JP2002063713A - 記録媒体用基板及びそれを用いた記録媒体、並びにそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 近接する膜に対する強い密着性を示し、低温
環境下においても優れた信頼性を有する。 【解決手段】 樹脂材料からなる記録媒体用基板であっ
て、上記記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当
該水の接触角が３０°以下となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は樹脂材料からなる記
録媒体用基板及びそれを用いた記録媒体、並びにそれら
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータの記憶装置として、従来よ
りハードディスクドライブが用いられている。このハー
ドディスクドライブは、表面が高精度に研磨されたアル
ミニウム或いはガラス等からなる基板上に信号記録層が
形成されてなる磁気ディスクを記録媒体として用い、こ
の磁気ディスクの信号記録領域上に、磁気ヘッドを搭載
した浮上スライダを所定の浮上量で浮上させて、信号の
書き込み及び／又は読み出しを行うようにしている。

【０００３】ハードディスクドライブは、その記憶容量
及び高速なデータ転送速度からコンピュータの記憶装置
としてのみならず、家庭用ＶＴＲ等の代替としてＡＶ市
場での普及が見込まれている。このようなハードディス
クドライブの普及を促進するためにはハードディスクド
ライブの低価格化が必要であり、したがって、ハードデ
ィスクドライブに搭載される磁気ディスクの低価格化に
対する要求が強まっている。

【０００４】このような要求に応えるために、磁気ディ
スク用の基板として、従来のアルミニウム基板より低コ
ストでの製造が可能な樹脂製の基板が注目されている。

【０００５】ハードディスクドライブでは、磁気ヘッド
を搭載したスライダが磁気ディスクの表面上を５０ｎｍ
程度にて浮上して信号の書き込み及び／又は読み出しを
行うため、磁気ディスクの表面に存在する高さ５０ｎｍ
以上の突起は、ヘッドクラッシュの原因となる。したが
って、磁気ディスクは、表面に存在する突起の高さが５
０ｎｍ未満とされるような厳しい表面平滑性が要求され
る。

【０００６】アルミニウム基板では、以下のような方法
により５０ｎｍ以上の高さを有する突起が除去され、平
滑なディスク表面を得ている。先ず、アルミニウムから
なる母材から基板形状のアルミニウムを切り出す。次に
この切り出したアルミニウム基板に対して高精度な研磨
を施す。すなわち、この研磨工程によってヘッドクラッ
シュの原因となる高さ５０ｎｍ以上の突起をアルミニウ
ム基板の表面から除去する。具体的には、アルミニウム
基板の表面に高い表面平滑性を付与するために、アルミ
ニウム基板に対する研磨と洗浄とを繰り返すとともに、
研磨を繰り返す毎に研磨に用いる砥粒の粒径を小さくす
ることによって、最終的に高さ５０ｎｍ以上の突起を皆
無とする。

【０００７】それに対して、樹脂製の基板では、樹脂材
料を射出成形することによって作製され、基板表面の粗
さは射出成形に用いられるスタンパ表面の粗さに対応す
る。したがって、高精度に平滑化されたスタンパを用い
ることで表面粗さの小さい、すなわち高さ５０ｎｍ以上
の突起を有しない優れた表面平滑性を有する基板を、研
磨・洗浄工程を必要とすることなく製造できる。このよ
うに、磁気ディスクの基板材料として樹脂を用いること
によって製造工程の削減が可能となり、低コスト化が図
られる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、樹脂材
料からなる基板は、磁気ディスクとして用いられるため
にその上に信号記録層等の何らかの層を成膜した場合、
アルミニウムからなる基板を用いた場合と比較して、信
号記録層等に対する密着性が劣るという問題を有してい
る。その結果、樹脂材料からなる基板は、磁気ディスク
の表面に浮腫が発生するといった不都合が生じる。

【０００９】例えば、樹脂材料からなる基板上に信号記
録層等を成膜してなる磁気ディスクを−４０℃の低温環
境下にて長時間保存した場合、磁気ディスクの表面に多
数の微少な浮腫の発生が確認される。このように、たと
え射出成形直後の基板の表面平滑性が優れていたとして
も、浮腫が発生することにより磁気ディスクの表面平滑
性が著しく劣化し、ヘッドクラッシュの原因やエラーの
増加の原因となり、信頼性の低下を引き起こしてしま
う。

