JP2002055626A - ガス放電型表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 青色を含めた全可視光域で高透明性であると
共に、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良好
な前面フィルタを一体化させたガス放電型表示パネルを
提供する。 【解決手段】 透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に電
磁波シールド性熱線カットフィルム３を介在させて接着
用中間膜４Ａ，４Ｂで一体化させたガス放電型表示パネ
ル。電磁波シールド性熱線カットフィルム３は、ベース
フィルム上に酸化チタン薄膜と金属薄膜とを５〜１３層
好ましくは９層積層したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はガス放電型表示パネ
ルに係り、特に、良好な電磁波シールド性と熱線（近赤
外線）カット性とを備え、かつ青色波長領域を含めた全
可視光領域での透光性に優れた前面フィルタを有するＰ
ＤＰ（プラズマディスプレーパネル）等のガス放電型表
示パネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】放電現像を利用したＰＤＰ（ｐｌａｓｍ
ａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ）は、液晶ディスプレ
イ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べて、次のよ
うな利点を有することから、近年、テレビやパソコン、
ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、その他の表示
板等のガス放電型表示パネルとして研究開発及び実用化
が進められている。 放電光利用であり自発光である。 ０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。 螢光体を利用してカラー発光できる。 大画面パネルが作り易い。

【０００３】ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図３に示すような構成とされている。図３
において２１は前面板（フロントガラス）、２２は背面
板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放電
セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽
極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せ
ず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。

【０００４】ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。

【０００５】このため、従来においては、ＰＤＰからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をＰＤＰの前面に配置しているが、ＰＤ
Ｐと別体の透明板をＰＤＰの前面に設けたものでは、次
のような欠点がある。 ２つの板材を配置するため構造が複雑となる。 ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。

【０００６】このような問題を解決し、ＰＤＰに電磁波
シールド材を一体化させたガス放電型表示パネルとし
て、ＰＤＰ本体と、該ＰＤＰ本体の前面に透明接着剤に
より接着された電磁波シールド材と、該電磁波シールド
材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを備
えてなる表示パネルであって、該透明基板とＰＤＰ本体
との間に、更に、熱線カット層を設けたものがある（特
開平１１−１１９６６６号公報）。

【０００７】この特開平１１−１１９６６６号公報の表
示パネルは、ＰＤＰと電磁波シールド材、熱線カット層
及び透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、
軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコ
ストの低減を図ることができる。しかも、電磁波シール
ド材と共に熱線カット層を積層一体化しているため、電
磁波シールド性のみならず、良好な近赤外線カット性を
得ることができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来のＰＤＰは赤色、
緑色に比べて青色の発光強度が低いので、電磁波シール
ド性熱線カット層は４００ｎｍ付近の透光性に優れてい
ることが望まれる。ところが、酸化物透明導電膜とし
て、ＩＴＯ、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯなどを用い
ると、この４００ｎｍ付近の透光性が悪くなる。

【０００９】また、前面板はコントラスト向上のために
点灯時／非点灯時の輝度差を大きくとる必要がある。そ
のため、ＣＲＴでも一般的に用いられているように発光
部分以外を黒くし、非点灯時の輝度を抑える必要があ
る。加えて、前面板の場合、表示面の殆どが表面に露出
しているため、家具としての色調も重要な因子となる。
日本人の場合、グリーン系の色が嫌われ、ブルー系の色
が好まれるため、前面板の色調を青色系にすることが望
まれている。

【００１０】本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされ
たものであって、著しく良好な電磁波シールド性と熱線
カット性を有し、しかも青色領域を含めた可視光領域全
体の透過率が高く、鮮明な画像を得ることができる前面
フィルタを有したガス放電型表示パネルを提供すること
を目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明のガス放電型表示
パネルは、ガス放電型表示パネル本体と透明基板とを、
該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との間に
電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤で接
合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、該電
磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜と金
属薄膜とを多層積層化した積層膜であることを特徴とす
るものである。

【００１２】本発明では、電磁波シールド性熱線カット
層を、次のような構成とするのが好ましい。 酸化チタン薄膜と金属薄膜との交互の多層好ましく
は５〜１３層の積層膜、特に好ましくは酸化チタン薄膜
／金属薄膜／酸化チタン薄膜／金属薄膜／酸化チタン薄
膜／金属薄膜／酸化チタン薄膜／金属薄膜／酸化チタン
薄膜の９層の積層膜。 基板側から、酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄膜の順で７〜
１９層、特に好ましくは１３層積層した積層膜。 基板側から、酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／チタン薄膜／酸化チタン薄膜／チタン薄膜／金属薄
膜／チタン薄膜の順で９〜２５層、特に好ましくは１７
層積層した積層膜。

