JP2001513765A - α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびアリールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩を形成している、α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンであって、光化学的にアミン、イミンまたはアミジンに転換されうるもの、およびそれらの製造方法に関する。本発明はまた、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩を形成しているこれらα−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンを含む、塩基重合可能または架橋可能な組成物、光化学的に誘起される塩基触媒反応を実施する方法、および塩基触媒反応のための光開始剤としての、当該化合物の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびア リールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基 本発明は、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩を形成し ている、α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトン であって、光化学的にアミン、イミンまたはアミジンに転換されうるもの、およ びそれらの製造方法に関する。本発明はまた、テトラアリール−またはトリアリ ールアルキルボラート塩を形成しているこれらα−アンモニウムケトン、イミニ ウムケトンまたはアミジニウムケトンを含む、塩基重合可能または架橋可能な組 成物、光化学的に誘起される塩基触媒反応を実施する方法、および塩基触媒反応 のための光開始剤としての、当該化合物の使用に関する。 特定のα−アミノケトンのラジカルへの光開裂、およびこれが誘起するオレフ ィン性不飽和モノマーまたはオリゴマーの光重合は、長年にわたって公知であり 、たとえばEP-A-284561に記載されている。 ラジカル重合が可能なオリゴマーまたはモノマーに加えて、塩基触媒によって 反応が可能な系が、特に光リソグラフィー法を目的にして開示された。これらの 系は、露光の際に塩基を遊離する光開始剤を必要とする。たとえば、D．R．MacK eanら，Polym．Mater．Sci．Eng．(1992)，66，237-238は、特定のカルバマート を光開始剤として使用する、ポリイミドの光形成について報告している。 J．of Polymer Science:Polym．Chem．Ed.，Vol．12，2943-2951(1974)におい て、Koらは、α−アンモニウムケトンを含有するＢＦ₄塩が、露光によりα−開 裂を起こしてラジカルに分解するが、いかなる遊離アミンも生成しないので、潜 在性塩基としては不適当であると報告している。 J．Chem．Soc．(C)，1971，1863-1869は、α−アンモニウムケトンの臭素塩が 、露光によってプロトン付加アミンになるため、同様に潜在性塩基としては不適 当であると記載している。 最近、Chem．Mater．1996，8，1360-1362において、Neckersらは、ポリマー構 造中に易動性のベンゾフェノン基を含有するポリマー状のアンモニウムフェニル ボラートに基づいた、光形成のための新規な系について報告している。 驚くべきことに、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩を 形成している、ある種のα−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミ ジニウムケトンは、可視光またはＵＶ光に暴露されると、アミン、イミンまたは アミジン基を放出することが、いまや見出された。これらの群は、多数の塩基触 媒反応、特に重合反応を開始させるのに十分な塩基性を有している。これらの化 合物は、高感度であり、置換様式の選択によって、吸収スペクトルを広範囲に変 えることが可能である。 これらの化合物は、塩基触媒反応性のオリゴマーまたはモノマーを用いて、き わめて長い保存寿命を有する、いわゆる１液系（one-pot system）を調製するこ とを可能にする。たとえば、重合反応は、露光後にのみ開始される。この系では 、化合物が影響を受けることなくモノマーまたはオリゴマーに溶解できるので、 微少の溶媒または無溶媒に処方することが可能である。活性触媒は、露光後にの み形成される。これらの系は、仕上げ材、コーティング材、成形用調合物、また は光リソグラフィーによる複製品など、多数の目的に使用可能である。 本発明は、式（Ｉ）: で示される化合物を提供する。 式中、 ｍは、１または２であって、カチオンの正電荷数に相当し； Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、５ ，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロ− １−ナフチル、チエニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、ナフト［２，３−ｂ］チエニ ル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチ ル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、 ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリ ル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラ ジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテ リジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニ ル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェ ノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フ ルオレニルまたはフェノキサジニルであって、これらの基は、非置換であるか、 またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜 Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換されている か、あるいは、Ｒ₁は、化学式（Ａ）または（Ｂ）: で示される基であり； 式中、 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニルもしくはフェニルであり、またはＲ₂ とＲ₃および／もしくはＲ₄とＲ₃が、互いに独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン架橋を形 成しているか；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、Ｐ₁ 、Ｐ₂、Ｐ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基を、または、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ )、(ｄ)、(ｅ)、（ｆ）もしくは（ｇ）: の基を形成しており、 式中、 ｋおよびｌは、それぞれ互いに独立に、２〜１２の数であり； Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、水素またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであり ；あるいは Ｒ₅およびＲ₁は、結合している炭素原子とともに、ベンゾシクロペンタノン基 を形成しており； Ｒ₁₁は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンであり；そして ｎは、０または１、２または３であり； Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、これ らの基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、 Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、Ｓ Ｒ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換 されており； Ｒ₁₅は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、 該フェニル基または芳香族炭化水素基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈ア ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル 、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハ ロゲンによってモノまたはポリ置換されており、あるいは Ｒ₁₅は、式： 示す基であり；そして 式中、 Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−もしくはＮＲ₈によって中断され ているＣ₂〜Ｃ₂₀アルキレンであるか、あるいはＸは、式： で示すものである。 光吸収の極大は、芳香族またはヘテロ芳香族Ｒ₁およびそれぞれのボラートア ニオンの選択によって、広い範囲で変化させることができ、したがって、当該化 合物の感光性をＵＶから昼光領域へと移行させることが可能である。 種々の基の中の、炭素原子を１８個まで有するアルキルは、分岐状または非分 岐状の基であって、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ− ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、２−エチルブチル、ｎ−ペ ンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、１，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘ キシル、１−メチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、１，１，３，３− テトラメチルブチル、１−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、ｎ−オクチル 、２−エチルヘキシル、１，１，３−トリメチルヘキシル、１，１，３，３−テ トラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、１−メチルウンデシル、ド デ シル、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデ シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルである。好ま しくは、炭素原子１〜１２個、特に１〜６個を有するアルキルである。 炭素原子３〜１８個を有するアルケニルは、分岐状または非分岐状の基であっ て、たとえば、プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニル、ｎ− ２，４−ペンタジエニル、３−メチル−２−ブテニル、ｎ−２−オクテニル、ｎ −２−ドデセニル、イソドデセニル、オレイル、ｎ−２−オクタデセニルまたは ｎ−４−オクタデセニルである。好ましくは、炭素原子３〜１２個、特に３〜６ 個を有するアルケニルである。 炭素原子３〜１８個を有するアルキニルは、分岐状または非分岐状の基であっ て、たとえば、プロピニル(−ＣＨ₂−Ｃ≡ＣＨ)、２−ブチニル、３−ブチニル 、ｎ−２−オクチニルまたはｎ−２−オクタデシニルである。好ましくは、炭素 原子３〜１２個、特に３〜６個を有するアルキニルである。 Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキレン架橋は、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン 、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレンま たはドデシレンである。 ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードである。 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキルの代表的な例は、完全にまたは部分的にハロゲン化し たＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルである。それらの具体例は、モノないしデカフルオロペン チル、モノないしオクタフルオロブチル、モノないしヘキサフルオロプロピル、 モノないしテトラフルオロエチル、ならびにモノおよびジフルオロメチルの位置 異性体であり、また同様に、相当するクロロ、ブロモおよびヨード化合物である 。好ましくは、ペルフルオロアルキル基である。これらの例は、ペルフルオロペ ンチル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロプロピル、および特にトリフルオロ メチルである。 ＮＲ₈Ｒ₉アミノ基の例は、それぞれモノアルキルまたはジアルキルアミノ基で あって、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミ ノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、オクタデシルアミノ、ジメチルアミノ、 ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルア ミノ、ジイソブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノまたはジオク タデシルアミノである。さらなるジアルキルアミノ基は、その中の２個の基が互 に独立に、分岐状または非分岐状のものであって、たとえばメチルエチルアミノ 、メチル−ｎ−プロピルアミノ、メチルイソプロピルアミノ、メチル−ｎ−ブチ ルアミノ、メチルイソブチルアミノ、エチルイソプロピルアミノ、エチル−ｎ− ブチルアミノ、エチルイソブチルアミノ、エチル−tert−ブチルアミノ、イソプ ロピル−ｎ−ブチルアミノまたはイソプロピルイソブチルアミノである。 