JP2002030016A - 側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子 - Google Patents
側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子Info
- Publication number
- JP2002030016A JP2002030016A JP2000220515A JP2000220515A JP2002030016A JP 2002030016 A JP2002030016 A JP 2002030016A JP 2000220515 A JP2000220515 A JP 2000220515A JP 2000220515 A JP2000220515 A JP 2000220515A JP 2002030016 A JP2002030016 A JP 2002030016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- liquid crystal
- substituted
- embedded image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
新規なジ/トリアセチレン化合物、その製造法とそれを
用いた液晶組成物およびこれを用いた光シャッターや表
示素子など使用の液晶素子を提供する。 【解決手段】一般式1のジ/トリアセチレン化合物。 [A1〜A12は独立にH、F又はFで置換されてもよい
C1〜10アルキル/アルコキシ、nは0又は1、R1
とR2は独立にH、F、CN、SF5、NCS、4−R3
−(シクロアルキル)、4−R3−(シクロアルケニ
ル)又はR4−(O)qである(R3はH又は直鎖/分枝
のFで置換されてもよいC1〜12アルキル、R4は直
鎖/分枝のFで置換されてもよいC1〜12アルキル/
アルコキシアルキル、C3〜12アルキニルアルケニ
ル、qは0又は1、R4がアルコキシアルキルの場合は
q=1であり、R1とR2は同時にHではない)。]
Description
成材料あるいは液晶組成物の配合成分として有用であ
り、側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物とその
製造法、それを含む液晶組成物およびそれを用いた液晶
素子に関する。
化社会の進展に伴い不可欠となっている。液晶組成物と
しては、より高速化、あるいは高性能化等の物性を達成
するために、屈折率異方性の大きい材料の配合が必要と
されている。屈折率異方性が比較的大きい液晶としてト
ラン化合物が知られている[Mol.Cryst.Liq.
Cryst.,第23巻第233頁(1973年)]が、屈
折率異方性は約0.2と満足できるほどの大きさではな
かった。また、下記式で表される化合物(2)が開発され
ている(特開平2−83340号公報)。
す。] この化合物(2)は屈折率異方性が0.3以上の値を有す
るが、他液晶との相溶性が悪く、実用的ではない。そこ
で、他液晶との相溶性を向上させることを目的として下
記式で表される化合物(3)が開発されている(特開平9
−216841号公報)。
R、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又は
シアノ基を表し、H1〜H12は、それぞれ独立に水素原
子、フッ素原子又は塩素原子を表し、H1〜H4、H9〜
H12の少なくとも1つはフッ素原子又は塩素原子であ
る。]で示される液晶性アセチレン誘導体。この化合物
(3)は、他液晶との相溶性の点で上記化合物(2)より改
善されているが、構造骨格のベンゼン環上の水素原子を
フッ素原子等のハロゲン原子で置換しているため屈折率
異方性が低下し、相溶性改善と引き替えに屈折率異方性
が犠牲にされている。また、側鎖を有さない下記トリア
セチレン化合物(比較例1中のR1)が知られている
[J.Am.Chem.Soc.113 6943〜6
949(1991)]、しかし、比較例1に示すごと
く、液晶性はなく、液晶組成物成分としても好ましいも
のではなかった。
い屈折率異方性を有し、他の液晶と混合し易い新規なジ
またはトリアセチレン化合物、その製造法およびそれを
用いた液晶組成物およびこれを用いた、光シャッターや
表示素子などに使用できる液晶素子を提供することにあ
る。
を解決するため鋭意検討を加えた結果、ある種のジまた
はトリアセチレン化合物が十分大きな屈折率異方性を有
することを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、
本発明によれば、一般式(1)
素原子、フッ素原子、フッ素で置換されていてもよい炭
素数1〜10のアルキル基又はフッ素で置換されていて
もよい炭素数1〜10のアルコキシ基を表し、nは0又
は1であり、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、
フッ素原子、シアノ基、SF5、NCS、4−R3−(シ
クロアルキル)基、4−R3−(シクロアルケニル)基