【００１０】浮腫が発生する原因としては、樹脂材料か
らなる基板に含まれる水分、又は成膜後に信号記録膜等
から基板と信号記録膜等との界面に侵入した水蒸気が、
冷却されて凝固する際にその体積を膨張させ、結果とし
て信号記録膜等を押し上げることが考えられる。

【００１１】一般に、基板に対する信号記録層等の密着
性を向上させる方法として、信号記録層等の成膜時に基
板の温度を高めることによって基板と信号記録層等との
間で拡散を起こさせる方法が挙げられる。しかしなが
ら、樹脂材料からなる基板は軟化点が低く、室温程度で
の信号記録層等の成膜が前提となるため、前記のような
基板温度を高めての信号記録層等の成膜を採用すること
は実際上困難である。

【００１２】そこで本発明はこのような従来の実状に鑑
みて提案されたものであり、近接する膜に対する強い密
着性を示し、低温環境下においても優れた信頼性を有す
る基板及び記録媒体、並びにそれらの製造方法を提供す
ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、記録媒体用基
板の表面エネルギーを大とすることによって、記録媒体
用基板と信号記録層等との密着性が向上するとの知見を
得るに至った。

【００１４】本発明に係る記録媒体用基板はこのような
知見に基づいて完成されたものであって、樹脂材料から
なる記録媒体用基板であって、上記記録媒体用基板の表
面に水を滴下したとき、当該水の接触角が３０°以下と
なることを特徴とする。

【００１５】以上のように構成された記録媒体用基板で
は、記録媒体用基板表面に水を滴下したときの水の接触
角が３０°以下とされている。このことは、記録媒体用
基板の表面エネルギーが相対的に大きいことを示してい
る。したがって、記録媒体用基板はその上に形成される
信号記録層等に対して強い密着性を示す。

【００１６】また、本発明に係る記録媒体は、樹脂材料
からなる記録媒体用基板と、上記記録媒体用基板上に形
成された信号記録層とを備える記録媒体であって、上記
記録媒体用基板は、表面に水を滴下したとき、当該水の
接触角が３０°以下となることを特徴とする。

【００１７】以上のように構成された記録媒体では、水
を滴下したときの水の接触角が３０°以下とされている
記録媒体用基板を用いている。このことは、記録媒体用
基板の表面エネルギーが相対的に大きいことを示してい
る。したがって、記録媒体は、記録媒体用基板と信号記
録層との密着性に優れたものとなる。

【００１８】また、本発明に係る記録媒体用基板の製造
方法は、樹脂材料を成形して成形体とする第１の工程
と、記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水
の接触角が３０°以下となるように、上記成形体の表面
に対して活性化処理を施す第２の工程とを有することを
特徴とする。

【００１９】以上のような記録媒体用基板の製造方法で
は、成形体表面に活性化処理を施すため、記録媒体用基
板の表面エネルギーが大とされる。したがって、その上
に形成される信号記録層等に対して強い密着性を示す記
録媒体用基板を製造できる。

【００２０】また、本発明に係る記録媒体の製造方法
は、樹脂材料からなる記録媒体用基板と、上記記録媒体
用基板上に形成された信号記録層とを備える記録媒体の
製造方法であって、上記記録媒体用基板を製造するに際
し、樹脂材料を成形して成形体とする第１の工程と、上
記記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水の
接触角が３０°以下となるように、上記成形体の表面に
対して活性化処理を施す第２の工程とを有することを特
徴とする。

【００２１】以上のような記録媒体の製造方法では、表
面に活性化処理が施され、記録媒体用基板の表面エネル
ギーが大とされた記録媒体用基板を用いている。したが
って、記録媒体用基板と信号記録層との密着性に優れた
記録媒体を製造できる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる記録媒体用
基板及び記録媒体、並びにそれらの製造方法の具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。