炭素原子を１８個まで有するアルコキシ基ＯＲ₁₀は、分岐状または非分岐状の 基であって、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ 、イソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オク トキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキシ、ヘキサデシルオキシまたはオクタ デシルオキシである。好ましくは、炭素原子１〜１２個、特に１〜８個、たとえ ば１〜６個を有するアルコキシである。 チオアルキル基ＳＲ₁₀の例は、チオメチル、チオエチル、チオプロピル、チオ ブチル、チオペンチル、チオヘキシル、チオヘプチル、チオオクチルまたはチオ オクタデシルで、そのアルキル基は直鎖状または分岐状であってよい。 新規化合物（Ｒ₁₃、Ｒ₁₄またはＲ₁₅）中に存在してよい芳香族炭化水素は、た とえば１〜数個の、好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含有することがで きる。好適なヘテロ原子は、たとえばＮ、Ｏ、ＰまたはＳであり、好ましくはＮ またはＯである。芳香族炭化水素の代表的な例は、フェニル、α−およびβ−ナ フチル、スチルベニル、ビフェニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−テルフェニル、トリフェ ニルフェニル、ビナフチル、アントラシル、フェナントリル、ピレニル、フラン −２−イルまたはフラン−３−イル、チオフェン−２−イルまたはチオフェン− ３−イル、ピリジン−２−イル、ピリジン−３−イルまたはピリジン−４−イル 、キノリルまたはイソキノリルである。 Ｒ₁の例は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル 、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒド ロ−１−ナフチル、チエニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、ナフト［２，３−ｂ］チ エニル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、フェノキ サチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル 、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル 、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリ ジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバ ゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル 、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イ ソキサゾリル、フラザニル、ビフェニル、スチルベニル、テルフェニル、フルオ レニル、フェノキサジニル、メトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、 ２，４，６−トリメトキシフェニル、ブロモフェニル、トリル、キシリル、メシ チル、ニトロフェニル、ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニル、ア ミノフェニル、ジアミノフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−フェニル アミノ−４−ナフチル、１−メチルナフチル、２−メチルナフチル、１−メトキ シ−２−ナフチル、２−メトキシ−１−ナフチル、１−ジメチルアミノ−２−ナ フチル、１，２−ジメチル−４−ナフチル、１，２−ジメチル−６−ナフチル、 １，２−ジメチル−７−ナフチル、１，３−ジメチル−６−ナフチル、１，４− ジメチル−６−ナフチル、１，５−ジメチル−２−ナフチル、１，６−ジメチル −２−ナフチル、１−ヒドロキシ−２−ナフチル、２−ヒドロキシ−１−ナフチ ル、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル、７−フェナントリル、１−アントリ ル、２−アントリル、９−アントリル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ ［ｂ］チエニル、２−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ジベンゾフリル、４，７−ジ ベンゾフリル、４−メチル−７−ジベンゾフリル、２−キサンテニル、８−メチ ル−２−キサンテニル、３−キサンテニル、２−フェノキサチイニル、２，７− フェノキサチイニル、２−ピロリル、３−ピロリル、５−メチル−３−ピロリル 、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、２−メチル−４− イミダゾリル、２−エチル−４−イミダゾリル、２−エチル−５−イミダゾリル 、３−ピラゾリル、１−メチル−３−ピラゾリル、１−プロピル−４−ピラゾリ ル、２−ピラジニル、５，６−ジメチル−２−ピラジニル、２−インドリジニル 、２−メチル−３−イソインドリル、２−メチル−１−イソインドリル、１−メ チル−２−インドリル、１−メチル−３−インドリル、１，５−ジメチ ル−２−インドリル、１−メチル−３−インダゾリル、２，７−ジメチル−８− プリニル、２−メトキシ−７−メチル−８−プリニル、２−キノリジニル、３− イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、イソキノリル、３−メト キシ−６−イソキノリル、２−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、２−メ トキシ−３−キノリル、２−メトキシ−６−キノリル、６−フタラジニル、７− フタラジニル、１−メトキシ−６−フタラジニル、１，４−ジメトキシ−６−フ タラジニル、１，８−ナフチリジン−２−イル、２−キノキサリニル、６−キノ キサリニル、２，３−ジメチル−６−キノキサリニル、２，３−ジメトキシ−６ −キノキサリニル、２−キナゾリニル、７−キナゾリニル、２−ジメチルアミノ −６−キナゾリニル、３−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル 、３−メトキシ−７−シンノリニル、２−プテリジニル、６−プテリジニル、７ −プテリジニル、６，７−ジメトキシ−２−プテリジニル、２−カルバゾリル、 ３−カルバゾリル、９−メチル−２−カルバゾリル、９−メチル−３−カルバゾ リル、β−カルボリン−３−イル、１−メチル−β−カルボリン−３−イル、１ −メチル−β−カルボリン−６−イル、３−フェナントリジニル、２−アクリジ ニル、３−アクリジニル、２−ペリミジニル、１−メチル−５−ペリミジニル、 ５−フェナントロリニル、６−フェナントロリニル、１−フェナジニル、２−フ ェナジニル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、 ２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル、１０−メチル−３−フェノチア ジニル、３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル、４− メチル−３−フラザニル、２−フェノキサジニルまたは１０−メチル−２−フェ ノキサジニルである。 Ｒ₁およびＲ₅が、結合している炭素原子とともに、ベンゾシクロペンタノン基 を形成するとき、次に示す構造を意味する。 Ｐ₁、Ｐ₂またはＰ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基の代表的な例を、以下に 示す。 ここで、ホスファゼン塩基は、窒素イミンを介して、および第三級窒素原子の１ 個を介して、ケトンのＣＨ₂基に結合することができる。 ホスファゼン塩基は、好ましくは、第三級窒素原子の１個を介して、ケトンの ＣＨ₂基に結合している。 Ｒ₁は、好ましくは、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、 ピレニル、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テ トラヒドロ−１−ナフチル、チエニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、ナフト［２，３ −ｂ］チエニル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、 チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、 ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、 インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル 、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シ ンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボニリル、フェナントリジ ニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソ チアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、 スチルベニル、フルオレニルまたはフェノキサジニルであって、これらの基は、 非置換であるか、または、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ_{1 8} アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、Ｏ Ｒ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンにより、モノまた はポリ置換されており；または、Ｒ₁は、式（Ａ）または（Ｂ）: の基であるか、または、Ｒ₁およびＲ₅が、結合している炭素原子とともに、ベン ゾシクロペンタノン基を形成したものである。 Ｒ₁は、特に好ましくは、フェニル、ナフチル、ピレニル、チオキサンチルま たはフェノチアジニルであって、これらの基は、非置換であるか、あるいは、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＲ₆Ｒ₇、ＣＮ、ＮＯ₂、ＳＲ₈もし くはＯＲ₈により、モノまたはポリ置換されている。 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、好ましくは、それぞれ互に独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ア ルキル、またはＲ₂とＲ₃および／もしくはＲ₄とＲ₃が互に独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アル キレン架橋を形成しているもの；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素 原子とともに、前述のような構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、(ｄ)、(ｅ)、(ｆ)、（ｇ ）の基を形成しているもの、またはＰ₁、Ｐ₂もしくはＰ＜ｔ／４＞型のホスファ ゼン塩基である。ｋおよびｌは、互いに独立に、２〜１２の数であり、好ましく は２〜６の数である。 特に好ましい化合物は、式中、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立に、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ アルキルであるもの、またはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子ととも に、前述のような構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、（ｄ）もしくは（ｅ）の基を形成し ているものである。 Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は、好ましくは、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アント ラシルまたはフェナントリルであって、これらの基は、非置換であるか、あるい はＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もし くはハロゲンにより、モノまたはポリ置換されており、また、Ｒ₁₅はＣ₁〜Ｃ₁₈ アルキルまたはフェニルであって、非置換であるか、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキ ル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もしくはハロゲンによ り、モノまたはポリ置換されている。 式（Ｉ）の化合物中、窒素性塩基カチオンに適しているボラートアニオンは、 なかでも、US4772530、GB2307474、GB2307473、GB2307472、EP775706にも見出さ れる。具体例は、トリフェニルブチルボラート、トリフェニルヘキシルボラート 、トリフェニルメチルボラート、ジメシチルフェニルメチルボラートもしくはジ メシチルフェニルブチルボラート、ジ（ブロモメシチル）フェニルメチルボラー トもしくはジ（ブロモメシチル）フェニルブチルボラート、トリス（３−フルオ ロフェニル）ヘキシルボラート、トリス（３−フルオロフェニル）メチルボラー トもしくはトリス（３−フルオロフェニル）ブチルボラート、ジクロロメシチル フェニルメチルボラートもしくはジクロロメシチルフェニルブチルボラート、ト リス（ジクロロメシチル）メチルボラート、トリス（３−クロロフェニル）ヘキ シルボラート、トリス（３−クロロフェニル）メチルボラートもしくはトリス（ ３−クロロフェニル）ブチルボラート、トリス（３−ブロモフェニル）ヘキシル ボラート、トリス（３−ブロモフェニル）メチルボラートもしくはトリス（３− ブロモフェニル）ブチルボラート、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ヘキ シルボラート、ジメシチルビフェニルブチルボラート、ジメシチルナフチルメチ ルボラートもしくはジメシチルナフチルブチルボラート、ジ（ｏ−トリル）−９ −アントラシルメチルボラートもしくはジ（ｏ−トリル）−９−アントラシルブ チルボラート、ジメシチル−９−フェナントリルフェニルボラートもしくはジメ シチル−９−フェナントリルフェニルブチルボラート、または次に示す化合物で ある。 