JP2001516805A - 表面上への物質の付着 - Google Patents

表面上への物質の付着

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JP2001516805A
JP2001516805A JP2000511596A JP2000511596A JP2001516805A JP 2001516805 A JP2001516805 A JP 2001516805A JP 2000511596 A JP2000511596 A JP 2000511596A JP 2000511596 A JP2000511596 A JP 2000511596A JP 2001516805 A JP2001516805 A JP 2001516805A
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シヤルマ，サニテイ
アンナバジユーラ，ドウルガ
バシン，サニテイ
ナラング，サブハツシユ
ニガム，アズトツシユ
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エス・アール・アイ・インターナシヨナル
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    • G—PHYSICS
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    • H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
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Abstract

(57)【要約】 基体上に前駆物質を所望のパターンデ付着するステップと、基体上に適切なリガンドを付着するステップと、電子をリガンドから前駆物質に移すのに十分なエネルギーを供給し、それによって前駆物質を分解して沈殿物を形成するステップとを含む工程によって、基体（３０）上に被覆（２０）を付着する方法および装置（１０）を提供する。好ましい実施形態の一態様では、前駆物質が金属塩、沈殿物が金属からなる。特に好ましい塩はカルボン酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩および擬ハロゲン化物である。好ましい実施形態の他の態様では、リガンドはアミン、アミド、ホスフィン、スルフィド、または窒素、リン、硫黄または他のドナー原子を含む他のリガンドからなる。実質的な量の前駆物質または付着物を除去することなく所望のパターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 政府の補助金についての記載 本発明は政府の支援をもってなされたものである。政府は本発明に一定の権利
を有する。
【０００２】 発明の分野 本発明の分野は、基体上への物質の表面付着である。
【０００３】 発明の背景 基体上への物質の付着を伴う用途はたくさんある。商業的に重要な方法は、リ
ソグラフィ、フォトコピー、吹付け付着およびシルクスクリーニングなどの一般
的な印刷技術を含む。これらの方法は、容易に流動化されるトナー、染料、及び
他の着色剤を、付着するのに非常に適しているが、付着される化合物の流動形態
が、高温条件または他の困難な使用条件のもとでしか存在し得ない、金属や触媒
のような他の材料の付着には全く不適切である。
【０００４】 基体上への金属の付着も知られているが、知られている技術はどれも精密さに
欠けるか、または実施するのが困難である。例えば、スケールの極端に単純な限
界で、基体の酸化を遅らせるために、溶融メッキを利用して、釘、梁および他の
金属構造物に亜鉛を塗布することが知られている。塗料を含む金属を、カンバス
、ガラスまたは他の基体上に塗布することも知られている。他の単純な手順とし
ては、吹付けおよび粉末被覆があるが、これらの技術は、一般にどの場合も、被
覆された面積と被覆の厚みの両方において精密さに欠ける。また、被覆には、一
般的に好ましくない不純物が含まれ、表面が平らでないまたは粗面になる可能性
が非常に高い。基体上に非常に精密な化合物の層を形成することができる蒸着の
ようなもっと精巧な技術もあるが、そのような技術では、回路のような複雑なパ
ターンを形成することができない。
【０００５】 そこで、金属のような流動化しにくい化合物を複雑かつ精密なパターンに付着
することが可能な技術に焦点を当てると、分野を電気メッキ法と無電界メッキ法
に分けることができる。電気メッキ法では、基体の表面全体を金属で被覆し、次
いでエッチングまたは他の方法によって、被覆の一部を選択的に除去する。その
ような方法は、いくら良くみても扱いづらい方法であり、特に基体が不導体であ
る場合に、回路板や装飾品に見られるパターンのような複雑かつ精密なパターン
を形成する場合は、無電界メッキ法に比べて利点がほとんどないか、または全く
ない。
【０００６】 無電界メッキ法は、電気反応ではなく化学反応を介して行われる。無電界メッ
キ法は、浸漬法と非浸漬法に分けることができる。浸漬法では、一般に被覆され
る基体を、金属溶液または他の被覆溶液の浴槽に浸す。溶液が金属を含む場合は
、次にエネルギーを導入することによって、金属を溶液から沈殿して基体上に付
着する。付着する金属によっては、エネルギーが、金属イオンに電子を供与して
金属を形成する役割をも果たす。そのような方法のエネルギーは、反応に関与す
る１つまたは複数の分子によって吸収されるように選択された波長、または色素
を伴うレーザの形で与えられることが多い。残念ながら、浸漬法に固有のいくつ
かの問題がある。１つの非常に大きな問題は、全体的に複雑なことである。浸漬
法はある種の浸漬タンクを必要とし、しばしば有毒な流体を比較的大量に伴う。
他の問題としては、浸漬液内でエネルギーが分散するため、必然的に複雑で正確
なパターンを得にくいことが挙げられる。他の問題としては、浴槽内の濃度と温
度が不均一なために、しばしば高品質の被覆が得られないことが挙げられる。こ
の問題を最小限に抑えるために循環ポンプが採用されてきたが、そのようなポン
プによって複雑さが増している。
【０００７】 非浸漬被覆技術は、浸漬被覆法に関連するいくつかの問題を克服するが、導入
のコストの点だけが、まだ他の問題である。標準的な非浸漬被覆システムでは、
ガラス、ガラス繊維、紙またはプラスチックなどの不導体基体全体に、被覆物質
を被覆する。例えばプリント回路板の場合は、導電路を形成する被覆物質は、通
常、銅や銀や金のような導電性に優れた金属である。被覆を形成したら、何らか
の方法を用いて被覆された表面をレジストでマスクし、マスクされた表面をエッ
チングして最終的なパターンを形成する。フォトグラフィック法、シルクスクリ
ーニング法、さらには手塗り法を含めたいくつかの方法によって様々なレジスト
を形成することが可能である。
【０００８】 当業界に知られているそのような方法は、すべてサブトラクティブ法である。
基本的には、表面全体にある物質を被覆し、次いでその物質の大半を取り除いて
所望のパターンを残す。そのような方法は、本来扱いづらく、困難で、不経済で
ある。高価な装置と経験豊かな製造スタッフを揃えたとしても、最終製品の品質
を制御するのが困難で、マスキング剤（レジスト）と使用されない被覆がともに
著しく浪費される。
【０００９】 いわゆるアディティブ被覆法が知られているが、これらの方法は部分的にアデ
ィティブであるにすぎない。すなわち、最終的なパターンを形成するのに被覆物
質または被覆物質の前駆物質の実質的な部分（少なくとも５重量パーセント）を
取り除かなければならないという点において、依然として部分的なサブトラクテ
ィブ法である。例えばＫａｎｅ等の米国特許第４，６１４，８３７号（１９８６
年９月）には、細かく分割された金属粉末を基体上に置き、次いで加熱ダイを使
用して圧縮する部分的なサブトラクティブ法が記載されている。十分な温度と圧
力のもとで、特に基体が熱変形性を有する場合は、この方法は有効な導電路を形
成するといわれている。残念なことに、Ｋａｎｅ等の方法はマスキングの必要性
を取り除くものであるが、付加的な問題を引き起こす。１つの欠点としては、こ
の方法は、細かく粉にした金属粉末を必要とすることが挙げられる。そのような
粉末は高価で、均一にするのが難しく、保存中に酸化されやすい。さらに、粉塵
及び他の不純物が金属粉末の品質に影響を与え、次に圧縮時に問題を引き起こす
可能性がある。オペレータの健康を守るために集塵装置も必要になる。さらに、
所望の回路パターンを有する高価なダイを製造することも必要である。最後に、
回路板上で金属粉末を圧縮する装置を用意しなければならない。
【００１０】 Ｗｅｉｇｅｌ等の米国特許第５，５７６，０７４号（１９９６年１１月）には
、他の部分的サブトラクティブ法が記載されている。この特許には、アミン顕色
剤とともに塩または他の金属含有化合物を含む溶液が提示されている。この溶液
を均質化し、均質化した溶液の均一な被覆を基体の表面に設ける。次いで所望の
パターンに従ってレーザ放射をその溶液に照射し、その化合物を金属に還元する
。
【００１１】 Ｗｅｉｇｅｌの方法は、基体表面上に物質を無差別に被覆し、次いでレーザを
使用して金属を溶液から所望のパターンに沈殿させる従来技術のコンセプトを引
き継いでいる。そのような方法は、いくつかの観点から実用的でない。例えばレ
ーザエネルギーを使用すると、特定の時間内に小さなスポットしか露光できず、
必要な酸化還元反応を活性化するために特定量のエネルギーが必要であるため、
