JP2002062404A - Electrically conductive antireflection film and plasma display panel using the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which can improve the visibility of a plasma display panel(PDP) by reducing the reflection of outside light and suppressing the occurrence of double and triple images and shields electromagnetic waves and IR emitted from PDP and to provide PDP and a front plate for PDP each using the film. SOLUTION: The electrically conductive antireflection film has an antireflection layer on one face of a transparent substrate and a mesh comprising a metallic thin film on the other face by way of an adhesive.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外光の映り込防止
機能と電磁波障害防止機能とを有する導電性反射防止フ
ィルム、該フィルムを用いたプラズマディスプレイパネ
ル、さらには該フィルムを用いたプラズマディスプレイ
パネル用前面板に関する。The present invention relates to a conductive antireflection film having a function of preventing reflection of external light and a function of preventing electromagnetic interference, a plasma display panel using the film, and a plasma display using the film. The present invention relates to a front panel for a panel.

【０００２】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、フルカラー化、大画面、薄型を実現しうるディスプ
レイとして期待されているが、輝度、コントラストが低
く、外光の映り込みによる視認性の低下が問題となって
いた。また、ＰＤＰはプラズマを利用しており、周波数
数ＫＨｚ〜数ＧＨｚの電磁波および波長７００ｎｍ以上
の赤外線が発生するため、これを遮断することが必要で
あった。2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDPs)
Is expected to be a display capable of realizing full color, a large screen, and thin, but has a problem in that the brightness and contrast are low and the visibility is reduced due to reflection of external light. In addition, PDP uses plasma, and generates electromagnetic waves having a frequency of several KHz to several GHz and infrared rays having a wavelength of 700 nm or more.

【０００３】この問題の解決のために、ＰＤＰの前に、
反射防止、電磁波遮断、および赤外線遮断等の機能を有
する前面板を設けることが特開平９-３０６３６６号、
同１０-１１７３１３号各公報に提案されている。しか
しながら、ＰＤＰとは別に前面板を設けると、プラズマ
ディスプレイパネル自身の厚みが厚く、かつ複雑な構成
となるために、軽量、薄型、低コスト化が難しくなる。
またＰＤＰの視認側の表面、および前面板の表裏と空気
との界面の計三つの界面での反射により、像が二重三重
に見えるため、視認性が著しく悪化する。また特開平１
１−１１９６９６号、同１１−１１９６７４号各公報に
は、プラズマディスプレイパネルに接着剤を介して、電
磁波遮断機能を有する透明基板を貼り合わせることが提
案されている。ただし、この提案は接着剤で貼り合わせ
るため、予備圧着したものに、加熱、または光照射する
ことが必要で、工程が増え、コストアップとなるばかり
か、接着剤の劣化により、剥がれたり、空気の泡が出来
る事で画質が著しく損なわれる等の問題点があった。To solve this problem, before PDP,
JP-A-9-306366 discloses that a front plate having functions such as anti-reflection, electromagnetic wave shielding, and infrared ray shielding is provided.
No. 10-117313, each of which is proposed. However, if a front panel is provided separately from the PDP, the thickness of the plasma display panel itself becomes thick and complicated, so that it is difficult to reduce the weight, thickness, and cost.
In addition, the image is seen double and triple due to reflection at the surface on the viewing side of the PDP and the interface between the front and back surfaces of the front plate and the air, so that visibility is significantly deteriorated. Also, JP
JP-A-11-119696 and JP-A-11-119674 propose that a transparent substrate having an electromagnetic wave blocking function is bonded to a plasma display panel via an adhesive. However, this method requires heating or light irradiation for pre-compression bonding because it is bonded with an adhesive. This increases the number of processes and increases the cost. There is a problem that image quality is significantly impaired due to the formation of bubbles.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、外光
反射を抑え、かつ二重像、三重像の発生を抑えることに
よりプラズマディスプレイパネルの視認性を改良するこ
とができ、しかもプラズマディスプレイパネルから放出
される電磁波、赤外線を遮断し得る反射防止フィルムを
提供することにある。本発明の他の目的は、プラズマデ
ィスプレイパネルに用いられ、プラズマディスプレイパ
ネルの視認性を改良し、しかも電磁波および赤外線を遮
断し得る前面板を提供することにある。本発明のさらな
る他の目的は、視認性に優れ、放出される電磁波および
赤外線が遮断され、しかも軽量、薄型、かつ低コストの
プラズマディスプレイパネルを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the visibility of a plasma display panel by suppressing the reflection of external light and suppressing the occurrence of double and triple images. An object of the present invention is to provide an antireflection film capable of blocking electromagnetic waves and infrared rays emitted from a panel. Another object of the present invention is to provide a front panel which is used for a plasma display panel, improves the visibility of the plasma display panel, and can block electromagnetic waves and infrared rays. It is still another object of the present invention to provide a lightweight, thin, and low-cost plasma display panel which is excellent in visibility, blocks emitted electromagnetic waves and infrared rays, and is lightweight.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記構
成の導電性反射防止フィルム、前面板およびプラズマデ
ィスプレイパネルが提供されて、本発明の上記目的が達
成される。 １．透明支持体の一方の面に反射防止層を有し、反対側
の面に粘着材を介して金属薄膜からなるメッシュを有す
ることを特徴とする導電性反射防止フィルム。 ２．金属薄膜からなるメッシュが、フォトリソグラフィ
ー法によりパターニングされその後エッチング加工によ
り形成されたものであることを特徴とする上記１に記載
の導電性反射防止フィルム。 ３．金属薄膜が、無電解メッキ膜より形成されたことを
特徴とする上記１または２に記載の導電性反射防止フィ
ルム。 ４．金属薄膜からなるメッシュのパターンが、ランダム
な部分を有することを特徴とする上記１〜３のいずれか
に記載の導電性反射防止フィルム。 ５．反射防止層を有する透明支持体が、さらに赤外領域
に吸収を有する赤外カット層を有することを特徴とする
上記１〜４のいずれかに記載の導電性反射防止フィル
ム。 ６．反射防止層を有する透明支持体が、さらに５６０〜
６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する選択吸収フィ
ルター層を有することを特徴とする上記１〜５のいずれ
かに記載の導電性反射防止フィルム。 ７．反射防止層を有する透明支持体が、反射防止層と透
明支持体との間にハードコート層を有することを特徴と
する上記１〜６のいずれかに記載の導電性反射防止フィ
ルム。 ８．上記１〜７のいずれかに記載の導電性反射防止フィ
ルムが、粘着材を介して貼付けられていることを特徴と
するプラズマディスプレイパネル用前面板。 ９．上記８に記載の前面板を設置したことを特徴とする
プラズマディスプレイパネル。 １０．上記１〜７のいずれかに記載の導電性反射防止フ
ィルムが、粘着材を介して直接貼付けられていることを
特徴とするプラズマディスプレイパネル。According to the present invention, a conductive antireflection film, a front plate and a plasma display panel having the following constitutions are provided, and the above object of the present invention is achieved. 1. A conductive antireflection film, comprising: an antireflection layer on one surface of a transparent support; and a mesh made of a metal thin film on an opposite surface via an adhesive. 2. 2. The conductive anti-reflection film as described in 1 above, wherein the mesh made of a metal thin film is patterned by photolithography and then formed by etching. 3. 3. The conductive anti-reflection film according to 1 or 2, wherein the metal thin film is formed from an electroless plating film. 4. 4. The conductive antireflection film according to any one of the above items 1 to 3, wherein the pattern of the mesh made of a metal thin film has a random portion. 5. 5. The conductive antireflection film according to any one of the above items 1 to 4, wherein the transparent support having an antireflection layer further has an infrared cut layer having absorption in an infrared region. 6. A transparent support having an antireflection layer further comprises
The conductive anti-reflection film according to any one of the above items 1 to 5, further comprising a selective absorption filter layer having an absorption maximum in a wavelength region of 620 nm. 7. 7. The conductive antireflection film according to any one of the above items 1 to 6, wherein the transparent support having an antireflection layer has a hard coat layer between the antireflection layer and the transparent support. 8. A front panel for a plasma display panel, wherein the conductive anti-reflection film according to any one of the above 1 to 7 is attached via an adhesive. 9. A plasma display panel, wherein the front panel according to the above item 8 is installed. 10. A plasma display panel, wherein the conductive anti-reflection film according to any one of the above 1 to 7 is directly attached via an adhesive.

【０００６】[0006]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を詳述す
る。図１の（ａ）および（ｂ）は、本発明のプラズマデ
ィスプレイパネルの例を示す模式的な断面図である。ま
た図２および図３の（ａ）〜（ｄ）は、本発明の導電性
反射防止フィルムに用いる金属薄膜からなるメッシュの
パターンの例を示す概略平面図である。図１の（ａ）に
示されるプラズマディスプレイパネルは、片面に反射防
止層１を下塗り層９を介して有する透明支持体２が、そ
の反対側の面に粘着材層３を介して金属薄膜メッシュ４
がプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）５に密着する
様に貼合わされている。図１の（ｂ）に示されるプラズ
マディスプレイパネルは、上記（ａ）の層構造に加え
て、反射防止層１と下塗り層９の間にハードコート層６
が設けられており、反対側の面では透明支持体２とＰＤ
Ｐ５の間に赤外カット層７と選択吸収フィルター層８を
有している。Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIGS. 1A and 1B are schematic sectional views showing examples of the plasma display panel of the present invention. FIGS. 2A to 3D are schematic plan views showing examples of mesh patterns made of a metal thin film used for the conductive anti-reflection film of the present invention. In the plasma display panel shown in FIG. 1A, a transparent support 2 having an antireflection layer 1 on one side via an undercoating layer 9 and a metal thin film mesh on an opposite side via an adhesive layer 3 are provided. 4
Are attached so as to be in close contact with the plasma display panel (PDP) 5. The plasma display panel shown in FIG. 1B has a hard coat layer 6 between the antireflection layer 1 and the undercoat layer 9 in addition to the layer structure shown in FIG.
Is provided, and on the opposite side, the transparent support 2 and the PD
An infrared cut layer 7 and a selective absorption filter layer 8 are provided between P5.

【０００７】また本発明の金属薄膜からなるメッシュの
パターン例としては、図２に示されるように、縦の線１
０および横の線１１がランダムな間隔で並んでいる格子
状のもの、または図３（ａ）に示されるように、格子の
位置をある範囲でランダムに動かした網目状のパター
ン、さらには図３（ｂ）〜（ｄ）のようなランダムなパ
ターンが挙げられる。As an example of a mesh pattern made of a metal thin film of the present invention, as shown in FIG.
FIG. 3A shows a grid-like pattern in which zeros and horizontal lines 11 are arranged at random intervals, or a mesh-like pattern in which the positions of the grids are randomly moved within a certain range as shown in FIG. 3 (b) to 3 (d).

