JPH1197880A - Electromagnetic wave shielding heat ray cutting light-transmitting window material - Google Patents
Electromagnetic wave shielding heat ray cutting light-transmitting window materialInfo
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- JPH1197880A JPH1197880A JP25502297A JP25502297A JPH1197880A JP H1197880 A JPH1197880 A JP H1197880A JP 25502297 A JP25502297 A JP 25502297A JP 25502297 A JP25502297 A JP 25502297A JP H1197880 A JPH1197880 A JP H1197880A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド熱線
カット性光透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シール
ド性と熱線カット性とを兼備し、かつ光透過性で、ＰＤ
Ｐ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタ等と
して有用な電磁波シールド性光透過窓材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding heat ray-cutting light transmitting window material, and more particularly to a PD which has both good electromagnetic wave shielding property and heat ray cutting property, and has a light transmitting property.
The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light transmitting window material useful as a front filter of a P (plasma display panel) or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of office automation equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these equipment have become a problem. That is, there is a concern that the electromagnetic waves may affect the human body, and malfunctions of precision equipment due to the electromagnetic waves have become a problem.
【０００３】また、ＯＡ機器本体からの熱で画面が過熱
するという問題もあった。Another problem is that the screen is overheated by the heat from the OA equipment itself.
【０００４】このため、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィル
タとして、電磁波シールド性と熱線カット性を有し、か
つ光透過性の窓材が必要となる。[0004] For this reason, as a front filter of a PDP of an OA device, a window material that has electromagnetic wave shielding properties and heat ray cutting properties and is light transmissive is required.
【０００５】従来、電磁波シールド性と熱線カット性と
を兼備する窓材としては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化
物）や銀などの透明導電膜を形成したガラス板又は透明
フィルムを張り合わせたものが提案されている。Conventionally, as a window material having both an electromagnetic wave shielding property and a heat ray cutting property, a glass plate or a transparent film formed by forming a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) or silver has been proposed. ing.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
窓材では、ＰＤＰ用フィルタとしての透明性、電磁波シ
ールド性及び熱線カット性の要求特性をすべて満たすこ
とはできなかった。However, the conventional window materials cannot satisfy all of the required properties of the transparency, the electromagnetic wave shielding property and the heat ray cut property as a filter for PDP.
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、高透
明性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良
好な電磁波シールド熱線カット性光透過窓材を提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide an electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material which is highly transparent and has extremely good electromagnetic wave shielding properties and heat ray cutting properties.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
熱線カット性光透過窓材は、２枚の透明基板間に中間膜
を介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シ
ールド熱線カット性光透過窓材であって、該中間膜は、
酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積層してなる多
層膜を備えることを特徴とする。Means for Solving the Problems The electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material of the present invention is an electromagnetic wave shielding heat ray cutting property formed by integrally bonding an adhesive film with an intermediate film interposed between two transparent substrates. A light transmitting window material, wherein the intermediate film is
It is characterized by comprising a multilayer film in which transparent conductive oxide films and metal thin films are alternately laminated.
【０００９】酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積
層してなる多層膜であれば、透明性を損なうことなく、
著しく良好な電磁波シールド性と熱線（近赤外線）カッ
ト性を得ることができる。In the case of a multilayer film comprising an oxide transparent conductive film and a metal thin film alternately stacked, the transparency is not impaired.
Extremely good electromagnetic wave shielding properties and heat ray (near infrared) cut properties can be obtained.
【００１０】この多層膜は、これをベースフィルム上に
形成して、２枚の透明基板間に独立した中間膜として介
在させても良く、また、透明基板上に直接形成したもの
としても良い。This multilayer film may be formed on a base film and interposed as an independent intermediate film between two transparent substrates, or may be formed directly on a transparent substrate.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド熱線カット性光透過窓材の実施の形態を詳
細に説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material according to the present invention.
【００１２】図１は本発明の電磁波シールド熱線カット
性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図２
は中間膜３の拡大断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material of the present invention, and FIG.