生産速度が比較的遅くなる。したがって、低出力レーザは、非常に複雑なパター
ンを形成するのに長時間を要するのに対して、高出力レーザは基体に損害を与え
、他の品質問題を引き起こす可能性がある。そのため、Ｗｅｉｇｅｌの方法のよ
うな方法は、一種のプロトタイプの製造には適しているが、本質的に大量生産に
は実用性がない。さらに、必要な出力を備えたレーザは、比較的扱いにくく、使
用上の危険性がある。
【００１２】 レーザを使用して沈殿させる方法に固有の問題とは別に、最終製品の品質を管
理する点においても問題がある。これは、酸化還元反応速度は、基体上の化学混
合物層の厚み、基体の熱吸収率、及び化学混合物の分子を励起するのに必要とさ
れるエネルギーを含めた多くの要因に左右されやすいためである。さらに、放射
吸収染料及び金属トナーの残留量によって、最終製品の品質が損なわれる可能性
が高い。Ｗｅｉｇｅｌの方法のような方法を完全なものにしたとしても、そのよ
うな方法は、本質的に導電路の形成といったような特定の問題を解決することが
できないものと考えられる。そのような方法は、スタンピングおよびインクジェ
ット型吹付け法などの通常の印刷技術と併用することもできない。
【００１３】 Ｃａｓｔｒｏの米国特許第５，３７８，５０８号（１９９３年１月）には、部
分的サブトラクティブ付着の他の例が開示されている。そこでは、表面に物質を
被覆し、その物質にレーザ光線を照射して金属または他の物質を基体に接着し、
次に余剰のコーティング剤を洗い流して所望のパターンを形成する。この場合も
、主に被覆材料を最初に加え、次に部分的に基体から除去することに主に起因す
る同じ欠点がある。
【００１４】 したがって、基体上に金属または他の物質を精密なパターンで付着することが
でき、前駆物質または付着物を実質的に基体から除去することを必要としない被
覆技術および装置を提供する必要がある。
【００１５】 発明の概要 本発明は、基体上に前駆物質を所望のパターンで付着するステップと、基体上
に適切なリガンドを付着するステップと、電子をリガンドから前駆物質に移すの
に十分なエネルギーを供給し、それによって前駆物質を分解して沈殿物を形成す
るステップとを含む工程によって、基体上に被覆を付着する方法および装置を提
供する。
【００１６】 好ましい実施形態の一態様では、前駆物質が金属塩からなり、沈殿物が金属か
らなる。特に好ましい塩は、カルボン酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩および擬ハロ
ゲン化物である。好ましい実施形態の他の態様では、リガンドは、アミン、アミ
ド、ホスフィン、スルフィド、エステル、または実際に窒素、リン、硫黄、また
は酸化還元反応において塩を溶解すること、および／または塩と結合することが
できる他のドナー原子を含む他のリガンドからなる。好ましい実施形態の他の態
様では、エネルギーの少なくとも一部が放射熱として供給される。好ましい実施
形態の他の一態様では、付着材料が少なくとも８０重量パーセントの高い純度を
有する。実質的な量の前駆物質または付着した被覆を基体から除去することなし
に、所望のパターンが生成される。
【００１７】 本発明の目的、特徴、態様および利点は、図面を参照しながら本発明の好まし
い実施形態についての以下の詳しい説明を読めば、より明らかになろう。
【００１８】 詳細な説明 図１では、溶液２０を含むディスペンサ１０を使用して基体３０上に物質を付
着する。以下に記載するように、これらの各コンポーネントには可能な多くの変
形形態が存在する。
【００１９】 ディスペンサ１０としては、基体と少なくともディスペンサのある部分との間
の相対運動を介して基体上に溶液を分配させることによって、所望のパターンを
形成することが可能なあらゆる装置が想定される。概念的には、ディスペンサ１
０は２つの部分、すなわち溶液を保持するリザーバとアプリケータを含む。好ま
しい実施形態の一類では、例えばディスペンサ１０は、インクジェット型プリン
タカートリッジのような「ポイント」ディスペンサ、毛管先、ローラディスペン
サ、噴霧器または鉛筆の先端に類似した圧縮物の先端であってもよい。そのよう
な実施形態では、リザーバは基本的に分配される液の保持タンクであり、アプリ
ケータはある種のドローイングヘッドである。特定の実施形態に応じて、そのよ
うな装置は、数十オングストロームまたはそれ未満の精度から１ミリメートルま
たはそれ以上の精度までのあらゆる精度で、物質を分配することができる。
【００２０】 リザーバは、流体的または機械的にアプリケータに連結している必要はない。
例えば、アプリケータはゴムまたはリソグラフィ型スタンプを備え、リザーバは
スタンプパッドを備えていてもよい。そのような実施形態では、基体とリザーバ
の間の相対変位を一切必要とせず、その代わりアプリケータと基体の間の相対運
動を利用して、所望のパターンを形成することができる。他の実施形態では、ア
プリケータが基体に対してそのまま並進する必要はなく、傾斜または回転して所
望のパターンを形成することもできる。他の実施形態では、リザーバもアプリケ
ータも基体に対して固定しており、アプリケータを介して分配される流体は、空
圧、磁力または他の力によって方向づけられ、所望のパターンを形成する。
【００２１】 本明細書では、「流体」という用語は、使用される温度および圧力のもとで流
動するあらゆる物質を含めた広い意味で用いられる。同様に、本明細書で用いら
れる「溶液」という用語は、液体、気体または固体である溶媒を含む。したがっ
て、リザーバに含まれる流体は、一般的に液体として扱われるが、その流体には
気体または粉末状の固体が含まれていることも想定される。
【００２２】 したがって、ディスペンサが広い層を無差別に分配するのではなく、基体上に
１つのパターンを分配する限りにおいて、本発明では実質的にあらゆる種類のデ
ィスペンサを採用することができる。この幅広い定義には、例えば、インクジェ
ットカートリッジ型ディスペンサ、スレッドディスペンサおよび噴霧器の使用す
る方法を含む一般的なすべての印刷方法、スタンピング、ローラ印刷、活版印刷
、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平板印刷、オフセット印刷、
謄写印刷などが包まれる。実際、本発明の実施形態では、インクを使用した印刷
方法を効果的に利用することが可能である。
【００２３】 他方で、浸漬浴または基体の対象とする表面全体に無差別に被覆する他の技術
は、「ディスペンサ」という用語の定義から除外される。「基体の表面上に」お
よび「基体上に」という用語は、少なくとも実質的に基体の外部境界になされる
付着を意味する。吸収性の物質または多孔質の物質については、例えば、これら
の用語およびこれらに関連する用語には、付着する物質のすべてが基体の表面に
明らかに残存する付着と、付着する物質の一部が基体のなかに引き込まれる付着
の両方が包まれる。
【００２４】 本明細書に記載の装置および方法を使用して分配することを企図しているパタ
ーンには、点またはドットを分離するかまたは結合して線を形成するか、スペー
ス内に充填するなど、点またはドットの任意の構成が含まれる。したがって、想
定されるパターンとしては、直線および曲線、線の交差、拡大領域または縮小領
域を有する線、リボン、重複線などが挙げられる。特に、有用なパターンには、
単層および多層構成の回路板の構成が含まれるものと想定される。回路板に関し
て、１つの非常に重要な態様は、本発明による実施形態を適用して「ビア」のな
かに、または回路板のスルーホールに導体構成物（通常は金属）を付着すること
により、多層板を容易に製造できることである。そのようなビアは、多くの異な
る方法によって製造することができるが、なかでも穿孔が特に好ましい。
【００２５】 想定される他のパターンとしては、層が挙げられる。例えば、本明細書に記載
の付着工程を繰り返して、より厚い層または多層を有する沈殿物を得ることが可
能である。そのような工程では、同一の金属または他の物質の反復被覆またはよ
り厚い被覆、交互のあるいは異なる物質を使用することによる交互層を採用する
ことが可能である。
【００２６】 本明細書では、一般的に溶液２０は、溶媒と溶質を含むことが想定される。溶
媒は、溶質を溶解することができればどのような物質でもよいが、一般的に水や
種々のアルコールのような安価で入手しやすく、比較的毒性の低い物質が含まれ
ると想定される。溶質は、一般的に、金属または他の物質が溶液から沈殿できる
ように、エネルギー源の影響のもとで互いに化学的に反応する少なくとも２つの
成分を含むものと想定される。好ましい実施形態では、溶質の１つの成分が塩を
含み、溶質の他の成分が適切なリガンドを含む。本明細書に記載されている「塩
」という用語は、酸（Ａ）と塩基（Ｂ）のあらゆる組合せを意味する。例として
は、ギ酸銅、酢酸銅、アクリル酸銅、チオシアン化銅およびヨウ化銅のような金
属塩が挙げられる。他の例としては、ギ酸アンモニウムやアクリル酸アンモニウ
ムのような非金属塩が挙げられる。
【００２７】 溶液の様々な成分を、同時または順々に、あるいは２種類の成分を組み合わせ
て基体上に付着することができる。したがって、塩をリガンドと同時に付着した
り、またはリガンドとは別に付着することが想定される。溶媒自体が、塩または
リガンドの１つまたは複数の態様を具備または提供することも想定される。
【００２８】 本明細書に用いられている「リガンド」（Ｌ）という用語は、熱により活性化
して、ＡＢ＋Ｌ→ＡＬ＋Ｂ、またはＡＢ＋Ｌ→Ａ＋ＢＬのような酸化還元反応に
おいて、塩の１つまたは複数の態様を置換することができるあらゆる物質を意味
する。本明細書において想定される工程では、非晶質で非金属残留物質を残さず
