JP2002055626A - Gas discharge type display panel - Google Patents
Gas discharge type display panelInfo
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- JP2002055626A JP2002055626A JP2000238761A JP2000238761A JP2002055626A JP 2002055626 A JP2002055626 A JP 2002055626A JP 2000238761 A JP2000238761 A JP 2000238761A JP 2000238761 A JP2000238761 A JP 2000238761A JP 2002055626 A JP2002055626 A JP 2002055626A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はガス放電型表示パネ
ルに係り、特に、良好な電磁波シールド性と熱線（近赤
外線）カット性とを備え、かつ青色波長領域を含めた全
可視光領域での透光性に優れた前面フィルタを有するＰ
ＤＰ（プラズマディスプレーパネル）等のガス放電型表
示パネルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas discharge type display panel, and more particularly, to a gas discharge type display panel having good electromagnetic wave shielding property and heat ray (near infrared ray) cutting property, and in all visible light regions including a blue wavelength region. P having a front filter with excellent translucency
The present invention relates to a gas discharge type display panel such as a DP (plasma display panel).
【０００２】[0002]
【従来の技術】放電現像を利用したＰＤＰ（ｐｌａｓｍ
ａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ）は、液晶ディスプレ
イ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べて、次のよ
うな利点を有することから、近年、テレビやパソコン、
ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、その他の表示
板等のガス放電型表示パネルとして研究開発及び実用化
が進められている。 放電光利用であり自発光である。 ０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。 螢光体を利用してカラー発光できる。 大画面パネルが作り易い。2. Description of the Related Art PDP (plasm
A display panel has the following advantages over a liquid crystal display (LCD) and a cathode ray tube (CRT).
Research and development and commercialization of gas discharge type display panels such as OA equipment such as word processors, transportation equipment, signboards, and other display boards have been promoted. It uses discharge light and emits light. Since the discharge gap is 0.1 to 0.3 mm, it can be made into a panel type. Color light can be emitted using phosphors. Easy to make large screen panel.
【０００３】ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図３に示すような構成とされている。図３
において２１は前面板（フロントガラス）、２２は背面
板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放電
セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽
極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せ
ず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。The basic display mechanism of a PDP is to display characters and graphics by selectively discharging and emitting phosphors in a large number of discharge cells separated between two glass plates. For example, the configuration is as shown in FIG. FIG.
In the figure, 21 is a front plate (front glass), 22 is a rear plate (rear glass), 23 is a partition, 24 is a display cell (discharge cell), 25 is an auxiliary cell, 26 is a cathode, 27 is a display anode, and 28 is an auxiliary anode. A red phosphor, a green phosphor or a blue phosphor (not shown) is provided on the inner wall of each display cell 24 in the form of a film, and these phosphors are applied between the electrodes. It emits light when discharged by voltage.
【０００４】ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。An electromagnetic wave having a frequency of about several kHz to several GHz is generated from the front of the PDP by voltage application, discharge, and light emission, and it is necessary to shield the electromagnetic wave. In order to improve display contrast, it is necessary to prevent reflection of external light on the front surface. Further, there is a problem that the screen is overheated by the heat from the main body side of the device.
【０００５】このため、従来においては、ＰＤＰからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をＰＤＰの前面に配置しているが、ＰＤ
Ｐと別体の透明板をＰＤＰの前面に設けたものでは、次
のような欠点がある。 ２つの板材を配置するため構造が複雑となる。 ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。For this reason, conventionally, a transparent plate having a function of shielding electromagnetic waves and the like is disposed on the front surface of the PDP in order to shield electromagnetic waves and the like from the PDP.
In the case where a transparent plate separate from P is provided on the front of the PDP, there are the following disadvantages. Since two plate members are arranged, the structure becomes complicated. Since a transparent substrate such as glass is required for both the PDP and the electromagnetic wave shielding transparent plate, the provision of the PDP and the electromagnetic wave shielding transparent plate increases the thickness and the weight. The number of parts and the number of production steps increase, which leads to an increase in cost.
【０００６】このような問題を解決し、ＰＤＰに電磁波
シールド材を一体化させたガス放電型表示パネルとし
て、ＰＤＰ本体と、該ＰＤＰ本体の前面に透明接着剤に
より接着された電磁波シールド材と、該電磁波シールド
材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを備
えてなる表示パネルであって、該透明基板とＰＤＰ本体
との間に、更に、熱線カット層を設けたものがある（特
開平１１−１１９６６６号公報）。As a gas discharge type display panel in which an electromagnetic wave shielding material is integrated with a PDP, a PDP body, an electromagnetic wave shielding material adhered to a front surface of the PDP body with a transparent adhesive, and There is a display panel including a transparent substrate adhered to a front surface of the electromagnetic wave shielding material with a transparent adhesive, and further including a heat ray cut layer between the transparent substrate and the PDP body ( JP-A-11-119666).
【０００７】この特開平１１−１１９６６６号公報の表
示パネルは、ＰＤＰと電磁波シールド材、熱線カット層
及び透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、
軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコ
ストの低減を図ることができる。しかも、電磁波シール
ド材と共に熱線カット層を積層一体化しているため、電
磁波シールド性のみならず、良好な近赤外線カット性を
得ることができる。In the display panel disclosed in JP-A-11-119666, the PDP and the electromagnetic wave shielding material, the heat ray cut layer and the transparent substrate are integrated with a transparent adhesive.
It is possible to improve productivity and reduce costs by reducing the weight, thickness, and number of parts. In addition, since the heat ray cut layer is laminated and integrated with the electromagnetic wave shielding material, not only electromagnetic wave shielding properties but also good near-infrared ray cutting properties can be obtained.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従来のＰＤＰは赤色、
緑色に比べて青色の発光強度が低いので、電磁波シール
ド性熱線カット層は４００ｎｍ付近の透光性に優れてい
ることが望まれる。ところが、酸化物透明導電膜とし
て、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯなどを用い
ると、この４００ｎｍ付近の透光性が悪くなる。The conventional PDP is red,
Since the emission intensity of blue light is lower than that of green light, it is desired that the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer has excellent translucency around 400 nm. However, when ITO, SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, or the like is used as the oxide transparent conductive film, the light transmittance near 400 nm deteriorates.