これらのアニオンの製法については、前述の刊行物に記載されている。 式（Ｉ）の新規な化合物の臭化物またはヨウ化物の製造は、たとえば、J．Am ．Chem．Soc.，93，6998(1971)にA．Padwa、W．Eisenhardt、R．GruberおよびD ．Pashayanによって記述されている方法、またはJ．Chem．Soc．(C)，3467(1971 )にT．LairdおよびH．Williamsによって記述されている方法によって実施される 。 ボラート類も、それから類似した方法で得られる。反応は、それ自体公知の方 法で実施することができる。また、溶媒または溶媒混合物の使用が有用であり、 たとえば、炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン)、ハロゲン化炭化水素類 (塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン)、アルカノール類 (メタノール、エタノール、２−メトキシエタノール)、およびエーテル類(ジエ チルエーテル、ジブチルエーテル、１，２−ジメトキシメタン)、またはそれら の混合物である。 反応は、−１０〜＋１００℃の温度範囲で良好に実施される。好ましくは、１ ０〜５０℃の範囲で実施される。 本発明は、さらに（Ｉ）の化合物の製造方法を提供する。この製造方法は、 第１段階として、式（II）: ＮＲ₂Ｒ₃Ｒ₄ （II） の窒素性塩基を、式（III）:のα−ハロゲンケトンと反応させて、式（IV）: の化合物とし、そして、第２段階で、式（IV）の化合物を、式（Ｖ）: の化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物にすることを含む。 式中、 ハロゲンはブロモまたはヨードであり、ＭはＮａ、Ｋまたはアンモニウムであ り、そしてＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は意味を有 し、そして前述の好ましい意味を有する。 本発明は、また、 Ａ）式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種、および Ｂ）塩基性触媒による付加反応または置換反応が可能な有機化合物の少なくと も１種、 を含む組成物に関する。 塩基性触媒による付加反応または置換反応は、低分子化合物(モノマー)、オリ ゴマー、ポリマー化合物、またはこれらの化合物の混合物で実施することができ る。この新規な光開始剤を用いて、モノマーおよびオリゴマー／ポリマーの両方 で実施できる反応の例は、Knoevenagal反応またはMichael付加反応である。 特に重要な組成物は、その中の成分Ｂ）がアニオン重合またはアニオン架橋を 起こしうる有機材料である組成物である。該有機材料は、モノまたはポリ官能性 のモノマー類、オリゴマー類またはポリマー類の形態のものが可能である。 特に好ましいオリゴマー／ポリマー系は、塗材工業において通例の、バインダ ー系またはコーティング系である。 このような塩基触媒反応性のバインダー系またはコーティング系の例は、以下 のものである。 ａ）アルコキシシランまたはアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリラート コポリマー類で、たとえば、US-A-4,772,672またはUS-A-4,444,974に記載のポリ マー； ｂ）水酸基を含有するポリアクリラート類、ポリエステル類および／またはポリ エーテル類、ならびに脂肪族または芳香族ポリイソシアナート類を含む２成分系 （two-component system）; ｃ）官能性ポリアクリラート類およびポリエポキシド類を含み、該ポリアクリラ ートが、カルボキシル基または酸無水物基を有する２成分系； ｄ）フッ素修飾もしくはシリコーン修飾されたヒドロキシル基を有するポリアク リラート類、ポリエステル類および／またはポリエーテル類、ならびに脂肪族ま たは芳香族ポリイソシアナート類を含む２成分系； ｅ）(ポリ)ケチミン類および脂肪族または芳香族ポリイソシアナート類を含む２ 成分系； ｆ）(ポリ)ケチミン類、ならびに不飽和アクリラート樹脂類、またはアセトアセ タート樹脂類もしくはα−アクリルアミドメチルグリコラートを含む２成分系； ｈ）(ポリ)オキサゾリジン類、ならびに酸無水物基を有するポリアクリラート類 、または不飽和アクリラート樹脂類もしくはポリイソシアナート類を含む２成分 系； ｉ）エポキシ含有ポリアクリラート類およびカルボキシル基含有ポリアクリラー ト類を含む２成分系； ｌ）アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー類； ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系； ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有し 、たとえばEP-B-0161679に（ポリ）マロナート類について記述されているように 、該活性化ＣＨ₂基が主鎖中もしくは側鎖中のいずれかまたは両方に存在しうる ポリマーを含む２成分系。活性化ＣＨ₂基を有する他の化合物は、（ポリ）アセ ト アセタート類および（ポリ）シアノアセタート類である。 これらの塩基触媒反応性のバインダーの中で、特に好ましいものは、以下のも のである。 ｂ）水酸基を含有するポリアクリラート類、ポリエステル類および／またはポリ エーテル類、ならびに脂肪族または芳香族ポリイソシアナート類を含む２成分系 ； ｃ）官能性ポリアクリラート類およびポリエポキシド類を含み、該ポリアクリラ ートがカルボキシル基または酸無水物基を有する２成分系； ｉ）エポキシ含有ポリアクリラート類およびカルボキシル基含有ポリアクリラー ト類を含む２成分系； ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系；ならびに ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有し 、たとえばEP-B-0161679に（ポリ）マロナート類について記述されているように 、該活性化ＣＨ₂基が主鎖中もしくは側鎖中のいずれかまたは両方に存在しうる ポリマーを含む２成分系。活性化ＣＨ₂基を有する他の化合物は、（ポリ）アセ トアセタート類および（ポリ）シアノアセタート類である。 α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物および（ポリ）マロナートを含む ２成分系、ならびにその製造法は、EP-B-0161687に記載されている。ここでは、 マロナート基は、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリラート、エポキシ樹 脂、ポリアミドまたはポリビニルポリマーの、主鎖もしくは側鎖のいずれにも結 合しうる。使用されているα，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物は、カル ボニル基によってどの二重結合も活性化されうる。例は、アクリル酸またはメタ クリル酸のエステル類またはアミド類である。エステル群では、付加的なヒドロ キシル基が存在することもできる。ジエステル類およびトリエステル類もまた可 能である。 代表的な例は、ヘキサンジオールジアクリラートまたはトリメチロールプロパ ントリアクリラートである。アクリル酸の代わりに、クロトン酸またはケイ皮酸 のような他の酸、およびそのエステルまたはアミドを使用することもできる。 塩基触媒下で、この系の成分は、室温で相互に反応して、多数の応用に好適な 架橋したコーティング系を形成する。その固有の良好な耐候性のため、たとえば 、屋外での用途に適しているうえ、必要であれば、ＵＶ吸収剤や他の光安定剤に よって、さらに安定化することもできる。 新規組成物中で、成分Ｂ）として好適な他の系は、エポキシ系である。エポキ シ樹脂は、成分Ｂ）としてエポキシ樹脂を含む新規な硬化可能な混合物を製造す るのに適しているが、それはエポキシ樹脂技術において確立されたものであるか らであり、このようなエポキシ樹脂の例としては、以下のものがある。すなわち ： Ｉ）ポリグリシジルおよびポリ（β−メチルグリシジル）エステル類であり、 これらは、分子中に少なくとも２個のカルボキシル基を有する化合物を、エピク ロロヒドリンまたはβ−メチルエピクロロヒドリンと反応させることによって得 られる。この反応は、塩基の存在下で注意深く実施される。分子中に少なくとも ２個のカルボキシル基を有する化合物として、脂肪族ポリカルボン酸類が使用で きる。このようなポリカルボン酸の例としては、シュウ酸、コハク酸、グルタル 酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸または２量化もしくは ３量化されたリノール酸である。しかしながらまた、テトラヒドロフタル酸、４ −メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸または４−メチルヘキサ ヒドロフタル酸のような、環状脂肪族ポリカルボン酸も使用できる。さらには、 フタル酸、イソフタル酸またはテレフタル酸のような、芳香族ポリカルボン酸も 使用できる。 II）ポリグリシジルまたはポリ（β−メチルグリシジル）エーテル類であり、 これらは、少なくとも２個の遊離のアルコール性ヒドロキシル基および／または フェノール性ヒドロキシル基を有する化合物を、アルカリ性条件下、または酸性 触媒の存在下で、続いてアルカリ処理を行うことにより、エピクロロヒドリンま たはβ−メチルエピクロロヒドリンと反応させることによって得られる。 この種のグリシジルエーテル類は、たとえば、エチレングリコール、ジエチレ ングリコールおよび高級ポリ（オキシエチレン）グリコール類、プロパン−１， ２−ジオールまたはポリ（オキシプロピレン）グリコール類、プロパン− １，３−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ポリ（オキシテトラメチレン） グリコール類、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオール、ヘ キサン−２，４，６−トリオール、グリセリン、１，１，１−トリメチロールプ ロパン、ペンタエリトリトール、ソルビトールのような非環式アルコール類から 、ならびにポリエピクロロヒドリン類から誘導される。それらはまた、たとえば 、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル ）メタンまたは２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンのよう な環状脂肪族アルコールからも誘導されるし、または、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒド ロキシエチル）アニリンもしくはｐ，ｐ’−ビス（２−ヒドロキシエチルアミノ ）ジフェニルメタンのような芳香族核を有するものからも誘導される。グリシジ ルエーテル類も、レゾルシノールもしくはヒドロキノンのような単環フェノール 類から誘導できるし、またはビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’ −ジヒドロキシビフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１ ，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４− ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロ キシフェニル）プロパンのような多環フェノールに基づいていたり、また、ホル ムアルデヒド、アセトアルデヒド、クロラールまたはフルフラールのようなアル デヒド類を、フェノールのようなフェノール類と、または、たとえば４−クロロ フェノール、２−メチルフェノール、または４−tert−ブチルフェノールのよう な、芳香族核が塩素原子またはＣ₁〜Ｃ₉アルキル基で置換されたフェノール類と 縮合させることにより、または上記に特定された種類のビスフェノール類と縮合 させることにより得られるノボラック類からも誘導される。 III）ポリ（Ｎ−グリシジル）化合物であり、これは、エピクロロヒドリンと 、アミノ窒素原子に結合している少なくとも２個の活性水素を含有するアミンと の反応生成物の脱塩化水素によって得ることができる。これらのアミン類は、た とえば、アニリン、ｎ−ブチルアミン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、ｍ −キシレンジアミンまたはビス（４−メチルアミノフェニル）メタンである。 このポリ（Ｎ−グリシジル）化合物はまた、トリグリシジルイソシアヌラート 、エチレン尿素または１，３−プロピレン尿素のような環状アルキレン尿素の Ｎ，Ｎ’−ジグリシジル誘導体、および５，５−ジメチルヒダントインのような 、ヒダントイン類のジグリシジル誘導体をも包含する。 IV）ポリ（Ｓ−グリシジル）化合物であり、たとえば、エタン−１，２−ジチ オールまたはビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテルのような、ジチオ ール類から誘導されるジ−Ｓ−グリシジル誘導体である。 Ｖ）脂環式エポキシ樹脂類であり、たとえば、ビス（２，３−エポキシシクロ ペンチル）エーテル、２，３−エポキシシクロペンチルグリシジルエーテル、１ ，２−ビス（２，３−エポキシシクロペンチルオキシ）エタンまたは３，４−エ ポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ ラートである。 しかしながらまた、１，２−エポキシド基が異なるヘテロ原子および／または 官能基に結合しているエポキシ樹脂類をも使用することができる。これらの化合 物は、たとえば、４−アミノフェノールのＮ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル誘導体、 サリチル酸のグリシジルエーテルグリシジルエステル、Ｎ−グリシジル−Ｎ’− （２−グリシジルオキシプロピル）−５，５−ジメチルヒダントインまたは２− グリシジルオキシ−１，３−ビス（５，５−ジメチル−１−グリシジルヒダント イン−３−イル）プロパンを包含する。 エポキシ樹脂の混合物も、同様に成分Ｂ）として使用可能である。