、通常の環境条件で安定しているリガンドが好ましい。より好ましいリガンドと
しては、一般的に約３００℃未満と見なされる合理的な温度で、使用される特定
の塩との酸化還元反応に加わることができるリガンドが好ましい。
【００２９】 リガンドの好ましい類としては、特にシクロヘキシルアミンなどの窒素ドナー
が挙げられる。しかし、他の多くの窒素ドナーおよびそれらの混合物も使用でき
る。例としては、３−ピコリン、ルチジン、キノリンおよびイソキノリン、シク
ロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロヘプチルアミン、シクロオク
チルアミンなどが挙げられる。しかし、それらは数例にすぎず、他の多くの脂肪
族第一級アミン、第二級アミンおよび第３級アミン、および／または芳香族窒素
ドナーも使用できる。
【００３０】 想定される溶液には、塩およびリガンド以外の他の化合物が含まれていてもよ
い。例えば、水およびアルコールを伴う、または伴わない窒素ドナー溶剤中のギ
酸銅（ＩＩ）混合物を使用して、インクジェット型プリンタでの分配を容易にす
ることができる。少量の溶剤ベースのポリマーまたは界面活性剤も、インクジェ
ット印刷のための前駆物質溶液のレオロジーを調整したり、膜形成特性を高める
のに有益な添加剤である。他方では、リン酸トリエチル、トリトンＸ１００、グ
リセロールなどの高沸点溶剤および／または添加剤を、大量に使用することは避
けるのが好ましい。それは、カプトン（商標）または紙などの温度に敏感な基体
上の不完全な熱分解のために、形成された膜を汚染する傾向があるためである。
さらに、基体の表面の疎水性または親水性を改良するカップリング剤に応じて、
基体をカップリング剤で処理して基体と付着物との密着力を強化することも有用
な方法である。
【００３１】 塩が金属を含有する場合は、すべての金属が想定される。好ましい金属として
は、銅、銀および金などの導電性元素が挙げられるが、ケイ素やゲルマニウムの
ような半導体も含められる。いくつかの目的、特に触媒の製造のために、カドミ
ウム、クロム、コバルト、鉄、鉛、マンガン、ニッケル、プラチナ、パラジウム
、ロジウム、銀、スズ、チタン、亜鉛などの金属が使用されることが想定される
。本発明において用いられている「金属」という用語には、合金、金属／金属複
合物、金属セラミック複合物、金属ポリマー複合物、ならびに他の金属複合物が
含まれる。
【００３２】 基体３０には、事実上、その上に化合物を付着することができるあらゆる物質
が含まれる。例えば、想定される基体としては、金属および非金属、導体および
不導体、柔軟材料および非柔軟材料、吸収性材料および非吸収性材料、平面材料
および曲面材料、織られた材料および織られていない材料、中実材料および中空
材料、ならびに大形物体および小形物体が挙げられる。特に好ましい基体は、回
路板、紙、ガラスおよび金属の物体である。別の観点から見ると、想定される基
体の範囲が広いことは、本発明を有益に適用できると想定される物体の範囲が広
いことを示すものである。したがって、本明細書に記載されている方法および装
置は、マルチチップモジュール、ＰＣＭＣＩＡカード、プリント回路板、シリコ
ンウェハ、機密印刷、装飾印刷、触媒、静電シールド、水素移動メンブレン、機
能的傾斜材料、微小材料の製造、バッテリ電極、燃料電池電極、アクチュエータ
、電気接触、コンデンサなどを含めた様々な用途に使用することができる。本明
細書に記載されている方法および装置を使用して、比較的単純な表面被覆、また
は鏡の反射被覆を形成するのに利用される可能性もある全面被覆を形成すること
もできる。本明細書に記載されている方法および装置は、自動車側面の装飾物の
ような、曲面への全面的または部分的な被覆を形成するのに特に有用である。そ
のような用途には、ヘッドの運動が、三次元的に制御されるインクジェット型プ
リンタを使用することができる。
【００３３】 したがって、図１の基体は、特にコンピュータ、ディスクドライブまたは他の
データ処理もしくは記憶装置、電話または他の通信装置、および蓄電池、蓄電器
、充電器、調整器または他のエネルギー貯蔵関連装置を含む、電子装置の一部に
備え付けられる、またはされない回路板、あるいはそれを形成する、またはしな
い回路板を含めた、適切なあらゆる基体を表すものと想定される。
【００３４】 本明細書において想定される適切なエネルギー源には、基体または被覆に過度
の損害を与えることなく、所望の化学反応を生じることができるあらゆるエネル
ギー源が含まれる。例えば、特に好ましいエネルギー源は、特に赤外線ランプお
よび熱風送風機を含めた放射または対流熱源である。他の適切なエネルギー源と
しては、電子ビーム、ならびにＸ線、ガンマ線および紫外線を含めた非赤外波長
の放射装置などが挙げられる。他の適切なエネルギー源としては、マイクロ波発
信器のような振動源が挙げられる。多くの方法で様々なエネルギー源を適用でき
ることも理解すべきである。好ましい実施形態では、エネルギー源が、基体上に
付着された前駆物質／リガンドに当てられる。しかし、代替的な実施形態では、
加熱したリガンドを低温の前駆物質に当てたり、または加熱した前駆物質を低温
のリガンドに当てることが可能である。
【００３５】 実験を通じて、本発明の様々な態様のいくつかの利点が観察された。一態様で
は、本発明によって形成された金属付着物（例えば、回路板の導電路などを含む
）に、非常に滑らかな表面をもたせることができることが観察された。なかでも
、純粋な金属は耐酸化性を有し、高度な導電性を維持する傾向があるため、この
ような高度な平滑性は、このような金属を付着する上で非常に有用性が高い。定
量的な観点から見ると、本明細書に記載されている付着の好ましい実施形態では
、約Ｒａ０．０５μｍ未満の値が得られ、特に好ましい実施形態では約Ｒａ０．
０１μｍ未満の値が得られる。本明細書における粗さの定義は、Ｙｅｈ等の米国
特許第５，６３２，９４２号（１９９７年５月）に記載されている定義と一致す
る。粗さは、プロフィルメータ、例えばＴａｙｌｏｒ−Ｈｏｂｓｏｎカンパニー
から市販されているＳｕｔｒｏｎｉｃ３Ｐプロフィルメータを使用して測定する
ことができる。触媒物質の付着性に対する粗さの効果は、表面粗さの異なるアン
ダーコートされた基体からの触媒物質の損失量を比較することによって観察され
る。一般的にＲａ粗さが約０．０５μｍ未満であれば、非常に滑らかであると見
なされ、劣化または表面付着に対して抵抗力を有する傾向がある。約０．０１μ
ｍ未満の表面粗さは、研磨された外観を有すると考えられる。
【００３６】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、被覆は、基体の密着性
を著しく高めることができ、多くの実例において他のシステムを上回ることが挙
げられる。例えば、インクジェット型プリンタを使用して紙またはプラスチック
基体上に、薄い銅ラインを付着する場合、ラインの顕著なひび割れまたは剥離が
なく、その基体を繰り返し９０°の角度に折り曲げることができる。（スコッチ
テープ試験）。
【００３７】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、ほとんどどのような厚
さの被覆をも形成できることが挙げられる。従って、数十オングストロームまた
はそれ未満の非常に薄い被覆を形成することができる。このことは、約数百オン
グストローム未満の被覆を形成するのは困難であると見なされている、いくつか
の先行被覆システムに比べて非常に有利である。スケールの他方の限界では、本
明細書の記載によれば、単一のパスで数ミクロンまたはそれ以上の厚みなど、比
較的厚い被覆を形成することもできる。重複被覆、または被覆の上に他の被覆を
積層することによって、さらに厚くすることも可能である。このことも他のシス
テムに比べて有利である。例えば、Ｍｏｒｉｓｈｉｔａの米国特許第５，３１４
，８２５号（１９９４年５月）には、従来の技術によって、銅、ニッケル、コバ
ルトまたはスズを数千オングストローム以上の厚さに付着することは不可能であ
り、その特許の方法は、そのような金属を６０μｍの厚さで付着できるため、改
良された方法であると述べられている。
【００３８】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、別の通常の印刷装置を
使用して被覆を形成できることが挙げられる。したがって、本明細書に開示され
ている実施形態は、インクジェット型ディスペンサまたはニブが使用され、他の
実施形態ではスタンプまたはローラが使用される。また、フレキソ印刷装置、オ
フセット印刷装置、シルクスクリーニング、スタンピングまたはマイクロスタン
ピング、および様々な噴霧装置を使用する実施形態もある。上述のように、イン
クを使用するどのような印刷方法および装置でも、本発明の実施形態に効果的に
利用できることが想定される。そのような印刷装置を利用できることによって、
投資コストおよび生産コストが削減されるばかりでなく、基体上に付着物を形成
する速度が著しく上昇する。速度の上昇は、複雑なパターンを形成する場合、ま
たは複数の異なる物質を付着する場合に、特に顕著である。本発明の様々な実施
形態では、例えば、インクジェット型ディスペンサが、異なるカラーインクを分
配できるのと同じくらい容易に、異なる金属化合物を分配することが可能である
。
【００３９】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、少なくとも８０重量パ
ーセントの純度で、被覆を付着できることが挙げられる。より好ましい実施形態