【０００９】また、前面板はコントラスト向上のために
点灯時／非点灯時の輝度差を大きくとる必要がある。そ
のため、ＣＲＴでも一般的に用いられているように発光
部分以外を黒くし、非点灯時の輝度を抑える必要があ
る。加えて、前面板の場合、表示面の殆どが表面に露出
しているため、家具としての色調も重要な因子となる。
日本人の場合、グリーン系の色が嫌われ、ブルー系の色
が好まれるため、前面板の色調を青色系にすることが望
まれている。Further, it is necessary to make the front panel large in luminance difference between when it is lit and when it is not lit, in order to improve the contrast. Therefore, it is necessary to blacken the portions other than the light-emitting portion, as generally used in the CRT, and to suppress the luminance when not lit. In addition, in the case of the front panel, since most of the display surface is exposed on the surface, the color tone as furniture is also an important factor.
Japanese people dislike green colors and prefer blue colors. Therefore, it is desired that the color tone of the front panel be blue.
【００１０】本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされ
たものであって、著しく良好な電磁波シールド性と熱線
カット性を有し、しかも青色領域を含めた可視光領域全
体の透過率が高く、鮮明な画像を得ることができる前面
フィルタを有したガス放電型表示パネルを提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, has remarkably good electromagnetic wave shielding properties and heat ray cutting properties, and has a high transmittance in the entire visible light region including the blue region. It is another object of the present invention to provide a gas discharge type display panel having a front filter capable of obtaining a clear image.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明のガス放電型表示
パネルは、ガス放電型表示パネル本体と透明基板とを、
該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との間に
電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤で接
合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、該電
磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜と金
属薄膜とを多層積層化した積層膜であることを特徴とす
るものである。The gas discharge type display panel of the present invention comprises a gas discharge type display panel main body and a transparent substrate.
In the gas discharge type display panel which is integrally joined with a transparent adhesive through an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer between the front surface of the gas discharge type display panel main body and the transparent substrate, the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is It is characterized in that it is a laminated film in which an oxide transparent conductive film and a metal thin film are laminated in multiple layers.
【００１２】本発明では、電磁波シールド性熱線カット
層を、次のような構成とするのが好ましい。 酸化チタン薄膜と金属薄膜との交互の多層好ましく
は５〜１３層の積層膜、特に好ましくは酸化チタン薄膜
／金属薄膜／酸化チタン薄膜／金属薄膜／酸化チタン薄
膜／金属薄膜／酸化チタン薄膜／金属薄膜／酸化チタン
薄膜の９層の積層膜。 基板側から、酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄膜の順で７〜
１９層、特に好ましくは１３層積層した積層膜。 基板側から、酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／チタン薄膜／酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／チタン薄膜の順で９〜２５層、特に好ましくは１７
層積層した積層膜。In the present invention, the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer preferably has the following configuration. A multilayer film of alternating titanium oxide thin films and metal thin films, preferably 5 to 13 layers, particularly preferably titanium oxide thin film / metal thin film / titanium oxide thin film / metal thin film / titanium oxide thin film / metal thin film / titanium oxide thin film / metal Nine layers of thin film / titanium oxide thin film. From the substrate side, 7 to 7 in the order of titanium oxide thin film / titanium thin film / metal thin film / titanium oxide thin film / titanium thin film / metal thin film
A laminated film having 19 layers, particularly preferably 13 layers. From the substrate side, 9 to 25 layers, particularly preferably 17 layers, in the order of titanium oxide thin film / titanium thin film / metal thin film / titanium thin film / titanium oxide thin film / titanium thin film / metal thin film / titanium thin film
A laminated film in which layers are laminated.
【００１３】ただし、上記，の場合、金属薄膜はチ
タン薄膜以外の金属薄膜である。However, in the above cases, the metal thin film is a metal thin film other than the titanium thin film.
【００１４】なお、最上層は酸化チタン薄膜とする。ま
た、金属薄膜としては銀薄膜又は銀を主成分とする銀合
金薄膜が好ましい。The uppermost layer is a titanium oxide thin film. Further, as the metal thin film, a silver thin film or a silver alloy thin film containing silver as a main component is preferable.
【００１５】かかる積層膜を電磁波シールド性熱線カッ
ト層とすることにより、高透明性で電磁波シールド性、
熱線カット性に著しく優れたものとすることができる。By forming such a laminated film as an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer, high transparency and electromagnetic wave shielding properties can be obtained.
The heat ray cutting property can be remarkably excellent.
【００１６】本発明においては、電磁波シールド性熱線
カット層を、ベースフィルム上に形成し、電磁波シール
ド性熱線カットフィルムとするのが好ましい。In the present invention, it is preferable that the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is formed on a base film to form an electromagnetic wave shielding heat ray cut film.
【００１７】また、接着一体化のための透明接着剤とし
て透明弾性接着剤を用いた場合には、衝撃等でガス放電
型表示パネルが破損した場合の破片の飛散を防止するこ
とができ、安全性が高められる。Further, when a transparent elastic adhesive is used as the transparent adhesive for bonding and integration, it is possible to prevent the fragments from being scattered when the gas discharge type display panel is damaged by an impact or the like, thereby providing a safety. Sex is enhanced.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のガ
ス放電型表示パネルの実施の形態を詳細に説明する。図
１は本発明のガス放電型表示パネルの実施の形態を示す
模式的な断面図であり、図２，４は電磁波シールド性熱
線カットフィルムを示す模式的な断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the gas discharge type display panel of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a gas discharge type display panel of the present invention, and FIGS. 2 and 4 are schematic sectional views showing an electromagnetic wave shielding heat ray cut film.
【００１９】このガス放電型表示パネル１０は、透明基
板２とＰＤＰ本体２０（このＰＤＰ本体としては図３に
示す構成、その他の各種のＰＤＰ本体を適用できる。）
との間に、接着剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂと、電
磁波シールド性熱線カットフィルム３を介在させ、一体
化したものである。透明基板２の表面には反射防止膜５
が形成されている。The gas discharge type display panel 10 has a transparent substrate 2 and a PDP body 20 (the structure shown in FIG. 3 and other various PDP bodies can be applied as the PDP body).
The bonding intermediate films 4A and 4B serving as an adhesive and the electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3 are interposed therebetween to be integrated. Antireflection film 5 on the surface of transparent substrate 2
Are formed.