したがって 、成分Ｂ）が１種類のエポキシ樹脂または異なるエポキシ樹脂の混合物であれば 、その組成物も本発明に適合する。 この組成物は、光開始剤、すなわち成分Ａ）を、好ましくは成分Ｂ）を基準に して０．０１〜１０重量％含む。 光開始剤である成分Ａ）に加えて、この光重合可能な混合物は、異なった添加 剤を含有してよい。添加剤の例は、早期重合を防止するための熱反応抑制剤、た とえば、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシフェノール、β−ナ フトール、または２，６−ジ（tert−ブチル）−ｐ−クレゾールのような立体障 害されたフェノール類である。暗所貯蔵寿命を向上させるためには、たとえば、 ナフテン酸銅、ステアリン酸銅またはオクタン酸銅のような銅化合物、トリフェ ニルホスフィン、トリブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリ フェニルまたは亜リン酸トリベンジルのようなリン化合物、塩化テトラメチルア ンモニウムまたは塩化トリメチルベンジルアンモニウムのような第四級アンモニ ウム化合物、Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導 体を使用することができる。重合中に大気中の酸素を排除するために、パラフィ ンまたは類似のワックス状物質を添加できるが、これはポリマーへの溶解性がな いために、重合が始まると表面に移行して透明な表面層を形成し、空気の進入を 阻止する。同様に、酸素不透過性の層を適用することもできる。少量添加できる 光安定剤は、たとえば、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフ ェニルベンゾフェノン、オキサルアミドまたはヒドロキシフェニル−ｓ−トリア ジン型のような、ＵＶ吸収材である。個々の化合物またはこれら化合物の混合物 は、立体障害されたアミン類（ＨＡＬＳ）の使用のあるなしにかかわらず、使用 することができる。 当該ＵＶ吸収材および光安定剤の具体例を、以下に示す。１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類 、たとえば、２− （２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−１，２−（３’，５’−ジ−te rt−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−te rt−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２［２’−ヒド ロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリ アゾール、２−（３’，５’−ジ−tert−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル） −５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−tert−ブチル−２’−ヒドロキ シ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−se c−ブチル−５’−tert−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ ール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリア ゾール、２−（３’，５’−ジ−tert−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ ンゾトリアゾール、２−［３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２ ’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾール；２−［３’−tert−ブチル−２ ’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］− ５−クロロベンゾトリアゾール、２−{３’−tert−ブチル−５’−［２−（２ −エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロ キシフェニル}−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−tert−ブチル− ２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５− クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−tert−ブチル−２’−ヒドロキシ−５ ’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［ ３’−tert−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニ ルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−{３’−tert−ブチル−５’− ［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフ ェニル}ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ=5’− メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−［３’−tert−ブチル−２’− ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベ ンゾトリアゾールの混合物；２，２’−メチレンービス[４−（１，１，３，３ −テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール]；２ −［３’−tert−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒ ドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールをポリエチレングリコール３０ ０でエステル交換した生成物；[Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ(ＣＨ₂)₃]₂、ここでＲ ＝３’−tert−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール− ２−イルフェニルであるもの。２．２−ヒドロキシベンゾフェノン類 、たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキ シ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジ ルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’ −ジメトキシ誘導体。３．置換および非置換の安息香酸エステル類 、たとえば、サリチル酸４−tert− ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾ イルレゾルシノール、ビス（４−tert−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベ ンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−tert−ブチルフェニル−３，５−ジ−te rt−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル−３，５−ジ−tert− ブチル−４−ヒドロキシベンゾアートオクタデシル−３，５−ジ−tert−ブチル −４−ヒドロキシベンゾアート、２−メチル−４，６−ジ−tert−ブチルフェニ ル−３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート。４．アクリラート類 、たとえば、エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアク リラート、イソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、メチ ル−α−カルボメトキシシンナマート、メチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ− メトキシシンナマート、ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナ マート、メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナマートおよびＮ−（ β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。５．立体障害されたアミン類 、たとえば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル −４−ピペリジル）セバカート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ ペリジル）スクシナート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ リジル）セバカート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ ル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロナ ート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒ ドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６− テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−tert−オクチル アミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、トリス（２， ２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセタート、テトラ キス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ タンテトラカルボキシラート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３ ，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６ −テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ チルピペリジン，ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２− ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ブチルベンジル）マロ ナート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ アザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２ ，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバカート、ビス（１−オクチルオキ シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシナート、Ｎ，Ｎ’−ビス （２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと ４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、２− クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチ ルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジ ンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ −４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピ ペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ ノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラ メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３− ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン −２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル− ４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。６．オキサミド類 、たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２， ２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ− tert−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−tert−ブ トキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３ −ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−tert−ブチル−２ ’−エトキサニリド、およびこれと２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ −tert−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ２置換オキサニリ ドの混合物、およびｏ−とｐ−エトキシ２置換オキサニリドの混合物。