では、被覆に含められるべき金属または他の物質の純度は、少なくとも９０パー
セントで、より好ましい実施形態では少なくとも９５パーセントで、最も好まし
い実施形態では少なくとも９７パーセントである。例えば、本発明によれば銅原
子は、少なくとも９７重量パーセントの純度で付着することができ、本発明によ
れば金原子は、少なくとも８０重量パーセントの純度で付着できることが示され
た。
【００４０】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、廃棄量をごくわずかに
抑えながら被覆を付着できることが挙げられる。好ましい実施形態では、基体上
に付着する物質の少なくとも８０重量パーセントが、残存して所望のパターンを
形成する。例えば、ギ酸銅（ＩＩ）を使用して銅回路を製造する場合は、基体上
に付着する銅の少なくとも８０パーセントが、残存して所望のパターンを形成し
、銅の２０パーセント以下が「廃棄物」として除去される。より好ましい実施形
態では、廃棄物の量は１０パーセント以下で、より好ましい実施形態では廃棄物
の量は５パーセント以下で、最も好ましい実施形態では廃棄物の量は３パーセン
ト以下である。
【００４１】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、操作温度が低いことが
挙げられる。例えば、約１５０℃より低い温度で、好ましくは約１００℃より低
い温度で、より好ましくは約７５℃より低い温度で、最も好ましくは室温の通常
の室内温度（２５〜３０℃）で、金属を所望のパターンに付着することができる
。酸化還元反応または「硬化」ステップも、比較的低温で実施することができ、
約１００℃より低い温度で、より好ましくは約７５℃より低い温度で、さらには
約５０℃の温度で実施することができる。さらにもっと低い温度でも可能である
が、約５０℃より低くなると、酸化還元反応が、たいていの用途には遅すぎる傾
向がある。これらの範囲は、前駆物質溶液を室温で調整し、室温で付着を実施し
、室温環境においてヒートガンからのような比較的小量の熱を用いて、分解を成
し遂げることを可能とする。例えば、試験的な実施形態では、インクジェットプ
リンタで銅の前駆物質を通常の紙に室温で付着し、ヘアドライヤを使用してその
前駆物質を分解して本質的に純粋な銅を得た。この例および他の例を以下に記載
する。
【００４２】 例１ 特に好ましい一実施形態には、窒素供与分子と共にギ酸銅（ＩＩ）塩が含まれ
る。１００ｍｌの丸底フラスコにギ酸銅（ＩＩ）の４水和物２．０ｇｍをとり、
それにシクロヘキシルアミン６．８ｇｍを添加した。この混合物を、室温（２５
〜３０℃）で約５〜６日間攪拌して均一な粘性のマスを得た。さらにシクロヘキ
シルアミン０．５ｇｍ添加し、さらに２４時間攪拌を続けた。濃いペーストが得
られた。図２に示されているように、このペーストを空気中で加熱した場合のサ
ーモグラムは酸化銅を示し、図３に示されているようにアルゴン中で加熱した場
合は金属銅を示した。シクロヘキシルアミンを約２ｇｍ余分に追加することによ
って、この溶液の濃度を薄くした。この溶液２、３滴を、８ドラムのガラスバイ
アルに加えて、熱風ファン上で加熱した。このバイアルは内側を銅の光沢膜で被
覆された。また、この溶液１ｇｍを、シクロヘキシルアミン４ｇｍで希釈して薄
い銅の膜を得た。あるいは、前駆物質溶液への高い金属の充填を得るには、銅（
ＩＩ）の代わりに銅（Ｉ）を使用するのが効果的である。溶媒として窒素および
／または酸素ドナーを使用することによって、ギ酸銅（Ｉ）の分解を成し遂げる
ことができる。銅（ＩＩ）または銅（Ｉ）の酢酸塩やアクリル酸塩のような、他
のカルボン酸塩または混合カルボン酸塩も使用できる。
【００４３】 例２ 長さ８ｃｍ、幅３．５ｃｍ、厚さ０．００５ｃｍの一片のカプトンを、４ドラ
ムのガラスバイアルに、バイアルの内壁を覆うように置いた。次いでそのバイア
ルに、ギ酸銅（ＩＩ）０．１７５ｇｍとβ−ピコリン１．７５ｇｍを加え、熱風
送風機上で加熱した。加熱中、溶液が流出しないよう注意しながらバイアルを傾
斜および回転させることによって、その場で生成した銅塩の溶液をカプトン上に
広げた。熱風送風機でバイアル瓶の口を除く全ての側からバイアルをさらに加熱
し、揮発成分を飛ばし、カプトン上に銅の被覆を形成した。
【００４４】 この具体的な例では、ギ酸銅（ＩＩ）およびβ−ピコリンの添加に際して、溶
液が煮沸されるため、酸素がバイアルから排除される。代替的な実施形態では、
酸素が自動的に溶液との接触を排除されない可能性があり、そのような実施形態
では、一般的に他の方法で酸素を排除するのが望ましい。そうでなければ、所望
の元素金属とは対照的に、酸化物または酸化物と元素金属の混合物が付着される
可能性がある。また、すべての段階で酸素を排除する必要がないことを認識する
ことも重要である。酸素を排除することが重要なのは、主に金属を沈殿している
ときである。したがって、例えば、金属前駆物質の溶液を、酸素雰囲下でインク
ジェット型ディスペンサに充填し、酸素雰囲気下で付着することが可能である。
しかし、酸素が存在しない雰囲気では、一般的に基体上で前駆物質の加熱を実行
しなければならない。
【００４５】 このように、基体上に被覆を付着する新規の方法と装置を開示した。しかし、
既に記載した変更以外にも本明細書に記載の発明の概念から逸脱することなくさ
らに多くの変更が存在しうることは、当業者には明らかなはずである。したがっ
て、本発明の内容は、首記の請求の範囲の趣旨から逸脱しない限りにおいて限定
されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による基体上に表面材料を付着している様子を示した概略図である。
【図２】 本発明の一実施形態による付着した酸化銅被覆のサーモグラムである。
【図３】 本発明の一実施形態による付着した金属銅のサーモグラムである。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年３月１５日（２０００．３．１５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項２９】 金属が、元素金属、合金、金属／金属複合物、金属セラミ
ック複合物、および金属ポリマー複合物からなるグループから選択される、請求
項２５に記載の方法。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年３月１５日（２０００．３．１５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 表面上への物質の付着
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】 政府の補助金についての記載 本発明は政府の支援をもってなされたものである。政府は本発明に一定の権利
を有する。
【０００２】 発明の分野 本発明の分野は、基体上への物質の表面付着である。
【０００３】 発明の背景 基体上への物質の付着を伴う用途はたくさんある。商業的に重要な方法は、リ
ソグラフィ、フォトコピー、吹付け付着およびシルクスクリーニングなどの一般
的な印刷技術を含む。これらの方法は、容易に流動化されるトナー、染料、及び
他の着色剤を、付着するのに非常に適しているが、付着される化合物の流動形態
が、高温条件または他の困難な使用条件のもとでしか存在し得ない、金属や触媒
のような他の材料の付着には全く不適切である。
【０００４】 基体上への金属の付着も知られているが、知られている技術はどれも精密さに
欠けるか、または実施するのが困難である。例えば、スケールの極端に単純な限
界で、基体の酸化を遅らせるために、溶融メッキを利用して、釘、梁および他の
金属構造物に亜鉛を塗布することが知られている。塗料を含む金属を、カンバス
、ガラスまたは他の基体上に塗布することも知られている。他の単純な手順とし
ては、吹付けおよび粉末被覆があるが、これらの技術は、一般にどの場合も、被
覆された面積と被覆の厚みの両方において精密さに欠ける。また、被覆には、一
般的に好ましくない不純物が含まれ、表面が平らでないまたは粗面になる可能性
が非常に高い。基体上に非常に精密な化合物の層を形成することができる蒸着の
ようなもっと精巧な技術もあるが、そのような技術では、回路のような複雑なパ
ターンを形成することができない。
【０００５】 そこで、金属のような流動化しにくい化合物を複雑かつ精密なパターンに付着
することが可能な技術に焦点を当てると、分野を電気メッキ法と無電界メッキ法
に分けることができる。電気メッキ法では、基体の表面全体を金属で被覆し、次
いでエッチングまたは他の方法によって、被覆の一部を選択的に除去する。その
ような方法は、いくら良くみても扱いづらい方法であり、特に基体が不導体であ
る場合に、回路板や装飾品に見られるパターンのような複雑かつ精密なパターン
を形成する場合は、無電界メッキ法に比べて利点がほとんどないか、または全く
ない。
【０００６】 無電界メッキ法は、電気反応ではなく化学反応を介して行われる。無電界メッ
キ法は、浸漬法と非浸漬法に分けることができる。浸漬法では、一般に被覆され
る基体を、金属溶液または他の被覆溶液の浴槽に浸す。溶液が金属を含む場合は
、次にエネルギーを導入することによって、金属を溶液から沈殿して基体上に付
着する。付着する金属によっては、エネルギーが、金属イオンに電子を供与して
金属を形成する役割をも果たす。そのような方法のエネルギーは、反応に関与す
る１つまたは複数の分子によって吸収されるように選択された波長、または色素
を伴うレーザの形で与えられることが多い。残念ながら、浸漬法に固有のいくつ
