JP2002063718A - 垂直磁気記録媒体の製造方法、垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁性粒子を球状の形状に保った状態のグラニ
ュラー構造を持つ下地膜を成膜することを可能とする。 【解決手段】 基板１の上に非磁性母材中２ａに磁性粒
子２ｂが分散したグラニュラー構造を持った下地膜層２
を成膜する工程と、前記下地膜層２の上に垂直磁性層３
を成膜する工程と、前記垂直磁性層３の上に保護膜層４
を成膜する工程とを有し、前記下地膜層２を成膜する工
程は、前記基板１に断続的に基板バイアスを印加しなが
ら前記下地膜層２を成膜することで、前記磁性粒子２ｂ
が前記下地膜層２の垂直方向に複数の列に並んだ層構造
の下地膜層を成膜する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、低ノイズかつ高密
度記録が可能な垂直磁気記録媒体の製造方法、垂直磁気
記録媒体及び垂直磁気記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ等の電子
機器においては、外部記録装置として磁気記録装置が広
く用いられている。この磁気記録装置においては、更な
る面記録密度の高密度化が要求されており、それに伴
い、磁気記録媒体の走行方向に対して垂直方向に磁化容
易軸を持つ垂直磁性膜を設け、磁気ヘッドにより垂直磁
性膜の垂直方向に磁界を印加し磁気信号を記録する垂直
磁気記録方式が検討されている。また、垂直磁性膜の下
に高透磁率の下地膜を設けて２層構造とすることで、磁
気ヘッドと下地膜との相互作用により更に優れた記録再
生特性を得る方法が検討されている。ここで、下地膜が
磁壁を生じる構造である場合、スピンドルモータやボイ
スコイルモータなどから発生する磁界の影響により、下
地膜に存在する磁壁の移動や揺らぎが生じ、この磁壁移
動や磁壁揺らぎが、その上層の垂直磁性膜の磁気信号の
記録消磁、書き換えなどを起こしてしまうという問題を
生じることが知られている。

【０００３】この問題を解決するために下地膜の構造に
ついて検討されており、例えば、特開平１１‐１４９６
２８号公報では、下地膜を、非磁性母材中に、Ｃｏ、Ｃ
ｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔといった硬磁性材料の磁性粒子を
分散させたグラニューラ構造とすることで、軟磁気特性
を示させ、下地膜に磁壁ができない構造にする方法につ
いて記載されている。

【０００４】しかし、この従来技術のように硬磁性材料
の磁性粒子を下地膜に用いた場合、実際の記録時に行な
われる高速磁化反転時に影響を与える熱揺らぎを受けな
い磁気特性であるＨｃｏ（Ｄｙｎａｍｉｃ ｃｏｅｉｒ
ｓｉｖｉｔｙ）等は、硬磁性材料の磁性粒子と同じ硬磁
性を示すこととなる。すなわち、磁気信号の記録時に
は、下地膜中の硬磁性材料の磁性粒子の高い異方性磁界
Ｈｋの影響により、垂直磁性膜に高密度に磁気信号を記
録することができない。更に、硬磁性材料の磁性粒子は
飽和磁束密度Ｂｓの値が小さいため、硬磁性材料の磁性
粒子を用いてグラニュラー構造とする場合、垂直磁性膜
に対して軟磁性膜として作用するために必要な飽和磁束
密度Ｂｓを得るためには、その膜厚を非常に厚く形成し
なければならない。

【０００５】一方、本発明者は、特願平１１−２７７４
５０号において、下地膜に使用する磁性粒子として、硬
磁性材料に代えて、軟磁性材料を用い、更に飽和磁束密
度Ｂｓの値が大きく且つ高透磁率のＣｏＦｅ、ＮｉＦ
ｅ、ＣｏＺｒＮｂ等の軟磁性材料を用いることで、高密
度に磁気信号の記録を可能とすることを図った垂直磁気
記録媒体を提案している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、グラニュラー
構造では、連続膜よりも磁性粒子の体積含有率が低くな
る為、軟磁性材料の磁性粒子でグラニュラー構造の下地
膜を成膜する場合でも、垂直磁性膜に磁気信号を記録す
るに十分な飽和磁束密度Ｂｓを得るため、或る程度膜厚
を厚くすることが必要である。一般に、基板上に硬磁性
材料や軟磁性材料の磁性粒子のグラニュラー構造を持つ
下地膜を成膜する場合には、磁性粒子の粒成長を行なわ
せるために、基板に基板バイアスを印加しながら基板上
に下地膜の材料を物理蒸着させることにより行なう。

