JP2001505869A - チオールスルホン メタロプロテアーゼ阻害剤 - Google Patents

チオールスルホン メタロプロテアーゼ阻害剤

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、プロテイナーゼ(プロテアーゼ)阻害剤、更に詳しく言えば、マトリックス メタロプロテイナーゼ13(MMP−13)に対するチオールスルホン阻害剤、プロテイナーゼ阻害剤の組成物、プロテイナーゼ阻害剤の合成中間体、プロテイナーゼ阻害剤の製造法およびMMP−13と関連のある病理学的マトリックス メタロプロテイナーゼ活性に関連した病理学的状態の治療法を指向するものである。

Description

【発明の詳細な説明】 チオールスルホン メタロプロテアーゼ阻害剤 説明 技術分野 本発明は、プロテイナーゼ(プロテアーゼ)阻害剤、更に詳しく言えば、マト リックス メタロプロテイナーゼに対するチオールスルホン阻害剤、プロテイナ ーゼ阻害剤の合成用中間体、プロテイナーゼ阻害剤の製造法、およびマトリック ス メタロプロテイナーゼの病理学的活性と関連する病理学的状態の治療法を指 向するものである。発明の背景 結合組織、細胞外マトリックス構成成分および基底膜は、あらゆる哺乳動物に 必要な成分である。これら成分は、人間その他の哺乳動物を含めて生物学的系に 対し、剛性、分化、付着そしてある場合には弾性を与える生体物質である。結合 組織成分の例として、例えばコラーゲン、エラスチン、プロテオグリカン、フィ ブロネクチンおよびラミニンが挙げられる。これら生物化学物質は、皮膚、骨、 歯、鍵、軟骨、基底膜、血管、角膜および硝子体液といった構造体を構成し、あ るいはその構成成分である。 正常な状態の下では、結合組織の代謝回転および(または)修復過程は制御さ れ、平衡状態にある。如何なる理由であれこの均衡が失なわれると、幾つかの病 気状態へと進む。平衡喪失の原因となる酵素を阻害することは、この組織破壊に 対する制御機構を与えることになり、従ってこれら疾患の治療法が得られること になる。 結合組織あるいは結合組織成分の分解は、常在性組織細胞および(または)侵 害性の炎症性細胞または腫瘍細胞から放出されるプロテイナーゼ酵素の作用によ り行なわれる。この機能に関与する一つの大きな酵素群は、亜鉛メタロプロテイ ナーゼ(メタロプロテアーゼ)である。 メタロプロテアーゼ酵素は、常用される幾つかの異なる名前を有する幾つかの 酵素を含む群に分けられる。その例は次の通りである:コラゲナーゼI(MMP −1、繊維芽細胞コラゲナーゼ;EC3.4.24.3);コラゲナーゼII(M MP−8、好中球コラゲナーゼ;EC3.4.24.34)、コラゲナーゼIII (MMP−13)、ストロメリシン1(MMP−3;EC3.4.24.17) 、ストロメリシン2(MMP−10;EC3.4.24.22)、プロテオグリ カナーゼ、マトリリシン(MMP−7)、ゼラチナーゼA(MMP−2、72kD a ゼラチナーゼ、基底膜コラゲナーゼ;EC3.4.24.24)、ゼラチナー ゼB(MMP−9、92kDaゼラチナーゼ;EC3.4.24.35)、ストロ メリシン3(MMP−11)、メタロエラスターゼ(MMP−12、HME、ヒ トマクロファージ エラスターゼ)および膜MMP(MMP−14)。MMPは 、MMP群に属する酵素間を区別する数字を付した用語マトリックス メタロプ ロテアーゼを表わす略号または頭字語である。 メタロプロテアーゼによる結合組織の無制御破壊は、多くの病的状態の一特徴 である。例は慢性関節リウマチ、骨関節症、敗血性関節炎;角膜、上皮または胃 の潰瘍形成;腫瘍転移、侵入または脈管形成;歯疾病;たんぱく尿;アルツハイ マー病;冠動脈血栓症および骨の病気である。欠陥となる損傷修復過程も起こる 。これは弱い修復、癒着および瘢痕へと導く異常な傷治癒を起こしうる。後者の これら欠陥は、外科手術後の癒着の場合のように、きずおよび(または)永久的 能力欠損へと導くことがある。 マトリックス メタロプロテアーゼは、腫瘍壊死因子(TNF)の生合成およ びTNFの産生または作用の抑制にも関与し、そして関連化合物は、重要な臨床 的病気治療の機構である。例えば、TNF−αは、現在のところ、28kD細胞− 関連分子として最初につくられると考えられるサイトカインである。これは活性 な17kD形として放出され、容器内および生体内で多数の有害な効果を媒介しう る。例えば、TNFは、炎症、慢性関節リウマチ、自己免疫性疾患、多発性硬化 症、移植片拒絶、繊維症、癌、感染性疾患、マラリア、マイコバクテリア感染症 、髄膜炎、発熱、乾癬、心臓血管/肺効果、例えば虚血性再潅流後損傷(post-is chemic reperfusion injury)、うっ血性心不全、出血、硬直、高酸素肺胞傷害、 放射線損傷、および急性期反応、例えば感染症および敗血症の場合に、また敗血 性ショックや血流力学的ショックといったショックの間に見られる反応と似た反 応を起こすことがあり、そして(または)これらへの寄与がありうる。活性TN Fの慢性的放出は悪液質および無食欲を起こすことがある。TNFは致命的とも なりうる。 TNF−αコンベルターゼは、活性TNF−αの形成に関与するメタロプロテ アーゼである。TNF−αコンベルターゼの阻害は活性TNF−αの産生を抑制 する。MMP活性とTNF−α産生の両方を抑制する化合物がWIPO国際刊行 物第WO94/24140号、WO94/02466号およびWO97/208 24号に開示された。コラゲナーゼ、ストロメリシンおよびゼラチナーゼといっ たMMPを阻害する化合物は、TNFの放出を抑制することが示された(Gearing 等、Nature 376,555−557(1994),McGeehan等、Nature 37 ,558−561(1994))。効果的なMMPおよびTNF−αコンベル ターゼ阻害剤に対する要望が残されている。 MMPはまた哺乳動物における他の生化学的過程にも関与する。***の制御、 分娩後の子宮退縮、可能性のあるものとして移植、APP(β−アミロイド前駆 物質タンパク質)からアミロイド プラークへの開裂およびα1−プロテアーゼ 阻害剤(α1−PI)の不活性化が含まれる。これらメタロプロテアーゼの阻害 は、妊性の調節およびアルツハイマー病の治療または防止を可能にする。更にま た、内因性の、あるいは投与されたセリンプロテアーゼ阻害薬剤あるいは生化学 的物質、例えばα1−PIの濃度の増加および維持は、例えば気腫、肺の疾患、 炎症性疾患および老化、例えば皮膚または器官の伸展および弾性の喪失といった 病気の治療および防止を助ける。 選ばれたMMPの阻害も他の場合に望ましいことがある。癌の治療および(ま たは)転移の抑制および(または)脈管形成の抑制は、特にコラゲナーゼI(M MP−1)と比較したとき、ストロメリシン、ゼラチナーゼ、またはコラゲナー ゼIIIが阻害すべき比較的最も重要な酵素または酵素群である病気の治療への解 決法の例である。コラゲナーゼIを阻害しない薬物は、すぐれた治療プロフィル を有しうる。炎症を起こした関節における軟骨破壊が、刺激を受けたクロンドロ サイト(chrondrocytes)のような細胞から放出されたMMP−13に少なくとも 一部は原因するということが考えられるもう一つの普及した病気、骨関節症、は 作用様式の一つがMMP−13の阻害である薬物の投与により最もよく治療でき る。例えば、Mitchell等、J.Clin.Invest.,97:761〜768(1996 )およびReboul等、J.Clin.Invest.,97:2011〜2019(l996) 参照。 メタロプロテアーゼの阻害剤は公知である。その例として、天然生物化学物質 、例えばメタロプロテイナーゼの組織阻害剤(TIMP)、α2−マクログロブ リンおよびそれらの類縁体または誘導体が挙げられる。これらはメタロプロテア ーゼと不活性複合体を形成する高分子量タンパク質分子である。メタロプロテア ーゼを阻害する幾つかのより小さいペプチド様化合物が記述されている。メルカ プトアミドペプチジル誘導体は、容器内および生体内でACE阻害を示した。ア ンギオテンシン転換酵素(ACE)は、哺乳動物における強力な機能亢進物質で あるアンギオテンシンIIの産生を助け、そしてこの酵素の阻害は血圧低下に通じ る。例えば、WO95/12389、WO96/11209およびU.S.4, 595,700に示されている通り、チオール基含有アミドまたはペプチジルア ミドを基本とするメタロプロテアーゼ(MMP)阻害剤は公知である。 酵素のMMP群の公知の構成員を阻害する化合物は、この群の酵素そしてまた 新しい、しかも発見さるべき酵素も阻害できることが認識されている。従って、 当業者は、本発明に係る新規阻害剤が病気、即ち公知のかつ新しいMMP酵素が 関係している病気、の治療に有用であることを予想するであろう。発明の要約 本発明は、病的マトリックス メタロプロテアーゼ(MMP)活性と関連した 状態をもつ哺乳動物の治療法、ならびにMMP−13の活性を特に阻害する分子 を指向するものである。 従って、簡単に言えば、本発明の一具体例は、病理学的マトリックス メタロ プロテアーゼ活性と関連した状態をもつ哺乳動物の治療法を指向するもので、本 法はこのような病状をもつ患者にメタロプロテアーゼ阻害剤を有効量で投与する ことからなる。投与される酵素阻害剤は、その構造が下記の式(I),(II)ま たは(III): または 式中、xおよびyの各々は、それぞれ0,1または2であり;Wは酸素または 硫黄である、 の一つに相当する。 企図されているR10基は、アルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルキル 、アリールオキシ、アルアルコキシ、アルアルキル、アミノアルキル、ヘテロア リールおよびN−一置換またはN,N−二置換アミノアルキル基であり、窒素上 の置換基(複数のことがある)はアルキル、アリール、アルアルキル、シクロア ルキル、アルアルコキシカルボニル、アルコキシカルボニル、およびアルカノイ ルからなる群から選ばれ、あるいは窒素とそれに付く2個の置換基とは5員から 8員複素環あるいはヘテロアリール環を形成する。 企図されているR1基は、阻害剤のSO2部分に結合し、アリール(炭素環式) またはヘテロアリール基である。このSO2−結合置換基はアルアルカノイルア ルキル、アリールカルボニルアルキル、アルアルキルアリール、アリールオキシ アルキルアリール、アルアルコキシアリール、アリールアゾアリール、アリール ヒドラジノアリール、アルキルチオアリール、アリールチオアルキル、アルキル チオアルアルキル、アルアルキルチオアルキル、またはアルアルキルチオアリー ル基、これらチオ置換基のいずれかのスルホキシドまたはスルホン、アルキルチ オアルキルであり、そして2個または3個の5員または6員アリール環からなる 縮合環構造(炭素環式または複素環式環のいずれでもよい)をとりうる。SO2 −結合置換基は、一つの芳香環を有するアリールまたは複素環式(ヘテロアリー ル)環、例えば単一環アルアルキル、ヘテロアルアルキル、アルアルコキシアル キル、またはアリールオキシアルキル基がよい。R1を構成しうるアリール(炭 素環式)およびヘテロアリール置換基は、非置換か、あるいは次の基、即ちハロ 、C1−C10アルキル、C1−C10アルコキシ、ニトロ、シアノ、ペルフルオロア ルキル、トリフルオロメチルアルキル、ヒドロキシ、チオール、ヒドロキシカル ボニル、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アルアルキル、アリ ールカルボキサミド、ヘテロアリールカルボキサミド、アゾアリール、アゾヘテ ロアリール、アリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロア リールアミノ、ヘテロアルアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロオキシ、ヘ テロシクロチオ、ヘテロシクロアミノ、シクロアルキルオキシ、シクロアルキル チオ、シクロアルキルアミノ、ヘテロアルアルコキシ、ヘテロアルアルキルチオ 、ヘテロアルアルキルアミノ、アルアルコキシ、アルアルキルチオ、アルアルキ ルアミノ、ヘテロシクリック、ヘテロアリール、アリールアゾ、ヒドロキシカル ボニルアルコキシ、アルコキシカルボニルアルコキシ、アルカノイル、アリール カルボニル、アルアルカノイル、アルカノイルオキシ、アルアルカノイルオキシ 、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルコキシ、アルキルチオ、アルコキシアル キルチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシアルコキシアリール、アリー ルチオアルキルチオアリール、アリールオキシアルキルチオアリール、アリール チオアルコキシアリール、ヒドロキシカルボニルアルコキシ、ヒドロキシカルボ ニルアルキルチオ、アルコキシカルボニルアルコキシ、アルコキシカルボニルア ル キルチオ、アミノ、アルカノイルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルアル カノイルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミノ、ヘテロアルアルカノイルア ミノ、およびN−一置換またはN,N−二置換アミノアルキル[窒素上の置換基 (複数のことがある)は、アルキル、アリール、アルアルキル、シクロアルキル 、アルアルコキシカルボニル、アルコキシカルボニル、およびアルカノイルから なる群から選ばれるか、あるいは窒素とそれに付く2個の置換基とが一緒になっ て5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロアリール環を形成する]の中から独立 して選ばれる1個か2個の置換基で置換される。 企図されているR2およびR3置換基は、それぞれ水素(ヒドリド)、アルキル 、アリール、アルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、アルキニル アルキル、アルケニルアルキル、チオアルキル、シクロアルキル、シクロアルキ ルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルアルコ キシアルキル、アミノアルキル、アルコキシアルコキシアルキル、アリールオキ シアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシカルボニルアルキル、ヒドロキシ カルボニルアルアルキル、またはN−一置換あるいはN,N−置換アミノアルキ ル基[窒素上の置換基(複数のことがある)はアルキル、アルアルキル、シクロ アルキルおよびアルカノイルからなる群から選ばれ、あるいはR2ともう一つの 置換基(R2とR4、またはR2とR6、またはR2とR8)とは、それらが付いてい る原子と一緒になって4員から8員環を形成する]でよい。 企図されているR4およびR5基はそれぞれ選ばれる。これら置換基は、水素( ヒドリド)、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ アルキル、ヒドロキシアルキル、アリールオキシアルキル、アルアルコキシアル キル、アルアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、ヒドロ キシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルアルコキシカル ボニルアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、ペルフルオロ アルキル、トリフルオロメチルアルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキル 、アリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル、ヘテロアルアルキルチオ アルキル、あるいは該チオ置換基のいずれかのスルホキシドまたはスルホン、ア ミノカルボニル、アミノカルボニルアルキル、N−一置換またはN,N−二置 換アミノカルボニルまたはアミノカルボニルアルキル基でよく、窒素上の置換基 (複数のことがある)は、それぞれアルキル、アルアルキル、シクロアルキルお よびアルカノイルの中から選ばれ、あるいは窒素とそれに付く2個の置換基とが 一緒に5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロアリール環(これは更に1個のヘ テロ原子を含むことができる)を形成し、あるいはR2とR4とは、それらが付く 原子と一緒に4員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR4とR5とは、 それらが付く原子と一緒に3員から8員環を形成し、あるいはR4とR8とは、そ れらが付く原子と一緒に5員から8員環を形成する。 R6およびR7置換基も独立して選ばれる。R6およびR7置換基はR4およびR5 を構成する置換基となることができ、あるいはR6とR4は、それらが付く原子と 一緒に4員から8員環を形成し、あるいはR6とR2とは、それらが付く原子と一 緒に5員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR6とR8とはそれらが付 く原子と共に4員から8員環を形成し、あるいはR6とR7とは、それらが付く原 子と共に3員から8員環を形成する。 企図されているR8およびR9置換基もまた独立して選ばれる。R8およびR9置 換基は、R3およびR4を構成する置換基でもありうる。あるいはR8とR2とは、 それらが付く原子と共に6員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR8 とR9とは、それらが付く原子と共に3員から8員環を形成し、あるいはR8とR4 とは、それらが付く原子と共に5員から8員環(上記の通り)を形成し、ある いはR8とR6とは、それらが付く原子と共に4員から8員環(上記の通り)を形 成する。 上記の定義に対する条件は、1個より多くのスルフヒドリル基でgem−置換さ れた炭素原子が無いということである。更に、式III中の星印を付した置換基「 R*」基、「y*」および「x*」は、星印の付いていない「R基」、「y」およ び「x」と同じか、または異なる。 本発明は、上記式I、II、およびIIIの分子の一層好ましい亜群を指向するもの でもある。その場合、xはゼロ、従ってR8とR9およびそれらの結合した炭素原 子は存在せず、yは1であり、メルカプト基はR6置換基(存在する場合)をも つ炭素原子に直接結合し、式I−IIIのR7基はヒドリドであり、R3、 R4およびR5も同様である。この場合、またR1は置換アリール(炭素環式アリ ール)、あるいは1個の5員または6員環を含む置換ヘテロアリール基である。 即ち、R1は縮合環置換アリールまたはヘテロアリール基ではなく、式IIIの化合 物はホモダイマーとなる。特に適当なこれら化合物は、式Ia,IIa,およびII Iaにより画かれ、置換基「R」基とWは後で説明する。 または 最も好ましい実施法においては、企図された阻害剤化合物は、式I、IIおよび IIIの化合物のもう一つの亜群を構成する。その場合、式I−IIIのR3、R4およ びR5はヒドリドであり、R2とR6は、環内で一緒に結合し合うのでなければ、 そのうちの唯一つのみが存在し、SO2に結合したR1置換基は4−置換フェニル 基(phR11)であり、WはOである。これらの最も好ましい化合物を下記の式 Ib、IIbおよびIIIbにより表わす。画かれた「R」基の明細は後に述べる。 または 本発明の幾つかの利益と利点は、マトリックス メタロプロテイナーゼ活性の 阻害剤として有効な化合物および組成物の提供、結合組織の非制御破壊を含む病 気および障害に関与するメタロプロテイナーゼの阻害に有効な、かかる化合物お よび組成物の提供である。 更に詳しく言えば、本発明の利益は、次のような病的状態、即ち慢性関節リウ マチ、骨関節症、敗血性関節炎、角膜、上皮または胃の潰瘍形成、腫瘍転移、侵 入または脈管形成、歯周病、たんぱく尿、アルツハイマー病、冠動脈血栓症およ び骨の病気、と関連するメタロプロテイナーゼ、特にMMP−13の阻害に有効 な化合物および組成物の提供である。 本発明の一利点は、このような組成物の製造法の提供である。もう一つの利点 は、異常なマトリックス メタロプロテイナーゼ活性と関連する病理学的状態の 治療法の提供である。 もう一つの利点は、このような病状と関連するメタロプロテイナーゼ、MMP −13を選択的に阻害することによって、他のプロテイナーゼ、即ちその活性が 正常な身体の機能に必要か、あるいは望ましいプロテイナーゼ、の阻害から起こ る副作用を最小にしてかかる病的状態の治療に有効な化合物、組成物および方法 を提供することである。 本発明の尚これ以上の利益および利点は、以下の開示から当業者にとって明ら かとなるであろう。特に適当な具体例の説明 本発明によれば、ある種のチオールスルホン類は、結合組織の非制御な病的破 壊、さもなければ他の病的破壊と関連があると考えられるマトリックス メタロ プロテイナーゼ(「MMP類」)の阻害に有効であることが発見された。とりわ け、幾つかのチオールスルホンアミド類はコラゲナーゼIII(MMP−13)の 阻害に有効であることが分かった。