3 is an enlarged sectional view of the intermediate film 3. FIG.
【００１３】まず、中間膜について詳細に説明する。First, the intermediate film will be described in detail.
【００１４】図２に示す如く、本実施例の中間膜３は、
ベースフィルム１１上に、酸化物透明導電膜１２と金属
薄膜１３とを交互に積層してなる多層膜を設けたもので
ある。As shown in FIG. 2, the intermediate film 3 of this embodiment is
On the base film 11, a multilayer film formed by alternately laminating an oxide transparent conductive film 12 and a metal thin film 13 is provided.
【００１５】このベースフィルム１１としては、後述の
透明基板の構成材料と同様の樹脂フィルム、好ましく
は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用い
ることができる。このフィルムは、得られる窓材の厚さ
を過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保
する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。As the base film 11, a resin film similar to a constituent material of a transparent substrate described later, preferably a film made of PET, PC, PMMA or the like can be used. This film is preferably about 1 μm to 5 mm in order to ensure handleability and durability without excessively increasing the thickness of the obtained window material.
【００１６】このベースフィルム１１上に形成される酸
化物透明導電膜１２としては、ＩＴＯ、ＺｎＯ、Ａｌを
ドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ2 等の薄膜を形成することが
でき、その膜厚は、通常の場合、５〜５０００Å程度で
ある。As the oxide transparent conductive film 12 formed on the base film 11, a thin film of ITO, ZnO, Al-doped ZnO, SnO 2 or the like can be formed. In this case, it is about 5 to 5000 °.
【００１７】また、金属薄膜１３としては、銀、銅、ア
ルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、
真鍮、ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわ
ない薄さで形成することができ、その膜厚は、通常の場
合、２〜２０００Å程度である。The metal thin film 13 may be a single film of silver, copper, aluminum, nickel, gold, platinum, chromium, etc.
A film such as an alloy film of brass, stainless steel or the like can be formed with a thickness that does not impair the light transmittance, and the film thickness is usually about 2 to 2000 mm.
【００１８】これらの酸化物透明導電膜１２及び金属薄
膜１３の積層数が少ないと十分な電磁波シールド性及び
熱線カット性が得られず、多過ぎると透明性が損なわれ
る。好ましい積層数は各々１〜２０層、合計で２〜４０
層である。If the number of stacked layers of the oxide transparent conductive film 12 and the metal thin film 13 is small, sufficient electromagnetic wave shielding properties and heat ray cutting properties cannot be obtained, and if too large, transparency is impaired. The preferred number of laminations is 1 to 20 layers each, 2 to 40 in total.
Layer.
【００１９】これらの酸化物透明導電膜１２及び金属薄
膜１３は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパ
ッタ法により、ベースフィルム１１上に容易に形成する
ことができる。The oxide transparent conductive film 12 and the metal thin film 13 are formed on the base film 11 by a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a CVD method or the like, preferably by a sputtering method whose film thickness can be easily controlled. It can be easily formed.
【００２０】図１に示す電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材１は、このような中間膜３を２枚の透明基板２
Ａ，２Ｂの間に介在させて接着用樹脂フィルムに４Ａ，
４Ｂで接合一体化してなるものである。The electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material 1 shown in FIG.
A, 2A, 4A,
4B.
【００２１】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられる。The constituent materials of the transparent substrates 2A and 2B include:
Glass, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, and the like, preferably, glass, PET, PC, and PMMA.
【００２２】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍ
の範囲とされる。The thickness of the transparent substrates 2A and 2B is appropriately determined according to the required characteristics (for example, strength and light weight) depending on the use of the obtained window material, but is usually 0.1 to 10 mm.
Range.
