JP2001512090A - 臭化置換ベンジルの製造法 - Google Patents
臭化置換ベンジルの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
式Ｉ：
【化１】
［但し、少なくとも１個の置換基Ｒ1-5が、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシカルボニル、シアノ又はニトロから選ばれる電子吸引性基を表し、その他の置換基Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］で表される臭化置換ベンジルを、式II：
【化２】
Description
【０００１】 本発明は、式Ｉ：
【０００２】
【化３】 ［但し、少なくとも１個の置換基Ｒ1-5が、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1〜Ｃ4アル コキシカルボニル、シアノ又はニトロ等の電子吸引性基を表し、その他の置換基
Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］ で表される臭化置換ベンジルを、 式II：
Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］ で表される臭化置換ベンジルを、 式II：
【０００３】
【化４】 で表される置換トルエンを臭素化剤で、２０〜９５℃において臭素化することに
より製造する方法に関する。
より製造する方法に関する。
【０００４】 アルキル置換芳香族化合物の側鎖の臭素化は、以前から知られている(Houben-
Weyl, 第5/4巻, 331頁以下 (1960))。
Weyl, 第5/4巻, 331頁以下 (1960))。
【０００５】 電子吸引基、例えばハロゲン原子又はニトロ基はこの反応を困難にすることが
指摘されている。置換が極めて困難な化合物、特にニトロトルエンは、屡々、１
００℃を超える温度、加圧下においてのみ反応を引き起こすことができ、これは
化合物の低い熱安定性のために安全性に顕著な問題がある。
指摘されている。置換が極めて困難な化合物、特にニトロトルエンは、屡々、１
００℃を超える温度、加圧下においてのみ反応を引き起こすことができ、これは
化合物の低い熱安定性のために安全性に顕著な問題がある。
【０００６】 更に最近の文献（ＥＰ−Ａ３３６５６７）には、臭化ｏ−ニトロベンジルの特
に困難な製造、即ちｏ−ニトロトルエンを過酸化水素の存在下に、光を照射しな
がら臭化水素で臭素化することによる製造が記載されており、この場合９０％の
選択性を得ることが可能である。この方法は下記の不利を有することが分かった
： 必要な臭素の遊離基は、光照射により発生するが、連続操作において、ランプ
を被覆することとなり、従って著しい悪作用をもたらす。
に困難な製造、即ちｏ−ニトロトルエンを過酸化水素の存在下に、光を照射しな
がら臭化水素で臭素化することによる製造が記載されており、この場合９０％の
選択性を得ることが可能である。この方法は下記の不利を有することが分かった
： 必要な臭素の遊離基は、光照射により発生するが、連続操作において、ランプ
を被覆することとなり、従って著しい悪作用をもたらす。
【０００７】 最適状態に達するか否かは、６０〜７０℃の狭い温度範囲を維持できるかどう
かにかかっている。良好な選択性は、かなり低い転換率においてのみ得られる。
かにかかっている。良好な選択性は、かなり低い転換率においてのみ得られる。
【０００８】 最適反応条件のために、過酸化水素／基質のモル比、及び過酸化水素／臭化水
素のモル比は、比較的狭い範囲内でしか変更できない。
素のモル比は、比較的狭い範囲内でしか変更できない。
【０００９】 電子吸引基で置換されたベンジル臭化物を、臭素化をアゾカルボニトリル又は
アゾカルボン酸エステルの存在下且つ酸化剤の存在下に行うことにより、極めて
良好な選択率で得ることができることを今見出した。
アゾカルボン酸エステルの存在下且つ酸化剤の存在下に行うことにより、極めて
良好な選択率で得ることができることを今見出した。
【００１０】 驚くべきことに、強酸化剤の存在下でさえ、有機開始剤を用いて臭素遊離基を
発生させることが可能である。アゾカルボン酸エステル及びアゾカルボニトリル
は上記酸化剤の存在下に特に安定であり、このため新規な方法における開始剤と
しての使用が運命付けられている。新規な方法について、下記に簡潔に述べ、そ
の後に詳細に説明する多くの工業的、経済的利点を有する： １．照射するために必要な手の込んだ装置の省略 ２．使用する臭素化剤及び酸化剤の種類の拡大が可能 ３．より低い反応温度まで延びた、より広い温度窓口 ４．個々の反応剤の添加の順序を反対にすることができる。臭素化剤を臭素化
すべき基質及び酸化剤に計量導入する。反応器内の腐食性臭素化剤、特に臭化水
素の濃度を、このように極めて低く保つことができる。
発生させることが可能である。アゾカルボン酸エステル及びアゾカルボニトリル
は上記酸化剤の存在下に特に安定であり、このため新規な方法における開始剤と
しての使用が運命付けられている。新規な方法について、下記に簡潔に述べ、そ
の後に詳細に説明する多くの工業的、経済的利点を有する： １．照射するために必要な手の込んだ装置の省略 ２．使用する臭素化剤及び酸化剤の種類の拡大が可能 ３．より低い反応温度まで延びた、より広い温度窓口 ４．個々の反応剤の添加の順序を反対にすることができる。臭素化剤を臭素化