【００２３】なお、以下の説明で用いる図面は、各部の
特徴をわかりやすく図示するために特徴となる部分を拡
大して示している場合があり、各部材の寸法の比率が実
際と同じであるとは限らない。

【００２４】また、以下では、記録媒体を構成する各層
の構成や材料等について例示するが、本発明は例示する
記録媒体に限定されるものではなく、所望とする目的や
性能に応じて各層の構成や材料等を選択すればよい。

【００２５】本実施の形態に係る記録媒体用基板は、樹
脂材料からなるものである。詳細は後述するが、樹脂材
料からなる記録媒体用基板は、研磨、洗浄等の煩雑な工
程を必要とすることなく良好な表面平滑性を容易に得る
ことができる。そして、当該記録媒体用基板は、記録媒
体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水の接触角が
３０°以下とされている。

【００２６】ここで、水の接触角２θとは、記録媒体用
基板の表面エネルギーの大小を表す指標の１つとなるも
のである。具体的には、図１に示すように、空気中にあ
る記録媒体用基板１の表面に水２を滴下したとき、固体
（記録媒体用基板１）・液体（水２）・気体（空気）の
３相の接触点Ａと滴下された水２の頂点Ｂとを結んだ線
と、記録媒体用基板１表面とのなす角のうち、滴下され
た水２側の角をθとし、当該θを２倍した角度２θを、
水の接触角として定義することとする。

【００２７】上記のように、水の接触角が３０°以下と
されるということは、記録媒体用基板１表面の水に対す
るぬれ性が良好であることを示す。言い換えると、水の
接触角が３０°以下とされるということは、記録媒体用
基板１の表面エネルギーが相対的に大であることを示
す。固体表面と液体とがぬれやすいと言うことは、すな
わち、当該固体と液体との接触状態が良好であることを
示す。

【００２８】上記のような水の接触角が３０°以下とさ
れている記録媒体用基板１は、記録媒体用基板１の表面
エネルギーが大であるため、例えば磁気記録媒体等の記
録媒体用基板として用いられる際に、その上に形成され
る信号記録層等の膜に対して強い密着性を示す。一方、
水の接触角が３０°を上回る場合には、記録媒体用基板
１の表面エネルギーが小さいことを表し、その上に形成
される信号記録層等の膜に対する密着性が劣ってしま
う。

【００２９】また、記録媒体用基板１の表面平均粗さは
２ｎｍ以下とされ、最大突起高さが２５ｎｍ以下とされ
ることが好ましい。記録媒体用基板１の表面平滑性を上
記のように良好とすることにより、例えば磁気記録媒体
用の記録媒体用基板１として用いられた際に、磁気記録
媒体と磁気ヘッドとの間の間隙が極めて小とされた場合
であっても、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触・衝突
が防止され、記録再生が安定して行われる。

【００３０】なお、記録媒体用基板１に用いられる具体
的な材料としては、アモルファスポリオレフィン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネート等が挙げら
れ、特にアモルファスポリオレフィンを用いることが好
ましい。

【００３１】以上のような構成の記録媒体用基板は、表
面に水を滴下されたとき、当該水の接触角が３０℃以下
とされている。言い換えると、記録媒体用基板は表面エ
ネルギーが大とされているため、例えば記録媒体用基板
上に信号記録層等を形成されて記録媒体として用いられ
たとき、信号記録層等に対して強い密着性を示し、優れ
た信頼性を有する。

【００３２】そして、上記のような表面エネルギーの大
きい記録媒体用基板１は、例えば図２に示すような、中
心孔を有する円盤状の磁気記録媒体３の記録媒体用基板
として用いられる。

【００３３】磁気記録媒体３は、図３に示すように、記
録媒体用基板１と、信号記録層である磁性層４とを有し
ている。また、図３に示すように、磁気記録媒体３には
所望により記録媒体用基板１上に形成された下地層５、
下地層５と磁性層４との間に形成された中間層６、磁性
層４上に形成された保護層７等が形成されていても構わ
ない。

【００３４】信号記録層である磁性層４を構成する材料
としては、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ合金等、従来公知の
磁性層用合金を用いることが可能である。