コラゲナーゼIIIは、もし異常な量、あるい は濃度で存在または発生すれば、組織に対して特に破壊的となり、従って病的活 性を発揮するものである。 更にまた、これらチオールスルホンの多くは、正常な身体機能、例えば組織の 代謝回転および修復に欠くことのできないコラゲナーゼを過度に阻害することな く、MMP−13ならびに病気状態と関連した他のMMP類の阻害に選択的であ ることが発見された。更に詳しく言えば、本発明に有用なチオールスルホンは、 MMP−1に及ぼす影響を制限する、あるいは最小にするという点で、MMP− 13に対して選択的でありながら、MMP−13の阻害に特に活性があることが 分かった。以下にこの点を詳細に論議し、幾つかの例で説明する。 本発明の一つの具体例は、病理学的マトリックス メタロプロテアーゼ活性と 関連する状態をもつ哺乳動物の治療法を指向するものである。本法は、メタロプ ロテアーゼ阻害剤を、有効量でかかる症状をもつ治療対象へ投与することからな る。投与される酵素阻害剤は、その構造が下記の式(I)、(II)または(III )の一つに相当する: または 式中、 xとyの各々は、独立してゼロ、1または2であり; Wは酸素または硫黄であり; 企図されたR10基は、アルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルキル、ア リールオキシ、アルアルコキシ、アルアルキル、アミノアルキル、ヘテロアリー ル、およびN−一置換またはN,N−二置換アミノアルキル基であり、窒素上の 置換基(複数のことがある)は、アルキル、アリール、アルアルキル、シクロア ルキル、アルアルコキシカルボニル、アルコキシカルボニル、およびアルカノイ ルからなる群から選ばれ、あるいは窒素とそれに付く2個の置換基とは、5員か ら8員複素環式またはヘテロアリール環を形成し; 企図されているR1基は、阻害剤のSO2部分に結合し、アリール(炭素環式) またはヘテロアリール基である。このSO2−結合置換基はアルアルカノイルア ルキル、アリールカルボニルアルキル、アルアルキルアリール、アリールオキシ アルキルアリール、アルアルコキシアリール、アリールアゾアリール、アリール ヒドラジノアリール、アルキルチオアリール、アリールチオアルキル、アルキル チオアルアルキル、アルアルキルチオアルキル、またはアルアルキルチオアリー ル基、これらチオ置換基のいずれかのスルホキシドまたはスルホン、アルキルチ オアルキルでよく、そして2個または3個の5員または6員アリール環からなる 縮合環構造(炭素環式または複素環式環のいずれでもよい)をとりうる。 SO2−結合した置換基は、なるべくは一つの芳香環を有するアリールまたは複 素環式(ヘテロアリール)環、例えば単一環アルアルキル、ヘテロアルアルキル 、アルアルコキシアルキル、またはヘテロアリールオキシアルキル基がよい。R1 を構成しうるアリール(炭素環式)およびヘテロアリール置換基は、非置換か 、あるいは次の基、即ちハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、ニト ロ、シアノ、ペルフルオロアルキル、トリフルオロメチルアルキル、ヒドロキシ 、チオール、ヒドロキシカルボニル、アリールオキシ、アリールチオ、アリール アミノ、アルアルキル、アリールカルボキサミド、ヘテロアリールカルボキサミ ド、アゾアリール、アゾヘテロアリール、アリール、ヘテロアリールオキシ、ヘ テロアリールチオ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアルアルキル、シクロアルキ ル、ヘテロシクロオキシ、ヘテロシクロチオ、ヘテロシクロアミノ、シクロアル キルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルキルアミノ、ヘテロアルアルコキ シ、ヘテロアルアルキルチオ、ヘテロアルアルキルアミノ、アルアルコキシ、ア ルアルキルチオ、アルアルキルアミノ、ヘテロシクリック、ヘテロアリール、ア リールアゾ、ヒドロキシカルボニルアルコキシ、アルコキシカルボニルアルコキ シ、アルカノイル、アリールカルボニル、アルアルカノイル、アルカノイルオキ シ、アルアルカノイルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルコキシ、ア ルキルチオ、アルコキシアルキルチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシ アルコキシアリール、アリールチオアルキルチオアリール、アリールオキシアル キルチオアリール、アリールチオアルコキシアリール、ヒドロキシカルボニルア ルコキシ、ヒドロキシカルボニルアルキルチオ、アルコキシカルボニルアルコキ シ、アルコキシカルボニルアルキルチオ、アミノ、アルカノイルアミノ、アリー ルカルボニルアミノ、アルアルカノイルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミ ノ、ヘテロアルアルカノイルアミノ、およびN−一置換またはN,N−二置換ア ミノ アルキル[窒素上の置換基(複数のことがある)は、アルキル、アリール、アル アルキル、シクロアルキル、アルアルコキシカルボニル、アルコキシカルボニル 、およびアルカノイルからなる群から選ばれるか、あるいは窒素とそれに付く2 個の置換基が一緒になって5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロアリール環を 形成する]の中から独立して選ばれる1個か2個の置換基で置換される。 企図されているR2およびR3置換基は、それぞれ水素(ヒドリド)、アルキル 、アリール、アルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、アルキニル アルキル、アルケニルアルキル、チオアルキル、シクロアルキル、シクロアルキ ルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルアルコ キシアルキル、アミノアルキル、アルコキシアルコキシアルキル、アリールオキ シアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシカルボニルアルキル、ヒドロキシ カルボニルアルアルキル、またはN−一置換あるいはN,N−二置換アミノアル キル基[窒素上の置換基(複数のことがある)は、アルキル、アルアルキル、シ クロアルキルおよびアルカノイルからなる群から選ばれ、あるいはR2ともう一 つの置換基(R2とR4、またはR2とR6、またはR2とR8)とは、それらが付い ている原子と一緒になって4員から8員環を形成する]でよい。 企図されているR4およびR5基は独立して選ばれる。これら置換基は、水素( ヒドリド)、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ アルキル、ヒドロキシアルキル、アリールオキシアルキル、アルアルコキシアル キル、アルアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、ヒドロ キシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルアルコキシカル ボニルアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、ペルフルオロ アルキル、トリフルオロメチルアルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキル 、アリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル、ヘテロアルアルキルチオ アルキル、あるいは該チオ置換基のいずれかのスルホキシドまたはスルホン、ア ミノカルボニル、アミノカルボニルアルキル、N−一置換またはN,N−二置換 アミノカルボニルまたはアミノカルボニルアルキル基でよく、窒素上の置換基( 複数のことがある)は、それぞれアルキル、アルアルキル、シクロアルキルおよ びアルカノイルの中から選ばれ、あるいは窒素とそれに付く2個の置換基とが 一緒になって5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロアリール環(これは更に1 個のヘテロ原子を含むことができる)を形成し、あるいはR2とR4とは、それら が付く原子と共に4員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR4とR5と は、それらが付く原子と共に3員から8員環を形成し、あるいはR4とR8とは、 それらが付く原子と共に5員から8員環を形成する。 R6およびR7置換基も独立して選ばれる。R6およびR7置換基は、R4および R5を構成する置換基となることができ、あるいはR6とR4は、それらが付く原 子と一緒に4員から8員環を形成し、あるいはR6とR2は、それらが付く原子と 共に5員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR6とR8は、それらが付 く原子と共に4員から8員環を形成し、あるいはR6とR7は、それらが付く原子 と共に3員から8員環を形成する。 企図されているR8およびR9置換基もまた独立して選ばれる。R8およびR9置 換基は、R3およびR4を構成する置換基でもありうる。あるいはR8とR2とは、 それらが付く原子と共に6員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR8 とR9はそれらが付く原子と共に3員から8員環を形成し、あるいはR8とR4は それらが付く原子と一緒に5員から8員環(上記の通り)を形成し、あるいはR8 とR6とは、それらが付く原子と共に4員から8員環(前記の通り)を形成する 。 上記の定義に対する条件は、1個より多くのスルフヒドリル基でgem−置換さ れた炭素原子が無いということである。更に、式III中の星印を付けた置換基( R*)、ならびに「y*」および「x*」は、星印の付いていない「R」基、「y 」および「x」と同じか、または異なる。 一般に優先性の増す順序で、下記のパラグラフは置換基を要約している。そし て、これは、大抵R10を有利にして、R1からR1、ならびにW、xおよびyの各 々を構成する。 R1は、次の置換基:C1−C10アルキル、C1−C10アルコキシ、アリールオ キシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘ テロアルアルコキシ、C1−C10アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリール チオの一つ以上により置換された置換アリールまたはヘテロアリール環を表わ す。 R1は、次の置換基:C1−C6アルキル、C1−C6アルコキシ、アリールカル ボキサミド、ヘテロアリールカルボキサミド、アリールアゾ、ヘテロアリールア ゾ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロアリール、アル アルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C6アルキルチオ、アリールチオ、ヘ テロアリールチオ(各含環置換基はそれ自身単一環を含む)の一つ以上により置 換された置換アリールまたはヘテロアリール環を表わす。 R1は、次の置換基:C1−C6アルキル、C1−C6アルコキシ、アリールカル ボキサミド、ヘテロアリールカルボキサミド、アリールアゾ、ヘテロアリールア ゾ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリール オキシ、アリール、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、 C1−C6アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ(各含環置換基はそ れ自身単一の環を含む)の一つにより、パラ位(4−位)が置換された6員置換 アリール環を表わす。 R1は、その4−位あるいはパラ位が、C1−C6アルキル、C1−C6アルコキ シ、アリールカルボキサミド、アリールアゾ、アリールオキシ、アリールチオお よびアリール(各含環置換基はそれ自身単一の環を含む)により置換された6員 置換アリール環を表わす。 R1は、置換フェニルを表わすが、その場合、フェニル環はそのパラ−位がn −プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、イソブチル、イソアミ ル、エトキシ、n−プロピルオキシ、n−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、n− ヘキシルオキシ、イソブトキシ、フェノキシ、チオフェノキシ(フェニルチオ) 、フェニル、アゾフェニルまたはベンズアミドにより置換される。パラ−置換さ れたR1フェニル置換基は、それ自身任意に、水素の外の1原子あるいはせいぜ い5原子の鎖を含むパラ置換基を含むか、あるいはメタ位とパラ位がメチレンジ オキシ部分により置換される。 R2およびR3優先性: R2およびR3は、それぞれ水素(ヒドリド)、C1−C6アルキル、アルアルキ ル、ヘテロアルアルキル、シクロアルキルアルキル(環に4−8炭素そして アルキル鎖中に1−3炭素を有する)、ヘテロシクロアルキルアルキル(4−8 原子が環中にあり、それら原子の1個か2個は窒素、酸素または硫黄でよく、そ してアルキル鎖は1−3炭素を含む)、C1−C5アルキル(ヒドロキシカルボニ ル、アミノ、一置換アミノおよび二置換アミノにより置換されたもの)である。 前記窒素上の置換基は、C1−C4アルキル、アルアルキル、C5−C8シクロアル キルおよびC1−C6アルカノイル基から選ばれ、あるいは二つの置換基とそれら が付く窒素とを一緒にして考えたとき、これらは5員から8員ヘテロシクロまた はヘテロアリール環を形成する。 R2およびR3は、それぞれ水素(ヒドリド)、C1−C6アルキル、アルアルキ ル、ヘテロアルアルキル、シクロアルキルアルキル(環中に4−8原子そしてア ルキル鎖中に1−3炭素を有する)、ヘテロシクロアルキルアルキル(4−8原 子が環中にあり、それら原子の1個か2個は窒素、酸素または硫黄でよく、そし てアルキル鎖は1−3炭素を含む)である。 R2は水素(ヒドリド)またはC1−C6アルキルを表わし、R3は水素である。 R2は水素(ヒドリド)、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、また はイソブチルを表わし、R3は水素である。 R2は水素(ヒドリド)、ベンジル、2−ピリジルメチル、3−ピリジルメチ ル、4−ピリジルメチル、2−チアゾリルメチル、4−チアゾリルメチル、また は5−チアゾリルメチルを表わし、R3は水素である。 R4およびR5優先性: R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、ヒドロキシ、アミノ、アルカノ イルアミノ、アルアルカノイルアミノ、アリールカルボニルアミノ、ヘテロアリ ールカルボニルアミノ、ヒドロキシカルボニル、アミノカルボニル、C1−C6ア ルキル、アルアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロア ルアルキル、またはアルキルシクロアルアルキルである。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、ヒドロキシ、アミノ、ヒドロキ シカルボニル、アミノカルボニル、またはC1−C6アルキルである。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、ヒドロキシ、またはアミノで ある。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、メチル、エチル、プロピルまた はブチルである。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、アリールまたはヘテロアリール である。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、ベンジル、2−ピリジルメチル 、3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、2−チアゾリルメチル、4−チア ゾリルメチルまたは5−チアゾリルメチルである。 R4およびR5は、それぞれ水素(ヒドリド)、アルカノイルアミノ、アルアル カノイルアミノ、またはヘテロアリールカルボニルアミノである。 R4およびR5は両方とも水素(ヒドリド)である。 R6およびR7優先性: R6およびR7は、それぞれヒドリドあるいは次の基:シクロアルキル、アリー ル、ヘテロアリール、アルアルキル、ヘテロアルアルキル、C1−C6アルキル基 、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカルボニル基、アミノC1−C6アルカノ イル基、カルボキサミド基からなる群から選ばれる基であり、前記カルボキサミ ド基のアミド窒素は、(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、一置換アミノま たは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され、前記アミノ窒 素上の置換基は、C1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルおよびC1−C6ア ルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のアミノ窒素置換基とそ れらが付く窒素とが一緒に結合して更に1個のヘテロ原子(窒素、酸素または硫 黄)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素環式環またはヘテロアリール 環を形成し、あるいは(iii)該アミド窒素はアミノ酸のアミンである。 R6およびR7は、それぞれ水素およびヒドロキシカルボニルである。 R6およびR7は、それぞれ水素、アリール、およびヘテロアリールである。 R6およびR7は、それぞれ水素、アルアルキル、およびヘテロアルアルキルで ある。 R6およびR7は、それぞれ水素、ベンジル、2−ピリジルメチル、3−ピリ ジルメチル、4−ピリジルメチル、2−チアゾリルメチル、4−チアゾリルメチ ルまたは5−チアゾリルメチルである。 R6およびR7は、両方とも水素である。 R7は水素(ヒドリド)であり、R6はC1−C6アルキル基、カルボキシル基、 カルボキサミド基[この場合アミド窒素は(i)非置換か、あるいは(ii)アミ ノ、一置換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換 され、前記窒素上の置換基はC1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルおよび C1−C6アルカノイルから選ばれるか、あるいは2個の置換基とそれらが付く窒 素とを一緒に考えた場合には、更に1個のヘテロ原子(窒素、酸素または硫黄) を含む、あるいは含まない、5員から8員ヘテロシクロあるいはヘテロアリール 環を形成し、あるいは(iii)該アミド窒素はアミノ酸のアミンである]、C1−C6 アルコキシカルボニル、またはアミノC1−C6アルカノイル基であり、あるい はR2とR6とは、それらが結合している原子と共に5員または6員環を形成する 。後者のこれら環化合物は、後で別々に説明する。 R8およびR9優先性: R8およびR9は、それぞれ水素、ヒドロキシカルボニル、C1−C6アルキル、 アリール、ヘテロアリール、アルアルキル、あるいはヘテロアルアルキルである 。 R8およびR9は、それぞれ水素およびヒドロキシカルボニルである。 R8およびR9は、それぞれ水素およびC1−C6アルキルである。 R8およびR9は、それぞれ水素、アリール、またはヘテロアリールである。 R8およびR9は、それぞれ水素、アルアルキル、またはヘテロアルアルキルで ある。 R8およびR9は、それぞれ水素、ベンジル、2−ピリジルメチル、3−ピリジ ルメチル、4−ピリジルメチル、2−チアゾリルメチル、4−チアゾリルメチル 、または5−チアゾリルメチルである。 R8およびR9は両方とも水素である。 R10優先性: R10はアルキル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール、 アミノアルキル、N−一置換アミノアルキルおよびN,N−二置換アミノアルキ ルであり、前記窒素上の置換基はアルキル、アルアルキル、シクロアルキルおよ びアルカノイルからなる群から選ばれ、あるいは二つの置換基とそれらが付く窒 素とを一緒に考えた場合に、これらは5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロア リール環を形成する。 R10はアルキル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール、アミノアルキル、 N−一置換アミノアルキル、およびN,N−二置換アミノアルキルであり、前記 窒素上の置換基はアルキル、アルアルキル、シクロアルキルおよびアルカノイル からなる群から選ばれ、あるいは二つの置換基とそれらが付く窒素とを一緒に考 えた場合に、これらは5員から8員ヘテロシクロまたはヘテロアリール環を形成 する。 