JP2002012896A

JP2002012896A - 洗浄除去剤及び洗浄方法

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Publication number: JP2002012896A
Application number: JP2000199274A
Authority: JP
Inventors: Koichi Ikemoto; 浩一池本; Manabu Numata; 学沼田; Junji Sugano; 純二菅野
Original assignee: EIKEN KK; Clean Chemical Co Ltd; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: EIKEN KK; Clean Chemical Co Ltd; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-06-30
Filing date: 2000-06-30
Publication date: 2002-01-15
Anticipated expiration: 2020-06-30
Also published as: JP3499809B2

Abstract

(57)【要約】【課題】各種電子部品や機械部品等の半田付け後に部
品表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き有
機質の汚れを確実に除去できる洗浄除去剤を提供する。【解決手段】３−メトキシ・３−メチル・１−ブタノ
ールと、Ｎ−メチル・２−ピロリドンとを必須成分、ベ
ンゾトリアゾール等の腐食防止剤を任意成分として含
む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプリント配
線板やＩＣ等の各種電子部品の半田付け後に部品表面に
固着した半田フラックス残渣の除去、ならびに電子部品
の熱処理によって端子表面や半田表面に生じる酸化皮膜
の如き金属表面の酸化皮膜の除去に用いる洗浄除去剤及
び洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、電子部品の半田付けにおいて
は、接合部を清浄にして且つ接合面の酸化を防ぐための
半田フラックスとして、ロジン、活性ロジン、ステアリ
ン酸、オレイン酸、塩酸アニリン、尿素、エチレンジア
ミン等の有機系フラックスが汎用されている。しかる
に、これら半田フラックスは、そのままの形又は熱によ
る炭化や分解等で生じた変性物として半田付け後の部品
表面に残留し、回路断線や導電不良等の要因となること
から、洗浄によって前記変性物を含む半田フラックス残
渣を除去することが肝要である。また、電子部品や機械
部品の表面には油脂成分等の有機質の汚れが付着してい
ることも多く、用途によってはその汚れを洗浄除去する
必要がある。

【０００３】一方、電子部品によっては端子表面や半田
表面に酸化皮膜が生じる場合があり、この電子部品に半
田付けをする場合に半田付けの不良が発生するおそれが
あるので、この酸化皮膜を除去することが望ましい。

【０００４】従来、半田フラックス残渣や有機質の汚れ
の洗浄除去には、フッ素系溶剤や塩素系溶剤が汎用され
てきたが、近年ではオゾン層破壊の原因になることや毒
性の問題等によって使用できなくなってきている。そこ
で、これらに代替する新しい洗浄除去剤として、例えば
特開平７−３２９４号公報では、炭素数３以上のアルコ
ール溶剤と、炭化水素溶剤と、塩基性物質としての第４
級アンモニウム塩基との３成分からなる洗浄組成物が提
案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記提
案の洗浄組成物では、半田フラックス残渣や有機質の汚
れに対し、ある程度の洗浄除去効果が得られるものの充
分とは言えない上、電子部品の端子表面や半田表面に生
じた酸化皮膜に対する除去作用は殆どなく、またイソプ
ロピルアルコール等の引火点の低い低級アルコール溶剤
を用いる点で取扱い上の危険性があるといった難点があ
った。とりわけ、上記の酸化皮膜については、元来より
除去困難とされており、フッ素系溶剤や塩素系溶剤によ
る洗浄でも効果はない。また酸やアルカリによる洗浄で
は、酸化皮膜は除去できても素材が侵されることにな
り、特に電子部品が対象である場合には到底採用できな
い。

【０００６】本発明は、上述の事情に鑑みて、各種電子
部品や機械部品等の半田付け後に部品表面に固着した半
田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れを確実に
除去できる洗浄除去剤及び洗浄方法を提供することを第
一の目的とし、また該半田フラックス残渣及び有機質の
汚れの除去に加え、電子部品の端子表面や半田表面に生
じた酸化皮膜の如き金属表面の酸化皮膜の除去も可能な
洗浄除去剤及び洗浄方法を提供することを第二の目的と
している。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記第一の目的を達成す
るために、本発明の請求項１に係る洗浄除去剤は、ａ）
３−メトキシ・３−メチル・１−ブタノールと、ｂ）Ｎ
−メチル・２−ピロリドンとを必須成分として含有する
ものとしている。

【０００８】また、請求項１の洗浄除去剤の好適態様と
して、請求項２では前記のａ成分／ｂ成分の重量比が１
１／８９〜９４／６の範囲にある構成、請求項３では洗
浄除去剤における前記ａ成分及びｂ成分と共に、ｃ）ベ
ンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、２−メルカプト
ベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑
制剤成分がａ，ｂ成分の合量に対して０．０５〜６重量
％の範囲で含まれる構成、請求項４ではＰＨが５．１〜
８．９の範囲にある構成、をそれぞれ採用している。

【０００９】更に、請求項５に係る洗浄方法は、同様目
的において、前記請求項１〜４のいずれかの洗浄除去剤
を用いた洗浄により、半田付け後の部品表面に残留する
半田フラックス及びその変性物を除去することを特徴と
している。

【００１０】一方、前記第二の目的を達成するために、
本発明の請求項６に係る洗浄除去剤は、ａ）３−メトキ
シ・３−メチル・１−ブタノールと、ｄ）水溶性チオグ
リコール酸塩ととを必須成分として含有するものとして
いる。

【００１１】また、請求項６の洗浄除去剤の好適態様と
して、請求項７では前記のａ成分／ｄ成分の重量比が２
７／７３〜８７／１３の範囲にある構成、請求項８では
前記ａ成分及びｄ成分と共に、ｅ）ポリオキシエチレン
アルキルエーテルが洗浄除去剤全量中の０．７〜２０重
量％を占める割合で含まれてなる構成、請求項９では前
記ａ成分及びｄ成分と共に、ｆ）水溶性クエン酸塩が洗
浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％を占める割合で含
まれてなる構成、請求項１０では前記ａ成分及びｄ成分
と共に、前記請求項３記載のｃ成分の腐食抑制剤成分
と、ｇ）塩酸アルキルジ（アミノエチル）グリシン又は
／及びナトリウムアルキルジ（アミノエチル）グリシン
とが、それそれ洗浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％
を占める割合で含まれてなる構成、請求項１１ではＰＨ
が５．１〜８．９の範囲にある構成、をそれぞれ採用し
ている。

【００１２】更に、請求項１２に係る洗浄方法は、前記
請求項６〜１１のいずれかに記載の洗浄除去剤を用いた
洗浄により、金属表面の酸化皮膜を除去することを特徴
としている。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明に係る第一の洗浄除去剤
は、既述のように、ａ）３−メトキシ・３−メチル・１
−ブタノールと、ｂ）Ｎ−メチル・２−ピロリドンとを
必須成分として含有するものであり、これを用いること
により、電子部品の半田付け後の表面に固着した半田フ
ラックス残渣（熱による炭化や分解等で生じた変性物を
含む…以下同様）や油脂等の有機系の汚れを確実に洗浄
できることが判明している。すなわち、これらａ，ｂ両
成分は共に常温下で液状を呈する化合物であり、半田フ
ラックスに多用されるロジンや高級脂肪酸、油脂等に対
する溶解力を発揮する溶剤として機能し、本洗浄除去剤
中に被洗浄物を浸漬して超音波洗浄等の洗浄処理を施し
た際、ａ，ｂ両成分が協働して前記の有機系の汚れを完
全に溶解する上、ａ，ｂ両成分が共に水溶性であるた
め、次いで水洗を行うことによって汚れを溶解した洗浄
除去剤を被洗浄物の表面から容易に除去できる。

【００１４】ここで、ａ成分の３−メトキシ・３−メチ
ル・１−ブタノールは前記のようにロジンや高級脂肪
酸、油脂等に対する溶解力を有するが、その溶解力はｂ
成分のＮ−メチル・２−ピロリドンに比較して弱いた
め、このａ成分単独では前記の有機系の汚れを完全に溶
解除去するには不充分である。一方、ｂ成分のＮ−メチ
ル・２−ピロリドンは、強力な前記溶解力を有する反
面、金属に対する若干の酸化腐食性があるため、やはり
単独では支障を生じる。しかるに、本発明の第一の洗浄
除去剤では、ａ，ｂ両成分の併用によって両者の利点が
活かされ、金属の酸化腐食を抑えて有機系の汚れに対す
る優れた溶解除去性を発揮させることを可能にしてい
る。また、この洗浄除去剤は、ａ，ｂ両成分が共に水溶
性であるために引火点が高く、且つ両成分が低毒性でも
あることから、取扱い中の安全性にも優れている。

【００１５】第一の洗浄除去剤におけるａ成分の３−メ
トキシ・３−メチル・１−ブタノールとｂ成分のＮ−メ
チル・２−ピロリドンとの配合比率は、ａ成分／ｂ成分
の重量比で１１／８９〜９４／６の範囲が好適であり、
ａ成分が少な過ぎると金属に対する酸化腐食性が現れ、
ｂ成分が少な過ぎると有機系の汚れに対する溶解力が不
充分になる。

【００１６】また、この第一の洗浄除去剤としては、金
属に対する酸化腐食性をより確実に抑えるために、ｃ成
分としてベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、２−
メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種
の腐食抑制剤成分を配合することが推奨される。しかし
て、これらｃ成分中でも、ベンゾトリアゾールは他の腐
食抑制剤成分に比較し、銅、真鍮、半田等の非鉄金属類
に対して変色防止及び腐食抑制の効果に優れている点か
ら最も好適である。このようなｃ成分の腐食抑制剤成分
の配合量は、前記ａ，ｂ成分の合量に対して０．０５〜
６重量％の範囲とするのがよく、少な過ぎては充分な腐
食抑制作用が発現せず、多過ぎてもそれ以上の腐食（酸
化）抑制作用の増加がなくコスト高になる。

【００１７】上記第一の洗浄除去剤による洗浄操作は、
有機系の半田フラックスを用いて半田付けを行った電子
部品や機械部品等を当該洗浄除去剤中に所要時間浸漬す
るだけでよく、これによって部品表面に残留しているフ
ラックス残渣が他の有機質の汚れと共に除去剤中に溶解
する。しかして、この浸漬においては、特に超音波洗浄
を採用すれば、フラックス残渣を含む汚れをより確実に
短時間で溶解除去できる。また、この浸漬後に水洗を行
うことにより、汚れを含む当該洗浄除去剤を部品表面か
ら完全に取り除くことができる。なお、この第一の洗浄
除去剤は、前記ａ，ｂ，ｃ成分に水を加えた希釈液形態
をも包含するが、希釈した分だけ洗浄性が低下すること
になる。

【００１８】本発明の第二の洗浄除去剤は、前記第一の
洗浄除去剤に用いたａ成分の３−メトキシ・３−メチル
・１−ブタノールと、ｄ）水溶性チオグリコール酸塩と
を必須成分として含むものであり、前記の半田フラック
ス残渣や油脂等の有機系の汚れの溶解除去に加えて、
ａ，ｄ両成分の協働によって金属表面の酸化皮膜も溶解
除去できるという優れた特徴を有している。また、ｄ成
分も水溶性であるため、第一の洗浄除去剤と同様に、水
洗によって前記汚れや酸化皮膜を溶解した当該洗浄除去
剤を被洗浄物の表面から容易に除去できると共に、引火
点が高く、且つａ，ｄ成分が共に低毒性であるため、取
扱い中の安全性にも優れている。

【００１９】上記ｄ成分の水溶性チオグリコール酸塩と
しては、特に制約はないが、例えば、チオグリコール酸
アンモニウム、チオグリコール酸ナトリウム、チオグリ
コール酸カリウム、チオグリコール酸モノエタノールア
ミン、チオグリコール酸ジエタノールアミン、チオグリ
コール酸トリエタノールアミン等が好適てものとして挙
げられる。そして、これらチオグリコール酸塩は、濃度
１０〜５０％程度の水溶液としてａ成分の３−メトキシ
・３−メチル・１−ブタノールに混合すればよい。

【００２０】この第二の洗浄除去剤における上記のａ成
分とｄ成分との配合比率は、ａ成分／ｄ成分の重量比で
２７／７３〜８７／１３が範囲が好適であり、ａ成分が
少な過ぎると半田フラックス残渣を始めとする有機系の
汚れに対する溶解力が不充分になり、ｄ成分が少な過ぎ
ると金属表面の酸化皮膜の除去性が悪くなる。

【００２１】この第二の洗浄除去剤においては、上記の
ａ，ｄ成分と共に、ｅ成分としてポリオキシエチレンア
ルキルエーテルを配合することにより、洗浄性を向上さ
せることができる。すなわち、ｅ成分は非イオン界面活
性剤であり、洗浄除去剤の表面張力を小さくして、被洗
浄物の表面に対する洗浄除去剤の濡れを良くすると共
に、有機質の汚れや酸化皮膜への洗浄除去剤の浸透性な
らびに被洗浄物表面からの溶解成分の離脱性を高め、も
ってこれらの溶解を助長する機能を果たす。

【００２２】このようなｅ成分のポリオキシエチレンア
ルキルエーテルとしては、特に制約はないが、第二級ア
ルコールにエチレンオキサイドの７〜１５モルが付加し
たものが最も優れた洗浄効果を示すものとして推奨され
る。しかして、ｅ成分の配合量は、洗浄除去剤全量中の
０．１〜１０重量％を占める範囲が好ましく、少な過ぎ
ては充分な効果が得られず、逆に多過ぎても無駄になる
だけでより以上の効果は得られない。

【００２３】また、第二の洗浄除去剤においては、ａ，
ｄ成分と共に、ｆ成分として水溶性クエン酸塩を配合す
ることが推奨される。この水溶性クエン酸塩は、前記ｅ
成分と同様に非洗浄物の表面に対する洗浄除去剤の濡れ
をよくし、また有機質の汚れや酸化皮膜への洗浄除去剤
の浸透性を高め、これらの溶解を助長する機能に加え、
洗浄除去剤の経時的なＰＨ変動を抑えるＰＨ緩衝剤とし
ての機能を発揮し、洗浄除去剤の保管・管理を容易にす
るという利点がある。

【００２４】このようなｆ成分の水溶性クエン酸塩とし
ては、例えばクエン酸アンモニウム、クエン酸ナトリウ
ム、クエン酸カリウム、クエン酸モノエタノールアミ
ン、クエン酸ジエタノールアミン、クエン酸トリエタノ
ールアミン等が挙げられる。しかして、このｆ成分の配
合量は、洗浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％を占め
る範囲が好ましく、少な過ぎては充分な効果が得られ
ず、逆に多過ぎてもＰＨ緩衝作用に寄与しない上に半田
フラックス残渣等の有機質の汚れの溶解性を却って低下
させることになる。

【００２５】更に、第二の洗浄除去剤においては、ａ，
ｄ成分と共に、第一の洗浄除去剤に用いる既述のｃ成分
と、ｇ成分として塩酸アルキルジ（アミノエチル）グリ
シン又は／及びナトリウムアルキルジ（アミノエチル）
グリシンとを配合することが望ましい。すなわち、これ
らｃ成分及びｇ成分は、両者の併用により、当該洗浄除
去剤による金属表面の酸化皮膜除去性を高めると共に、
この酸化皮膜を除去した金属表面の再酸化を抑制する酸
化腐食防止剤として協働して機能する。ただし、ｃ成分
とｇ成分の一方のみの使用では、再酸化の抑制効果は殆
ど得られないことが判明している。

【００２６】これらｃ成分及びｇ成分の配合量は、それ
ぞれ洗浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％を占める範
囲が好ましく、少な過ぎては充分な効果が得られず、逆
に多過ぎてもより以上の効果はなく洗浄除去剤のコスト
上昇を招くことになる。

【００２７】なお、ｇ成分の塩酸アルキルジ（アミノエ
チル）グリシンは、次の一般式；〔ＲＮＨ・（Ｃ₂Ｈ₄ＮＨ）₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ〕・ＨＣ
ｌで表されるものである。またナトリウムアルキルジ（ア
ミノエチル）グリシンは、次の一般式；ＲＮＨ・（Ｃ₂Ｈ₄ＮＨ）₂ＣＨ₂ＣＯＯＮａで表されるものである。そして、上記の両化合物として
は、アルキル基（Ｒ）の炭素数が主として１２〜１４程
度のものが一般的に使用される。

【００２８】このような第二の洗浄除去剤は、前記のよ
うに半田フラックス残渣や油脂等の有機系の汚れに対す
る溶解除去性と、金属表面の酸化皮膜に対する溶解除去
性とを併せ持つことから、半田付け後の表面に固着して
いるフラックス残渣や油脂等の有機質の汚れの除去と同
時に、電子部品の端子表面や半田表面に生成した酸化皮
膜も除去できる。しかして、この第二の洗浄除去剤は、
半田付け後の電子部品に限らず、一般的な機械部品にお
ける有機質の汚れ及び酸化皮膜の除去にも適用できるこ
とは言うまでもない。なお、酸化皮膜の除去対象となる
金属材料としては、特に制約されないが、銅、ＣｕＮｉ
（白銅）やＣｕＺｎ（黄銅＝真鍮）の如き銅合金、鉄、
銀、錫、ＳｎＰｂ（半田）等が挙げられる。

【００２９】なお、このような第二の洗浄除去剤による
洗浄においても、前記第一の洗浄除去剤の場合と同様に
超音波洗浄等を採用することにより、有機質の汚れ及び
酸化皮膜の除去性が向上する。また、第一及び第二の洗
浄除去剤共に、液のＰＨは５．１〜８．９の範囲に設定
するのがよい。すなわち、第一の洗浄除去剤では、上記
ＰＨ範囲に設定することにより、洗浄処理中における被
洗浄物の金属表面の酸化腐食をより確実に防止できる。
また第二の洗浄除去剤では、上記ＰＨ範囲のものを使用
して金属表面の酸化皮膜を除去処理した場合、この除去
後の金属表面への酸化皮膜の再生を効果的に防止できる
が、ＰＨが上記範囲を外れるものを用いて酸化皮膜の除
去処理をおこなった場合、酸化皮膜の再生を抑制する効
果が低くなることが判明している。しかして、このＰＨ
は、各洗浄除去剤における配合成分の種類と量的関係の
調整によって経験的に設定すればよい。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。

【００３１】製造例１ａ成分として３−メトキシ・３−メチル・１−ブタノー
ル、ｂ成分としてＮ−メチル・２−ピロリドン、ｃ成分
としてベンゾトリアゾールをそれぞれ使用し、後記表１
記載の配合比率（重量部）でステンレスタンク中に投入
して攪拌混合したのち、濾過しつつ取り出してＮｏ１〜
Ｎｏ１８の洗浄除去剤を得た。なお、これら洗浄除去剤
のＰＨはいずれも５．１〜８．９の範囲にあった。

【００３２】製造例２製造例１と同じａ，ｂ成分と、後記表１記載のｃ成分と
を同表記載の配合比率で用いた以外は、製造例１と同様
にしてＮｏ１９〜Ｎｏ２２の洗浄除去剤を得た。これら
洗浄除去剤のＰＨはいずれも５．１〜８．９の範囲にあ
った。

【００３３】製造例１及び２で得られた洗浄除去剤Ｎｏ
１〜Ｎｏ２２について、超音波洗浄機による洗浄に用い
たときのフラックス残渣の除去性と、金属に対する酸化
腐食性とをそれぞれ試験した。その結果を後記表１及び
２に示す。なお、各項目の試験方法と評価は次の通りで
ある。

【００３４】〔フラックス残渣の除去性〕銅板（２０ｍ
ｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）の表面にロジン系フラックスを
塗布した上で半田（Ｓｎ６０％，Ｐｂ４０％）付けを行
い、約２４時間放置したものを被洗浄物とし、この被洗
浄物を超音波洗浄機に入れた洗浄除去剤中に浸漬し、液
温を３５〜４０℃に保持して２０分間の超音波洗浄を行
う。そして、取り出した被洗浄物を純水にて５秒間すす
ぎ、イソプロピルアルコールに浸漬して脱水し、自然乾
燥させたのち、アセトンによってフラックス残渣を溶出
させ、除去試験前後の質量差よりフラックス残渣量を求
め、次の三段階で評価した。 ◎…半田フラックス残渣は全くなし △…僅かに半田フラックス残渣がある ×…半田フラックス残渣が顕著にある

【００３５】〔金属に対する酸化腐食性〕銅板、真鍮
板、圧延鋼板、半田の各々を洗浄除去剤中に浸漬し、液
温２０〜２５℃において５日間放置したのち、取り出し
て表面の酸化皮膜をオージェ電子分光法によって定量分
析し、その結果を次の３段階で評価した。Ａ…新たな酸化皮膜なし。Ｂ…新たな酸化皮膜が僅かに生成。Ｃ…新たな酸化皮膜が顕著に生成。

【００３６】

【表１】

【００３７】

【表２】

【００３８】表１の結果から、ａ成分とｂ成分とを含む
洗浄除去剤（Ｎｏ３〜１７）は半田付け後の銅板表面に
残留するフラックス残渣に対する溶解除去性を発揮し、
とりわけａ成分／ｂ成分の重量比が１１／８９〜９４／
６の範囲にある洗浄除去剤（Ｎｏ４〜１６）によれば該
フラックス残渣を完全に除去できることが判る。これに
対し、ａ成分を含みｂ成分を含まない洗浄除去剤（Ｎｏ
１，２）では、フラックス残渣の除去性に劣り、逆にｂ
成分を含みａ成分を含まない洗浄除去剤（Ｎｏ１８）で
は、フラックス残渣の除去性は充分であるが、金属表面
を酸化腐食するという問題を生じることが明らかであ
る。また、ａ，ｂ成分の合量に対してｃ成分のベンゾト
リアゾールを０．０５重量％以上配合（Ｎｏ５，８〜１
１，１４〜１７）することにより、金属表面に対する酸
化腐食性が抑えられるが、ａ成分に対するｂ成分の割合
が多過ぎる場合（Ｎｏ１７）は酸化腐食性の抑制効果が
充分ではないことが判る。一方、表２の結果から、ｃ成
分の腐食防止剤としてベンゾチアゾール、２−メルカプ
トベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素をそれぞれ使用しても、ベンゾトリアゾー
ルの使用時と同等の金属表面に対する酸化腐食性の抑制
効果が得られることが判る。

【００３９】製造例３ａ成分として３−メトキシ・３−メチル・１−ブタノー
ル、ｄ成分としてチオグリコール酸アンモニウム、ｅ成
分としてポリオキシエチレンアルキルエーテル（第二級
アルコールにエチレンオキサイド７〜１５モルが付加し
たもの、アルキル基の炭素数１２）、ｆ成分としてクエ
ン酸アンモニウム、ｃ成分としてベンゾトリアゾール、
ｇ成分として塩酸アルキルジ（アミノエチル）グリシン
（アルキル基の炭素数１２〜１４）をそれぞれ使用し、
後記表３記載の配合比率（重量部）でステンレスタンク
中に投入して攪拌混合したのち、濾過しつつ取り出して
Ｎｏ２３〜Ｎｏ４３の洗浄除去剤を得た。なお、ｄ成分
のチオグリコール酸アンモニウムは３０％水溶液として
配合したが、表３の数値は水を除外したチオグリコール
酸アンモニウム単独の重量部である。これら洗浄除去剤
のＰＨはいずれも５．１〜８．９の範囲にあった。

【００４０】製造例４Ｎｏ４４ではｄ成分としてチオグリコール酸ナトリウム
（３０％水溶液として配合）を、Ｎｏ４５ではｄ成分と
してチオグリコール酸ジエタノールアミンを、Ｎｏ４６
ではｅ成分としてクエン酸トリエタノールアミンを、Ｎ
ｏ４７ではｇ成分としてナトリウムアルキルジ（アミノ
エチル）グリシン（アルキル基の炭素数１２）をそれぞ
れ用い、他の使用成分は製造例３と同様とし、後記表４
記載の配合比率（重量部）により製造例３と同様にして
Ｎｏ４４〜Ｎｏ４８の洗浄除去剤を得た。これら洗浄除
去剤のＰＨはいずれも５．１〜８．９の範囲にあった。

【００４１】製造例３及び４で得られた洗浄除去剤Ｎｏ
２３〜Ｎｏ４７について、超音波洗浄機による洗浄に用
いたときのフラックス残渣の除去性と、金属表面の酸化
皮膜の除去性を試験した。その結果を後記表３及び４に
示す。なお、各項目の試験方法と評価は次の通りであ
る。

【００４２】〔フラックス残渣の除去性〕銅板（２０ｍ
ｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）の表面にロジン系フラックスを
塗布した上で半田（Ｓｎ６０％，Ｐｂ４０％）付けを行
い、約２４時間放置したものを空気中で２００℃にて３
０分間加熱し、これを被洗浄物とした。この被洗浄物を
前記製造例１，２の洗浄除去剤による場合と同様にして
超音波洗浄を行い、次いで純水及びイソプロピルアルコ
ールによるすすぎ、脱水、乾燥、フラックス残渣の溶出
を行い、除去試験前後の質量差よりフラックス残渣量を
求め、次の三段階で評価した。 ◎…半田フラックス残渣は全くなし △…僅かに半田フラックス残渣がある ×…半田フラックス残渣が顕著にある

【００４３】〔酸化皮膜の除去性〕半田付け後の加熱処
理前の銅板と、前記超音波洗浄を経てフラックス残渣の
溶出を行った洗浄処理後の銅板について、表面（銅と半
田）の酸化皮膜をオージェ電子分光法によって定量分析
して比較した。また真鍮板と圧延鋼板についても、加熱
処理前と空気中で２００℃にて３０分間の加熱処理後と
の酸化皮膜を同様に定量分析して比較した。その結果を
次の３段階で評価した。 ◎…加熱処理前と同等の酸化状態（加熱処理による酸化
皮膜が消滅）。 △…加熱処理前より僅かに酸化が進んでいる。 ×…加熱処理前より顕著に酸化が進んでいる。

【００４４】

【表３】

【００４５】

【表４】

【００４６】表３の結果から、ａ成分とｄ成分とを含む
洗浄除去剤はフラックス残渣と酸化皮膜に対する溶解除
去性を発揮することが明らかである。とりわけ、ａ成分
／ｄ成分の重量比が２７／７３〜８７／１３の範囲にあ
って、且つｅ，ｆ，ｃ，ｇ成分を各々洗浄除去剤全量中
の０．８重量％以上配合した洗浄除去剤（Ｎｏ２９，３
２，３３，３６〜３９）は、フラックス残渣及び酸化皮
膜を完全に除去できることが判る。これに対し、ｄ成分
を含みａ成分を含まない洗浄除去剤（Ｎｏ１〜３）で
は、フラックス残渣及び酸化皮膜の除去性が得られず、
逆にａ成分を含みｄ成分を含まない洗浄除去剤（Ｎｏ４
３）でも酸化皮膜の除去性は得られないこと明らかであ
る。一方、表４の結果から、ｆ，ｃ，ｇ成分の種類が異
なっても、充分なフラックス残渣及び酸化皮膜の除去性
が得られることが判る。

【００４７】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、洗浄除去剤と
して、各種電子部品や機械部品等の半田付け後に部品表
面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質
の汚れを確実に除去でき、取扱い上の安全性にも優れる
ものが提供される。

【００４８】請求項２及び請求項３の発明によれば、上
記の洗浄除去剤として、半田フラックス残渣及び油脂の
如き有機質の汚れを確実に除去できる上、洗浄処理中に
おける被洗浄物の金属表面の酸化腐食を生じにくいもの
が提供される。

【００４９】請求項４の発明によれば、上記の洗浄除去
剤として、半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の
汚れの除去性がより優れると共に、洗浄処理後の被洗浄
物の金属表面の酸化を生じにくくできるものが提供され
る。

【００５０】請求項５の発明に係る洗浄方法によれば、
半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れを効率
よく確実に除去できる。

【００５１】請求項６の発明によれば、洗浄除去剤とし
て、半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れを
確実に除去できる上、被洗浄物の金属表面の酸化皮膜も
除去でき、例えば電子部品の端子表面や半田表面に生じ
た酸化皮膜を半田フラックス残渣と同時に除去すること
を可能にし、また取扱い上の安全性にも優れるものが提
供される。

【００５２】請求項７及び請求項８の発明によれば、上
記の半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れの
除去性と酸化皮膜の除去性が共により優れる洗浄除去剤
が提供される。

【００５３】請求項９の発明によれば、上記の半田フラ
ックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れの除去性と酸化
皮膜の除去性が共により優れることに加え、安定性が高
く保管・管理が容易な洗浄除去剤が提供される。

【００５４】請求項１０の発明によれば、上記の半田フ
ラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れと酸化皮膜と
を完全に除去できる洗浄除去剤が提供される。

【００５５】請求項１１の発明によれば、上記の半田フ
ラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れと酸化皮膜と
を除去できる上、洗浄処理後の被洗浄物における金属表
面の再酸化を生じにくくできるものが提供される。

【００５６】請求項１２の発明に係る洗浄方法によれ
ば、半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れと
金属表面の酸化皮膜とを効率よく確実に除去できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者池本浩一大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者沼田学大阪府茨木市横江１丁目12番14号クリーンケミカル株式会社技術部開発課内 (72)発明者菅野純二大阪府大阪市城東区成育３丁目５番19号株式会社エイケン内Ｆターム(参考） 4H003 BA12 DA14 DA15 DB02 EB08 EB13 EB20 EB21 ED29 ED31 ED32 FA01 FA15 FA28

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ａ）３−メトキシ・３−メチル・１−ブ
タノールと、ｂ）Ｎ−メチル・２−ピロリドンとを必須
成分として含有する洗浄除去剤。
【請求項２】前記のａ成分／ｂ成分の重量比が１１／
８９〜９４／６の範囲にある請求項１記載の洗浄除去
剤。
【請求項３】前記ａ成分及びｂ成分と共に、ｃ）ベン
ゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、２−メルカプトベ
ンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、
チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑制剤
成分がａ，ｂ成分の合量に対して０．０５〜６重量％の
範囲で含まれてなる請求項１又は２に記載の洗浄除去
剤。
【請求項４】ＰＨが５．１〜８．９の範囲にある請求
項１〜３のいずれかに記載の洗浄除去剤。
【請求項５】前記請求項１〜４のいずれかに記載の洗
浄除去剤を用いた洗浄により、半田付け後の部品表面に
残留する半田フラックス及びその変性物を除去すること
を特徴とする洗浄方法。
【請求項６】ａ）３−メトキシ・３−メチル・１−ブ
タノールと、ｄ）水溶性チオグリコール酸塩とを必須成
分として含有する洗浄除去剤。
【請求項７】前記のａ成分／ｄ成分の重量比が２７／
７３〜８７／１３の範囲にある請求項６記載の洗浄除去
剤。
【請求項８】前記ａ成分及びｄ成分と共に、ｅ）ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルが洗浄除去剤全量中の
０．７〜２０重量％を占める割合で含まれてなる請求項
６又は７に記載の洗浄除去剤。
【請求項９】前記ａ成分及びｄ成分と共に、ｆ）水溶
性クエン酸塩が洗浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％
を占める割合で含まれてなる請求項６〜８のいずれかに
記載の洗浄除去剤。
【請求項１０】前記ａ成分及びｄ成分と共に、前記請
求項３記載のｃ成分の腐食抑制剤成分と、ｇ）塩酸アル
キルジ（アミノエチル）グリシン又は／及びナトリウム
アルキルジ（アミノエチル）グリシンとが、それそれ洗
浄除去剤全量中の０．７〜１０重量％を占める割合で含
まれてなる請求項６〜９のいずれかに記載の洗浄除去
剤。
【請求項１１】ＰＨが５．１〜８．９の範囲にある請
求項６〜１１のいずれかに記載の洗浄除去剤。
【請求項１２】前記請求項６〜１１のいずれかに記載
の洗浄除去剤を用いた洗浄により、金属表面の酸化皮膜
を除去することを特徴とする洗浄方法。