【００３５】下地層５は、例えばＣｒ、Ｃｒ−Ｗ合金等
を用いることができる。記録媒体用基板１上に下地層５
を成膜することにより、磁性層４の表面平滑性を良好な
ものとすることができる。

【００３６】中間層６は、例えばＣｏ−Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔ
ｉ−Ｃｒを用いることができる。磁性層４の下に中間層
６を形成することにより、磁性層４の結晶配向を良好な
ものとし、磁気特性を向上させることができる。

【００３７】また、保護層７上に、潤滑剤を含有する潤
滑剤層を形成することも可能である。保護層７上に潤滑
剤層を形成することにより、磁気記録媒体３の表面の摩
擦係数を低減し、磁気記録媒体３の走行性や耐久性を向
上させることができる。

【００３８】上記のように、磁気記録媒体３は、記録媒
体用基板１として、表面に水を滴下したとき、当該水の
接触角が３０°以下となる記録媒体用基板、すなわち表
面エネルギーが大とされた記録媒体用基板を用いている
ため、記録媒体用基板１と記録媒体用基板１上に形成さ
れる層、例えば下地層５との密着性が非常に強固なもの
となる。したがって、本実施の形態を適用した磁気記録
媒体３は、記録媒体用基板１と下地層５との密着性が強
いため、記録媒体用基板１と下地層５との界面に存在す
る水蒸気が冷却されて凝固する際にその体積を膨張させ
ることに起因する浮腫等の発生が抑制され、優れた信頼
性を有する。

【００３９】以下、上記のような構成の記録媒体用基板
１及び磁気記録媒体３の製造方法について説明する。

【００４０】まず、図４に示すような射出成形装置２０
を用いて、射出成形法により樹脂材料を成形し、成形体
を作製する方法について説明する。

【００４１】射出成形装置２０は、ディスク基板の一方
の主面を形成する固定金型２１ａと、この固定金型２１
ａと相対向して配置されてディスク基板の他方の主面を
形成する可動金型２１ｂと、ディスク基板の外周側面を
形成する外周金型２２とを備える。

【００４２】可動金型２１ｂは、図示しないガイド手段
に支持されて、駆動機構によって固定金型２１ａに対し
て接離動作する。

【００４３】外周金型２２は、固定金型２１ａを射出成
形装置２０内に固定する固定側外周金型２２ａと、可動
金型２１ｂを射出成形装置２０内に固定する可動側外周
金型２２ｂとを備える。この外周金型２２によって成形
される成形体の外周側面が形成される。

【００４４】そして、これら固定金型２１ａ、可動金型
２１ｂ及び外周金型２２は、型締め状態において協動し
て成形体を形成するキャビティ２３を形成する。

【００４５】固定金型２１ａ側には、成形体を成形する
キャビティ２３の中心に位置して、溶融された合成樹脂
材料をキャビティ２３内に射出充填させるノズル２４を
有するスプルブッシュ２５が配設されている。そして、
溶融された合成樹脂材料は、このノズル２４を介してキ
ャビティ２３内に高圧で射出充填される。

【００４６】一方、可動金型２１ｂ側には、キャビティ
２３の中心に対応する位置に設けられた第１のイジェク
ト部材２６が軸方向に移動自在に配設されている。第１
のイジェクト部材２６は、成形される成形体の内周側の
情報信号が記録されない領域に対応した外径寸法を有す
る筒状を呈して形成される。

【００４７】そして、この第１のイジェクト部材２６
は、成形体の離型動作に際して図示しない駆動手段によ
ってキャビティ２３内へと突き出されて成形された成形
体を可動金型２１ｂから突き出して離型させる。

【００４８】この第１のイジェクト部材２６には、その
内周側に成形される成形体の中心穴を穿設するパンチ２
７が取り付けられている。このパンチ２７は、第１のイ
ジェクト部材２６と同様の軸方向に図示しない駆動機構
により移動される。そして、このパンチ２７は、この駆
動機構によってキャビティ２３内へと突出動作されて成
形体の中央切断領域部に中心穴を形成する。