かの問題がある。１つの非常に大きな問題は、全体的に複雑なことである。浸漬
法はある種の浸漬タンクを必要とし、しばしば有毒な流体を比較的大量に伴う。
他の問題としては、浸漬液内でエネルギーが分散するため、必然的に複雑で正確
なパターンを得にくいことが挙げられる。他の問題としては、浴槽内の濃度と温
度が不均一なために、しばしば高品質の被覆が得られないことが挙げられる。こ
の問題を最小限に抑えるために循環ポンプが採用されてきたが、そのようなポン
プによって複雑さが増している。
【０００７】 非浸漬被覆技術は、浸漬被覆法に関連するいくつかの問題を克服するが、導入
のコストの点だけが、まだ他の問題である。標準的な非浸漬被覆システムでは、
ガラス、ガラス繊維、紙またはプラスチックなどの不導体基体全体に、被覆物質
を被覆する。例えばプリント回路板の場合は、導電路を形成する被覆物質は、通
常、銅や銀や金のような導電性に優れた金属である。被覆を形成したら、何らか
の方法を用いて被覆された表面をレジストでマスクし、マスクされた表面をエッ
チングして最終的なパターンを形成する。フォトグラフィック法、シルクスクリ
ーニング法、さらには手塗り法を含めたいくつかの方法によって様々なレジスト
を形成することが可能である。
【０００８】 当業界に知られているそのような方法は、すべてサブトラクティブ法である。
基本的には、表面全体にある物質を被覆し、次いでその物質の大半を取り除いて
所望のパターンを残す。そのような方法は、本来扱いづらく、困難で、不経済で
ある。高価な装置と経験豊かな製造スタッフを揃えたとしても、最終製品の品質
を制御するのが困難で、マスキング剤（レジスト）と使用されない被覆がともに
著しく浪費される。
【０００９】 いわゆるアディティブ被覆法が知られているが、これらの方法は部分的にアデ
ィティブであるにすぎない。すなわち、最終的なパターンを形成するのに被覆物
質または被覆物質の前駆物質の実質的な部分（少なくとも５重量パーセント）を
取り除かなければならないという点において、依然として部分的なサブトラクテ
ィブ法である。例えばＫａｎｅ等の米国特許第４，６１４，８３７号（１９８６
年９月）には、細かく分割された金属粉末を基体上に置き、次いで加熱ダイを使
用して圧縮する部分的なサブトラクティブ法が記載されている。十分な温度と圧
力のもとで、特に基体が熱変形性を有する場合は、この方法は有効な導電路を形
成するといわれている。残念なことに、Ｋａｎｅ等の方法はマスキングの必要性
を取り除くものであるが、付加的な問題を引き起こす。１つの欠点としては、こ
の方法は、細かく粉にした金属粉末を必要とすることが挙げられる。そのような
粉末は高価で、均一にするのが難しく、保存中に酸化されやすい。さらに、粉塵
及び他の不純物が金属粉末の品質に影響を与え、次に圧縮時に問題を引き起こす
可能性がある。オペレータの健康を守るために集塵装置も必要になる。さらに、
所望の回路パターンを有する高価なダイを製造することも必要である。最後に、
回路板上で金属粉末を圧縮する装置を用意しなければならない。
【００１０】 Ｗｅｉｇｅｌ等の米国特許第５，５７６，０７４号（１９９６年１１月）には
、他の部分的サブトラクティブ法が記載されている。この特許には、アミン顕色
剤とともに塩または他の金属含有化合物を含む溶液が提示されている。この溶液
を均質化し、均質化した溶液の均一な被覆を基体の表面に設ける。次いで所望の
パターンに従ってレーザ放射をその溶液に照射し、その化合物を金属に還元する
。
【００１１】 Ｗｅｉｇｅｌの方法は、基体表面上に物質を無差別に被覆し、次いでレーザを
使用して金属を溶液から所望のパターンに沈殿させる従来技術のコンセプトを引
き継いでいる。そのような方法は、いくつかの観点から実用的でない。例えばレ
ーザエネルギーを使用すると、特定の時間内に小さなスポットしか露光できず、
必要な酸化還元反応を活性化するために特定量のエネルギーが必要であるため、
生産速度が比較的遅くなる。したがって、低出力レーザは、非常に複雑なパター
ンを形成するのに長時間を要するのに対して、高出力レーザは基体に損害を与え
、他の品質問題を引き起こす可能性がある。そのため、Ｗｅｉｇｅｌの方法のよ
うな方法は、一種のプロトタイプの製造には適しているが、本質的に大量生産に
は実用性がない。さらに、必要な出力を備えたレーザは、比較的扱いにくく、使
用上の危険性がある。
【００１２】 レーザを使用して沈殿させる方法に固有の問題とは別に、最終製品の品質を管
理する点においても問題がある。これは、酸化還元反応速度は、基体上の化学混
合物層の厚み、基体の熱吸収率、及び化学混合物の分子を励起するのに必要とさ
れるエネルギーを含めた多くの要因に左右されやすいためである。さらに、放射
吸収染料及び金属トナーの残留量によって、最終製品の品質が損なわれる可能性
が高い。Ｗｅｉｇｅｌの方法のような方法を完全なものにしたとしても、そのよ
うな方法は、本質的に導電路の形成といったような特定の問題を解決することが
できないものと考えられる。そのような方法は、スタンピングおよびインクジェ
ット型吹付け法などの通常の印刷技術と併用することもできない。
【００１３】 Ｃａｓｔｒｏの米国特許第５，３７８，５０８号（１９９３年１月）には、部
分的サブトラクティブ付着の他の例が開示されている。そこでは、表面に物質を
被覆し、その物質にレーザ光線を照射して金属または他の物質を基体に接着し、
次に余剰のコーティング剤を洗い流して所望のパターンを形成する。この場合も
、主に被覆材料を最初に加え、次に部分的に基体から除去することに主に起因す
る同じ欠点がある。
【００１４】 したがって、基体上に金属または他の物質を精密なパターンで付着することが
でき、前駆物質または付着物を実質的に基体から除去することを必要としない被
覆技術および装置を提供する必要がある。
【００１５】 発明の概要 本発明は、基体上に前駆物質を所望のパターンで付着するステップと、基体上
に適切なリガンドを付着するステップと、電子をリガンドから前駆物質に移すの
に十分なエネルギーを供給し、それによって前駆物質を分解して沈殿物を形成す
るステップとを含む工程によって、基体上に被覆を付着する方法および装置を提
供する。
【００１６】 好ましい実施形態の一態様では、前駆物質が金属塩からなり、沈殿物が金属か
らなる。特に好ましい塩は、カルボン酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩および擬ハロ
ゲン化物である。好ましい実施形態の他の態様では、リガンドは、アミン、アミ
ド、ホスフィン、スルフィド、エステル、または実際に窒素、リン、硫黄、また
は酸化還元反応において塩を溶解すること、および／または塩と結合することが
できる他のドナー原子を含む他のリガンドからなる。好ましい実施形態の他の態
様では、エネルギーの少なくとも一部が放射熱として供給される。好ましい実施
形態の他の一態様では、付着材料が少なくとも８０重量パーセントの高い純度を
有する。そして、実質的な量の前駆物質または付着した被覆を基体から除去する
ことなしに、所望のパターンが生成される。
【００１７】 本発明の目的、特徴、態様および利点は、図面を参照しながら本発明の好まし
い実施形態についての以下の詳しい説明を読めば、より明らかになろう。
【００１８】 詳細な説明 図１では、溶液２０を含むディスペンサ１０を使用して基体３０上に物質を付
着する。以下に記載するように、これらの各コンポーネントには可能な多くの変
形形態が存在する。
【００１９】 ディスペンサ１０としては、基体と少なくともディスペンサのある部分との間
の相対運動を介して基体上に溶液を分配させることによって、所望のパターンを
形成することが可能なあらゆる装置が想定される。概念的には、ディスペンサ１
０は２つの部分、すなわち溶液を保持するリザーバとアプリケータを含む。好ま
しい実施形態の一類では、例えばディスペンサ１０は、インクジェット型プリン
タカートリッジのような「ポイント」ディスペンサ、毛管先、ローラディスペン
サ、噴霧器または鉛筆の先端に類似した圧縮物の先端であってもよい。そのよう
な実施形態では、リザーバは基本的に分配される液の保持タンクであり、アプリ
ケータはある種のドローイングヘッドである。特定の実施形態に応じて、そのよ
うな装置は、数十オングストロームまたはそれ未満の精度から１ミリメートルま
たはそれ以上の精度までのあらゆる精度で、物質を分配することができる。
【００２０】 リザーバは、流体的または機械的にアプリケータに連結している必要はない。
例えば、アプリケータはゴムまたはリソグラフィ型スタンプを備え、リザーバは
スタンプパッドを備えていてもよい。そのような実施形態では、基体とリザーバ
の間の相対変位を一切必要とせず、その代わりアプリケータと基体の間の相対運
動を利用して、所望のパターンを形成することができる。他の実施形態では、ア
プリケータが基体に対してそのまま並進する必要はなく、傾斜または回転して所
望のパターンを形成することもできる。他の実施形態では、リザーバもアプリケ
ータも基体に対して固定しており、アプリケータを介して分配される流体は、空
圧、磁力または他の力によって方向づけられ、所望のパターンを形成する。
【００２１】 本明細書では、「流体」という用語は、使用される温度および圧力のもとで流
動するあらゆる物質を含めた広い意味で用いられる。同様に、本明細書で用いら
れる「溶液」という用語は、液体、気体または固体である溶媒を含む。したがっ
て、リザーバに含まれる流体は、一般的に液体として扱われるが、その流体には
気体または粉末状の固体が含まれていることも想定される。
【００２２】 したがって、ディスペンサが広い層を無差別に分配するのではなく、基体上に
