JP2001525919A - 可変スポットサイズ走査装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.周期的または準ランダムな特徴をもつパターン化されたウェーハを走査 するための装置であって: ウェーハの表面を走査するビームをスポットで提供するための手段と;および 周期的な特徴をもつものに対しては第1の大きさを持つスポットの大きさ、そ して準ランダムな特徴に対しては第2の大きさを持つスポットの大きさに変更す る手段とを含む走査装置。 2.請求項1記載の装置において、前記変更手段は、直線FM信号を発生す る直線FM信号発生器と、 入射開口と前記入射開口の反対側の出射開口でその間にビームを通過させる音 響光学偏向器であって、前記偏向器は前記直線FM信号を受信するために前記発 生器に電子的に接続されている音響光学偏向器と、および、 チャープ発散選択器であって、発生器に電子的に接続されており、周期的また は非周期的な特徴の存在に応じて、前記直線FM信号の発生率を変更するための チャープ発散選択器とを含む走査装置。 3.請求項2記載の装置において、前記音響光学 偏向器は1軸の音響光学偏向器である走査装置。 4.請求項2記載の装置において、前記音響光学偏向器は2軸の音響光学偏 向器である走査装置。 5.請求項2記載の装置において、前記装置は出射開口に近接して設けられ たチャープ修正レンズをもち、ここにおいて、前記音響光学偏向器中から出るビ ームは位相の曲率を決定するための二乗の位相要素により特徴づけられ、チャー プ修正レンズは、公称発散率によって駆動される前記音響光学偏向器から出るビ ームの位相曲率を除去するために非球面を含む走査装置。 6.請求項2記載の装置において、前記直線FM信号はチャープ時間とチャ ープ帯域幅で特徴づけられ、前記チャープ発散選択器は前記表面上の周期的な特 徴を照明するスポットに応じてチャープ時間を変更するものである走査装置。 7.請求項2記載の装置において、前記直線FM信号はチャープ時間とチャ ープ帯域幅で特徴づけられ、前記チャープ発散選択器は前記表面上の準ランダム な特徴を照明するスポットに応じてチャープ帯域幅を変 更するものである走査装置。 8.周期的なまたは非周期的な特徴を有する表面でスポットを照明する光ビ ームを偏向させるための装置であって: 入射開口と前記入射開口の反対側に出射開口をもつ音響光学偏向器と; 前記音響光学偏向器に電子的に結合されている直線FM信号発生器と; 前記出射開口に近接して位置させられているチャープ修正レンズと; 前記発生器に電子的に結合され、周期的または非周期的な特徴をもっているか にしたがって、直線FM信号の発散率を変更するための手段であって、前記ビー ムは前記音響光学偏向器を入射開口から出射開口に通過して、発散率にしたがっ て変わるスポットサイズで前記表面のスポットを照明するものである手段とを含 む走査装置。 9.請求項8記載の装置において、前記音響光学偏向器は1軸の音響光学偏 向器である装置。 10.請求項8記載の装置において、前記音響光学偏向器は2軸の音響光学偏 向器である装置。 11.請求項8記載の装置において、前記発散率はチャープ時間とチャープ帯 域幅によって特徴づけられ、そして、前記変更手段は前記表面上の周期的な特徴 を照明するスポットにしたがってチャープ時間を変更するものである走査装置。 12.請求項8記載の装置において、前記発散率はチャープ時間とチャープ帯 域幅とによって特徴づけられ、前記偏向手段は前記表面上の周期的な特徴を照明 するスポットにしたがってチャープ帯域幅を変更するものである走査装置。 13.請求項8記載の装置において、前記音響光学偏向器から出るビームは位 相の曲率を規定するための二乗の位相要素を有することによって特徴づけられ、 そしてチャープ修正レンズは公称発散率をもつ直線FM信号で駆動される音響光 学偏向器から出るビームに位相曲率を除去するために非球面表面を含むものであ る走査装置。 14.請求項8記載の装置において、焦点平面を規定する走査レンズをさらに 含み、前記走査レンズはチャープ修正レンズから出るビームを受けるように設置 され、ここにおいて前記ビームは前記音響光学偏向器 が公称発散率をもつ直線FM信号で駆動されているときに、焦点平面において、 回折限界焦点にもたらされる走査装置。 15.請求項14記載の装置において、前記チャープ修正レンズは、前記出射 開口の近傍に前記走査レンズの焦点距離よりも実質的に短い距離のところに配置 されている走査装置。 16.