【０００７】しかしながら、この従来の方法では、膜厚
の厚い下地膜を成膜する場合に硬磁性材料や軟磁性材料
の磁性粒子が下地膜の垂直方向に柱状に成長してしまう
という不具合があった。磁性粒子が垂直方向に柱状の形
状となってしまうと、下地膜が垂直異方性を示すように
なり、この下地膜の垂直異方性が影響して、垂直磁性膜
に高密度に磁気信号を記録することができなくなる。

【０００８】そこで、本発明では、磁性粒子を球状の形
状に保った状態のグラニュラー構造を持つ下地膜を成膜
することを可能とし、これにより、低ノイズ且つ高密度
に磁気信号の記録が可能な垂直磁気記録媒体を製造可能
な垂直磁気記録媒体の製造方法、垂直磁気記録媒体、及
び、垂直磁気記録装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の垂直磁気記録媒
体の製造方法は、基板の上に非磁性母材中に磁性粒子が
分散したグラニュラー構造を持った下地膜層を成膜する
工程と、前記下地膜層の上に垂直磁性層を成膜する工程
と、前記垂直磁性層の上に保護膜層を成膜する工程とを
有し、前記下地膜層を成膜する工程は、前記基板に断続
的に基板バイアスを印加しながら前記下地膜層を成膜す
ることで、前記磁性粒子が前記下地膜層の垂直方向に複
数の列に並んだ層構造の下地膜層を成膜することを特徴
とする。

【００１０】また、本発明の垂直磁気記録媒体は、基板
と、前記基板上に形成された下地膜層と、前記下地膜層
上に形成された垂直磁性層と、前記垂直磁性層上に形成
された保護膜層を有する垂直磁気記録媒体において、前
記下地膜層は、非磁性母材中に磁性粒子が分散したグラ
ニュラー構造であり、且つ、前記磁性粒子が前記下地膜
層の垂直方向に複数の列に並んだ層構造であることを特
徴とする。

【００１１】また、本発明の垂直磁気記録再生装置は、
垂直磁気記録媒体と、前記垂直磁気記録媒体を支持及び
回転駆動するスピンドルモータと、前記垂直磁気記録媒
体への磁気信号の記録及び前記垂直磁気記録媒体に記録
された磁気信号の再生を行なう磁気ヘッドとを具備する
垂直磁気記録再生装置において、前記垂直磁気記録媒体
は、基板と、前記基板上に形成された下地膜層と、前記
下地膜層上に形成された垂直磁性層と、前記垂直磁性層
上に形成された保護膜層を有し、且つ、前記下地膜層
は、非磁性母材中に軟磁性材料の磁性粒子が分散したグ
ラニュラー構造であり、且つ、前記軟磁性材料の磁性粒
子が前記下地膜層の垂直方向に複数の列に並んだ層構造
であることを特徴とする。

【００１２】上記構成により、磁性粒子の形状を球状に
保った状態で膜厚の厚い下地膜を有する垂直磁気記録媒
体が実現可能であり、よって、低ノイズ且つ高密度記録
の垂直磁気記録媒体及び垂直磁気記録装置を提供するこ
とが可能である。

【００１３】

【発明の実施の形態】（垂直磁気記録媒体）以下、図面
を参照して本発明の実施の形態について説明する。

【００１４】先ず、本発明の製造方法にて製造される垂
直磁気記録媒体について説明する。図１は、本発明の製
造方法にて製造した垂直磁気記録媒体の断面構成図であ
る。本発明の垂直磁気記録媒体は、基板１、軟磁性下地
膜２、垂直磁性膜３、保護膜４を順次積層した構造を有
している。

【００１５】基板１の材料としては、ガラス、シリコ
ン、プラスチック、合成樹脂などを用いることができ
る。軟磁性下地膜２及び垂直磁性膜３を基板１上に成膜
する方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、ガス中ス
パッタ法、ガスフロースパッタ法等の物理蒸着法を用い
ることが可能である。軟磁性下地膜２の磁性材料として
は、少なくともＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉから選択された一種の
元素を包含する軟磁性材料、例えば、ＣｏＦｅ、ＮｉＦ
ｅ、ＣｏＺｒＮｂ等を用いることができる。軟磁性下地
膜２の非磁性母材としては、Ａｇ、Ｔｉ、Ｒｕ、Ｃ等の
非磁性金属やその化合物、又は、酸化物、窒化物、弗化
物、炭化物、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｓｉ３Ｎ４、
Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＣａＦ、ＴｉＣ等
を用いる。