【００２３】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ０．１〜１
０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側（電磁波発生源側）
の透明基板２Ｂを厚さ１μｍ〜１０ｍｍ程度のＰＥＴフ
ィルム又はＰＥＴ板、アクリルフィルム又はアクリル
板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板
等とすることもできる。The transparent substrates 2A and 2B are not necessarily made of the same material. For example, in the case where only the front side is required to be scratch-resistant or durable, as in the case of a PDP front filter, this front side is used. Transparent substrate 2A having a thickness of 0.1 to 1
A glass plate of about 0mm, back side (electromagnetic wave source side)
The transparent substrate 2B can be a PET film or a PET plate, an acrylic film or an acrylic plate, a polycarbonate film or a polycarbonate plate having a thickness of about 1 μm to 10 mm.
【００２４】本実施例の電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材１では、裏面側となる透明基板２Ｂの周縁部に
アクリル樹脂をベースとする黒枠塗装６が設けられてい
る。In the electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material 1 of this embodiment, a black frame coating 6 based on an acrylic resin is provided on the periphery of the transparent substrate 2B on the back surface side.
【００２５】また、本実施例の電磁波シールド熱線カッ
ト性光透過窓材１では、表面側となる透明基板２Ａの表
面に反射防止膜５が形成されている。Further, in the electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material 1 of this embodiment, an antireflection film 5 is formed on the surface of the transparent substrate 2A on the front side.
【００２６】この透明基板２Ａの表面側に形成される反
射防止膜５としては、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
との積層膜、例えば、次のような積層構造の積層膜が挙
げられる。As the antireflection film 5 formed on the front side of the transparent substrate 2A, a laminated film of a high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film, for example, a laminated film having the following laminated structure is exemplified. Can be
【００２７】（ａ） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を１層ずつ合計２層に積層したもの （ｂ） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの （ｃ） 中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの （ｄ） 高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの 高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2 、
ＳｎＯ2 、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 、Ａｌ2 Ｏ
3 等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜
を形成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可
視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心
波長により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側
の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層
（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率
透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明
膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。(A) A high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film are laminated in a total of two layers each. (B) A high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film are alternately formed in two layers, each having a total of 4 layers. (C) a laminate of three layers, one layer each in the order of medium refractive index transparent film / high refractive index transparent film / low refractive index transparent film, and (d) high refractive index transparent film / low refractive index A transparent film in which three layers are alternately laminated in a total of six layers. The high refractive index transparent film is made of ITO (tin indium oxide), ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 ,
A thin film having a refractive index of 1.8 or more, such as SnO 2 or ZrO, preferably a transparent conductive thin film can be formed. Also,
SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O as low refractive index transparent film
A thin film made of a low-refractive-index material having a refractive index of 1.6 or less such as 3 can be formed. These film thicknesses differ depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference. However, in the case of a four-layer structure, the first layer on the transparent substrate side (high refractive index) 5 to 50 nm for the second layer (transparent film with low refractive index), 50 to 100 nm for the third layer (transparent film with high refractive index), and 50 for the fourth layer (transparent film with low refractive index). It is formed with a thickness of about 150 nm.
【００２８】本発明では、このような反射防止膜５の上
に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高める
ようにしても良い。この場合、汚染防止膜としては、フ
ッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１００
０ｎｍ程度の薄膜が好ましい。In the present invention, an anti-contamination film may be further formed on the anti-reflection film 5 so as to enhance the surface's anti-contamination resistance. In this case, as the contamination prevention film, a film thickness of 1 to 100 made of a fluorine-based thin film, a silicon-based thin film, or the like.
A thin film of about 0 nm is preferable.
【００２９】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、表面側となる透明基板２Ａには、更に、シリコン系
材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層
内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施し
ても良い。また、裏面側となる透明基板２Ｂには、金属
薄膜又は透明導電膜等の熱線反射コート等を施して機能
性を高めることができる。透明導電膜は表面側の透明基
板２Ａに形成することもできる。In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, the transparent substrate 2A on the front side is further subjected to a hard coat treatment with a silicon-based material or the like, or an antiglare in which a light scattering material is kneaded in the hard coat layer. Processing or the like may be performed. The functionality can be enhanced by applying a heat ray reflection coat or the like such as a metal thin film or a transparent conductive film to the transparent substrate 2B on the back side. The transparent conductive film can be formed on the transparent substrate 2A on the front side.