又はR4−(O)q基を表し、ここにR3は水素原子、又
は直鎖もしくは分枝のフッ素で置換されていてもよい炭
素数1〜12のアルキル基を表しR4は直鎖もしくは分
枝のフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜12
のアルキル基、直鎖もしくは分枝のフッ素原子で置換さ
れていてもよい炭素数1〜12のアルコキシアルキル
基、炭素数3〜12のアルキニル基又は炭素数3〜12
のアルケニル基を表し、qは0又は1であり、R4がア
ルコキシアルキル基の場合はq=1であり、R1及びR2
は同時に水素原子であることはない。]で示されるジま
たはトリアセチレン化合物(以下、本発明化合物と記
す)が提供される。
される化合物を少なくとも1種含有することを特徴とす
る液晶組成物(以下、本発明組成物と記す)が提供され
る。更にまた本発明によれば、上記液晶組成物を一対の
電極基板間に挟持してなることを特徴とする液晶素子が
提供される。
る。本発明において、R1及びR2の具体例としては、例
えば、水素原子;フッ素原子;メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基等のアルキル基及びこれらがフッ素原子
で置換されたフルオロアルキル基(例えばトリフルオロ
メチル基);メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オ
クチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウ
ンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等のアルコキシ基
及びこれらがフッ素原子で置換されたフルオロアルコキ
シ基(例えば1〜3個のフッ素原子で置換されたメトキ
シ基、1〜5個のフッ素原子で置換されたエトキシ
基);
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ペンチルオキシ
メチル基、ヘキシルオキシメチル基、ヘプチルオキシメ
チル基、オクチルオキシメチル基、ノニルオキシメチル
基、デシルオキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、
ペンチルオキシエチル基、ヘキシルオキシエチル基、ヘ
プチルオキシエチル基、オクチルオキシエチル基、ノニ
ルオキシエチル基、デシルオキシエチル基、メトキシプ
ロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル
基、ブトキシプロピル基、ペンチルオキシプロピル基、
ヘキシルオキシプロピル基、ヘプチルオキシプロピル
基、オクチルオキシプロピル基、ノニルオキシプロピル
基、メトキシブチル基、エトキシブチル基、プロポキシ
ブチル基、ブトキシブチル基、ペンチルオキシブチル
基、ヘキシルオキシブチル基、ヘプチルオキシブチル
基、オクチルオキシブチル基、メトキシペンチル基、エ
トキシペンチル基、プロポキシペンチル基、ブトキシペ
ンチル基、ペンチルオキシペンチル基、ヘキシルオキシ
ペンチル基、ヘプチルオキシペンチル基等のアルコキシ
アルキル基及びこれらがフッ素原子で置換されたフルオ
ロアルコキシアルキル基;
基、3−メチルブチル基、3−メチルペンチル基等の分
枝アルキル基及びこれらがフッ素原子で置換されたフル
オロ分枝アルキル基;2−メチルプロピルオキシ基、2
−メチルブチルオキシ基、3−メチルブチルオキシ基、
3−メチルペンチルオキシ基等の分枝アルキルオキシ基
及びこれらがフッ素原子で置換されたフルオロ分枝アル
キルオキシ基;4−メチルシクロヘキシル基、4−エチ
ルシクロヘキシル基、4−プロピルシクロヘキシル基、
4−ブチルシクロヘキシル基、4−ペンチルシクロヘキ
シル基、4−ヘキシルシクロヘキシル基、4−ヘプチル
シクロヘキシル基、4−オクチルシクロヘキシル基、4
−ノニルシクロヘキシル基、4−デシルシクロヘキシル
基等の4−アルキル−シクロアルキル基およびこれらが
フッ素原子で置換された4−フルオロアルキル−シクロ
アルキル基;4−プロピルシクロヘキセニル基、4−ペ
ンチルシクロヘキセニル基等の4−アルキル−シクロア
ルケニル基及びこれらがフッ素原子で置換された4−フ
ルオロアルキル−シクロアルケニル基;シアノ基;SF
5;NCS等が挙げられる。
例としては、下記構造式で示される化合物等が挙げられ
る。但し、R1及びR2は、上記列挙した基が好ましい
が、これに限定されない。
セチレン化合物は、下記のようにして製造することがで
きる。即ち、一般式(IM−1)
前記と同じ意味を表し、Xは電子吸引性基を表す。]で
示される化合物と一般式(IM−2)
前記と同じ意味を表す。]で示される化合物とを、塩基
の存在下で反応でさせることにより製造することができ
る[以下、本発明製法(1)と記す]。
好ましいものとして、−SO2R、−CN、−SOR、
−SR、−CF3、−CPh3を挙げることができる。こ
こでRはアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、フ
