JP2001522856A - フルベン−金属錯体の製造方法 - Google Patents

フルベン−金属錯体の製造方法

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JP2001522856A JP2000520454A JP2000520454A JP2001522856A JP 2001522856 A JP2001522856 A JP 2001522856A JP 2000520454 A JP2000520454 A JP 2000520454A JP 2000520454 A JP2000520454 A JP 2000520454A JP 2001522856 A JP2001522856 A JP 2001522856A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、フルベン金属錯体を製造する方法、新規な金属錯体、不飽和化合物を重合する、特にオレフィンおよび/またはジエンを重合する該錯体触媒の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、フルベン−金属錯体の製造方法、新規なフルベン−金属錯体、なら
びに不飽和化合物の重合、特にオレフィンおよび/またはジエンの重合および共
重合の触媒としてのそれらの使用に関する。
【0002】 (背景技術) シクロペンタジエニル配位子を有する金属錯体は、フェロセンの発見以来、重
要な研究対象となっている。オレフィンおよびジオレフィンの重合のための、活
性補助触媒との混合物としての、シクロペンタジエニル−金属錯体の使用、特に
メタロセン錯体の使用は、長期にわたって既知である(例えば、EP−A699
51、129368、351392、485821、485823)。メタロセ
ンは、オレフィンの重合において非常に活性な特異的触媒であることが分かって
いる。従って近年、活性、選択性、ミクロ構造の制御、分子量、および分子量分
布の制御を増加させるために、オレフィン化合物の重合のための多くの新規メタ
ロセン触媒およびメタロセン触媒系が開発されている。
【0003】 フルベン配位子を有する金属錯体に関しては、あまり知られていない。
【0004】 J. Am. Chem. Soc.1997, 119, 5132は、特定の(η6−2,3,4,5−テトラメ
チルシクロペンタジエニル−1−メチレン)(η5−ペンタメチルシクロペンタ ジエニル)ジルコニウム化合物と、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボロンま
たはビス(ペンタフルオロフェニル)ボロンとの反応によって形成される、両性
イオンオレフィン重合触媒を開示している。(η6−2,3,4,5−テトラメチル
シクロペンタジエニル−1−メチレン)(η5−ペンタメチルシクロペンタジエ ニル)ジルコニウム化合物の合成は非常にコストが高く、最終合成段階において
熱分解反応によって分解されるペンタメチルシクロペンタジエニル配位子を有す
るメタロセンを初めに製造する必要がある。そのような熱分解反応が、前記文献
に記載されている。
【0005】 Bercawら、JACS(1972),94,1219によれば、フルベン錯体(η6−2,3,4,5−
テトラメチルシクロペンタジエニル−1−メチレン)(η5−ペンタメチルシク ロペンタジエニル)チタニウム−メチルが、ビス(η5−ペンタメチルシクロペ ンタジエニル)チタニウム−ジメチルの熱分解によって形成される。T.J.Marks ら、JACS(1988),110,7701は、ジルコニウムおよびハフニウムのペンタメチルシ クロペンタジエニル錯体の熱分解を記載している。フルベン錯体(η6−2,3, 4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル−1−メチレン)η5−ペンタメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム−フェニルは、ビス(η5−ペンタメチル シクロペンタジエニル)ジルコニウム−ジフェニルの熱分解によって形成される
【0006】 熱処理によるフルベン錯体の製造は、数種類の構造変形に限定される。熱処理
は、必ずしも均質生成物を生じない。
【0007】 G.Wilkinsonらは、J.Chem.Soc.1960,1321-1324において、6,6−ジアルキル フルベンと、クロニウム−ヘキサカルボニルまたはモリブデン−ヘキサカルボニ
ルとの反応を記載している。しかし、フルベン−金属錯体の代わりにシクロペン
タジエニル−金属錯体が得られる。
【0008】 J.Chem.Soc.Dalton Trans.(1985),2037において、M.L.H.Greenらは、ビス(ト
ルエン)チタニウムと6,6−ジフェニルフルベンとの反応による、ビス(η6
6,6−ジフェニルフルベン)チタニウムの合成を記載している。しかし、ビス (トルエン)チタニウムは、複雑でコストを要する金属原子蒸発法によって製造
しなければならない。これのために、金属チタンを蒸発させ、マトリックスにお
いて気体トルエンと縮合させる。ビス(トルエン)チタニウムの歩留りは非常に
低い。従って、ビス(トルエン)チタニウムは限定された程度において利用可能
であるに過ぎない。
【0009】 (発明の開示) 従って、前記の不利益を避けるフルベン−金属錯体の向上した製造方法を見い
出すことが目的であった。
【0010】 驚くべきことに、還元剤の存在下におけるフルベン化合物と好適な遷移金属錯
体との反応によって、フルベン−金属錯体を製造し得ることが見い出された。
【0011】 従って、本発明は、式(Ia):
【化4】 または式(Ib):
【化5】
【0012】 [式中: Mは、IUPACによる元素の周期表のIIIb、IVb、Vb、またはVIb族、あるいはラ ンタニドまたはアクチニドからの金属であり; Aは、1個またはそれ以上の架橋を任意に有するアニオン配位子であり; Xは、水素原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C6〜C10 アルール基、C6〜C10アリールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40 アリールアルキル基、C7〜C40アルキルアリール基、C8〜C40アリールアルケ
ニル基、C1〜C10炭化水素基によって置換されているシリル基、ハロゲン原子 、または式NR7 2で示されるアミドであり; Lは、中性配位子であり;
【0013】 R1、R2、R3、R4、R5、R6は、同じかまたは異なり、水素、ハロゲン、シ
アノ基、C1〜C20アルキル基、C1〜C10フルオロアルキル基、C6〜C10フル オロアリール基、C1〜C10アルコキシ基、C6〜C20アリール基、C6〜C10ア リールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7 〜C40アルキルアリール基、C8〜C40アリールアルケニル基、C2〜C10アルキ
ニル基、C1〜C10炭化水素基によって置換されているシリル基、C1〜C10炭化
水素基によって置換されているスルフィド基、またはC120炭化水素基によっ て任意に置換されているアミノ基であるか、または R1、R2、R3、R4、R5、R6は、それぞれの場合に、それらに結合している