【００４９】また、このパンチ２７の内周側には、第２
のイジェクト部材２８が油圧機構により進退自在に取り
付けられている。そして、この第２のイジェクト部材２
８は、そのキャビティ２３側の端面が樹脂留２８ａを構
成する。この第２のイジェクト部材２８は、上記第１の
イジェクト部材２６と同様に、軸方向に移動自在に配設
されている。したがって、ノズル２４の射出口から射出
充填された合成樹脂材料は、樹脂留２８ａの底面部に向
かって射出され、キャビティ２３内に均一に充填され
る。そして、この第２のイジェクト部材２８は、パンチ
２７により成形体の中心穴が穿設されたのち、その切断
部分の合成樹脂材料を可動金型１２ｂから突き出して離
型させる。

【００５０】以上のように構成された射出成形装置２０
では、先ず、図示しない駆動機構が動作されることによ
って、固定金型２１ａに対して可動金型２１ｂが接近動
作して型締め状態とされて周囲が閉塞されたキャビティ
２３が構成される。次に、キャビティ２３には、この型
締め状態において、スプルブッシュ２５のノズル２４か
ら溶融された合成樹脂材料が射出充填される。そして、
この射出成形装置２０に設けられた図示しない温度調節
機構により合成樹脂材料が半溶融状態に冷却された状態
において、第１のイジェクト部材２６の中心穴からパン
チ２７が固定金型２１ａ方向へと突出動作され、成形さ
れる成形体のセンタ穴を形成する。

【００５１】この後、射出成形装置２０において、射出
充填された合成樹脂材料が図示しない温度調節機構によ
り冷却、硬化される。

【００５２】そして、この射出成形装置２０では、図示
しない駆動機構が動作して可動金型２１ｂが固定金型２
１ａに対して離間動作されることによって、型開き動作
が行われる。最終的に、キャビティ２３内で成形された
状態の成形体は、固定金型２１ａと可動金型２１ｂとの
型開き動作が行われた状態で動作する第１のイジェクト
部材２６によって、可動金型２１ｂ側から突き出された
図示しない成形体取り出し機構によって取り出される。

【００５３】このとき、固定金型２１ａ及び可動金型２
１ｂに、高精度に平滑化されたスタンパを取り付けるこ
とにより、当該スタンパの表面平滑性に対応した優れた
表面平滑性を有する成形体を得られる。しかし、特開平
１０−２３５６５６号公報に開示されているように、固
定金型及び可動金型のキャビティを構成する面に緻密な
金属膜を被着させ、当該金属膜表面に研磨等を施すこと
により、高精度に平滑化された固定金型及び可動金型を
用いることが好ましい。これにより、スタンパの使用
や、成形体表面の研磨、洗浄等の煩雑な工程を経ること
なく、歪みや面うねり等が抑制され、優れた表面平滑性
を有する成形体を得ることができる。

【００５４】つぎに、記録媒体用基板１の表面に水を滴
下したときに当該水の接触角が３０°以下とされるよう
に、所定の形状に成形された成形体の表面に対して活性
化処理を施し、記録媒体用基板１とする。成形体の表面
に対して活性化処理を施すことによって、記録媒体用基
板１の表面エネルギーが相対的に大とされる。なお、活
性化処理、すなわち記録媒体用基板１の表面エネルギー
を大とする方法としては、特にプラズマ処理を用いるこ
とが好ましい。

【００５５】プラズマ処理は、例えば図５に示すような
プラズマ処理装置５０を用いて行うことができる。この
プラズマ処理装置５０は、チャンバ５１と、チャンバ５
１内部を高真空に保つ真空排気装置５２と、不活性ガス
をチャンバ５１内部に導入するガス導入孔５３と、プラ
ズマ処理装置５０に対して高周波電力を印加する高周波
電源５４と、高周波電源５４より回路を通じて電力が供
給される電極５５ａ，５５ｂとを備えている。