【００２０】透明基板２の構成材料としては、ガラス、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、
ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−
メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙
げられる。The constituent materials of the transparent substrate 2 are glass,
Polyester, polyethylene terephthalate (PE
T), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film,
Polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion cross-linked ethylene
Methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably, glass, PET, PC, PMMA are mentioned.
【００２１】透明基板２の厚さは、通常の場合、０．１
〜１０ｍｍの範囲とされる。The thickness of the transparent substrate 2 is usually 0.1
It is in the range of 10 to 10 mm.
【００２２】本実施の形態のガス放電型表示パネル１０
では、表面側となる透明基板２の表面に反射防止膜５が
形成されている。この反射防止膜５としては、下記
（１）の単層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜と
の積層膜、例えば、下記（２）〜（５）のような積層構
造の積層膜が挙げられる。 （１） 透明基板よりも屈折率の低い透明膜を一層積層
したもの。 （２） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合
計２層に積層したもの。 （３） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの。 （４） 中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの。 （５） 高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。Gas discharge type display panel 10 of the present embodiment
In FIG. 2, an antireflection film 5 is formed on the surface of the transparent substrate 2 on the front side. As the antireflection film 5, a single-layer film of the following (1) or a laminated film of a high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film, for example, a laminated structure of the following (2) to (5) A laminated film is exemplified. (1) A layer in which a transparent film having a lower refractive index than a transparent substrate is further laminated. (2) A high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film are laminated one by one into a total of two layers. (3) A laminate of four high-refractive-index transparent films and two low-refractive-index transparent films alternately, for a total of four layers. (4) One having three layers in total in the order of a medium refractive index transparent film / a high refractive index transparent film / a low refractive index transparent film. (5) A layer in which three layers are alternately laminated in the order of high refractive index transparent film / low refractive index transparent film, for a total of six layers.
【００２３】高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズイ
ンジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎ
Ｏ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上
の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することが
できる。また、低屈折率透明膜としてはＳｉＯ２、Ｍｇ
Ｆ２、Ａｌ２Ｏ３等の屈折率が１．６以下の低屈折率材
料よりなる薄膜を形成することができる。これらの膜厚
は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構
成、膜種、中心波長により異なってくるが４層構造の場
合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０
ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３
層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低
屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成さ
れる。As the high refractive index transparent film, ITO (tin indium oxide), ZnO, or Zn doped with Al is used.
A thin film having a refractive index of 1.8 or more, such as O, TiO 2 , SnO 2 , or ZrO, preferably a transparent conductive thin film can be formed. Further, as the low refractive index transparent film, SiO 2 , Mg
A thin film made of a low-refractive-index material having a refractive index of 1.6 or less, such as F 2 or Al 2 O 3, can be formed. These film thicknesses differ depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference. However, in the case of a four-layer structure, the first layer on the transparent substrate side (high refractive index) 5-50
nm, the second layer (low refractive index transparent film) is 5 to 50 nm,
The layer (high refractive index transparent film) is formed with a thickness of about 50 to 100 nm, and the fourth layer (low refractive index transparent film) is formed with a thickness of about 50 to 150 nm.
【００２４】この反射防止膜５の上に更に汚染防止膜を
形成して、表面の耐汚染性を高めるようにしても良い。
この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄膜、シリコ
ン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ程度の薄膜が
好ましい。An anti-contamination film may be further formed on the anti-reflection film 5 to enhance the surface's anti-staining property.
In this case, as the contamination prevention film, a thin film having a thickness of about 1 to 1000 nm made of a fluorine-based thin film, a silicon-based thin film, or the like is preferable.
【００２５】透明基板２には、更に、シリコン系材料等
によるハードコート処理、或いはハードコート層内に光
散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施しても良
い。また、透明基板２に反射防止フィルム、ハードコー
トフィルム、アンチグレアフィルム等を透明粘着剤や透
明接着剤で貼り付けることもできる。The transparent substrate 2 may be further subjected to a hard coat process using a silicon-based material or the like, or an anti-glare process in which a light scattering material is kneaded in the hard coat layer. Further, an anti-reflection film, a hard coat film, an anti-glare film, or the like can be attached to the transparent substrate 2 with a transparent adhesive or a transparent adhesive.
【００２６】電磁波シールド性熱線カットフィルム３
は、図２に示す如く、ベースフィルム１１上に、酸化チ
タン薄膜１２と金属薄膜１３とを交互に好ましくは５〜
１３層、特に好ましくは図４（ａ）に示す如く、ＰＥＴ
フィルム３０上に酸化チタン薄膜３１と銀（又は銀合
金）薄膜３２とを交互に９層積層した積層膜を設けたも
のである。なお、最上層は酸化チタン薄膜とする。Electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3
As shown in FIG. 2, a titanium oxide thin film 12 and a metal thin film 13 are alternately formed on a base film 11, preferably 5 to
13 layers, particularly preferably PET as shown in FIG.
A laminated film in which nine layers of titanium oxide thin films 31 and silver (or silver alloy) thin films 32 are alternately laminated on a film 30 is provided. The uppermost layer is a titanium oxide thin film.
【００２７】この積層数が５層より少ないと、電磁波シ
ールド性、熱線カット性が不足する。また、この積層数
が１３層よりも多いと透明性が損なわれ、好ましくな
い。If the number of layers is less than 5, the electromagnetic wave shielding property and the heat ray cutting property are insufficient. If the number of layers is more than 13, the transparency is impaired, which is not preferable.
【００２８】このベースフィルム１１としては、前述の
透明基板の構成材料と同様の樹脂フィルム、好ましく
は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用い
ることができる。このフィルムは、得られる窓材の厚さ
を過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保
する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。As the base film 11, a resin film similar to the above-mentioned constituent material of the transparent substrate, preferably a film made of PET, PC, PMMA or the like can be used. This film is preferably about 1 μm to 5 mm in order to ensure handleability and durability without excessively increasing the thickness of the obtained window material.
【００２９】このベースフィルム１１上に形成される酸
化チタン薄膜の膜厚は、通常の場合、５〜５０００Å程
度である。この酸化チタンは、ＴｉＯＸ（Ｘ＝０．５〜
１．５）のものが好ましい。The thickness of the titanium oxide thin film formed on the base film 11 is usually about 5 to 5000 °. This titanium oxide is TiO X (X = 0.5 to
1.5) is preferred.