７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン類 、たとえば、 ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３ ，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４ ，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２ ，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシ フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２ −（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチ ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル オキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニ ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ） フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２ −［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキ シ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン 、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３，５−トリアジン。８．亜リン酸エステル類および亜ホスホン酸エステル類 、たとえば、亜リン酸ト リフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リ ン酸トリス（ノニルフェニル）、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデ シル、ジ亜リン酸ジステアリルペンタエリトリトール、亜リン酸トリス(２，４ −ジ−tert−ブチルフェニル)、ジ亜リン酸ジイソデシルペンタエリトリトール 、ジ亜リン酸ビス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリトリトール 、ジ亜リン酸ビス（２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエ リトリトール、ジ亜リン酸ジイソデシルオキシペンタエリトリトール、ジ亜リン 酸ビス（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトー ル、ジ亜リン酸ビス（２，４，６−トリ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリト リトール、トリ亜リン酸トリステアリルソルビトール、ジ亜ホスホン酸テトラキ ス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン、６−イソ オクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ ［ｄ，ｇ］＝１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１ ０−テトラ−tert−ブチル−１２−メチルジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジ オキサホスホシン、亜リン酸ビス（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェ ニル）メチル、亜リン酸ビス（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェニル ）エチル。 さらなる添加剤の具体例は： 充填材および補強材、たとえば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガ ラスビーズ、石綿、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物およ び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木粉および他の天然物の粉末または繊維 、合成繊維。 他の添加剤、たとえば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー改善剤、 触媒、流動性調節剤、光反射剤、難燃化剤、帯電防止剤および発泡剤。 上記の添加剤に加えて、追加的な共開始剤も存在できる。一般に、これらは、 たとえば、エネルギー移動または電子移動によって、総量子収率を改善する染料 類である。共開始剤として添加できる好適な染料の例は、トリアリールメタン類 で、たとえばマラカイトグリーン、インドリン類、チアジン類、たとえばメチレ ンブルー、キサントン類、チオキサントン類、オキサジン類、アクリジン類また はフェナジン類、たとえばサフラニン、式： で示されるローダミン類であり、式中、Ｒはアルキルまたはアリールであり、そ してＲ’は水素、アルキルまたはアリール基であり、たとえばローダミンＢ、ロ ーダミン６ＧまたはビオラミンＲ、さらにまたスルホローダミンＢまたはスルホ ローダミンＧである。 好ましくは、チオキサントン類、オキサジン、アクリジン類、フェナジン類お よびローダミン類である。同様に好適なのは、これに関連して、なかでもUS4772 530、GB2307474、GB2307473、GB2307472およびEP775706に記載されている染料と ボラート類との組合せである。 前述の塩基触媒による反応が可能な（硬化可能な）バインダーである成分Ｂ） に加えて、当該組成物は他のバインダーも含有できる。たとえば、さらなるオレ フィン性不飽和化合物を使用できる。その不飽和化合物は、１個以上のオレフィ ン性二重結合を含有してよい。それらは低分子量物（モノマー）でも、より高分 子量物（オリゴマー）でもよい。１個の二重結合を有するモノマーの例は、アル キルアクリラート類もしくはヒドロキシアルキルアクリラート類、またはアルキ ルメタクリラート類もしくはヒドロキシアルキルメタクリラート類であり、たと えば、メチル、エチル、ブチル、２−エチルヘキシルもしくは２−ヒドロキシエ チルアクリラート、イソボルニルアクリラート、メチルメタクリラートまたはエ チルメタクリラートである。シリコーンアクリラートも同様に興味がある。さら なる例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−置換（ メタ）アクリルアミド類、酢酸ビニルのようなビニルエステル類、イソブチルビ ニルエーテルのようなビニルエーテル類、スチレン、アルキル−およびハロスチ レン類、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデンである。 数個の二重結合を有するモノマーの例は、エチレングリコール、プロピレング リコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコールまたはビスフェ ノールＡのジアクリラート、４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ ）ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタエリ トリトールトリアクリラートもしくはペンタエリトリトールテトラアクリラート 、ビニルアクリラート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシナート、ジアリルフ タラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラートまたはトリス （２−アクリロイルエチル）イソシアヌラートである。 高分子量物（オリゴマー類）のポリ不飽和化合物の例は、アクリル化エポキシ 樹脂類、アクリル化ポリエステル類またはビニルエーテル基もしくはエポキシ基 を含有するポリエステル類、ポリウレタン類およびポリエーテル類である。不飽 和オリゴマー類のさらなる例は、ほとんどがマレイン酸、フタル酸および１種以 上のジオール類から製造され、分子量約５００〜３，０００を有する不飽和ポリ エステル樹脂類である。さらに、ビニルエーテルモノマー類またはオリゴマー類 、および同様に、主鎖がポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニ ルエーテルおよびエポキシで、マレイン酸が末端にあるオリゴマー類も使用する ことができる。特に、WO90/01512に記載されているビニルエーテル基を有するオ リゴマー類およびポリマー類の組合せがきわめて好適である。同様に好適なのは 、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化モノマーのコポリマー類である。この 種の不飽和オリゴマーは、プレポリマーと呼称することもできる。 特に好適な例は、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキ シドとのエステル類、およびエチレン性不飽和基を主鎖または側鎖中に有するポ リマー類で、たとえば不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポリウレタンなら びにそれらのコポリマー、アルキド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポ リマー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、側鎖に（メタ）アクリル 基を有するポリマーおよびコポリマー、ならびにこれらポリマー類の１種以上の 混合物である。 加えて、上記のようなラジカル反応で硬化するモノマー類、オリゴマー／ポリ マー類を使用する場合には、さらに、ラジカルに分解する光開始剤を添加するの が賢明である。このような光開始剤は公知で、工業的に生産されている。例は、 ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導 体、たとえばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン類、ジアルコキシア セトフェノン類、α−ヒドロキシーまたはα−アミノアセトフェノン類、４−ア ロイル−１，３−ジオキソラン類、ベンゾインアルキルエーテル類およびベンジ ルケタール類、モノアシルホスフィンオキシド類、ビスアシルホスフィンオキシ ド類、フェロセニウム化合物またはチタノセン類である。例は、EP-A-284561に 記載されている。この種のポリマー系、すなわち複数の異なる機構によって硬化 ／架橋が起こるものは、ハイブリッド系とも呼ばれている。 また、この新規な組成物に、非反応性のバインダーを添加することも可能であ り、これは光重合性化合物が液状または粘性の物質である場合、特に賢明なこと である。非反応性バインダーの添加量は、たとえば、総固形分を基準として５〜 ９５重量％、好ましくは１０〜９０重量％、特に好ましくは４０〜９０重量％で ある。非反応性バインダーの選択は、使用分野、この用途に要求される特性、た とえば水性現像および有機溶媒現像の可能性、基材への接着性、および酸素に対 する感受性などによって決められる。 好適なバインダーの例は、分子量およそ５，０００〜２，０００，０００、好 ましくは１０，０００〜１，０００，０００を有するポリマー類である。例は： アクリラートおよびメタクリラートのホモ−およびコポリマー、たとえば、メチ ルメタクリラート／エチルアクリラート／メタクリル酸のコポリマー、ポリ(ア ルキルメタクリラート)、ポリ(アルキルアクリラート)；セルロースアセタート 、 セルロースアセタートブチラート、メチルセルロース、エチルセルロースのよう なセルロースエステル類およびエーテル類；ポリビニルブチラール、ポリビニル ホルマール、環化ゴム、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ テトラヒドロフランのようなポリエーテル類；ポリスチレン、ポリカルボナート 、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／塩化ビ ニリデンのコポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタクリラ ートおよび酢酸ビニルとのコポリマー類、ポリ酢酸ビニル、コポリ(エチレン／ 酢酸ビニル)、ポリカプロラクタムおよびポリ（ヘキサメチレンアジパミド）の ようなポリマー；ならびにポリ（エチレングリコールテレフタラート）およびポ リ（ヘキサメチレングリコールスクシナート）のようなポリエステル類である。 本発明は、さらに、上記の新規組成物を２００〜６５０nmの波長を有する光に 暴露することを含む、塩基触媒反応を実施する方法を提供する。 ある場合には、露光中または露光後に加熱を実施することが有利であることが できる。このようにして、多くの場合、架橋反応を促進することが可能である。 この新規組成物の光に対する感度は、一般に約２００nmからＵＶ領域を経て、 赤外領域（約２０，０００nm、特に１，２００nm）へと広がっており、したがっ て、非常に広い範囲にわたっている。適切な光線は、たとえば、太陽光または人 工光源からの光を含む。したがって、多数のきわめて異なったタイプの光源が使 用できる。点光源および平面発光体（ランプカーペット）はともに適している。 例は、カーボンアークランプ、キセノンアークランプ、中圧、高圧および低圧水 銀灯で、望むならばハロゲン化金属でドーピングしたもの(メタルハロゲンラン プ)、マイクロ波励起メタルベーパーランプ、エキシマーランプ、超化学線蛍光 管、蛍光灯、白熱アルゴン灯、電子せん光ランプ、写真用フラッドランプ、電子 ビーム、およびシンクロトロンまたはレーザープラズマによって生じるＸ線であ る。本発明による、ランプと露光させる基材の間の距離は、用途ならびにランプ の種類および／または出力によって変わりうるが、たとえば、２〜１５０cmの間 である。また特に好適なのは、レーザー光源、たとえばエキシマーレーザーであ る。可視領域またはＩＲ領域のレーザーも使用できる。ここで非常に有利なのは 、この新規な材料が高感度であること、および一連のレーザーに対して共開始 剤としての染料が適応しやすいことである。この方法によって、電子工業におけ る印刷回路、リソグラフィーによるオフセット印刷版または凸版印刷版、および 写真画像記録材料も製造することができる。 この新規な組成物は、種々の目的、たとえば、印刷インキとして、透明コーテ ィング材として、たとえば木材や金属用の白色塗料として、なかでも紙、木材、 金属もしくはプラスチック用のコーティング材として、粉体塗料として、建築物 や道路の日光硬化型マーキング塗料として、写真複写プロセス用に、ホログラフ 記録材料用に、画像記録プロセス用に、または有機溶媒もしくは水性アルカリ媒 体を用いて現像できる印刷版製造用に、スクリーン印刷用マスクの製造用に、歯 科用の充填材として、感圧接着剤を包含する接着剤として、積層板用樹脂として 、エッチングレジストまたは永久レジストとしておよび電子回路用ソルダーマス クとして、マス硬化（透明型中でのＵＶ硬化）による、もしくは、たとえばＵＳ 特許No．