【００１６】また、図２は、図１に示す垂直磁気記録媒
体において、軟磁性下地膜２、及び、垂直磁性膜３の領
域Ａで示される部分を模式的に示した図である。図２に
示されるように、垂直磁性膜３では、矢印で模式的に示
しているような垂直方向に磁気信号が記録されている。
そして垂直磁性膜３の下に設けられている軟磁性下地膜
２は、非磁性母材２ａ中に軟磁性材料の磁性粒子２ｂが
均一に分散したグラニュラー構造を有している。

【００１７】次に、図１の垂直磁気記録媒体の製造方法
について、以下に説明する。

【００１８】（第１の垂直磁気記録媒体の製造方法）第
１の垂直磁気記録媒体は、次のようにして製造する。す
なわち、２．５インチガラスの基板１上に、Ｃｏ８０Ｆ
ｅ２０とＴｉＮを成膜後の体積組成比が６０：４０とな
るよう調節したコンポジットターゲットを用い、対向静
止マグネトロンスパッタ法により、ＴｉＮを非磁性母材
２ａ、Ｃｏ８０Ｆｅ２０を磁性粒子２ｂとしたグラニュ
ラー構造の軟磁性下地膜２を成膜した。この軟磁性下地
膜２の成膜に際しては、最初、基板１に基板バイアス４
００［Ｗ］を印加しながら、Ａｒガス雰囲気中で、基板
１上にスパッタパワーを１０００［Ｗ］としてコンポジ
ットターゲットを２０［ｓｅｃ］スパッタして成膜し、
軟磁性材料の磁性粒子２ｂの最初の列が存在する軟磁性
下地膜２の下側部分（図２で、２点鎖線の下側）を成膜
する。その次に、基板１に基板バイアスを印加せずに５
［ｓｅｃ］スパッタして成膜する。引き続いて再度、基
板１に基板バイアス４００［Ｗ］を印加しながら２０
［ｓｅｃ］スパッタして成膜し、軟磁性材料の磁性粒子
２ｂの次の列が存在する軟磁性下地膜２の上側部分（図
２で、２点鎖線の上側）を成膜する。このようにして、
８０［ｎｍ］の軟磁性下地膜２を成膜する。

【００１９】成膜した軟磁性下地膜２の上に連続して、
ＣｏＰｔ２０Ｃｒ１６合金ターゲットを用いて、Ａｒガ
スに酸素を微量添加した混合ガス中で、ＣｏＰｔ２０Ｃ
ｒ１６の垂直磁性膜３を５０［ｎｍ］に成膜した。最後
に８［ｎｍ］のＣ保護膜４を成膜する。

【００２０】（第２の垂直磁気記録媒体の製造方法）第
１の垂直磁気記録媒体では、非磁性母材２ａにＴｉＮを
用いたのに対して、第２の垂直磁気記録媒体は、非磁性
母材２ａとして、絶縁材料であるＳｉＯ２を用いている
点が異なる。

【００２１】第２の垂直磁気記録媒体は次のようにして
製造する。すなわち、２．５インチガラスの基板１上
に、Ｃｏ８０Ｆｅ２０とＳｉＯ２の成膜後の体積組成比
が６０：４０となるよう調節したコンポジットターゲッ
トを用いて、対向静止マグネトロンスパッタ法でＳｉＯ
２を非磁性母材２ａ、Ｃｏ８０Ｆｅ２０を磁性粒子２ｂ
としたグラニュラー構造の軟磁性下地膜２を成膜する。
この軟磁性下地膜２の成膜に際しては、上述した第１の
製造方法と同じように、基板１への基板バイアスを２度
に分けて断続的に印加する。すなわち、最初、基板１に
基板バイアス４００［Ｗ］を印加しながら、Ａｒガス雰
囲気中で、基板１上にスパッタパワーを１０００［Ｗ］
としてコンポジットターゲットを２０［ｓｅｃ］スパッ
タして成膜し、その次に、基板１に基板バイアスを印加
せずに５［ｓｅｃ］スパッタして成膜し、引き続いて再
度、基板１に基板バイアス４００［Ｗ］を印加しながら
２０［ｓｅｃ］スパッタして成膜する。このようにし
て、８０［ｎｍ］の軟磁性下地膜２を成膜する。