【００３０】金属薄膜１３としては、銀、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、真鍮、
ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわない薄
さで形成することができ、その膜厚は、通常の場合、２
〜２０００Å程度である。なお、金属薄膜の金属が酸化
チタン薄膜中にマイグレーションしないようにするため
に、酸化チタン薄膜と金属薄膜との界面に金属チタンの
薄い層（例えば、厚さ１〜２００Å）を設けてもよい。As the metal thin film 13, a single film of silver, copper, aluminum, nickel, gold, platinum, chromium, etc., brass,
A film such as an alloy film of stainless steel or the like can be formed with a thickness that does not impair light transmittance.
It is about 2000 mm. In order to prevent the metal of the metal thin film from migrating into the titanium oxide thin film, a thin layer (for example, having a thickness of 1 to 200 °) of titanium metal may be provided at the interface between the titanium oxide thin film and the metal thin film.
【００３１】即ち、例えば、図４（ｂ）に示す如く、Ｐ
ＥＴフィルム３０上に、酸化チタン薄膜３１、チタン薄
膜３３、銀（又は銀合金）薄膜３２をこの繰り返し順で
７〜１９層、特に好ましくは１３層積層した積層膜、或
いは、図４（ｃ）に示す如く、ＰＥＴフィルム３０上
に、酸化チタン薄膜３１、チタン薄膜３３、銀（又は銀
合金）薄膜３２、チタン薄膜３３をこの繰り返し順で９
〜２５層、特に好ましくは１７層積層した積層膜が挙げ
られる。この積層膜においても、積層数が上記範囲より
も少ないと電磁波シールド性、熱線カット性が不足す
る。また、積層数が上記範囲よりも多いと透明性が損な
われ、好ましくない。That is, for example, as shown in FIG.
On the ET film 30, a titanium oxide thin film 31, a titanium thin film 33, and a silver (or silver alloy) thin film 32 are laminated in a repeating sequence of 7 to 19 layers, particularly preferably 13 layers, or FIG. As shown in FIG. 3, a titanium oxide thin film 31, a titanium thin film 33, a silver (or silver alloy) thin film 32, and a titanium thin film 33 are formed on a PET film 30 in this repeating order.
A laminated film in which 25 layers, particularly preferably 17 layers are laminated is exemplified. Also in this laminated film, if the number of layers is smaller than the above range, the electromagnetic wave shielding property and the heat ray cutting property are insufficient. On the other hand, if the number of layers is larger than the above range, transparency is impaired, which is not preferable.
【００３２】これらの酸化チタン薄膜及び金属薄膜やチ
タン薄膜は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なス
パッタ法により、ベースフィルム上に容易に形成するこ
とができる。These titanium oxide thin film, metal thin film and titanium thin film can be easily formed on a base film by a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a CVD method or the like, preferably by a sputtering method whose film thickness can be easily controlled. Can be formed.
【００３３】本発明においては、透明導電性フィルムを
透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に設けても良い。こ
の透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させ
た樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を
形成したものを用いることができる。In the present invention, a transparent conductive film may be provided between the transparent substrate 2 and the PDP body 20. As the transparent conductive film, a resin film in which conductive particles are dispersed or a base film having a transparent conductive layer formed thereon can be used.
【００３４】このフィルム中に分散させる導電性粒子と
しては、導電性を有するものであれば良く特に制限はな
いが、例えば、次のようなものが挙げられる。 (I) カーボン粒子ないし粉末。 (II) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末。 (III) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック
粒子の表面に上記(I)，(II)の導電性材料のコーティン
グ層を形成したもの。The conductive particles dispersed in the film are not particularly limited as long as they have conductivity, and examples thereof include the following. (I) Carbon particles or powder. (II) Metals or alloys of nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, aluminum, copper, titanium, cobalt, lead and the like, or particles or powders of these conductive oxides. (III) A plastic particle such as polystyrene or polyethylene on the surface of which a coating layer of the conductive material of (I) or (II) is formed.
【００３５】これらの導電性粒子の粒径は、過度に大き
いと光透過性や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼ
すことから、０．５ｍｍ以下であることが好ましい。好
ましい導電性粒子の粒径は０．０１〜０．５ｍｍであ
る。The particle size of these conductive particles is preferably 0.5 mm or less, since an excessively large particle size may affect the light transmittance and the thickness of the transparent conductive film. The preferred particle size of the conductive particles is 0.01 to 0.5 mm.
【００３６】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で０．１〜５０重量
％、特に０．１〜２０重量％、とりわけ０．５〜２０重
量％程度とするのが好ましい。If the mixing ratio of the conductive particles in the transparent conductive film is too large, the light transmittance is impaired, and if the mixing ratio is too small, the electromagnetic wave shielding property is insufficient. The proportion is preferably about 0.1 to 50% by weight, particularly about 0.1 to 20% by weight, especially about 0.5 to 20% by weight.
【００３７】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。The color and gloss of the conductive particles are appropriately selected according to the purpose, but are preferably dark and matte, such as black and brown, for use as a filter for a display panel. In this case, by adjusting the light transmittance of the filter appropriately by the conductive particles, there is also an effect that the screen becomes easy to see.
【００３８】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤ等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが０．０１μｍ未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、５μｍを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。Examples of the base film having a transparent conductive layer formed thereon include a transparent conductive layer formed of tin indium oxide, zinc aluminum oxide or the like formed by vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD, or the like. . In this case, if the thickness of the transparent conductive layer is less than 0.01 μm, the thickness of the conductive layer for shielding electromagnetic waves is too thin,
Sufficient electromagnetic wave shielding properties cannot be obtained, and if it exceeds 5 μm, light transmittance may be impaired.
【００３９】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ、
アクリル板、ＰＣ、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられ
る。As the matrix resin of the transparent conductive film or the resin of the base film, polyester, PET, polybutylene terephthalate, PMMA,
Acrylic plate, PC, polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc. Preferably, PET, PC and PMMA are mentioned.
【００４０】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。The thickness of such a transparent conductive film is
Usually, it is about 1 μm to 5 mm.
【００４１】透明導電性フィルムを設けることにより、
より一層優れた電磁波シールド性を得ることができる。By providing a transparent conductive film,
Even better electromagnetic wave shielding properties can be obtained.