すべき基質及び酸化剤に計量導入する。反応器内の腐食性臭素化剤、特に臭化水
素の濃度を、このように極めて低く保つことができる。
【００１１】 新規な方法に好適な溶剤としては、臭素化の間に不活性なものであり、例えば
芳香族炭化水素（例、ベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン及びｔｅｒｔ−アミ
ルベンゼン）、ハロゲン化炭化水素（例、塩化メチレン、クロロホルム及びクロ
ロベンゼン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ジクロロベンゼン又はトリ
クロロベンゼン）である。これらの溶剤の混合物も使用することができる。
芳香族炭化水素（例、ベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン及びｔｅｒｔ−アミ
ルベンゼン）、ハロゲン化炭化水素（例、塩化メチレン、クロロホルム及びクロ
ロベンゼン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ジクロロベンゼン又はトリ
クロロベンゼン）である。これらの溶剤の混合物も使用することができる。
【００１２】 ハロゲン化炭化水素（例、塩化メチレン１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ｏ（オルト）−又はｐ（パラ）−ジクロロベンゼン、又は１，
２，４−トリクロロベンゼン）が好ましく、特にクロロベンゼンが好ましい。
ム、四塩化炭素、ｏ（オルト）−又はｐ（パラ）−ジクロロベンゼン、又は１，
２，４−トリクロロベンゼン）が好ましく、特にクロロベンゼンが好ましい。
【００１３】 新規な方法で使用されるｏ−ニトロトルエンIIは、ほとんどの場合購入するこ
とができ、又は文献（例、Organikum, Barth Verlagsgesllschaft (1993) 320頁
以下）に記載の方法で容易に得られる。
とができ、又は文献（例、Organikum, Barth Verlagsgesllschaft (1993) 320頁
以下）に記載の方法で容易に得られる。
【００１４】 ＥＰ−Ａ３３６５６７の開示とは対照的に、新規な方法は、極めて柔軟性があ
る。臭素化剤、例えば単体臭素、又は臭素塩(bromine salt)、中でも臭化ナトリ
ウム、及び臭化水素、好ましくは水溶液の形のもの、臭化水素酸を使用すること
が可能である。臭化水素酸を含む工業的共沸混合物が特に好ましい。
る。臭素化剤、例えば単体臭素、又は臭素塩(bromine salt)、中でも臭化ナトリ
ウム、及び臭化水素、好ましくは水溶液の形のもの、臭化水素酸を使用すること
が可能である。臭化水素酸を含む工業的共沸混合物が特に好ましい。
【００１５】 臭化水素又は臭化物イオンを酸化するために好適な酸化剤の例としては、過酸
、過酸化物、次塩素酸塩（塩素漂白溶液）、塩素、臭化ナトリウム、及びペルオ
キシ二硫酸カリウムを挙げることができ、過酸化水素が特に好適である。
、過酸化物、次塩素酸塩（塩素漂白溶液）、塩素、臭化ナトリウム、及びペルオ
キシ二硫酸カリウムを挙げることができ、過酸化水素が特に好適である。
【００１６】 新規な方法の好適態様において、使用される酸化剤の量は、反応で形成される
臭化水素も再酸化できるような量である。臭化物当量当たり１．５〜２当量の酸
化剤を添加することが好ましい。一方、臭素源として単体臭素を用いた場合、０
．５〜１当量（臭素に対して）の酸化剤を添加すれば充分である。このように使
用する臭素化剤の量を半減することがほとんどの場合において可能である。
臭化水素も再酸化できるような量である。臭化物当量当たり１．５〜２当量の酸
化剤を添加することが好ましい。一方、臭素源として単体臭素を用いた場合、０
．５〜１当量（臭素に対して）の酸化剤を添加すれば充分である。このように使
用する臭素化剤の量を半減することがほとんどの場合において可能である。
【００１７】 臭素化剤は、一般にｏ−ニトロトルエンIIに対して、０．７〜１．３のモル比
で使用され、好ましくは０．９〜１．０のモル比で使用される。
で使用され、好ましくは０．９〜１．０のモル比で使用される。
【００１８】 新規な方法の特別の優位性は、アゾカルボン酸エステル及びアゾカルボニトリ
ル等のアゾ化合物を開始剤として使用し、従って光照射を省略できることである
。これらの開始剤は、前駆体或いは溶剤に容易に溶解し、従って、最初から、或
いは計量導入時から存在することができる。特に好ましいアゾ化合物は、アゾイ
ソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）である。
ル等のアゾ化合物を開始剤として使用し、従って光照射を省略できることである
。これらの開始剤は、前駆体或いは溶剤に容易に溶解し、従って、最初から、或
いは計量導入時から存在することができる。特に好ましいアゾ化合物は、アゾイ
ソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）である。
【００１９】 開始剤は、一般に臭素又は臭化物イオンの濃度に対して、０．１〜２０モル％
の濃度（出発材料にもよるが）、好ましくは１〜１０モル％の濃度で、反応混合
物に添加される。
の濃度（出発材料にもよるが）、好ましくは１〜１０モル％の濃度で、反応混合
物に添加される。