ェニル基を表し、Phはフェニル基を表す。
−2)の使用量は、化合物(IM−1)に対して通常
0.3〜10倍当量であるが、好ましくは0.5〜2倍
当量である。反応温度は室温(約20℃)以下であれば
特に限定されるものではないが、通常−100−20
℃、好ましくは−80−0℃の範囲である。また使用す
る反応溶媒は、この反応により分解しないものであれば
特に限定されないが、エーテル系溶媒が好ましく、例え
ばTHF、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等を挙
げることができる。溶媒の使用量は特に限定されない。
一般式(IM−1)の具体例を以下に示す。
す。
ジアセチレン化合物は、下記のようにして合成すること
ができる。即ち、上記一般式(IM−1)で表される化合
物と一般式(IM−3)
同じ意味を表す。]で示される化合物とを、塩基の存在
下で反応でさせることにより製造することができる[以
下、本発明製法(2)と記す]。
−1)の使用量は、化合物(IM−3)に対して通常
0.3〜10倍当量であるが、好ましくは1〜4倍当量
である。
るものではないが、通常−100〜20℃、好ましくは
−80〜0℃の範囲である。また使用する反応溶媒は、
この反応により分解しないものであれば特に限定されな
いが、エーテル系溶媒が好ましく、例えばTHF、ジエ
チルエーテル、ジメトキシエタン等を挙げることができ
る。溶媒の使用量は特に限定されない。一般式(IM−
3)の具体例を以下に示す。
発明化合物を少なくとも1種配合成分として含有する液
晶組成物である。混合する他の成分は特に限定されない
が、液晶相を示す化合物あるいは組成物が好ましい。本
発明組成物において、一般式(1) で示される本発明化
合物の配合割合は、液晶組成物中に0.1〜99.9質
量%、好ましくは1〜99質量%の範囲が好ましい。
ル化合物を一種もしくは複数種含有させることができ
る。カイラル化合物は、特に限定されないが、好ましく
は以下に示す化合物を例示することができる(但し、例
示中の*は不斉炭素を表す)。
配合割合は、配合組成等において適宜選択することがで
き、特に限定されない。本発明の液晶表示素子は、上記
本発明組成物を一対の電極基板に挟持した素子であれ
ば、特に限定されず、公知の液晶表示素子と同様な構成
ものが挙げられる。電極の種類及び形態も特に限定され
ず、公知の電極等が使用できる。また、本発明の液晶表
示素子の作製は、通常の液晶表示素子の作製にしたがっ
て同様に行うことができ、他の要素を適宜付加させるこ
とも可能である。
に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
体(IM1−1)0.398gを乾燥したTHF4mlに
溶解したものに、リチウムジイソプロピルアミド(ジイ
ソプロピルアミン226μlとn−ブチルリチウム
(1.6mol/Lヘキサン溶液)1000μlを混合
してあらかじめ調製したもの)を−78℃で加えた。こ
れを0.5時間攪拌したのち、中間体(IM2−1)
0.244gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、
さらに5分間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエ
ステル251μl加え、冷却槽をはずして2時間攪拌し
た。反応物を再び0−5℃に冷却し、リチウムヘキサメ
チルジシラザン(ヘキサメチルジシラザン96%THF
溶液1.74mlと、n−ブチルリチウム1.6mol
/Lヘキサン溶液4.53mlを混合してあらかじめ調
製したもの)を加え、冷却槽をはずして室温で3時間攪
拌した。塩化アンモニウム水溶液で反応をクエンチし、
反応物を酢酸エチルで抽出した。これを飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成
物をn−ヘキサンに2%酢酸エチルを加えたものを移動
相とするシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目
的とする化合物(1−1)を0.271g得た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):3.83(s、3H、OCH3)、
6.85−6.86(m、2H)、7.01−7.05
(m、2H)、7.47−7.53(m,4H) 13 C−NMR(δ):55.37(s、1C、OC
H3)、65.85(s、1C、acetyleni
c)、66.84(s、1C、acetyleni
c)、73.35(s、1、acetylenic)、
74.40(d、J=2.1Hz、1C、acetyl
enic)、77.22(s、1C、acetylen
ic)、79.00(s、1C、acetyleni
c)、112.72(s、1C)、114.26(s、
2C)、115.96(d、J=22.7Hz、2
C)、117.29(d、J=3.0Hz、1C)、1
34.72(s、2C)、135.01(d、J=8.