原子と一緒になって、1個またはそれ以上のヘテロ原子(O、N、S)および5
〜10個の炭素原子を有することができる1種またはそれ以上の脂肪族または芳
香族環系を形成し、
【0014】 R7は、水素、C1〜C20アルキル基、C6〜C20アリール基、C7〜C40アリー
ルアルキル基、C7〜C40アルキルアリール基、C1〜C10炭化水素基によって置
換されているシリル基、またはC1〜C20炭化水素基によって任意に置換されて いるアミノ基を表し; mおよびpは、Mの原子価および結合状態の結果としての0、1、2、3、ま
たは4の数を表し; kは、Mの酸化度に依存して、1、2、または3の数を表し、k+m+pの合
計が1〜5であり; nは、0〜10の数である。] で示されるフルベン−金属錯体の製造方法であって、
【0015】 式(IIa)または(IIb): AmsM (IIa) または AmsnM (IIb) [式中: A、X、L、M、m、sおよびnは、前記に定義した通りであり; sは、2、3、4、5、または6であり、s>pである。] で示される遷移金属化合物を、 式(III):
【0016】
【化6】 [式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、前記に定義した通りである。]
で示されるフルベン化合物と、還元剤の存在において反応させる製造方法を提供
する。
【0017】 式(I)のフルベン金属錯体の製造は、下記式によって例示される:
【化7】
【0018】 反応は単一反応段階、即ち、ワンポット反応において行うことができ、個々の
反応成分の添加の順序は決まっていない。反応は分離反応段階においても行うこ
とができる。例えば、式(IIa)または(IIb)の遷移金属化合物を初めに
還元剤と接触させ、分離反応段階において式(III)のフルベン化合物と反応
させることができる。初めに遷移金属化合物(IIa)または(IIb)をフル
ベン化合物(III)に添加し、次に、還元剤を添加するのも好ましい。
【0019】 好適な還元剤の例は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、亜鉛
、アルカリ金属の合金、例えば、ナトリウム−カリウム合金またはナトリウムア
マルガム、アルカリ土類金属の合金、および金属水素化物である。金属水素化物
の例は、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化マグネシウム、水素化アル
ミニウム、水素化リチウムアルミニウムおよびホウ水素化ナトリウムである。還
元剤の具体例は、ナトリウムナフタレニド、カリウムグラファイト、リチウムア
ルキル、マグネシウムブタジエン、マグネシウムアントラセン、トリアルキルア
ルミニウム化合物、およびグリニャール試薬である。好ましい還元剤は、アルカ
リ金属またはアルカリ土類金属、C1〜C6アルキルリチウム、トリ−C1〜C6
ルキルアルミニウム化合物、およびグリニャール試薬である。好ましい還元剤は
、リチウム、マグネシウム、n−ブチルリチウム、およびトリエチルアルミニウ
ム、およびトリイソブチルアルミニウムである。前記還元剤に代わって、電気化
学還元を行うこともできる。
【0020】 式(I)のフルベン−金属錯体の製造方法は、好適な反応媒体中で、−100
〜+250℃、好ましくは−78〜+130℃、特に好ましくは−10から+1
20℃の温度において行われる。
【0021】 可能な好適な反応媒体の例は、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化
水素、エーテルおよび環式エーテルである。これらの例は、非分岐脂肪族炭化水
素、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンおよびオクタン、分岐脂肪
族炭化水素、例えば、イソブタン、イソペンタンおよびイソヘキサン、環式脂肪
族炭化水素、例えば、シクロヘキサンおよびメチルシクロヘキサン、芳香族炭化
水素、例えば、ベンゼン、トルエンおよびキシレン、ならびにエーテル、例えば
、ジアルキルエーテル、ジメトキシエタンおよびテトラヒドロフランである。種
々の溶媒の混合物も適している。
【0022】 式(I)のフルベン−金属錯体は、空気および水を排除して、不活性ガス条件
において(不活性ガス法)、製造され取り扱われる。不活性ガスの例は、窒素ま
たはアルゴンである。例えば、有機金属物質に関して一般的なSchlenk法が、不 活性ガス法として好適である。
【0023】 式(I)のフルベン−金属錯体を、単離するか、または次の反応に直接に使用
することができる。単離が必要な場合に、形成される副生成物を、従来の精製法
、例えば、濾過によって、除去することができる。あるいは、溶媒を使用して、
目的とする生成物を抽出することもできる。必要であれば、精製操作、例えば、
再結晶を行うことができる。
【0024】 (IIa)または(IIb)の可能な遷移金属錯体は、特に、式中、 Mが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタルお
よびクロムから成る群から選択され;
【0025】 Aが、 式N238 3[R8は、水素、あるいはC1〜C10アルキル基またはC6〜 C10アリール基を表す。]のピラゾレート、 式R7B(N238 33のピラゾリルボレート、 式OR7のアルコレートまたはフェノレート、 式OSiR7 3のシロキサン、 式SR7のチオレート、 式(R7CO)2CR7のアセチルアセトネート、 式(R7N=CR72のジイミン、 式R7C(NR7 22のアミジネート、
【0026】 式C8q7 8-q[qは、0、1、2、3、4、5、6、または7である。
]のシクロオクタテトラエニル、 式C5q7 5-q[qは、0、1、2、3、4、または5である。]のシク
ロペンタジエニル、 式C97-r7 r[rは、0、1、2、3、4、5、6、または7である。
]のインデニル、 式C139-s7 s[sは、0、1、2、3、4、5、6、7、8、または 9である。]のフルオレニル、 C1〜C30アルキル基、C6〜C10アリール基、またはC7〜C40アルキル アリール基;であり、および L、X、R7、m、sおよびnが、前記に定義した通りである; 遷移金属錯体である。
【0027】 式(IIa)または(IIb)で示される特に好ましい遷移金属錯体は、 Mが、チタン、ジルコニウム、またはハフニウムを表し; Aが、ビス(トリメチルシリル)アミド、ジメチルアミド、ジエチルアミド、
ジイソプロピルアミド、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノレート、シ クロオクタテトラエニル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル
、ベンジルシクロペンタジエニル、n−プロピルシクロペンタジエニル、n−ブ
チルシクロペンタジエニル、イソ−ブチルシクロペンタジエニル、t−ブチルシ
クロペンタジエニル、シクロペンチルシクロペンタジエニル、オクタデシルシク
ロペンタジエニル、1,2−ジメチルシクロペンタジエニル、1,3−ジメチルシ
クロペンタジエニル、1,3−ジイソプロピルシクロペンタジエニル、1,3−ジ