4575330に記載のステレオリソグラフィープロセスによる三次元物品の 製造用に、複合材料（たとえばガラス繊維および／または他の繊維および他の助 剤を含有してもよいスチレン系ポリエステル）および他の肉厚組成物の製造用に 、電子部品のコーティングもしくは埋め込み用に、または光ファイバーのコーテ ィング用に使用することができる。 塗料のシステムにおいては、プレポリマーとポリ不飽和モノマーとの混合物、 さらにこれにモノ不飽和モノマーを含有させたものを使用するのが普通である。 ここでプレポリマーは、塗膜の性質に対して主たる責任を負っており、当業者は それを変えることで、塗膜の性質に影響を与えることができる。ポリ不飽和モノ マーは架橋剤として機能し、塗膜を不溶性にする。モノ不飽和モノマーは反応性 希釈剤として機能し、これにより、溶媒を使用する必要なしに粘度が下げられる 。 不飽和ポリエステル樹脂は、多くの場合、モノ不飽和モノマー、好ましくはス チレンを組み合わせた２成分系に用いられる。光レジスト用には、特定の１成分 系（one-component system）がしばしば用いられ、たとえば、DE-A-2308830に記 載されているポリマレインイミド、ポリカルコンまたはポリイミドである。 この新規な光硬化性組成物は、たとえば、あらゆる種類の基材、例として木材 、織物、紙、セラミックス、ガラス；ポリエステル、ポリエチレンテレフタラー ト、 ポリオレフィンまたは酢酸セルロースのようなプラスチック類で、特にフィルム 形状のもの；および同様にＡｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、ＭｇまたはＣｏのよ うな金属；およびＧａＡｓ、ＳｉまたはＳｉＯ₂のコーティング材として、その 基材上に保護皮膜あるいは像様露光によって画像を適用することを意図する場合 に好適である。 基材は、液状組成物、溶液または懸濁液を適用することによって塗布すること ができる。溶媒および濃度の選択は、主に組成物のタイプおよび塗布方法に依存 する。溶媒は、不活性であるべきである。換言すると、溶媒は成分とはいかなる 化学反応も起こしてはならず、また塗布操作の後、乾燥工程で元どおり除去でき なければならない。適切な溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソブチルメチル ケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルピロリドン、ジオキ サン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール 、１−メトキシ−２−プロパノール、１，２−ジメトキシエタン、酢酸エチル、 酢酸−ｎ−ブチルおよびエチル−３−エトキシプロピオナートのような、ケトン 類、エーテル類およびエステル類である。 公知の塗布方法を用い、溶液は、たとえばスピンコーティング、ディップコー ティング、ナイフコーティング、カーテンコーティング、刷毛塗り、スプレー塗 りによって、特に静電スプレー塗装およびリバースロールコーティングによって 、および電気泳動塗装によって、基材に均一に塗工される。また、感光層を一時 性の柔軟な支持材に塗工し、ついで、重ね合わせて層を移行させる手段によって 、最終基材、たとえば銅張り回路板にコーティングすることも可能である。 塗工される量（層の厚さ）および基材（層の支持材）の性質は、所望する応用 分野に依存する。層の厚さの範囲は、一般には約０．１μmから１００μmを越え る値を含む。 新規な放射線性組成物は、像様露光を適用することもできる。この場合は、ネ ガ型レジストとして使用される。これらは電子工学用（ガルバノレジスト、エッ チングレジストおよびソルダーレジスト）に、オフセット印刷版、フレキソ印刷 および凸版印刷の版またはスクリーン印刷版のような印刷版の製造用に、またマ ーキングスタンプの製造用に適しており、そして成形物品のエッチング用に、 または集積回路製造におけるマイクロレジストとして使用することができる。こ れに対応して、使用できる層支持材および塗布される基材の処理条件は、広範囲 の変化する。 用語「像様」露光は、既設定のパターンを有するホトマスク、たとえばスライ ドを通しての露光、レーザービームをコンピューター制御によって、たとえばコ ーティングされた基材の表面上を移動させて画像を形成させる露光、およびコン ピューター制御された電子ビームで照射する露光の両方に関する。 材料の像様露光の後、現像の前に、短時間の熱処理を実施して、露光された部 分のみを熱硬化することが有利である。使用する温度は、一般に５０〜１５０℃ 、そして好ましくは８０〜１３０℃であり、熱処理時間は、一般に０．２５〜１ ０分の間である。 光硬化を使用するさらなる分野は、金属コーティング、たとえば金属のパネル およびチューブ、缶または瓶のキャップの表面コーティングの分野、およびたと えばＰＶＣ製の床または壁被覆材のポリマーコーティングの光硬化の分野である 。紙コーティングの光硬化の例は、ラベル、レコードジャケットまたは書籍カバ ーの透明ワニスがけである。 本発明は、さらに、式（Ｉ）: の化合物の、光化学的に誘起される塩基触媒付加反応または置換反応のための、 特に、複合材組成物から作製される成形物品の硬化のための光開始剤としての使 用に関する。式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅および ｍは、前述の意味と好ましい意味とを有する。 本発明のもう一つの主題は、コーティング膜、成形物品または光形成層の製造 のための、前述の用途である。 複合材料は、通常、自己支持性マトリックス材、たとえばガラス繊維織物、ま たは、たとえば光硬化組成物で含浸した植物繊維［K.-P．Mieck，T．Reussmann; Kunststoffe 85(1995)，366-370参照］からなる。該新規化合物を用いて製造さ れた複合材料から作製された成形物品は、機械的安定性および抵抗性の高い水準 を達成している。該新規化合物は、また、EP-A-7086に記載されているような成 形、含浸およびコーティング組成物中の、光硬化剤としても使用できる。該組成 物は、たとえば、硬化活性および耐黄変性について厳しい要求がなされるゲルコ ートレジン、および平面状または長さ方向もしくは幅方向に沿って波模様のある 光拡散パネルのような繊維強化成形物品である。 塩基触媒付加反応または置換反応の例、および好ましい条件については、前に 述べた。 もう一つの態様では、本発明は、少なくとも１個の表面が上記の組成物で被覆 されている被覆基材に関し、そして被覆基材が像様露光を受け、ついで非露光部 が溶媒で除去される、写真手法による凸版画像の製造方法に関する。これに関連 して特に興味があるのは、レーザービームを手段とする前述の露光である。 本発明はまた、コーティング材、成形組成物または光形成層のための、新規化 合物の用途に関する。 もう一つの態様では、本発明は、重合し、または架橋した新規な組成物に関す る。 以下の実施例は、本発明をさらに詳細に説明している。記述の残余および請求 範囲にあるように、部数および百分率は、他の記載がない限り重量による。アル キルまたはアルコキシ基で、３個を越える炭素原子を有し、異性体の形に言及の ない場合は、それぞれのｎ−異性体を意味する。実施例中で、以下の省略形を使 用する： 「Ｐｈ」はフェニル、「Ｍｅ」はメチル、「Ｅｔ」はエチル、「Ｈｅｘ」はヘ キシル、「Ａｒ」はアリール、「ＤＭＳＯ」はジメチルスルスルホキシド「Ｕ． Ｖ.」は紫外スペクトル、「Ｉ．Ｒ.」は赤外スペクトル、「¹Ｈ ＮＭＲ」は水素 核磁気共鳴スペクトル(シフト値はppm)、「¹³Ｃ ＮＭＲ」は炭素核磁気共鳴スペ クトル(シフト値はppm)。 実施例Ａ：臭化物およびヨウ化物の調製一般的調製法 窒素性塩基の１当量を、室温で撹拌しながらジエチルエーテル中に加えた。相 当するα−ブロモケトンのトルエン溶液の１当量を加え、反応混合物を１時間撹 拌した。沈殿した臭化物をろ別し、ジエチルエーテルで洗浄し、減圧下で溶媒を 除去して、生成物を８０〜９０％の収率で得た。 実施例中、吸光係数εは、単位L/mol・cmで表すモル吸光係数を意味する。実施例Ａ１ Ｃ₁₄Ｈ₂₂ＮＯＢｒの分析:計算値:Ｃ 56.01;Ｈ 7.39;Ｎ 4.67;Ｂｒ 26.61．実測 値:Ｃ 56.02;Ｈ 7.34;Ｎ 4.45;Ｂｒ 26.82 実施例Ａ２ 実施例Ａ３ 実施例Ａ４ 実施例Ａ５ 実施例Ａ６ Ｃ₁₅Ｈ₂₁Ｎ₂ＯＢｒの分析:計算値 Ｃ 55.39;Ｈ 6.51;Ｎ 8.61;Ｂｒ 24.57; 実測値:Ｃ 55.11;Ｈ 6.59;Ｎ 8.70;Ｂｒ 24.65 実施例Ａ７ 実施例Ａ８ 実施例Ａ９ 実施例Ａ１０ 実施例Ａ１１ 実施例Ａ１２ 実施例Ａ１３ 実施例Ａ１４ α−ヨードケトンは、商業的に入手可能なα−ブロモケトンから、Finkelstei n反応によって調製した。ヨウ化物は、上記の臭化物と同様にして調製した。実施例Ａ１５ Ｃ₁₁Ｈ₁₆ＮＯＩの分析:計算値 Ｃ 43.30;Ｈ 5.29;Ｎ 4.59:Ｉ 41.59．実測値:Ｃ 43.32;Ｈ 5.22;Ｎ 4.59;Ｉ 41.82 実施例Ａ１６ 実施例Ａ１７ 実施例Ａ１８ 実施例Ａ１９ 実施例Ａ２０ 実施例Ａ２１ Ｃ₂₂Ｈ₂₆Ｎ₂Ｏ₂Ｉ₂の分析:計算値 Ｃ 43.73;Ｈ 4.34;Ｎ 4.64;Ｉ 42.00．実測値 :Ｃ 43.29;Ｈ 4.24;Ｎ 4.29;Ｉ 41.82 実施例Ａ２２ 実施例Ａ２３ Ｃ₁₅Ｈ₁₇Ｎ₂ＯＩの分析:計算値 Ｃ 48.93;Ｈ 4.65;Ｎ 7.61;Ｉ 34.46．実測値: Ｃ 48.89;Ｈ 4.60;Ｎ 7.34;Ｉ 34.48 実施例Ａ２４ Ｃ₂₀Ｈ₄₂Ｎ₇ＯＰ₂Ｉの分析:計算値 Ｃ 41.03;Ｈ 7.23;Ｎ 16.75;Ｉ 21.68． 実測値:Ｃ 40.62;Ｈ 7.49;Ｎ 17.10;Ｉ 21.56実施例Ａ２５ 実施例Ａ２６ 実施例Ａ２７ 実施例Ａ２８ 実施例Ｂ：ボラート塩の調製テトラフェニルボラート塩の一般的調製法 臭化物の１当量を、室温で水の中に撹拌しながら加え、そしてナトリウムテト ラフェニルボラートの水溶液の１当量を加えた。沈殿したテトラフェニルボラー ト塩をろ過で分離し、水洗し、減圧下で乾燥して、生成物を９５％の収率で得た 。実施例Ｂ１ Ｃ₃₈Ｈ₄₂ＮＯＢの分析:計算値:Ｃ 84.59;Ｈ 7.85;Ｎ 2.60;実測値:Ｃ 84.31;Ｈ 8.18;Ｎ 2.16 実施例Ｂ２ Ｃ₃₉Ｈ₄₄ＮＯ₂Ｂの分析:計算値:Ｃ 82.24;Ｈ 7.79;Ｎ 2.46;実測値:Ｃ 82.05;Ｈ 8.21;Ｎ 2.24 実施例Ｂ３ Ｃ₄₄Ｈ₄₆ＮＯＢの分析:計算値:Ｃ 85.84;Ｈ 7.53;Ｎ 2.28;実測値:Ｃ 85.86;Ｈ 7.55;Ｎ 2.04 実施例Ｂ４ Ｃ₃₅Ｈ₃₆ＮＯＢの分析:計算値:Ｃ 84.50;Ｈ 7.29;Ｎ 2.82;実測値:Ｃ 84.52;Ｈ 7.29;Ｎ 2.64 実施例Ｂ５ Ｃ₃₈Ｈ₃₉Ｎ₂ＯＢの分析:計算値:Ｃ 82.90;Ｈ 7.14;Ｎ 5.09;実測値:Ｃ 82.78;Ｈ 7.12;Ｎ 4.79 実施例Ｂ６ Ｃ₇₀Ｈ₆₆Ｎ₂Ｏ₂Ｂ₂の分析:計算値:Ｃ 85.02;Ｈ 6.73;Ｎ 2.83;実測値:Ｃ 84.97; Ｈ 6.60;Ｎ 2.87 実施例Ｂ７ Ｃ₃₉Ｈ₄₁Ｎ₂ＯＢの分析:計算値:Ｃ 82.97;Ｈ 7.32;Ｎ 4.96;実測値:Ｃ 82.67;Ｈ 7.11;Ｎ 4.92 実施例Ｂ８ 実施例Ｂ９ 実施例Ｂ１０ Ｃ₃₉Ｈ₃₉Ｎ₂ＯＢの分析:計算値:Ｃ 83.27;Ｈ 6.99;Ｎ 4.98;実測値:Ｃ 82.90;Ｈ 7.20;Ｎ 4.97 実施例Ｂ１１ Ｃ₄₀Ｈ₄₃Ｎ₂Ｏ₂Ｂの分析:計算値:Ｃ 80.80;Ｈ 7.29;Ｎ，4.71;実測値:Ｃ 81.01; Ｈ 7.29;Ｎ 4.62 実施例Ｂ１２ 実施例Ｂ１３ Ｃ₄₅Ｈ₄₃Ｎ₂ＯＢの分析:計算値:Ｃ 84.63;Ｈ 6.79;Ｎ 4.39;実測値:Ｃ 84.50;Ｈ 6.84;Ｎ 4.35 実施例Ｂ１４ Ｃ₄₃Ｈ₄₁Ｎ₂ＯＢの分析:計算値:Ｃ 84.31;Ｈ 6.75;Ｎ 4.57;実測値:Ｃ 84.20;Ｈ 6.82;Ｎ 4.50 実施例Ｂ１５ 実施例Ｂ１６ テトラ（４−フルオロフェニル）ボラート塩の調製 臭化物の１当量を、室温で水の中に撹拌しながら加え、そしてナトリウムテト ラ（４−フルオロフェニル）ボラート二水和物の水溶液１当量を加えた。沈殿し たテトラ（４−フルオロフェニル）ボラート塩をろ過で分離し、水洗し、減圧下 で乾燥して、生成物を定量的収率で得た。実施例Ｂ１７ 実施例Ｂ１８ Ｃ₃₉Ｈ₃₅Ｎ₂ＯＢＦ₄の分析:計算値:Ｃ 73.82;Ｈ 5.56;Ｎ 4.41;実測値:Ｃ 73.62 ;Ｈ 5.55;Ｎ 4.63 テトラ（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）ボラート塩の調製 臭化物の１当量を、室温で水の中に撹拌しながら加え、そしてテトラエチルア ンモニウムテトラ（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）ボラートの メタノール／水（３／１）溶液１当量を加えた。沈殿したテトラ（２，３，４， ５，６−ペンタフルオロフェニル）ボラート塩をろ過で分離し、水洗し、減圧下 で乾燥して、生成物を７５％の収率で得た。実施例Ｂ１９ トリ（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラート塩の調製 臭化物の１当量を、室温で水の中に撹拌しながら加え、そしてテトラエチルア ンモニウムトリ（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラートのメタノール溶液 １当量を加えた。沈殿したトリ（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラート塩を ろ過で分離し、水洗し、減圧下で乾燥して、生成物を７５％の収率で得た。実施例Ｂ２０ 実施例Ｂ２１ 実施例Ｂ２２ 実施例Ｂ２３ 実施例Ｂ２４ 実施例Ｂ２５ 実施例Ｂ２６ 実施例Ｂ２７ テトラ（３−メチルフェニル）ボラート塩の調製 臭化物の１当量を、室温でジメチルホルムアミド中に撹拌しながら加え、そし てセシウムテトラキス（３−メチルフェニル）ボラートのジメチルホルムアミド 溶液１当量を加えた。沈殿したテトラキス（３−メチルフェニル）ボラート塩を ろ過で分離し、数回水洗し、減圧下で乾燥した。実施例Ｂ２８ 実施例Ｂ２９ 実施例Ｂ３０ 応用実施例Ｃジメチルマロナートおよびｎ−ブチルアクリラートを用いたＵＶ開始Michael付 加反応 潜在性塩基（７．４×１０^-5モル）および２，２，６，６−テトラメチル−１ −ピペリジニルオキシル（７．