3Hz、2C)、160.81(s、1C)、163.
22(d、J=252.8Hz、1C)
体(IM1−2)0.464gを乾燥したTHF4mlに
溶解したものに、リチウムジイソプロピルアミド(ジイ
ソプロピルアミン223μlとn−ブチルリチウム
(1.6mol/Lヘキサン溶液)981μlを混合し
てあらかじめ調製したもの)を−78℃で加えた。これ
を0.5時間攪拌したのち、中間体(IM2−1)0.
240gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、さら
に5分間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエステ
ル248μl加え、冷却槽をはずして2時間攪拌した。
反応物を再び0〜5℃に冷却し、リチウムヘキサメチル
ジシラザン(ヘキサメチルジシラザン96%THF溶液
1.71mlと、n−ブチルリチウム1.6mol/L
ヘキサン溶液4.47mlを混合してあらかじめ調製し
たもの)を加え、冷却槽をはずして室温で3時間攪拌し
た。塩化アンモニウム水溶液で反応をクエンチし、反応
物を酢酸エチルで抽出した。これを飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成物
をn−ヘキサンに2%酢酸エチルを加えたものを移動相
とするシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目的
とする化合物(1−2)を0.182g得た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):3.83(s、3H、OCH3)、
6.85−6.86(m、2H)、7.48−7.50
(m、2H)、7.58−7.63(m,4H) 13 C−NMR(δ):55.38(s、1C、OC
H3)、65.42(s、1C、acetyleni
c)、68.10(s、1C、acetyleni
c)、73.20(s、1C、acetyleni
c)、76.51(s、1C、acetyleni
c)、76.81(s、1C、acetyleni
c)、79.75(s、1C、acetyleni
c)、112.48(s、1C)、114.31(s、
2C)、123.68(q、J=544.6、272.
0Hz、1C、CF3)、125.11(d、J=1.
6Hz、1C)、125.39(q、J=7.5、3.
8Hz、2C)、131.03(q、J=65.4、3
2.3Hz、1C)、133.11(s、2C)、13
4.80(s、2C)、160.96(s、1C)
体(IM1−1)0.274gを乾燥したTHF4mlに
溶解したものに、リチウムジイソプロピルアミド(ジイ
ソプロピルアミン156μlとn−ブチルリチウム
(1.6mol/Lヘキサン溶液)688μlを混合し
てあらかじめ調製したもの)を−78℃で加えた。これ
を0.5時間攪拌したのち、中間体(IM2−2)0.
227gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、さら
に5分間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエステ
ル173μl加え、冷却槽をはずして2時間攪拌した。
反応物を再び0?5℃に冷却し、リチウムヘキサメチル
ジシラザン(ヘキサメチルジシラザン96%THF溶液
1.2mlと、n−ブチルリチウム1.6mol/Lヘ
キサン溶液3.125mlを混合してあらかじめ調製し
たもの)を加え、冷却槽をはずして室温で3時間攪拌し
た。塩化アンモニウム水溶液で反応をクエンチし、反応
物を酢酸エチルで抽出した。これを飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成物
をn−ヘキサンに2%酢酸エチルを加えたものを移動相
とするシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目的
とする化合物(1−3)を0.245g得た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):0.93(t、J=7.2Hz、
3H、CH3)、1.36−1.46(m、4H)、
1.76−1.82(m、2H)、3.96(t、J=
6.7Hz、2H、OCH2)6.82−6.85
(m、2H)、7.01−7.05(m、2H)、7.
45−7.54(m、4H)13 C−NMR(δ):13.97(s、1C)、22.
41(s、1C)、28.08(s、1C)、28.7
7(s、1C)、65.80(s、1C、acetyl
enic)、66.89(s、1C、acetylen
ic)、68.11(s、1C、OCH2)、73.2
4(s、1C、acetylenic)、74.40
(d、J=1.6Hz、1C、acetyleni
c)、77.18(s、1C、acetyleni
c)、79.15(s、1C、acetyleni
c)、112.26(s、1C)、114.68(s、
2C)、135.91(d、J=22.3Hz、2
C)、117.23(d、J=3.6Hz、1C)、1
34.66(s、2C)、134.97(d、J=8.