【００３０】本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂを中
間膜３を介して接着する接着樹脂としては、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重
合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレ
ン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エ
チレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢
酸ビニル共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる
が（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタ
クリル」を示す。）、性能面で最もバランスがとれ、使
い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）で
ある。In the present invention, the adhesive resin for bonding the transparent substrates 2A and 2B via the intermediate film 3 is ethylene-
Vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-
Ethylene copolymers such as (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer ("(Meth) acryl" means "acryl or methacryl"), but ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) is the most balanced in terms of performance and easy to use.
【００３１】透明基板２Ａ，２Ｂと中間膜３の積層体
は、ＥＶＡ等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架
橋剤を混合してシート化した２枚の接着用樹脂フィルム
４Ａ，４Ｂを用い、この接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂ
の間に中間膜３を挟んだものを透明基板２Ａ，２Ｂ間に
介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加
熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化すること
により容易に製造することができる。The laminated body of the transparent substrates 2A and 2B and the intermediate film 3 is formed by mixing a predetermined amount of a crosslinking agent for heat or light curing with a resin such as EVA or the like to form two adhesive resin films 4A and 4A. 4B, the adhesive resin films 4A, 4B
After the intermediate film 3 is interposed between the transparent substrates 2A and 2B, deaeration is performed under reduced pressure and heating and pre-compression bonding is performed, and then the adhesive layer is cured by heating or light irradiation to be integrated. Thus, it can be easily manufactured.
【００３２】なお、接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂの厚
さは、通常の場合、１μｍ〜１ｍｍ程度である。The thickness of the adhesive resin films 4A and 4B is usually about 1 μm to 1 mm.
【００３３】図示の電磁波シールド熱線カット性光透過
窓材は本発明の一例であって、本発明は何ら図示のもの
に限定されるものではない。The illustrated electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the illustrated one.
【００３４】例えば、中間膜は、透明基板とは別体のフ
ィルムとして２枚の透明基板間に介在させる他、一方又
は双方の透明基板の接着面側に、直接、前記酸化物透明
導電膜と金属薄膜との多層膜を形成したものであっても
良い。For example, the intermediate film may be interposed between the two transparent substrates as a separate film from the transparent substrate, and may be directly contacted with the oxide transparent conductive film on the bonding surface side of one or both transparent substrates. It may be formed by forming a multilayer film with a metal thin film.
【００３５】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して本発明に係る接着用樹脂フィルムについてより
詳細に説明する。Hereinafter, the adhesive resin film according to the present invention will be described in more detail by exemplifying the case where EVA is used as the resin.
【００３６】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。The EVA has a vinyl acetate content of 5 to 5
0% by weight, preferably 15-40% by weight is used. If the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in weather resistance and transparency, and if it exceeds 40% by weight, mechanical properties are remarkably deteriorated, film formation becomes difficult, and film mutual blocking occurs. .
【００３７】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。When crosslinking by heating, an organic peroxide is suitable as the crosslinking agent, and is selected in consideration of sheet processing temperature, crosslinking temperature, storage stability and the like. Usable peroxides include, for example, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-
Di (t-butylperoxy) hexane-3; di-t-butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide Α, α'-
Bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene;
n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1- Bis (t-butylperoxy) -3,
3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; tert-butylperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5
-Bis (tert-butylperoxy) hexyne-3; 1,1
-Bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisper Oxybenzoate; tertiary butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl peroxide; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used alone or as a mixture of two or more, usually in a proportion of 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA.
【００３８】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。The organic peroxide is usually extruded to EVA,
It is kneaded by a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like, and added to the EVA film by an impregnation method.