【００２０】 臭素化は、２０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃で行われる。最適反応温
度は、一方でｏ−ニトロトルエンII及びそれから得られる生成物IIIの熱安定性 、及び一方で開始剤の分解温度に依存している。下記の表には、種々の開始剤を
、それらの構造及び１０時間半減期の分解温度と共に示している。反応は、開始
剤の１０時間半減期の分解温度の少し上か下で（±１０℃）行うことが好ましい
。１０時間半減期の分解温度より下での操作は、一般に開始剤の使用の節約と高
い選択性をもたらす。しかしながら、この結果は、長時間の反応という犠牲を伴
う。従って、好適な開始剤を選択することにより、反応温度を広範囲で変化させ
、調節して、特定の条件に最適化させることが可能である。
度は、一方でｏ−ニトロトルエンII及びそれから得られる生成物IIIの熱安定性 、及び一方で開始剤の分解温度に依存している。下記の表には、種々の開始剤を
、それらの構造及び１０時間半減期の分解温度と共に示している。反応は、開始
剤の１０時間半減期の分解温度の少し上か下で（±１０℃）行うことが好ましい
。１０時間半減期の分解温度より下での操作は、一般に開始剤の使用の節約と高
い選択性をもたらす。しかしながら、この結果は、長時間の反応という犠牲を伴
う。従って、好適な開始剤を選択することにより、反応温度を広範囲で変化させ
、調節して、特定の条件に最適化させることが可能である。
【００２１】
【表１】
【表２】
【００２２】 表から明らかなように、２０〜５０℃の穏和温度で新規な方法により容易に分
解する感受性化合物を製造することは問題なく可能であり、幾分長い反応時間を
いけ入れなければならないが、発熱分解の安全性の危険因子を除去することがで
きる。開始剤として有機過酸化物を用いて得られた結果は全体に悪く、一方酸化
剤の存在下にアゾ化合物を用いる新規な方法では極めて良好な結果が得られる。
場合によっては、鉱酸、特にＨ2ＳＯ4を添加することが有利であろう。
解する感受性化合物を製造することは問題なく可能であり、幾分長い反応時間を
いけ入れなければならないが、発熱分解の安全性の危険因子を除去することがで
きる。開始剤として有機過酸化物を用いて得られた結果は全体に悪く、一方酸化
剤の存在下にアゾ化合物を用いる新規な方法では極めて良好な結果が得られる。
場合によっては、鉱酸、特にＨ2ＳＯ4を添加することが有利であろう。
【００２３】 臭素化は、二相系で行うことが好ましい。二相系は、一般に、臭素塩の水溶液
、或いは好ましくは臭化水素酸を溶剤と共に含み、そして適宜開始剤又は開始剤
の一部を含む。混合物を反応温度にして、そして連続的に又は部分的に０．５〜
数時間に亘って、開始剤の存在下又は非存在下にトルエン誘導体IIを計量導入す
る。酸化剤をIIの計量導入と平行して計量導入し、その際過剰の臭素が反応混合
物中に存在しないようにする。基質IIを臭素化剤及び開始剤と混合し、酸化剤の
計量導入によって反応を制御することが同様に可能である。
、或いは好ましくは臭化水素酸を溶剤と共に含み、そして適宜開始剤又は開始剤
の一部を含む。混合物を反応温度にして、そして連続的に又は部分的に０．５〜
数時間に亘って、開始剤の存在下又は非存在下にトルエン誘導体IIを計量導入す
る。酸化剤をIIの計量導入と平行して計量導入し、その際過剰の臭素が反応混合
物中に存在しないようにする。基質IIを臭素化剤及び開始剤と混合し、酸化剤の
計量導入によって反応を制御することが同様に可能である。
【００２４】 臭素を臭素源として使用する場合、その手順は一般に上述の方法と同様である
が、開始剤を含んでも良い臭素を水及び溶剤中に計量導入する。この手順で、基
質IIは最初から存在しても、或いは計量導入しても良い。
が、開始剤を含んでも良い臭素を水及び溶剤中に計量導入する。この手順で、基
質IIは最初から存在しても、或いは計量導入しても良い。
【００２５】 安全な酸化剤を使用する場合、それらは基質IIと混合することができ、反応の
過程は臭素成分の添加により制御することができる。過酸化水素を使用した場合
、後者の手順は一般に５０℃までで可能である。
過程は臭素成分の添加により制御することができる。過酸化水素を使用した場合
、後者の手順は一般に５０℃までで可能である。
【００２６】 臭素化は、バッチで行うことができるが、連続的に行うことが好ましい。連続
的な手順は、装置を小さな寸法にすることができ、高温に保持された基質IIを含
む溶液の量をより少なくできるとの優位性を有する。従って、トルエン誘導体II
のあるものにおいて表明された熱的に不安定性であることも、連続法が工業的安
全性の点で有利であることを意味することとなる。
的な手順は、装置を小さな寸法にすることができ、高温に保持された基質IIを含
む溶液の量をより少なくできるとの優位性を有する。従って、トルエン誘導体II
のあるものにおいて表明された熱的に不安定性であることも、連続法が工業的安
全性の点で有利であることを意味することとなる。
【００２７】 計量導入完了後、反応混合物は通常０．５〜３時間選択された反応温度に維持
される。熱的に安定なベンジル臭化物は、概して蒸留で精製され、一方熱的に不
安的なベンジル臭化物は更に新規な方法から得られる溶液中で処理される。
される。熱的に安定なベンジル臭化物は、概して蒸留で精製され、一方熱的に不
安的なベンジル臭化物は更に新規な方法から得られる溶液中で処理される。