【００１３】ただし、上記，の場合、金属薄膜はチ
タン薄膜以外の金属薄膜である。

【００１４】なお、最上層は酸化チタン薄膜とする。ま
た、金属薄膜としては銀薄膜又は銀を主成分とする銀合
金薄膜が好ましい。

【００１５】かかる積層膜を電磁波シールド性熱線カッ
ト層とすることにより、高透明性で電磁波シールド性、
熱線カット性に著しく優れたものとすることができる。

【００１６】本発明においては、電磁波シールド性熱線
カット層を、ベースフィルム上に形成し、電磁波シール
ド性熱線カットフィルムとするのが好ましい。

【００１７】また、接着一体化のための透明接着剤とし
て透明弾性接着剤を用いた場合には、衝撃等でガス放電
型表示パネルが破損した場合の破片の飛散を防止するこ
とができ、安全性が高められる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のガ
ス放電型表示パネルの実施の形態を詳細に説明する。図
１は本発明のガス放電型表示パネルの実施の形態を示す
模式的な断面図であり、図２，４は電磁波シールド性熱
線カットフィルムを示す模式的な断面図である。

【００１９】このガス放電型表示パネル１０は、透明基
板２とＰＤＰ本体２０（このＰＤＰ本体としては図３に
示す構成、その他の各種のＰＤＰ本体を適用できる。）
との間に、接着剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂと、電
磁波シールド性熱線カットフィルム３を介在させ、一体
化したものである。透明基板２の表面には反射防止膜５
が形成されている。

【００２０】透明基板２の構成材料としては、ガラス、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、
ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−
メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙
げられる。

【００２１】透明基板２の厚さは、通常の場合、０．１
〜１０ｍｍの範囲とされる。

【００２２】本実施の形態のガス放電型表示パネル１０
では、表面側となる透明基板２の表面に反射防止膜５が
形成されている。この反射防止膜５としては、下記
（１）の単層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜と
の積層膜、例えば、下記（２）〜（５）のような積層構
造の積層膜が挙げられる。 （１） 透明基板よりも屈折率の低い透明膜を一層積層
したもの。 （２） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合
計２層に積層したもの。 （３） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの。 （４） 中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの。 （５） 高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。

【００２３】高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズイ
ンジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎ
Ｏ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上
の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することが
できる。また、低屈折率透明膜としてはＳｉＯ_２、Ｍｇ
Ｆ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等の屈折率が１．６以下の低屈折率材
料よりなる薄膜を形成することができる。これらの膜厚
は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構
成、膜種、中心波長により異なってくるが４層構造の場
合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０
ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３
層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低
屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成さ
れる。

【００２４】この反射防止膜５の上に更に汚染防止膜を
形成して、表面の耐汚染性を高めるようにしても良い。
この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄膜、シリコ
ン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ程度の薄膜が
好ましい。

【００２５】透明基板２には、更に、シリコン系材料等
によるハードコート処理、或いはハードコート層内に光
散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施しても良
い。また、透明基板２に反射防止フィルム、ハードコー
トフィルム、アンチグレアフィルム等を透明粘着剤や透
明接着剤で貼り付けることもできる。

【００２６】電磁波シールド性熱線カットフィルム３
は、図２に示す如く、ベースフィルム１１上に、酸化チ
タン薄膜１２と金属薄膜１３とを交互に好ましくは５〜
１３層、特に好ましくは図４（ａ）に示す如く、ＰＥＴ
フィルム３０上に酸化チタン薄膜３１と銀（又は銀合
金）薄膜３２とを交互に９層積層した積層膜を設けたも
のである。なお、最上層は酸化チタン薄膜とする。

【００２７】この積層数が５層より少ないと、電磁波シ
ールド性、熱線カット性が不足する。また、この積層数
が１３層よりも多いと透明性が損なわれ、好ましくな
い。

【００２８】このベースフィルム１１としては、前述の
透明基板の構成材料と同様の樹脂フィルム、好ましく
は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用い
ることができる。このフィルムは、得られる窓材の厚さ
を過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保
する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。

【００２９】このベースフィルム１１上に形成される酸
化チタン薄膜の膜厚は、通常の場合、５〜５０００Å程
度である。この酸化チタンは、ＴｉＯ_Ｘ（Ｘ＝０．５〜
１．５）のものが好ましい。