2Hz、2C)、160.3(s、1C)、163.1
4d、J=251.7Hz、1C)
ガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観
察したところ、90℃以下では結晶相であったが、90
℃以上でネマティック相を示した。またこの化合物(1
−3)の屈折率異方性を、「強誘電性液晶の構造と物
性」(福田敦夫、竹添秀男著、コロナ社(1990)、
316頁)記載の方法で測定したところ、0.52(測
定温度;90℃、測定波長;633nm)と極めて大き
い値であった。
体(IM3−1)0.7gを乾燥したTHF10mlに溶
解したものに、リチウムジイソプロピルアミド(ジイソ
プロピルアミン226μlとn−ブチルリチウム(1.
6mol/Lヘキサン溶液)1.5mlを混合してあら
かじめ調製したもの)を−78℃で加えた。これを0.
5時間攪拌したのち、中間体(IM4−1)0.210
gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、さらに5分
間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエステル40
5μl加え、冷却槽をはずして2時間攪拌した。反応物
を再び0〜5℃に冷却し、t−ブトキシカリウム(90
%、1.246g)を加え、冷却槽をはずして室温で3
時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液で反応をクエン
チし、反応物をジクロロメタンで抽出した。これを飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得ら
れた粗生成物をn−ヘキサンに20%ジクロロメタンを
加えたものを移動相とするシリカゲルクロマトグラフィ
ーにて精製し、目的とする化合物(1−4)を得た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):1.04(s、18H、CH3)
2.41(s、6H、CH3)、3.60(s、4H、
OCH2)、6.85−6.88(m、4H)、7.3
2(s、2H)、7.45−7.47(m、4H)13 C−NMR(δ):20.01(2C)、26.52
(6C、CH3)、31.82(2C)、72.67
(2C、acetylenic)、77.85(2C、
OCH2)、79.54(2C、acetyleni
c)、79.69(2C、acetylenic)、8
3.60(2C、acetylenic)、113.2
2(2C)、114.66(4C)、122.42(2
C)、133.51(2C)、134.03(4C)、
138.64(2C)、160.40(2C、C−O)
体(IM3−2)1.373gを乾燥したTHF15ml
に溶解したものに、リチウムジイソプロピルアミド(ジ
イソプロピルアミン225μlとn−ブチルリチウム
(1.6mol/Lヘキサン溶液)1.5mlを混合し
てあらかじめ調製したもの)を−78℃で加えた。これ
を0.5時間攪拌したのち、中間体(IM4−1)0.
315gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、さら
に5分間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエステ
ル607μl加え、冷却槽をはずして2時間攪拌した。
反応物を再び0−5℃に冷却し、t−ブトキシカリウム
(90%、1.87g)を加え、冷却槽をはずして室温
で3時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液で反応をク
エンチし、反応物をジクロロメタンで抽出した。これを
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
得られた粗生成物をn−ヘキサンに15%ジクロロメタ
ンを加えたものを移動相とするシリカゲルクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とする化合物(1−5)を得
た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):0.88(t、J=6.8Hz、
6H、CH3)、1.26−1.35(m、32H、C
H2)、1.41−1.46(m、4H、CH2)、1.