R10はC1−C6アルキル、アリール、アルコキシ、またはヘテロアリールであ る。 R10はメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、イソプロピル、またはイ ソブチルである。 R10は3員から8員シクロアルキル環である。 R10はシクロヘキシルおよびシクロペンチルである。 R10は単一の環をもつアリールまたはヘテロアリールである。 R10はフェニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、チオフェン− 2−イル、または3−チオフェン−3−イルである。 R10はC1−C6アルコキシである。 R10はメトキシまたはエトキシである。 星印を付けた置換基、R*、y*およびx*は、星印を付けない置換基、R、y およびxと同じであるのがよく、従って式IIIの化合物はホモダイマーである。 特に適当な実施法においては、3炭素原子の鎖がSO2に結合したR1置換基の SO2部分とメルカプト基とを隔てているので、xはゼロ、yは1となる。SO2 に結合したR1置換基は、置換アリールまたはヘテロアリール基で、これは5員 または6員単環である。即ち、このアリールまたはヘテロアリール基は縮合環基 でなく、それ自身が1個の他の単環アリールまたはヘテロアリール基で置 換されるか、あるいは2から約7炭素原子の鎖を含むアルキルかアルコキシ基、 フェノキシ基、チオフェノキシ[C65−S−]基、フェニルアジド[C65− N2−]基またはベンズアミド[−NHC(O)C65]基で置換される。この SO2に結合した単環アリールまたはヘテロアリールR1基は、6員環ならば自身 の4位で、また5員環ならばそれ自身の3位で置換される。 R1基の置換基である単環アリールまたはヘテロアリール、フェノキシ、チエ ニル、チオフェノキシ、フェニルアゾ、またはベンズアミド基は非置換か、ある いはそれ自身6員環のとき4位で、また時には3位と4位両方で、あるいは5員 環のときには3位で置換されうる。ここに述べた環の4位および3位は、ヘテロ アリール命名法で用いられる正式に認められた環の番号付けによる位置ではなく 、置換基の結合部位から番号を付けた位置である。この場合、ハロゲン部分のよ うな単一原子、あるいは1から水素の外の約5原子の鎖までを含む置換基、例え ばC1−C4アルキル、C1−C4アルコキシまたはカルボキシエチル基を使用でき る。代表的な置換SO2−結合R1置換基の例として、ビフェニル、4−フェノキ シフェニル、4−チオフェノキシフェニル、4−ブトキシフェニル、4−メトキ シフェニル、4−ペンチルフェニル、4−(4’−ジメチルアミノフェニル)ア ゾフェニル、4−(3,4−メチレンジオキシ)フェノキシおよび2−[(2− ピリジル)−5−チエニル]が挙げられる。 最長の原子鎖に沿って調べたとき、自身の置換基を含むR1置換基は、6炭素 原子の飽和鎖より長く、そして約18、なるべくは約12炭素原子の飽和鎖より 短い全長を有し、そしてたとえもっと多くの原子が環構造または置換基中に存在 しうるとしてもこのことが言える。この長さの必要条件は、下でもっと詳しく論 じることにする。 基を構成する特定の部分は別として、もっと一般的に眺めると、特に適当なR1 基(基または部分)はペンチル基のおよその長さより長い長さをもつ(例えば 、4−エチルフェニルまたは4−メトキシフェニル)。このようなR1基はまた ステアリル(オクタデシル)基のそれより短い長さをもつ。即ち、特に適当なR1 基は、飽和6炭素鎖のおよその長さより長く、そして飽和18炭素原子の長さ より短い長さをもつ基である。一層好ましい基はヘキシル基の長さより長く、 そしてラウリル基のそれより短い。 基の鎖長は、基中の最長の線状原子鎖に沿って測り、鎖中の各原子は計算の容 易さのため炭素であると仮定する。このような長さは、発表された結合角、結合 距離および結合半径を用い、必要に応じ、ねじれた鎖を図に書いて測ることによ り、あるいは市販キット(その結合角、結合距離および原子半径は受け入れられ た発表値と一致している)を用いて模型を組み立てることにより容易に決定でき る。例えば、フェニル基はほぼブチル基の長さをもつ。基の長さは、幾分不正確 ではあるが、すべての原子は飽和炭素の結合距離をもつこと、不飽和結合は飽和 結合と同じ長さをもつこと、および不飽和結合に対する結合角は、飽和結合に対 するそれと同じであることを仮定することによっても決定できるが、上記の測定 法の方がよい。 その上、特に適当なR1基は、6員環のSO2と結合した1位と4位を通って引 かれた軸、あるいは5員環のSO2と結合した位置および置換基と結合した3位 または5位を通って引かれた軸の周りで回転したとき、一つの三次元体積を決め るが、その最も幅広い寸法は、前記回転軸を横切る方向で約1フェニル環から約 3フェニル環の幅をもつ。 これら結合距離と幅の要件の結果として、例えば4−(フェニル)フェニル[ ビフェニル]、4−(4’−メトキシフェニル)フェニル、4−(フェノキシ) フェニル、4−(チオフェニル)フェニル、[4−(フェニルチオ)フェニル] 、4−(アゾフェニル)フェニルおよび4−(ベンズアミド)フェニルのような R1置換基が特に好ましいR1置換基である。これら置換基は、SO2基からみて 二番目の環のメタ位またはパラ位またはその両方を、単一原子で、あるいは5原 子までの最長鎖を含む置換基で(水素を除外)、それ自身が置換されうる。 前記方法に役立つ特に適当なMMP−13阻害剤化合物の一亜群は、下記の式 Ia、IIaおよびIIIaにより描かれた構造を有する: または 本発明に役立つ上記の特に適当なMMP−13阻害化合物において、R1はす ぐ上で説明した通りである。これら化合物において、Wは酸素(O)がよいが、 硫黄(S)でもよい。R10は前に説明した通りであるが、なるべくは単一環ある いはC1−C6アルコキシを有するアリールまたはヘテロアリールがよい。 R2およびR3は、ヒドリド、C1−C6アルキル、アルキル鎖中に1−3炭素を 有する単環アルアルキルまたはヘテロアルアルキル、環中に4−8炭素とアルキ ル鎖中に1−3炭素を有するシクロアルキルアルキル、およびヘテロシクロアル キルアルキル(環中に4−8原子があり、それら原子のうち1個か2個は窒素、 酸素または硫黄であり、そしてアルキル鎖は1−3炭素を含むか、あるいはR2 およびR6はそれらが結合している原子と共に5員または6員環を形成するもの )からなる群から独立して選ばれる基である。 R6は、C1−C6アルキル基、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカルボニ ル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選ばれ る基であり、前記のアミド窒素は(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、一置 換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され、前 記アミノ窒素上の置換基は、C1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルおよび C1−C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のアミノ窒素 置換基とそれらが結合した窒素とが一緒になって、更に1個のヘテ ロ原子(窒素、酸素または硫黄)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素 環式環またはヘテロアリール環を形成し、あるいは(iii)アミド窒素はアミノ酸 のアミンである。R2およびR6はまた、前記のように、それらが結合している原 子と共に5員または6員環を形成しうる。6員環が特によく、そしてこの環は芳 香環でよい。 前記方法に役立つ化合物の、一つの最も好ましいMMP−13阻害剤亜群は、 下記の式Ib、IIbおよびIIIbにより描かれた構造に相当する。 または 式Ib、IIb、またはIIIbを有する阻害剤化合物中、R2およびR6はすぐ上 で論じた通りであるが、ただし、もしR2とR6とが、それらの結合した原子と共 に5員または6員環を形成しない限り、R2かR6の唯一つだけが存在する。R10 もまたすぐ上で論じた通りである。phR11基のフェニル基(ph)は、そのパ ラ位でR11基(これはもう一つの単環アリールまたはヘテロアリール基でよい) により、あるいはC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、フェノキシ基、 チオフェノキシ[C65−S−]基、フェニルアジド[C65−N2−]基また はベンズアミド[−NHC(O)C65]基により置換される。 最も好ましい阻害剤化合物の一具体例において、R11置換基はフェノキシであり 、そしてそれ自身がそのパラ位で、ハロゲン、C1−C4アルコキシ基、C1−C4 アルキル基、ジメチルアミノ基、C1−C3アルキルカルボキシル基、C1−C3ア ルキルカルボニルC1−C4アルコキシ基、およびC1−C3アルキルカルボキサミ ド基からなる群から選ばれる基で置換され、あるいはメタ位とパラ位でメチレン ジオキシ基により置換される。 R2およびR6が、それらの結合している原子と一緒に5員または6員環を形成 する化合物は、下記の式IVa、IVb、VaおよびVbに相当する。 下記の優先性が式IVa、IVb、VaおよびVbの阻害剤化合物に対して適用さ れる。 R1優先性: R1は、アリール、ヘテロアリール、アルキル、アルキルチオアルキル、アリ ールチオアルキル、ヘテロアリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル、 ヘテロアルアルキルチオアルキル;これらチオ置換基のいずれかのスルホンまた はスルホキシドからなる群から選ばれる基である。アリールまたはヘテロアリー ル基は、一か所、二か所または三か所で、C1−C10アルキル、C1−C10アルコ キシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロアリール、ア ルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C10アルキルチオ、アリールチオ 、ヘテロアリールチオ、シクロアルキルチオ、ヘテロシクロ、シクロアルキル、 アミノ、アルカノイルアミノ、アルアルカノイルアミノ、アリールカルボニルア ミノ、ヘテロアルアルカノイル、ヘテロアリールカルボニルアミノからなる群か ら選ばれる基により置換されうる。 R1は、C1−C10アルキル、アリール、ヘテロアリールを表わし、この場合、 アリールまたはヘテロアリールは次の置換基:C1−C10アルキル、C1−C10ア ルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロアリール 、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C10アルキルチオ、アリール チオ、ヘテロアリールチオ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノの1個以上 により任意に置換される。 R1は、アリールを表わし、そしてこのアリールは、次の置換基:C1−C6ア ルキル、C1−C6アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリー ル、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C6アルキ ルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオの1個以上により任意に置換される 。 R1はアリールを表わし、そしてこのアリールは、次の置換基:C1−C6アル キル、C1−C6アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール 、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C6アルキル チオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオまたはベンズアミド、の一つによりパ ラ位で任意に置換される。 R1はアリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位でC1−C6アルキ ルまたはC1−C6アルコキシにより置換される。 R1はアリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位で、n−プロピル 、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、イソブチル、イソアミル、トキシ 、n−プロピルオキシ、n−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキ シ、イソブトキシにより置換される。 R1はアリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位で、n−ブチル、 n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イソブトキ シにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位で、アリール オキシ、フェニル、フェニルアゾ、ベンズアミド、またはヘテロアリールオキシ により置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールは、そのパラ位でフェノキ シ基により置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位でアリールま たはヘテロアリールにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはそのパラ位でフェニル、 2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジルにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはパラ位でフェニルにより 置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはパラ位でC1−C6アルキ ルチオにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはパラ位でメチルチオ、n −プロピルチオ、n−ブチルチオにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そしてこのアリールはパラ位でアリールチオお よびヘテロアリールチオにより置換される。 R1は単環アリールを表わし、そのアリールはパラ位でフェニルチオにより置 換される。 R10優先性: R10は、アルキル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール、シクロアルキル 、アミノアルキル、N−一置換アミノアルキルおよびN,N−二置換アミノアル キルからなる群から選ばれる基であり、前記窒素上の置換基は、アルキル、アル アルキル、シクロアルキルおよびアルカノイルから選ばれるか、あるいはこれら 二つの置換基とそれらが付く窒素とが一緒に5員から8員ヘテロシクロまたはヘ テロアリール環を形成する。 R10はC1−C6アルキル、アリール、C1−C6アルコキシ、またはヘテロアリ ールを表わす。 R10はメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、イソプロピルまたはイソ ブチルを表わす。 R10は3員から8員シクロアルキル環を表わす。 R10はシクロヘキシルおよびシクロペンチルを表わす。 R10はアリールまたはヘテロアリールを表わす。 R10はフェニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、チオフェン− 2−イル、3−チオフェン−3−イルを表わす。 R10はC1−C6アルコキシを表わす。 R10はメトキシおよびエトキシを表わす。 式IVa、IVb、VaおよびVbの阻害化合物の特に好ましい、および最も好ま しいR1およびR10置換基は、それぞれ式Ia−IIIaおよびIb−IIIbの化合 物に対して前に論じた通りである。 R4とR6、あるいはR6とR8がそれらの結合している原子と一緒に6員環を形 成したもう一つの化合物群は、生じた環が芳香族であるものである。代表的化合 物は、下記の式VIa、VIb、VIIa、およびVIIbに相当する。これらの式におい て、式VIaおよびVIbの阻害化合物は、yがゼロ、そしてxが1である式Iおよ びIIの化合物であるのに対し、式VIIaおよびVIIbの化合物は、yが1、xが1 である式IおよびIIの化合物であることが分かる。 下記の優先性は、上記式の特に適当な化合物に対して適用される。 R1優先性: R1は、アリール、ヘテロアリール、アルキル、アルキルチオアルキル、アリ ールチオアルキル、ヘテロアリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル、 ヘテロアルアルキルチオアルキル;前記チオ置換基のいずれかのスルホンまたは スルホキシドからなる群から選ばれる基である。これらのアリールまたはヘテロ アリール基は、一か所、二か所、または三か所で、C1−C10アルキル、C1−C10 、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロアリール、アル アルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C10アルキルチオ、アリールチオ、 ヘテロアリールチオ、シクロアルキルチオ、ヘテロシクロ、シクロアルキル、ア ミノ、アルカノイルアミノ、アルアルカノイルアミノ、アリールカルボニルアミ ノ、ヘテロアルアルカノイル、ヘテロアリールカルボニルアミノからなる群から 選ばれる基により置換できる。 R1は、アリール、ヘテロアリール、C1−C10アルキルである基であり、この 場合アリールまたはヘテロアリールは、次の置換基:C1−C10アルキル、C1− C10アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリール、ヘテロア リール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C10アルキルチオ、ア リールチオ、ヘテロアリールチオ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノの一 つ以上により任意に置換できる。 R1は、アリールであり基であり、この場合、アリールは下記の置換基:C1− C6アルキル、C1−C6アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、 アリール、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C6 アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオの一つ以上により任意に置換 できる。 R1は単環アリールである基であり、この場合、アリールは次の置換基:C1− C6アルキル、C1−C6アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、 アリール、ヘテロアリール、アルアルコキシ、ヘテロアルアルコキシ、C1−C6 アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオの一つによりパラ位で任意に 置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でC1−C6 アルキルまたはC1−C6アルコキシにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合、アリールはそのパラ位で、n −プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、イソブチル、イソアミ ル、t−ブトキシ、n−プロピルオキシ、n−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、 n−ヘキシルオキシ、イソブトキシにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合、アリールはそのパラ位でn− ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イ ソブトキシにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でアリー ルオキシまたはヘテロアリールオキシにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でフェノ キシ基により置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でアリー ルまたはヘテロアリールにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でフェニ ル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジルにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でフェニ ルにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でC1−C6 アルキルチオにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でメチル チオ、n−プロピルチオ、n−ブチルチオにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でアリー ルチオおよびヘテロアリールチオにより置換される。 