【０００８】本発明の導電性反射防止フィルムは、外光
の映り込みによる視認性の悪化を防ぐため、反射防止層
が設けられている。反射率（正反射率）は３．０％以下
であることが好ましく、１．８％以下であることがさら
に好ましい。反射防止層は、通常低屈折率層である。反
射防止層の屈折率は、その下に存在する層の屈折率より
も低い。反射防止層の屈折率は、１．２０〜１．５５で
あることが好ましく、１．２０〜１．５０であることが
さらに好ましい。反射防止層の厚さは、５０〜４００ｎ
ｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであること
がさらに好ましい。反射防止層の例には、屈折率の低い
含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６
号、特開平３−１３０１０３号、同６−１１５０２３
号、同８−３１３７０２号、同７−１６８００４号の各
公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−
２０８８１１号、同６−２９９０９１号、同７−１６８
００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特
公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、同
６−５６４７８号、同７−９２３０６号、同９−２８８
２０１号の各公報に記載）が含まれる。上記の微粒子を
含む層では、微粒子間または微粒子内のミクロボイドと
して、反射防止層に空隙を形成することができる。微粒
子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが
好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさら
に好ましい。The conductive anti-reflection film of the present invention is provided with an anti-reflection layer in order to prevent deterioration of visibility due to reflection of external light. The reflectance (specular reflectance) is preferably 3.0% or less, more preferably 1.8% or less. The antireflection layer is usually a low refractive index layer. The refractive index of the antireflection layer is lower than the refractive index of the underlying layer. The refractive index of the antireflection layer is preferably from 1.20 to 1.55, and more preferably from 1.20 to 1.50. The thickness of the anti-reflection layer is 50 to 400 n
m, more preferably 50 to 200 nm. Examples of the antireflection layer include a layer made of a fluoropolymer having a low refractive index (Japanese Patent Laid-Open No. 57-34526).
No., JP-A-3-130103, and JP-A-6-115023
And JP-A-8-313702 and JP-A-7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 208811, No. 6-299091, No. 7-168
No. 003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-59250, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478, JP-A-7-92306, and 9-288).
No. 201). In the layer containing the fine particles, voids can be formed in the antireflection layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, more preferably 5 to 35% by volume.

【０００９】広い波長領域の反射を防止するためには、
反射防止層の下層として、屈折率の高い高屈折率層を積
層することが好ましい。そして高屈折率層と反射防止層
の間に中屈折率層を設けることも好ましい態様である。
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であること
が好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好
ましい。中屈折率層を設ける場合、その屈折率は、反射
防止層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値とな
るように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜
１．９０であることが好ましい。中・高屈折率層の厚さ
は、各々５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１
０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎ
ｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層
のヘイズは、各々５％以下であることが好ましく、３％
以下であることがさらに好ましく、１％以下であること
が最も好ましい。In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable to laminate a high refractive index layer having a high refractive index as a lower layer of the antireflection layer. It is also a preferable embodiment to provide a middle refractive index layer between the high refractive index layer and the antireflection layer.
The refractive index of the high refractive index layer is preferably from 1.65 to 2.40, and more preferably from 1.70 to 2.20. When the medium refractive index layer is provided, the refractive index is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index of the antireflection layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is 1.50
It is preferably 1.90. The thickness of each of the middle and high refractive index layers is preferably 5 nm to 100 μm,
0 nm to 10 μm, more preferably 30 nm
Most preferably, it is from m to 1 μm. The haze of each of the middle and high refractive index layers is preferably 5% or less, and 3% or less.
It is more preferably at most 1%, most preferably at most 1%.

【００１０】中・高屈折率層は、各々比較的高い屈折率
を有するポリマーを用いて形成することができる。屈折
率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共
重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）
イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウ
レタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、
脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン
原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。
二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマー
の重合反応によりポリマーを形成してもよい。The middle and high refractive index layers can be formed using polymers each having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenolic resin, epoxy resin and cyclic (alicyclic or aromatic)
Polyurethanes obtained by reacting isocyanates with polyols are included. Other cyclic (aromatic, heterocyclic,
Polymers having an (alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index.
A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【００１１】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
されたものであることが好ましい。金属の酸化物または
硫化物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／
アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、
酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
および硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および
酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これら
の金属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の
元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する
成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味す
る。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃ
ｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが含まれる。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile /
Mixed crystal of anatase, anatase, amorphous structure),
Includes tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by mass) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, C
u, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Z
n, Al, Mg, Si, P and S are included.

【００１２】ポリマーバインダーは、架橋していること
が好ましく、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマー、あるいは多官能エポキシ化合物を用いて得るこ
とが出来る。二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロロヘキサンジアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−
シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポ
リアクリレート、ポリエステルポリ安息香酸−２−アク
リロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキ
サノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、
アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）お
よびメタクリルアミドを挙げることができる。エチレン
性不飽和基を有するモノマーは、塗布後、電離放射線ま
たは熱による重合反応により硬化させることが好まし
い。多官能エポキシ化合物からは、開環重合反応により
ポリエーテルを主鎖とする架橋したポリマーが得られ
る。The polymer binder is preferably crosslinked, and can be obtained by using a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups or a polyfunctional epoxy compound. Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate,
Pentaerythritol tetra (meth) acrylate),
Pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate Acrylate, 1,2,3-
Cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polybenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone),
Acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide can be mentioned. After the application, the monomer having an ethylenically unsaturated group is preferably cured by a polymerization reaction using ionizing radiation or heat. From the polyfunctional epoxy compound, a crosslinked polymer having a polyether as a main chain can be obtained by a ring-opening polymerization reaction.

【００１３】架橋されたポリマーバインダーを得る方法
として、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマ
ーを用いる代わりに、またはそれに加えて、架橋性基を
有する化合物を用いてもよい。架橋性基の反応によって
も、架橋構造をバインダーポリマーに導入することがで
きる。架橋性基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基、および活性メチレン基を挙げることができる。ビ
ニルスルホン基、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル結合お
よびウレタン結合が含まれる。テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも架橋構造を導入するためのモ
ノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基の
ように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用
いてもよい。このように、架橋基は分解した結果反応性
を示す官能基であってもよい。架橋性を有する化合物は
塗布後、熱によって架橋させることが好ましい。As a method for obtaining a crosslinked polymer binder, a compound having a crosslinkable group may be used instead of or in addition to using a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. A crosslinked structure can also be introduced into the binder polymer by the reaction of the crosslinkable group. Examples of the crosslinkable group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Includes vinyl sulfone groups, acid anhydrides, cyanoacrylate derivatives, melamine, etherified methylol, ester linkages and urethane linkages. A metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. As described above, the cross-linking group may be a functional group that exhibits reactivity as a result of decomposition. It is preferable that the crosslinkable compound is crosslinked by heat after coating.

【００１４】本発明の導電性反射防止フィルムの反射防
止層の表面に凹凸を与え、防眩を付与することも出来
る。凸部の断面形状は、丸みを帯びた頂点からなだらか
な傾斜が周囲に延びていることが好ましい。傾斜部は頂
点に近い部分では上に凸、それ以外の部分では下に凸の
形態であることが好ましい。頂点は鋭角的であっても、
平坦であってもよい。上方から観察した凸部の形態は、
円形または楕円形であることが好ましい。ただし、三角
形、四角形、六角形あるいは複雑な形であってもよい。
凸部の形状は、凸部の周囲を囲む谷の部分の輪郭で示さ
れる。輪郭で示される凸部の大きさは、円相当径で、
０．５〜３００μｍあることが好ましく、１〜３０μｍ
であることがさらに好ましく、３〜２０μｍであること
が最も好ましい。表面の凹凸は、凹凸を有するカレンダ
ーロールにてカレンダープレスを行う方法、ポリマーバ
インダーあるいはモノマーと粒子とを含む液を支持体上
に塗布、乾燥（必要により、硬化）させて層を形成する
方法、印刷による方法、リソグラフィーあるいはエッチ
ングによる方法で形成できる。なかでも、ポリマーバイ
ンダーあるいはモノマーと粒子とを含む液を支持体上に
塗布、乾燥（必要により、硬化）させて層を形成する方
法が好ましい。The surface of the antireflection layer of the conductive antireflection film of the present invention may be provided with irregularities to impart antiglare. It is preferable that the cross-sectional shape of the convex portion has a gentle slope extending from the rounded vertex to the periphery. It is preferable that the inclined portion has an upward convex shape at a portion near the vertex and a downward convex shape at other portions. The vertices are sharp,
It may be flat. The shape of the convex part observed from above is
Preferably it is circular or oval. However, the shape may be a triangle, a square, a hexagon, or a complicated shape.
The shape of the projection is indicated by the contour of a valley surrounding the periphery of the projection. The size of the convex part shown by the outline is a circle equivalent diameter,
0.5 to 300 μm, preferably 1 to 30 μm
Is more preferably, and most preferably 3 to 20 μm. Asperity on the surface, a method of performing calender pressing with a calender roll having irregularities, a method of applying a liquid containing a polymer binder or a monomer and particles on a support, and drying (curing if necessary) to form a layer, It can be formed by a printing method, lithography or etching method. Among them, a method in which a liquid containing a polymer binder or a monomer and particles is coated on a support and dried (cured if necessary) to form a layer is preferable.

【００１５】凹凸を形成させる粒子としては、無機粒子
または有機粒子を用いる。無機粒子を形成する物質の例
には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム
および硫酸ストロンチウムが含まれる。有機粒子は、一
般にポリマーから形成される。ポリマーの例には、ポリ
エチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタク
リレート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、セル
ロースアセテートおよびセルロースアセテートプロピオ
ネートが含まれる。無機粒子よりも有機粒子の方が好ま
しく、ポリメチルメタクリレートもしくはポリエチレン
粒子が特に好ましい。粒子の平均粒径は、０．５〜３０
μｍであることが好ましく、１〜３μｍであることがさ
らに好ましい。粒子を形成する物質あるいは粒径が異な
る二種類以上の粒子を組み合わせて使用してもよい。凹
凸が形成された表面を有する層の平均厚みは、粒子の平
均粒径よりも小さいことが好ましい。As the particles for forming the unevenness, inorganic particles or organic particles are used. Examples of substances that form inorganic particles include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate and strontium sulfate. Organic particles are generally formed from polymers. Examples of polymers include polyethylene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polystyrene, cellulose acetate and cellulose acetate propionate. Organic particles are preferred over inorganic particles, and polymethyl methacrylate or polyethylene particles are particularly preferred. The average particle size of the particles is 0.5 to 30.
μm, more preferably 1 to 3 μm. A substance forming particles or two or more kinds of particles having different particle diameters may be used in combination. The average thickness of the layer having a surface with irregularities is preferably smaller than the average particle size of the particles.

【００１６】本発明の導電性反射防止フィルムに用いら
れる透明支持体を形成する材料の例には、セルロースエ
ステル（例、セルロースジアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブ
チレート、セルロースアセテートプロピオネート、セル
ロースニトレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，
４'−ジカルボキシレート）、ポリスチレン（例、シン
ジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテ
ン）、ポリ（メタ）アクリレート（例、ポリメチルメタ
クリレート）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、
ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオ
キシエチレンが含まれる。セルローストリアセテート、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエ
チレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート
が好ましい。透明支持体の透過率は８０％以上であるこ
とが好ましく、８６％以上であることがさらに好まし
い。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以
下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜
１．７０であることが好ましい。Examples of the material for forming the transparent support used in the conductive antireflection film of the present invention include cellulose esters (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate protate). Pionate, cellulose nitrate), polyamide, polycarbonate,
Polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate,
Poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,
4′-dicarboxylate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg,
Polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), poly (meth) acrylate (eg, polymethylmethacrylate), polysulfone, polyethersulfone,
Includes polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Cellulose triacetate,
Polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze is preferably at most 2%, more preferably at most 1%. The refractive index is 1.45
It is preferably 1.70.

【００１７】透明支持体に、後述する赤外線吸収剤ある
いは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添
加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であること
が好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルク
およびカオリンが含まれる。An infrared absorber or an ultraviolet absorber described below may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorber added is preferably 0.01 to 20% by mass of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by mass. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic _{compound, SiO 2, TiO 2, BaSO} 4, CaCO 3, talc and kaolin.