【００３９】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。In order to improve the physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.) of EVA, various acryloxy or methacryloxy and allyl group-containing compounds are added. be able to. As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common, and ester residues include methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl and other alkyl groups, as well as cyclohexyl groups. , A tetrahydrofurfuryl group, an aminoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, and a 3-chloro-2-hydroxypropyl group. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. As the amide, diacetone acrylamide is typical.
【００４０】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。More specifically, polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol and glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, and maleate Allyl group-containing compounds, such as diallyl acid, are listed. These may be used alone or as a mixture of two or more.
0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 0 parts by weight
To 5 parts by weight.
【００４１】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is used in an amount of usually 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of EVA instead of the above-mentioned peroxide.
【００４２】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。In this case, usable photosensitizers include
For example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl, p-nitroaniline, 2,4,6-triene Nitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-
1,9-benzanthrone and the like;
Species can be used alone or in combination of two or more.
【００４３】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。In this case, a silane coupling agent is used in combination as an accelerator. As the silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β
-Methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N
-Β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like.
【００４４】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。These silane coupling agents are usually EV
One or more kinds are mixed and used at a ratio of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of A.
【００４５】なお、本発明に係るＥＶＡ接着用樹脂に
は、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止
剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィ
ルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの
着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシ
ウム等の充填剤を適量配合してもよい。The EVA adhesive resin according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antioxidant, and a paint processing aid, and may adjust the color of the filter itself. For this purpose, an appropriate amount of a coloring agent such as a dye or a pigment, or a filler such as carbon black, hydrophobic silica or calcium carbonate may be blended.
【００４６】また、接着性改良の手段として、シート化
されたＥＶＡ接着用樹脂フィルム面へのコロナ放電処
理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの
手段も有効である。Further, as means for improving the adhesiveness, means such as corona discharge treatment, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, and ultraviolet light irradiation on the sheeted EVA bonding resin film are also effective.
【００４７】本発明に係るＥＶＡ接着用樹脂フィルム
は、ＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール
等で混練した後カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、イン
フレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形
することにより製造される。成膜に際してはブロッキン
グ防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエ
ンボスが付与される。The EVA adhesive resin film according to the present invention is prepared by mixing EVA with the above-mentioned additives, kneading the mixture with an extruder, a roll, or the like, and then forming the mixture by a film forming method such as calender, roll, T-die extrusion, or inflation. It is manufactured by forming a sheet into the shape of During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with a transparent substrate.
【００４８】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention can be effectively used as a front filter of a PDP or a window material of a place where precision equipment is installed in a hospital or a laboratory.
【００４９】[0049]
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.
【００５０】なお、実施例及び比較例で用いた接着用樹
脂フィルム及び中間膜は、次のようにして製造した。The adhesive resin films and intermediate films used in the examples and comparative examples were manufactured as follows.
【００５１】接着用樹脂フィルムの製造 エチレン−酢酸ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラ
セン６３４：酢酸ビニル含量２６％、メルトインデック
ス４）１００重量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日
本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部、ジアリ
ルフタレート２重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ１３０（住友化学工業社製）０．５重量部とを混合
し、４０ｍｍ押出機にて５００μｍ厚さの両面エンボス
の接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂを作製した。中間膜 厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上にマグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ４００ÅのＩＴＯ膜と厚さ１０
０ÅのＡｇ膜とを表１に示す積層数で交互に積層して多
層膜を形成して中間膜３とした。 Production of Adhesive Resin Film 100 parts by weight of ethylene-vinyl acetate copolymer (Ultracene 634, manufactured by Toyo Soda Co., Ltd., vinyl acetate content: 26%, melt index 4) was added to 1,1-bis (t-butylperoxy). ) -3,3,5-trimethylcyclohexane (Perhexa 3M manufactured by NOF Corporation) 1 part by weight, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.1 part by weight, diallyl phthalate 2 parts by weight, and Sumisolve 130 (as an ultraviolet absorber) And 0.5 parts by weight (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) to prepare a double-sided embossed adhesive resin film 4A, 4B having a thickness of 500 μm using a 40 mm extruder. An ITO film having a thickness of 400 ° and a thickness of 10 mm were formed on a PET film having an intermediate thickness of 100 μm by magnetron sputtering.