75−1.81(m、4H、CH2)、2.41(s、
6H)、3.96(t、J=6.7Hz、4H、OCH
2)、6.83−6.86(m、4H)、7.32
(s、2H)、7.45−7.48(m、4H)13 C−NMR(δ):14.12(2C)、20.01
(2C)、22.68(2C)、25.97(2C)、
29.11(2C)、29.34(2C)、29.35
(2C)、29.55(2C)、29.58(2C)、
29.63(2C)、29.65(2C)、31.91
(2C)、68.13(2C、OCH2)、72.67
(2C、acetylenic)、79.52(2C、
acetylenic)、79.69(2C、acet
ylenic)、83.55(2C、acetylen
ic)、113.31(2C)、114.64(4
C)、122.44(2C)、133.54(2C)、
134.07(4C)、138.67(2C)、16
0.03(2C)
ガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観
察したところ、133℃から159℃の範囲でネマティ
ック相を示した。またこの化合物の屈折率異方性を実施
例3記載と同じ方法で測定したところ、0.31(測定
温度;135℃、測定波長;633nm)と極めて大き
いものであった。
体(IM3−3)0.435gを乾燥したTHF8mlに
溶解したものに、n−ブチルリチウム(1.6mol/
Lヘキサン溶液)0.975mlを−78℃で加えた。
これを0.5時間攪拌したのち、中間体(IM4−2)
0.118gをTHFに溶解したものをゆっくり加え、
さらに5分間攪拌した。さらにクロロリン酸ジエチルエ
ステル263μl加え、室温に戻しながらさらに2時間
攪拌した。反応物を再び0〜5℃に冷却し、t−ブトキ
シカリウム(90%、0.81g)を加え、冷却槽をは
ずして室温で3時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液
で反応をクエンチし、反応物をジクロロメタンで抽出し
た。これを飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。得られた粗生成物をn−ヘキサンに25%ジ
クロロメタンを加えたものを移動相とするシリカゲルク
ロマトグラフィーにて精製し、目的とする化合物(1−
6)を0.18g得た。化合物(1−6)のNMRスペ
クトルデータは以下のとおりであった。
7.5Hz、6H、CH3)、1.30(d、J=6.
1Hz、6H、CH3)、1.60−1.66(m、2
H)、1.72−1.78(m、2H)、4.33(s
extet、J=6.1Hz、2H、OCH)、6.8
2−6.85(m、4H)、6.82−6.85(m、
4H)、7.43−7.46(m、8H)13 C−NMR(δ):9.70(2C)、19.13
(2C)、29.08(2C)、72.46(2C、a
cetylenic)、75.16(2C、OCH)、
80.34(2C、acetylenic)、83.4
3(2C、acetylenic)、112.96(2
C)、115.77(4C)、122.59(2C)、
132.31(4C)、134.20(4C)、15
9.31(2C、C−O) また、化合物(1−6)をギャップ8μmのガラスセルに
注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観察したとこ
ろ、201℃から222℃の範囲でネマティック相を示
した。またこの化合物の屈折率異方性を測定したとこ
ろ、0.46(測定温度;210℃、測定波長;633
nm)と極めて大きいものであった。
間体(IM3−4)を用いて同様に合成することにより
下記(1−7)を得ることができた。
ガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観
察したところ、177℃から221℃の範囲でネマティ
ック相を示した。またこの化合物の屈折率異方性を測定
したところ、0.44(測定温度;185℃、測定波
長;633nm)と極めて大きいものであった。
間体(IM3−2)を用いて同様に合成することにより
下記(1−8)を得ることができた。
ガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観
察したところ、237℃から271℃の範囲でネマティ
ック相を示した。
間体(IM3−3)を用いて同様に合成することにより
下記(1−9)を得ることができた。
ガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光顕微鏡観
察したところ、145℃から147℃の範囲でネマティ
ック相を示した。
製ネマティック液晶MJ931381(Δn=0.14
(20℃、589nm)に10重量%添加し、屈折率異
方性を測定したところ、0.19(20℃、589n
m)と大きなΔnを示す液晶が得られた。
体(RIM1−1)0.256gと中間体(RIM2−
1)153μlを乾燥したTHFに溶解したものに、無
水メトキシカリウム0.0886gを乾燥したTHF4
mlに溶解したものを−78℃でゆっくり加えた。−7
8℃で2時間攪拌した後、トリメチルシリルクロライド
155μlを加え、冷却槽をはずしてさらに2時間攪拌
した。再度0−5℃に反応槽を冷却し、リチウムヘキサ
メチルジシラザン(ヘキサメチルジシラザン2395μ
lとn−ブチルリチウム(1.6mol/Lヘキサン溶
液)6250μlを混合してあらかじめ調製したもの)
のTHF溶液をで加えた。これを室温で3時間攪拌した
のち、塩化アンモニウム水溶液で反応をクエンチし、反
応物を酢酸エチルで抽出した。これを飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成物
をn−ヘキサンを移動相とするシリカゲルクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とする化合物(R1)を0.1
12g得た。
タは以下のとおりであった。1 H−NMR(δ):7.32−7.36(m、4
H)、7.37−7.41(m、2H)、7.52?