−t−ブチルシクロペンタジエニル、1−エチル−2−メチルシクロペンタジエ
ニル、1−イソプロピル−3−メチルシクロペンタジエニル、1−(n−ブチル
)−3−メチルシクロペンタジエニル、1−(t−ブチル)−3−メチルシクロ
ペンタジエニル、ペンタ−メチルシクロペンタジエニル、1,2,3,4−テトラ メチルシクロペンタジエニル、1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル、1
,2,4−トリイソプロピルシクロペンタジエニル、1,2,4−トリ−(t−ブチ
ル)−シクロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロインデニル、2−メチ
ルインデニル、4,7−ジメチルインデニル、2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル、2−メチル−4−フェニルインデニル、フルオレニル、または9−メチル
フルオレニルを表し; Xが、弗素または塩素を表し、および L、m、sおよびnが、前記に定義した通りである; 遷移金属錯体である。
【0028】 可能なフルベン化合物は、特に、式中R1〜R6が、C1〜C30アルキル基、C6 〜C10アリール基、またはC7〜C40アルキルアリール基、特に、水素、メチル 、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、t−ブチル、フェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、
シクロヘキシル、またはベンジルを表す、式(III)のフルベン化合物である
【0029】 式(III)の好ましい化合物は、式(IV):
【化8】 で示されるフルベン化合物、または式 (V):
【化9】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、前記に定義した通りである。] で示されるフルベン化合物である。
【0030】 式(III)の特に好ましい化合物は、6−シクロヘキシルフルベン、6−イ
ソプロピルフルベン、6−t−ブチルフルベン、6−フェニルフルベン、6−(
ジメチルアミノ)フルベン、6,6−ビス(ジメチルアミノ)フルベン、6,6−
ジメチルフルベン、6,6−ビス(トリフルオロメチル)フルベン、6,6−ジフ
ェニルフルベン、6,6−ビス(ペンタフルオロフェニル)フルベン、6,6−ペ
ンタメチレンフルベン、6,6−テトラメチレンフルベン、6,6−トリメチレン
フルベン、2−(2,4−シクロペンタジエン−1−イリデン)−1,3−ジチオ
ラン、5−ベンジリデン−1,2,3−トリフェニル−1,3−シクロペンタジエ ン、1,2,3,4−テトラメチルフルベン、1,2,3,4−テトラフェニルフルベ
ン、2,3−ジメチルフルベン、2,3−ジイソプロピルフルベン、2,3−ジフ ェニルフルベン、1,4−ジメチル−2,3−ジフェニルフルベンおよび1,4− ジエチル−2,3−ジフェニルフルベンである。
【0031】 式(III)、(IV)および(V)のフルベン化合物の合成は、例えば、J.
Org.Chem.,Vol.49,No.11(1984),1849に記載されている方法によって行うことが できる。
【0032】 フルベン−金属錯体に関して示されている式(I)は、結合状態の形式的例示
であると理解すべきである。金属錯体における結合状態は、特に、金属原子、酸
化度、およびフルベン配位子の置換基に依存する。
【0033】 図1は、化合物(6−t−ブチルフルベニル)ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムクロリドを例として使用して、X線構造分析によって得られる
、本発明によって製造し得るフルベン−金属錯体の構造を示す。
【0034】 本発明の方法は、例えば熱分解によって形成することができない式(I)の新
規フルベン−金属錯体の入手を可能にする。
【0035】 従って、本発明は、式(I)において、 Mが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
およびクロムから成る群から選択される金属であり; kが1であり、および A、X、m、p、R1、R2、R3、R4、R5およびR6が、前記に定義した通り
である; フルベン−金属錯体も提供し、 但し、R1およびR2が水素を表し、同時にR3、R4、R5およびR6がメチル基を
表し、同時にAがペンタメチルシクロペンタジエニル基または式C29ll11
カルボランジイル基を表す、式(I)の化合物は除外する。
【0036】 本発明は、 a) Mが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タン
タルおよびクロムから成る群から選択される金属であり; kが1であり;および A、X、m、p、R1、R2、R3、R4、R5およびR6が、前記に定義し
た通りである; 本発明の方法によって製造される式(I)のフルベン−金属錯体、および b) 金属錯体a)を活性化するのに好適な補助触媒; を含んで成り、成分a)/成分b)のモル比が1:0.1〜1:10,000、好
ましくは1:1〜1:1,000である触媒系も提供する。
【0037】 可能な補助触媒は、ポリマーまたはオリゴマーアルミノキサン、ルイス酸およ
びアルミネートおよびボレートのようなメタロセン触媒の分野において既知の補
助触媒である。これに関して、Macromol.Symp.第97巻、1995年7月、p.1
-246(アルモキサンに関する)およびEP277003、EP277004、お
よびOrganometallics 1997,16,842-857(ボレートに関する)、およびEP57 3403(アルミネートに関する)が特に参照される。
【0038】 特に好適な補助触媒は、トリイソブチルアルミニウムによって変性されている
メチルアルミノキサン、メチルアルモキサンおよびジイソブチルアルモキサン、
トリアルキルアルミニウム化合物、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリイソオクチルアルミニウム
、さらに、ジアルキルアルミニウム化合物、例えば、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、弗化ジイソブチルアルミニウム、および塩化ジエチルアルミニウム、置
換トリアリールアルミニウム化合物、例えば、トリス(ペンタフルオロフェニル
)アルミニウム、およびアニオンとしてテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
アルミネートを有するイオン化合物、例えば、トリフェニルメチルテトラキス(
ペンタフルオロフェニル)アルミネートおよびN,N−ジメチルアニリニウムテ トラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネート、置換トリアリールボロン化
合物、例えば、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボロン、およびアニオンとし
てテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを有する化合物、例えば、ト
リフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートおよびN,N −ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである
。種々の補助触媒の混合物も、式(I)のフルベン−金属錯体の活性化に適して
いる。
【0039】 本発明は、不飽和化合物、特にオレフィンおよびジエンの重合のための新規触
媒系の使用も開示する。該不飽和化合物のホモ重合および共重合の両方が、重合
として理解されるものとする。重合において特に使用される化合物は、C2〜C1 0 アルケン、例えば、エチレン、プロピレン、ブタ−1−エン、ペンタ−1−エ ン、ヘキサ−1−エン、オクタ−1−エンおよびイソブチレン、ならびにアリー
ルアルケン、例えばスチレンである。使用されるジエンは特に、共役ジエン、例
えば、1,3−ブタジエン、イソプレンおよび1,3−ペンタジエン、ならびに非
共役ジエン、例えば、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘプタジエン、5,7−ジ メチル−1,6−オクタジエン、4−ビニル−1−シクロヘキサン、5−エチリ デン−2−ノルボルネン、5−ビニル−2−ノルボルネンおよびジシクロペンタ
ジエンである。
【0040】 本発明の触媒は、エチレンと、1種またはそれ以上の前記α−オレフィンおよ
び前記ジエンとのコポリマーに基づくゴムの製造に好適である。本発明の触媒系
は、シクロオレフィン、例えば、ノルボルネン、シクロペンテン、シクロヘキセ
ンおよびシクロオクテンの重合、ならびにシクロオレフィンおよびエチレンまた
はα−オレフィンの共重合にも好適である。
【0041】 重合は、液相において、不活性溶媒の存在または不存在において、あるいは気
相において、行うことができる。好適な溶媒は、芳香族炭化水素、例えば、ベン
ゼンおよび/またはトルエン、あるいは脂肪族炭化水素、例えば、プロパン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン、またはシクロヘキサン、あるいは種
々の炭化水素の混合物である。
【0042】 担体に適用された本発明の触媒系を使用することができる。好適な担体物質の
例は、無機または有機ポリマー担体、例えば、シリカゲル、ゼオライト、カーボ
ンブラック、活性炭、酸化アルミニウム、ポリスチレンおよびポリプロピレンで
ある。
【0043】 本発明の触媒系は、従来法によって担体に適用することができる。触媒系を支
持する方法は、例えば、米国特許第4808561号、第4912075号、第
5008228号および第4914253号に開示されている。
【0044】 重合は一般に、1バール〜1,000バール、好ましくは1バール〜100バ ールの圧力、および−100℃〜+250℃、好ましくは0℃〜+150℃の温
度において行われる。
【0045】 下記実施例によって、本発明を詳細に説明する。
【0046】 一般情報:有機金属化合物は、アルゴン保護下に、空気および水分を排除して
製造され、取り扱われた(Schlenk法)。必要とされる全ての溶媒を、好適な乾 燥剤上で数時間にわたって沸騰させ、次にアルゴン下に蒸留することによって、
使用前に無水にした。化合物を、1H−NMR、13C−NMRおよび質量分光分 析によって特性決定した。 略語: Cp: シクロペンタジエニル Cp*: ペンタメチルシクロペンタジエニル HV: 高真空 RT: 室温 THF: テトラヒドロフラン MS: 質量スペクトル EA: 元素分析 Tg: ガラス転移温度(DSC測定) de: ジアステレオマー過剰
【0047】 式(I)の化合物の合成 実施例1 マグネシウムの存在下における、6,6−ジメチルフルベンとCp*TiCl3 との反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C54)C(CH32TiCl]。
【0048】 Cp*TiCl3(0.610g、2.11ミリモル)および1.05当量のマグ ネシウム(0.054g、2.21ミリモル)を初めに、25mLのTHFに導入
した。1.05当量の6,6−ジメチルフルベン(0.227g、2.14ミリモル
)を、室温においてこの混合物に滴下した。次に、その混合物をRTにおいて一
晩攪拌し、それによって、全てのMgを使い尽くした。溶媒をHVにおいて除去
し、緑色残渣をヘキサンに採取した。固形物を濾過によって除去し、溶液を半分
の量に濃縮し、緑色光沢小板(platelets)が沈殿した。再結晶のために、その 混合物を−20℃に冷却した。オリーブ緑色結晶を単離し、HVにおいて乾燥し
た。0.429g(59%)の[(C5(CH35)(C54)C(CH32Ti
Cl]を得た。
【0049】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.16(s,3H,C(C 32,1.70(s,15H,C5(C 35),1.75(s,3H,C(C 32),3.43,4.65,6.03,6.70(m,1H,C5 4)ppm
【0050】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=12.82(C535), 22.76,24.50(C(32),108.10((CH32)11
7.23,117.46,120.04,124.09( 44),122.5
5(C535),132.16(ipso− 54)ppm. MS(70eV)m/e/(%):324(40)[M+],288(40)[ M+−HC1],135(5)[Cp*],106(100)[ジメチルフルベン
].
【0051】 実施例2 ブチルリチウムの存在下における、6,6−ジメチルフルベンとCp*TiCl 3 との反応による、フルベン錯体の合成[(Cp*)(C54=C(CH32)T
iCl]。
【0052】 400mg(1.38ミリモル)のCp*TiCl3、154mg(1.45ミリ
モル)の6,6−ジメチルフルベンおよび1.11mL(2.76ミリモル)のn −ブチルリチウムを、−78℃において、Schlenk反応器中の25mLのTHF 中で合わした。その混合物を徐々に0℃に温め、この温度において2時間攪拌し
て、反応を終了させた。次に、溶媒をHVにおいて除去し、緑色残渣をn−ヘキ
サンに採取した。固形物を濾過によって除去し、溶液を半分の量に濃縮し、緑色
結晶が沈殿した。290mg(65%)の[(C5(CH35)(C54)C( CH32TiCl]を得た。
【0053】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.16(s,3H,C(C 32),1.70(s,15H,C5(C 35),1.75(s,3H,C(C 32),3.43/4.65/6.03/6.70(s,1H,C5 4).
【0054】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=12.82(C535), 22.76/24.50(C(32),108.10((CH32)11
7.23/117.46/120.04/124.09( 44),122.5
5(C535),132.16(ipso−).