R1は単環アリールである基であり、この場合アリールはそのパラ位でフェニ ルチオにより置換される。 R10優先性: R10は、アルキル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール、シクロアルキル 、アミノアルキル、N−一置換アミノアルキルおよびN,N−二置換アミノアル キルからなる群から選ばれる基であり、この場合窒素上の置換基は、アルキル、 アルアルキル、シクロアルキルおよびアルカノイルから選ばれ、あるいは二つの 置換基とそれらが付く窒素とを一緒にして考えたとき、これらは5員から8員ヘ テ ロシクロまたはヘテロアリール環を形成する。 R10はC1−C6アルキル、アリール、C1−C6アルコキシ、またはヘテロアリ ールである基である。 R10はメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、イソプロピル、またはイ ソブチルである基である。 R10は3員から8員シクロアルキル環である基である。 R10はシクロヘキシルまたはシクロペンチルである基である。 R10はアリールまたはヘテロアリールである基である。 R10はフェニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、チオフェン− 2−イル、または3−チオフェン−3−イルである基である。 R10はC1−C6アルコキシである基である。 R10はメトキシおよびエトキシである基である。 式VIa、VIb、VIIaおよびVIIbの阻害化合物の特に好ましい、および最も好 ましいR1およびR10置換基は、それぞれ式Ia−IIIaおよびIb−IIIbの化 合物に対して前に論じた通りである。 本明細書中に記載された化合物は、これらがMMP−13の活性を阻害しうる という点で、ここに記載された方法に有用である。特に適当な化合物は、後述の 容器内検定法で、約1000nm以下のIC50値で酵素を阻害する。最も好ましい 化合物は、前記検定法で約30nm以下のIC50値を示し、ある化合物は約1nm以 下の値を示す。 その上、MMP−13に対して高度に活性であると同時に、MMP−1に対す る阻害活性の選択性も、これら特に適当な化合物および最も好ましい化合物の多 くによって示されている。即ち、多くの化合物は容器内検定でMMP−1に対し 殆どあるいは全く阻害を示さず、従ってMMP−1に対するIC50値はしばしば 数千から10,000nmより大であることが分かっている。MMP−1およびM MP−13に対するIC50値の代表的比(IC50MMP−1/IC50MMP−1 3)は、約5から約25,000にわたることがあり、最も好ましい化合物は約 500から約25,000の比を示す。幾つかの代表的化合物に対する阻害デー タを後の表で提供する。 企図されている阻害剤化合物は、病理学的なマトリックス メタロプロテアー ゼ活性と関連した状態をもつ治療対象哺乳動物、例えばマウス、ラット、家兎、 イヌ、ウマ、霊長目の動物、例えばサル、チンパンジーあるいはヒトの治療に使 用される。 また、企図されたメタロプロテアーゼ阻害化合物を、メタロプロテアーゼの活 動によって影響される病気状態の治療に使用することも企図されている。このよ うな病気状態の一例はTNF−αコンベルターゼの活動により影響されるもので ある。このような病気状態の代表的な例は、ショックおよび敗血症の急性期反応 、凝血反応、出血および心臓血管効果、発熱および炎症、無食欲および悪液質で ある。 病理学的なマトリックス メタロプロテイナーゼ活性と関連した病気状態の治 療においては、企図されたMMP阻害化合物を、無機酸または有機酸から誘導さ れたアミン塩の形で使用できる。代表的塩には次のものが含まれるが、これに制 限されない:酢酸塩、アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン 酸塩、安息香酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、酪酸塩、カンフォレート 、ショウノウスルホン酸塩、ジグルコネート、シクロペンタンプロピオネート、 ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロホスフェ ート、ヘミサルフェート、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸塩、 臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、2−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、乳酸塩、 マレイン酸塩、メタンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、2−ナフタレンスルホン酸 塩、シュウ酸塩、パルモエート、ペクチネート、過硫酸塩、3−フェニルプロピ オネート、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸 塩、チオシアン酸塩、トシレート、メシレート、およびウンデカン酸塩。 また塩基性含窒素基は次の試薬、例えば低級アルキルハライド、例えばメチル 、エチル、プロピル、およびブチルクロリド、ブロミドおよびヨーダイド;ジア ルキルサルフェート、例えばジメチル、ジエチル、ジブチル、およびジアミルサ ルフェート、長鎖ハライド、例えばデシル、ラウリル、ミリスチル、およびステ アリルクロリド、ブロミドおよびヨーダイド、アルアルキルハライド、例えばベ ンジルおよびフェネチルブロミド、などにより第四級化することにより水溶性を 高 めることができる。これにより水または油に可溶性あるいは分散性の生成物が望 み通りに得られる。塩は塩基性化合物を望む酸と化合させることによりつくられ る。 本発明に有用な他の酸化合物も塩を生成しうる。例として、アルカリ金属また はアルカリ土類金属、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムまたはマグネシ ウムとの塩、あるいは有機塩基または塩基性第四級アンモニウム塩との塩が挙げ られる。 場合により、本発明化合物の単離、精製または分割における補助手段として塩 を用いることもできる。 治療対象哺乳動物へ一回分量または分割量として投与される全一日分量は、例 えば毎日0.001から30mg/kg体重、更に普通には0.01から10mgの量 でよい。投薬単位組成物は、一日分量とする上記の量あるいはその約数に相当す る量を含み得る。一日当り、少量を多数回にして適量を投与できる。一日当り多 数回投与して一日の全量を増加させることもでき、薬剤処方者によりこれが望ま れるに違いない。 本発明化合物および(または)組成物を用いて病気状態を治療するための投与 計画は、種々な因子、例えば患者のタイプ、年齢、体重、性別、食餌条件および 医学的状態、病気の重篤さ、投与経路、薬理学的考慮事項、例えば用いた個々の 化合物の活性、効率、薬動学的および毒物学的プロフィル、薬物投与装置を利用 するかどうか、および化合物を薬物コンビネーションの一部として投与するかど うかに従って選ばれる。従って、実際に用いられる投与計画は広く変化すること ができ、そのため上記の特に適当な投与計画からはずれることがある。 本発明に役立つ化合物は、医薬組成物として処方できる。次にこのような組成 物は、必要に応じ、従来からの無毒性の製薬上容認しうる担体、補助剤、および ビヒクルを含む投薬単位製剤として、経口的に、非経口的に、吸入スプレーによ り、直腸内に、あるいは局所的に投与できる。局所投与はまた経皮投与手段、例 えば経皮貼用薬あるいはイオン導入装置の使用を含むことができる。本明細書中 で用いた非経口的という用語は、皮下注射、静脈内、筋肉内、胸骨内注射、ある いは点滴技術を包含する。薬物処方は、例えばHoover,John E.,Remington's Pharmaceutical Sciences ,Mack Publishing Co.,Easton,Pennsylvania;19 75 and Liberman,H.A.and Lachman,L.,Eds.,Pharmaceutical Dosage Fo rms, Marcel Decker,New York,N.Y.,1980に論じられている。 注射製剤、例えば無菌の注射用水性あるいは油性懸濁系は、適当な分散剤また は湿潤剤および懸濁剤を使用する公知の技術に従って処方できる。無菌注射製剤 は、非経口的に容認しうる希釈剤あるいは溶媒中、注射用無菌溶液あるいは懸濁 液、例えば1,3−ブタンジオール溶液としてでもよい。使用可能な容認できる ビヒクルおよび溶媒には、水、リンゲル溶液、および等張塩化ナトリウム溶液が ある。更に、無菌固定油が、溶媒または懸濁媒質として従来から用いられている 。この目的に対し、合成モノ−またはジグリセリドを含めて、どのブランドの固 定油も使用できる。更にまた、脂肪酸、例えばオレイン酸が、注射薬の調製にそ の使用が見出されている。ジメチルアセトアミド、イオン性および非イオン性洗 浄剤を含めて界面活性剤、ポリエチレングリコールを使用できる。溶媒および湿 潤剤、例えば上記のもの、の混合物も有用である。 薬物の直腸内投与に向く坐剤は、薬剤を適当な無刺激性付形薬、例えばカカオ 脂、合成モノ−、ジ−、またはトリグリセリド、脂肪酸、およびポリエチレング リコールと混合することにより調製でき、該付形薬は、常温では固体であるが直 腸温度では液体であり、そのため直腸内で融けて薬物を放出するであろう。 経口投与用の固体剤形の例として、カプセル、錠剤、丸剤、散剤、および顆粒 剤が挙げられる。このような固体剤形においては、本発明化合物を、指示された 投与経路に適した一種以上の補助剤と合わせるのが普通である。経口投与の場合 、化合物をラクトース、ショ糖、デンプン粉、アルカン酸のセルロースエステル 、セルロースアルキルエステル、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシ ウム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウム塩およびカルシウム塩 、ゼラチン、アラビアガム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、お よび(または)ポリビニルアルコールと混合し、次に投与の便利のために打錠す るかカプセル化することができる。このようなカプセルまたは錠剤は、ヒドロキ シプロピルメチルセルロース中の活性化合物の分散系として提供されるような、 制御放出製剤を包含しうる。カプセル、錠剤、および丸剤の場合、その剤形は緩 衝 剤、例えばクエン酸ナトリウム、マグネシウムまたはカルシウムの炭酸塩または 重炭酸塩も含む。錠剤および丸剤は、更に腸溶被覆を付けて製造できる。 治療目的に対して、非経口投与用製剤は、水性または非水性、等張無菌注射溶 液または懸濁系の形をとりうる。これら溶液および懸濁系は、経口投与用製剤に おける使用について述べた担体または希釈剤の一種以上を含有する無菌粉末また は顆粒から調製できる。化合物を水、ポリエチレングリコール、プロピレングリ コール、エタノール、とうもろこし油、綿実油、落花生油、胡麻油、ベンジルア ルコール、塩化ナトリウム、および(または)各種の緩衝液に溶かすことができ る。他の補助剤および投与様式は、製薬分野で十分に、かつ広く知られている。 経口投与用の液体剤形は、この分野で常用される不活性希釈剤、例えば水、を 含む製薬上容認しうる乳濁系、溶液、懸濁系、シロップ、およびユリキシルを包 含できる。このような組成物はまた補助剤、例えば湿潤剤、乳化剤および懸濁剤 、および甘味剤、フレーバ剤、および香料も含むことができる。 担体材料と合わせて単一剤形をつくることのできる活性成分の量は、処置を受 ける哺乳動物対象および個々の投与様式によって変化する。 ある種の本発明化合物は、本発明に係る他の化合物へのプロドラッグとして役 立ちうる。プロドラッグは、生体内または容器内で、生物学的系により活性誘導 体または誘導体類に化学的に変換されうる薬物である。本発明による一例は、式 II(IIaまたはIIb)の薬物であり、この場合には、アシル基が加水分解されて 式I(式IaまたはIb)の化合物になる。もう一つの例は、本発明に係るジス ルフィドがそのチオール生成物に還元され、あるいは、ある場合には、活性な混 合ジスルフィドに変換される場合である。 下記の表1から表40は、本発明の目的に役立つ幾つかの化合物を示している 。化合物の各群は一般式、あるいは式、により表わされ、その後に、一般構造中 に明白に示された位置に結合しうる種々な置換基を構成する一連の特に適当な部 分あるいは基が示されている。一般的な記号、例えばR1、R2などは前に定義し た通りである。この方式は、化学情報分野でよく知られ、科学論文および科学的 発表に広く使用されている。例えば、表2中のR1は、表の下部に示されたR1を 代行しうる構造可変部分によって変化しうる基である。30個のR1基(水素 を含めて)が示されているが、これらは本発明に使用するために調製できる30 種の別個の化合物を表わすために用いるのであって、これに限定するのではない 。 分子および基について書かれた説明中、分子記述子は、これを併合して構造グ ループを記述する言葉または語句をつくり出すことができ、あるいは構造グルー プを記述するために併合される。本明細書中にはこのような記述子が使われる。 一般的な代表例には、アルアルキル(あるいはアリールアルキル)、ヘテロアル アルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルアルコキシア ルコキシカルボニルなどといった用語が含まれる。後者の記述子アルアルコキシ アルコキシカルボニルによって包含される化合物の特定の一例はC65−CH2 −CH2−O−CH2−O−(C=O)−(式中、C65−はフェニルである)で ある。構造グループは、この分野で一つより多くの記述語または語句をもちうる ことも注目すべきである。例えば、ヘテロアリールオキシアルキルカルボニルは ヘテロアリールオキシアルカノイルと呼ぶこともできる。このような併用は、本 発明化合物および組成物の説明の中で使われており、またそれ以外の例を下で説 明する。下記のリストは、余すところなく網羅しているという意図ではなく、こ のような語あるいは語句の例を更に示すものである。 本明細書中で用いている用語「アルキル」は、単独あるいは複合語として、1 から約12炭素原子、なるべくは1から約10炭素原子、そして一層好ましくは 1から約6炭素原子を含む直鎖または分枝鎖アルキル基を意味する。このような 基の例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ ソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、iso−アミル、ヘ キシル、オクチルなどが挙げられる。 用語「アルケニル」は、単独あるいは複合語として、1個以上の二重結合を有 し、かつ2から約12炭素原子、なるべくは2から約10炭素原子、そして一層 好ましくは、2から約6炭素原子を含む直鎖または分枝鎖炭化水素基を意味する 。適当なアルケニル基の例として、エテニル(ビニル)、2−プロペニル、3− プロペニル、1,4−ペンタジエニル、1,4−ブタジエニル、1−ブテニル、 2−ブテニル、3−ブテニル、デセニルなどが挙げられる。 用語「アルキニル」は、単独あるいは複合語として、1個以上の三重結合を有 し、そして2から約12炭素原子、なるべくは2から約10炭素原子、そして一 層好ましくは、2から約6炭素原子を含む直鎖炭化水素基を意味する。アルキニ ル基の例として、エチニル、2−プロピニル、3−プロピニル、デシニル、1− ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニルなどが挙げられる。 用語「カルボニル」は、単独あるいは複合語として、−C(=O)−基を意味 し、式中の、残りの2本の結合(原子価)は独立して置換されうる。用語「チオ ール」または「スルフヒドリル」は、単独あるいは複合語として、−SH基を意 味する。用語「チオ」または「チア」は、単独あるいは複合語として、チアエー テル基、即ちエーテル酸素を硫黄原子で置き換えたエーテル基、を意味する。 用語「アミノ」は、単独あるいは複合語として、アミンまたは−NH2基を意 味するが、これに対して用語一置換アミノは、単独あるいは複合語として、置換 アミン−N(H)(置換基)基(1個の水素原子を置換基で置き換える)を意味 し、二置換アミンは−N(置換基)2を意味する。後者の場合、アミノ基の2個 の水素原子をそれぞれ選ばれた置換基で置き換えたものである。 アミン、アミノ基およびアミドは、アミノ窒素の置換の度合によって、第一級 (I°)、第二線(II°)または第三級(III°)として、あるいは非置換、一 置換または二置換として表わすことのできる化合物である。第四級アミン(アン モニウム)(IV°)は、4個の置換基をもつ窒素[−N+(置換基)4]、即ち正 に帯電し、反対イオンを伴なう窒素を意味するが、これに対してN−オキシドは 1個の置換基が酸素で、グループが[−N+(置換基)3−O-]のように表わさ れる、即ち電荷が内部で相殺されている、化合物を意味する。 用語「シアノ」は、単独あるいは複合語として、−C−三重結合−N(−C/ N)基を意味する。用語「アジド」は、単独あるいは複合語として、−N−三重 結合−N(−N/N)基を意味する。用語「ヒドロキシル」は、単独あるいは複 合語として、−OH基を意味する。用語「ニトロ」は、単独あるいは複合語とし て、−NO2基を意味する。用語「アゾ」は、単独あるいは複合語として、−N =N−基を意味する。この場合両端の結合はそれぞれ置換できる。 用語「ヒドラジノ」は、単独あるいは複合語として、−NH−NH−基を意味 し、ここに描かれた残りの2本の結合(原子価)はそれぞれ置換される。ヒドラ ジノ基の水素原子は、それぞれ置換基で置換することができ、これら窒素原子は 、酸付加塩を形成でき、あるいは第四級化できる。 用語「スルホニル」は、単独あるいは複合語として、−SO2−基を意味する 。ここに描かれた2本の結合(原子価)はそれぞれ置換できる。用語「スルホキ シド」は、単独あるいは複合語として、−SO−基を意味する。その残りの2本 の結合(原子価)は、それぞれ置換される。 用語「スルホン」は、単独あるいは複合語として、−SO2−基を意味し、こ こに描かれた2本の結合(原子価)はそれぞれ置換できる。用語「スルフィド」 は、単独あるいは複合語として、−SON=基を意味し、残りの3本の描かれた 結合(原子価)はそれぞれ置換できる。用語「スルフェンアミド」は、単独ある いは複合語として、−S−基を意味し、残りの2本の結合(原子価)はそれぞれ 置換できる。 用語「アルコキシ」は、単独あるいは複合語として、アルキルエーテル基を意 味し、この用語アルキルは前に定義した通りである。適当なアルキルエーテル基 の例として、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブト キシ、イソ−ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシなどが挙げられ る。 用語「シクロアルキル」は、単独あるいは複合語として、3から約8炭素原子 を含む環状アルキル基を意味する。用語「シクロアルキルアルキル」は、3から 約8、なるべくは3から約6炭素原子、を含むシクロアルキル基により置換され た前記アルキル基を意味する。このようなシクロアルキル基の例として、シクロ プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。 用語「アリール」は、単独あるいは複合語として、5員か6員芳香環を含む部 分、あるいは環内にすべて炭素原子を有する二環あるいは三環を含む縮合環系、 即ち炭素環式アリール基、あるいは1個以上のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素お よひ窒素を環(複数のことがある)内に含むヘテロアリール基を意味する。代表 的な炭素環式アリール基はフェニル、インデニルおよびナフチル基である。