【００２８】 新規な方法を、下記の実施例によって記載する。 ［実施例１］ 臭化ｏ−ニトロベンジルの製造 ａ）６．６ｇ（臭化水素酸に対して１モル％）のアゾビスイソブチロニトリル
（ＡＩＢＮ）を１３５０ｇのクロロベンゼンに溶解した液を、６２０ｇ（３．６
モル）の４７％濃度臭化水素酸と、羽根車攪拌機及び邪魔板付き２．５Ｌのフラ
ット・フレンジ・フラスコ内において混合した。反応器の内容物を７５℃まで加
熱し、この温度に達した後、供給材料Ｉ及びIIを二基の計量ポンプで給送した。
（ＡＩＢＮ）を１３５０ｇのクロロベンゼンに溶解した液を、６２０ｇ（３．６
モル）の４７％濃度臭化水素酸と、羽根車攪拌機及び邪魔板付き２．５Ｌのフラ
ット・フレンジ・フラスコ内において混合した。反応器の内容物を７５℃まで加
熱し、この温度に達した後、供給材料Ｉ及びIIを二基の計量ポンプで給送した。
【００２９】 供給材料Ｉ：２６．２ｇ（４モル％）のＡＩＢＮを５４８ｇの（４．０モル）
のｏ−ニトロトルエンに溶解した液を、２時間に亘って連続的に導入した； 供給材料II：７２５ｇ（３．２モル）の１５％濃度のＨ2Ｏ2を、過剰の臭素が
溶液中に存在しないように導入した。約２．５時間これに要した。
のｏ−ニトロトルエンに溶解した液を、２時間に亘って連続的に導入した； 供給材料II：７２５ｇ（３．２モル）の１５％濃度のＨ2Ｏ2を、過剰の臭素が
溶液中に存在しないように導入した。約２．５時間これに要した。
【００３０】 攪拌を、計量導入完了後、７５℃で２時間続け、その後攪拌を停止させ、これ
らの相を７５℃で分離した。２１４６．４ｇの有機層が得られ、下記の組成（溶
剤含まず）であった： ６０．４％の臭化ｏ−ニトロベンジル ２１．５％のｏ−ニトロトルエン １８．２％の臭化ｏ−ニトロベンザル
らの相を７５℃で分離した。２１４６．４ｇの有機層が得られ、下記の組成（溶
剤含まず）であった： ６０．４％の臭化ｏ−ニトロベンジル ２１．５％のｏ−ニトロトルエン １８．２％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００３１】 臭化ｏ−ニトロベンジルの収率：ｏ−ニトロトルエンに対して５８．１％
【００３２】 ｂ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン及び０．７２ｇの２，２’−アゾビス（
４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）が溶解した２５ｇのクロロベ
ンゼンを、０．２４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び７．８ｇの５０％濃度Ｈ2Ｏ2と、２５０
ｍｌの攪拌装置中において２７℃で混合した。激しく攪拌しながら、１９．７ｇ
の４７％濃度臭化水素を、２５〜２７℃にて、約８時間に亘って滴下し、多量の
臭素が遊離した時（褐色）に臭化水素の添加を停止し、色が消えるまで反応温度
で攪拌した。
４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）が溶解した２５ｇのクロロベ
ンゼンを、０．２４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び７．８ｇの５０％濃度Ｈ2Ｏ2と、２５０
ｍｌの攪拌装置中において２７℃で混合した。激しく攪拌しながら、１９．７ｇ
の４７％濃度臭化水素を、２５〜２７℃にて、約８時間に亘って滴下し、多量の
臭素が遊離した時（褐色）に臭化水素の添加を停止し、色が消えるまで反応温度
で攪拌した。
【００３３】 有機層のＧＣ分析： ７２．７％のｏ−ニトロトルエン ２３．９％の臭化ｏ−ニトロベンジル ０．３％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００３４】 ｃ）１３．７ｇ（０．１モル）のｏ−ニトロトルエン、２５ｇのクロロベンゼ
ン、６００ｍｇ（２．７ミリモル）のＶ６５［Wako製、２，２’−アゾビス（２
，４−ジメチルバレロニトリル）］、３００ｍｇのＨ2ＳＯ4及び１６．４ｇ（０
．１５モル）の３０％濃度Ｈ2Ｏ2を、４５℃で混合した。１０ｇの４７％濃度臭
化水素を、７５分間に亘って滴下し、混合物を更に４５℃にて７５分間攪拌した
。更に５ｇの臭化水素酸を加え、混合物を室温で１２時間攪拌した。その後、３
ｇの臭化水素酸、そして２回に分けて５ｇ及び更に１０ｇのクロロベンゼンとＶ
６５の溶液（合計１５ｇのクロロベンゼン＋０．８６ｇ（３．９ミリモル）のＶ
６５）を加えた。
ン、６００ｍｇ（２．７ミリモル）のＶ６５［Wako製、２，２’−アゾビス（２
，４−ジメチルバレロニトリル）］、３００ｍｇのＨ2ＳＯ4及び１６．４ｇ（０
．１５モル）の３０％濃度Ｈ2Ｏ2を、４５℃で混合した。１０ｇの４７％濃度臭
化水素を、７５分間に亘って滴下し、混合物を更に４５℃にて７５分間攪拌した
。更に５ｇの臭化水素酸を加え、混合物を室温で１２時間攪拌した。その後、３
ｇの臭化水素酸、そして２回に分けて５ｇ及び更に１０ｇのクロロベンゼンとＶ
６５の溶液（合計１５ｇのクロロベンゼン＋０．８６ｇ（３．９ミリモル）のＶ
６５）を加えた。
【００３５】 有機層のＨＰＬＣ定量分析： ５６．９％の臭化ｏ−ニトロベンジル ３８．４％のｏ−ニトロトルエン ４．７％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００３６】 ｄ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン、２５ｇのクロロベンゼン、０．５８の