１つのパターンを分配する限りにおいて、本発明では実質的にあらゆる種類のデ
ィスペンサを採用することができる。この幅広い定義には、例えば、インクジェ
ットカートリッジ型ディスペンサ、スレッドディスペンサおよび噴霧器の使用す
る方法を含む一般的なすべての印刷方法、スタンピング、ローラ印刷、活版印刷
、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平板印刷、オフセット印刷、
謄写印刷などが包まれる。実際、本発明の実施形態では、インクを使用した印刷
方法を効果的に利用することが可能である。
【００２３】 他方で、浸漬浴または基体の対象とする表面全体に無差別に被覆する他の技術
は、「ディスペンサ」という用語の定義から除外される。「基体の表面上に」お
よび「基体上に」という用語は、少なくとも実質的に基体の外部境界になされる
付着を意味する。吸収性の物質または多孔質の物質については、例えば、これら
の用語およびこれらに関連する用語には、付着する物質のすべてが基体の表面に
明らかに残存する付着と、付着する物質の一部が基体のなかに引き込まれる付着
の両方が包まれる。
【００２４】 本明細書に記載の装置および方法を使用して分配することを企図しているパタ
ーンには、点またはドットを分離するかまたは結合して線を形成するか、スペー
ス内に充填するなど、点またはドットの任意の構成が含まれる。したがって、想
定されるパターンとしては、直線および曲線、線の交差、拡大領域または縮小領
域を有する線、リボン、重複線などが挙げられる。特に、有用なパターンには、
単層および多層構成の回路板の構成が含まれるものと想定される。回路板に関し
て、１つの非常に重要な態様は、本発明による実施形態を適用して「ビア」のな
かに、または回路板のスルーホールに導体構成物（通常は金属）を付着すること
により、多層板を容易に製造できることである。そのようなビアは、多くの異な
る方法によって製造することができるが、なかでも穿孔が特に好ましい。
【００２５】 想定される他のパターンとしては、層が挙げられる。例えば、本明細書に記載
の付着工程を繰り返して、より厚い層または多層を有する沈殿物を得ることが可
能である。そのような工程では、同一の金属または他の物質の反復被覆またはよ
り厚い被覆、また交互のあるいは異なる物質を使用することによる交互層を採用
することが可能である。
【００２６】 本明細書では、一般的に溶液２０は、溶媒と溶質を含むことが想定される。溶
媒は、溶質を溶解することができればどのような物質でもよいが、一般的に水や
種々のアルコールのような安価で入手しやすく、比較的毒性の低い物質が含まれ
ると想定される。溶質は、一般的に、金属または他の物質が溶液から沈殿できる
ように、エネルギー源の影響のもとで互いに化学的に反応する少なくとも２つの
成分を含むものと想定される。好ましい実施形態では、溶質の１つの成分が塩を
含み、溶質の他の成分が適切なリガンドを含む。本明細書に記載されている「塩
」という用語は、酸（Ａ）と塩基（Ｂ）のあらゆる組合せを意味する。例として
は、ギ酸銅、酢酸銅、アクリル酸銅、チオシアン化銅およびヨウ化銅のような金
属塩が挙げられる。他の例としては、ギ酸アンモニウムやアクリル酸アンモニウ
ムのような非金属塩が挙げられる。
【００２７】 溶液の様々な成分を、同時または順々に、あるいは２種類の成分を組み合わせ
て基体上に付着することができる。したがって、塩をリガンドと同時に付着した
り、またはリガンドとは別に付着することが想定される。溶媒自体が、塩または
リガンドの１つまたは複数の態様を具備または提供することも想定される。
【００２８】 本明細書に用いられている「リガンド」（Ｌ）という用語は、熱により活性化
して、ＡＢ＋Ｌ→ＡＬ＋Ｂ、またはＡＢ＋Ｌ→Ａ＋ＢＬのような酸化還元反応に
おいて、塩の１つまたは複数の態様を置換することができるあらゆる物質を意味
する。本明細書において想定される工程では、非晶質で非金属残留物質を残さず
、通常の環境条件で安定しているリガンドが好ましい。より好ましいリガンドと
しては、一般的に約３００℃未満と見なされる合理的な温度で、使用される特定
の塩との酸化還元反応に加わることができるリガンドが好ましい。
【００２９】 リガンドの好ましい類としては、特にシクロヘキシルアミンなどの窒素ドナー
が挙げられる。しかし、他の多くの窒素ドナーおよびそれらの混合物も使用でき
る。例としては、３−ピコリン、ルチジン、キノリンおよびイソキノリン、シク
ロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロヘプチルアミン、シクロオク
チルアミンなどが挙げられる。しかし、それらは数例にすぎず、他の多くの脂肪
族第一級アミン、第二級アミンおよび第３級アミン、および／または芳香族窒素
ドナーも使用できる。
【００３０】 想定される溶液には、塩およびリガンド以外の他の化合物が含まれていてもよ
い。例えば、水およびアルコールを伴う、または伴わない窒素ドナー溶剤中のギ
酸銅（ＩＩ）混合物を使用して、インクジェット型プリンタでの分配を容易にす
ることができる。少量の溶剤ベースのポリマーまたは界面活性剤も、インクジェ
ット印刷のための前駆物質溶液のレオロジーを調整したり、膜形成特性を高める
のに有益な添加剤である。他方では、リン酸トリエチル、トリトンＸ１００、グ
リセロールなどの高沸点溶剤および／または添加剤を、大量に使用することは避
けるのが好ましい。それは、カプトン（商標）または紙などの温度に敏感な基体
上の不完全な熱分解のために、形成された膜を汚染する傾向があるためである。
さらに、基体の表面の疎水性または親水性を改良するカップリング剤に応じて、
基体をカップリング剤で処理して基体と付着物との密着力を強化することも有用
な方法である。
【００３１】 塩が金属を含有する場合は、すべての金属が想定される。好ましい金属として
は、銅、銀および金などの導電性元素が挙げられるが、ケイ素やゲルマニウムの
ような半導体も含められる。いくつかの目的、特に触媒の製造のために、カドミ
ウム、クロム、コバルト、鉄、鉛、マンガン、ニッケル、プラチナ、パラジウム
、ロジウム、銀、スズ、チタン、亜鉛などの金属が使用されることが想定される
。本発明において用いられている「金属」という用語には、合金、金属／金属複
合物、金属セラミック複合物、金属ポリマー複合物、ならびに他の金属複合物が
含まれる。
【００３２】 基体３０には、事実上、その上に化合物を付着することができるあらゆる物質
が含まれる。例えば、想定される基体としては、金属および非金属、導体および
不導体、柔軟材料および非柔軟材料、吸収性材料および非吸収性材料、平面材料
および曲面材料、織られた材料および織られていない材料、中実材料および中空
材料、ならびに大形物体および小形物体が挙げられる。特に好ましい基体は、回
路板、紙、ガラスおよび金属の物体である。別の観点から見ると、想定される基
体の範囲が広いことは、本発明を有益に適用できると想定される物体の範囲が広
いことを示すものである。したがって、本明細書に記載されている方法および装
置は、マルチチップモジュール、ＰＣＭＣＩＡカード、プリント回路板、シリコ
ンウェハ、機密印刷、装飾印刷、触媒、静電シールド、水素移動メンブレン、機
能的傾斜材料、微小材料の製造、バッテリ電極、燃料電池電極、アクチュエータ
、電気接触、コンデンサなどを含めた様々な用途に使用することができる。本明
細書に記載されている方法および装置を使用して、比較的単純な表面被覆、また
は鏡の反射被覆を形成するのに利用される可能性もある全面被覆を形成すること
もできる。本明細書に記載されている方法および装置は、自動車側面の装飾物の
ような、曲面への全面的または部分的な被覆を形成するのに特に有用である。そ
のような用途には、ヘッドの運動が、三次元的に制御されるインクジェット型プ
リンタを使用することができる。
【００３３】 したがって、図１の基体は、特にコンピュータ、ディスクドライブまたは他の
データ処理もしくは記憶装置、電話または他の通信装置、および蓄電池、蓄電器
、充電器、調整器または他のエネルギー貯蔵関連装置を含む、電子装置の一部に
備え付けられる、またはされない回路板、あるいはそれを形成する、またはしな
い回路板を含めた、適切なあらゆる基体を表すものと想定される。
【００３４】 本明細書において想定される適切なエネルギー源には、基体または被覆に過度
の損害を与えることなく、所望の化学反応を生じることができるあらゆるエネル
ギー源が含まれる。例えば、特に好ましいエネルギー源は、特に赤外線ランプお
よび熱風送風機を含めた放射または対流熱源である。他の適切なエネルギー源と
しては、電子ビーム、ならびにＸ線、ガンマ線および紫外線を含めた非赤外波長
の放射装置などが挙げられる。他の適切なエネルギー源としては、マイクロ波発
信器のような振動源が挙げられる。多くの方法で様々なエネルギー源を適用でき
ることも理解すべきである。好ましい実施形態では、エネルギー源が、基体上に
付着された前駆物質／リガンドに当てられる。しかし、代替的な実施形態では、
加熱したリガンドを低温の前駆物質に当てたり、または加熱した前駆物質を低温
のリガンドに当てることが可能である。
【００３５】 実験を通じて、本発明の様々な態様のいくつかの利点が観察された。一態様で
は、本発明によって形成された金属付着物（例えば、回路板の導電路などを含む
）に、非常に滑らかな表面をもたせることができることが観察された。なかでも
、純粋な金属は耐酸化性を有し、高度な導電性を維持する傾向があるため、この
ような高度な平滑性は、このような金属を付着する上で非常に有用性が高い。定