【００２２】成膜した軟磁性下地膜２の上に連続して、
ＣｏＰｔ２０Ｃｒ１６合金ターゲットを用いて、Ａｒガ
スに酸素を微量添加した混合ガス中で、ＣｏＰｔ２０Ｃ
ｒ１６の垂直磁性膜３を５０［ｎｍ］に成膜する。最後
に８［ｎｍ］のＣ保護膜４を成膜する。

【００２３】また、第１及び第２の垂直磁気記録媒体と
磁気特性等を比較するための比較例として、軟磁性下地
膜の成膜時に、基板バイアスを印加せず成膜した垂直磁
気記録媒体を製造した。比較例の垂直磁気記録媒体は、
軟磁性下地膜の以外の層は、第１及び第２の垂直磁気記
録媒体と同じ方法で成膜したものである。

【００２４】（磁気特性の測定）次に、上記した製造方
法で製造した本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体
と比較例の垂直磁気記録媒体について、それぞれの軟磁
性下地膜の磁気特性を測定し、比較を行なった。磁気特
性の測定に際しては、本発明の第１及び第２の垂直磁気
記録媒体と比較例の垂直磁気記録媒体について、それぞ
れ軟磁性下地膜のみを上述した方法で成膜し、それをＶ
ＳＭ（Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ ＳａｍｐｌｅＭａｇｎｅｔ
ｏｍｅｔｅｒ）を用いて測定した。その磁気特性の測定
結果を図３に示す。保磁力Ｈｃについては、本発明の第
１の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜が８７［Ａ／
ｍ］、第２の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜が７９
［Ａ／ｍ］、比較例の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜
が４０［Ａ／ｍ］といずれも低く、また、透磁率μにつ
いてはいずれも１０００以上と高いことから、第１及び
第２の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜と比較例の垂直
磁気記録媒体の軟磁性下地膜はいずれも軟磁気特性を示
していることが分かる。

【００２５】しかし、Ｍｒ／Ｍｓの値について比較する
と、本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体の軟磁性
下地膜はそれそれ０．５２、０．６と値が低く、磁性粒
子がより磁化回転型に近い球状の形状となっていること
が考えられるが、一方、比較例の垂直磁気記録媒体の軟
磁性下地膜は０．８５と高く、磁性粒子が膜厚方向に伸
びた柱状の形状となっていると考えられる。

【００２６】更に、本発明の第１及び第２の垂直磁気記
録媒体の軟磁性下地膜はどちらも、図４に示すような、
残留磁化Ｍｒが小さく且つ磁化曲線の飽和磁化Ｍｓから
残留磁化Ｍｒへ至る部分がストーナー・ウォルファス型
（Ｓｔｏｎｅｒ・Ｗｏｈｌｆａｒｔｈ）の曲線的な変化
の磁気特性が測定されたことからも、本発明の第１及び
第２の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜はどちらも磁性
粒子が球状、或いは回転楕円体の形状になっている考え
られる。

【００２７】一方、比較例の軟磁性下地膜では、図５に
示すように、垂直異方性が見られる磁化曲線が得られる
ため、磁性粒子が柱状の形状となっていると考えられ
る。

【００２８】（膜構造の観測）更に、本発明の第１及び
第２の垂直磁気記録媒体び比較例の垂直磁気記録媒体の
それぞれの軟磁性下地膜について、膜内で軟磁性の磁性
粒子が均一に分散しているか、また、軟磁性の磁性粒子
が球状に成長しているか否かを確認するため、ＴＥＭ
（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐ
ｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてその膜構造を観察し
た。

【００２９】先ず、本発明の第１及び第２の垂直磁気記
録媒体の軟磁性下地膜について、平面方向（図２に示す
平面方向）の膜構造を観察したところ、どちらも非磁性
母材中に球状の軟磁性材料の磁性粒子が一様に分散して
いることが観察できた。また、その磁性粒子の粒径が約
１５〜２０［ｎｍ］となっており、軟磁性下地膜の成膜
時に基板バイアスを印加した効果により磁性粒子の粒成
長が促進され、その粒径が大きくなったと考えられる。