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、０．２４ｇの濃Ｈ2 ＳＯ4及び１９ｇの４７％濃度臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪拌装置で混合し、 そして激しく攪拌しながら６０ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を、１３時間に
亘って滴下した。この間、０．５８ｇの２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル
バレロニトリル）を１０ｇのクロロベンゼンに溶解した液を、その内の１ｍｌず
つ、１時間に亘って時々反応混合物に添加した。反応は１３時間後に停止した。
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、０．２４ｇの濃Ｈ2 ＳＯ4及び１９ｇの４７％濃度臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪拌装置で混合し、 そして激しく攪拌しながら６０ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を、１３時間に
亘って滴下した。この間、０．５８ｇの２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル
バレロニトリル）を１０ｇのクロロベンゼンに溶解した液を、その内の１ｍｌず
つ、１時間に亘って時々反応混合物に添加した。反応は１３時間後に停止した。
【００３７】 有機層のＧＣ分析： ４３．９％のｏ−ニトロトルエン ４４．２％の臭化ｏ−ニトロベンジル １．３％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００３８】 ｅ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン、３５ｇのクロロベンゼン、０．２４ｇ
の濃Ｈ2ＳＯ4、１．７４ｇの２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）、及び８．８ｇの３０％濃度過酸化水素水溶液を、２５０ｍｌの攪拌装置
で４５℃にて混合し、そして激しく攪拌しながら６．６ｇの臭素を、褐色溶液の
消色が起こるような速度で２４時間に亘り添加した。
の濃Ｈ2ＳＯ4、１．７４ｇの２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）、及び８．８ｇの３０％濃度過酸化水素水溶液を、２５０ｍｌの攪拌装置
で４５℃にて混合し、そして激しく攪拌しながら６．６ｇの臭素を、褐色溶液の
消色が起こるような速度で２４時間に亘り添加した。
【００３９】 有機層のＧＣ分析： ５２．６％のｏ−ニトロトルエン ３８．４％の臭化ｏ−ニトロベンジル ０．９％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００４０】 ｆ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン、３８．８ｇのクロロベンゼン、０．２
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪
拌装置で６２℃にて混合し、そして２．１５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチ
ルプロピオニトリル）を添加し、その後激しく攪拌しながら４０ｇの塩素漂白溶
液（１２．５％の活性塩素）を２５時間に亘りゆっくり添加した。
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪
拌装置で６２℃にて混合し、そして２．１５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチ
ルプロピオニトリル）を添加し、その後激しく攪拌しながら４０ｇの塩素漂白溶
液（１２．５％の活性塩素）を２５時間に亘りゆっくり添加した。
【００４１】 有機層のＧＣ分析： ３７．４％のｏ−ニトロトルエン ４４．４％の臭化ｏ−ニトロベンジル ２．３％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００４２】 ｇ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン、３８．８ｇのクロロベンゼン、０．２
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び０．７２ｇの２，
２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、２５０ｍｌの攪拌装置で６
１℃にて混合した。この温度で、３．２７ｇの臭素酸ナトリウム（ＮａＢｒＯ3 ）を２３ｍｌの水に溶解した液を１５時間に亘り添加した。
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び０．７２ｇの２，
２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、２５０ｍｌの攪拌装置で６
１℃にて混合した。この温度で、３．２７ｇの臭素酸ナトリウム（ＮａＢｒＯ3 ）を２３ｍｌの水に溶解した液を１５時間に亘り添加した。