量的な観点から見ると、本明細書に記載されている付着の好ましい実施形態では
、約粗さ（Ｒａ）０．０５μｍ未満の値が得られ、特に好ましい実施形態では約
Ｒａ０．０１μｍ未満の値が得られる。本明細書における粗さの定義は、Ｙｅｈ
等の米国特許第５，６３２，９４２号（１９９７年５月）に記載されている定義
と一致する。粗さは、プロフィルメータ、例えばＴａｙｌｏｒ−Ｈｏｂｓｏｎカ
ンパニーから市販されているＳｕｔｒｏｎｉｃ３Ｐプロフィルメータを使用して
測定することができる。触媒物質の付着性に対する粗さの効果は、表面粗さの異
なるアンダーコートされた基体からの触媒物質の損失量を比較することによって
観察される。一般的にＲａ粗さが約０．０５μｍ未満であれば、非常に滑らかで
あると見なされ、劣化または表面付着に対して抵抗力を有する傾向がある。約０
．０１μｍ未満の表面粗さは、研磨された外観を有すると考えられる。
【００３６】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、被覆は、基体の密着性
を著しく高めることができ、多くの実例において他のシステムを上回ることが挙
げられる。例えば、インクジェット型プリンタを使用して紙またはプラスチック
基体上に、薄い銅ラインを付着する場合、ラインの顕著なひび割れまたは剥離が
なく、その基体を繰り返し９０°の角度に折り曲げることができる。（スコッチ
テープ試験）。
【００３７】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、ほとんどどのような厚
さの被覆をも形成できることが挙げられる。従って、数十オングストロームまた
はそれ未満の非常に薄い被覆を形成することができる。このことは、約数百オン
グストローム未満の被覆を形成するのは困難であると見なされている、いくつか
の先行被覆システムに比べて非常に有利である。スケールの他方の限界では、本
明細書の記載によれば、単一のパスで数ミクロンまたはそれ以上の厚みなど、比
較的厚い被覆を形成することもできる。重複被覆、または被覆の上に他の被覆を
積層することによって、さらに厚くすることも可能である。このことも他のシス
テムに比べて有利である。例えば、Ｍｏｒｉｓｈｉｔａの米国特許第５，３１４
，８２５号（１９９４年５月）には、従来の技術によって、銅、ニッケル、コバ
ルトまたはスズを数千オングストローム以上の厚さに付着することは不可能であ
り、その特許の方法は、そのような金属を６０μｍの厚さで付着できるため、改
良された方法であると述べられている。
【００３８】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、別の通常の印刷装置を
使用して被覆を形成できることが挙げられる。したがって、本明細書に開示され
ている実施形態は、インクジェット型ディスペンサまたはニブが使用され、他の
実施形態ではスタンプまたはローラが使用される。また、フレキソ印刷装置、オ
フセット印刷装置、シルクスクリーニング、スタンピングまたはマイクロスタン
ピング、および様々な噴霧装置を使用する実施形態もある。上述のように、イン
クを使用するどのような印刷方法および装置でも、本発明の実施形態に効果的に
利用できることが想定される。そのような印刷装置を利用できることによって、
投資コストおよび生産コストが削減されるばかりでなく、基体上に付着物を形成
する速度が著しく上昇する。速度の上昇は、複雑なパターンを形成する場合、ま
たは複数の異なる物質を付着する場合に、特に顕著である。本発明の様々な実施
形態では、例えば、インクジェット型ディスペンサが、異なるカラーインクを分
配できるのと同じくらい容易に、異なる金属化合物を分配することが可能である
。
【００３９】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、少なくとも８０重量パ
ーセントの純度で、被覆を付着できることが挙げられる。より好ましい実施形態
では、被覆に含められるべき金属または他の物質の純度は、少なくとも９０パー
セントで、より好ましい実施形態では少なくとも９５パーセントで、最も好まし
い実施形態では少なくとも９７パーセントである。例えば、本発明によれば銅原
子は、少なくとも９７重量パーセントの純度で付着することができ、本発明によ
れば金原子は、少なくとも８０重量パーセントの純度で付着できることが示され
た。
【００４０】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、廃棄量をごくわずかに
抑えながら被覆を付着できることが挙げられる。好ましい実施形態では、基体上
に付着する物質の少なくとも８０重量パーセントが、残存して所望のパターンを
形成する。例えば、ギ酸銅（ＩＩ）を使用して銅回路を製造する場合は、基体上
に付着する銅の少なくとも８０パーセントが、残存して所望のパターンを形成し
、銅の２０パーセント以下が「廃棄物」として除去される。より好ましい実施形
態では、廃棄物の量は１０パーセント以下で、より好ましい実施形態では廃棄物
の量は５パーセント以下で、最も好ましい実施形態では廃棄物の量は３パーセン
ト以下である。
【００４１】 本発明の様々な実施形態についての他の利点としては、操作温度が低いことが
挙げられる。例えば、約１５０℃より低い温度で、好ましくは約１００℃より低
い温度で、より好ましくは約７５℃より低い温度で、最も好ましくは室温の通常
の室内温度（２５〜３０℃）で、金属を所望のパターンに付着することができる
。酸化還元反応または「硬化」ステップも、比較的低温で実施することができ、
約１００℃より低い温度で、より好ましくは約７５℃より低い温度で、さらには
約５０℃の温度で実施することができる。さらにもっと低い温度でも可能である
が、約５０℃より低くなると、酸化還元反応が、たいていの用途には遅すぎる傾
向がある。これらの範囲は、前駆物質溶液を室温で調整し、室温で付着を実施し
、室温環境においてヒートガンからのような比較的小量の熱を用いて、分解を成
し遂げることを可能とする。例えば、試験的な実施形態では、インクジェットプ
リンタで銅の前駆物質を通常の紙に室温で付着し、ヘアドライヤを使用してその
前駆物質を分解して本質的に純粋な銅を得た。この例および他の例を以下に記載
する。
【００４２】 例１ 特に好ましい一実施形態には、窒素供与分子と共にギ酸銅（ＩＩ）塩が含まれ
る。１００ｍｌの丸底フラスコにギ酸銅（ＩＩ）の４水和物２．０ｇｍをとり、
それにシクロヘキシルアミン６．８ｇｍを添加した。この混合物を、室温（２５
〜３０℃）で約５〜６日間攪拌して均一な粘性のマスを得た。さらにシクロヘキ
シルアミン０．５ｇｍ添加し、さらに２４時間攪拌を続けた。濃いペーストが得
られた。図２に示されているように、このペーストを空気中で加熱した場合のサ
ーモグラムは酸化銅を示し、図３に示されているようにアルゴン中で加熱した場
合は金属銅を示した。シクロヘキシルアミンを約２ｇｍ余分に追加することによ
って、この溶液の濃度を薄くした。この溶液２、３滴を、８ドラムのガラスバイ
アルに加えて、熱風ガン上で加熱した。このバイアルは内側を銅の光沢膜で被覆
された。また、この溶液１ｇｍを、シクロヘキシルアミン４ｇｍで希釈して薄い
銅の膜を得た。あるいは、前駆物質溶液への高い金属の充填を得るには、銅（Ｉ
Ｉ）の代わりに銅（Ｉ）を使用するのが効果的である。溶媒として窒素および／
または酸素ドナーを使用することによって、ギ酸銅（Ｉ）の分解を成し遂げるこ
とができる。銅（ＩＩ）または銅（Ｉ）の酢酸塩やアクリル酸塩のような、他の
カルボン酸塩または混合カルボン酸塩も使用できる。
【００４３】 例２ 長さ８ｃｍ、幅３．５ｃｍ、厚さ０．００５ｃｍの一片のカプトンを、４ドラ
ムのガラスバイアルに、バイアルの内壁を覆うように置いた。次いでそのバイア
ルに、ギ酸銅（ＩＩ）０．１７５ｇｍとβ−ピコリン１．７５ｇｍを加え、熱風
送風機上で加熱した。加熱中、溶液が流出しないよう注意しながらバイアルを傾
斜および回転させることによって、その場で生成した銅塩の溶液をカプトン上に
広げた。熱風送風機でバイアル瓶の口を除く全ての側からバイアルをさらに加熱
し、揮発成分を飛ばし、カプトン上に銅の被覆を形成した。
【００４４】 この具体的な例では、ギ酸銅（ＩＩ）およびβ−ピコリンの添加に際して、溶
液が煮沸されるため、酸素がバイアルから排除される。代替的な実施形態では、
酸素が自動的に溶液との接触を排除されない可能性があり、そのような実施形態
では、一般的に他の方法で酸素を排除するのが望ましい。そうでなければ、所望
の元素金属とは対照的に、酸化物または酸化物と元素金属の混合物が付着される
可能性がある。また、すべての段階で酸素を排除する必要がないことを認識する
ことも重要である。酸素を排除することが重要なのは、主に金属を沈殿している
ときである。したがって、例えば、金属前駆物質の溶液を、酸素雰囲下でインク
ジェット型ディスペンサに充填し、酸素雰囲気下で付着することが可能である。
しかし、酸素が存在しない雰囲気では、一般的に基体上で前駆物質の加熱を実行
しなければならない。
【００４５】 このように、基体上に被覆を付着する新規の方法と装置を開示した。しかし、
既に記載した変更以外にも本明細書に記載の発明の概念から逸脱することなくさ
らに多くの変更が存在しうることは、当業者には明らかなはずである。したがっ
て、本発明の内容は、首記の請求の範囲の趣旨から逸脱しない限りにおいて限定
されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による基体上に表面材料を付着している様子を示した概略図である。