【００４２】透明基板２とＰＤＰ本体２０を電磁波シー
ルド性熱線カットフィルム３を介して接着する接着樹脂
としては、透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せ
ガラス用接着剤として用いられているものが好ましく、
具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アク
リル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル
共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合
体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重
合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボ
キシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メ
タ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン
系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」
は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポ
リビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエス
テル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性
能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢
酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、
耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラ
スで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。The adhesive resin for bonding the transparent substrate 2 and the PDP body 20 through the electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3 is a transparent and elastic resin, for example, an adhesive resin which is usually used as an adhesive for laminated glass. Is preferred,
Specifically, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene- (meth) Methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxyethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride Ethylene-based copolymers such as copolymers and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymers ("(meth) acryl"
Represents "acryl or methacryl". ). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, etc. can also be used, but the most balanced in terms of performance and the easy-to-use one is ethylene-vinyl acetate It is a copolymer (EVA). Also, impact resistance,
PVB resins used in laminated glass for automobiles are also suitable from the viewpoints of penetration resistance, adhesion, transparency and the like.
【００４３】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。The PVB resin contains 70 to 95% by weight of a polyvinyl acetal unit, 1 to 15% by weight of a polyvinyl acetate unit, and has an average degree of polymerization of 200 to 3000, preferably 3 to 5%.
It is preferably from 00 to 2500, and the PVB resin is used as a resin composition containing a plasticizer.
【００４４】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。Examples of the plasticizer of the PVB resin composition include organic plasticizers such as monobasic acid esters and polybasic acid esters, and phosphoric acid plasticizers.
【００４５】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。The monobasic acid esters include butyric acid, isobutyric acid, caproic acid, 2-ethylbutyric acid, heptanoic acid, n-octylic acid, 2-ethylhexylic acid, pelargonic acid (n-
Esters obtained by the reaction of an organic acid such as nonylic acid) and decylic acid with triethylene glycol, and more preferably triethylene-di-2-ethylbutyrate and triethylene glycol-di-2-ethylhexo. Ethates, triethylene glycol-di-capronate, triethylene glycol-di-n-octoate and the like. Note that an ester of the above organic acid with tetraethylene glycol or tripropylene glycol can also be used.
【００４６】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。As the polybasic acid ester plasticizer, for example, an ester of an organic acid such as adipic acid, sebacic acid, azelaic acid and a linear or branched alcohol having 4 to 8 carbon atoms is preferable, and more preferably. , Dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl carbitol adipate and the like.
【００４７】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。Examples of the phosphate plasticizer include tributoxyethyl phosphate, isodecylphenyl phosphate, triisopropyl phosphate and the like.
【００４８】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。In the PVB resin composition, if the amount of the plasticizer is small, the film-forming property is reduced, and if the amount is large, the durability at the time of heat resistance is impaired. Therefore, the plasticizer is added in an amount of 5 to 100 parts by weight of polyvinyl butyral resin. 50 parts by weight, preferably 10-4
0 parts by weight.
【００４９】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。The PVB resin composition may further contain additives such as a stabilizer, an antioxidant, and an ultraviolet absorber for preventing deterioration.
【００５０】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して接着用中間膜についてより詳細に説明する。Hereinafter, the bonding intermediate film will be described in more detail by exemplifying a case where EVA is used as the resin.
【００５１】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。The EVA has a vinyl acetate content of 5 to 5
0% by weight, preferably 15-40% by weight is used. If the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in weather resistance and transparency, and if it exceeds 40% by weight, mechanical properties are remarkably deteriorated, film formation becomes difficult, and film mutual blocking occurs. .
【００５２】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。When crosslinking by heating, an organic peroxide is suitable as the crosslinking agent, and is selected in consideration of sheet processing temperature, crosslinking temperature, storage stability and the like. Usable peroxides include, for example, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-
Di (t-butylperoxy) hexane-3; di-t-butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide Α, α'-
Bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene;
n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1- Bis (t-butylperoxy) -3,
3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; tert-butylperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5
-Bis (tert-butylperoxy) hexyne-3; 1,1
-Bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisper Oxybenzoate; tertiary butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl peroxide; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used alone or as a mixture of two or more, usually in a proportion of 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA.
【００５３】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。The organic peroxide is usually extruded to EVA,
It is kneaded by a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like, and added to the EVA film by an impregnation method.
【００５４】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。To improve the physical properties of EVA (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.), various acryloxy or methacryloxy and allyl group-containing compounds are added. be able to. As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common, and ester residues include methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl and other alkyl groups, as well as cyclohexyl groups. , A tetrahydrofurfuryl group, an aminoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, and a 3-chloro-2-hydroxypropyl group. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. As the amide, diacetone acrylamide is typical.
【００５５】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。More specifically, polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol and glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, and maleate Allyl group-containing compounds, such as diallyl acid, are listed. These may be used alone or as a mixture of two or more.
0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 0 parts by weight
To 5 parts by weight.
【００５６】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is used in an amount of usually 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of EVA instead of the above-mentioned peroxide.
【００５７】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。In this case, usable photosensitizers include:
For example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl, p-nitroaniline, 2,4,6-triene Nitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-
1,9-benzanthrone and the like;
Species can be used alone or in combination of two or more.
【００５８】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。In this case, a silane coupling agent is used in combination as an accelerator. As the silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β
-Methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N
-Β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like.
【００５９】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。These silane coupling agents are usually EV
One or more kinds are mixed and used at a ratio of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of A.
【００６０】接着用中間膜４Ａ，４Ｂには、その他、紫
外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤
を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合
いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボン
ブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を
適量配合してもよい。The bonding interlayers 4A and 4B may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antioxidant, and a paint processing aid, and may be used to adjust the color of the filter itself. Colorants such as dyes and pigments, and fillers such as carbon black, hydrophobic silica, and calcium carbonate may be added in appropriate amounts.
【００６１】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。Further, as means for improving the adhesiveness, means such as corona discharge treatment, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, and ultraviolet light irradiation on the surface of the adhesive intermediate film formed into a sheet are also effective.
【００６２】接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添加剤
とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダ
ー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法
により所定の形状にシート成形することにより製造され
る。成膜に際してはブロッキング防止、透明基板との圧
着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。The adhesive intermediate film is prepared by mixing the adhesive resin and the above-mentioned additives, kneading the mixture with an extruder, a roll, or the like, and then forming the sheet into a predetermined shape by a film forming method such as calender, roll, T-die extrusion, or inflation. It is manufactured by molding. During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with a transparent substrate.