【0055】 実施例3 マグネシウムの存在下における、6,6−ジメチルフルベンとCp*ZrCl3 との反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C54)C(CH32ZrCl]。
【0056】 Cp*ZrCl3(0.380g、1.14ミリモル)および1.1当量のマグネ シウム(0.031g、1.26ミリモル)を初めに、10mLのTHFに導入し
た。1.1当量の6,6−ジメチルフルベン(0.134g、1.26ミリモル)を
この溶液に滴下した。5分後、反応溶液の濁りが生じた。その混合物を一晩攪拌
し、それによってマグネシウムを充分に溶解させた。それをHVにおいて濃縮乾
固し、残渣を10mLのヘキサンに採取し、形成された沈殿物を濾過によって除
去した。197mg(47%)の[(C5(CH35)(C54)C(CH32 ZrCl]を、紅褐色固形物として濾液から単離した。
【0057】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.77(s,15H,C5(C 35),5.40(dd,1H,3J(H,H)=2.69,3.02Hz, C5 4),5.58(dd,1H,3J(H,H)=2.69,2.68Hz, C5 4),5.85(dd,1H,3J(H,H)=2.68,3.02Hz, C5 4),5.92(dd,1H,3J=2.69,2.68Hz,C5 4)p pm.
【0058】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=10.98(C535), 21.35,21.90(C(32),109.78((CH32)10
7.75,110.68,113.88,118.11( 54),115.6
9(ipso− 54),122.35(C(35)ppm. MS(70eV)m/e(%):366(10)[M+],330(5)[M+
HC1],259(2),135(5)[Cp*],106(100)[ジメチ ルフルベン].
【0059】 実施例4 マグネシウムの存在下における、6,6−ジフェニルフルベンと四塩化チタン との反応による、ビス(η6−6,6−ジフェニルフルベン)チタニウムの合成。
【0060】 610mg(1.83ミリモル)のTiCl4(THF)2、89mg(3.65
ミリモル)のマグネシウムやすり屑(filings)および841mg(3.65ミリ
モル)の6,6−ジフェニルフルベンを、Schlenk反応器中において、反応媒体と
しての30mLのTHF中で合わした。その混合物をマグネシウムやすり屑が充
分に使用されるまで12時間にわたって攪拌して、反応を終了させた。その反応
溶液を濃縮乾固して、緑色固形物を得、n−ヘキサンに採取し濾過することによ
って、形成された塩化マグレシウムから分離した。濾液を段階濃縮し、冷却して
、640mg(70%)のビス(η6−6,6−ジフェニルフルベン)チタニウム
を得た。
【0061】 実施例5 マグネシウムの存在下における、6,6−ジメチルフルベンとCpTiCl3
の反応による、フルベン錯体の合成[(C55)(C54)C(CH32TiC
l]。
【0062】 CpTiCl3(0.410g、1.87ミリモル)および1.05当量のマグネ
シウム(0.048g、1.96ミリモル)を初めに、20mLのTHFに導入し
た。1.03当量の6,6−ジメチルフルベン(0.204g、1.92ミリモル)
をRTにおいてこの黄色溶液に滴下し、マグネシウムが使い尽くされるまで、そ
の混合物を攪拌した。次に、それをHVにおいて濃縮し、得られる緑色固形物を
20mLのヘキサンに採取した。固形物を濾過によって除去した後、濃緑色溶液
をHVにおいて半分の量に濃縮した。−20℃において結晶化して、0.2g( 42%)の[(C55(C54)C(CH32TiCl]を濃緑色固形物として
得た。
【0063】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=0.94,1.64(s,3H ,C(C 32),3.66(m,1H,C5 4),4.76(m,1H,C5 4 ),5.80s,5H,C55),6.23(m,1H,C5 4),6.6 6(m,1H,C5 4)ppm.
【0064】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=10.98(C535), 21.35,21.90(C(32),109.78((CH32),1
07.75,110.68,113.88,118.11( 54),115.
69(ipso− 54),122.35( 535)ppm.
【0065】 実施例6 マグネシウムの存在下における、6,6−ジフェニルフルベンとCp*TiCl 3 との反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C54)C(C652TiCl]。
【0066】 Cp*TiCl3(0.690g、2.38ミリモル)および1.1当量のマグネ シウム(0.064g、2.62ミリモル)を初めに、20mLのTHFに導入し
た。1.1当量の6,6−ジフェニルフルベン(0.604g、2.62ミリモル)
をRTにおいてこの溶液に滴下した。その混合物をRTにおいて一晩攪拌して、
全てのマグネシムを使い尽くした。溶媒をHVにおいて除去し、緑色残渣をヘキ
サンに採取した。沈殿物を濾過によって除去し、溶液を半分の量に濃縮した。そ
の混合物を−20℃に冷却して結晶化し、0.29g(27%)の[(C5(CH 35)(C54)C(C652TiCl]を緑色固形物として得た。
【0067】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.55(s,15H,C5(C 35),4.20,4.55,5.89,6.37(m,1H,C5 4),6
.89−7.41(m,10H,C6 5)ppm.
【0068】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=12.38(C535), 116.29,117.24,118.22,121.82( 44),124
.04(C535),125.61(ipso− 54),126.50 ,126.84,127.26,128.07,128.83,129.81( 65),130.72,(−C( 65)),141.93,144.23( ipso− 65)ppm. MS(70eV)m/e(%):448(5)[M+],413(2)[M+−H
C1],230[6,6−ジフェニルフルベン],135(15)[Cp*], 78(12)[Ph].
【0069】 実施例7 マグネシウムの存在下における、6,6−ジフェニルフルベンとCp*ZrCl 3 との反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C54)C(C652ZrCl]。
【0070】 Cp*ZrCl3(0.310g、0.93ミリモル)および1.05当量のマグ ネシウム(0.024g、0.98ミリモル)を初めに、10mLのTHFに導入
した。1.05当量の6,6−ジフェニルフルベン(0.225g、0.98ミリモ
ル)をこの溶液に滴下した。その混合物を一晩攪拌して、マグネシムを充分に反
応させた。HVにおいて濃縮乾固し、残渣を20mLのトルエンに採取し、不溶
性沈殿物を濾過によって除去した。−20℃においてヘキサンの層で覆った後、
178mg(39%)の[(C5(CH35)(C54)C(C652ZrCl
]を赤色固形物として得た。
【0071】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.63(s,15H,C5(C 35),4.65,5.20,5.22,6.06(m,1H,C5 4),6
.89−7.16(m,8H,C65),7.62−7.49(m,2H,C65)ppm.