The intermediate film 3 was formed by alternately laminating the 0 ° Ag film with the lamination number shown in Table 1 to form a multilayer film.
【００５２】実施例１，２ 表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用い、この透明基板２Ａの表面に、ＳｉＯ2 ／ＩＴＯ／
ＳｉＯ2 ／ＩＴＯよりなる反射防止膜（総膜厚約２５０
０Å）５を形成し、裏面側透明基板２Ｂとして厚さ０．
１ｍｍのＰＥＴシートを用い、これらの間に２枚の接着
用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂに表１に示す中間膜３を挟ん
だものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、
９０℃の温度で１０分加熱して予備圧着した。その後、
この予備圧着体をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下
で１５分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。[0052] using a glass plate having a thickness of 3.0mm as in Examples 1 and 2 the surface side transparent substrate 2A, the surface of the transparent substrate 2A, SiO 2 / ITO /
An anti-reflection film made of SiO 2 / ITO (total thickness of about 250
0Å) 5 is formed, and a thickness of 0.
A 1 mm PET sheet is used, and two sheets of the adhesive resin films 4A and 4B sandwiching the intermediate film 3 shown in Table 1 are interposed therebetween, put in a rubber bag, and degassed under vacuum.
The pre-compression bonding was performed by heating at a temperature of 90 ° C. for 10 minutes. afterwards,
The pre-pressed body was placed in an oven, heated at 150 ° C. for 15 minutes, cross-linked and cured, and integrated.
【００５３】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率、熱線カット性を調べ、結果を表１に示した。With respect to the obtained window material, 3
The electromagnetic shielding property, light transmittance, and heat ray cut property at 0 MHz to 300 MHz were examined, and the results are shown in Table 1.
【００５４】電磁波シールド性 ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター）に準拠したアン
リツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは９
０ｍｍ×１１０ｍｍであった。光透過率（％） 日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を用
い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間の平均可視光透過率を求
めた。熱線カット性 上記日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を
用い、８５０〜１１００ｎｍ間の平均近赤外光透過率を
求めた。 Electromagnetic Wave Shielding Attenuation of the electric field was measured using an EMI shield measuring device (MA8602B) manufactured by Anritsu Corporation in accordance with the KEC method (Kansai Electronic Industry Promotion Center). Sample size is 9
It was 0 mm x 110 mm. Light transmittance (%) The average visible light transmittance between 380 nm and 780 nm was determined using a visible ultraviolet light spectrometer (U-4000) manufactured by Hitachi. Heat ray cut-off property The average near-infrared light transmittance between 850 and 1100 nm was determined using the above-mentioned Hitachi-made visible ultraviolet spectrometer (U-4000).
【００５５】比較例１，２ 比較のため、中間膜として、ベースフィルム上に厚さ１
６００ÅのＩＴＯ膜のみを形成したもの（比較例１）又
はベースフィルム上に厚さ３００ÅのＡｇ膜のみを形成
したもの（比較例２）を用いたこと以外は実施例１と同
様にして窓材を製造し、同様にその評価を行って、結果
を表１に示した。Comparative Examples 1 and 2 For comparison, a film having a thickness of 1
Window material in the same manner as in Example 1 except that only the ITO film having a thickness of 600 mm was formed (Comparative Example 1) or the Ag film having a thickness of 300 mm was formed on a base film (Comparative Example 2). Was evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 1.
【００５６】[0056]
【表１】 [Table 1]
【００５７】表１より、本発明の電磁波シールド熱線カ
ット性光透過窓材は、透明性、電磁波シールド性、熱線
カット性のすべてにおいて良好な特性を示すことがわか
る。From Table 1, it can be seen that the electromagnetic wave shielding heat ray-cutting light transmitting window material of the present invention shows good characteristics in all of transparency, electromagnetic wave shielding property and heat ray cutting property.