【００１８】透明支持体には、その上に設ける粘着材層
あるいは他の層（例ハードコート層、選択吸収フィルタ
ー層）との接着性をより強固にするために表面処理を施
す、あるいはさらに下塗り層を設けることが好ましい。
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電
処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー
放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理
およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫
外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理が好まし
く、コロナ放電処理がさらに好ましい。The transparent support is subjected to a surface treatment to further enhance the adhesiveness with an adhesive layer or another layer (eg, a hard coat layer, a selective absorption filter layer) provided on the transparent support, or an undercoat. It is preferred to provide a layer.
Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and corona discharge treatment is more preferred.

【００１９】下塗り層は、ガラス転移温度が２５℃以下
のポリマーを含む層として形成されることが好ましい。
ガラス転移温度が２５℃以下のポリマーを含む下塗り層
は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とそれに隣接する
層とを接着する。ガラス転移温度が２５℃以下のポリマ
ーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタ
ジエン、ネオプレン（登録商標）、スチレン、クロロプ
レン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ア
クリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重合また
は共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、
２０℃以下であることが好ましく、１５℃以下であるこ
とがより好ましく、１０℃以下であることがさらに好ま
しく、５℃以下であることがさらに好ましく、０℃以下
であることが最も好ましい。下塗り層の厚みは、２０〜
１０００ｎｍが好ましく、８０〜３００ｎｍがより好ま
しい。The undercoat layer is preferably formed as a layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower.
An undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or less adheres the transparent support and the adjacent layer due to the tackiness of the polymer. Polymers having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower can be obtained by polymerization or copolymerization of vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene (registered trademark), styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile, or methyl vinyl ether. Obtainable. The glass transition temperature is
The temperature is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower, further preferably 10 ° C. or lower, further preferably 5 ° C. or lower, and most preferably 0 ° C. or lower. The thickness of the undercoat layer is 20 to
1000 nm is preferable, and 80 to 300 nm is more preferable.

【００２０】表面が粗面である下塗り層は、その上の層
との接着性を強化する。表面が粗面である下塗り層は、
高分子ラテックスの塗布により容易に形成することがで
きる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであ
ることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさら
に好ましい。また二つ以上の下塗り層を設けてもよい。
下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット
剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加
してもよい。光学フィルターに赤外遮蔽効果を有する層
（赤外線遮蔽層）を設けることができる。An undercoat layer having a rough surface enhances the adhesion to the layer above it. The undercoat layer with a rough surface is
It can be easily formed by applying a polymer latex. The average particle size of the latex is preferably from 0.02 to 3 μm, and more preferably from 0.05 to 1 μm. Also, two or more undercoat layers may be provided.
The undercoat layer may contain a solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid and a hardener. A layer having an infrared shielding effect (infrared shielding layer) can be provided in the optical filter.

【００２１】本発明に用いられる粘着材としては、粘着
性を有するゴム状の粘りを有する材料であり、ゴム系
（例えば天然ゴム系、ＳＢＲ系、再生ゴム系、ポリイソ
ブチレン系、シリコンゴム系）、アクリル系、その他
（ポリビニルエーテル系、シリコーン系、ポリビニルブ
チラール系）等を挙げることが出来る。中でもアクリル
系が好ましい。これらの詳細については、日本接着協会
編「接着ハンドブック」第２版（日刊工業新聞社）、高
分子学会編「高機能接着剤・粘着剤」等に記載されてい
る。本発明の導電性反射防止フィルムでは、これらの粘
着材を水または溶剤に、溶解あるいは分散した塗布液を
直接透明支持体上に塗布、乾燥して粘着材層を設けるこ
とが出来るが、あらかじめ剥離性の良いＰＥＴなどの支
持体上に粘着材層を設けたものを本発明の透明支持体に
ラミネートして粘着材層を設けることも出来る。本発明
における導電性反射防止フィルムは、透明支持体上にこ
れらの粘着材を介して金属薄膜からなるメッシュが貼合
わされているものであり、金属メッシュを剥離層上に作
成し、その上から粘着材を塗工した透明支持体を重ね、
剥離層を丁寧に剥がすことで得られる。The adhesive used in the present invention is a rubbery sticky material having adhesiveness, and is a rubber-based material (for example, a natural rubber-based, SBR-based, recycled rubber-based, polyisobutylene-based, silicon rubber-based). Acryl-based, and others (polyvinyl ether-based, silicone-based, and polyvinyl butyral-based). Among them, acrylic is preferable. Details of these are described in "Adhesion Handbook", 2nd edition, edited by The Adhesion Society of Japan (Nikkan Kogyo Shimbun), "Highly Functional Adhesives / Adhesives", Ed. In the conductive anti-reflection film of the present invention, these adhesives are dissolved or dispersed in water or a solvent, and a coating solution dissolved or dispersed is directly applied on a transparent support and dried to form an adhesive layer. An adhesive layer can also be provided by laminating an adhesive layer on a support such as PET having good properties and laminating it on the transparent support of the present invention. The conductive anti-reflection film in the present invention is a film in which a mesh made of a metal thin film is bonded on a transparent support via these adhesives, a metal mesh is formed on a release layer, and an adhesive is applied from above. Layer the transparent support coated with the material,
It is obtained by carefully peeling off the release layer.

【００２２】本発明の導電性反射防止フィルムは金属メ
ッシュを有する。メッシュの表面抵抗は０．０１〜５０
０Ω／□であることが好ましく、０．０１〜１０Ω／□
であることがさらに好ましく、０．０１〜３Ω／□であ
ることが最も好ましい。この金属メッシュは、エッチン
グにより金属薄膜を格子状、網目状等にする方法、金属
繊維、または金属で被覆された繊維を用いて網目状にす
る方法等で作成することが出来る。The conductive antireflection film of the present invention has a metal mesh. Surface resistance of mesh is 0.01-50
0 Ω / □, preferably 0.01 to 10 Ω / □
Is more preferable, and most preferably 0.01 to 3 Ω / □. The metal mesh can be formed by a method of forming a metal thin film into a lattice shape or a mesh shape by etching, a method of forming a metal fiber or a mesh using a metal-coated fiber, or the like.

【００２３】エッチングにより金属薄膜を格子状、網目
状等にする方法は、透明支持体上に金属薄膜を形成した
後、金属薄膜に感光性樹脂を塗布し所定の形状のマスク
をかけ露光、現像し、レジスト層を形成し、更にレジス
トに覆われていない部分をエッチングにより除去するフ
ォトリソグラフィー法が一般的である。この場合の開口
率としては６０％以上が好ましく、さらに好ましくは７
５％以上であり、特に好ましくは８５％以上である。薄
膜の形成には金属箔を貼り合わせる方法、電解めっき
法、無電解めっき法、蒸着法、スパッタ法、イオンプレ
ーティング法などで形成されることが好ましく、更に好
ましくは無電解めっき法、無電解めっき後電解めっきす
る方法である。エッチングにより形成される形状として
は格子状、はしご状、ハニカム状、ランダム状などがあ
る。線巾は３０μｍ以下であることが好ましく、更に好
ましくは２０μｍ以下であり、特に好ましくは１０μｍ
以下である。線の間隔としては１０〜５００μｍが好ま
しく、更に好ましくは３０〜３５０μｍであり、特に好
ましくは５０〜３００μｍである。金属線の厚みとして
は０．１〜１０μｍが好ましく、更に好ましくは１〜７
μｍであり、特に好ましくは１〜５μｍである。A method of forming a metal thin film into a lattice shape or a mesh shape by etching is to form a metal thin film on a transparent support, apply a photosensitive resin to the metal thin film, apply a mask of a predetermined shape, and expose and develop. Then, a photolithography method is generally used in which a resist layer is formed, and a portion not covered with the resist is removed by etching. The aperture ratio in this case is preferably 60% or more, and more preferably 7%.
It is at least 5%, particularly preferably at least 85%. The thin film is preferably formed by bonding a metal foil, electrolytic plating, electroless plating, vapor deposition, sputtering, ion plating, etc., and more preferably electroless plating, electroless This is a method of performing electrolytic plating after plating. Examples of the shape formed by etching include a lattice shape, a ladder shape, a honeycomb shape, and a random shape. The line width is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less.
It is as follows. The interval between the lines is preferably from 10 to 500 μm, more preferably from 30 to 350 μm, and particularly preferably from 50 to 300 μm. The thickness of the metal wire is preferably from 0.1 to 10 μm, more preferably from 1 to 7 μm.
μm, and particularly preferably 1 to 5 μm.

【００２４】金属の材質としては金、銀、銅、白金、ニ
ッケル、クロム、スズ、ロジウム、イリジウム、パラジ
ウムが好ましく、更に好ましくは金、銀、銅、ニッケ
ル、クロム、スズ、パラジウムであり、特に好ましくは
銅、ニッケル、スズである。これら金属は単独で用いて
も良いし、二種以上用いても良い。２種以上用いる場合
は、合金化しても良いし、積層して用いても良い。金属
の好ましい組み合わせとしては銅とニッケルである。ま
た、金属薄膜上に黒色レジストを形成した後にエッチン
グすることなどで金属線を黒化処理することも出来る。
これらの作成方法については、特開平５−１６２９１号
公報、同５−２８３８８９号、同１０−５１１８３号、
同１０−５６２８９号、同１０−５６２９０号、同１０
−７２６７６号、同１０−７９５９４号、同１１−１１
９６６７号、同１１−１１９６６８号、同１１−１２１
９７４号等に記載されている。The material of the metal is preferably gold, silver, copper, platinum, nickel, chromium, tin, rhodium, iridium, and palladium, more preferably gold, silver, copper, nickel, chromium, tin and palladium. Preferred are copper, nickel and tin. These metals may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used, they may be alloyed or stacked. A preferred combination of metals is copper and nickel. Alternatively, the metal wire can be blackened by etching after forming a black resist on the metal thin film.
These methods are described in JP-A-5-16291, JP-A-5-283889, JP-A-10-51183,
No. 10-56289, No. 10-56290, No. 10
-72676, 10-79594, 11-11
No. 9667, No. 11-119668, No. 11-121
974, etc.

【００２５】金属繊維または金属で被覆した繊維を用い
て網目状にする方法は、金属繊維および／または金属を
被覆した繊維を用いて、網目状に織り込んだものであ
る。用いられる金属の材質としては、金、銀、銅、白
金、ニッケル、クロム、鉄、スズ、ロジウム、イリジウ
ム、パラジウムが好ましく、更に好ましくは金、銀、
銅、ニッケル、クロム、スズ、パラジウムであり、特に
好ましくは銅、ニッケル、スズである。これら金属は単
独で用いても良いし、二種以上用いても良い。２種以上
用いる場合は、合金化しても良いし積層して用いても良
い。繊維径として、好ましくは５０μｍ以下であること
が好ましく、更に好ましくは４０μｍ以下であり、特に
好ましくは３０μｍ以下である。繊維の網目の間隔とし
ては１０〜５００μｍが好ましく、更に好ましくは３０
〜３５０μｍであり、特に好ましくは５０〜３００μｍ
である。In the method of forming a mesh using metal fibers or fibers coated with a metal, the mesh is woven in a network using metal fibers and / or fibers coated with a metal. As the material of the metal used, gold, silver, copper, platinum, nickel, chromium, iron, tin, rhodium, iridium, and palladium are preferable, and gold, silver, and more preferably
Copper, nickel, chromium, tin, and palladium are particularly preferable, and copper, nickel, and tin are particularly preferable. These metals may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used, they may be alloyed or stacked. The fiber diameter is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and particularly preferably 30 μm or less. The spacing of the fiber mesh is preferably 10 to 500 μm, more preferably 30 to 500 μm.
To 350 μm, particularly preferably 50 to 300 μm
It is.