この ような複素環式基あるいはヘテロアリール基の例は、ピロリジニル、ピペリジニ ル、ピペラジニル、モルホリニル、チアモルホリニル、ピロリル、イミダゾリル (例えば、イミダゾール−4−イル、1−ベンジルオキシカルボニルイミダゾー ル−4−イルなど)、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、フリ ル、テトラヒドロフリル、チエニル、トリアゾリル、オキサゾリル、オキサジア ゾイル、チアゾリル、チアジアゾイル、インドリル(例えば、2−インドリルな ど)、キノリニル(例えば、2−キノリニル、3−キノリニル、1−オキシド− 2−キノリニルなど)、イソキノリニル(例えば、1−イソキノリニル、3−イ ソキノリニルなど)、テトラヒドロキノリニル(例えば、1,2,3,4−テト ラヒドロ−2−キノリニルなど)、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリニ ル(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロ−1−オキソ−イソキノリニルなど )、キノキサリニル、β−カルボリニル、2−ベンゾフランカルボニル、ベンゾ チオフェニル、1−,2−,4−または5−ベンゾイミダゾリルなどである。 アリール環基は、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニ トロなどから選ばれる一つ以上の置換基をもつことができ、例えばフェニル、p −トリル、4−メトキシフェニル、4−(tert−ブトキシ)フェニル、4− フルオロフェニル、4−クロロフェニル、4−ヒドロキシフェニル、1−ナフチ ル、2−ナフチルなどが挙げられる。 用語「アルアルキル」は、単独あるいは複合語として、水素1原子を、前に定 義したアリール基により置き換えた前記のアルキル基を、例えばベンジル、2− フェニルエチルなどを意味する。 用語「アルアルコキシカルボニル」は、単独あるいは複合語として、式−C( O)−O−アルアルキル(この用語「アルアルキル」は上記の意味をもつ)を有 する基を意味する。アルアルコキシカルボニル基の一例はベンジルオキシカルボ ニルである。 用語「アリールオキシ」は、式アリール−O−(式中、アリールは前記の意味 をもつ)を有する基を意味する。 用語「アルカノイル」あるいは「アルキルカルボニル」は、単独あるいは複合 語として、アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、その例として アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、4−メチルバレリルなどが挙げ られる。 用語「シクロアルキルカルボニル」は、単環式あるいは橋かけシクロアルカン カルボン酸から誘導されたアシル基、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロ ヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニルなど、あるいはベンゾ縮合単環式 シクロアルカンカルボン酸(これは、例えばアルカノイルアミノにより任意に置 換される)から誘導されるアシル基、例えば1,2,3,4−テトラヒドロ−2 −ナフトイル、2−アセトアミド−1,2,3,4−テトラヒドロ−2−ナフト イル、を意味する。 用語「アルアルカノイル」あるいは「アルアルキルカルボニル」は、アリール 置換アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基、例えばフェニルアセチル、3 −フェニルプロピオニル(ヒドロシンナモイル)、4−フェニルブチリル、(2 −ナフチル)アセチル、4−クロロヒドロシンナモイル、4−アミノヒドロシン ナモイル、4−メトキシヒドロシンナモイルなど、を意味する。 用語「アロイル」あるいは「アリールカルボニル」は、芳香族カルボン酸から 誘導されるアシル基を意味する。このような基の例として、芳香族カルボン酸、 任意に置換された安息香酸またはナフトエ酸、から得られるアシル基、例えばベ ンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−カルボキシベンゾイル、4−(ベンジル オキシカルボニル)ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフトイル、6−カルボ キシ−2−ナフトイル、6−(ベンジルオキシカルボニル)−2−ナフトイル、 3−ベンジルオキシ−2−ナフトイル、3−ヒドロキシ−2−ナフトイル、3− (ベンジルオキシホルムアミド)−2−ナフトイルなどが挙げられる。 ヘテロシクロカルボニル、ヘテロシクロオキシカルボニル、ヘテロシクロアル コキシカルボニル、またはヘテロシクロアルキル基などの複素環式(ヘテロシク ロ)あるいはヘテロシクロアルキル部分は、飽和または部分的に不飽和な単環、 二環または三環式の複素環であり、これらは窒素、酸素および硫黄から選ばれる 1個以上のヘテロ原子を含む。このような部分は、1個以上の炭素原子上で、ハ ロゲン、アルキル、アルコキシ、オキソなどにより、そして(または)第二級窒 素原子(即ち、−NH−)上で、アルキル、アルアルコキシカルボニル、アルカ ノイル、アリールまたはアリールアルキルにより、あるいは第三級窒素原子(即 ち、=N−)上で、オキシドにより、また炭素原子を介して付く基により、任意 に置換できる。3個の置換基をもつ第三級窒素原子もN−オキシド(=N(O) −)基を形成するように付くことができる。 用語「シクロアルキルアルコキシカルボニル」は、式シクロアルキルアルキル −O−CO−(式中、シクロアルキルアルキルは、前記の意味をもつ)のアシル 基を意味する。用語「アリールオキシアルカノイル」は、式アリール−O−アル カノイル(式中、アリールおよびアルカノイルは前記の意味をもつ)を有するア シル基を意味する。用語「ヘテロシクロオキシカルボニル」は、式ヘテロシクロ −O−CO−(式中、ヘテロシクロは前に定義した通りである)を有するアシル 基を意味する。 用語「ヘテロシクロアルカノイル」は、式ヘテロシクロ−置換アルカンカルボ ン酸(ヘテロシクロは前記の意味をもつ)のアシル基である。用語「ヘテロシク ロアルコキシカルボニル」は、式ヘテロシクロ−置換アルカン−O−CO−(ヘ テロシクロは前記の意味をもつ)を有するアシル基を意味する。用語「ヘテロア リールオキシカルボニル」は、式ヘテロアリール−O−CO−(ヘテロアリール は、前記の意味をもつ)により表わされるアシル基を意味する。 用語「アミノカルボニル」は、単独あるいは複合語として、アミノ置換カルボ ン酸(カルボキサミド)から誘導されるアミノ置換カルボニル(カルバモイル) 基を意味し、前記アミノ(アミド窒素)基は、水素、およびアルキル、アリール 、アルアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから選ばれる 置換基を含む第一級または第二級アミノ基でよい。 用語「アミノアルカノイル」は、アミノ置換アルカンカルボン酸から誘導され るアシル基を意味し、前記アミノ基は、水素、アルキル、アリール、アルアルキ ル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから独立して選ばれる置換 基を含む第一級または第二級アミノ基でよい。 用語「ハロゲン」は、フッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物を意味する。 用語「ハロアルキル」は、一つ以上の水素をハロゲンで置換したアルキル基(前 に定義した通りの意味をもつ)を意味する。このようなハロアルキル基の例とし て、クロロメチル、1−ブロモエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ト リフルオロメチル、1,1,1−トリフルオロエチルなどが挙げられる。 用語ペルフルオロアルキルは、各水素がフッ素原子により置換されたアルキル 基を意味する。このようなペルフルオロアルキル基の例は、上記トリフルオロメ チルに加えて、ペルフルオロブチル、ペルフルオロイソプロピル、ペルフルオロ ドデシルおよびペルフルオロデシルである。 例えば、置換芳香環スルホンまたは置換芳香環スルホキシドといった複合語中 の用語「芳香環」は、前に定義したアリールあるいはヘテロアリールを意味する 。 下記の反応スキーム中に使われたMは、脱離基、例えばハロゲン、リン酸エス テルまたは硫酸エステルを表わす。有用な化合物の製造 スキーム1から7は、本発明に役立つ化合物、例えば式I−III、Ia−IIIa またはIb−IIIbを有する化合物、の製造に使用できる化学変換の例を用いて 手順を説明するものである。スキーム中に示されたR1からR10基は、本明細書 中で以前に定義されている。 この説明は、すべてを網羅しようとは意図していない。それは、示された化合 物を得るために、更に追加の、あるいは別の、方法、条件、反応あるいは装置が 熟練化学者によって明確に把握されかつ使用されうることは容易に認められるか らである。光学活性ならびに光学不活性な異性体、例えばRS異性体、鏡像体、 ジアステレオマー、ラセメート、E異性体、Z異性体、syn−異性体、ant i−異性体などが包含される。 これらの合成は、本明細書中で論じられた反応のすべてについても同様に、必 要に応じ、乾燥不活性雰囲気、例えば窒素またはアルゴン、の下で実施できる。 当業者にとって公知の選ばれた反応は、乾燥空気のような乾燥した雰囲気下で 行なわれるのに対して、他の合成工程、例えば酸または塩基水溶液によるエステ ルまたはアミドの加水分解は、実験室の空気と接した反応溶液により行なわれる 。 スキーム1 スキーム1での最初の反応は、チオール、化合物1、の不飽和アルデヒド(R6 がHの場合)又はケトン、化合物2、のマイケル反応で、スルフィドアルデヒ ド又はケトン、化合物3を生成させる反応である。不飽和エステル、アミド及び 酸もまたマイケル反応基質であり、そこでは対応するスルフィドエステル、アミ ド又は酸が合成される。マイケル反応は触媒量の塩基類を使用することで、塩基 触媒作用下で行うことができ、また、当量又はそれ以上の塩基を用いて行っ たり、さらに他の試薬を使用することでも実施できる。また、チオール試薬は前 もって作られたチオール塩基塩で代替可能である。塩基類としては、例えば、ナ トリウム、カリウム、リチウム、又はマグネシウムなどの金属水酸化物;ナトリ ウム、カリウム、リチウム、カルシウム又はマグネシウム等の酸化物;ナトリウ ム、カリウム、リチウム、カルシウム、又はマグネシウム等の金属炭酸塩;炭酸 水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩;遮蔽型第一有機アミ ン又は第二、第三有機アミン、アルキルアミン、アリールアルキルアミン、アル キルアリールアルキルアミン、複素環アミン又はヘテロアリールアミン;水酸化 アンモニウム又は水酸化第四アンモニウムなどが例示される。スキーム1のマイ ケル反応の塩基メディエーターとして使用できるアミンとして、非制約的例とし て、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルアミン、メチルジイ ソプロピルアミン、ジアザビシクロノナン、トリベンジルアミン、ジメチルベン ジルアミン、N−メチルモルホリン、N,N’−ジメチルピペラジン、N−エチ ルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ジメチルアミノピリ ジン、ピリジン、キノリン、テトラメチルエチレンジアミン、ジアザビシクロノ ナンなどが挙げられる。塩基メディエータとして使用できる(通常アミン類と水 から作られる)水酸化アンモニウム類の非制限的例として、水酸化アンモニウム 、水酸化トリエチルアンモニウム、水酸化トリメチルアンモニウム、水酸化メチ ルジイソプロピルアンモニウム、水酸化トリベンジルアンモニウム、水酸化ジメ チルベンジルアンモニウム、水酸化N−メチルモルホリニウム、水酸化N,N’ −ジメチルピペラジニウム、水酸化N−エチルピペリシニウムなどが挙げられる 。塩基メディエータとして使用可能な水酸化第四アンモニウムの非制限的な例と して、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水 酸化ジメチルジイソプロピルアンモニウム、水酸化ベンジルメチルジイソプロピ ルアンモニウム、水酸化メチルジアザビシクロノナニルアンモニウム、水酸化メ チルトリベンジルアンモニウム、水酸化N,N−ジメチルモルホリニウムアンモ ニウム、水酸化N,N,N’,N’−テトラメチルピペラジニウム、及び水酸化 N−エチル−N’−ヘキシルピペリジニウムなどが挙げられる。水素化カルシウ ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化化リチウム、ナトリウムメトキ シド、 カリウムt-ブトキシド、カルシウムエトキシド、マグネシウムエトキシド、ナト リウムアミド、カリウムジイソプロピルアミドなどの水素化金属類、アミド又は アルコラート類もまた、塩基メディエータとしての使用に適した試薬である。メ チルリチウム、フェニルリチウム、t−ブチルリチウム、リチウムアセチリド又 はブチルリチウムなどのアルキル又はアリールリチウム試薬、メチルマグネシウ ムブロミド又はメチルマグネシウムクロリド等のGrignard試薬、ジメチルカドミ ウムなどの有機カドミウム試薬などの有機金属性脱プロトン剤もまた、チオラー ト塩生成を起こしたり、反応に触媒作用を示す塩基として使用できる。水酸化第 四アンモニウム又は混合塩も相間移動カップリングを助長させたり又は相間移動 試薬として有用である。反応媒体は単独溶媒、同一クラス又は異種クラスの混合 溶媒で良く、または単独又は混合系で一試薬としても利用できる。また、溶媒は プロトン性、非プロトン性又は双極非プロトン性でも良い。マイケル反応用プロ トン性溶剤の非制限的例として、水、メタノール(MeOH)、エタノール(E tOH;変性、95%又は無水)、イソプロパノールなどが挙げられる。典型的 非プロトン性溶剤として、アセトン、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサ ン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテ(TBME)、キシレン 、トルエン、又はベンゼンなどの芳香族溶剤、酢酸エチル(EA)、酢酸メチル 、酢酸ブチル、トリクロロエタン、塩化メチレン、二塩化エチレン(EDC)、 ヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、シクロヘキサン等が挙げられ、双極非プロ トン性溶媒として、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド( DMAc)、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ヘキサメチ ルりん酸トリアミド(HMPA)、ニトロメタン、テトラメチル尿素、N−メチ ルピロリドンなどが挙げられる。マイケル反応用の溶剤又は混合溶剤系の一部と して使用可能な試薬として、非制限的に、有機または無機のモノ−又は多−プロ トン酸又は塩基が挙げられ、それらの例として、塩酸、燐酸、硫酸、酢酸、ぎ酸 、クエン酸、こはく酸、トリエチルアミン、モルホリン、N−メチルモルホリン 、ピペリジン、ピラジン、ピペラジン、ピリジン、水酸化カリウム、水酸化ナト リウム、エステル又はアミド生成用のアルコール又はアミン又はアミドこの発明 の化合物を製造するためのチオールなどが挙げられる。 マイケル反応には、室温又はそれ以下、又は適度加温(−10℃〜60℃)が 好ましい。必要ならば、反応温度は−76℃〜反応溶媒の還流温度でも良い。得 られるスルフィド化合物3、マイケル反応生成物の求電子試薬、は2当量の酸化 剤を用いて、一段階反応でスルホン、化合物7、に酸化できる。この過程で使用 する酸化剤として、非制限的に、ペルオキシモノスルファート(OXONE@) 、過酸化水素、meta−クロロ過安息香酸、過安息香酸、過酢酸、過乳酸、t ert−ブチル過酸化物、t−ブチルヒドロ過酸化物、t−ブチル次亜塩素酸塩 、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、meta−過よう素酸ナトリウム、過よ う素酸などが挙げられる。 この酸化反応にはプロトン性、非プロトン性、双極非プロトン性溶媒が、純粋 な形又はメタノール/水のように混合物の形で、使用可能される。この酸化反応 は約−78℃〜50℃、好ましくは、−10℃〜40℃で行われる。また、この スルホンの合成は、スルホキシド、化合物6、が第一段階で調製される二段階プ ロセスでも可能である。スルフィドからスタートするスルホキシドの合成は、好 ましい温度の約0℃で、前述した酸化剤の一つを1当量必要とするのみである。 この分野の熟練者は、保護化チオール基を、選択性補助及び通常の立体的及び電 子的因子の補完として、好都合に利用できる。 これら選択的スルホキシド合成に、前述したマイケル反応用溶媒、例えば、メ タノール又はメタノール/水が、好ましくは−10℃〜30℃の反応温度で、使 用可能である。さらに活性な酸化剤の場合には、必ずしも必要ではないが、反応 を不活性ガス雰囲気下、脱気もしくは非脱気溶媒中で行うことが望ましい。生成 したスルホキシドの化合物6又は化合物9は、任意に、それらの単離、特性評価 を行った後、もしくは行わないで、前述の酸化操作でスルホンに酸化できる。さ らに、光学活性なスルホキシドを、過樟脳酸の様な光学活性な酸化剤を用いるこ とで合成できる。スキーム1ではさらに化合物3のアルコール化合物4への変換 も示している。化合物3はアルデヒド(ここでR6はH)又はケトン、または場合 によっては、酸(R6がO)、エステル(R6がOR)、又はアミド(R6がN) である。この変換反応の有用な方法は、リチウム試薬、マグネシウム試薬(グリ ニャール(Grignard)試薬)、亜鉛試薬、カドミウム試薬、ナトリウム試 薬又はカリウム試薬などの有機金属試薬による求電子化合物3の処理である。酸 素原子上にHが必要ならば、カルボニル化合物を、ヒドリド硼酸ナトリウム、ヒ ドリドアルミン酸リチウムなどを使用した良く知られた方法で還元することが行 われる。このようなカルボニル化合物と有機金属試薬との反応は、化合物4の様 なアルコール又は、試薬及び出発原料によるが、新規なカルボニル化合物を製造 する当該分野では良く知られた方法である。これらの変換反応は、一般的には、 N2又はArのような不活性雰囲気下、−80℃〜50℃の温度で、不活性非プ ロトン性又は双極非プロトン性溶媒又は混合溶媒中で行われる。前記概説したよ うな方法でアルコール化合物4を酸化して、化合物7のようなスルホン又は化合 物6のようなスルホキシド酸化できる。また、アルコールを化合物5のような、 Wが酸素又は硫黄であるスルフィド誘導体に変換できる。このような例として、 非制限的に、チオ酢酸エステル[−S(C=O)CH3]又はジチオ酢酸エステ ル基[−S(C=S)CH3]が例示できる。スキーム1における、化合物7か ら8、6から9又は4から5への変換は、トリフェニルホスフィンのようなホス フィン、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート(DIAD)又はジエチルアゾ ジカルボキシラート(DEAD)の様なアゾ化合物及び出発原料アルコールをチ オカルボン酸又はジチオカルボン酸で処理する活性化アゾ法で遂行できる。反応 は通常、不活性雰囲気下、約−40℃〜常温で、塩化メチレン、THF又は先に 列挙した不活性溶媒中で行われる。 スキーム2 スキーム2は、ヒドロキシル活性化、又は置換を経由して中間体化合物10( スルフィド)、11(スルホン)又は12(スルホキシド)を与える代替法で、 化合物7から8、6から9又は4から5への同様の全変換を示したものである。 このスキームにおいて、Mはハロゲン(Cl、Br、I)、フッ化物(芳香族) 、トシラート(OTs)、メシラート(OMs)及びトリフラート(OTf)基 などを意味する。Mはまた、−SH(チオール)又は、塩基処理に引き続いての 、又は前もっての塩としての、−S−(チオラート)基を意味する。アルコール から、HCl、HBr、チオニルクロリド又はブロミド、三ハロゲン化りん、五 ハロゲン化りん、トシルクロリド又はメタンスルホン酸クロリドなどでの処理に よ る標準的方法で非チオール類は合成される。 ヒドロキシル活性化又は置換反応は通常、窒素又はアルゴンなどの不活性雰囲 気下、約−25℃〜溶媒還流温度で行われる。溶媒又は溶媒混合物は試薬及び他 条件により、大幅に変更され、先に列挙した極性又は双極非プロトン性溶媒又は それらの混合物が使用される。場合によっては、トリエチルアミン、ピリジン又 は他の非反応性塩基を試薬及び/又は溶媒及び/又は共溶媒として利用できる。 硫酸エステル類及び/又は有機ハロゲン化物の合成は、この技術分野では良く知 られている。ある場合には、これらスキームの反応において、分子内の他の部分 で、かつ反応中心として望ましくない位置で、保護基が使用される。このような 保護基として、アシル基、カルバモイル基、エーテル、アルコキシアルキルエー テル、シクロアルキルオキシエーテル、アリールアルキル基、シリル基並びに三 置換シリル基などが例示される。