【００４３】 有機層のＧＣ分析： ４５．７％のｏ−ニトロトルエン ４４．８％の臭化ｏ−ニトロベンジル １．６％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００４４】 ｈ）手順は実施例ｇと同様に行ったが、下記の点変更した。温度を６２〜６３
℃とし、ＮａＢｒＯ3の代わりに１７．５ｇのペルオキシ二硫酸ナトリウムを５ ０ｍｌの水に溶解した液を、酸化剤として反応混合物に添加した。後処理は２０
時間後に行った。
℃とし、ＮａＢｒＯ3の代わりに１７．５ｇのペルオキシ二硫酸ナトリウムを５ ０ｍｌの水に溶解した液を、酸化剤として反応混合物に添加した。後処理は２０
時間後に行った。
【００４５】 有機層のＧＣ分析： ３６．５％のｏ−ニトロトルエン ５１．６％の臭化ｏ−ニトロベンジル ２．７％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００４６】 ｉ）１３７ｇのｏ−ニトロトルエンを８００ｍｌのクロロベンゼンに溶解した
液と、１０３ｇの臭化ナトリウム、６ｇのＮａ2ＨＰＯ4を１Ｌの水に溶解した液
とを、２．５ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び２０ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオニトリル）とを、６５℃にて混合した。この２層混合物を、６４ｇの塩素ガ
ス（Ｃｌ2）を通しながら、２時間に亘って激しく攪拌した。
液と、１０３ｇの臭化ナトリウム、６ｇのＮａ2ＨＰＯ4を１Ｌの水に溶解した液
とを、２．５ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び２０ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオニトリル）とを、６５℃にて混合した。この２層混合物を、６４ｇの塩素ガ
ス（Ｃｌ2）を通しながら、２時間に亘って激しく攪拌した。
【００４７】 有機層のＧＣ分析： ３４％のｏ−ニトロトルエン ５５％の臭化ｏ−ニトロベンジル ４％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００４８】 ｊ）１３．７ｇのｏ−ニトロトルエン、３８．８ｇのクロロベンゼン、０．２
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪
拌装置で６２℃にて混合し、２．３２ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオニトリル）を添加し、そして激しく攪拌しながら、１１．６ｇの過酢酸（３
２％濃度）を２５．５時間に亘って少しずつ滴下した。
４ｇの濃Ｈ2ＳＯ4及び１９．８ｇの４７％濃度の臭化水素酸を、２５０ｍｌの攪
拌装置で６２℃にて混合し、２．３２ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオニトリル）を添加し、そして激しく攪拌しながら、１１．６ｇの過酢酸（３
２％濃度）を２５．５時間に亘って少しずつ滴下した。
【００４９】 有機層のＧＣ分析： ５３．５％のｏ−ニトロトルエン ３２．２％の臭化ｏ−ニトロベンジル ０．５％の臭化ｏ−ニトロベンザル
【００５０】 ［実施例２］ 臭化３−クロロ−２−ブロモベンジルの製造 ２６７．７ｇの２−ブロモ−３−クロロトルエン、５３０ｇのクロロベンゼン
、２．５ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、２５７．９ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び１４ｇの
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、２Ｌの攪拌装置で６３
℃にて混合した。３３２．３ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を、１時間２５分
間に亘って滴下し、その後混合物を６３℃で３０分間攪拌した。
、２．５ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、２５７．９ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び１４ｇの
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、２Ｌの攪拌装置で６３
℃にて混合した。３３２．３ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を、１時間２５分
間に亘って滴下し、その後混合物を６３℃で３０分間攪拌した。
【００５１】 有機層のＧＣ分析： ３２．２％の３−クロロ−２−ブロモトルエン ５６．５％の臭化３−クロロ−２−ブロモベンジル ４．２％の臭化３−クロロ−２−ブロモベンザル これらの３種の化合物は、容易に分離、蒸留精製を行うことができた。
【００５２】 ［実施例３］ 臭化３−メチル−２−ブロモベンジルの製造 １０４．５ｇの２−ブロモ−ｍ−キシレン（２，６−ジメチルブロモベンゼン
）、２００ｇのクロロベンゼン、１ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、８２．７ｇの４７％濃度の