【００２６】本発明の導電性反射防止フィルムには、赤
外領域に吸収を有する赤外カット層を設けることが好ま
しい。赤外カット層については特開平１０−１８６１２
７号、同１１−３２６６２９号、電磁波および赤外線の
両方をカットすることについては、特開平１１−６４６
０３号、特開２０００−３９５１３号の各公報に記載さ
れている。この赤外カット層は、樹脂混合物により形成
することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽性成分と
しては、銅（特開平６−１１８２２８号公報記載）、銅
化合物またはリン化合物（特開昭６２−５１９０号公報
記載）、銅化合物またはチオ尿素化合物（特開平６−７
３１９７号公報記載）あるいはタングステン化合物（米
国特許３６４７７７２号明細書記載）を用いることがで
きる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混合物を透
明支持体に添加してもよい。The conductive anti-reflection film of the present invention is preferably provided with an infrared cut layer having absorption in an infrared region. The infrared cut layer is described in JP-A-10-18612.
No. 7, No. 11-326629, and Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-646 discloses cutting both electromagnetic waves and infrared rays.
03 and JP-A-2000-39513. This infrared cut layer can be formed from a resin mixture. As the infrared ray shielding component in the resin mixture, copper (described in JP-A-6-118228), copper compound or phosphorus compound (described in JP-A-65-2190), copper compound or thiourea compound (described in JP-A-6-5190). -7
3197) or a tungsten compound (described in US Pat. No. 3,647,772). Instead of providing the infrared shielding layer, a resin mixture may be added to the transparent support.

【００２７】本発明の赤外カット層は、波長７５０〜８
５０ｎｍ、８５１〜９５０ｎｍおよび９５１〜１１００
ｎｍに、さらに好ましくは、波長７９０〜８４５ｎｍ、
８６０〜９４５ｎｍおよび９６０〜１０５０ｎｍに、最
も好ましくは、波長８００〜８４０ｎｍ、８７０〜９４
０ｎｍおよび９７０〜１０３０ｎｍにそれぞれ吸収の極
大を有しており、その透過率は極大の波長においてそれ
ぞれ０．０１〜３０％の間であり、好ましくは０．０５
〜２０％の間であり、最も好ましくは、０．１〜１０％
の間である。本発明において上記の吸収スペクトルを付
与するために、色素（染料または顔料）を用いることが
好ましい。The infrared cut layer of the present invention has a wavelength of 750-8.
50 nm, 851-950 nm and 951-1100
nm, more preferably the wavelength 790-845 nm,
860-945 nm and 960-1050 nm, most preferably wavelengths 800-840 nm, 870-94 nm.
It has absorption maxima at 0 nm and 970-1030 nm, respectively, and its transmissivity is between 0.01 and 30% at the wavelength of the maximum, respectively, preferably 0.05%.
２０20%, most preferably 0.1-10%
Between. In the present invention, it is preferable to use a dye (dye or pigment) in order to impart the above-mentioned absorption spectrum.

【００２８】上記の波長が７５０〜１１００ｎｍの範囲
に吸収極大を示す色素の吸収スペクトルは、ＰＤＰの輝
度を下げることのないよう、可視域（４００〜７００ｎ
ｍ）の副吸収が少ないほうが好ましい。好ましい吸収ス
ペクトルを得るために、会合状態にある色素を用いるこ
とが特に好ましい。会合状態の色素は、いわゆるJバン
ドを形成するため、シャープな吸収ピークを示す。色素
の会合とＪバンドについては、文献（例えば、Photogra
phic Science and Engineering Vol 18,No 323-335(197
4)）に詳細がある。J会合状態の色素の吸収極大は、溶
液状態の吸収極大よりも長波側に移動する。従って、選
択吸収フィルター層に含まれる染料が会合状態である
か、非会合状態であるかは、吸収極大を測定することで
容易に判断できる。本明細書では、溶液状態の色素の吸
収極大より３０ｎｍ以上長波長側に移動している状態を
会合状態と称する。会合状態の色素は、吸収極大が３０
ｎｍ以上長波長側に移動していることが好ましく、４０
ｎｍ以上であることがさらに好ましく、４５ｎｍ以上で
あることが最も好ましい。The absorption spectrum of the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 750 to 1100 nm is in the visible region (400 to 700 nm) so as not to lower the luminance of the PDP.
It is preferable that m) have less side absorption. In order to obtain a preferable absorption spectrum, it is particularly preferable to use a dye in an associated state. The dye in the associated state forms a so-called J band, and thus shows a sharp absorption peak. For dye association and J band, see literature (eg, Photogra
phic Science and Engineering Vol 18, No 323-335 (197
4)) has details. The absorption maximum of the dye in the J-association state moves to a longer wavelength side than the absorption maximum in the solution state. Therefore, whether the dye contained in the selective absorption filter layer is in the associated state or in the non-associated state can be easily determined by measuring the absorption maximum. In this specification, a state in which the dye in the solution state moves to a longer wavelength side by 30 nm or more than the absorption maximum is referred to as an association state. The dye in an associated state has an absorption maximum of 30.
It is preferable that the wavelength is shifted to the longer wavelength side by at least 40 nm.
It is more preferably at least 45 nm, most preferably at least 45 nm.

【００２９】色素には、水に溶解するだけで会合体が形
成する化合物もある。但し、一般には、色素の水溶液に
ゼラチンまたは塩（例、塩化バリウム、塩化カリウム、
塩化ナトリウム、塩化カルシウム）を添加して会合体を
形成する。色素の水溶液にゼラチンを添加する方法が特
に好ましい。また色素の会合体は、色素の固体微粒子分
散物として形成することもできる。固体微粒子分散物に
するためには、公知の分散機を用いることが出来る。分
散機の例には、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル及び
ローラミルが含まれる。分散機については、特開昭５２
−９２７１６号及び国際公開ＷＯ８８／０７４７９４号
に記載がある。縦型又は横型の媒体分散機が好ましい。
分散は、適当な媒体（例、水、アルコール）の存在下で
実施してもよい。分散用界面活性剤を用いることが好ま
しい。分散用界面活性剤としては、アニオン界面活性剤
（特開昭５２−９２７１６号及び国際公開ＷＯ８８／０
７４７９４号に記載）が好ましく用いられる。必要に応
じてアニオン性ポリマー、ノニオン性界面活性剤あるい
はカチオン性界面活性剤を用いてもよい。色素を適当な
溶媒中に溶解した後、その貧溶媒を添加して、微粒子状
の粉末を得てもよい。この場合も、上記の分散用界面活
性剤を用いてもよい。あるいはｐＨを調整することによ
って溶解し、次にｐＨを変化させて染料の微結晶を析出
させてもよい。この微結晶も染料の会合体である。会合
状態の色素が微粒子（または微結晶）である場合、平均
粒径は０．０１〜１０μｍであることが好ましい。会合
状態で使用する色素は、メチン染料（例えば、シアニ
ン、メロシアニン、オキソノール、スチリル）であるこ
とが好ましく、シアニン染料またはオキソノール染料で
あることが最も好ましい。Some dyes form compounds when they are dissolved only in water. However, generally, gelatin or salt (eg, barium chloride, potassium chloride,
Sodium chloride and calcium chloride) are added to form an aggregate. A method of adding gelatin to an aqueous solution of a dye is particularly preferred. In addition, the aggregate of the dye can also be formed as a solid fine particle dispersion of the dye. In order to obtain a solid fine particle dispersion, a known disperser can be used. Examples of the disperser include a ball mill, a vibrating ball mill, a planetary ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill and a roller mill. For the dispersing machine, see
-92716 and WO 88/077944. Vertical or horizontal media dispersers are preferred.
Dispersion may be performed in the presence of a suitable medium (eg, water, alcohol). It is preferable to use a surfactant for dispersion. Examples of the dispersing surfactant include anionic surfactants (JP-A-52-92716 and International Publication WO88 / 088).
74794) is preferably used. If necessary, an anionic polymer, a nonionic surfactant or a cationic surfactant may be used. After dissolving the dye in an appropriate solvent, the poor solvent may be added to obtain a fine powder. Also in this case, the above-mentioned surfactant for dispersion may be used. Alternatively, the dye may be dissolved by adjusting the pH, and then the pH may be changed to precipitate fine crystals of the dye. These microcrystals are also aggregates of the dye. When the dye in the associated state is fine particles (or microcrystals), the average particle size is preferably 0.01 to 10 μm. The dye used in the associated state is preferably a methine dye (eg, cyanine, merocyanine, oxonol, styryl), and most preferably a cyanine dye or oxonol dye.

【００３０】シアニン染料は、下記式で定義される。 Ｂｓ＝Ｌｏ−Ｂｏ （式中、Ｂｓは、塩基性核であり、Ｂｏは、塩基性核の
オニウム体であり、Ｌｏは、奇数個のメチンからなるメ
チン鎖である。）さらに、下記一般式（１）で表される
シアニン染料は、特に会合状態で好ましく用いることが
できる。 一般式（１）The cyanine dye is defined by the following formula. Bs = Lo-Bo (wherein, Bs is a basic nucleus, Bo is an onium body of the basic nucleus, and Lo is a methine chain composed of an odd number of methines.) Further, the following general formula: The cyanine dye represented by (1) can be preferably used particularly in an associated state. General formula (1)

【００３１】[0031]

【化１】 Embedded image

【００３２】一般式（１）において、Ｚ¹及びＺ²は、そ
れぞれ独立に５員又は６員の含窒素複素環を形成する非
金属原子群である。含窒素複素環には、他の複素環、芳
香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環
およびその縮合環の例には、オキサゾール環、イソオキ
サゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾー
ル環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾ
フラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフト
チアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン
環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイ
ミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジ
ン環、フロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノ
キサリン環、およびキノキサリン環等が含まれる。含窒
素複素環は、６員環より５員環の方が好ましい。５員の
含窒素複素環にベンゼン環又はナフタレン環縮合してい
るのがさらに好ましい。ベンゾチアゾール環、ナフトチ
アゾール環、インドレニン環またはベンゾインドレニン
環が好ましい。In the general formula (1), Z ¹ and Z ² each independently represent a non-metallic atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring. Another heterocyclic ring, aromatic ring or aliphatic ring may be condensed to the nitrogen-containing heterocyclic ring. Examples of the nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring include an oxazole ring, an isoxazole ring, a benzoxazole ring, a naphthooxazole ring, an oxazolocarbazole ring, an oxazolobenzobenzofuran ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a naphthothiazole ring, Examples include a renin ring, a benzoindolenine ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a naphthoimidazole ring, a quinoline ring, a pyridine ring, a pyrrolopyridine ring, a fluorpyrrole ring, an indolizine ring, an imidazoquinoxaline ring, and a quinoxaline ring. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a 5-membered ring rather than a 6-membered ring. More preferably, a 5-membered nitrogen-containing heterocycle is condensed with a benzene ring or a naphthalene ring. A benzothiazole ring, naphthothiazole ring, indolenine ring or benzoindolenine ring is preferred.