【００５６】上記のようなプラズマ処理装置５０で成形
体の表面にプラズマ処理を施す際には、先ず、プラズマ
処理装置５０のチャンバ５１内部に成形体を配置する。
次に、真空排気装置５２がチャンバ５１内部を排気し
て、高真空状態に保持する。次に、ガス導入孔５３から
Ａｒガス等の不活性ガスをチャンバ５１内部に導入し、
所定のガス圧とする。そして、高周波電源５４が所定の
高周波電力を電極５５ａ，５５ｂ間に印加し、プラズマ
を発生させる。これにより、電極５５ａ，５５ｂ間に配
置された成形体の表面に対してイオン照射が行われ、記
録媒体用基板１が得られる。

【００５７】なお、成形体の表面に施す活性化処理とし
てはプラズマ処理に限定されず、水の接触角が３０°以
下とされるのであれば、いかなる方法を用いることも可
能である。具体的な活性化処理としては、紫外線照射処
理、イオン照射処理等の物理的処理、薬品処理、溶剤処
理等の化学的処理等が挙げられる。

【００５８】以上のようにして作製される記録媒体用基
板１は、活性化処理を施されることによって表面に水を
滴下したとき、当該水の接触角が３０°以下とされる。
したがって、例えば記録媒体用基板１上に信号記録層等
を形成されたとき、信号記録層等に対して強い密着性を
示し、優れた信頼性を有する記録媒体用基板１を、煩雑
な工程を経ることなく容易に作製することができる。

【００５９】以上のようにして得られた記録媒体用基板
１に対して、磁性層４を含む積層膜を、スパッタリング
法等により順次成膜する。

【００６０】具体的には、記録媒体用基板１上に、下地
層５をスパッタリング法等により成膜する。下地層５を
成膜するに際して用いられるターゲットの材料として
は、例えばＣｒ、Ｃｒ−Ｗ合金等を用いることができ
る。

【００６１】次に、記録媒体用基板１上に形成された下
地層５上に、中間層６をスパッタリング法等により成膜
する。中間層６を成膜するに際して用いられるターゲッ
トの材料としては、例えばＣｏ−Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｃ
ｒを用いることができる。

【００６２】次に、中間層６上に磁性層４をスパッタリ
ング法等により成膜する。磁性層４を成膜するに際して
用いられるターゲットの材料としては、例えばＣｏＰ
ｔ、ＣｏＰｔＣｒ合金等、従来公知の磁性層用合金を用
いることができる。

【００６３】次に、磁性層４上に保護層７をスパッタリ
ング法等により成膜する。保護層７を成膜するに際して
用いられるターゲットの材料としては、Ｃ等を用いるこ
とができる。以上のようにして、記録媒体用基板１上に
磁性層４を含む積層膜が形成されてなる磁気記録媒体３
が得られる。

【００６４】上述のように製造される磁気記録媒体は、
成形体の表面に活性化処理が施されているため、記録媒
体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水の接触角が
３０°以下とされている。すなわち、記録媒体用基板の
表面エネルギーが大とされているため、記録媒体用基板
と、記録媒体用基板上に形成される磁性層を含む積層膜
との密着性が極めて良好となる。したがって、低温環境
下での保存等の過酷な条件下においても、浮腫等の異常
が発生しない、優れた信頼性を有する磁気記録媒体を製
造することができる。

【００６５】なお、上述の説明では、記録媒体として、
記録媒体用基板上に下地層、中間層、磁性層及び保護層
が順次形成されてなる構成の磁気記録媒体を例に挙げた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、記録媒体
用基板上に信号の記録及び／又は再生にかかわる層が形
成されていれば、いかなる構成であっても構わない。

【００６６】また、上述の説明では、記録媒体として記
録媒体用基板上に磁性層を含む積層膜が形成されてなる
磁気記録媒体を例に挙げたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、記録媒体用基板上に例えば相変化材料
からなる信号記録層が形成されてなる光記録媒体、有機
色素材料を用いた信号記録層が形成されてなる光記録媒
体、光磁気記録方式を採用した光磁気記録媒体等、いか
なる記録媒体であっても構わない。

【００６７】また、上述の説明では、樹脂材料を成形す
る方法として射出成形法を例に挙げたが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、いかなる方法を用いること
も可能である。