４×１０^-5モル）を、ジメチルマロナートとｎ− ブチルアクリラートの１：１混合物（２００mg、７．４×１０^-4モル）中に溶解 した。この混合物を、シリカフラスコ中で、高圧水銀灯（２００W）を用い、３ ０cmの距離から照射した。一定時間経過後、反応を測定した。実施例Ｃ１ 実施例Ｂ１３の化合物を用いた。光に２時間露光した後、５５％の反応が見ら れ、６時間後には１００％反応した。実施例Ｃ２ 実施例Ｂ３０の化合物を用いた。可視光に露光することで、架橋が達成された 。 用途実施例Ｄオリゴマー／ポリマー化合物の塩基触媒反応 実施例Ｄ１ ・イソホロンジイソシアナートおよび４−ヒドロキシブチルアクリラートに基づ くウレタンアクリラートの製造 反応は窒素下で実施し、用いるすべての商業的に入手可能な化学品は、追加の 精製なしに使用した。 イソホロンジイソシアナート１，５６６．８ｇ(ＮＣＯが１３．７８モル)、ジ ブチルスズジラウラート２．３ｇ、２，５−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾール ２．３ｇおよび酢酸ブチル８０２．８ｇを、コンデンサーおよび滴下漏斗を備え た三つ口フラスコに入れた。乾燥窒素を反応混合物中に泡状で通気し、温度をゆ っくり６０℃まで上げた。ついで４−ヒドロキシブチルアクリラート１９８７ｇ （１３．７８モル）を加え、反応溶液を徐々に８０℃まで加熱した。温度を８０ ℃に保持し、滴下漏斗を酢酸ブチル（８６．６ｇ）ですすいだ。反応をイソシア ナート残量の滴定によって監視し、イソシアナート含有量が固形分基 準で０．２％以下になったときに終了した。得られた反応生成物は、以下の性質 を有していた： 色調≪ガードナー１、 粘度：４３cPa・s(２０℃)、 固形分：７９．３％(１４０℃、１ｈ)、 ＧＰＣデータ(ポリスチレン基準)：Ｍ_n７７８、Ｍ_w７９６、ｄ＝１．０２。 ・マロナートポリエステルの製造 反応は窒素下で実施し、用いるすべての商業的に入手可能な化学品は、追加の 精製なしに使用した。 撹拌機およびコンデンサーを備えた反応容器中で、１，５−ペンタンジオール １，０４５ｇ、ジエチルマロナート１，３７７．４ｇおよびキシレン２４２．１ ｇを、注意深く還流させた。反応混合物の最高温度は１９６℃で、一方コンデン サー頂部は７９℃に保持した。このようにして、エタノール８６２ｇを蒸留分離 したが、これは９７．７％の反応に相当する。ついで、キシレンを減圧下、２０ ０℃の温度で留去した。このようにして得たポリマーは、固形分含有量９８．６ ％、粘度２，７１０mPa・s、そして酸価が固形分基準で０．３mgKOH/gであった。 Ｍ_n１，８３８、Ｍ_w３，１８６、色調はＡＰＨＡスケール（American Public He alth Association;“Hazen colour unit”の方法；ISO 6271）で１７５であった 。ＵＶ照射による硬化 実施例Ｂ２８の光開始剤６．４×１０^-5モルを、上記のウレタンアクリラート とマロナートポリエステルの１：１混合物に溶解した(全量で４００mg)。この混 合物を、ガラス板上に流延して厚さ５０μmのフィルムにし、高圧水銀灯（２０ ０W）を用いて、３０cmの距離から照射した。フィルムは、３０分後に非粘着状 態になった。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１１年４月１４日（１９９９．４．１４） 【補正内容】 請求の範囲 １．下記式（Ｉ）: で示される化合物。 式中、 ｍは、１または２であって、カチオンの正電荷数に相当し； Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、５ ，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロ− １−ナフチル、チエニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、ナフト［２，３−ｂ］チエニ ル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチ ル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、 ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、 インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニ ル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジ ニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、 ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチ アジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニリル、スチルベニル、フル オレニルまたはフェノキサジニルであって、これらの基は、非置換であるか、ま たはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ） Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換されているか 、あるいは、Ｒ₁は、化学式（Ａ）または（Ｂ）:の基であり； 式中、 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニルもしくはフェニルであり；またはＲ₂ とＲ₃および／もしくはＲ₄とＲ₃が、互いに独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン架橋を形 成しているか；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、Ｐ₁ 、Ｐ₂、Ｐ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基を、または、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ )、(ｄ)、(ｅ)、（ｆ）もしくは（ｇ）: の基を形成しており； 式中、 ｋおよびｌは、それぞれ互いに独立に、２〜１２の数であり； Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、水素またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであり ；あるいは Ｒ₅およびＲ₁は、結合している炭素原子とともに、ベンゾシクロペンタノン 基を形成しており； Ｒ₁₁は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンであり；そして ｎは、０または１、２または３であり； Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、これ らの基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、 Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、Ｓ Ｒ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換 されており； Ｒ₁₅は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、 該フェニル基または芳香族炭化水素基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈ア ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル 、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハ ロゲンによってモノまたはポリ置換されており、あるいは Ｒ₁₅は、式： に示す基であり；そして 式中、 Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−もしくはＮＲ₈によって中断され ているＣ₂〜Ｃ₂₀アルキレンであるか、またはＸは式： に示すものであって、 Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅が同時にフェニルである場合には、 （ａ）Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が同時にはメチルでないこと；および （ｂ）Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄はともに式： に示す基でないこと； の条件に合致する化合物。 ２．Ｒ₁が、フェニル、ナフチル、ピレニル、チオキサンチルまたはフェノチア ジニルであって、これらの基が、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＲ₆Ｒ₇、ＣＮ、ＮＯ₂、ＳＲ₈もしくはＯＲ₈によって モノまたはポリ置換されている、請求項１に記載の化合物。 ３．Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであるか、あるいは Ｒ₂とＲ₃および／またはＲ₄とＲ₃が、互いに独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン架橋を 形成しており；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、構 造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、(ｄ)、(ｅ)、(ｆ)、(ｇ)、（ｈ）の基、またはＰ₁、Ｐ₂ もしくはＰ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基を形成している、請求項１に記載の 化合物。 ４．Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであるか、あるいは Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、( ｄ)または（ｅ）の基を形成している、請求項１に記載の化合物。 ５．Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄が、フェニル、ビフェニリル、ナフチル、アントラシ ルまたはフェナントリルであって、これらの基が非置換であるか、あるいはＣ₁ 〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もしくは ハロゲンによりモノまたはポリ置換されており、そして Ｒ₁₅が、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルまたはフェニルであって、非置換であるか、ある いはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈も しくはハロゲンによりモノまたはポリ置換されている、請求項１に記載の化合 物。 ６．化学式Ｉの化合物を製造する方法であって、第１段階として、式（II）: ＮＲ₂Ｒ₃Ｒ₄ （II） の窒素性塩基を、式（III）: のα−ハロゲンケトンと反応させて、式（IV）: の化合物とし、そして、第２段階で、式（IV）の化合物を、式（Ｖ）: の化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物にすることを含み、 式中、 ハロゲンはブロモまたはヨードであり、ＭはＮａ、Ｋまたはアンモニウムであ り、そしてＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は、請求項 １に記載の意味と好ましい意味とを有する方法。 ７．組成物であって、 Ａ）式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種、および Ｂ）塩基触媒による付加反応または置換反応が可能な有機化合物の少なくとも１ 種 を含む組成物。 ８．成分Ｂ）が、アニオン重合可能または架橋可能である、請求項７に記載の組 成物。 ９．成分Ｂ）が、下記の系のうちの１種である、請求項７に記載の組成物： ａ）アルコキシシランまたはアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリラート コポリマー、 ｂ）水酸基を含有するポリアクリラートおよび／またはポリエステル、ならびに 脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドを含み、該ポリアクリラート がカルボキシルまたは酸無水物基を有する２成分系、 ｄ）フッ素修飾もしくはシリコーン修飾されたヒドロキシル基を有するポリアク リラートまたはポリエステル、および脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを 含む２成分系、 ｅ）(ポリ)ケチミンおよび脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分 系、 ｆ）(ポリ)ケチミン、および不飽和アクリラート樹脂またはアセトアセタート樹 脂もしくはメチルα−アクリルアミドメチルグリコラートを含む２成分系、 ｈ）(ポリ)オキサゾリジン、および酸無水物基を有するポリアクリラート、また は不飽和アクリラート樹脂もしくはポリイソシアナートを含む２成分系、 ｉ）エポキシ含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクラートを 含む２成分系、 ｌ）アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー、 ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有す る化合物を含む２成分系。 １０．成分Ｂ）が、下記の系のうちの１種である、請求項７に記載の組成物： ｂ）水酸基を含有するポリアクリラート、および／またはポリエステル、ならび に脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドを含み、該ポリアクリラート がカルボキシルまたは酸無水物基を有する２成分系、 ｉ）エポキシ含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクラートを 含む２成分系、 ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有す る化合物を含む２成分系。 １１．成分Ｂ）が、１種のエポキシ樹脂または異なるエポキシ樹脂の混合物であ る、請求項７に記載の組成物。 １２．成分Ａ）が、成分Ｂ）を基準にして、０．０１〜１０重量％の量で存在す る、請求項７に記載の組成物。 １３．チオキサントン類、オキサジン類、アクリジン類、フェナジン類およびロ ーダミン類からなる群より選ばれた増感剤を追加的に含む、請求項７に記載の組 成物。 １４．請求項７に記載の組成物を、波長２００〜６５０ｎｍの光に露光すること を含む、塩基触媒反応を実施する方法。 １５．露光の前または後に組成物を加熱することを含む、請求項１４に記載の方 法。 １６．光化学的に誘起される塩基触媒付加反応または置換反応のための光開始剤 としての、請求項１に記載の有機化合物の使用。 １７．コーティング材、成形用組成物または光形成層材料を製造するための、請 求項１に記載の有機化合物の使用。 １８．請求項７に記載の組成物を用いて、少なくとも１個の表面を被覆された被 塗装基材。 １９．請求項７に記載の、重合または架橋した組成物。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｚ 201/00 201/00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，Ｍ Ｗ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ， ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，Ｅ Ｓ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ，ＩＤ ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，Ｙ Ｕ，ＺＷ (72)発明者 カニングハム，アラン フランシス アメリカ合衆国 ニューヨーク 10589 サマーズ レイク ドライブ 19