【００６３】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの厚さは、
ガス放電型表示パネルの用途等によっても異なるが、通
常の場合２μｍ〜２ｍｍ程度とされる。The thickness of the bonding intermediate films 4A and 4B is
Although it depends on the use of the gas discharge type display panel and the like, it is usually about 2 μm to 2 mm in a normal case.
【００６４】図１に示すガス放電型表示パネル１０を製
造するには、反射防止膜５を形成した透明基板２と、Ｐ
ＤＰ本体２０と、電磁波シールド性熱線カットフィルム
３と接着用中間膜４Ａ，４Ｂを準備し、透明基板２とＰ
ＤＰ本体２０との間に、電磁波シールド性熱線カットフ
ィルム３を接着用中間膜４Ａ，４Ｂの間に挟んだものを
積層し、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの硬化条件で加圧下、
加熱又は光照射して一体化すれば良い。To manufacture the gas discharge type display panel 10 shown in FIG. 1, the transparent substrate 2 on which the antireflection film 5 is formed
The DP main body 20, the electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3, and the bonding intermediate films 4A and 4B are prepared.
The electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3 sandwiched between the bonding intermediate films 4A and 4B is laminated between the DP main body 20 and the DP body 20 under pressure under the curing conditions of the bonding intermediate films 4A and 4B.
What is necessary is just to integrate by heating or light irradiation.
【００６５】なお、図１に示すガス放電型表示パネルは
本発明のガス放電型表示パネルの一例であって、本発明
は図示のものに限定されるものではない。例えば、電磁
波シールド性熱線カット層としての酸化チタン薄膜と金
属薄膜との多層積層膜は、透明基板或いはＰＤＰ本体に
形成されても良い。The gas discharge type display panel shown in FIG. 1 is an example of the gas discharge type display panel of the present invention, and the present invention is not limited to the illustrated one. For example, a multilayer laminated film of a titanium oxide thin film and a metal thin film as an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer may be formed on a transparent substrate or a PDP main body.
【００６６】また、前述の如く、近赤外線カットフィル
ムと共に透明導電性フィルムを設けたものであっても良
く、更には、透明基板の板面又はＰＤＰ本体の前面板に
直接透明導電性膜を形成したものであっても良い。この
ようなガス放電型表示パネルとしては、透明基板又はＰ
ＤＰ本体の前面板に次のような透明導電性膜を形成した
ものが挙げられる。 フォトレジストのコーティング、パターン露光及び
エッチングの工程により所定パターンにエッチングして
形成した格子状又はパンチングメタル状の金属膜。 導電性インキをパターン印刷して形成した格子状又
はパンチングメタル状の印刷膜。As described above, a transparent conductive film may be provided together with the near-infrared cut film. Further, a transparent conductive film is formed directly on the plate surface of the transparent substrate or the front plate of the PDP body. It may be what you did. As such a gas discharge type display panel, a transparent substrate or P
An example in which the following transparent conductive film is formed on the front plate of the DP main body is given. A grid-like or punching metal-like metal film formed by etching into a predetermined pattern by photoresist coating, pattern exposure and etching processes. A grid or punched metal printed film formed by pattern printing of conductive ink.
【００６７】また、本発明のガス放電型表示パネルは、
透明導電性フィルムの代りに、パターンエッチングによ
り格子状又はパンチングメタル状とした金属箔を透明基
板に接着したものであっても良く、更には導電性メッシ
ュを用いることを何ら排除するものではない。Further, the gas discharge type display panel of the present invention comprises:
Instead of the transparent conductive film, a metal foil formed into a grid or a punched metal by pattern etching may be adhered to a transparent substrate, and the use of a conductive mesh is not excluded at all.
【００６８】本発明のガス放電型表示パネルは、上記の
通り青色の透過性が高く、ＰＤＰの青色発光強度の低さ
を補うことができるが、この青色発光強度に低さを補償
するために青色の調色を施してもよい。例えば、ガス放
電型表示パネルの透明基板、フィルム、接着用樹脂など
に青色顔料を含有させて調色を行う。As described above, the gas discharge type display panel of the present invention has a high blue transmittance and can compensate for the low blue light emission intensity of the PDP. Blue toning may be applied. For example, toning is performed by including a blue pigment in a transparent substrate, a film, an adhesive resin, or the like of a gas discharge display panel.
【００６９】[0069]
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.
【００７０】なお、実施例及び比較例で用いた接着用中
間膜及び電磁波シールド性熱線カットフィルムは、次の
ようにして製造した。 ［接着用中間膜の製造］エチレン−酢酸ビニル共重合体
（東洋曹逹社製ウルトラセン６３４：酢酸ビニル含量２
６％、メルトインデックス４）１００重量部に、１，１
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１
重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン０．１重量部、ジアリルフタレート２重量部、及び紫
外線吸収剤としてスミソルブ１３０（住友化学工業社
製）０．５重量部とを混合し、４０ｍｍ押出機にて５０
０μｍ厚さの両面エンボスの接着用樹脂フィルム４Ａ，
４Ｂを作製した。 ［電磁波シールド性熱線カットフィルム］厚さ１００μ
ｍのＰＥＴフィルム上にマグネトロンスパッタリング法
により最外層、最内層の酸化チタン薄膜の厚さを２００
Åとし、中間層の酸化チタン薄膜の厚みを４００Å、銀
の厚さを５０Åとして図３に示す如くそれぞれ９層に交
互に積層して電磁波シールド性熱線カット層を形成して
電磁波シールド性熱線カットフィルム３とした。The bonding interlayer and the electromagnetic wave shielding heat ray cut film used in the examples and comparative examples were produced as follows. [Production of Adhesive Interlayer] Ethylene-vinyl acetate copolymer (Ultracene 634 manufactured by Toyo Soda Co., Ltd .: vinyl acetate content 2)
6%, melt index 4) 100 parts by weight, 1,1
-Bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane (Perhexa 3M manufactured by NOF Corporation) 1
Parts by weight, 0.1 part by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 2 parts by weight of diallyl phthalate, and 0.5 part by weight of Sumisolve 130 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as an ultraviolet absorber, and a 40 mm extruder At 50
0 μm thick double-sided embossed adhesive resin film 4A,
4B was produced. [Electromagnetic wave shielding heat ray cut film] 100μ thick
The thicknesses of the outermost and innermost titanium oxide thin films are 200 nm on a PET film having a thickness of 200 m by magnetron sputtering.