【００６８】

【実施例】以下、本発明を適用した記録媒体として、磁
気記録媒体を実際に作製し、低温環境下にて保存した結
果について説明する。

【００６９】実施例１ 先ず、図４に示すような金型装置を用いて、射出成形法
により樹脂材料を成形し、成形体を作製した。なお、成
形体の形状は、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．
２７ｍｍのディスク状とした。

【００７０】次に、図５に示すようなプラズマ処理装置
を用いて、成形体の表面に対してプラズマ処理を施し
た。先ず、プラズマ処理装置のチャンバー内に成形体を
配置し、チャンバー内を真空排気装置により５×１０^-5
Ｐａ程度以下に排気した。次に、Ａｒガスをガス導入孔
よりチャンバー内に導入してＡｒガス圧を１４Ｐａとし
た。次に、高周波電源により電極間に周波数１３．５６
ＭＨｚの高周波電力を投入電力０．４ｋＷにて印加し、
処理時間５秒として成形体の表面にイオン照射を行い、
表面が活性化された記録媒体用基板を得た。

【００７１】次に、プラズマ処理が施された記録媒体用
基板上に、Ｃｒ−Ｗ合金からなる下地層、ＣｏＣｒから
なる中間層、ＣｏＣｒＰｔからなる磁性層、Ｃからなる
保護層とを順次スパッタリング法により形成した。

【００７２】次に、保護層上にディッピング法により潤
滑剤を塗布して潤滑剤層を形成し、磁気ディスクを得
た。

【００７３】実施例２ 成形体の表面にプラズマ処理を施すに際して、プラズマ
処理装置の投入電力を０．３ｋＷとしたこと以外は実施
例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【００７４】比較例１ 成形体の表面にプラズマ処理を施すに際して、プラズマ
処理装置の投入電力を０．２ｋＷとしたこと以外は実施
例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【００７５】比較例２ 成形体の表面にプラズマ処理を施すに際して、プラズマ
処理装置の投入電力を０．１ｋＷとしたこと以外は実施
例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【００７６】比較例３ 成形体の表面にプラズマ処理を施さず、射出成形直後の
成形体に対して下地層、中間層、磁性層、保護層及び潤
滑剤層を順次形成したこと以外は実施例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００７７】以上の実施例１及び実施例２、並びに比較
例１〜比較例３の磁気ディスクを作製するに際し、記録
媒体用基板上に磁性層等の積層膜を形成する前に、記録
媒体用基板の表面に水を滴下し、当該水の接触角を測定
した。水の接触角の測定結果を、図６に示す。

【００７８】また、以上のようにして作製された実施例
１及び実施例２、並びに比較例１〜比較例３の磁気ディ
スクを、−４０℃の環境下に１３時間放置した。放置後
の磁気ディスクの表面を光学顕微鏡によって観察し、浮
腫の発生状況を確認した。図６中、磁気ディスクの表面
に浮腫が発生したものを黒丸（●）で表し、磁気ディス
クの表面に浮腫が発生しなかったものを白丸（○）で表
した。

【００７９】図６の結果から明らかなように、水の接触
角が２４°である実施例１及び水の接触角が２９．５°
である実施例２は、低温環境下での保存後にも磁気ディ
スクの表面における浮腫の発生が全く見られなかった。

【００８０】一方、水の接触角が３３°である比較例
１、４３°である比較例２及び１００°である比較例３
では、磁気ディスク表面の内周側及び外周側にわずかに
浮腫の発生が見られた。

【００８１】以上の結果から明らかなように、記録媒体
用基板の表面に水を滴下し、当該水の接触角が３０°以
下となる記録媒体用基板は、磁性層を含む積層膜に対す
る強い密着性が確保されることがわかった。したがっ
て、記録媒体用基板の表面に水を滴下し、当該水の接触
角が３０°以下とされるように成形体の表面に活性化処
理を施すことによって、低温環境下での保存後の浮腫の
発生が防止され、優れた信頼性を有することがわかっ
た。

【００８２】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明を適用した記録媒体用基板は、表面エネルギーが相対
的に大とされている。したがって、本発明によれば、記
録媒体用基板上に形成される信号記録層等に対して強い
密着性を示す記録媒体用基板を提供することが可能であ
る。