【００３３】含窒素複素環及びそれに縮合している環
は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロ
ゲン原子、シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、複素
環基、−ＯＲ¹⁰、−ＣＯＲ¹¹、−ＣＯＯＲ¹²、−ＯＣＯ
Ｒ¹³、−ＮＲ¹⁴Ｒ¹⁵、−ＮＨＣＯＲ¹⁶、−ＣＯＮＲ¹⁷Ｒ
¹⁸、ＮＨＣＯＮＲ¹⁹Ｒ²⁰、ＮＨＣＯＯＲ²¹、−ＳＲ²²、
−ＳＯ₂Ｒ²³、−ＳＯ₂ＯＲ²⁴、−ＮＨＳＯ₂Ｒ²⁵または
−ＳＯ₂ＮＲ²⁶Ｒ²⁷である。Ｒ¹⁰〜Ｒ²⁷は、それぞれ独
立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基で
ある。おな、−ＣＯＯＲ¹²のＲ¹²が水素の場合（すなわ
ち、カルボキシル）および−ＳＯ₂ＯＲ²⁴のＲ²⁴が水素
原子の場合（すなわち、スルホ）は、水素原子が解離し
ても、塩の状態であってもよい。The nitrogen-containing heterocycle and the ring condensed therewith may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, cyano, nitro, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic ^{group, -OR 10, -COR 11, -COOR} 12, -OCO
^{R 13, -NR 14 R 15,} -NHCOR 16, -CONR 17 R
^{18, NHCONR 19 R 20, NHCOOR} 21, -SR 22,
—SO ₂ R ²³ , —SO ₂ OR ²⁴ , —NHSO ₂ R ²⁵ or —SO ₂ NR ²⁶ R ²⁷ . R ^{10 to} R ²⁷ are each independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. Ona, when R ¹² in -COOR ¹² is hydrogen (i.e., carboxyl) and, if R ²⁴ in -SO ₂ OR ²⁴ is a hydrogen atom (i.e., sulfo) also dissociate a hydrogen atom, of a salt It may be.

【００３４】本発明において肪族族基は、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基またはアラルキル基を表
す。これらの基は置換基を有していてもよい。アルキル
基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキ
ル基は、分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原
子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２であることがさ
らに好ましく、１〜８であることが最も好ましい。アル
キル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、ｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロヘ
キシルおよび２−エチルヘキシルが含まれる。置換アル
キル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様であ
る。置換アルキル基の置換基としては、Ｚ¹およびＺ²の
含窒素複素環の置換基と同じである(但し、シアノ基お
よびニトロ基は除く)。置換アルキル基の例には、２−
ヒドロキシエチル、２−カルボキシエチル、２−メトキ
シエチル、２−ジエチルアミノエチル、３−スルホプロ
ピルおよび4−スルホブチルが含まれる。In the present invention, the aliphatic group is an alkyl group,
Represents an alkenyl group, an alkynyl group or an aralkyl group. These groups may have a substituent. The alkyl group may be cyclic or chain. The chain alkyl group may have a branch. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and most preferably 1 to 8. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, cyclopropyl, cyclohexyl and 2-ethylhexyl. The alkyl part of the substituted alkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The substituent of the substituted alkyl group is the same as the substituent of the nitrogen-containing heterocyclic ring of Z ¹ and Z ² (however, excluding a cyano group and a nitro group). Examples of the substituted alkyl group include 2-
Includes hydroxyethyl, 2-carboxyethyl, 2-methoxyethyl, 2-diethylaminoethyl, 3-sulfopropyl and 4-sulfobutyl.

【００３５】アルケニル基は、環状であっても鎖状であ
ってもよい。鎖状アルケニル基は、分基を有していても
よい。アルケニル基の炭素原子数は、２ないし２０が好
ましく、２〜１２がさらに好ましく、２〜８が最も好ま
しい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル、１−プ
ロペニル、２ーブテニル、２−ペンテニル及び２−ヘキ
セニルが含まれる。置換アルケニル基のアルケニル部分
は、上記アルケニル基と同様である。置換アルケニル基
の置換基は、アルキル基の置換基と同じである。アルキ
ニル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状ア
ルキニル基は、分岐を有していてもよい。アルキニル基
の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさら
に好ましく、２〜８が最も好ましい。アルキニル基の例
には、エチニルおよび２−プロピニルが含まれる。置換
アルキニル基のアルキニル部分は、上記アルキニル基と
同様である。置換アルキニル基の置換基は、アルキル基
の置換基と同じである。アラルキル基のアルキル部分
は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリ
ール部分は、後述するアリール基と同様である。アラル
キル基の例には、ベンジルおよびフェネチルが含まれ
る。置換アラルキル基のアラルキル部分は、上記アラル
キル基と同様である。置換アラルキル基のアリール部分
は、後述するアリール基と同様である。The alkenyl group may be cyclic or chain. The chain alkenyl group may have a branched group. The number of carbon atoms of the alkenyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 12, and most preferably 2 to 8. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl, 1-propenyl, 2-butenyl, 2-pentenyl and 2-hexenyl. The alkenyl part of the substituted alkenyl group is the same as the above alkenyl group. The substituent of the substituted alkenyl group is the same as the substituent of the alkyl group. The alkynyl group may be cyclic or chain. The chain alkynyl group may have a branch. The alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably has 2 to 12 carbon atoms, and most preferably has 2 to 8 carbon atoms. Examples of the alkynyl group include ethynyl and 2-propynyl. The alkynyl part of the substituted alkynyl group is the same as the above alkynyl group. The substituent of the substituted alkynyl group is the same as the substituent of the alkyl group. The alkyl part of the aralkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The aryl part of the aralkyl group is the same as the aryl group described later. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The aralkyl part of the substituted aralkyl group is the same as the above aralkyl group. The aryl part of the substituted aralkyl group is the same as the aryl group described later.

【００３６】本発明において、芳香族基は、アリール基
または置換アリール基を意味する。アリール基の炭素原
子数は、６〜２５であることが好ましく、６〜１５であ
ることがさらに好ましく、６〜１０であることが最も好
ましい。アリール基の例には、フェニルおよびナフチル
が含まれる。置換アリール基の置換基の例は、Ｚ¹およ
びＺ²の含窒素複素環の置換基と同じである。置換アリ
ール基の例には、４−カルボキシフェニル、４−アセト
アミドフェニル、３−メタンスルホンアミドフェニル、
４−メトキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３、
５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミド
フェニルおよび４−ブタンスルホンアミドフェニルが含
まれる。In the present invention, the aromatic group means an aryl group or a substituted aryl group. The aryl group preferably has 6 to 25 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms, and most preferably 6 to 10 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl. Examples of the substituent of the substituted aryl group are the same as the substituent of the nitrogen-containing heterocyclic ring of Z ¹ and Z ² . Examples of substituted aryl groups include 4-carboxyphenyl, 4-acetamidophenyl, 3-methanesulfonamidophenyl,
4-methoxyphenyl, 3-carboxyphenyl, 3,
5-Dicarboxyphenyl, 4-methanesulfonamidophenyl and 4-butanesulfonamidophenyl are included.

【００３７】本発明において、複素環基は、置換基を有
していてもよい。複素環基の複素環は、５または６員環
であることが好ましい。複素環に、脂肪族環、芳香族環
または他の複素環が縮合していてもよい。複素環（縮合
環を含む）の例には、ピリジン環、ピペリジン環、フラ
ン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノ
リン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール
環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン
環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、
ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環および
チアジアゾール環が含まれる。複素環の置換基は、Ｚ¹
およびＺ²の含窒素複素環の置換基と同じである。In the present invention, the heterocyclic group may have a substituent. The heterocyclic ring of the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. An aliphatic ring, an aromatic ring, or another hetero ring may be condensed with the hetero ring. Examples of heterocycles (including fused rings) include pyridine, piperidine, furan, furfuran, thiophene, pyrrole, quinoline, morpholine, indole, imidazole, pyrazole, carbazole and phenothiazine Ring, phenoxazine ring, indoline ring, thiazole ring,
Includes pyrazine, thiadiazine, benzoquinoline and thiadiazole rings. The substituent of the heterocyclic ring is Z ¹
And the same as the substituents of the nitrogen-containing heterocyclic ring represented by Z ² .

【００３８】一般式（１）のＲ¹およびＲ²で表される脂
肪族基および芳香族基は前述と同じである。Ｌ¹は奇数
個のメチンからなるメチン鎖であり、５個または７個が
好ましい。メチン基は置換基を有していてもよい。置換
基を有するメチン基は中央の（メソ位の）メチン基であ
ることが好ましい。置換基の例としては、Ｚ¹およびＺ²
の含窒素複素環の置換基と同様である。また、メチン鎖
の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても
良い。The aliphatic group and the aromatic group represented by R ¹ and R ² in the general formula (1) are the same as described above. L ¹ is a methine chain composed of an odd number of methines, preferably 5 or 7 methines. The methine group may have a substituent. The substituted methine group is preferably a central (meso-position) methine group. Examples of the substituent include Z ¹ and Z ²
And the same as the above substituents for the nitrogen-containing heterocyclic ring. Further, two substituents of the methine chain may be combined to form a 5- or 6-membered ring.

【００３９】ａ、ｂ及びｃは、それぞれ独立に、０又は
１である。ａおよびｂは、０であることが好ましい。ｃ
はシアニン染料がスルホやカルボキシルのようなアニオ
ン性置換基を有して分子内塩を形成する場合は、０であ
る。Ｘ¹はアニオンである。アニオンの例としては、ハ
ライドイオン（Ｃｌ^-、Ｂｒ ^-、Ｉ^-）、ｐ−トルエンス
ルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-ま
たはＣｌＯ₄ ^-が含まれる。本発明のシアニン染料は、カ
ルボキシル基またはスルホ基を含むことが好ましい。シ
アニン染料の具体例を示す。A, b and c are each independently 0 or
It is one. a and b are preferably 0. c
Means that the cyanine dye is an anion such as sulfo or carboxyl
Is 0 when an internal salt is formed with
You. X¹Is an anion. Examples of anions include
Ride ion (Cl^-, Br ^-, I^-), P-toluenes
Sulfonate ion, ethyl sulfate ion, PF₆ ^-, BF_Four ^-Ma
Or ClO_Four ^-Is included. The cyanine dye of the present invention
It preferably contains a ruboxyl group or a sulfo group. Shi
Specific examples of an anine dye are shown below.

【００４０】[0040]

【化２】 Embedded image

【００４１】[0041]

【化３】 Embedded image

【００４２】[0042]

【化４】 Embedded image

【００４３】[0043]

【化５】 Embedded image

【００４４】[0044]

【化６】 Embedded image

【００４５】オキソノール染料は、下記式で定義され
る。 ＡＫ＝Ｌｏ−Ａｅ （式中、Ａｋはケト型酸性核であり、Ａｅはエノール型
酸性核であり、Ｌｏは奇数個のメチンからなるメチン鎖
である。） 下記式（２）で表されるオキソノール染料は、特に会合
状態で好ましく用いることができる。 一般式（２）The oxonol dye is defined by the following formula. AK = Lo-Ae (where Ak is a keto-type acidic nucleus, Ae is an enol-type acidic nucleus, and Lo is a methine chain composed of an odd number of methines.) It is represented by the following formula (2). The oxonol dye can be preferably used particularly in an associated state. General formula (2)

【００４６】[0046]