、, the thickness of the titanium oxide thin film of the intermediate layer is set to 400Å, and the thickness of silver is set to 50Å. As shown in FIG. Film 3 was obtained.
【００７１】実施例１ 透明基板２として厚さ３．０ｍｍのガラス板を用い、こ
の透明基板２の表面に、ＳｉＯ２／ＩＴＯ／ＳｉＯ２／
ＩＴＯよりなる反射防止膜（総膜厚約２５００Å）５を
形成した。この透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に、
２枚の接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂと、電磁波シール
ド性熱線カットフィルム３とを介在させ、これをゴム袋
に入れて真空脱気し、９０℃の温度で１０分加熱して予
備圧着した。その後、この予備圧着体をオーブン中に入
れ、１５０℃の条件下で１５分間加熱処理し、架橋硬化
させて一体化した。Example 1 A glass plate having a thickness of 3.0 mm was used as the transparent substrate 2, and the surface of the transparent substrate 2 was coated with SiO 2 / ITO / SiO 2 /
An anti-reflection film (total thickness: about 2500 °) 5 made of ITO was formed. Between the transparent substrate 2 and the PDP body 20,
The two adhesive resin films 4A and 4B and the electromagnetic wave shielding heat ray cut film 3 were interposed, put in a rubber bag, degassed under vacuum, heated at a temperature of 90 ° C. for 10 minutes, and pre-pressed. Thereafter, the pre-pressed body was placed in an oven, and heat-treated at 150 ° C. for 15 minutes, crosslinked and hardened, and integrated.
【００７２】なお、パネルは色調整を行っていないＮ
ｏ．１と、グレーに色調整したＮｏ．２とブルーに色調
整したＮｏ．３との３種類を製造した。The panel is not color-adjusted.
o. No. 1 and No. 1 color-adjusted to gray. No. 2 and the color adjusted to blue 3 were manufactured.
【００７３】得られたガス放電型表示パネルについて下
記方法により、３０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁
波シールド性、光透過率、熱線カット性を調べ、結果を
表１に示した。 ［電磁波シールド性］ＫＥＣ法（関西電子工業振興セン
ター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシールド測定装置
（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて電界の減衰測定を行った。
サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍであった。 ［光透過率（％）］日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ
−４０００）を用い、４５０ｎｍと５５０ｎｍの可視光
透過率を求めた。また、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に従って
視感度補正を行ったものを記載した。 ［熱線カット性］上記日立製可視紫外光分光測定装置
（Ｕ−４０００）を用い、８５０〜１１００ｎｍ間の平
均近赤外光透過率を求めた。With respect to the obtained gas discharge type display panel, the electromagnetic wave shielding property, the light transmittance, and the heat ray cut property at 30 MHz to 300 MHz were examined by the following method, and the results are shown in Table 1. [Electromagnetic Wave Shielding Property] An electric field attenuation measurement was performed using an EMI shield measuring device (MA8602B) manufactured by Anritsu Corporation based on the KEC method (Kansai Electronics Industry Promotion Center).
The size of the sample was 90 mm × 110 mm. [Light transmittance (%)] Visible ultraviolet spectrometer (U
-4000) to determine the visible light transmittance at 450 nm and 550 nm. In addition, those obtained by performing visibility correction according to JIS R 3106 are described. [Heat ray-cutting property] The average near-infrared light transmittance between 850 and 1100 nm was determined using the above-mentioned Hitachi-made visible ultraviolet spectrometer (U-4000).
【００７４】比較例１ 比較のため、酸化チタン薄膜の代わりにＩＴＯを用いた
こと以外は、実施例１と同様にして電磁波シールド性熱
線カットフィルムを製造し、このフィルムを用いて実施
例１と同様にしてガス放電型表示パネルを製造し、同様
にその評価を行って、結果を表１に示した。Comparative Example 1 For comparison, an electromagnetic wave shielding heat ray cut film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that ITO was used instead of the titanium oxide thin film. A gas discharge type display panel was manufactured in the same manner, and the evaluation was similarly performed. The results are shown in Table 1.
【００７５】[0075]
【表１】 [Table 1]
【００７６】表１より、電磁波シールド性熱線カット層
の酸化物導電薄膜を酸化チタン薄膜とすることにより、
青色領域を含めた全可視光領域での透明性、電磁波シー
ルド性、熱線カット性において良好な特性を得ることが
できることがわかる。As shown in Table 1, when the oxide conductive thin film of the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is made of a titanium oxide thin film,
It can be seen that good characteristics can be obtained in transparency in all visible light regions including the blue region, electromagnetic wave shielding properties, and heat ray cutting properties.
【００７７】色調整を行っていない実施例１のＮｏ．１
と比較例１のＮｏ．１との視感度補正可視光透過率の差
（７７．０−７３．４）、色調整を行った実施例１のＮ
ｏ．２，３と比較例１のＮｏ．２，３との視感度補正可
視光透過率の差（７３．２−６５．４，６８．１−６
０．９）は表２に示す通りであり、色調整を行った場合
に、本発明品は、比較例のものに比べて可視光透過率を
大幅に向上させることができることがわかる。No. 1 of Example 1 in which color adjustment was not performed. 1
And No. 1 of Comparative Example 1. The difference between the luminosity-corrected visible light transmittance and the luminosity factor (77.0-73.4) from Example 1 and N of Example 1 in which color adjustment was performed.
o. Nos. 2 and 3 and No. 1 of Comparative Example 1. Difference in visibility-corrected visible light transmittance between 2 and 3 (73.2-65.4, 68.1-6)
0.9) is as shown in Table 2, and it can be seen that when color adjustment is performed, the product of the present invention can significantly improve the visible light transmittance as compared with that of the comparative example.
【００７８】[0078]
【表２】 [Table 2]
【００７９】[0079]
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、青
色領域を含めた全可視光領域での透明性に優れ、且つ電
磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良好な前面フ
ィルタを一体化させたガス放電型表示パネルが提供され
る。As described above in detail, according to the present invention, a front filter which is excellent in transparency in all visible light regions including a blue region, and has excellent electromagnetic wave shielding properties and heat ray cutting properties is integrated. A gas discharge type display panel is provided.