【００３０】金属薄膜１３としては、銀、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、真鍮、
ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわない薄
さで形成することができ、その膜厚は、通常の場合、２
〜２０００Å程度である。なお、金属薄膜の金属が酸化
チタン薄膜中にマイグレーションしないようにするため
に、酸化チタン薄膜と金属薄膜との界面に金属チタンの
薄い層（例えば、厚さ１〜２００Å）を設けてもよい。

【００３１】即ち、例えば、図４（ｂ）に示す如く、Ｐ
ＥＴフィルム３０上に、酸化チタン薄膜３１、チタン薄
膜３３、銀（又は銀合金）薄膜３２をこの繰り返し順で
７〜１９層、特に好ましくは１３層積層した積層膜、或
いは、図４（ｃ）に示す如く、ＰＥＴフィルム３０上
に、酸化チタン薄膜３１、チタン薄膜３３、銀（又は銀
合金）薄膜３２、チタン薄膜３３をこの繰り返し順で９
〜２５層、特に好ましくは１７層積層した積層膜が挙げ
られる。この積層膜においても、積層数が上記範囲より
も少ないと電磁波シールド性、熱線カット性が不足す
る。また、積層数が上記範囲よりも多いと透明性が損な
われ、好ましくない。

【００３２】これらの酸化チタン薄膜及び金属薄膜やチ
タン薄膜は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なス
パッタ法により、ベースフィルム上に容易に形成するこ
とができる。

【００３３】本発明においては、透明導電性フィルムを
透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に設けても良い。こ
の透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させ
た樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を
形成したものを用いることができる。

【００３４】このフィルム中に分散させる導電性粒子と
しては、導電性を有するものであれば良く特に制限はな
いが、例えば、次のようなものが挙げられる。 (I) カーボン粒子ないし粉末。 (II) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末。 (III) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック
粒子の表面に上記(I)，(II)の導電性材料のコーティン
グ層を形成したもの。

【００３５】これらの導電性粒子の粒径は、過度に大き
いと光透過性や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼ
すことから、０．５ｍｍ以下であることが好ましい。好
ましい導電性粒子の粒径は０．０１〜０．５ｍｍであ
る。

【００３６】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で０．１〜５０重量
％、特に０．１〜２０重量％、とりわけ０．５〜２０重
量％程度とするのが好ましい。

【００３７】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。

【００３８】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤ等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが０．０１μｍ未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、５μｍを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。

【００３９】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ、
アクリル板、ＰＣ、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられ
る。

【００４０】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。

【００４１】透明導電性フィルムを設けることにより、
より一層優れた電磁波シールド性を得ることができる。

【００４２】透明基板２とＰＤＰ本体２０を電磁波シー
ルド性熱線カットフィルム３を介して接着する接着樹脂
としては、透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せ
ガラス用接着剤として用いられているものが好ましく、
具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アク
リル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル
共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合
体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重
合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボ
キシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メ
タ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン
系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」
は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポ
リビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエス
テル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性
能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢
酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、
耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラ
スで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００４３】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００４４】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００４５】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００４６】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００４７】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００４８】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００４９】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００５０】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して接着用中間膜についてより詳細に説明する。

【００５１】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００５２】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。

【００５３】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００５４】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００５５】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。

【００５６】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。

【００５７】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００５８】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００５９】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００６０】接着用中間膜４Ａ，４Ｂには、その他、紫
外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤
を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合
いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボン
ブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を
適量配合してもよい。

【００６１】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【００６２】接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添加剤
とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダ
ー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法
により所定の形状にシート成形することにより製造され
る。成膜に際してはブロッキング防止、透明基板との圧
着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

【００６３】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの厚さは、
ガス放電型表示パネルの用途等によっても異なるが、通
常の場合２μｍ〜２ｍｍ程度とされる。

【００６４】図１に示すガス放電型表示パネル１０を製
造するには、反射防止膜５を形成した透明基板２と、Ｐ
ＤＰ本体２０と、電磁波シールド性熱線カットフィルム
３と接着用中間膜４Ａ，４Ｂを準備し、透明基板２とＰ
ＤＰ本体２０との間に、電磁波シールド性熱線カットフ
ィルム３を接着用中間膜４Ａ，４Ｂの間に挟んだものを
積層し、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの硬化条件で加圧下、
加熱又は光照射して一体化すれば良い。