【００３０】次に、垂直方向（図２に示す垂直方向）の
膜構造の観察を行なったところ、本発明の第１及び第２
の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜は、どちらも磁性粒
子が球状、或いは回転楕円状で、且つ、図２に示すよう
に磁性粒子が垂直方向に２列に並んだ層構造をしている
ことが確認された。これは、軟磁性下地膜の成膜におい
て、基板バイアスの印加を途中で一旦中断しているめで
ある。すなわち、基板バイアスの印加を途中で一旦中断
することで、１段目の磁性材料の磁性粒子が柱状に成長
する前に粒成長を抑制し、その後再度基板バイアスの印
加を行なうことで、２段目の磁性材料の磁性粒子の粒成
長をさせるようにしているためである。

【００３１】このように、本発明の第１及び第２の垂直
磁気記録媒体では、軟磁性下地膜の成膜に際して、基板
に基板バイアスを２度に分けて断続的に印加すること
で、磁性粒子が断面方向に柱状に成長した形状とならず
断面方向に２列に並んだ層構造となり、且つ、磁性粒子
の凝集促進効果により磁性粒子の粒径を大きくすること
ができる。

【００３２】一方、比較例について膜構造の観察を行な
ったところ、平面方向の膜構造では、非磁性母材中に磁
性粒子が一様に分散しておりグラニュラー構造となって
いるものの、軟磁性下地膜層の成膜時に基板バイアスを
印加しなかったため磁性粒子の粒成長が促進されること
無くその粒径が約１０〜１３［ｎｍ］となり、本発明の
第１及び第２の垂直磁気記録媒体に比べ小さいことが確
認された。更に、垂直方向の膜構造は、図６に示すよう
な磁性粒子が垂直方向に柱状に成長した形状となってい
ることが確認された。

【００３３】（ノイズ特性の測定）次に、本発明の第１
及び第２の垂直磁気記録媒体び比較例の垂直磁気記録媒
体のそれぞれのノイズ特性を調べた。ノイズ測定に際し
ては、再生ギャップ長０．１５［μｍ］、再生トラック
幅０．８［μｍ］のＧＭＲヘッドと主磁極膜圧０．４
［μｍ］、記録トラック幅２［μｍ］の単磁極型ヘッド
を用いて、浮上量２０［ｎｍ］でスピンスタンドを用い
て測定した。

【００３４】先ず、本発明の第１及び第２の垂直磁気記
録媒体の軟磁性下地膜のみ（但し、保護膜は有り）につ
いて、そのＤＣノイズを測定した。その結果、どちらも
スパイクノイズは測定されないことから、軟磁性下地膜
には磁壁が存在していないことが確認された。

【００３５】次に、垂直磁気記録媒体の全体（軟磁性下
地膜のみではなく、基板から保護膜までの各膜が積層さ
れた状態のもの）に対して、垂直磁性膜に記録密度３０
０［ｋｆｃｉ］で記録した時の規格化媒体ノイズＮｍ／
ＳＯを測定した。その結果、どちらも、規格化媒体ノイ
ズＮｍ／ＳＯ＝０．０１５［μｍ１／２μＶｒｍｓ／μ
Ｖｐｐ］程度とその値は小さく、低ノイズ化されている
ことが分かる。

【００３６】一方、比較例の垂直磁気記録媒体について
軟磁性下地膜のみのＤＣノイズを測定した結果ではスパ
イクノイズは測定されず磁壁が存在していないことが確
認されたが、垂直磁気記録媒体の全体に対して規格化媒
体ノイズの測定結果では、その値がＮｍ／ＳＯ＝０．０
２２［μｍ１／２μＶｒｍｓ／μＶｐｐ］となり、第１
及び第２の垂直磁気記録媒体よりも大きい値となった。
これは、比較例では、軟磁性下地膜が磁性粒子の分散し
たグラニュラー構造となっていることから磁壁は存在し
ないものの、磁性粒子の形状が垂直方向に柱状に成長し
た形状であるため軟磁性下地膜に垂直異方性が現れたた
めと考えられる。

