチルフタレート)分散体(1)33部
を得た。可塑剤分散体(1)14部をジオクチルフタレ
ート20部に混合し、この混合物をポリビニルブチラー
ル樹脂100部に混合、混練して、粒子を1重量%分散
含有する樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を押出成形
機で成形し、厚み0.8mmのポリビニルブチラールシ
ートを得た。
【0060】このシートを厚み3mmの板ガラスに挟
み、減圧下、100℃で1時間保持した後、常温に戻し
てからオートクレーブ装置に入れ、圧力8kg/c
2 、温度130±7℃で30分間処理して、積層ガラ
スを得た。この積層ガラスは、可視光透過性、透明性、
熱線遮蔽性のいずれもが○であった。
【0061】
【表1】
【0062】
【表2】
【0063】
【表3】
【0064】
【発明の効果】本発明にかかる酸化インジウム系粒子
は、熱線遮蔽性に優れる。本発明にかかる酸化インジウ
ム系粒子の製造方法は、熱線遮蔽性に優れる酸化インジ
ウム系粒子を容易に得させることができる。本発明にか
かる酸化インジウム系粒子含有組成物は、上記本発明の
酸化インジウム系粒子を含有するため、熱線遮蔽性や透
明性等が高く、さらに、導電機能等の電気機能や電磁遮
蔽機能等の各種機能性に優れ、しかも、耐候性が高い塗
膜等を得させる。
【0065】本発明にかかる熱線遮断膜は、粒子含有組
成物は、上記酸化インジウム系粒子を含むため、熱線遮
蔽性が高い。
フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 CA04 CA05 CA09 CA12 CA20 4J038 AA01 BA011 BA221 BA231 CA021 CB101 CB171 CD091 CG001 CM031 CR011 DA021 DA031 DA101 DA111 DB001 DD001 DD121 DD181 DG001 DH001 DL031 HA216 HA446 HA456 KA20 LA02 NA15 NA17 PB08 PC03 PC04 PC08

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Ti、Zr、Hf、Si、Ge、Pb、
    P、Sb、V、NbおよびTaから選ばれた少なくとも
    1種の異種金属(Md)をIn2 3 に添加してなる酸
    化インジウム系粒子であって、異種金属の含有率(Md
    /In)が0.1〜20原子%であり、かつ、前記酸化
    インジウム系粒子を1m2 当たり酸化物換算で6g含む
    塗膜に波長1.5μmの光を照射した時の透過率が40
    %以下であることを特徴とする、酸化インジウム系粒
    子。
  2. 【請求項2】水への溶解度(25℃)が25重量%以下
    のアルコールを溶媒とし、下記一般式(I)で示される
    インジウム化合物および/または加水分解縮合物と異種
    金属(Md)の化合物とを含有するアルコール溶液を加
    熱して酸化インジウム系粒子を析出させる、酸化インジ
    ウム系粒子の製造方法。 In(O)(3-x-y-z)/2(OCOR)x(OH)y(OR’)z (I) (但し、Rは、水素原子、置換基があってもよいアルキ
    ル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル
    基から選ばれた少なくとも1種;R’は、置換基があっ
    てもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基お
    よびアラルキル基から選ばれた少なくとも1種;x、y
    およびzは、x+y+z≦3、0<x≦3、0≦y<
    3、0≦z<3を満たす。)
  3. 【請求項3】少なくとも、バインダー樹脂と請求項1に
    記載の酸化インジウム系粒子とを含有し、前記バインダ
    ー樹脂に対する前記酸化インジウム系粒子の割合が0.
    1重量%以上である、酸化インジウム系粒子含有組成
    物。
  4. 【請求項4】少なくとも、バインダー樹脂と請求項1に
    記載の酸化インジウム系粒子とを含有し、前記バインダ
    ー樹脂に対する前記酸化インジウム系粒子の割合が0.
    1重量%以上である、熱線遮断膜。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8207530B2 (en) 2009-01-09 2012-06-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Oxide semiconductor and thin film transistor including the same
JP5102494B2 (ja) * 2004-12-03 2012-12-19 株式会社ロッキーマウンテンモリタ ブラキシズム評価シート
CN113740390A (zh) * 2021-09-01 2021-12-03 山东大学 一种镍掺杂氧化铟纳米颗粒及其制备方法与应用

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