【図１】本発明のガス放電型表示パネルの実施の形態を
示す模式的な断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a gas discharge type display panel of the present invention.
【図２】本発明に用いられる電磁波シールド性熱線カッ
トフィルムを示す模式的な断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an electromagnetic wave shielding heat ray cut film used in the present invention.
【図３】従来のＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図であ
る。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing a configuration of a conventional PDP.
【図４】本発明に用いられる電磁波シールド性熱線カッ
トフィルムを示す模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing an electromagnetic wave shielding heat ray cut film used in the present invention.
２ 透明基板 ３ 電磁波シールド性熱線カットフィルム ４Ａ，４Ｂ 接着用中間膜 ５ 反射防止膜 １０ ガス放電型表示パネル １１ ベースフィルム １２ 酸化チタン薄膜 １３ 金属薄膜 ２０ ＰＤＰ本体 ２１ 前面板 ２２ 背面板 ２３ 隔壁 ２４ 表示セル ２５ 補助セル ２６ 陰極 ２７ 表示陽極 ２８ 補助陽極 ３０ ＰＥＴフィルム ３１ 酸化チタン薄膜 ３２ 金属薄膜 ３３ チタン薄膜 Reference Signs List 2 Transparent substrate 3 Electromagnetic wave shielding heat ray cut film 4A, 4B Adhesive intermediate film 5 Antireflection film 10 Gas discharge display panel 11 Base film 12 Titanium oxide thin film 13 Metal thin film 20 PDP main body 21 Front plate 22 Back plate 23 Partition 24 Display Cell 25 auxiliary cell 26 cathode 27 display anode 28 auxiliary anode 30 PET film 31 titanium oxide thin film 32 metal thin film 33 titanium thin film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 GA07 GA12 GA33 5E321 AA04 BB23 BB25 CC16 GG05 GH01 5G435 AA09 AA16 BB06 DD11 GG31 GG33 HH02 HH12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 GA07 GA12 GA33 5E321 AA04 BB23 BB25 CC16 GG05 GH01 5G435 AA09 AA16 BB06 DD11 GG31 GG33 HH02 HH12
Claims (7)
を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜
と金属薄膜とを多層に積層化した積層膜であることを特
徴とするガス放電型表示パネル。1. A gas discharge type display panel main body and a transparent substrate are joined and integrated with a transparent adhesive between a front surface of the gas discharge type display panel main body and a transparent substrate via an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer. The gas discharge type display panel according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is a laminated film in which a transparent conductive oxide film and a metal thin film are laminated in multiple layers.
熱線カット層は、該酸化チタン薄膜と金属薄膜とを交互
に５〜１３層積層してなり、最上層が酸化チタン薄膜で
あることを特徴とするガス放電型表示パネル。2. The electromagnetic wave shielding heat ray cut layer according to claim 1, wherein the titanium oxide thin film and the metal thin film are alternately laminated in 5 to 13 layers, and the uppermost layer is a titanium oxide thin film. Gas discharge type display panel.
を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、基板側から、酸化
チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、酸化チタン薄膜、
チタン薄膜、金属薄膜という繰り返しで、酸化チタン薄
膜とチタン薄膜と金属薄膜とを７〜１９層積層してな
り、最上層が酸化チタン薄膜であることを特徴とするガ
ス放電型表示パネル。3. A gas discharge type display panel main body and a transparent substrate are joined and integrated with a transparent adhesive between a front surface of the gas discharge type display panel main body and the transparent substrate via an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer. In the gas discharge type display panel, the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is formed of a titanium oxide thin film, a titanium thin film, a metal thin film, a titanium oxide thin film,
A gas discharge type display panel comprising a titanium oxide thin film, a metal thin film, a titanium oxide thin film, a titanium thin film, and a metal thin film, which are repeated 7 to 19 times, and the uppermost layer is a titanium oxide thin film.
を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、基板側から、酸化
チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、チタン薄膜、酸化
チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、チタン薄膜という
繰り返しで、酸化チタン薄膜とチタン薄膜と金属薄膜と
チタン薄膜とを９〜２５層積層してなり、最上層が酸化
チタン薄膜であることを特徴とするガス放電型表示パネ
ル。4. A gas discharge type display panel main body and a transparent substrate are joined and integrated with a transparent adhesive between a front surface of the gas discharge type display panel main body and the transparent substrate via an electromagnetic wave shielding heat ray cut layer. In the gas discharge type display panel, the electromagnetic wave shielding heat ray cut layer is formed by repeating a titanium oxide thin film, a titanium thin film, a metal thin film, a titanium thin film, a titanium oxide thin film, a titanium thin film, a metal thin film, and a titanium thin film from the substrate side. A gas discharge display panel comprising 9 to 25 layers of a titanium oxide thin film, a titanium thin film, a metal thin film, and a titanium thin film, wherein the uppermost layer is a titanium oxide thin film.
て、前記電磁波シールド性熱線カット層はベースフィル
ム上に形成されており、前記ガス放電型表示パネル本体
と透明基板との間に、該電磁波シールド性熱線カット層
付きベースフィルムが介在されていることを特徴とする
ガス放電型表示パネル。5. The electromagnetic wave shielding heat ray cutting layer according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding heat ray cutting layer is formed on a base film, and is provided between the gas discharge type display panel main body and a transparent substrate. A gas discharge type display panel comprising a base film having a heat ray cut layer having an electromagnetic wave shielding property interposed therebetween.
て、該金属薄膜が銀薄膜又は銀を主成分とする銀合金薄
膜であることを特徴とするガス放電型表示パネル。6. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein the metal thin film is a silver thin film or a silver alloy thin film containing silver as a main component.
て、該透明接着剤が透明弾性接着剤であることを特徴と
するガス放電型表示パネル。7. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein the transparent adhesive is a transparent elastic adhesive.
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|---|---|---|---|---|
| JP2008089821A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Univ Of Tokyo | Optical multilayer reflective film |
| US7531952B2 (en) | 2004-01-30 | 2009-05-12 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Display panel device |
| WO2011152147A1 (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material |
-
2000
- 2000-08-07 JP JP2000238761A patent/JP2002055626A/en active Pending
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