【図２】 本発明の一実施形態による付着した酸化銅被覆のサーモグラムである。
【図３】 本発明の一実施形態による付着した金属銅のサーモグラムである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/105 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/105 ５０１ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ， ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，Ｌ Ｖ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ， ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，Ｕ Ｓ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 アンナバジユーラ，ドウルガ アメリカ合衆国、カリフオルニア・94025 −3493、メンロ・パーク、レイバンズウツ ド・アベニユー・333 (72)発明者 バシン，サニテイ アメリカ合衆国、カリフオルニア・94025 −3493、メンロ・パーク、レイバンズウツ ド・アベニユー・333 (72)発明者 ナラング，サブハツシユ アメリカ合衆国、カリフオルニア・94025 −3493、メンロ・パーク、レイバンズウツ ド・アベニユー・333 (72)発明者 ニガム，アズトツシユ アメリカ合衆国、カリフオルニア・94025 −3493、メンロ・パーク、レイバンズウツ ド・アベニユー・333 Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AB15 AC08 AD01 BH04 CC09 4D075 AC22 AC25 AC45 BB37Z BB48Z CA22 4K022 AA02 AA03 AA05 AA12 AA13 AA33 AA34 AA36 AA42 AA43 BA01 BA03 BA06 BA08 BA17 BA18 BA20 BA21 BA22 BA25 BA28 BA31 BA32 BA33 BA34 BA35 CA17 CA18 CA19 CA20 CA21 CA23 DA01 DA06 DA08 DA09 DB02 DB04 DB08 DB29 EA01 5E343 BB22 BB23 BB24 BB25 BB34 BB35 BB45 BB47 BB48 BB52 BB71 DD02 DD80 GG08

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基体上に被覆を付着する方法であって、 基体上に前駆物質を所望のパターンで付着するステップと、 基体上にリガンドを付着するステップと、 電子をリガンドから前駆物質に移すのに十分なエネルギーを供給し、それによ
    って前駆物質を分解して沈殿物を形成するステップからなる方法。
  2. 【請求項２】 被覆が、少なくとも約８０パーセントの純度の金属からなる
    、請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 被覆が、約１０オングストローム未満の厚さの金属からなる
    、請求項１に記載の方法。
  4. 【請求項４】 被覆が、少なくとも約１００オングストロームの厚さの金属
    からなる、請求項１に記載の方法。
  5. 【請求項５】 前駆物質が、カルボン酸塩、ハロゲン化物、擬ハロゲン化物
    および硝酸塩からなるグループから選択された塩からなる、請求項１に記載の方
    法。
  6. 【請求項６】 前駆物質がカルボン酸塩からなる、請求項１に記載の方法。
  7. 【請求項７】 パターンが回路からなる、請求項１に記載の方法。
  8. 【請求項８】 リガンドが、アミン、アミド、ホスフィン、スルフィドおよ
    びエステルからなるグループから選択された物質からなる、請求項１に記載の方
    法。
  9. 【請求項９】 リガンドが、窒素ドナー、硫黄、およびリンドナーからなる
    グループから選択される、請求項１に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 沈殿物が金属からなる、請求項１に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 沈殿物が、銅、亜鉛、パラジウム、プラチナ、銀、金、カ
    ドミウム、チタン、コバルト、鉛、スズ、ケイ素およびゲルマニウムからなるグ
    ループから選択される、請求項１に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 沈殿物が導体からなる、請求項１に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 沈殿物が半導体からなる、請求項１に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 基体が不導体からなる、請求項１に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 基体が導体と半導体の少なくとも一方からなる、請求項１
    に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 エネルギーを供給するステップが、熱を供給することから
    なる、請求項１に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 エネルギーを供給するステップが、赤外放射を供給するこ
    とからなる、請求項１に記載の方法。
  18. 【請求項１８】 エネルギーを供給するステップが、レーザ放射を供給する
    ことからなる、請求項１に記載の方法。
  19. 【請求項１９】 エネルギーを供給するステップが、振動エネルギーを供給
    することからなる、請求項１に記載の方法。
  20. 【請求項２０】 前駆物質が、カルボン酸塩、ハロゲン化物、擬ハロゲン化
    物および硝酸塩からなるグループから選択された塩からなり、リガンドが、アミ
    ン、アミド、ホスフィン、スルフィドおよびエステルからなるグループから選択
    された物質からなる、請求項１に記載の方法。
  21. 【請求項２１】 沈殿物が、銅、亜鉛、パラジウム、プラチナ、銀、金、カ
    ドミウム、チタン、コバルト、鉛、スズ、ケイ素およびゲルマニウムからなるグ
    ループから選択される、請求項１６に記載の方法。
  22. 【請求項２２】 エネルギーを供給するステップが、放射熱を供給すること
    からなる、請求項１６に記載の方法。
  23. 【請求項２３】 前駆物質を付着するステップが、前駆物質を所望のパター
    ンに吹き付けることからなる、請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法。
  24. 【請求項２４】 前駆物質を付着するステップが、吹き付け、スタンピング
    、ローラ印刷、活版印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平板
    印刷、オフセット印刷および謄写印刷からなるグループから選択される、請求項
    １から２２のいずれか一項に記載の方法。
  25. 【請求項２５】 前駆物質を付着するステップが、前駆物質を所望のパター
    ンに印刷することからなる、請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法。
  26. 【請求項２６】 請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法によって印
    刷された回路を備えた回路板。
  27. 【請求項２７】 請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法によって印
    刷された回路を支持する回路板からなる電子装置。
  28. 【請求項２８】 請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法による、表
    面粗さが約Ｒａ０．０５μｍ未満のアディティブに付着した導電路を備えた印刷
    回路板。
  29. 【請求項２９】 基体上に金属パターンを印刷する方法であって、 所望の構成に従って基体上に金属前駆物質を付着するステップと、 基体から実質的な量の前駆物質を除去することなく、かつ基体から実質的な量
    の金属を除去することなく、前駆物質を分解して金属パターンを形成するステッ
    プとからなる方法。
  30. 【請求項３０】 金属パターンが、不純物が約２０重量パーセント未満の実
    質的に純粋な金属からなる、請求項２９に記載の方法。
  31. 【請求項３１】 分解するステップが、熱分解を行うことからなる、請求項
    ２９に記載の方法。
  32. 【請求項３２】 分解するステップが、約３００℃未満の温度で熱分解を行
    うことからなる、請求項２９に記載の方法。
  33. 【請求項３３】 金属が、元素金属、合金、金属／金属複合物、金属セラミ
    ック複合物、および金属ポリマー複合物からなるグループから選択される、請求
    項２９に記載の方法。
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