【化７】 Embedded image

【００４７】一般式（２）において、Ｙ¹およびＹ²は、
それぞれ独立に、脂肪族環または複素環を形成する非金
属原子群である。脂肪族環より複素環のほうが好まし
い。脂肪族環の例には、インダンジオン環が含まれる。
複素環の例には、５−ピラゾロン環、イソオキサゾロン
環、バルビツール酸環、ピリドン環、ローダニン環、ピ
ラゾリジンジオン環、ピラゾロピリドン環およびメルド
ラム酸環が含まれる。脂肪族環および複素環は置換基を
有していてもよい。置換基は前述のＺ¹およびＺ²の含窒
素複素環の置換基と同様である。５−ピラゾロン環およ
びバルビツール酸環が好ましい。Ｌ²は、奇数個のメチ
ンからなるメチン鎖である。メチンの数は３、５または
７個であることが好ましく、5個が最も好ましい。メチ
ン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチ
ン基は中央の（メソ位の）メチン基であることが好まし
い。置換基の例としては、前述のアルキル基の置換基と
同様である。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して
５または６員環を形成しても良い。Ｘ²は、水素原子ま
たはカチオンである．カチオンの例には、アルカリ金属
（例、Ｎａ、Ｋ）イオン、アンモニウムイオン、トリエ
チルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオ
ン、ピリジニウムイオンおよびテトラブチルアンモニウ
ムイオンが含まれる。以下に、一般式（２）で表される
オキソノール染料の例を示す。In the general formula (2), Y ¹ and Y ² are
Each is independently a group of non-metallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring. Heterocycles are preferred over aliphatic rings. Examples of the aliphatic ring include an indandione ring.
Examples of the heterocycle include a 5-pyrazolone ring, an isoxazolone ring, a barbituric acid ring, a pyridone ring, a rhodanine ring, a pyrazolidinedione ring, a pyrazolopyridone ring and a Meldrum acid ring. The aliphatic ring and the heterocyclic ring may have a substituent. The substituent is the same as the above-mentioned substituent of the nitrogen-containing heterocyclic ring of Z ¹ and Z ² . A 5-pyrazolone ring and a barbituric acid ring are preferred. L ² is a methine chain consisting of an odd number of methine. The number of methines is preferably 3, 5 or 7 and most preferably 5. The methine group may have a substituent. The substituted methine group is preferably a central (meso-position) methine group. Examples of the substituent are the same as those described above for the alkyl group. Further, two substituents of the methine chain may be combined to form a 5- or 6-membered ring. X ² is a hydrogen atom or a cation. Examples of the cation include an alkali metal (eg, Na, K) ion, ammonium ion, triethylammonium ion, tributylammonium ion, pyridinium ion and tetrabutylammonium ion. Hereinafter, examples of the oxonol dye represented by the general formula (2) are shown.

【００４８】[0048]

【化８】 Embedded image

【００４９】[0049]

【化９】 Embedded image

【００５０】[0050]

【化１０】 Embedded image

【００５１】７５０〜８５０ｎｍ用としては、一般式
（２）のオキソノール染料を、８５１〜９５０ｎｍおよ
び９５１〜１１００ｎｍ用としては、一般式（１）のシ
アニン染料を用いることがさらに好ましい。It is more preferable to use the oxonol dye of the general formula (2) for 750 to 850 nm, and the cyanine dye of the general formula (1) for 851 to 950 nm and 951 to 1100 nm.

【００５２】また本発明の透明支持体には、５６０ｎｍ
〜６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する選択吸収フ
ィイルター層を有することが好ましい。プラズマディス
プレイでは赤、青、緑の三原色の組み合わせでカラー画
像を表示する。しかし、表示のための光を理想的な三原
色にすることは、非常に難しく、例えば、プラズマディ
スプレイパネルでは、三原色蛍光体からの発光に余分な
光（波長が５００〜６２０ｎｍの範囲）が含まれている
ことが知られている。そこで、表示色の色バランスを補
正するため特定の波長の光を吸収するフィルターを用い
て、色補正を行うことが提案されている。フィルターに
よる色補正については、特開昭５８−１５３９０４号、
同６１−１８８５０１号、特開平３−２３１９８８号、
同５−２０５６４３号、同９−１４５９１８号、同９−
３０６３６６号、同１０−２６７０４号の各公報に記載
がある。The transparent support of the present invention has a thickness of 560 nm.
It is preferable to have a selective absorption filter layer having an absorption maximum in a wavelength region of ６620 nm. A plasma display displays a color image in a combination of three primary colors of red, blue, and green. However, it is very difficult to make the light for display the ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel, extra light (wavelength in the range of 500 to 620 nm) is included in light emission from the three primary color phosphors. It is known that Therefore, it has been proposed to perform color correction using a filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-153904 discloses color correction using a filter.
No. 61-188501, JP-A-3-231988,
Nos. 5-205564, 9-145918, 9-
These are described in JP-A Nos. 306366 and 10-26704.

【００５３】本発明の選択吸収フィルター層は、５６０
〜６２０ｎｍの波長領域に吸収極大（透過率の極小）を
有していることが好ましい。吸収極大は、５７０〜６０
０ｎｍの波長領域にあることがさらに好ましく、５８０
〜６００ｎｍの波長領域にあることが最も好ましい。吸
収極大における透過率は、０．０１〜９０％であること
が好ましく、０．１〜７０％であることがさらに好まし
い。吸収極大の波長は、光を照射することにより移動さ
せることもできる。The selective absorption filter layer according to the present invention comprises 560
It is preferable to have an absorption maximum (minimum transmittance) in a wavelength region of ６620 nm. The absorption maximum is 570-60
More preferably, it is in the wavelength region of 0 nm.
Most preferably, it is in the wavelength range of -600 nm. The transmittance at the absorption maximum is preferably from 0.01 to 90%, more preferably from 0.1 to 70%. The wavelength of the absorption maximum can also be moved by irradiating light.

【００５４】さらに選択吸収フィルター層は、５６０〜
６２０ｎｍの波長領域における吸収極大に加えて、５０
０〜５５０ｎｍの波長領域にも吸収極大を有していても
よい。５００〜５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけ
る透過率は２０〜８５％であることが好ましい。５００
〜５５０ｎｍの波長領域の吸収極大は、視感度が高い緑
の蛍光体の発光強度を調整するために設定される。緑の
蛍光体の発光域は、なだらかにカットすることが好まし
い。５００〜５５０ｎｍの波長領域の吸収極大での半値
幅（吸収極大での吸光度の半分の吸光度を示す波長領域
の幅）は、３０〜３００ｎｍであることが好ましく、４
０〜３００ｎｍであることがより好ましく、５０〜１５
０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１５０ｎｍ
であることが最も好ましい。Further, the selective absorption filter layer has
In addition to the absorption maximum in the wavelength region of 620 nm, 50
It may have an absorption maximum in a wavelength region of 0 to 550 nm. The transmittance at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is preferably 20 to 85%. 500
The absorption maximum in the wavelength region of ５550 nm is set to adjust the emission intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. The half width at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm (the width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 30 to 300 nm, and preferably 4 to 300 nm.
It is more preferably 0 to 300 nm, and 50 to 15 nm.
0 nm, more preferably 60 to 150 nm.
Is most preferred.

【００５５】５６０〜６２０ｎｍの波長領域における吸
収極大は、なるべく緑の蛍光体の発光に影響を与えない
よう選択的に光をカットするため吸収スペクトルのピー
クをシャープにすることが好ましい。５６０〜６２０ｎ
ｍの波長領域における吸収極大での半値幅は、５〜７０
ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであること
がさらに好ましく、１０〜３０ｎｍであることが最も好
ましい。The absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm preferably sharpens the peak of the absorption spectrum to selectively cut off the light so as not to affect the emission of the green phosphor. 560-620n
The half width at the absorption maximum in the wavelength region of m is 5 to 70.
nm, more preferably 10 to 50 nm, and most preferably 10 to 30 nm.

【００５６】選択吸収フィルター層に上記の吸収スペク
トルを付与するためには、色素（染料または顔料）を用
いることが好ましい。５００〜５５０ｎｍの波長領域に
吸収極大を持つ色素としては、スクアリリウム染料、ア
ゾメチン染料、シアニン染料、オキソノール染料、アン
トラキノン染料、アゾ染料、ベンジリデン染料あるいは
それらをレーキ化した顔料が好ましく用いられる。５０
０〜５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を持つ染料の例を
以下に示す。In order to impart the above-mentioned absorption spectrum to the selective absorption filter layer, it is preferable to use a dye (dye or pigment). As the dye having an absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm, a squarylium dye, an azomethine dye, a cyanine dye, an oxonol dye, an anthraquinone dye, an azo dye, a benzylidene dye, or a pigment obtained by raked therefrom is preferably used. 50
Examples of the dye having the absorption maximum in the wavelength region of 0 to 550 nm are shown below.

【００５７】[0057]

【化１１】 Embedded image

【００５８】[0058]

【化１２】 Embedded image

【００５９】[0059]

【化１３】 Embedded image

【００６０】５６０〜６２０ｎｍの波長領域に吸収極大
を持つ色素としては、シアニン染料、スクアリリウム染
料、アゾメチン染料、キサンテン染料、オキソノール染
料、アゾ染料あるいはそれらをレーキ化した顔料が好ま
しく用いられる。５６０〜６２０ｎｍの波長領域に吸収
極大を持つ染料の例を以下に示す。As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm, a cyanine dye, a squarylium dye, an azomethine dye, a xanthene dye, an oxonol dye, an azo dye or a pigment obtained by rake of these dyes is preferably used. Examples of dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm are shown below.

【００６１】[0061]

【化１４】 Embedded image

【００６２】[0062]

【化１５】 Embedded image

【００６３】[0063]

【化１６】 Embedded image

【００６４】[0064]

【化１７】 Embedded image

【００６５】選択吸収フィルター層には、２種類以上の
色素を組み合わせて用いることができる。選択吸収フィ
ルター層の厚さは、０．１μｍ〜５００μｍであること
が好ましく、０．５〜１００μｍであることがさらに好
ましく、１〜１５μｍであることが最も好ましい。選択
吸収フィルター層は、色素単独でも形成可能だが、色素
の安定性および反射率特性の制御のためポリマーバイン
ダーを含むことができる。In the selective absorption filter layer, two or more dyes can be used in combination. The thickness of the selective absorption filter layer is preferably from 0.1 μm to 500 μm, more preferably from 0.5 to 100 μm, and most preferably from 1 to 15 μm. The selective absorption filter layer can be formed with a dye alone, but can include a polymer binder to control the stability and reflectance properties of the dye.

【００６６】本発明のポリマーバインダーとしてはゼラ
チンが好ましいが、そのほかにアクリル系、ウレタン
系、ＳＢＲ系、オレフィン系、塩化ビニリデン系、酢酸
ビニル系、ポリエステル系、またはこれらの共重合体が
好ましく用いられる。ポリマーバインダーとしては水、
溶剤等に溶解する直鎖のポリマー、枝分かれしたポリマ
ー、また溶解しない架橋されたポリマーのいずれでも良
く、形態としては溶液ポリマー、分散されたラテックス
のいずれでも良い。架橋されたポリマーについては、ラ
テックスとして用いるのが好ましい。また、ポリマーと
しては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマー
でも良いし、２種以上のモノマーが重合したコポリマー
でも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも
ブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は、数
平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１
００００〜１０００００程度が好ましい。分子量が小さ
すぎるものは膜強度が不十分であり、大きすぎるものは
製膜性が悪く好ましくない。As the polymer binder of the present invention, gelatin is preferred, and in addition, acrylic, urethane, SBR, olefin, vinylidene chloride, vinyl acetate, polyester, or copolymers thereof are preferably used. . Water as the polymer binder,
The polymer may be any of a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer that does not dissolve in a solvent or the like, and may be in the form of a solution polymer or a dispersed latex. The crosslinked polymer is preferably used as a latex. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is 5,000 to 1,000,000 in number average molecular weight, preferably 1
About 0000 to 100000 is preferable. If the molecular weight is too small, the film strength is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

【００６７】本発明で使用できる高分子ラテックスの具
体例としては以下のようなものがある。メチルメタクリ
レート／エチルアクリレート／メタクリル酸コポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート／２−エチルヘキ
シルアクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリ
マーのラテックス、スチレン／ブタジエン／ジビニルベ
ンゼン／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチル
メタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／ア
クリロニトリル／メタクリル酸コポリマーのラテックス
など。Specific examples of the polymer latex usable in the present invention are as follows. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like.