このような保護基の実際例として、アセチル、 THP、ベンジル、ベンゾイル、tert−ブチルジメチルシリル(TBDMS )又はMEM基が挙げられる。このような保護化化合物の調製及び脱保護基の方 法は、この分野では良く知られている。スキーム2における化合物10、11及 び12の反応は、化合物5、8及び9の調製での第二段階を示す。この硫黄含有 化合物合成法、すなわち、SN2反応を利用する方法、は一般的には、求核性置 換と言われるものである。二分子求核置換(SN2)反応は、基Mがチオール化 合物又はチオール化合物の塩で置換され、式I又は式11化合物又は式11化合 物のIへの変換を経た式I化合物の生成段階で説明される。また、反対操作も可 能である。式I化合物及び式II化合物はまた式III化合物合成の中間体であり、 式III化合物もまた、式I化合物又は式II化合物に変換できる。 チオール化合物又はそれらの塩の非制限的例として、硫化水素(H2S)、硫 化ナトリウム硫化(NaSH)、チオール酢酸[HS(C=O)CH3]、チオ ール酢酸ナトリウム[NaS(C=O)CH3]、ジチオ酢酸[HS(C=S) CH3]及びジチオール酢酸ナトリウム[NaS(C=S)CH3]が挙げられる 。このスキームにおいて、チオール類は他の点から示される。 スキーム1で述べたマイケル反応のように、チオールアニオンは前もって生成 された塩、又は塩基の付加でその場生成させた塩から誘導される。スキーム1の 、 マイケル反応で説明した塩基及び溶剤は、この反応段階でも適用可能である。好 ましい塩基は、二段階反応でチオラートアニオンとの競争が最小になる第三アミ ンの様な立体的に遮蔽されたものである。前述した溶媒、溶媒混合物又は溶媒/ 試薬混合物は十分使用できるが、好ましい例として、アセトン、アセトニトリル 、DMFなどの非プロトン性又は双極非プロトン性溶媒が挙げられる。塩基もま た、試薬並びに溶媒として使用可能である。前述した溶媒混合物又は一溶媒とピ リジン又はトリエチルアミンとの混合物もまた有用である。また、この求核置換 反応が関与する操作は当該分野では良く知られている。スキーム2で一般化して 示したこの酸化/還元シーケンスもまた、当該分野では良く知られている。前述 したように水溶液の使用が好ましい塩基による加水分解、C=W基と有機金属試 薬との反応又はその還元除去により、スキーム1の−SH(チオール)化合物を 得ることができる。スキーム1又は2で本来示されないこのチオール化合物を、 所望に応じて、例えば空気、酸素、次亜ハロゲン化物(hypohalide)試薬、ナト リウムプルンバイト、又は先に列挙した酸化剤を使用して酸化できる。反応は非 酸化性溶媒及び塩基性又はわずかに塩基性pHで行うことが好ましいが、反応雰囲 気は空気又は前述した他気体雰囲気で良い。また、好ましい温度は0℃〜40℃ であるが、それより低い温度または高い温度でも行うことができる。出発物質が 異なる構造を持つ場合には混合ジスルフィドを製造できる。ex vivoでの酸化過 程の逆転には、ジスルフィド結合の式IIチオールへの還元と、引き続いての、H O(C=W)R10誘導体試薬によるアシル化が必要である。このような誘導体と して、ペプチドや蛋白質合成及びアミノ酸カップリング又は複合化などが含まれ る当該分野で良く知られた活性化試薬を用いて調製された活性化カルボニル化合 物がある。このような活性化試薬例として塩化チオニル基、塩化オキサリル、オ キシ塩化りん、HOST(ヒドロキシベンゾトリアゾール)、クロロぎ酸イソブチ ル、カルボジイミド、アゾジカルボキシラート化合物などが挙げられ、これら全 ては当該分野ではよく知られたものであり、確立された方法である。ジスルフィ ドの対応するチオールへの還元は、例えば、ヒドリドアルミン酸リチウム、水素 化アルミニウム、ヒドリドほう酸金属、ヒドリドシアノほう酸ナトリウムなどの 水素化物試薬による処理で行われる スキーム3 スキーム3は、本発明の製品及び中間体調製のための別シーケンスを示したも のである。化合物1のようなチオールは、Mがアルファ置換基であるアルファ− 置換アルデヒド、ケトン、酸、酸塩、エステル又はアミドと反応させることがで きる。このSN2反応は、その許容温度範囲下限近くで、既に述べたようにして 遂行される。この反応でスルフィド化合物17が生成する。この化合物は、還元 又は有機金属試薬による処理でアルコール化合物18に変換される。この両プロ セスについては既に述べてきた。化合物18はまた、二重結合含有原料をエポキ シド化合物19に変換し、チオラートアニオン(R1-)を使用したSN2プロ セスで開環させるルートでも合成できる。この場合、試薬は硫化水素アニオン( HS-)でも良く、その生成物を、例えば、R1−M試薬と反応させ、化合物18 を二段階操作で得ることができる。これらのプロセスについては既に先のスキー ムに関連して説明した。 ステップ4は、活性化中間体23及び24の調製が引き続いて行われる、アル コールのスルホキシド又はスルホンへの変換を示すものである。これら二つの化 合物は、次いで、式I(Ia又はIb)(Mは−SHに変換されている)又は式 II(IIa又はIIb)に直接変換されるか、または式II化合物(IIa又はIIb)に 変換され、そこから式I化合物(Ia又はIb)に加水分解又は還元[−S(C =W)R10基の−SHへの還元]操作を経て変換される。これら操作については 先に説明した。同様の方法が化合物22及び25のようなスルフィドにも適用で き、(先述した)酸化により、反応矢印で示されたように、スルホン化合物26 又はスルホキシド化合物27が得られたことは注目に値する。 スキーム4 スキーム4は、チオール官能基から本発明の化合物を製造するのに使用できる 方法を示したものである。化合物28及び化合物33の両方とも一個の二重結合 を有している。この二重結合は先述したように利用可能なエポキシドhe変換でき る。 過酸化水素水、過酢酸、過トリフルオロ酢酸などの試薬では、エポキシドへの 直接変換が達成できるが、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸などのハロヒドリ ンは、所望に応じて、立体遮蔽型塩基でエポキシドに変換できる中間体のヒドロ キシハロゲン化物の生成に使用できる。ヒポハリド化合物は、所望に応じて、最 初にヒドロキシスルフィド化合物に変換される。次いで、このハロゲン化物は、 そのヒドロキシ基が最初に保護化されるか保護化チオール官能基に変換されるか すれば、有機金属試薬に変換できる。ステップ2は、例として、スキーム3のス テップ3の方法を使用してエポキシドを保護化チオールへ直接変換する方法を示 したものである。このヒドロキシル基は、先に述べたように、ハロゲン化物(M 基)に変換され、そこから有機金属試薬に変換される。先述方法で製造された中 間体エポキシド化合物34への、この有機金属試薬の付加で、水酸化物化合物3 5が得られる。ステップ7で前者反応を繰り返し、ステップ9を経て、その生成 物として式IIの本発明化合物を得、次いで、加水分解、酸化により、式I及び/ 又は式III化合物が得られる。M誘導体化合物36の調製、R1S−結合の生成、 及びスルホキシド化合物38(n=1)又はスルホン化合物38(n=2)への 酸化は、本明細書中、数カ所で述べてきた方法で行われる。 スキーム5 スキーム3で示した方法で合成できる化合物22を、式I−III、Ia−IIIa 又はIb−IIIb化合物のR1S−結合サイドから出発する代替合成経路を示すス キーム5の出発物質として利用できる。その内の一つのプロセスは、活性化M− 炭素結合を有機金属試薬化合物39に変換し、それをさらにエポキシ化合物29 と反応させ、その生成物である2個の付加骨格炭素を有するアルコール化合物4 0を、活性化中間体化合物41(炭素−M結合生成)に変換し、次いで、SN2 法で,例えば、硫化ナトリウム又はチオ酢酸ナトリウム又は前述した他試薬と反 応させ、化合物37を得ることからなる。次いで、この中間体又は薬物前駆体は 、スキーム5の続きで示されるように、一段階又は二段階で保護化化合物38に 酸化される。化合物38は、加水分解又は還元で、式I、Ia又はIb化合物に 変換される。 当該分野の熟練者は、スキームの左側で示したように、あらかじめスルホキシ ド又はスルホンに変換する方法も選択できる。この場合には、酸化された硫黄一 及びM−含有中間体化合物42を有機金属試薬化合物43に変換し、次いで、そ れをエポキシ化合物29と反応させることが行われる。次いで、得られた化合物 44を他のM−含有中間体45に変換し、それから、前と同様のSN2反応を経 由して、化合物38を得る。 スキーム6 スキーム6は、本発明で有用な式I−III、Ia−IIIa又はIb−IIIbのさ らなる製造法を示したものである。R1、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、 R10、M、W及び−金属は本明細書中で前に定義したものである。R2は先にR2 がサブセットで、求電子試薬の一部であったR2−M2で定義したものである。求 電子試薬において、M2はハロゲン化物(F,Cl,Br,I)又はトシラート 、トリフラート又はメタンスルホン酸エステルなどの有機硫酸エステルである。 他の形態のM2求電子試薬として、エステル、アミド、酸無水物、酸ハロゲン化 物、混合酸無水物、アルデヒド、ケトン、炭酸エステル、カルバミン酸エステル 、尿素、ハロゲン化スルホニル、スルホン酸エステルなどが代表的である。 ステップ1は、例えば、スキーム2で述べた求核置換(SN2)反応を表す。 化合物46などのスルフィドは、先のスキームで述べた一段階又は二段階の酸化 を容易に行うことができ、ここに示したスルホン化合物47を得ることができる 。スルホニル基に対してアルファ位の水素を除去すると、化合物48などのアニ オン中間体を得ることができる。水素除去は先述した強塩基などを使用すると達 成できる。このような塩基として、通常、遮蔽型Grignard試薬、t−ブチルリチ ウムなどのアルキルリチウム類、水素化カリウムなどの水素化物、ナトリウムア ミドの様な金属アミドなどの有機金属塩基又は水素化物塩基などが挙げられる。 アニオンの生成は通常、窒素又はアルゴンなどの不活性雰囲気下、約−100℃ 〜30℃で行われる。好ましい温度範囲は、約−80℃〜0℃である。この反応 には、通常、中性の非プロトン性溶媒、双極非プロトン性溶媒又は混合物又は一 部混合物が溶媒として用いられる。アンモニア又はアミンもまた、例えば、ナト リウムアミド又はナトリウムジイソプロピルアミドと共に使用できる。 アニオンが利用可能になったところで、ステップ4を行い、化合物50を得る 。ステップ4で示したSN2型又は求電子付加反応は既に前述した。アルキル化 剤 には、エポキシド、ハロゲン化物、硫酸エステルなどが含まれ、またアリールフ ルオロ化合物もこの部類に属する。種々の二重結合化合物への求電子付加もこの 分野では良く知られた官能基付加の一般的方法である。試薬としては、先に述べ たエステル、アミド、酸無水物、酸ハロゲン化物、混合酸無水物、ケトン、アル デヒド、炭酸イオン、カルバミン酸イオン、尿素、スルホニルハロゲン化物、ス ルホン酸エステルなどが挙げられる。一般的に、これら反応はアニオン生成時と 同じ溶媒、雰囲気及び温度で行われる。この分野では既知であるが、アニオン生 成は、求電子試薬との反応より高い温度もしくは低い温度で行ことができ、この 分野の熟練者は、アニオン生成温度及び求電子試薬の反応温度を、出発物質の性 質、除去されるプロトンの酸性度及び良く知られた求電子試薬の活性に応じて選 択可能である。アンモニア及びアミンはアニオン調製に引き続いてしばしば除去 操作が行われる溶媒である。化合物50は、前述した水酸基をチオール又はチオ ラートに変換する操作に従い、化合物51に変換できる。かくして、スキーム2 で述べた化合物6又は7を化合物12又は11に変換する方法で、化合物50を 化合物52に変換できる。化合物52と硫化ナトリウム又は硫化水素ナトリウム との反応を化合物55の合成に利用できる。同様に、活性化アゾカップリングを 、化合物50の化合物51への変換に利用できる。この生成化合物51と53は 、それぞれ、式II、IIa又はIIb及びI、Ia、又はIb化合物のサブセットで ある。 スキーム7 本明細書中で先に表13及び19で示したタイプのR6置換基を有するチオー ルスルホン類は、スキーム7で示す開環付加反応を経て合成できる。チオール化 合物1を、2,4−ジヒドロキシブタン酸無水物(α−ヒドロキシ−γ−ブチロ ラクトン)51と反応させ、スルフィド基から3炭素離れた位置にヒドロキシル 基を有し、R6置換基が−COOHであるスルフイド52を生成できる。反応は 、スキーム1のマイケル反応で有用な塩基メディエータを、マイケル反応と実質 的に同一溶媒及び反応条件で、触媒量又は当量使用して塩基媒介反応を行うこと ができる。スルフィド化合物52のスルホン化合物53への酸化は、本明細書中 のスキーム1のマイケル反応生成物で述べた一段階又は二段階工程で行うことが で きる。α−ヒドロキシ基はヒドロキシル活性化又は求核置換反応で脱離基Mがチ オール基で置換されるスキーム2で示した置換方法で、チオール基に変換できる 。−COOH R6置換基化合物53は、α−ヒドロキシル基をチオール基に変 換する前又は後で誘導体化できる。チオール基に変換する前に誘導体化する例を 、スキーム7に示した。−COOH R6置換基は、この分野で良く知られた方 法で、好ましくは塩基メディエータを用いて、エステル化又はアミド化できる。 スキーム7に、N−(2−アミノエチル)モルホリンを用いた化合物53の、化 合物54へのアミド化と、引き続いてのヒドロキシ活性化又は置換で化合物55 を生成する過程を示した。本発明の化合物は、化合物55の求核置換と、生成物 の引き続いての加水分解で化合物56を生成させることで得られる。 スキーム7で示される反応シーケンスで調製される化合物の合成例において、 最初の、R1が4−(ベンズアミド)−フェニルであるチオール−含有化合物1 は、以下に述べる方法で調製される。クロロトリフェニルメタン(塩化トリチル ;5.00g,39.94mmol)の5%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン溶液 に、4−アミノチオフェノール(9.28g,33.28mmol)を、室温で滴下 し、得られた混合物を室温で0.5時間攪拌する。その混合物を水で希釈し、2 .5N NaOHで中和する。有機層をさらに水洗し、乾燥、濾過を行い、濃縮 する。黄色固体をジエチルエーテルとすり混ぜ、トリチル−保護化4−アミノチ オフェノラート(10.2g,69%)を灰白色固体として得る。m/z=36 8(M+H)。トリチル保護化4−アミノチオフェノラート(10.2g,27 .70mmol)とトリエチルアミン(5.70mL,41.55mmol)のジクロロメ タン溶液に塩化ベンゾイル(3.54mL,30.47mmol)を添加する。室温で 1時間後、その混合液をジクロロメタンで希釈する。しかる後、得られた反応混 合物を水洗、乾燥、ろ過し、濃縮する。得られた固体をジエチルエーテルとすり 混ぜ、トリチル−保護化4−(ベンズアミド)−チオフェノラート(23.9g ,99%)を白色固体として得る。m/z=472(M+H)。 トリチル−保護化4−(ベンズアミド)−チオフェノラート(7.82g16 .58mmol)のジクロロメタン溶液に、トリイソプロピルシラン(16.98mL ,82.91mmol)とトリフルオロ酢酸(25mL)を加え、その混合液を室温 で、0.5時間攪拌してから濃縮する。ヘキサンを加え、得られた固体を収集し 、黄色固体として、脱保護基4−(ベンズアミド)−チオフェノール(3.69 g,97%)を得る。m/z=230(M+H)。4−(フェノキシ)−チオフ ェノールも同様の方法で得られる。前述の反応段階を、スキーム1からスキーム 7の一部として説明してきた。これらのスキームで使用した用語と反応、「活性 化アゾカップリング(ACTIVATED AZO COUPLING)」「求 電子置換(ELECTROPHILIC SUBSTITUTION)」「求核 置換(NUCLEOPHILIC SUBSTITUTION)」及び「加水分 解(HYDROLYSIS)」、はこの分野では良く知られたステップである。 上述した化学反応は、一般的には、本発明の化合物製造への最大限の適用に関 して開示したものである。場合によっては、これら反応は、開示範囲内のそれぞ れの化合物に対して記述した通りに適用できないかもしれないし、特別な場合に は、不安全かもしれない。これが起こる化合物は、当該分野の熟練者により容易 に認識されるであろう。このような場合の全てで、当該分野の熟練者に既知の従 来法の改良、例えば妨害基の適切保護、代替従来試薬への変更、反応条件のルー チン的改良など、で反応は首尾良く遂行されるか、この明細書中で開示した以外 の反応または従来の反応が本発明の対応化合物の合成に適用可能である。全ての 合成法で、全ての出発材料は既知か又は既知材料から容易に調製できるものであ る。 スキーム1 スキーム2 スキーム3 スキーム4 スキーム5 スキーム5 (続き) スキーム6 スキーム7本発明実施の最善モード 前述してきた事項を使用することで、当該分野の熟練者は、さらに手を加える ことなく、本発明をその最大限まで活用できるであろう。そのため、以下の好ま しい特定の実施態様は単に説明のためのみであり、開示事項以外の残余事項を少 しでも制限するものでないと解釈されるべきである。 実施例1: (R,S)1−[(4=メトキシフェニル)−スルホニル]プロパン−2−チ オールの合成 パートA:磁石攪拌子とN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、3.4gの p−メトキベンゼンチオール、1.95mLの(R,S)−プロピレンオキシド( 1.15当量)、370mgの炭酸カリウム(1.15当量)及び60mLのMeO Hを仕込んだ。反応混合液を、室温で30分間、攪拌した。HPLC分析で、こ の時点で出発原料は全く残っていないことを確認した。反応液をろ過し、ろ液を 真空濃縮した。得られた粗スルフィドを125mLのMeOHと100mLH2Oに 溶解し、45g(3.0当量)のOXONE@と反応させた。この反応液を、一 晩中攪拌してから、ろ過し、ろ液を元の容積の1/2まで濃縮した。この反応混 合液を酢酸エチルと水に分配し、有機相を水及び食塩水で洗浄してから、硫酸ナ トリウム上で乾燥した。しかる後、真空濃縮し、5.0gの(R,S)1−[( 4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン]−2−オールを得た。 パートB:磁石攪拌子とN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、1.3gのア ルコール、1.63gのトリフェニルホスフィン(1.1当量)及び40mLのT HFを仕込んだ。この反応混合物を0℃まで冷却し、1.25mLのDIADを加 えた。2分後に0.42mLのチオ酢酸を添加し、反応を、攪拌下、1時間行った 。標準的後処理後、粗反応混合物をシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理 (30%酢酸エチル/ヘキサン,50%酢酸エチル/ヘキサン使用)し、大部 分はオレフィンであったが、オレフィンで汚染された100mgの目的アルコール フラクションを得た。この物質をさらに精製することなく、使用した。 パートC:磁石攪拌子とN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートBで 得られた粗生成物を15mLのMeOHに溶解して、仕込んだ。この溶液に1. 5mLの25%水酸化アンモニウム水溶液を添加し、得られた反応液を2時間攪拌 した後、ドライアイスでクエンチした。この反応混合液を酢酸エチル/水間で分 配し、有機相を真空濃縮して75mgの粗油状物を得た。シリカゲルを用いたフラ ッシュクロマトグラフィー(100% MeCl)で15mgの純粋な(R,S) 1−[{4−メトキシフェニル}スルホニル]プロパン]−2−チオールを得た 。 実施例2: (R,S)−4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン−2−チオ ールの合成 パートA:25.0g(178mmol)の4−メトキシベンゼンチオールの250m L無水DMF溶液に、16.4mL(18.5g,196mmol)の3−クロロ−1 −プロパノールを加えた。窒素を、15分間、溶液を通してバブリングした後、 74.0g(535mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。16時間後、DMFを 真空除去し、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。有機層を食塩水で3回 洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過、濃縮を行い、36.0gの次の反 応での使用に適した粗スルフィドを得た。 パートB:パートAで得たスルフィド36.0g(181mmol)を800mLメタ ノールと160mLの水に溶解し、その溶液に351g(571mmol)のペルオキ シモノ硫酸カリウム(OXONE@)を添加した。15時間後、反応液をろ過し 、フィルタケーキをメタノールで洗浄した。