【0072】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=11.66(C535), 104.67,111.14,113.62,117.52( 44),120
.82(C535),125.61(ipso− 54),126.50 ,126.84,127.26,128.07,128.83,129.81( 65),130.72,(−(C65),141.93,144.23(i
pso− 65)ppm. MS(70eV)m/e(%):448(5)[M+],413(2)[M+−H
C1],230(100)[6,6−ジフェニルフルベン],135(15)[
Cp*],78(12)[Ph].
【0073】 実施例8 マグネシウムの存在下における、2,3,4,5−テトラメチルフルベンとCp* TiCl3との反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C5(C H34)CH2TiCl]。
【0074】 Cp*TiCl3(0.370g、1.28ミリモル)および1.05当量のマグ ネシウム(0.033g、1.35ミリモル)を初めに、25mLのTHFに導入
した。1.05当量の2,3,4,5−テトラメチルフルベン(0.185g、1.3
5ミリモル)を室温においてこの赤色溶液に滴下した。その混合物をRTにおい
て一晩攪拌して、全てのマグネシムを使い尽くした。溶媒をHVにおいて除去し
、緑色残渣をヘキサンに採取した。固形物を濾過によって除去し、溶液を半分の
量に濃縮した。その混合物を−20℃に冷却して結晶化し、0.23g(52% )の[(C5(CH35)(C5(CH34)CH2TiCl]を緑色固形物とし て得た。
【0075】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.21,1.47,1.70 (s,3H,C5(C 34=CH2),1.79(s,3H,C5(C 35) ,2.07(s,3H,C5(CH34=CH2),1.43(d,1H,2J( H,H)=3.66Hz,C5(CH34=CH),2.54(d,1H,2
(H,H)=3.66Hz,C5(CH34=CH)ppm.
【0076】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=9.82,10.22(C534=CH2),11.13(C5(C 35),11.85,14.00(C 534=CH2,77.65(C5(CH342),120.08( 5 (CH35,120.32,124.43,124.73,128.61,1 35.17 5(CH34=CH2)ppm.
【0077】 実施例9 マグネシウムの存在下における、2,3,4,5−テトラメチルフルベンとCp TiCl3との反応による、フルベン錯体の合成[(C55)C5(CH34)C
2TiCl]。
【0078】 CpTiCl3(0.350g、1.60ミリモル)および1.05当量のマグネ
シウム(0.041g、1.67ミリモル)を初めに、20mLのTHFに導入し
た。1.1当量の2,3,4,5−テトラメチルフルベン(0.260g、1.67ミ
リモル)を室温においてこの溶液に滴下し、マグネシムが使い尽くされるまで、
その混合物を攪拌した。次に、HVにおいて濃縮し、得られる緑色固形物を20
mLのヘキサンに採取した。固形物を濾過によって除去した後、濃緑色溶液をH
Vにおいて半分の量に濃縮した。−20℃において結晶化して、0.3g(67 %)の[(C55)(C5(CH34)CH2TiCl]を濃緑色固形物として得
た。
【0079】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=0.82,1.27,1.74 (s,3H,C5(C 34=CH2),1.99(d,1H,2J(H,H)= 3.7Hz,C5(C 34)=CH),2.05(s,3H,C5(C 34 =CH2),2.56(d,1H,2J(H,H)=3.7Hz,C5(CH34 =CH),5.77(s,5H,C5 3)ppm.
【0080】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=9.47,10.35,12.0
1,12.95(C534=CH2),74.47(C5(C 34=CH2 ),110.80( 53)119.92,124.60,127.82,12
9.43,134.80,( 5(CH34=CH2ppm. MS(70eV)m/e(%):283(10)[M+],247(15)[M+ −HC1],134(50)[2,3,4,5−テトラメチルフルベン],11
9(100)[2,3,4,5−テトラメチルフルベン−CH4],65(30 )[Cp].
【0081】 実施例10 マグネシウムの存在下における、1,2,3,4,6−ペンタメチルフルベンとC
pTiCl3との反応による、フルベン錯体の合成[(C55)(C5(CH34 C(H)(CH3)TiCl]。
【0082】 CpTiCl3(0.450g、2.05ミリモル)および1.05当量のマグネ
シウム(0.054g、2.15ミリモル)を初めに、20mLのTHFに導入し
た。1.03当量の1,2,3,4,6−ペンタメチルフルベン(0.320g、2. 15ミリモル)を室温においてこの溶液に滴下し、マグネシムが使い尽くされる
まで、その混合物を攪拌した。次に、HVにおいて濃縮し、得られる緑色固形物
を20mLのヘキサンに採取した。固形物を濾過によって除去した後、濃緑色溶
液をHVにおいて半分の量に濃縮した。−20℃において結晶化して、0.17 g(28%)の[(C55)(C5(CH34C(H)(CH3)TiCl]を濃
緑色固形物として得た。 de:25%。
【0083】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=0.73,1.12(s,3H ,C5(C 34=C(CH3)(H)),1.64(d,3H,3J(H,H) =7.25Hz,C5(CH34=C(C 3)(H)),1.71(s,3H,
5(C 34=C(CH3)(H)),2.29(q,1H,3J(H,H)= 7.25Hz,C5(CH34=C(CH3)),2.55(s,3H,C5 (C 34=C(CH3)(H)),5.79(s,5H,C5 5)ppm.
【0084】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=10.87,13.35,16.
19,16.97(C534=C(CH3)(H)),37.62(C5( CH34=C(3)(H)),94.39(C5(CH34(CH3)( H)),112.02(C55),121.46,125.56,130.91
,131.46,136.90(C534=C(CH3)(H))ppm.