7.55(m,4H)13 C−NMR(δ):66.44(s、2C、acet
ylenic)、74.41(s、2C、acetyl
enic)、78.56(s、2C、acetylen
ic)、120.90(s、2C)、128.46
(s、4C)、129.67(s、2C)、132.9
4(s、4C) 化合物R1は室温では結晶であった。これををギャップ
8μmのガラスセルに注入して、温度を変えながら偏光
顕微鏡観察したところ、93℃で結晶相から液相に転移
した。また、液相から降温したところ、41℃で結晶相
に転移した。したがってR1は液晶相をとらない化合物
であることがわかった。
は、屈折率異方性が極めて大きく、他液晶に混合し易
く、例えば、STN(超ねじれネマティック)型液晶素子
やPDLC(ポリマ−分散型液晶)型液晶素子に代表され
る液晶素子を構成する材料として特に有用である。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (1) [式中、A1〜A12は、それぞれ独立に水素原子、フッ
素原子、フッ素で置換されていてもよい炭素数1〜10
のアルキル基又はフッ素で置換されていてもよい炭素数
1〜10のアルコキシ基を表し、nは0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、
シアノ基、SF5、NCS、4−R3−(シクロアルキ
ル)基、4−R3−(シクロアルケニル)基又はR4−
(O)q基を表し、ここにR3は水素原子、又は直鎖もし
くは分枝のフッ素で置換されていてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基を表しR4は直鎖もしくは分枝のフッ素
原子で置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、直鎖もしくは分枝のフッ素原子で置換されていても
よい炭素数1〜12のアルコキシアルキル基、炭素数3
〜12のアルキニル基又は炭素数3〜12のアルケニル
基を表し、qは0又は1であり、R4がアルコキシアル
キル基の場合はq=1であり、R1及びR2は同時に水素
原子であることはない。]で示されるジまたはトリアセ
チレン化合物。 - 【請求項2】一般式(IM−1) 【化2】 (IM−1) [式中、A1、A2、A3、A4及びR1は、前記と同じ意
味を表し、Xは電子吸引性基を表す。]で示される化合
物と一般式(IM−2) 【化3】 (IM−2) [式中、A5、A6、A7、A8及びR2は、前記と同じ意
味を表す。]で示される化合物とを、塩基の存在下で反
応でさせることを特徴とする請求項1記載においてn=
0である化合物の製造法。 - 【請求項3】請求項2記載の一般式(IM−1)で示さ
れる化合物と、一般式(IM−3) 【化4】 (IM−3) [式中、A5、A6、A7及びA8は、前記と同じ意味を表
す。]で示される化合物とを、塩基の存在下で反応でさ
せることを特徴とする請求項1記載においてn=1であ
る化合物の製造法。 - 【請求項4】請求項1記載の一般式(1)で示される化合
物を少なくとも1種含有することを特徴とする液晶組成
物。 - 【請求項5】請求項3記載の液晶組成物を一対の電極基
板間に挟持してなることを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000220515A JP4576678B2 (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000220515A JP4576678B2 (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002030016A true JP2002030016A (ja) | 2002-01-29 |
JP4576678B2 JP4576678B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=18715109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000220515A Expired - Fee Related JP4576678B2 (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4576678B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010126468A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Toyota Central R&D Labs Inc | スルホンアミド化合物の製造方法 |
WO2011024958A1 (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | 株式会社クラレ | アセチレン化合物及びそれを含有している有機蛍光体材料 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2013821A1 (en) * | 1970-03-23 | 1971-10-14 | Basf Ag | Sulphonium - contg polyenes, used asorganic semiconductors |
JPS6160638A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 有機非線形光学材料 |
JPH0566434A (ja) * | 1991-09-06 | 1993-03-19 | Fujitsu Ltd | 非線形光学材料 |
JPH0672905A (ja) * | 1983-08-24 | 1994-03-15 | Univ Pennsylvania | 液晶相をもつジアセチレン |
JPH0940958A (ja) * | 1994-10-05 | 1997-02-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 液晶組成物およびこれを用いた液晶素子 |
US5820785A (en) * | 1994-05-19 | 1998-10-13 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Fluoroalkylethnyl- and difluoroalkylethynylbenzenes, and their use in liquid-crystal mixtures |
JPH111445A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジアセチレン化合物、それを含む液晶組成物およびそれを用いた液晶素子 |
JP2000273205A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 |
-
2000
- 2000-07-21 JP JP2000220515A patent/JP4576678B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2013821A1 (en) * | 1970-03-23 | 1971-10-14 | Basf Ag | Sulphonium - contg polyenes, used asorganic semiconductors |