【００８３】また、本発明を適用した記録媒体は、表面
エネルギーが相対的に大とされている記録媒体用基板を
用いている。したがって、記録媒体用基板と信号記録層
等との強い密着性が確保され、優れた信頼性を示す記録
媒体を提供することが可能である。

【００８４】また、本発明を適用した記録媒体用基板の
製造方法は、成形体表面に活性化処理を施すため、記録
媒体用基板の表面エネルギーが大とされる。したがっ
て、本発明によれば、記録媒体用基板上に形成される信
号記録層等に対して強い密着性を示す記録媒体用基板を
製造することが可能である。

【００８５】また、本発明を適用した記録媒体の製造方
法は、表面に活性化処理が施され、表面エネルギーが大
とされた記録媒体用基板を用いている。したがって、本
発明によれば、記録媒体用基板と信号記録層等との強い
密着性が確保され、優れた信頼性を示す記録媒体を製造
することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】記録媒体用基板表面に水を滴下したときの、当
該水の接触角を説明するための側面図である。

【図２】本実施の形態を適用した磁気記録媒体の斜視図
である。

【図３】本実施の形態を適用した磁気記録媒体の要部概
略断面図である。

【図４】記録媒体用基板を作製する際に用いられる金型
装置の要部断面図である。

【図５】記録媒体用基板の表面に活性化処理を施す際に
用いられるプラズマ処理装置の模式図である。

【図６】プラズマ処理装置の投入電力と、水の接触角
と、磁気ディスク表面の浮腫の発生状況との相関を示す
図である。

【符号の説明】

１ 記録媒体用基板、２ 水、３ 磁気記録媒体、４
磁性層、５ 下地層、６中間層、７ 保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芳賀 進 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 4F073 AA01 BA06 BA18 BA26 BB01 CA01 5D006 CB01 CB07 5D112 AA02 BA01 BA09 GA22

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 樹脂材料からなる記録媒体用基板であっ
   て、 上記記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水
   の接触角が３０°以下となることを特徴とする記録媒体
   用基板。
2. 【請求項２】 上記樹脂材料は、アモルファスポリオレ
   フィンであることを特徴とする請求項１記載の記録媒体
   用基板。
3. 【請求項３】 樹脂材料からなる記録媒体用基板と、 上記記録媒体用基板上に形成された信号記録層とを備え
   る記録媒体であって、 上記記録媒体用基板は、表面に水を滴下したとき、当該
   水の接触角が３０°以下となることを特徴とする記録媒
   体。
4. 【請求項４】 上記樹脂材料は、アモルファスポリオレ
   フィンであることを特徴とする請求項３記載の記録媒
   体。
5. 【請求項５】 樹脂材料を成形して成形体とする第１の
   工程と、 記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水の接
   触角が３０°以下となるように、上記成形体の表面に対
   して活性化処理を施す第２の工程とを有することを特徴
   とする記録媒体用基板の製造方法。
6. 【請求項６】 上記樹脂材料は、アモルファスポリオレ
   フィンであることを特徴とする請求項５記載の記録媒体
   用基板の製造方法。
7. 【請求項７】 上記第２の工程において施される上記活
   性化処理は、プラズマ処理であることを特徴とする請求
   項５記載の記録媒体用基板の製造方法。
8. 【請求項８】 樹脂材料からなる記録媒体用基板と、 上記記録媒体用基板上に形成された信号記録層とを備え
   る記録媒体の製造方法であって、 上記記録媒体用基板を製造するに際し、樹脂材料を成形
   して成形体とする第１の工程と、 上記記録媒体用基板の表面に水を滴下したとき、当該水
   の接触角が３０°以下となるように、上記成形体の表面
   に対して活性化処理を施す第２の工程とを有することを
   特徴とする記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 上記樹脂材料は、アモルファスポリオレ
   フィンであることを特徴とする請求項８記載の記録媒体
   の製造方法。
10. 【請求項１０】 上記第２の工程において施される上記
    活性化処理は、プラズマ処理であることを特徴とする請
    求項８記載の記録媒体の製造方法。