【0085】 実施例11 マグネシウムの存在下における、6−t−ブチルフルベンとCp*TiCl3
の反応による、フルベン錯体の合成[(C5(CH35)(C54)C(H)( C(CH33)TiCl]。
【0086】 Cp*TiCl3(0.450g、1.55ミリモル)および1.05当量のマグ ネシウム(0.039g、1.63ミリモル)を初めに、15mLのTHFに導入
した。1.05当量のt−ブチルフルベン(0.249g、1.63ミリモル)を RTにおいてこの溶液に滴下した。その混合物をRTにおいて一晩攪拌して、全
てのマグネシムを使い尽くした。溶媒をHVにおいて除去し、緑色残渣をヘキサ
ンに採取した。固形物を濾過によって除去し、溶液を半分の量に濃縮した。その
混合物を−20℃に冷却して結晶化し、0.35g(64%)の[(C5(CH35)(C54)C(H)(C(CH33)TiCl]を緑色結晶として得た。 X線構造分析を行った(図1)。 de:≧98%。
【0087】1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.16(s,9H,C54= C(H)(C(C 33)),1.68(s,1H,C54=C()(C(C H33)),1.70(s,15H,C5(C 35),3.15,4.74, 5.97,6.63(m,1H,C5 4=C(H)(C(CH33))ppm.
【0088】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=11.69(C535), 32.30(C54=C(H)(C(33)),34.28(C54=C(
H)((CH33)),114.31(C54)=(H)(C(CH33
),117.83,118.31,118.77( 54=C(H)(C( 33)),120.46(C535),124.72,128.23( 54=C(H)(C(CH33))ppm. MS(70eV)m/e(%):353(12)[M+],316(5)[M+
HC1],270(18),235(8),135(100)[Cp*],11 9(35),80(85),57(90)[C(CH33].
【0089】 実施例12 マグネシウムの存在下における、6−t−ブチルフルベンとCpTiCl3と の反応による、フルベン錯体の合成[(C55)(C54)C(H)(C(CH 33)TiCl]。
【0090】 CpTiCl3(0.420g、1.91ミリモル)および1.05当量のマグネ
シウム(0.048g、2.01ミリモル)を初めに、10mLのTHFに導入し
た。1.03当量のt−ブチルフルベン(0.295g、1.91ミリモル)をR Tにおいてこの溶液に滴下し、マグネシウムが使い尽くされるまでその混合物を
攪拌した。次に、HVにおいて濃縮し、得られる緑色固形物を20mLのヘキサ
ンに採取した。固形物を濾過によって除去した後、濃緑色溶液をHVにおいて半
分の量に濃縮した。−20℃において結晶化して、0.23g(44%)の[( C55)(C54)C(H)(C(CH33)TiCl]を濃緑色結晶として得
た。
【0091】 de:≧98%。1 H−NMR:(C66,300MHz):δ=1.05(s,9H,C54= C(H)(C(C 35)),2.05(s,1H,C54=C()(C(C
33)),3.28,4.83(m,1H,C5 4=C(H)(C(CH33 )),5.85(s,5H,C5 5),6.17,6.59(m,1H,C5 4 =C(H)(C(CH33))ppm.
【0092】13 C−NMR:(C66,75MHz):δ=32.84(C54=C(H)(
C(33)),35.76(C54=C(H)((CH33))111.
23( 54),111.63(C54(H)(C(CH33)),116
.62,117.41,121.63,127.65,127.50( 54
C(H)(C(CH33))ppm. MS(70eV)m/e(%):282(5)[M+],246(45)[M+
HC1],228(15),135(10)[Cp*],119(35).
【0093】 重合例 実施例13 触媒溶液の製造 実施例3からの8.3mg(22.6μmol)の[(Cp*)(C54=C( CH32)ZrCl]を11.3mLのトルエンに溶解させた。 エチレンの重合
【0094】 100mLのトルエンを初めに250mLのガラス反応器に導入し、トルエン
中のトリイソブチルアルミニウムの0.1モル濃度溶液1mLおよび触媒溶液0.
5mLを添加した。次に、ガス送入管を使用して、1.1バールの圧力において 、エチレンをその溶液に連続的に通した。トルエン中のN,N−ジメチルアニリ ニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートの0.001モル濃度溶 液1mLを添加することによって、重合を開始させた。40℃の温度および1. 1バールのエチレン圧において5分間にわたって重合させた後、10mLのメタ
ノールを添加して反応を停止させ、形成されたポリマーを濾過し、アセトンで洗
浄し、真空乾燥室において乾燥させた。1.61gのポリエチレンを得た。
【0095】 実施例14 エチレンおよびプロピレンの共重合 機械攪拌器、マノメーター、温度ブローブ、温度制御装置、触媒スルース(sl
uice)、およびエチレンおよびピロピレンのためのモノマー計量装置を取り付け
た、1.4Lのスチールオートクレーブに、トルエン500mLおよびトルエン 中の10%MAO溶液5mLを初めに導入し、10分間攪拌した。次に、52g
のプロピレンを計量供給した。サーモスタットによって、内部温度を40℃に調
節した。次に、反応器における内圧が6バールに上昇するまで、エチレンを計量
供給した。実施例5からの5mLの触媒溶液を添加することによって重合を開始
させ、エチレンを連続的に計量供給して40℃における内圧を6バールにおいて
一定にした。1時間の重合時間後、メタノール中の1%HCl溶液を用いて重合
を停止させ、その混合物を10分間攪拌し、次に、ポリマーをメタノール中に沈
殿させた。このようにして得られるポリマーをメタノールで洗浄し、単離し、6
0℃において20時間にわたって真空乾燥して、48gのコポリマーを得た。I
R分光分析によるコポリマーの組成測定は、82.9%エチレンおよび17.1%
プロピレンの組み込みを示した。−24℃のTgを、DSC法によって測定した
【0096】 実施例15 触媒の製造 73.9mg(0.221ミリモル)のTiCl4(THF)2を、3mLのTH
Fに溶解させた。次に、5.4mg(0.22ミリモル)のマグネシウムおよび5
1mg(0.221ミリモル)の6,6−ジフェニルフルベンを添加した。20℃
において20時間の攪拌後、濃緑色溶液を得た。その溶液を濃縮乾固し、形成さ
れる残渣をHVにおいて2時間にわたって乾燥させ、次に、22mLのトルエン
を加え、濃緑色懸濁液を形成した。1mLの触媒懸濁液は、0.01ミリモルの チタンを含有した。
【0097】 エチレンの重合 90mLのトルエンおよび5mLのMAO溶液(トルエン中10%)を初めに
、250mLのガラス反応器に導入し、5分間攪拌した。次に、5mLの触媒懸
濁液を加え、その混合物を40℃において10分間攪拌した。次に、ガス送入管
を用いて、エチレンをその溶液に連続的に通した。40℃の温度および1.1バ ールのエチレン圧において10分間にわたって重合させた後、メタノール中のH
Clの1%溶液10mLを加えて反応を停止させ、形成されるポリマーを濾過し
、メタノールで洗浄し、真空乾燥室において乾燥させて、8.9gのポリエチレ ンを得た。
【図面の簡単な説明】