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．下記式（Ｉ）: で示される化合物。 式中、 ｍは、１または２であって、カチオンの正電荷数に相当し； Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、５ ，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロ− １−ナフチル、チエニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、ナフト［２，３−ｂ］チエニ ル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチ ル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、 ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、 インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニ ル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジ ニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、 ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチ アジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオ レニルまたはフェノキサジニルであって、これらの基は、非置換であるか、また はＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉ 、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換されているか、 あるいは、Ｒ₁は、化学式（Ａ）または（Ｂ）:の基であり； 式中、 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃ 〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニルもしくはフェニルであり；またはＲ₂ とＲ₃および／もしくはＲ₄とＲ₃が、互いに独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン架橋を形 成しているか；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、Ｐ₁ 、Ｐ₂、Ｐ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基を、または、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ )、(ｄ)、(ｅ)、（ｆ）もしくは（ｇ）: の基を形成しており； 式中、 ｋおよびｌは、それぞれ互いに独立に、２〜１２の数であり； Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、水素またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであり ；あるいは Ｒ₅およびＲ₁は、結合している炭素原子とともに、ベンゾシクロペンタノン基 を形成しており； Ｒ₁₁は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、 Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンであり；そして ｎは、０または１、２または３であり； Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、これ らの基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、 Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、Ｓ Ｒ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハロゲンによりモノまたはポリ置換 されており； Ｒ₁₅は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、 該フェニル基または芳香族炭化水素基は、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈ア ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル 、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀もしくはハ ロゲンによってモノまたはポリ置換されており、あるいは Ｒ₁₅は、式： に示す基であり；そして 式中、 Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−もしくはＮＲ₈によって中断され ているＣ₂〜Ｃ₂₀アルキレンであるか、またはＸは式： に示すものであって、 Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅が同時にフェニルである場合には、 （ａ）Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が同時にはメチルでないこと；および （ｂ）Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄はともに式： に示す基でないこと； の条件に合致する化合物。 ２．Ｒ₁が、フェニル、ナフチル、ピレニル、チオキサンチルまたはフェノチア ジニルであって、これらの基が、非置換であるか、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＲ₆Ｒ₇、ＣＮ、ＮＯ₂、ＳＲ₈もしくはＯＲ₈によって モノまたはポリ置換されている、請求項１に記載の化合物。 ３．Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルであるか、あ るいはＲ₂とＲ₃および／またはＲ₄とＲ₃が、互いに独立にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン 架橋を形成しており；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子ととも に、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、(ｄ)、(ｅ)、(ｆ)、(ｇ)、（ｈ）の基、またはＰ₁ 、Ｐ₂もしくはＰ＜ｔ／４＞型のホスファゼン塩基を形成している、請求項１に 記載の化合物。 ４．Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルであるか、あるいは Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、結合している窒素原子とともに、構造式(ａ)、(ｂ)、(ｃ)、 （ｄ）または（ｅ）の基を形成している、請求項１に記載の化合物。 ５．Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄が、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラシル またはフェナントリルであって、これらの基が非置換であるか、あるいはＣ₁〜 Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もしくはハ ロゲンによりモノまたはポリ置換されており、そして Ｒ₁₅が、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルまたはフェニルであって、非置換であるか、ある いはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈も しくはハロゲンによりモノまたはポリ置換されている、請求項１に記載の化合物 。 ６．化学式Ｉの化合物を製造する方法であって、第１段階として、式（II）: ＮＲ₂Ｒ₃Ｒ₄ （II） の窒素性塩基を、式（III）: のα−ハロゲンケトンと反応させて、式（IV）: の化合物とし、そして、第２段階で、式（IV）の化合物を、式（Ｖ）: の化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物にすることを含み、 式中、 ハロゲンはブロモまたはヨードであり、ＭはＮａ、Ｋまたはアンモニウムであ り、そしてＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は、請求項 １に記載の意味と好ましい意味とを有する方法。 ７．組成物であって、 Ａ）式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種、および Ｂ）塩基触媒による付加反応または置換反応が可能な有機化合物の少なくとも１ 種 を含む組成物。 ８．成分Ｂ）が、アニオン重合可能または架橋可能である、請求項７に記載の組 成物。 ９．成分Ｂ）が、下記の系のうちの１種である、請求項７に記載の組成物： ａ）アルコキシシランまたはアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリラート コポリマー、 ｂ）水酸基を含有するポリアクリラートおよび／またはポリエステル、ならびに 脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドを含み、該ポリアクリラート がカルボキシルまたは酸無水物基を有する２成分系、 ｄ）フッ素修飾もしくはシリコーン修飾されたヒドロキシル基を有するポリアク リラートまたはポリエステル、および脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを 含む２成分系、 ｅ）(ポリ)ケチミンおよび脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分 系、 ｆ）(ポリ)ケチミン、および不飽和アクリラート樹脂またはアセトアセタート樹 脂もしくはメチルα−アクリルアミドメチルグリコラートを含む２成分系、 ｈ）(ポリ)オキサゾリジン、および酸無水物基を有するポリアクリラート、また は不飽和アクリラート樹脂もしくはポリイソシアナートを含む２成分系、 ｉ）エポキシ含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクラートを 含む２成分系、 ｌ）アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー、 ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有す る化合物を含む２成分系。 １０．成分Ｂ）が、下記の系のうちの１種である、請求項７に記載の組成物： ｂ）水酸基を含有するポリアクリラート、および／またはポリエステル、ならび に脂肪族または芳香族ポリイソシアナートを含む２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドを含み、該ポリアクリラート がカルボキシルまたは酸無水物基を有する２成分系、 ｉ）エポキシ含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクラートを 含む２成分系、 ｍ）(ポリ)アルコールおよび（ポリ）イソシアナートを含む２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性化ＣＨ₂基を有す る化合物を含む２成分系。 １１．成分Ｂ）が、１種のエポキシ樹脂または異なるエポキシ樹脂の混合物であ る、請求項７に記載の組成物。 １２．成分Ａ）が、成分Ｂ）を基準にして、０．０１〜１０重量％の量で存在す る、請求項７に記載の組成物。 １３．チオキサントン類、オキサジン類、アクリジン類、フェナジン類およびロ ーダミン類からなる群より選ばれた増感剤を追加的に含む、請求項７に記載の組 成物。 １４．請求項７に記載の組成物を、波長２００〜６５０nmの光に露光することを 含む、塩基触媒反応を実施する方法。 １５．露光の前または後に組成物を加熱することを含む、請求項１４に記載の方 法。 １６．光化学的に誘起される塩基触媒付加反応または置換反応のための光開始剤 としての、請求項１に記載の有機化合物の使用。 １７．コーティング材、成形用組成物または光形成層材料を製造するための、請 求項１に記載の有機化合物の使用。 １８．請求項７に記載の組成物を用いて、少なくとも１個の表面を被覆された被 塗装基材。 １９．請求項７に記載の、重合または架橋した組成物。