表面の欠陥または異なる物質を検出する光学走査システムであって: 光ビームを生成する手段と; 周期的または非周期的な特徴をもつサンプルの表面にビームを向けて照明され たスポットを生成する手段と前記スポットを前記サンプルの表面を横切って走査 する手段と; 前記周期的なまたは非周期的な特徴にしたがって、前記スポットサイズを変更 する手段と; 入射した光を示す信号を発生する表面からの散乱された光を検出する手段と; および 前記信号を表示する手段とを含む光学走査システム。 17.請求項16記載の光学走査システムにおいて、前記検出手段は上向きに 散乱された光を受信するよう に前記表面に対して垂直に位置させられている光学走査システム。 18.請求項17記載の光学走査システムにおいて、前記検出手段はプログラ ム可能な空間フィルタを含み、そしてさらに、前記空間フィルタと電気的に通信 状態にあり、周期的な特徴を照明するスポットにしたがって、前記空間フィルタ を駆動するための手段を含む光学走査システム。 19.請求項16記載の光学走査システムにおいて、前記スポットサイズを変 更する手段は、入射および出射開口をもち、直線FM信号発生器とチャープ発散 選択器に電子的に結合されている音響光学偏向器を含み、ここにおいてビームは 前記音響光学偏向器の入射開口から出射開口を通過し、前記音響光学偏向器は前 記発生器により発生する直線FM信号によって駆動され、発散率により特徴づけ られるものであって、前記発散率は公称率からチャープ発散選択器により、周期 的な特徴を照明するスポットにしたがって変更され、スポットサイズを増加させ 、そして前記発散は公称上のスポットサイズを維持するために非周期的な特徴を 照明するスポットにしたがって、公称率に固定される光学走査システム。 20.請求項19記載の光学走査システムにおいて、前記スポットサイズを変 更する手段はさらに前記音響光学偏向器から出るビームを平行光線化するための チャープ修正レンズを含む光学走査システム。 21.請求項20記載の光学走査システムにおいて、前記音響光学偏向器から 出たビームは位相の曲率を規定する二乗の位相要素により特徴づけられ、そして 、前記チャープ修正レンズは、公称発散率をもつ直線FM信号によって駆動され る音響光学偏向器から出るビームの位相の曲率を除去するための非球面表面を含 むことを特徴とする光学走査システム。 22.請求項20記載の光学走査システムにおいて、前記発散率はチャープ時 間とチャープ帯域幅によって特徴づけられ、そして前記発散選択器は前記チャー プ時間を前記表面の周期的な特徴を照明するスポットにしたがって変更するもの である光学走査システム。 23.請求項20記載の光学走査システムにおいて、前記発散率はチャープ時 間とチャープ帯域幅によって特徴づけられ、前記発散選択器はチャープ帯域幅を 前記表面の周期的な特徴を照明するスポットにしたがって変更するものである光 学走査システム。 24.請求項20記載の光学走査システムはさらに表面と同一の焦点面を規定 する走査レンズを含み、その走査レンズは前記表面と同一の焦点面を規定し、前 記走査レンズはチャープ修正レンズから出るビームを受け入れるように設置され 、ここにおいて前記ビームは焦点面の非周期的な特徴を照明するのにしたがって 、焦点面の発散制限焦点にもたらされる光学走査システム。 25.請求項24記載の光学走査システムにおいて、前記チャープ修正レンズ は前記出射開口に近接して設けられており、距離は前記走査レンズの焦点距離よ りも実質的に短いところに配置されている光学走査システム。 26.周期的または準ランダムな特徴をもつタイプのパターン化されたウェー ハを走査するための方法であって: スポットでウェーハの表面を走査するビームを提供し;および 前記スポットの大きさを周期的な特徴に対しては、第1の大きさで、そして準 ランダムな特徴に対しては第2の大きさで変更する走査方法。 27.請求項26記載の方法において、前記スポットの大きさは電子的に変更 されるものである走査方法。 28.周期的または非周期的な特徴をもつ表面を照明する光ビームによって生 成されるスポットのサイズを変更するための方法であって: 音響光学偏向器,前記偏向器から出る光ビームを受け入れる位置に配置されて いるチャープ修正レンズおよびチャープ修正レンズから出る光ビームを受け入れ る位置に設けられている走査レンズを提供するステップと; 前記音響光学偏向器を直線FM信号で駆動するステップと;および 前記直線FM信号の発散率を変更するステップとを含む変更方法。 29.請求項28記載の方法において、前記変更ステップは発散時間の変更を 含む変更方法。 30.請求項28記載の方法において、前記変更ステップは発散帯域幅の変更 を含む変更方法。 31.請求項28記載の方法において、前記音響光学偏向器から出るビームは 二乗の位相要素を含み、さ らに、前記偏向器から出るビームの二乗の要素を除去するステップを含む変更方 法。
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