【００６８】選択吸収フィルター層に、褪色防止剤を添
加してもよい。染料の安定化剤として機能する褪色防止
剤の例には、ハイドロキノン誘導体（米国特許３９３５
０１６号、同３９８２９４４号の各明細書記載）、ハイ
ドロキノンジエーテル誘導体（米国特許４２５４２１６
号明細書および特開昭５５−２１００４号公報記載）、
フェノール誘導体（特開昭５４−１４５５３０号公報記
載）、スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼン
の誘導体（英国特許公開２０７７４５５号、同２０６２
８８８号の各明細書および特開昭６１−９０１５５号公
報記載）、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの
誘導体（米国特許３４３２３００号、同３５７３０５０
号、同３５７４６２７号、同３７６４３３７号の各明細
書および特開昭５２−１５２２２５号、同５３−２０３
２７号、同５３−１７７２９号、同６１−９０１５６号
の各公報記載）、ハイドロキノンモノエーテルまたはパ
ラアミノフェノールの誘導体（英国特許１３４７５５６
号、同２０６６９７５号の各明細書および特公昭５４−
１２３３７号、特開昭５５−６３２１号の各公報記載）
およびビスフェノール誘導体（米国特許３７００４５５
号明細書および特公昭４８−３１６２５号公報記載）が
含まれる。An anti-fading agent may be added to the selective absorption filter layer. Examples of anti-fading agents that function as dye stabilizers include hydroquinone derivatives (US Pat.
016, 3982944, and hydroquinone diether derivatives (US Pat. No. 4,254,216).
Specification and JP-A-55-21004),
Phenol derivatives (described in JP-A-54-145530), spiroindane or methylenedioxybenzene derivatives (UK Patent Publication Nos. 20774455 and 2062)
888, and JP-A-61-90155), chroman, spirochroman or coumaran derivatives (US Pat. Nos. 3,432,300 and 3,573,050).
Nos. 3574627 and 3764337 and JP-A Nos. 52-152225 and 53-203.
27, 53-17729 and 61-90156), hydroquinone monoether or paraaminophenol derivatives (British Patent 1347556)
Nos. 2066975 and JP-B-54-975.
12337, JP-A-55-6321)
And bisphenol derivatives (US Pat. No. 3,700,455)
And Japanese Patent Publication No. 48-31625).

【００６９】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体（米国特許４２４５０１８号明細
書および特開昭６０−９７３５３号公報記載）を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物（特開平２−３００２８８号公報記載）、ジ
インモニウム化合物（米国特許４６５６１２号明細書記
載）、ニッケル錯体（特開平４−１４６１８９号公報記
載）および酸化防止剤（欧州特許公開８２００５７Ａ１
号明細書記載）が含まれる。In order to improve the stability of the dye to light or heat, a metal complex (described in US Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353) may be used as an anti-fading agent. In order to further improve the light fastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288), a diimmonium compound (described in US Pat. No. 4,656,612), a nickel complex (described in JP-A-4-146189), and antioxidant. Agent (European Patent Publication 820057A1)
Description).

【００７０】本発明の導電性反射防止フィルムにはその
他、ハードコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層ある
いは中間層を設けることもできる。ハードコート層は、
架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコ
ート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、シロ
キサン系のポリマー、オリゴマーまたはモノマー（例、
紫外線硬化型樹脂）を用いて形成することができる。中
でも多官能アクリレートモノマー（例えばペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、トリメチロールトリアクリレー
ト）から得られる架橋ポリマーが特に好ましい。また、
シリカ系、アルミナ系、酸化ジルコニウム系のフィラー
をハードコート層に添加して硬度を高くすることもでき
る。The conductive anti-reflection film of the present invention may further include a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer or an intermediate layer. The hard coat layer is
Preferably, it contains a cross-linked polymer. The hard coat layer is formed of an acrylic, urethane, epoxy, or siloxane polymer, oligomer or monomer (eg,
UV-curable resin). Among them, a crosslinked polymer obtained from a polyfunctional acrylate monomer (for example, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylol triacrylate) is particularly preferable. Also,
Hardness can also be increased by adding a silica-based, alumina-based, or zirconium oxide-based filler to the hard coat layer.

【００７１】最表面の反射防止層（通常は低屈折率層）
の上に、潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止
層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有す
る。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコン
オイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金
属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成す
ることができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍである
ことが好ましい。最表面の反射防止層の上に防汚層を設
けることもできる。防汚層は反射防止層の表面エネルギ
ーを下げ、親水性あるいは親油性の汚れを付きにくくす
るものである。防汚層は含フッ素ポリマーを用いて形成
することができる。防汚層の厚さは２〜１００ｎｍであ
ることが好ましく、５〜３０ｎｍであることがさらに好
ましい。The outermost antireflection layer (usually a low refractive index layer)
A lubricating layer may be formed thereon. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection layer and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably from 2 to 20 nm. An antifouling layer can also be provided on the outermost antireflection layer. The antifouling layer lowers the surface energy of the antireflection layer and makes it less likely to adhere to hydrophilic or lipophilic stains. The antifouling layer can be formed using a fluoropolymer. The thickness of the antifouling layer is preferably 2 to 100 nm, more preferably 5 to 30 nm.

【００７２】以上述べた本発明の導電性反射防止フィル
ムの種々の層は、一般的な塗布方法により形成すること
ができる。塗布方法の例には、ディップコート法、エア
ーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特
許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。ワイヤー
バーコート法、グラビアコート法およびエクストルージ
ョンコート法が好ましい。二つ以上の層を同時塗布によ
り形成してもよい。同時塗布法については、米国特許２
７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４
７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著
「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発
行）に記載がある。各層の塗布液には、ポリマーバイン
ダー、硬化剤、界面活性剤、ｐＨ調整剤のような添加剤
を加えることができる。塗布法以外にも、スパッタリン
グ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマ
ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法により層を形成することもで
きる。The various layers of the conductive antireflection film of the present invention described above can be formed by a general coating method. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Wire bar coating, gravure coating and extrusion coating are preferred. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. For the simultaneous coating method, see US Pat.
No. 761791, No. 2941898, No. 350894
No. 7, No. 3,526,528, and the description in Yuji Harazaki, “Coating Engineering,” p. 253 (published by Asakura Shoten in 1973). Additives such as a polymer binder, a curing agent, a surfactant, and a pH adjuster can be added to the coating solution for each layer. In addition to the coating method, the layer can be formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma CVD method, or a PVD method.

【００７３】本発明の導電性反射防止フィルムは、液晶
表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
あるいはその前面板に用いられる。また、本発明の導電
性反射防止フィルムは、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）、特にプラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いると、顕著な
効果が得られる。The conductive antireflection film of the present invention can be used for a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (P
DP), electroluminescent display (EL)
D) or an image display device such as a cathode ray tube display (CRT) or a front panel thereof. When the conductive antireflection film of the present invention is used for a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display (CRT), particularly a plasma display panel (PDP), a remarkable effect can be obtained.

【００７４】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材
料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基
板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。
二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガ
ラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラ
ス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。プラズ
マディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されてお
り、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号
の各公報に記載がある。前面板をプラズマディスプレイ
パネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマ
ディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備え
ていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレ
イパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラ
ズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもでき
る。本発明では、導電性反射防止フィルムを前面板、あ
るいはプラズマディスプレイパネルの表面に直接貼り付
けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が
設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏
側（ディスプレイ側）のいずれかまたは両面に本発明の
導電性反射防止フィルムを貼り付けることもできる。Plasma display panel (PDP)
Is generally composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate.
An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available and are described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366. In some cases, the front plate is arranged on the front of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front plate can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used directly attached to the plasma display body. In the present invention, the conductive anti-reflection film can be directly attached to the front plate or the surface of the plasma display panel. When a front panel is provided in front of the display, the conductive antireflection film of the present invention can be attached to either the front side (outside) or the rear side (display side) or both sides of the front panel.

【００７５】[0075]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は実施例に限定されて解釈されることはい
ささかもない。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but it should be understood that the present invention is not construed as being limited to the examples.

【００７６】実施例１ （下塗り層の形成）厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理
した後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃
のスチレン・ブタジエンコポリマーからなるラテックス
（ＬＸ４０７Ｃ５、日本ゼオン（株）製）を塗布し、下
塗り層を形成した。塗布量は、乾燥後の層厚さが透明支
持体の一方の面（Ａ面）で３００ｎｍ、他方の面（Ｂ
面）で１５０ｎｍとなるように調整した。Example 1 (Formation of Undercoat Layer) After a corona treatment was applied to both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm, both sides had a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C.
(LX407C5, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was applied to form an undercoat layer. The coating amount is such that the layer thickness after drying is 300 nm on one surface (A surface) of the transparent support, and the other surface (B
(Plane) was adjusted to 150 nm.

【００７７】（選択吸収フィルター層および赤外カット
層の形成）ゼラチンの１０重量％水溶液１８０ｇにｐＨ
が７になるように１規定の水酸化ナトリウム溶液を添加
し、下記（色素１）の塗布量が１５ｍｇ／ｍ²および化
合物（２−７）２４．５ｍｇ／ｍ²および（１−１２）
４５．９ｍｇ／ｍ²、（１−１３）２９．１ｍｇ／ｍ²お
よび下記（色素２）１２０ｍｇ／ｍ²となるように添加
し、３０℃で２４時間攪拌した。得られたフィルター層
用塗布液を透明支持体の厚さ３００ｎｍの下塗り層側
に、乾燥膜厚が３．５μｍとなるように塗布し、１２０
℃で１０分間乾燥して選択吸収フィルター層および赤外
カット層を兼ねる層を作成した。(Formation of Selective Absorption Filter Layer and Infrared Cut Layer) The pH was adjusted to 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin.
Was added 1 N sodium hydroxide solution such but becomes 7, the following (dye 1) of the coating amount of 15 mg / m ² and the compound (2-7) 24.5 mg / m ² and (1-12)
^{45.9mg / m 2, (1-13)} 29.1mg / m 2 and below (Dye 2) was added as a 120 mg / m ^2, and stirred for 24 hours at 30 ° C.. The obtained coating solution for a filter layer was applied to the undercoat layer side of the transparent support having a thickness of 300 nm so that the dry film thickness became 3.5 μm.
After drying at 10 ° C. for 10 minutes, a layer also serving as a selective absorption filter layer and an infrared cut layer was prepared.

【００７８】[0078]

【化１８】 Embedded image

【００７９】（反射防止層の形成）反応性フッ素ポリマ
ー（ＪＮ−７２１９、ＪＳＲ（株）製）２．５０ｇにｔ
−ブタノール１．５ｇを加え、室温で１０分間攪拌し、
１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過し、塗布液を
調製した。選択吸収フィルター層および赤外カット層を
形成した反対側の面（Ｂ面）にこの液をバーコーターを
用いて乾燥膜厚９０ｎｍになるように塗布し、１２０℃
で３分間乾燥し、反射防止層、選択吸収層および赤外カ
ット層を有する反射防止フィルムを作成した。(Formation of Antireflection Layer) Reactive fluoropolymer (JN-7219, manufactured by JSR Corp.)
-Add 1.5 g of butanol and stir at room temperature for 10 minutes,
The solution was filtered through a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution. This liquid was applied using a bar coater to a dry film thickness of 90 nm on the opposite surface (surface B) on which the selective absorption filter layer and the infrared cut layer were formed.
For 3 minutes to prepare an antireflection film having an antireflection layer, a selective absorption layer and an infrared cut layer.