【００５８】[0058]
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、Ｐ
ＤＰ用フィルター等として工業的に極めて有用な、高透
明性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良
好な電磁波シールド熱線カット性光透過窓材が提供され
る。As described in detail above, according to the present invention, P
There is provided an electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material which is extremely useful industrially as a DP filter and the like, and has extremely high electromagnetic wave shielding property and heat ray cutting property.
【図１】図１は本発明の電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding heat ray cutting light transmitting window material of the present invention.
【図２】本発明に係る中間膜の実施の形態を示す模式的
な断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an embodiment of an intermediate film according to the present invention.
１ 電磁波シールド熱線カット性光透過窓材 ２Ａ，２Ｂ 透明基板 ３ 中間膜 ４Ａ，４Ｂ 接着用樹脂フィルム ５ 反射防止膜 １１ ベースフィルム １２ 酸化物透明導電膜 １３ 金属薄膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave shielding heat ray cut light transmission window material 2A, 2B Transparent substrate 3 Intermediate film 4A, 4B Adhesive resin film 5 Antireflection film 11 Base film 12 Oxide transparent conductive film 13 Metal thin film
Claims (2)
て、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド熱線
カット性光透過窓材であって、 該中間膜は、酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積
層してなる多層膜を備えることを特徴とする電磁波シー
ルド熱線カット性光透過窓材。1. An electromagnetic shielding heat ray cutting light transmitting window material formed by bonding and integrating an intermediate film between two transparent substrates with an adhesive resin, wherein the intermediate film is an oxide transparent conductive film. An electromagnetic wave shielding heat ray-cutting light transmitting window material comprising a multilayer film formed by alternately laminating metal films and metal thin films.
上に形成されていることを特徴とする電磁波シールド熱
線カット性光透過窓材。2. The light transmitting window material according to claim 1, wherein the intermediate film is formed on a transparent substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25502297A JPH1197880A (en) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | Electromagnetic wave shielding heat ray cutting light-transmitting window material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25502297A JPH1197880A (en) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | Electromagnetic wave shielding heat ray cutting light-transmitting window material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1197880A true JPH1197880A (en) | 1999-04-09 |
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ID=17273110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25502297A Pending JPH1197880A (en) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | Electromagnetic wave shielding heat ray cutting light-transmitting window material |
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|---|---|
| JP (1) | JPH1197880A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1056324A2 (en) * | 1999-05-28 | 2000-11-29 | Bridgestone Corporation | Light transmitting laminated plate for electromagnetic shielding |
| WO2008149974A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Bridgestone Corporation | Near-infrared-shielding material , laminate including the same, and optical filter for display |
| JP2008304798A (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Bridgestone Corp | Near-infrared shielding filter, optical filter for display, and display and plasma display panel using the filter |
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| JP2009062411A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Bridgestone Corp | Near infrared-shielding material, laminate and optical filter for display using the same and display |
-
1997
- 1997-09-19 JP JP25502297A patent/JPH1197880A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1056324A2 (en) * | 1999-05-28 | 2000-11-29 | Bridgestone Corporation | Light transmitting laminated plate for electromagnetic shielding |
| EP1056324A3 (en) * | 1999-05-28 | 2002-02-06 | Bridgestone Corporation | Light transmitting laminated plate for electromagnetic shielding |
| WO2008149974A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Bridgestone Corporation | Near-infrared-shielding material , laminate including the same, and optical filter for display |
| JP2008304798A (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Bridgestone Corp | Near-infrared shielding filter, optical filter for display, and display and plasma display panel using the filter |
| JP2009062409A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Bridgestone Corp | Near infrared-shielding material, laminate and optical filter for display using the same and display |
| JP2009062411A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Bridgestone Corp | Near infrared-shielding material, laminate and optical filter for display using the same and display |
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