【００３７】なお、上述した第１及び第２の垂直磁気記
録媒体の製造方法では、軟磁性下地膜の成膜時に、２回
に分けて基板に基板バイアスを断続的に印加するように
しているが、これに限らず、軟磁性下地膜の膜厚を更に
厚くするため、又は、磁性粒子の列を増加させるため
に、３回以上に分けて基板バイアスを断続的に印加して
も良い。３回に分けて基板バイアスを断続的に印加した
場合は、軟磁性下地膜の垂直方向に球状の磁性粒子が３
列に並んだ層構造となる。４回以上の場合も、軟磁性下
地膜の垂直方向に球状の磁性粒子が基板バイアスの印加
回数に応じた列数分並んだ層構造となることが考えられ
る。

【００３８】このように、軟磁性下地膜の成膜時に基板
バイアスを複数回に分けて断続的に印加することで、磁
性粒子の形状を球状に保った状態で軟磁性下地膜の膜厚
を厚くすることが可能となり、従って、規格化媒体ノイ
ズＮｍ／ＳＯの値の小さい低ノイズの垂直磁気記録媒体
を実現することが可能である。

【００３９】（分解能の測定）次に、本発明の第１及び
第２の垂直磁気記録媒体について軟磁性下地膜における
非磁性母材の相違による高周波記録特性を比較するた
め、それぞれの垂直磁性膜に記録密度４００［ｋｆｃ
ｉ］で記録した時の分解能ＰＷ５０を測定した。その結
果、図３に示すように、第１の垂直磁気記録媒体の分解
能ＰＷ５０は約１２［ｎＳｅｃ］、第２の垂直磁気記録
媒体の分解能ＰＷ５０は約１０［ｎＳｅｃ］となった。
すなわち、第２の垂直磁気記録媒体の方が第１の垂直磁
気記録媒体よりも分解能ＰＷ５０が１割程度小さいこと
から、第２の垂直磁気記録媒体の方が高周波記録に優れ
ている。

【００４０】ここで、第１及び第２の垂直磁気記録媒体
の軟磁性下地膜の表面の電気抵抗率ρを四端子法で測定
したことろ、第１の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜は
電気抵抗率ρ＝〜５００［μΩｍ］、第２の垂直磁気記
録媒体の軟磁性下地膜は電気抵抗率ρ＝〜１０００［μ
Ωｍ］となり、第２の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜
の方が高電気抵抗であることを示した。すなわち、非磁
性母材としてＳｉＯ２等の高電気抵抗の材料を用いて軟
磁性下地膜を高抵抗にすることにより、軟磁性下地膜の
表面の渦電流の発生を低減でき、より高周波記録に優れ
た垂直磁気記録媒体を得ることが可能となる。

【００４１】（垂直磁気記録装置）次に、上述した垂直
磁気記録媒体を用いた垂直磁気記録装置の構成について
説明する。

【００４２】図７に本発明の垂直磁気記録装置の概観図
を示している。図７に示されるように、本発明の垂直磁
気記録装置は、上面の開口した矩形箱上の筐体２６と、
複数のねじにより筐体２６にねじ止めされる筐体の上端
開口を閉塞する図示しないトップカバーとを有してい
る。筐体２６内には、上述した第１又は第２の垂直磁気
記録媒体を用いた垂直磁気記録媒体２２、この垂直磁気
記録媒体２２を支持および回転させる駆動手段としての
スピンドルモータ２１、垂直磁気記録媒体２２への磁気
信号の記録及び垂直磁気記録媒体２２に記録された磁気
信号の再生を行なう磁気ヘッド２３、磁気ヘッド２３を
先端に搭載したサスペンションを有し且つ磁気ヘッド２
３を垂直磁気記録媒体２２に対して移動自在に支持する
ヘッドアクチュエータ２４、ヘッドアクチュエータ２４
を回転自在に支持する回転軸２８、回転軸２８を介して
ヘッドアクチュエータ２４を回動および位置決めするボ
イスコイルモータ２７、ヘッドアンプ回路２５が収納さ
れている。

【００４３】このように、垂直磁気記録媒体２２に、本
発明の第１又は第２の垂直磁気記録媒体を用いることに
より、低ノイズで且つ高密度記録が可能な垂直磁気記録
媒体を実現することが可能である。

【００４４】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、磁
性粒子の形状を球状に保った状態で膜厚の厚い下地膜を
有する垂直磁気記録媒体が実現可能であり、よって、低
ノイズ且つ高密度記録の垂直磁気記録媒体及び垂直磁気
記録装置を提供することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体の断
面構成を示す図。