ろ液を真空濃縮してから、酢酸エチ ルと水を加え、層分離し、水層を酢酸エチルで2回抽出した。得られた三つの有 機抽出液を合わせてから、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸 マ グネシウムで乾燥した。ろ過後、濃縮を行い、40.0gの粗生成物を得、3− [(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−オールと同定した。m /e=??(M+H)。 パートC:パートBで得た4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパ ン−1−オール5.0g(22mmol)とトリエチルアミン12.1mL(8.8g ,87mmol)を、塩化メチレン25mLに溶解し、0℃に冷却し、この溶液に、三 酸化硫黄−ピリジン錯体13.8g(87mmol)をDMSO25mLに溶解した溶 液を加えた。1時間後、反応混合液を300mLの氷に加え、酢酸エチルを加えた 。有機層を分離し、水、5%硫酸水素カリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥した。ろ過後、濃縮し、次の反応に適した4.1gの3−[( 4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−アールを得た。 パートD:磁石攪拌子、添加用ロート及びN2入口を備えた100mL丸底フラス コに、3.0M MeMgBr/Et2O溶液2.87mL(2.0当量)を15m LのTHFに溶解して仕込んだ。反応混合物を0℃に冷却し、これにパートCで 得た粗アルデヒド1.0gを5mLのTHFに溶解した溶液を、滴下した。0℃で 1時間の反応後、反応を飽和塩化アンモニウムでクエンチした。この反応混合物 を酢酸エチル/aqKHSO4間で分配し、有機相を飽和炭酸水素ナトリウム、 食塩水で洗浄し、しかる後、真空濃縮した。得られた粗アルコールをシリカゲル を用いてフラッシュクロマトグラフィー処理(50%酢酸エチル−ヘキサン、1 00%酢酸エチル使用)し、360mgの純粋な(R,S)−4−[(4−メトキ シフェニル)−スルホニル]ブタン−2−オールを得た。 パートE:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートD で得た360mgのアルコールを5mLのTHFに溶解した溶液を仕込んだ。その溶 液を0℃に冷却し、444mgのトリフェニルホスフィン(1.15当量)と反応 させ、しかる後、0.27mLのDEAD(1.15当量)と反応させた。5分間 攪拌した後、反応液を0.12mLのチオ酢酸で処理した。反応を、攪拌下、1時 間行った後、真空濃縮し、残留物を5mLのMeCl2中、−78℃でスラリー化 し、不純物をろ過除去した。また、ろ液をシリカゲルを用いてクロマトグラフィ ー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し、200mgの90%純粋なチオ 酢酸エステルを得た。これはさらに精製することなく使用した。 パートF:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートE で得た200mgの粗チオ酢酸エステルを20mLのMeOHに溶解した溶液を仕込 んだ。その溶液を0℃まで冷却し、2.0当量のNaOMeを添加した。20分 後に、反応液を酢酸エチルと水に分配し、その有機相を乾燥してから真空濃縮を 行い、粗生成物を得た。シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(100%Me Cl2から10%酢酸エチル−MeCl2)処理で、87mgの純粋な(R,S)− 4−[(4−メトキシフェニル)−スルホニル]ブタン−2−チオールを得た。 実施例3: 3−[(4−メトキシフェニル)−スルホニル]−2(S)−メチルプロパン チオールの合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、1.3g の3−ブロモ−2(S)−メチルプロパノール、2.28mLのp−メトキシベン ゼンチオール、7.7gの炭酸カリウム(3.0当量)及び60mLのMeOHを 仕込んだ。室温で6時間後、HPLC分析で完全に反応が進行していることを確 認した。この応混合物をろ過し、ろ液を真空濃縮し、残留物を酢酸エチル−水間 に分配した。この有機相を食塩水で洗浄し、乾燥後、真空濃縮し、粗スルフィド を得た。このスルフィドを150mL MeOHに溶解し、36g(3.0当量) のOXONE@を150mLのH2Oに懸濁させたスラリー液に加えた。室温で一 晩中、反応混合液を攪拌した後、ろ過を行ってから、そのろ液を元の容積の半分 まで濃縮した。酢酸エチルでの抽出後、真空濃縮を行い、2.9gの純粋な3− [(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2(S)−メチルプロパノールを得 た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、2.9g の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2(S)−メチルプロパノール と50mLのTHFを仕込んだ。この溶液を0℃に冷却してから、3.42gのト リフェニルホスフィン(1.15当量)を加え、次いで、2.1mLのDEAD( 1.15当量)を加えた。5分間攪拌後、この反応液を0.85mLのチオ酢酸で 処理した。この反応混合液を1時間攪拌した後、真空濃縮し、残留物を25mLの MeCl2に−78℃で懸濁させ、ろ過を行い、不純物を取り除いた。ろ液をシ リカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(50% Et2O−H/80%Et2 O−H使用)し、2.0gの純粋なチオ酢酸エステルを得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、1.2g のチオ酢酸エステルを35mLのMeOHに溶解して、仕込んだ。この反応混合物 を1.0mLの25% NaOMe/MeOH溶液で処理し、30分後に1NHC lでその反応をクエンチした。この反応混合液を、酢酸エチル−H2O間に分配 させ、有機相を乾燥し、真空濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルを用いて クロマトグラフィー(50% 酢酸エチル−ヘキサンを使用)を行い、400mg の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2(S)−メチルプロパン− チオールを得た。 実施例4: 3−[(4−{3−フェニルプロピルオキシ)−フェニル}スルホニル]プロ パンチオールの合成 パートA:4−ヒドロキシベンゼンチオール10.0g(79mmol)を無水DM F100mLに溶解し、この溶液に、3−クロロ−1−プロパノール7.3mL(8 .2g,87mmol)を添加した。この溶液を通して、窒素ガスを15分間バブリ ングさせた後、粉状炭酸カリウム33.0g(238mM)を加えた。17時間後 、DMFを真空除去し、酢酸エチルと水を添加し、有機層を分離した。分離した 有 機層を食塩水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、濃縮を行 って、16gの粗生成物を得た。m/z=183(M−H)。 パートB:パートAで得た生成物2g(10.6mmol)を無水DMF20mLに溶 解し、この溶液に、粉状炭酸カリウム4.5g(31.8mmol)を加え、次いで 、1−ブロモ−3−フェニルプロパン2.1g(10.6mM)を加えた。24時 間後に、酢酸エチルと水を加え、その有機層を分離し、食塩水で3回洗浄を行っ た。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、濃縮を行い、粗生成物を3. 3g得た。この粗生成物を100mLのMeOHに溶解し、20gのOXONE@ を80mLのH2Oに溶解した溶液に加えた。この反応混合物を室温で一晩中攪拌 した後、ろ過を行い、そのろ液を元の容積の1/2まで濃縮した。酢酸エチルで 抽出後、乾燥、真空濃縮を行い、3.3gのスルホンアルコールを得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、パートB で得たアルコール3.6gと、THF50mLを仕込んだ。この溶液を0℃に冷却 してから、トリフェニルホスフィン2.8gを加え、次いで、DEAD1.7mL を加えた。5分間の攪拌後、この反応液を0.8mLのチオ酢酸で処理し、反応混 合液を1時間攪拌した。しかる後、反応液の真空濃縮を行い、残留物を−78℃ でMeCl225mLに懸濁させ、不純物をろ過除去した。ろ液をシリカゲルを用 いてクロマトグラフィー処理(30%酢酸エチル−ヘキサン/50%酢酸エチル −ヘキサンを使用)し、1.4gの純粋チオ酢酸エステルを得た。 パートD:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、655mg のチオ酢酸エステルを50mLのMeOHに溶解して加えた。この反応混合物を、 1.1mLの25% NaOMe/MeOHで処理し、30分後にその反応液を1 N HClでクエンチし、酢酸エチル−H2O間に分配させた。有機相を乾燥さ せ、真空濃縮した後、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルを用いてクロ マトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサン)し、420mgの純粋な3 −[(4−(3−フェニルプロピルオキシ)フェニル)スルホニル]−プロパン チオールを得た。 実施例5: の合成 パートA:実施例4のパートAの生成物2.1gを無水DMF50mLに溶解し、 この溶液に粉状炭酸カリウム4.75g(3当量)を加え、次いで、ブロモ酢酸 t−ブチル2.25gを加えた。4時間後に、酢酸エチルと水を加え、有機層を 分離した。得られた有機層を食塩水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥 し、ろ過後、濃縮を行い、3.4gの粗生成物を得た。この粗生成物を80mLの MeCl2に溶解し、8.2gのMCPBA(2.5当量)と反応させた。この 反応混合液を、室温で一晩、攪拌した後、亜硫酸ナトリウムでクエンチし、飽和 炭酸水素ナトリウムで2回洗浄した。有機相をCELITE@を通してろ過し、 得られたろ液を乾燥させてから、真空濃縮を行い、3.9gの粗スルホンアルコ ールを得た。この粗スルホンアルコールをアルミナの短プラグを通してろ過(1 0% エタノール−酢酸エチル)してMCPBAを除去し、3.5gの純粋な生 成物を得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得たアルコール3.5gとTHF50mLを仕込んだ。この溶液を0℃に冷却し 、2.8gのトリフェニルホスフィンを加え、次いで、1.67mLのDEADを 加えた。5分間の攪拌後、この反応混合液に0.76mLのチオ酢酸を加え、さら に1時間攪拌した。しかる後、真空濃縮を行い、残留物を−78℃で15mLのM eCl2に懸濁させ、ろ過を行い、不純物を除去した。このろ液をシリカゲルを 用いてクロマトグラフィー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン/50% 酢酸 エチル−ヘキサンを使用)し、2.1gの純粋なチオ酢酸エステルを得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、382mg のチオ酢酸エステルと15mLのMeOHを仕込んだ。この反応混合物を、25% NaOMe/MeOH溶液0.46mLで処理し、30分後に1N HClで反 応をクエンチした。反応混合液を酢酸エチル−H2O間に分配させ、分離した有 機相を乾燥させた後、真空濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルを用 いてクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサン)し、250mgの 純粋な生成物を得た。 実施例6:の合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、実施例5 のパートBのチオ酢酸エステル1.65gと、4NHCl−ジオキサン10mLを 仕込んだ。攪拌下、反応を室温で一晩行った後、反応混合液の真空濃縮を行い、 Et2Oですり混ぜあわせて、1.0gの純粋な酸を得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、382mg のチオ酢酸エステルと15mLのMeOHを仕込んだ。この反応混合物に、25% NaOMe/MeOH溶液0.39mL(3.0当量)を加え、15分後に、1 N HClで反応をクエンチした。この反応混合液を、酢酸エチル−H2O間に 分配させ、その有機相を乾燥してから真空濃縮を行い、粗生成物を得た。この生 成物はチオール対ジスルフィドが65−35の混合物であった。 実施例7: (R,S)trans−3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]シクロ ヘキサンチオールの合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、シクロヘ キセノン4.6g、p−メトキシベンゼンチオール6.7gを脱気MeOH50 mLに溶解して仕込んだ。この溶液を攪拌しながら、トリエチルアミン6.8gを 添加し、30分間攪拌した後、真空濃縮し、トリエチルアミンを除去した。得ら れた粗生成物を65mLのMeOHに溶解し、0℃に冷却した。この溶液に3.6 gのNaBH4を注意して加え、得られた反応混合液を、0℃で90分、攪拌し てから、1N HClで反応をクエンチした。反応混合液を酢酸エチル−H2O 間に分配させ、有機相を合わせてから食塩水で洗浄し、乾燥、真空濃縮を行った 。得られた粗生成物を200mlのMeOHに溶解し、86gのoxoNE@を2 00mLのH2Oに懸濁させた液に加えた。4時間後にHPLC分析を行って、反 応が完了していることを確認し、得られた反応混合物をろ過し、そのろ液を元の 容積の1/2まで真空濃縮した。酢酸エチルで抽出を行った後、有機相をH2O 、食塩水で洗浄し、乾燥後、真空濃縮した。アルコールの3:1ジアステレオマ 混合物8.9gを得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得たアルコール1.2gとTHF20mLを仕込んだ。この溶液を0℃まで冷却 してからトリフェニルホスフィン1.16gを加え、次いで、0.7mLのDEA Dを加えた。5分間、攪拌した後、その反応混合液に0.35mLのチオ酢酸を添 加し、さらに1時間、攪拌を継続した。しかる後、反応混合液を真空濃縮し、H PLC分析で6:1割合のジアステレオマー混合物が生成していることを確認し た。この残留物を−78℃で10mLのMeCl2に懸濁させ、ろ過を行って不純 物を除去した。得られたろ液をシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(3 0% 酢酸エチル−ヘキサン/50% 酢酸エチル−ヘキサンを使用)し、0. 4gの純粋なチオ酢酸エステルを得た。得られたチオ酢酸エステルをHPLCで 分析し、これが>30:1比率のジアステレオマ混合物であることを確認した。 パートC:磁石撹拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、チオ酢酸 エステル395mg及びMeOH 15mLを仕込んだ。この反応混合液に25%N aOM/MeOH溶液0.78mLを加え、30分後に、1N HClで反応をク エンチした。反応混合液を酢酸エチル−H2O間に分配し、その有機相を乾燥し 、真空濃縮し、320mgの純粋な(R,S)−3−[(4−メトキシフェニル) スルホニル]シクロヘキサンチオールを得た。この化合物の300MHz陽子NM Rからスルホンとチオール間にtransの関係がうかがわれた。 実施例8: (R,S)3−ブチル−3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]シクロ ヘキサンチオールの合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、実施例7 のパートAのアルコール2.5gとTHF25mLを仕込んだ。この溶液を−78 ℃まで冷却し、2.65mL(2.5当量)のDMPUを加え、次いで、10Mn BuLi/ヘキサン溶液1.93mL(2.2当量)を加えた。生成したジアニオ ンを−78℃で30分間攪拌し、次いで、0.94mLの臭化ブチルと反応させた 。反応混合液を、室温で一晩、攪拌した後、飽和塩化アンモニウムで反応をクエ ンチした。得られた反応混合液を酢酸エチルH2O間に分配させ、その有機相を 乾燥し、真空濃縮した。得られた粗生成物をクロマトグラフィー処理(70% 酢酸エチル−ヘキサン)し、より速く移動する異性体120mgと、より遅く移動 する異性体480mgを得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートA で得たアルコール0.48gとTHF8mLを仕込んだ。この溶液を0℃まで冷却 し、0.41gのトリフェニルホスフィン、次いで、0.25mLのDEADを加 えた。5分間の攪拌後、反応混合液を0.12mLのチオ酢酸で処理した。攪拌下 、反応を1時間行った後、真空濃縮を行い、残留物を、−78℃で、5mLのMe Cl2に懸濁させた。しかる後、ろ過により不純物を除去し、そのろ液をシリカ ゲルを用いてクロマトグラフィー処理(25% 酢酸エチル−ヘキサン/50% 酢酸エチル−ヘキサン)し、オレフィンで汚染した132mgのチオ酢酸エステ ルを得た。得られた粗チオ酢酸エステルをさらに精製することなく使用した。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、粗チオ酢 酸エステル132mgとMeOH4mLを仕込んだ。この反応混合液に、25% NaOMe/MeOH溶液0.14mLを加え、30分後に、1N HClで反応 をクエンチした。反応混合液を、酢酸エチル−H2O間に分配させ、その有機相 を乾燥してから、真空濃縮し、粗生成物を得た。その粗生成物をクロマトグラフ ィー処理(25% 酢酸エチル−ヘキサン)し、55mgのチオールを得た。 実施例9: の合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、シクロペ ンテネノン5.2g、p−メトキシベンゼンチオール及び75mLの脱気MeOH を仕込んだ。この溶液を攪拌しながら、トリエチルアミン8.9mLを加え、さら に30分間攪拌した。しかる後、真空濃縮を行い、トリエチルアミンを除去した 。得られた粗生成物を100mLのMeOHに溶解し、0℃まで冷却した。この溶 液に4.8gのNaBH4を注意深く加え、0℃で90分間反応させた。しかる 後、1N HClで反応をクエンチし、得られた反応液を酢酸エチル−H2O間 に分配させた。有機相を合わせ、それを食塩水で洗浄してから乾燥し、真空濃縮 した。得られた粗生成物14.8gを250mLのMeOHに溶解し、その溶液を 、117gのOXONE@を250mLのH2Oにスラリー化した懸濁液に加えた 。12時間後に、反応が完結していることをHPLC分析確認し、その反応混合 液をろ過した。ろ液を元の容積の1/2まで濃縮し、酢酸エチルで抽出した後、 有機相をH2O、食塩水で洗浄し、乾燥し、真空濃縮した。アルコールの3:1 ジアステレオマ混合物15.5gを得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得たアルコール3.0gと、50mLのTHFを仕込んだ。この溶液を0℃まで 冷却し、トリフェニルホスフィン3.0g、次いで、DEADを1.78mLを加 えた。5分間、攪拌した後、反応混合液に0.98mLのチオ酢酸を加えた。攪拌 下、反応を1時間行ってから、真空濃縮し、残留物を、−78℃で、20mLの MeCl2に懸濁させ、ろ過により不純物除去を行った。得られたろ液をシリカ ゲルを用いてクロマトグラフィー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン/50% 酢酸エチル−ヘキサン)し、HPLC分析から2.6:1比率のジアステレオマ 混合物であることが判明したチオ酢酸エステル780mgを得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、780mg のチオ酢酸エステルと15mLのMeOHを仕込んだ。この反応混合物に、25% NaOMe/MeOH溶液0.78mLを加え、30分後に、1N HClで反 応をクエンチした。しかる後、この反応混合液を酢酸エチル−水間に分配させ、 その有機相を乾燥、真空濃縮した。得られた500mgの粗チオールはさらに精製 することなく使用した。 