【図1】 化合物(6−t−ブチルフルベニル)ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムクロリドを例として使用して、X線構造分析によって得ら
れる、本発明によって製造し得るフルベン−金属錯体の構造を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM ,HR,HU,ID,IL,IS,JP,KE,KG, KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,L U,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO ,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG, SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,U G,US,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 ユルゲン・ハインリッヒス ドイツ連邦共和国デー−52064アーヘン、 デリウスシュトラーセ6番 Fターム(参考) 4H049 VN05 VN06 VP01 VQ12 VR23 VR31 VS12 VT05 VU14 VV17 VW01 4H050 AA02 AB40 BB15 BB25 BE21 WB11 WB17 WB21 4J028 AA01A AB01A AC01A AC08A AC10A AC18A AC20A AC26A AC28A AC31A AC37A AC39A AC42A AC49A AC50A BA00A BA01B BB00A BB01B BC12B BC15B BC16B BC25B BC27B EB02 EB04 EB05 EB06 EB07 EB08 EB09 EB12 EB13 EB14 EB16 EB17 EB18 EB21 FA02 FA04

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(Ia): 【化1】 または式(Ib): 【化2】 [式中: Mは、IUPACによる元素の周期表のIIIb、IVb、Vb、またはVIb族、あるいはラ ンタニドまたはアクチニドからの金属であり; Aは、1個またはそれ以上の架橋を任意に有するアニオン配位子であり; Xは、水素原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C6〜C10 アルール基、C6〜C10アリールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40 アリールアルキル基、C7〜C40アルキルアリール基、C8〜C40アリールアルケ
    ニル基、C1〜C10炭化水素基によって置換されているシリル基、ハロゲン原子 、または式NR7 2で示されるアミドであり; Lは、中性配位子であり; R1、R2、R3、R4、R5、R6は、同じかまたは異なり、水素、ハロゲン、シ
    アノ基、C1〜C20アルキル基、C1〜C10フルオロアルキル基、C6〜C10フル オロアリール基、C1〜C10アルコキシ基、C6〜C20アリール基、C6〜C10ア リールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7 〜C40アルキルアリール基、C8〜C40アリールアルケニル基、C2〜C10アルキ
    ニル基、C1〜C10炭化水素基によって置換されているシリル基、C1〜C10炭化
    水素基によって置換されているスルフィド基、またはC1〜C20炭化水素基によ って任意に置換されているアミノ基であるか、または R1、R2、R3、R4、R5、R6は、それぞれの場合に、それらに結合している
    原子と一緒になって、1個またはそれ以上のヘテロ原子(O、N、S)および5
    〜10個の炭素原子を有することができる1種またはそれ以上の脂肪族または芳
    香族環系を形成し、 R7は、水素、C1〜C20アルキル基、C6〜C20アリール基、C7〜C40アリー
    ルアルキル基、C7〜C40アルキルアリール基、C1〜C10炭化水素基によって置
    換されているシリル基、またはC1〜C20炭化水素基によって任意に置換されて いるアミノ基を表し; mおよびpは、Mの原子価および結合状態の結果としての0、1、2、3、ま
    たは4の数を表し; kは、Mの酸化度に依存して、1、2、または3の数を表し、k+m+pの合
    計が1〜5であり; nは、0〜10の数である。] で示されるフルベン−金属錯体の製造方法であって、該製造方法において、 式(IIa)または(IIb): AmsM (IIa) または AmsnM (IIb) [式中: A、X、L、M、m、sおよびnは、前記に定義した通りであり; sは、2、3、4、5、または6であり、s>pである。] で示される遷移金属化合物を、 式(III): 【化3】 [式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、前記に定義した通りである。]
    で示されるフルベン化合物と、還元剤の存在において反応させる製造方法。
  2. 【請求項2】 −100℃〜+250℃の温度において、好適な反応媒体中
    において、反応を行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはリチウム−アルキ
    ルを還元剤として使用することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 反応を溶媒中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法
  5. 【請求項5】 反応をエーテル中で行うことを特徴とする請求項4に記載の
    方法。
  6. 【請求項6】 Mが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニ
    オブ、タンタルおよびクロムから成る群から選択される金属であり; kが1であり、および A、X、L、m、n、p、R1、R2、R3、R4、R5およびR6が、前記に定義
    した通りである; 式(Ia)または(Ib)のフルベン−金属錯体であって、 但し、R1およびR2が水素を表し、同時にR3、R4、R5およびR6がメチル基を
    表し、同時にAがペンタメチルシクロペンタジエニル基または式C29ll11
    カルボランジイル基を表す式(Ia)または(Ib)の化合物は除く、フルベン
    −金属錯体。
  7. 【請求項7】 a) Mが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
    ム、ニオブ、タンタルおよびクロムから成る群から選択される金属であり; kが1であり;および A、X、L、m、n、p、R1、R2、R3、R4、R5およびR6が前記に定
    義した通りである; 請求項1に記載の方法によって製造される式(Ia)または(Ib)のフ
    ルベン−金属錯体、および b) 金属錯体a)を活性化するのに好適な補助触媒; を含んで成り、成分a)/成分b)のモル比が1:0.1〜1:10,000であ
    る触媒系。
  8. 【請求項8】 オレフィンおよび/またはジエンの重合のための、請求項7
    に記載の触媒系の使用。
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