【００６５】なお、図１に示すガス放電型表示パネルは
本発明のガス放電型表示パネルの一例であって、本発明
は図示のものに限定されるものではない。例えば、電磁
波シールド性熱線カット層としての酸化チタン薄膜と金
属薄膜との多層積層膜は、透明基板或いはＰＤＰ本体に
形成されても良い。

【００６６】また、前述の如く、近赤外線カットフィル
ムと共に透明導電性フィルムを設けたものであっても良
く、更には、透明基板の板面又はＰＤＰ本体の前面板に
直接透明導電性膜を形成したものであっても良い。この
ようなガス放電型表示パネルとしては、透明基板又はＰ
ＤＰ本体の前面板に次のような透明導電性膜を形成した
ものが挙げられる。 フォトレジストのコーティング、パターン露光及び
エッチングの工程により所定パターンにエッチングして
形成した格子状又はパンチングメタル状の金属膜。 導電性インキをパターン印刷して形成した格子状又
はパンチングメタル状の印刷膜。

【００６７】また、本発明のガス放電型表示パネルは、
透明導電性フィルムの代りに、パターンエッチングによ
り格子状又はパンチングメタル状とした金属箔を透明基
板に接着したものであっても良く、更には導電性メッシ
ュを用いることを何ら排除するものではない。

【００６８】本発明のガス放電型表示パネルは、上記の
通り青色の透過性が高く、ＰＤＰの青色発光強度の低さ
を補うことができるが、この青色発光強度に低さを補償
するために青色の調色を施してもよい。例えば、ガス放
電型表示パネルの透明基板、フィルム、接着用樹脂など
に青色顔料を含有させて調色を行う。

【００６９】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００７０】なお、実施例及び比較例で用いた接着用中
間膜及び電磁波シールド性熱線カットフィルムは、次の
ようにして製造した。 ［接着用中間膜の製造］エチレン−酢酸ビニル共重合体
（東洋曹逹社製ウルトラセン６３４：酢酸ビニル含量２
６％、メルトインデックス４）１００重量部に、１，１
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１
重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン０．１重量部、ジアリルフタレート２重量部、及び紫
外線吸収剤としてスミソルブ１３０（住友化学工業社
製）０．５重量部とを混合し、４０ｍｍ押出機にて５０
０μｍ厚さの両面エンボスの接着用樹脂フィルム４Ａ，
４Ｂを作製した。 ［電磁波シールド性熱線カットフィルム］厚さ１００μ
ｍのＰＥＴフィルム上にマグネトロンスパッタリング法
により最外層、最内層の酸化チタン薄膜の厚さを２００
Åとし、中間層の酸化チタン薄膜の厚みを４００Å、銀
の厚さを５０Åとして図３に示す如くそれぞれ９層に交
互に積層して電磁波シールド性熱線カット層を形成して
電磁波シールド性熱線カットフィルム３とした。

【００７１】実施例１ 透明基板２として厚さ３．０ｍｍのガラス板を用い、こ
の透明基板２の表面に、ＳｉＯ_２／ＩＴＯ／ＳｉＯ_２／
ＩＴＯよりなる反射防止膜（総膜厚約２５００Å）５を
形成した。この透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に、
２枚の接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂと、電磁波シール
ド性熱線カットフィルム３とを介在させ、これをゴム袋
に入れて真空脱気し、９０℃の温度で１０分加熱して予
備圧着した。その後、この予備圧着体をオーブン中に入
れ、１５０℃の条件下で１５分間加熱処理し、架橋硬化
させて一体化した。

【００７２】なお、パネルは色調整を行っていないＮ
ｏ．１と、グレーに色調整したＮｏ．２とブルーに色調
整したＮｏ．３との３種類を製造した。

【００７３】得られたガス放電型表示パネルについて下
記方法により、３０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁
波シールド性、光透過率、熱線カット性を調べ、結果を
表１に示した。 ［電磁波シールド性］ＫＥＣ法（関西電子工業振興セン
ター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシールド測定装置
（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて電界の減衰測定を行った。
サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍであった。 ［光透過率（％）］日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ
−４０００）を用い、４５０ｎｍと５５０ｎｍの可視光
透過率を求めた。また、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に従って
視感度補正を行ったものを記載した。 ［熱線カット性］上記日立製可視紫外光分光測定装置
（Ｕ−４０００）を用い、８５０〜１１００ｎｍ間の平
均近赤外光透過率を求めた。

【００７４】比較例１ 比較のため、酸化チタン薄膜の代わりにＩＴＯを用いた
こと以外は、実施例１と同様にして電磁波シールド性熱
線カットフィルムを製造し、このフィルムを用いて実施
例１と同様にしてガス放電型表示パネルを製造し、同様
にその評価を行って、結果を表１に示した。