JPH0672905A (ja) * | 1983-08-24 | 1994-03-15 | Univ Pennsylvania | 液晶相をもつジアセチレン |
JPS6160638A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 有機非線形光学材料 |
JPH0566434A (ja) * | 1991-09-06 | 1993-03-19 | Fujitsu Ltd | 非線形光学材料 |
US5820785A (en) * | 1994-05-19 | 1998-10-13 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Fluoroalkylethnyl- and difluoroalkylethynylbenzenes, and their use in liquid-crystal mixtures |
JPH0940958A (ja) * | 1994-10-05 | 1997-02-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 液晶組成物およびこれを用いた液晶素子 |
JPH111445A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジアセチレン化合物、それを含む液晶組成物およびそれを用いた液晶素子 |
JP2000273205A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010126468A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Toyota Central R&D Labs Inc | スルホンアミド化合物の製造方法 |
WO2011024958A1 (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | 株式会社クラレ | アセチレン化合物及びそれを含有している有機蛍光体材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4576678B2 (ja) | 2010-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6149837A (en) | Phenylacetylene compound and liquid crystal composition comprising the same | |
TWI567170B (zh) | A liquid crystal compound and a liquid crystal composition containing the same | |
US6623810B2 (en) | Phenylacetylene compound, liquid crystal composition, and liquid crystal element produced with the same | |
KR20150108325A (ko) | 4,6-다이플루오로다이벤조퓨란 유도체 | |
JPH02127A (ja) | 光学活性化合物及びそれを含む液晶組成物、液晶素子 | |
JPH026743B2 (ja) | ||
JP5186821B2 (ja) | 二色性色素、及びそれを用いた液晶組成物、液晶素子 | |
CN103787826A (zh) | 环庚烷类化合物及含有该化合物的液晶组合物及其应用 | |
JPH09104644A (ja) | フッ素置換アルケニル液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 | |
KR20100030946A (ko) | 신규한 피란 유도체, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 액정 조성물 및 액정 표시 장치 | |
JP4576678B2 (ja) | 側鎖を有するジまたはトリアセチレン化合物、それを含む液晶組成物、およびそれを用いた液晶素子 | |
JP4521738B2 (ja) | ベンゾチアゾール化合物、その製造法、液晶組成物及び液晶素子 | |
JP2005048007A (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び液晶性化合物。 | |
JP4301379B2 (ja) | 骨格末端にシクロヘキシル基を有するフェニルアセチレン化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 | |
JP4627576B2 (ja) | 骨格にフッ素置換されたアルキル基又はアルコキシ基を有するフェニルアセチレン化合物、その中間体、その製造法、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 | |
JPS63284147A (ja) | 液晶性物質,その製造法及びそれを含有する液晶組成物 | |
US5312563A (en) | Fluorinated 4"-cyano substituted terphenyls | |
JP4344456B2 (ja) | 骨格末端にシクロプロパン基又はアルケニル基を有するフェニルアセチレン化合物、液晶組成物及び液晶素子 | |
JP3608061B2 (ja) | テルシクロヘキサン化合物、液晶性化合物およびそれを含む液晶組成物 | |
JP2000198755A (ja) | 骨格にアルキル基を有するフェニルアセチレン化合物、その中間体、その製造法、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 | |
JP3651023B2 (ja) | ヘキセンジイン誘導体および液晶組成物 | |
JP3944611B2 (ja) | ジアルケニルビフェニル誘導体 | |
TW201414808A (zh) | 具有二氧雜飽和茚環結構的液晶化合物及液晶組合物 | |
JP2001302580A (ja) | 骨格にアルコキシ基を有するフェニルアセチレン化合物、液晶組成物及び液晶素子 | |
JP2646262B2 (ja) | ジフルオロアルキルシクロヘキシルベンゾニトリル誘導体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070605 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100519 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100708 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100727 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100809 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |