JP2002011741A

JP2002011741A - 透明樹脂基板の連続的製造方法

Info

Publication number: JP2002011741A
Application number: JP2000198139A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miwa; 靖三輪; Noriyuki Saito; 範之斉藤; Mitsuru Ishihara; 充石原
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2000-06-30
Filing date: 2000-06-30
Publication date: 2002-01-15
Anticipated expiration: 2020-06-30
Also published as: JP3573689B2

Abstract

(57)【要約】【課題】均一且つ平坦な表面を有する透明樹脂基板の連
続的製造方法を提供する。【解決手段】移送される下部支持シート（２０）上に光
重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、その上に下部支
持シートと同速度で同一方向に移送される上部支持シー
ト（３０）を積層した後、光重合性モノマー組成物に活
性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連続的製造方
法であって、下部支持シート及び／又は上部支持シート
を透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程（４）
及び両支持シートを剥離した後に活性線の照射を行なう
後段硬化工程（６）より成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明樹脂基板の連
続的製造方法に関し、詳しくは、均一且つ平坦な表面を
有する透明樹脂基板の連続的製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明樹脂基板は、工業的には、液晶、有
機ＥＬなどのディスプレー基板、光学フィルター、光通
信材料、太陽電池基板などの各種用途に利用されてい
る。斯かる透明樹脂基板は、移送される下部支持シート
上に光重合性モノマー組成物を供給し、その上に下部支
持シートと同速度で同一方向に移送される上部支持シー
トを積層し、次いで、光重合性モノマー組成物に活性線
を照射して硬化させた後に両支持シートを剥離する方法
により、連続的に製造することが出来る。通常、上記の
支持シートには合成樹脂シートが使用される。

【０００３】ところで、上記の方法においては、活性線
の照射により、支持シートが熱収縮し、シート状に成形
された光重合性モノマー組成物との間にズレを生じる。
そのため、均一且つ平坦な表面を有する透明樹脂基板の
連続的製造は困難である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、均一且つ平坦な
表面を有する透明樹脂基板の連続的製造方法を提供する
ことにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく種々検討を重ねた結果、意外にも、活性
線の照射による硬化工程を２段に分け、前段硬化工程の
後に支持シートを剥離してから段硬化工程を行なうなら
ば、上記の目的を容易に達成し得るとの知見を得、本発
明の完成に至った。

【０００６】すなわち、本発明の要旨は、移送される下
部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給し、そ
の上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送される
上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー組成物
に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連続的製
造方法であって、下部支持シート及び／又は上部支持シ
ートを透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程、
および、両支持シートを剥離した後に活性線の照射を行
なう後段硬化工程より成ることを特徴とする透明樹脂基
板の連続的製造方法に存する。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図１は本発明を実施するための製造設
備の好ましい一例の説明図である。

【０００８】先ず、本発明で使用する光重合性モノマー
組成物について説明する。本発明で使用する光重合性モ
ノマー組成物は、重合性モノマーと光重合開始剤と任意
の他の成分とから構成される。

【０００９】上記の重合性モノマーとしては、紫外線な
どの活性線の照射によって重合・硬化することにより透
明樹脂を形成し得るモノマーである限り、特に制限され
ず、各種のモノマーを使用することが出来る。代表的に
は各種のアクリレート化合物、例えば、エポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、これらのオリゴマ
ー、または、これらと他の重合性モノマーとの組み合せ
等が挙げられる。

【００１０】本発明においては、耐薬品性、剛性などの
観点から、次の一般式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス
（メタ）アクリレート、次の一般式（II）で表される含
脂環骨格モノ（メタ）アクリレートの組み合せが好適で
あり、特に、これらと後述の二官能性メルカプト化合物
との組み合せが好適である。なお、「（メタ）アクリレ
ート」は、アクリレートとメタクリレートを含む総称で
ある。

【００１１】

【化１】

【００１２】一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ
独立して、水素原子またはメチル基を示し、mは１又は
２の整数、ｎは０又は１の整数、ｐ及びｑは、それぞれ
独立して、０〜３の何れかの整数を表す。

【００１３】上記の式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス
（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デ
カン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシク
ロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジメタクリレート、
ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2, ⁶］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝ジアク
リレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝ジメタ
クリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝アクリ
レートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキ
シメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2, ⁶］デカン＝
ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジメタクリレート、ビ
ス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］
デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物などが挙げられる。

【００１４】

【化２】

【００１５】一般式（II）中、Ｒ³は水素原子またはメ
チル基を示し、mは１又は２の整数、ｎは０又は１の整
数、r及びsは、それぞれ独立して、０〜３の何れかの整
数を表す。

【００１６】上記の一般式（II）で表される含脂環骨格
モノ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、
ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2,6］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチ
ル）トリシクロ［５．２．１．０^2, ⁶］デカン＝モノメ
タクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチ
ル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．
０^9,13］ペンタデカン＝モノアクリレート、ビス（オキ
シメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．
０^9,13］ペンタデカン＝モノメタクリレート及びこれら
の混合物、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシ
メチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モ
ノメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられ
る。

【００１７】含脂環骨格ビス（メタ）アクリレート及び
含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートと組み合わせて使
用される二官能性メルカプト化合物としては、一般式
（III）〜（V）で表されるメルカプト化合物が好適であ
る。

【００１８】

【化３】

【００１９】一般式（III）中、Ｒ⁴はメチレン基または
エチレン基を示し、Ｒ⁵はエーテル酸素を含んでいても
よい炭素数２〜１５の炭化水素残基を示し、ａは２〜６
の整数を示す。

【００２０】一般式（III）において、Ｒ⁵（エーテル酸
素を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基）
の具体例としては、例えば、ペンタエリスリトール残
基、ジペンタエリスリトール残基、トリメチロールプロ
パン残基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコ
ール残基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオー
ル残基などが挙げられる。

【００２１】一般式（III）で表されるメルカプト化合
物は、２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプ
ロピオン酸エステルであり、その具体例としては、例え
ば、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピ
オネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグ
リコレート）、トリメチロールプロパントリス（β−チ
オプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス
（チオグリコレート）、エチレングリコールビス（β−
チオプロピオネート）等が挙げられる。

【００２２】

【化４】

【００２３】一般式（IV）中、ＸはHS-（CH₂）_b-CO-（O
CH₂CH₂）_d-（CH₂）_c-を示す。但し、ｂ及びｃは、それ
ぞれ独立して１〜８の整数を示す。

【００２４】一般式（IV）で表されるメルカプト化合物
はω−チオール基含有イソシアヌレートであり、その具
体例としては、例えば、トリス［２−（β−チオプロピ
オニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２
−チオグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、ト
リス［２−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチ
ル］イソシアヌレート、トリス［（２−チオグリコニル
オキシエトキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス
［３−（β−チオプロピオニルオキシ）プロピル］イソ
シアヌレート、トリス（３−チオグリコニルオキシプロ
ピル）イソシアヌレート等が挙げられる。

【００２５】

【化５】

【００２６】一般式（V）中、Ｒ⁶及びＲ⁷はそれぞれ独
立してアルキレン基を示し、ｅ及びｆはそれぞれ独立し
て０又は１の整数を示し、ｇは１又は２の整数を示す。

【００２７】一般式（Ｖ）で表される化合物はチオール
基含有炭化水素であり、その具体例としては、例えば、
ベンゼンメルカプタン、キシリレンメルカプタン、４，
４’−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられ
る。

【００２８】本発明において、上記の各成分は、通常、
次の様な割合で使用される。すなわち、一般式（Ｉ）で
表される含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートは７０〜
９９重量部、一般式（II）で表される含脂環骨格モノ
（メタ）アクリレートは１〜３０重量部、これらの合計
量１００重量部に対し、上記の一般式（III）〜（Ｖ）
で表されるメルカプト化合物は１〜１０重量部である。

【００２９】上記の光重合開始剤としては、活性線の照
射によってラジカルを発生し得る限り、特に制限され
ず、各種の光重合開始剤を使用することが出来る。代表
的には各種のアセトフェノン系またはベンゾフェノン系
の光重合開始剤が挙げられる。

【００３０】上記のアセトフェノン系光重合開始剤の具
体例としては、例えば、１−フェニル−２−ヒドロキシ
−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、４−ジフェノキシジクロロ
アセトフェノン等が挙げられ、上記のベンゾフェノン系
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロハ
シベンゾフェノン等が挙げられる。

【００３１】また、本発明においては、次の一般式（X
I）で表される化合物も光重合開始剤として好適に使用
することが出来る。

【００３２】

【化６】

【００３３】一般式（VI）中、Ｒ⁸は、メチル基、メト
キシ基または塩素原子を示し、ｎは２又は３の整数示
す。

【００３４】上記の一般式（ＶI）で表される化合物の
具体例としては、例えば、２，６−ジメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，
６−トリメチルベンゾイルフェニルホスイフィン酸メチ
ルエステル、２，６−ジクロロベンゾイルフェニルホス
フィンオキシド等が挙げられる。

【００３５】上記の光重合開始剤は、モノマー１００重
量部に対し、通常０．０１〜１重量部、好ましくは０．
０２〜０．３重量部の割合で使用される。

【００３６】本発明においては、任意の他の成分とし
て、ラジカル重合可能な他の重合性モノマー、増粘剤、
熱重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料など
を使用することが出来る。

【００３７】ラジカル重合可能な他の重合性モノマーと
しては、例えば、メタクリロイルオキシメチルシクロデ
カン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキメチ
ル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらの重合性モ
ノマーは、前述の重合性モノマー１００重量部に対し、
通常３０重量部以下の割合で使用される。

【００３８】増粘剤としては、使用する重合性モノマー
の種類より適宜選択されるが、通常、非晶質熱可塑性ポ
リマーが使用される。特に次の一般式（VII）又は（VII
I）で表される非晶質ポリオレフンが好適である。

【００３９】

【化７】

【００４０】一般式（VII）中、Ｘは、シクロペンタジ
エン及びその誘導体、ノルボルナジエン及びその誘導
体、ジシキロペンタジエン及びその誘導体、または、こ
れらの水素添加物を示し、Ｒ⁹は、水素原子、炭化水素
基またはＣ₆Ｈ₄Ｒ¹⁰基を示し、Ｒ¹⁰は、水素原子、炭化
水素基、アルコキシ基、ハロゲン化炭化水素基またはハ
ロゲン原子を示し、ｄ及びｅは、それぞれ独立して１以
上の整数を示す。

【００４１】

【化８】

【００４２】一般式（VIII）中、ｊ及びｋは、それぞれ
独立して０又は１以上の整数を示す。また、環状５員環
単位はハロゲン原子または炭化水素基などの置換基を有
していてもよい。

【００４３】上記の様な非晶質ポリオレフンの具体例
は、特開平１０−７７３２１号公報に記載されているの
でそれを参照することが出来る。また、本発明において
は、他の非晶質ポリオレフンとして、上記の公開公報に
記載の、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン若し
くはその誘導体と、シクロペンテン、シクロオクテン、
１，５−シクロオクテンタジエン等の他の環状オレフィ
ンとの開環重合体またはその水素添加物も使用すること
が出来る。

【００４４】更に、本発明においては、次の一般式（I
X）で表される化合物も増粘剤として好適に使用するこ
とが出来る。

【００４５】

【化９】

【００４６】一般式（IX）中、Ｙは、例えば、メトキ
シ、エトキシ、イソプロポキシ等のアルコキシ基を示
し、ｈは１以上の整数を表す。

【００４７】上記の増粘剤は、モノマー１００重量部に
対し、通常２〜１０重量部、好ましくは４〜８重量部の
割合で使用される。

【００４８】本発明で使用する光重合性モノマー組成物
は、上記の各成分の配合によって調製され、非溶媒系で
あり、その粘度は、２０℃において、剪断速度１０ｓｅ
ｃ^-1の条件下に測定した値として、通常５００〜１００
０００ｍＰａ・ｓｅｃ、好ましくは１０００〜１０００
０ｍＰａ・ｓｅｃの範囲とされる。

【００４９】上記の熱重合開始剤としては、ベンゾイル
パーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネー
ト、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエー
ト）等が挙げられ、その使用量は、モノマー１００重量
部に対し、通常１重量部以下である。また、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、染顔料としては、公知のものを適宜
選択して使用することが出来る。

【００５０】本発明の製造方法は、基本的には、移送さ
れる下部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給
し、その上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送
される上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー
組成物に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連
続的製造方法である。斯かる方法は、図１に示す様な製
造設備で行なうことが出来る。

【００５１】図１において、下部支持シート（２０）
は、下部支持シート送給装置（２１）から送り出され、
駆動ローラ（２２）、案内ローラ（２３）及び（２４）
を経由し、下部支持シート巻取装置（２５）に巻き取ら
れる。一方、上部支持シート（３０）は、上部支持シー
ト送給装置（３１）から送り出され、案内ローラ（３
２）、（３３）及び（３４）を経由し、上部支持シート
巻取装置（３５）に巻き取られる。下部支持シート側に
配置される案内ローラ（２３）及び（２４）と上部支持
シート側に配置される案内ローラ（３３）及び（３４）
は、それぞれ、対向して配置されている。

【００５２】下部支持シート（２０）及び上部支持シー
ト（３０）は、共に可撓性シートで構成され、また、後
述する活性線の照射側のシートは透明シートで構成され
る。また、重合時の熱によって軟化しない様に通常１０
０℃以上の軟化点を有するシートで構成される。斯かる
特性のシートとしては、厚さ５０〜３００μｍの合成樹
脂シート、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリカーボネート等の合成樹脂
シートが挙げられる。また、支持シートの光重合性モノ
マー組成物と接する側の表面粗さ（Ｒａ）は、通常１０
０ｎm以下、好ましくは２０ｎｍ以下とされる。斯かる
支持シートとの使用により、その表面がより一層平滑な
透明樹脂基板が得られる。

【００５３】下部支持シート（２０）と上部支持シート
（３０）は、同速度で同一方向に移送され、駆動ローラ
（２２）から案内ローラ（２３）及び（２４）の間には
水平なパスライが形成されている。シートの移送速度
は、通常０．５〜２０ｍ／ｍｉｎ、好ましくは１〜１０
ｍ／ｍｉｎとされる。

【００５４】そして、駆動ローラ（２２）の近傍に配置
されたダイコーター（１）から、下部支持シート（２
０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、その
上に上部支持シート（３０）を積層した後、光重合性モ
ノマー組成物に活性線を照射して硬化させる。

【００５５】ダイコーター（１）から下部支持シート
（２０）上に供給される光重合性モノマー組成物（Ａ）
の厚さは、その供給速度とシートの移送速度とにより適
宜調節されるが、通常０．１〜５ｍｍとされる。上部支
持シート（３０）は、特に加圧される必要はなく、下部
支持シート（２０）上に供給され且つシート状に成形さ
れた光重合性モノマー組成物（Ａ）に均一に積層される
程度に押圧されればよい。活性線の光源としては、ケミ
カルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。

【００５６】本発明の製造方法の最大の特徴は、下部支
持シート（２０）及び／又は上部支持シート（３０）を
透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程、およ
び、両支持シート（２０）及び（３０）を剥離した後に
活性線の照射を行なう後段硬化工程より成る点にある。

【００５７】すなわち、図１に示す様に、先ず、前段硬
化工程用活性線照射設備（４）で活性線の照射を行な
い、次いで、両支持シート（２０）及び（３０）を夫々
の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離した後、後段硬
化工程用活性線照射設備（６）で活性線の照射を行な
う。図１に示す製造設備の場合、活性線の照射は、両工
程共に両シート面から行なっているが、一方のシート面
から行なってもよい。

【００５８】本発明の好ましい態様においては、前段硬
化工程では、通常５〜８５重量％、好ましくは２０〜６
０重量％の光重合性モノマーの重合を行い、後段硬化工
程においては、残余の光重合性モノマーの重合を行な
う。硬化条件としては次の様な条件が推奨される。

【００５９】すなわち、活性線の照射強度は、両工程共
に約６０〜２００ｗ／ｃｍ、照射時間は、前段硬化工程
の場合０．５〜３分、後段硬化工程の場合２〜５分とさ
れる。そして、照射量は照射強度と照射時間の関係で決
定されるが、後段硬化工程における照射量を大きくする
のが好ましい。後段硬化工程の照射量は、前段硬化工程
に対し、通常１．５〜２０倍、好ましくは５〜１０倍で
ある。また、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、
重合熱によって昇温する。本発明の場合、適宜の冷却手
段により、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、前
段硬化工程で約１００〜１５０℃、後段硬化工程で約１
４０〜１８０℃の範囲に制御するのが好ましい。斯かる
温度制御により、製品物性（透明性、強度、均質性な
ど）の低下が抑制される。また、活性線照射設備として
は市販の設備を利用することが出来るが、後段硬化工程
の雰囲気は窒素などの不活性雰囲気とするのが好まし
い。なお、前段硬化工程の雰囲気は大気雰囲気であって
もよい。

【００６０】また、後段硬化工程においては、前段硬化
工程で得られた重合シート（完全硬化前の透明樹脂基
板）に対して、長さ方向に０．２〜１N／ｃm²の張力を
掛け、且つ、幅方向に長手方向の１／５〜３／４の張力
を掛けるのが好ましい。斯かる態様の後段硬化工程によ
れば、重合シートの歪み（うねり）が防止され、より一
層平坦な透明樹脂基板が得られる。重合シートの長さ方
向および幅方向に張力を掛ける方法としては、例えば、
連続する多数のクリップが耳部を挟んで引張って走行す
るテンタークリップ方式を採用することが出来る。

【００６１】図１に示す製造設備の場合は、前段硬化工
程用活性線照射設備（４）と後段硬化工程用活性線照射
設備（６）との間に耳部切断用カッター（５）が配置さ
れている。これにより、硬化したシート状光重合性モノ
マー組成物の長手方向両端部の耳部（盛り上がり部）が
除去される。通常、耳部は、支持シートの剥離後、所定
サイズに切断する製品化工程で一緒に切断して除去され
る。斯かる方法による場合は、耳部の切断の際に製品が
破損して製品歩留まりが低下するという問題がある。と
ころが、上記の様に、両支持シート（２０）及び（３
０）を夫々の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離する
前に耳部を切断する、すなわち、支持シートと共に耳部
を切断するならば、製品の破損が防止される利点があ
る。耳部切断用カッター（５）としてはレーザーカッタ
ーが好適に使用される。支持シートと共に切断して除去
された耳部は、耳部巻取ローラ（図示せず）に巻き取ら
れる。

【００６２】上記の後段硬化工程終了後、得られた透明
樹脂基板は、適宜の手段で切断され、透明樹脂基板製品
（Ｂ）とされる。本発明においては、後段硬化工程終了
後であって上記の切断処理前において、必要に応じて熱
処理することが出来る。斯かる熱処理は、重合処理の仕
上げてとしての意味を有する。熱処理温度は、通常、１
５０〜２００℃、好ましくは１５０〜１７０℃とされ、
熱処理時間は、通常０．５時間以上、好ましくは０．５
〜２時間とされる。雰囲気は、不活性雰囲気または大気
雰囲気の何れであってもよい。

【００６３】なお、図示を省略したが、後段硬化工程に
ベルトコンベアを配置することが出来る。この場合は、
通常、当該ベルトコンベアの上側に配置される活性線照
射設備のみで後段硬化が行なわれる。また、図１に示す
製造設備の場合、下部支持シート（２０）がベルトコン
ベアを兼ねているが、下部支持シート（２０）の下部に
ベルトコンベアを配置し、当該ベルトコンベアの上に下
部支持シート（２０）を載せて移送してもよい。更に、
一方の支持シート（好ましくは下部支持シート）はシー
ムレスのエンドレススチールシートで構成し、支持シー
トとして使用後に廃棄される合成樹脂シートの量を削減
してコストダウンを図ることも出来る。

【００６４】本発明に係る方法で得られる透明樹脂基板
は優れた光線透過率を有し、その透過率は、通常７５％
以上、好ましくは８０％以上である。また、透明樹脂基
板の厚さは、その用途によって異なるが、通常０．１〜
５ｍｍ、好ましくは０．２〜１ｍｍである。

【００６５】上記の様にして得られた透明樹脂基板は、
液晶、有機ＥＬなどのディスプレー基板、光学フィルタ
ー、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に好適に
利用される。

【００６６】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。

【００６７】実施例１＜光重合性モノマー組成物の調製＞ビス（オキシメチ
ル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジアク
リレート９４重量％とペンタエリスリトールテトラキス
（β−チオプロピオネート）６重量％との混合物１００
重量部に対し、光重合開始剤として、ベンゾフェノン
０．０５重量部と２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルフォスフィンオキサイド０．０５重量部、増粘
剤として日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＥＸ４５０」（ノボ
ルネン系開環重合体の水素添加物）３重量部を添加し、
粘度３０００ｍＰａ・ｓｅｃの光重合性モノマー組成物
を調製した。

【００６８】＜透明樹脂基板の製造設備＞図１に示すの
と同様の製造設備を使用した。下部支持シート（２０）
及び上部支持シート（３０）には幅３３０ｍｍで厚さ１
００μｍのポリエステルシート（三菱化学ポリエステル
社製「Ｏ３００」）、活性線照射設備（４）及び（６）
にはメタルハライドランプ（日本電池社製）、耳部切断
用カッター（５）には水冷式２５Ｗ炭酸ガスレーザー
（カンタムエレクトロニクス社製）をそれぞれ使用し
た。

【００６９】＜透明樹脂基板の製造＞先ず、下部支持シ
ート（２０）及び上部支持シート（３０）の移送速度を
１ｍ／ｍｉｎｓとし、ダイコーター（１）から下部支持
シート（２０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供
給し、幅３１０ｍｍで厚さ４００μｍのシート状に成形
した。

【００７０】次いで、前段硬化工程用活性線照射設備
（４）により０．５分間で２Ｊ／ｃｍ ²の照射を行なっ
た。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、
空冷により１３０℃に保持した。因みに、前段硬化にお
いては、光重合性モノマーの約６０重量％の重合が行わ
れた。

【００７１】次いで、耳部切断用カッター（５）により
両端から２０ｍｍの位置で耳部を切断して除去した後、
巻取装置（２５）及び（３５）で両支持シート（２０）
及び（３０）をそれぞれ剥離した。

【００７２】次いで、後段硬化工程用活性線照射設備
（６）により５分間で２５Ｊ／ｃｍ²の照射を行なっ
た。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、
空冷により１６０℃に保持した。その後、所定の長さに
切断して透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。

【００７３】得られた透明樹脂基板製品（Ｂ）につい
て、１０ｃｍ角に切り出して高さの変動（うねり）を測
定した結果１ｍｍであった。

【００７４】比較例１実施例１において、２段硬化を行なわず、前段硬化工程
用活性線照射設備（４）により５分間で２５Ｊ／ｃｍ²
の照射のみを行なって硬化を終了した以外は、実施例１
と同様にして透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。得られた
透明樹脂基板製品（Ｂ）のうねりは８ｍｍであった。

【００７５】

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、均一且つ
平坦な表面を有する透明樹脂基板の連続的製造方法が提
供され、本発明の工業的価値は顕著である。

【図面の簡単な説明】

【図１】発明を実施するための製造設備の好ましい一例
の説明図

【符号の説明】

１：ダイコーター４：前段硬化工程用活性線照射設備５：耳部切断用カッター６：後段硬化工程用活性線照射設備２０：下部支持シート２１：下部支持シート送給装置２２：駆動ローラ２３：案内ローラ２４：案内ローラ２５：下部支持シート巻取装置３０：上部支持シート３１：上部支持シート送給装置３２：案内ローラ３３：案内ローラ３４：案内ローラ３５：上部支持シート巻取装置Ａ：光重合性モノマー組成物Ｂ：透明樹脂基板製品

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 101:06 Ｃ０８Ｌ 101:06 (72)発明者石原充三重県四日市市東邦町１番地三菱化学株式会社四日市事業所内Ｆターム(参考） 4F071 AA33 AA42 AA49 AA51 AA53 AF30 AF45 AG15 AH12 AH19 BA02 BB02 BB12 BC01 BC03 4F204 AA43 AA44 AC05 AD32 AE10 AG01 AJ03 AR04 EA03 EB02 EF01 EK04 EK18 EW34 4J027 AB01 AC01 AE01 AG01 BA01 BA08 BA19 CA26 CB10 CC05 CD01 4J100 AL08Q AL66P BA03Q BC08P BC08Q BC12P BC12Q CA04 DA62 JA32 JA43

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】移送される下部支持シート上に光重合性
モノマー組成物を供給し、その上に下部支持シートと同
速度で同一方向に移送される上部支持シートを積層した
後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化さ
せる透明樹脂基板の連続的製造方法であって、下部支持
シート及び／又は上部支持シートを透過させて活性線の
照射を行なう前段硬化工程、および、両支持シートを剥
離した後に活性線の照射を行なう後段硬化工程より成る
ことを特徴とする透明樹脂基板の連続的製造方法。
【請求項２】前段硬化工程において光重合性モノマー
の５〜８５重量％を重合させ、後段硬化工程で残余の光
重合性モノマーの重合を行なう請求項１に記載の製造方
法。
【請求項３】支持シートの光重合性モノマー組成物と
接する側の表面粗さ（Ｒａ）が１００ｎm以下である請
求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】後段硬化工程において、前段硬化工程で
得られた重合シートに対して、長さ方向に０．２〜１N
／ｃm²の張力を掛け、且つ、幅方向に長手方向の１／５
〜３／４の張力を掛ける請求項１〜３の何れかに記載の
製造方法。