【００７５】

【表１】

【００７６】表１より、電磁波シールド性熱線カット層
の酸化物導電薄膜を酸化チタン薄膜とすることにより、
青色領域を含めた全可視光領域での透明性、電磁波シー
ルド性、熱線カット性において良好な特性を得ることが
できることがわかる。

【００７７】色調整を行っていない実施例１のＮｏ．１
と比較例１のＮｏ．１との視感度補正可視光透過率の差
（７７．０−７３．４）、色調整を行った実施例１のＮ
ｏ．２，３と比較例１のＮｏ．２，３との視感度補正可
視光透過率の差（７３．２−６５．４，６８．１−６
０．９）は表２に示す通りであり、色調整を行った場合
に、本発明品は、比較例のものに比べて可視光透過率を
大幅に向上させることができることがわかる。

【００７８】

【表２】

【００７９】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、青
色領域を含めた全可視光領域での透明性に優れ、且つ電
磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良好な前面フ
ィルタを一体化させたガス放電型表示パネルが提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガス放電型表示パネルの実施の形態を
示す模式的な断面図である。

【図２】本発明に用いられる電磁波シールド性熱線カッ
トフィルムを示す模式的な断面図である。

【図３】従来のＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図であ
る。

【図４】本発明に用いられる電磁波シールド性熱線カッ
トフィルムを示す模式的な断面図である。

【符号の説明】

２ 透明基板 ３ 電磁波シールド性熱線カットフィルム ４Ａ，４Ｂ 接着用中間膜 ５ 反射防止膜 １０ ガス放電型表示パネル １１ ベースフィルム １２ 酸化チタン薄膜 １３ 金属薄膜 ２０ ＰＤＰ本体 ２１ 前面板 ２２ 背面板 ２３ 隔壁 ２４ 表示セル ２５ 補助セル ２６ 陰極 ２７ 表示陽極 ２８ 補助陽極 ３０ ＰＥＴフィルム ３１ 酸化チタン薄膜 ３２ 金属薄膜 ３３ チタン薄膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 GA07 GA12 GA33 5E321 AA04 BB23 BB25 CC16 GG05 GH01 5G435 AA09 AA16 BB06 DD11 GG31 GG33 HH02 HH12

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガス放電型表示パネル本体と透明基板と
   を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
   間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
   で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜
   と金属薄膜とを多層に積層化した積層膜であることを特
   徴とするガス放電型表示パネル。
2. 【請求項２】 請求項１において、該電磁波シールド性
   熱線カット層は、該酸化チタン薄膜と金属薄膜とを交互
   に５〜１３層積層してなり、最上層が酸化チタン薄膜で
   あることを特徴とするガス放電型表示パネル。
3. 【請求項３】 ガス放電型表示パネル本体と透明基板と
   を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
   間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
   で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、基板側から、酸化
   チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、酸化チタン薄膜、
   チタン薄膜、金属薄膜という繰り返しで、酸化チタン薄
   膜とチタン薄膜と金属薄膜とを７〜１９層積層してな
   り、最上層が酸化チタン薄膜であることを特徴とするガ
   ス放電型表示パネル。
4. 【請求項４】 ガス放電型表示パネル本体と透明基板と
   を、該ガス放電型表示パネル本体の前面と透明基板との
   間に電磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤
   で接合一体化してなるガス放電型表示パネルにおいて、 該電磁波シールド性熱線カット層は、基板側から、酸化
   チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、チタン薄膜、酸化
   チタン薄膜、チタン薄膜、金属薄膜、チタン薄膜という
   繰り返しで、酸化チタン薄膜とチタン薄膜と金属薄膜と
   チタン薄膜とを９〜２５層積層してなり、最上層が酸化
   チタン薄膜であることを特徴とするガス放電型表示パネ
   ル。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
   て、前記電磁波シールド性熱線カット層はベースフィル
   ム上に形成されており、前記ガス放電型表示パネル本体
   と透明基板との間に、該電磁波シールド性熱線カット層
   付きベースフィルムが介在されていることを特徴とする
   ガス放電型表示パネル。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれか１項におい
   て、該金属薄膜が銀薄膜又は銀を主成分とする銀合金薄
   膜であることを特徴とするガス放電型表示パネル。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれか１項におい
   て、該透明接着剤が透明弾性接着剤であることを特徴と
   するガス放電型表示パネル。