【図２】本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体の垂
直磁性膜と軟磁性下地膜の部分拡大模式図。

【図３】本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体と比
較例の垂直磁気記録媒体との磁気特性表を示す図。

【図４】本発明の第１及び第２の垂直磁気記録媒体の軟
磁性下地膜の磁化曲線を示す図。

【図５】比較例の垂直磁気記録媒体の軟磁性下地膜の磁
化曲線を示す図。

【図６】比較例の垂直磁気記録媒体の垂直磁性膜と軟磁
性下地膜の部分拡大模式図。

【図７】本発明の垂直磁気記録装置の一例を示す図。

【符号の説明】

１…基板 ２…軟磁性下地膜 ２ａ…非磁性母材 ２ｂ…軟磁性材料の磁性粒子 ３…垂直磁性膜 ４…保護膜 １１…軟磁性下地膜 １１ａ…非磁性母材 １１ｂ…軟磁性材料の磁性粒子 １２…垂直磁性膜 ２１…スピンドルモータ ２２…垂直磁気記録媒体 ２３…磁気ヘッド ２４…ヘッドアクチュエータ ２５…ヘッドアンプ回路 ２６…筐体 ２７…ボイスコイルモータ ２８…回転軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K029 BA24 BA64 BB02 BB07 BC06 BD11 CA05 CA13 5D006 CA01 CA03 CA05 5D112 AA03 BD01 BD03 FA04 FB26

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の上に非磁性母材中に磁性粒子が分
   散したグラニュラー構造を持った下地膜層を成膜する工
   程と、 前記下地膜層の上に垂直磁性層を成膜する工程と、 前記垂直磁性層の上に保護膜層を成膜する工程とを有
   し、 前記下地膜層を成膜する工程は、前記基板に断続的に基
   板バイアスを印加しながら前記下地膜層を成膜すること
   で、前記磁性粒子が前記下地膜層の垂直方向に複数の列
   に並んだ層構造の下地膜層を成膜することを特徴とする
   垂直磁気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記下地膜層を成膜する工程は、前記非
   磁性母材として、非磁性金属、当該非磁性金属の化合
   物、酸化物、窒化物、弗化物、炭化物の中から選ばれる
   材料を用いたことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気
   記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記下地膜層を成膜する工程は、前記磁
   性粒子として、少なくともＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉから選択さ
   れた一種を含んだ軟磁性材料を用いたことを特徴とする
   請求項１又は２記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 基板と、前記基板上に形成された下地膜
   層と、前記下地膜層上に形成された垂直磁性層と、前記
   垂直磁性層上に形成された保護膜層を有する垂直磁気記
   録媒体において、 前記下地膜層は、非磁性母材中に磁性粒子が分散したグ
   ラニュラー構造であり、且つ、前記磁性粒子が前記下地
   膜層の垂直方向に複数の列に並んだ層構造であることを
   特徴とする垂直磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記下地膜層の非磁性母材として、非磁
   性金属、当該非磁性金属の化合物、酸化物、窒化物、弗
   化物、炭化物の中から選ばれる材料を用いたことを特徴
   とする請求項４記載の垂直磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記下地膜層の前記磁性粒子として、少
   なくともＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉから選択された一種を含んだ
   軟磁性材料を用いたことを特徴とする請求項４又は５記
   載の垂直磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 垂直磁気記録媒体と、前記垂直磁気記録
   媒体を支持及び回転駆動するスピンドルモータと、前記
   垂直磁気記録媒体への磁気信号の記録及び前記垂直磁気
   記録媒体に記録された磁気信号の再生を行なう磁気ヘッ
   ドとを具備する垂直磁気記録再生装置において、 前記垂直磁気記録媒体は、基板と、前記基板上に形成さ
   れた下地膜層と、前記下地膜層上に形成された垂直磁性
   層と、前記垂直磁性層上に形成された保護膜層を有し、
   且つ、前記下地膜層は、非磁性母材中に軟磁性材料の磁
   性粒子が分散したグラニュラー構造であり、且つ、前記
   軟磁性材料の磁性粒子が前記下地膜層の垂直方向に複数
   の列に並んだ層構造であることを特徴とする垂直磁気記
   録再生装置。