臭化水素酸及び６ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、
１Ｌの攪拌装置で６３℃にて混合した。７５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を
、３０分間に亘って滴下し、その後混合物を６４℃で２５分間攪拌した。
）、２００ｇのクロロベンゼン、１ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、８２．７ｇの４７％濃度の
臭化水素酸及び６ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、
１Ｌの攪拌装置で６３℃にて混合した。７５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を
、３０分間に亘って滴下し、その後混合物を６４℃で２５分間攪拌した。
【００５３】 有機層のＧＣ分析： ４０．７％の２，６−ジメチルブロモベンゼン ４５．８％の臭化３−メチル−２−ブロモベンゼン ０．６％の臭化３−メチル−２−ブロモベンザル ３．０％の２，６−ビス（ブロモメチル）ブロモベンゼン 同様に、臭化ベンジル成分を除去することができ、蒸留で純粋体を得た。
【００５４】 ［実施例４］ 臭化４−クロロ−２−フルオロベンジルの製造 ３６１．５ｇの４−クロロ−２−フルオロトルエン、５２０ｇのクロロベンゼ
ン、６ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、４６７ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び２．７ｇの２，
２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、４Ｌの攪拌装置で７０℃に
て混合した。６２０．５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液、及び１６．５ｇの２
，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を２７０ｇのクロロベンゼン
に溶解した液を、１．５時間に亘って同時に滴下し、その後混合物を７０℃で１
時間攪拌した。
ン、６ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、４６７ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び２．７ｇの２，
２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、４Ｌの攪拌装置で７０℃に
て混合した。６２０．５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液、及び１６．５ｇの２
，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を２７０ｇのクロロベンゼン
に溶解した液を、１．５時間に亘って同時に滴下し、その後混合物を７０℃で１
時間攪拌した。
【００５５】 有機層のＧＣ分析： ３１．２％の４−クロロ−２−フルオロトルエン ６０．５％の臭化４−クロロ−２−フルオロベンジル ４．３％の臭化４−クロロ−２−フルオロベンザル この場合も、精製を、分別蒸留で行い得た。
【００５６】 ［実施例５］ ２，４−ジクロロ−３−（ブロモメチル）安息香酸メチルの製造 ９４．６ｇの ２，４−ジクロロ−３−メチル安息香酸メチル、３１５ｇのク
ロロベンゼン、１ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、８５．５ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び３
．５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、１Ｌの攪拌装
置で６３℃にて混合した。その後、６３〜６８℃の温度で、７３．５ｇの１０％
濃度過酸化水素水溶液を３５分間に亘って添加した。混合物を、反応温度で２時
間攪拌し、その後７３．５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を３０分間に亘って
添加し、更に１．５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を
反応物に添加し、その混合物を反応温度で２時間３５分間攪拌した。最後に、３
６．８ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を６３〜６７℃にて１５分間に亘って添
加し、混合物を反応温度でさらに２時間攪拌し、室温まで冷却し、そして有機層
を分離した。クロロベンゼン溶液は、純度９６．１％（溶剤を無視したＨＰＬＣ
分析による）の必要な生成物２，４−ジクロロ−３−（ブロモメチル）安息香酸
メチルを含むものであった。
ロロベンゼン、１ｇの濃Ｈ2ＳＯ4、８５．５ｇの４７％濃度の臭化水素酸及び３
．５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を、１Ｌの攪拌装
置で６３℃にて混合した。その後、６３〜６８℃の温度で、７３．５ｇの１０％
濃度過酸化水素水溶液を３５分間に亘って添加した。混合物を、反応温度で２時