【００８０】（金属薄膜からなるメッシュの形成）特開
平９−２９３９８９号公報と同様にして厚さ１７５μｍ
の透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
上に無電解めっき法で膜厚２μｍの銅箔膜を作製した。
本銅箔上にフォトレジストをスピンコーティングし、フ
ォトマスクを用いて密着露光、現像し、レジストに覆わ
れていない部分の金属層を１％希硝酸によりエッチング
除去し、銅線がランダムに配置された銅薄膜からなるメ
ッシュを作製した。銅線の平均線幅は９μｍである。(Formation of a mesh made of a metal thin film) The thickness was 175 μm in the same manner as in JP-A-9-293989.
A 2 μm-thick copper foil film was formed on the transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film of No. 1 by an electroless plating method.
Photoresist is spin-coated on the copper foil, contact exposure and development is performed using a photomask, and the metal layer of the part not covered with the resist is etched and removed with 1% diluted nitric acid, and copper wires are randomly arranged. A mesh made of the copper thin film was prepared. The average line width of the copper wire is 9 μm.

【００８１】（導電性反射防止フィルムの作成）上記反
射防止フィルムの反射防止層の反対側に、ＰＥＴ上に２
５μｍ厚のアクリル系粘着材を有するフィルムをラミネ
ートして、選択吸収フィルターおよび赤外カット層上に
粘着材層を設けた。次いでこの粘着材層と上記の金属薄
膜からなるメッシュとを貼合わせ、導電性反射防止フィ
ルムを作成した。(Preparation of Conductive Antireflection Film) On the opposite side of the antireflection layer of the above antireflection film, 2
A 5 μm-thick film having an acrylic adhesive was laminated, and an adhesive layer was provided on the selective absorption filter and the infrared cut layer. Next, this adhesive material layer and the mesh made of the above-mentioned metal thin film were attached to each other to prepare a conductive anti-reflection film.

【００８２】（導電性反射防止フィルムの評価、前面板
およびＰＤＰへの適用）上記で作成した導電性反射防止
フィルムについて、分光透過率を調べたところ、４００
ｎｍ、５９３ｎｍ、８１０ｎｍ、９０４ｎｍおよび９８
５ｎｍに吸収極大を有していた。４００ｎｍの吸収極大
での透過率は３２％、５９３ｎｍの吸収極大での透過率
は２８％、８１０ｎｍの吸収極大での透過率は４．６
％、９０５ｎｍの吸収極大での透過率は０．９％、９８
３ｎｍの吸収極大での透過率は２．８％であった。ま
た、可視領域での平均反射率は１．２％であり、金属薄
膜からなるメッシュの表面抵抗は、三菱油化（株）製Ｌ
ＯＲＥＳＴＡ−ＦＰ表面抵抗計の４端子のセンサーを用
いて測定したところ、０．５Ω/□以下であり、電磁波
防止として十分な低い抵抗を有するものであった。(Evaluation of Conductive Antireflection Film, Application to Front Plate and PDP) The spectral transmittance of the conductive antireflection film prepared above was measured.
nm, 593 nm, 810 nm, 904 nm and 98
It had an absorption maximum at 5 nm. The transmittance at the absorption maximum at 400 nm is 32%, the transmittance at the absorption maximum at 593 nm is 28%, and the transmittance at the absorption maximum at 810 nm is 4.6.
%, The transmittance at the absorption maximum of 905 nm is 0.9%, 98%.
The transmittance at the absorption maximum of 3 nm was 2.8%. The average reflectance in the visible region is 1.2%, and the surface resistance of the mesh made of a metal thin film is L
When measured using a four-terminal sensor of an ORESTA-FP surface resistance meter, it was 0.5 Ω / □ or less, and the resistance was low enough to prevent electromagnetic waves.

【００８３】次に、周りを導電性テープで縁取りした強
化ガラス上に、メッシュが導電性テープと直接接触する
様に上記で作製した導電性反射防止フィルムを貼合わ
せ、導電性テープからアースを取り、これを市販の日立
製４２インチプラズマディスプレイパネルの前面板のか
わりに設置し、プラズマディスプレイパネルを作成し
た。このプラズマディスプレイパネルは、外光反射およ
び二重像、三重像の発生が抑えられ、視認性に優れてい
た。Next, the conductive anti-reflection film prepared above was stuck on the tempered glass which was surrounded by a conductive tape so that the mesh was in direct contact with the conductive tape, and the ground was taken from the conductive tape. This was installed in place of the front plate of a commercially available 42-inch plasma display panel manufactured by Hitachi, to produce a plasma display panel. This plasma display panel was excellent in visibility because reflection of external light and generation of double images and triple images were suppressed.

【００８４】さらに、このプラズマディスプレイパネル
から前面板を取り外し、プラズマディスプレイパネルの
縁に導電性テープを貼り、その上にメッシュが直接接触
する様に上記で作製した導電性反射防止フィルムを貼合
わせ、導電性テープからアースを取って、前面板を持た
ないプラズマディスプレイを作成した。この場合も外光
反射および二重像、三重像の発生が抑えられ、視認性に
優れていた。Further, the front panel was removed from the plasma display panel, a conductive tape was attached to the edge of the plasma display panel, and the conductive anti-reflection film prepared above was attached thereon such that the mesh was in direct contact with the edge. By grounding the conductive tape, a plasma display having no front plate was produced. Also in this case, reflection of external light and generation of double images and triple images were suppressed, and the visibility was excellent.

【００８５】[0085]

【発明の効果】本発明の導電性反射防止フィルムは、外
光反射を抑え、かつ二重像、三重像の発生を抑えること
によりプラズマディスプレイパネルの視認性を改良する
ことができ、しかもプラズマディスプレイパネルから放
出される電磁波、赤外線を遮断することができる。ま
た、本発明のプラズマディスプレイパネル用前面板は、
プラズマディスプレイパネルの視認性を改良し、しかも
電磁波および赤外線を遮断することができる。また、本
発明のプラズマディスプレイパネルは、視認性に優れ、
放出される電磁波および赤外線が遮断され、しかも軽
量、薄型、かつ低コストである。According to the conductive antireflection film of the present invention, the visibility of a plasma display panel can be improved by suppressing external light reflection and suppressing the occurrence of double images and triple images. It can block electromagnetic waves and infrared rays emitted from the panel. Further, the front panel for a plasma display panel of the present invention,
The visibility of the plasma display panel can be improved, and electromagnetic waves and infrared rays can be cut off. Further, the plasma display panel of the present invention has excellent visibility,
The emitted electromagnetic waves and infrared rays are blocked, and the weight, thickness and cost are low.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】（ａ）、（ｂ）とも本発明のプラズマディスプ
レイパネルの例を模式的に示す概略断面図である。FIGS. 1A and 1B are schematic cross-sectional views schematically showing examples of a plasma display panel of the present invention.

【図２】本発明の導電性反射防止フィルムが有する金属
薄膜からなる格子状のメッシュのパターンの例を模式的
に示す概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view schematically illustrating an example of a grid-like mesh pattern made of a metal thin film included in the conductive anti-reflection film of the present invention.

【図３】（ａ）〜（ｄ）とも本発明の導電性反射防止フ
ィルムが有する金属薄膜からなるメッシュのパターンの
例を模式的に示す概略平面図である。FIGS. 3A to 3D are schematic plan views schematically showing examples of a mesh pattern made of a metal thin film included in the conductive antireflection film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 反射防止層 ２ 透明支持体 ３ 粘着材層 ４ 金属薄膜メッシュ ５ プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ） ６ ハードコート層 ７ 赤外カット層 ８ 選択吸収フィルター層 ９ 下塗り層 １０ 金属メッシュパターンの縦の線 １１ 金属メッシュパターンの横の線 REFERENCE SIGNS LIST 1 antireflection layer 2 transparent support 3 adhesive layer 4 metal thin film mesh 5 plasma display panel (PDP) 6 hard coat layer 7 infrared cut layer 8 selective absorption filter layer 9 undercoat layer 10 vertical line of metal mesh pattern 11 metal Horizontal line of mesh pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA05 CA12 CA19 CA24 CA27 2K009 AA02 AA15 BB13 BB14 BB24 BB28 CC02 CC03 CC09 CC23 CC33 CC34 CC35 DD02 EE00 EE03 4F100 AB01D AB17 AB33 AJ09 AK17 AK25 AK25G AK42 AR00B AR00C AR00E AS00E AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA13 CB05 DC11D EH71D EJ15D GB41 HB08D JD08 JD12E JG01 JL11C JM02D JN01A JN06 JN06B  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 2H048 CA04 CA05 CA12 CA19 CA24 CA27 2K009 AA02 AA15 BB13 BB14 BB24 BB28 CC02 CC03 CC09 CC23 CC33 CC34 CC35 DD02 EE00 EE03 4F100 AB01D AB17 AB33 AJ09 AK17 AK25 AR00A00A00 AT BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA13 CB05 DC11D EH71D EJ15D GB41 HB08D JD08 JD12E JG01 JL11C JM02D JN01A JN06 JN06B

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 透明支持体の一方の面に反射防止層を有
し、反対側の面に粘着材を介して金属薄膜からなるメッ
シュを有することを特徴とする導電性反射防止フィル
ム。1. A conductive anti-reflection film, comprising an anti-reflection layer on one surface of a transparent support, and a mesh made of a metal thin film on an opposite surface via an adhesive. 【請求項２】 金属薄膜からなるメッシュが、フォトリ
ソグラフィー法によりパターニングされその後エッチン
グ加工により形成されたものであることを特徴とする請
求項１に記載の導電性反射防止フィルム。2. The conductive anti-reflection film according to claim 1, wherein the mesh made of a metal thin film is patterned by photolithography and then formed by etching. 【請求項３】 金属薄膜が、無電解メッキ膜より形成さ
れたことを特徴とする請求項１または２に記載の導電性
反射防止フィルム。3. The conductive anti-reflection film according to claim 1, wherein the metal thin film is formed of an electroless plating film. 【請求項４】 金属薄膜からなるメッシュのパターン
が、ランダムな部分を有することを特徴とする請求項１
〜３のいずれかに記載の導電性反射防止フィルム。4. The pattern of a mesh made of a metal thin film has a random portion.
4. The conductive anti-reflection film according to any one of items 1 to 3. 【請求項５】 反射防止層を有する透明支持体が、さら
に赤外領域に吸収を有する赤外カット層を有することを
特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の導電性反射
防止フィルム。5. The conductive anti-reflection film according to claim 1, wherein the transparent support having an anti-reflection layer further has an infrared cut layer having absorption in an infrared region. . 【請求項６】 反射防止層を有する透明支持体が、さら
に５６０〜６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する選
択吸収フィルター層を有することを特徴とする請求項１
〜５のいずれかに記載の導電性反射防止フィルム。6. The transparent support having an antireflection layer, further comprising a selective absorption filter layer having an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm.
6. The conductive anti-reflection film according to any one of items 1 to 5. 【請求項７】 反射防止層を有する透明支持体が、反射
防止層と透明支持体との間にハードコート層を有するこ
とを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の導電性
反射防止フィルム。7. The conductive reflection according to claim 1, wherein the transparent support having the antireflection layer has a hard coat layer between the antireflection layer and the transparent support. Prevention film. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の導電性
反射防止フィルムが、粘着材を介して貼付けられている
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用前面
板。8. A front panel for a plasma display panel, wherein the conductive anti-reflection film according to claim 1 is adhered via an adhesive. 【請求項９】 請求項８に記載の前面板を設置したこと
を特徴とするプラズマディスプレイパネル。9. A plasma display panel provided with the front panel according to claim 8. 【請求項１０】請求項１〜７のいずれかに記載の導電性
反射防止フィルムが、粘着材を介して直接貼付けられて
いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。10. A plasma display panel, wherein the conductive anti-reflection film according to claim 1 is directly attached via an adhesive.