間攪拌し、その後７３．５ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を３０分間に亘って
添加し、更に１．５ｇの２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）を
反応物に添加し、その混合物を反応温度で２時間３５分間攪拌した。最後に、３
６．８ｇの１０％濃度過酸化水素水溶液を６３〜６７℃にて１５分間に亘って添
加し、混合物を反応温度でさらに２時間攪拌し、室温まで冷却し、そして有機層
を分離した。クロロベンゼン溶液は、純度９６．１％（溶剤を無視したＨＰＬＣ
分析による）の必要な生成物２，４−ジクロロ−３−（ブロモメチル）安息香酸
メチルを含むものであった。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年１月２７日（２０００．１．２７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化１】 ［但し、少なくとも１個の置換基Ｒ1-5が、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1〜Ｃ4アル コキシカルボニル、シアノ又はニトロから選ばれる電子吸引性基を表し、その他
の置換基Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］ で表される臭化置換ベンジルを、 式II：
の置換基Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］ で表される臭化置換ベンジルを、 式II：
【化２】 で表される置換トルエンを、臭素、臭素塩及び臭化水素から選択される臭素化剤
、所望によりその水溶液の形の臭素化剤で、２０〜９５℃において臭素化するこ
とにより製造する方法であり、 上記臭素化を、アゾカルボニトリル又はアゾカルボン酸エステルの存在下、且
つ酸化剤の存在下に行うことを特徴とする臭化置換ベンジルの製造方法。
、所望によりその水溶液の形の臭素化剤で、２０〜９５℃において臭素化するこ
とにより製造する方法であり、 上記臭素化を、アゾカルボニトリル又はアゾカルボン酸エステルの存在下、且
つ酸化剤の存在下に行うことを特徴とする臭化置換ベンジルの製造方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 201/12 Ｃ０７Ｃ 201/12 205/11 205/11 253/30 253/30 255/50 255/50 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ ，ＡＵ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＧＥ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＪＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＴ，ＬＶ，Ｍ Ｘ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ (72)発明者 カイル，ミヒャエル ドイツ、Ｄ−67251、フラインスハイム、 フォンターネシュトラーセ、４ (72)発明者 ミュラー，ベルント ドイツ、Ｄ−67227、フランケンタール、 ジャン−ガンス−シュトラーセ、21 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 BC10 BE01 BE53 BJ50 BM10
Claims (6)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 ［但し、少なくとも１個の置換基Ｒ1-5が、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1〜Ｃ4アル コキシカルボニル、シアノ又はニトロから選ばれる電子吸引性基を表し、その他
の置換基Ｒ1-5が、水素又はメチルを表す。］ で表される臭化置換ベンジルを、 式II： 【化２】 で表される置換トルエンを臭素化剤で、２０〜９５℃において臭素化することに
より製造する方法であり、 上記臭素化を、アゾカルボニトリル又はアゾカルボン酸エステルの存在下、且
つ酸化剤の存在下に行うことを特徴とする臭化置換ベンジルの製造方法。 - 【請求項２】 臭素化剤として単体臭素を用いた場合に,０．５〜１当量の 酸化剤を使用し、臭素化剤として臭化物又は臭化水素を用いた場合に,１．５〜 ２当量の酸化剤を使用する請求項１に記載の方法。
- 【請求項３】 酸化剤として、過酸化水素、過酢酸、塩素、次亜塩素酸ナト
リウム（塩素漂白溶液）、臭素酸ナトリウム又はペルオキシ二硫酸カリウムを使
用する請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 過酸化水素を酸化剤として使用し、５０℃以下で臭素化すべ
き基質と共に初めから存在させる請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 臭素化を二相系で行う請求項１〜４のいずれかに記載の方法
。 - 【請求項６】 臭素化を連続的に行う請求項１〜５のいずれかに記載の方法
。
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