実施例10: (R,S)−4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2−メルカプト 酪酸メチルの合成 パートA:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、1.0g の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−アールと35mL のMeCl2を仕込んだ。この反応溶液を0℃まで冷却してから、700mg(1 .2当量)のトリメチルシリルシアニドと1.1g(1.1当量)の臭化亜鉛を 添加し、室温で一晩、攪拌した。この反応混合物を真空濃縮し、酢酸エチル−H2 O間に分配させた。残留物を5mLの酢酸及び15mLの6N HClで処理し、 還流温度で3時間、加熱した。反応混合物を真空濃縮し、酢酸エチル−H2O間 に分配させた。得られた粗ヒドロキシ酸(435mg)を15mLのMeOHに溶解 し、それに0.18mLの塩化チオニルを加え、室温で一晩、攪拌した。しかる後 、反応混合物を真空濃縮し、酢酸エチル−H2O間に分配させた。得られた粗エ ステルをシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘ キサン/100% 酢酸エチル)し、360mgの純粋な(R,S)−4−[(4 −メ トキシフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ酪酸メチルを得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートA で得たアルコール250mg及び5mLのTHFを仕込んだ。この溶液を0℃まで冷 却してから、250mgのトリフェニルホスフィン、次いで、0.14mLのDEA Dを添加した。5分間の撹拌後、この反応混合液に0.1mLのチオ酢酸を加え、 攪拌下、反応を1時間行い、しかる後、真空濃縮した。残留物を、−78℃で、 5mLのMeCl2に懸濁させ、ろ過により不純物を除去した。このろ液をシリカ ゲルを用いてクロマトグラフィー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン/50% 酢酸エチル−ヘキサン)し、100mgの透明油状物を得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、100mg のチオ酢酸エステルと10mLのMeOHを仕込んだ。この反応混合物に、25% NaOMe/MeOH溶液0.2mLを加え、30分後に、1N HClで反応 をクエンチした。この反応混合物を酢酸エチル−H2O間に分配させ、その有機 相を乾燥、真空濃縮した。70mgの粗チオールを得、それのMeCl2溶液をシ リカゲルプラグを通してろ過し、45mgの純粋な(R,S)−4−[(4−メト キシフェニル)−スルホニル]−2−メルカプト酪酸メチルを得た。 実施例11: (R,S)−3−[(4−メトキシベンジル)−スルホニル]プロパンチオー ルの合成 パートA:4.1gのベンジルメルカプタンを40mLの無水DMFに溶解し、こ の溶液に3.0gの3−クロロ−1−プロパノールを加えた。この溶液を通して 窒素ガスを15分間バブリングさせ、しかる後、8.7gの粉状炭酸カリウムを 添加した。16時間後に、DMFを真空除去し、酢酸エチル及び水を加え、有機 層を分離し、その有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた 。有機層をろ過、濃縮し、5.6gのバラ色液体を得、それを100mLのMeO Hに溶解して、58g(3.0当量)のOXONE@を100mLのH2Oに懸濁 さ せた液に加え、攪拌下、3時間反応させた。しかる後、その反応混合液をろ過し 、ろ液を元の体積の1/2まで真空濃縮した。酢酸エチルで抽出後、有機層をH 2O、食塩水で洗浄し、乾燥、真空濃縮して、3.55gの白色固体を得た。 パートB:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、パートA のアルコール1.0gと、10mLのTHFを仕込んだ。得られた溶液を0℃まで 冷却し、1.25gのトリフェニルホスフィンを加え、次いで、0.82mLのD EADを加えた。5分間の攪拌後、その反応混合液に0.36mLのチオ酢酸を加 え、攪拌下、反応を1時間行い、しかる後、真空濃縮した。残留物を、−78℃ で、10mLのMeCl2に懸濁させ、ろ過により不純物を取り除いた。そのろ液 をシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサン )し、210mgの透明油状物を得た。 パートC:磁石攪拌子及びN2入口を備えた100mL丸底フラスコに、210mg のチオ酢酸エステルと3mLのMeOHを仕込んだ。その反応混合液に0.5mLの NH4OH/MeOH溶液を加えた。60分後に、1N HClで反応をクエン チし、反応混合物を酢酸エチル−H2O間に分配させた。その有機相を乾燥、真 空濃縮し、170mgの粗チオールを得、それをEt2Oでトリチュレートして、 150mgの純粋なチオールを得た。 実施例12: 3−[(4−メトキシフェニル)−スルホニル]プロパン−1−オールの合成 パートA:7.1g(50mmol)の4−メトキシベンゼンチオールを100mLの 無水DMFに溶解した溶液に、4.4mL(5.0g,53mmol)の3−クロロ− 1−プロパノールを加えた。その溶液を通して窒素ガスを15分間バブリングさ せた後、21.0g(151mmol)の粉状炭酸カリウムを加え、30分後に、D MFを真空除去した。残留物に酢酸エチルと水を加え、有機層を分離し、その有 機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、濃縮を行い 、 次の反応に適した10.3gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物10.0g(50Tmmol)を200mLのメタノ ールと20mLの水に溶解し、その溶液に93g(151mmol)のペルオキシモノ 硫酸カリウム(OXONE@)を加えた。2時間後に、反応混合液をろ過し、フ ィルタケーキをメタノールで洗浄し、そのろ液を真空濃縮した。残留物に酢酸エ チルと水を加え、層分離を行い、水層側を酢酸エチルで2回抽出した。三つの有 機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、食塩水で洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮を経て、11.8gの純粋な3−[(4−メト キシフェニル)スルホニル]プロパン−1−オールを得た。m/z=237(M +Li)。 実施例13: 3−[(4−メトキシフェニル)−スルホニル]プロパン−1−チオールの合 成 パートA:実施例12で得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロ パン−1−オール2.8g(9mmol)を20mLの塩化メチレンに溶解した0℃の 溶液に、1.3mL(1.0g,9mmol)のトリエチルアミンを、次いで、0.7 mL(1.0g,9mM)のメタンスルホン酸クロリドを加えた。16時間後に、反 応混合液の真空濃縮を行い、酢酸エチルと水を添加し、有機層を分離した。その 有機層を5%硫酸水素カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で 洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過、濃縮後、次の反応に適した2.7 gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物2.8g(9mmol)を20mLの無水DMFに溶 解した溶液に、1.4mL(1.0g,10mmol)のトリエチルアミン及び0.7 mL(0.8g,10mM)のチオール酢酸を加えた。16時間後、その反応混合 液を真空濃縮し、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。その有機層を5% 硫 酸水素カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥した。ろ過、濃縮を行い、2.6gの粗生成物を得た。この粗 生成物をネシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(20%−40% 酢酸 エチル/ヘキサン)し、1.8gの純粋なチオ酢酸エステル、m/z=295( M+Li)を得た。 パートC:パートBで得たチオ酢酸エステル0.9g(3Tnmol)を20mLの無 水メタノールに溶解した溶液に、0.3g(12mmol)のナトリウム金属を加え た。1時間後に、反応をドライアイスでクエンチし、酢酸エチルと5%硫酸水素 カリウムを加え、有機層を分離した。その有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液 及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。ろ過及び濃縮後、0.5 gの粗生成物を得、これをシリカゲルを用い、20%−30% 酢酸エチル/ヘ キサンでクロマトグラフィー処理し、0.4gの純粋な3−[(4−メトキシフ ェニル)スルホニル]プロパン−1−チオール、m/z=253(M+Li)を 得た。 実施例14: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2R−メチルプロパン−1− チオールの合成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール4.4g(31mmol)を100mLの無 水DMに溶解した溶液に、(R)−(−)−3−ブロモ−2−メチル−1−プロ パノール3.4mL(5.0g,33mmol)を加えた。この溶液を通して、15分 間、窒素ガスバブリングを行った後、12.9g(93mM)の粉状炭酸カリウム を添加した。1時間後に、DMFを真空除去し、酢酸エチルと水を加え、有機層 を分離した。この有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 ろ過、濃縮後、次の反応に適した7.4gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物6.6g(31mmol)を150mLのメタノール と15mLの水に溶解し、その溶液に67g(108mmol)のペルオキシモノ硫酸 カリウム(OXONE@)を加えた。3時間後に、その反応混合液をろ過し、フ ィルタケーキをメタノールで洗浄し、ろ液を真空濃縮した。残留物に酢酸エチル と水を加え、層分離を行い、水層は酢酸エチルで2回抽出した。これら三つの有 機抽出液を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネ シウムで乾燥した。この抽出液をろ過、濃縮し、7.3gの粗生成物を得た。こ の粗生成物をシリカゲル上、20%−60% 酢酸エステル/ヘキサンを用いて クロマトグラフィー処理し、5.9gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル) スルホニル]−2R−メチルプロパン−1−オール、m/z=251(M+Li )を得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2R −メチルプロパン−1−オール5.9g(24mmol)と6.9g(26mmole)の トリフェニルホスフィニを100mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、4. 2mL(4.3g,21mmol)のジイソプロピルアゾジカルボン酸塩を加え、5分 後に引き続いて、1.9mL(2.0g,26mM)のチオール酢酸を加えた。1時 間後に、反応混合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、20%−30% 酢酸 エチル/ヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、8.6gの生成物を得 、更にそれをシリカゲル上で、塩化メチレンを用いてクロマトグラフィー処理し て、4.0gの純粋なチオ酢酸エステル、m/z=309(M+Li)を得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル1.4g(5mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解した溶液に、ナトリウム金属0.4g(17mmol)を加えた。 1時間後に、反応混合液を冷却し、1N HCl溶液を加え、次いで、酢酸エチ ルと水を加え、有機層を分離した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液及 び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。引き続いて、ろ過、濃縮を行 い、粗生成物を得、これをシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル/ヘキ サンを用いてクロマトグラフィー処理し、0.6gの純粋3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−2R−メチルプロパン−1−チオール、m/z=26 7(M+Li)を得た。 実施例15: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2,2−ジメチルプロパン− 1−チオールの合成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール5.0g(36mmol)を50mLの無水 DMFに溶解した溶液に、4.6mL(6.3g,37mmol)の3−ブロモ−2, 2−ドメチル−1−プロパノールを加えた。この溶液を通して、15分間、窒素 バブリングさせた後、14.8g(107mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。 67時間後に、DMFを真空除去し、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した 。この有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶 液をろ過、濃縮後、次の反応に適した8.4gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物8.1g(36mmol)を150mLのメタノール と15mLの水に溶解した溶液に、77g(125mmol)のペルオキシモノ硫酸カ リウム(OXONE@)を添加した。3時間後に、反応混合液をろ過し、フィル タケーキをメタノールで洗浄し、得られたろ液を真空濃縮した。しかる後、残留 物に酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層を酢酸エチルで2回抽出した。 三つの有機抽出液を合わせて、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥で乾燥した。この有機溶液をろ過、濃縮し、8.3gの 粗生成物を得た。これをシリカゲル上で、20%−50% 酢酸エチル/ヘキサ ンを用いてクロマトグラフィー処理し、6.6gの純粋な3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−2,2−ジメチルプロパン−1−オール、m/z=2 65(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2, 2−ジメチルプロパン−1−オール5.0g(19mmol)とトリフェニルホスフ ィン5.6g(21mmole)を、80mLの無水THFに溶解した0℃溶液に、3. 4mL(3.7g,21mmol)のジエチルアゾジカルボキシラートを加え、次いで 5分後に、1.5mL(1.6g,21mM)のチオール酢酸を加えた。16時間後 、反応混合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル / ヘキサンを用いて、クロマトグラフィー処理し、3.9gの純粋なチオ酢酸エス テル、m/z=334(M+m4)を得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル2.0g(6mmol)を60mLの無水 メタノールに溶解し、この溶液に0.5g(23mmol)のナトリウム金属を加え た。1時間後に、反応混合液を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて、 酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を飽和炭酸水素ナト リウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過及び濃縮操作 を経て、1.7gの粗生成物を得、これをシリカゲル上で、10%−20% 酢 酸エチル/ヘキサンを用いて、クロマトグラフィー処理し、1.3gの純粋な3 −[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−2,2−ジメチルプロパン−1− チオール、m/z=292(M+NH4)を得た。 実施例16: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ペンタン−1−チオールの合 成パートA:実施例13の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン ]−1−オール4.6g(20mmol)と6mLのDMPUを、60mLの無水THF に溶解し、その−70℃溶液に、窒素雰囲気下、10.0M n−ブチルリチウ ム/ヘキサン溶液5.8mL(2.8g,44mmol)を加えた。−70℃で30分 間攪拌した後、1.6mL(2.4g,22mmole)の1−ブロモエタンを添加し、 2時間後に反応混合物を0℃まで冷却し、25mLの飽和塩化アンモニウム溶液を 加えた。引き続いて、酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層側を酢酸エチ ルで2回中出した。三つの有機抽出液を一緒にして、食塩水で洗浄し、硫酸マグ ネシウムで乾燥した。引き続いて、ろ過及び濃縮を行って、4gの粗生成物を得 、さらにこの粗生成物をシリカゲル上で、40%−55% 酢酸エチル/ヘキサ ンを用いてクロマトグラフィー処理し、2.4gの純粋な3−[(4−メトキシ フ ェニル)スルホニル」−ペンタン−1−オール、m/z=265(M+Li)を 得た。 パートB:3.1g(12mmole)のトリフェニルホスフィンを100mLの無水T HFを溶解した0℃溶液に、1.9mL(2.0g,12mmol)のジエチルアゾジ カルボキシラートを添加し、15分後に引き続いて、パートAで得た3−[(4 −メトキシフェニル)スルホニル]−ペンタン−1−オール2.4g(9mmol) 溶液と0.9mL(0.9g,12mM)のチオ酢酸を加えた。1時間後に、反応混 合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用して、クロマトグラフィー処理し、1.5gの純粋なチオ酢酸エステル 、m/z=323(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得たチオ酢酸エステル1.5g(5mmol)を20mLの無水 メタノールに溶解した溶液に、0.4g(18mmol)のナトリウム金属を加えた 。1時間後、反応混合液を冷却し、1N HCl溶液を加え、次いで、酢酸エチ ルと水を加え、有機層を分離した。その有機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸マグ ネシウムで乾燥させた。引き続いて、ろ過、濃縮を行い、1.4gの粗生成物を 得、それをシリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して 、クロマトグラフィー処理し、0.6gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル )スルホニル]−ペンタン−1−チオール、m/z=281(M+Li)を得た 。 実施例17: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ドデカン−1−チオールの合 成 パートA:実施例13の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール4.7g(20mmol)と6mLのDMPUを100mLの無水THFに 溶解した、0℃溶液に、窒素雰囲気下、10.0M n−ブチルリチウム/ヘキ サン溶液5.9mL(2.9g,45mmol)を加えた。−70℃で30分間攪拌し た後、4.3mL(4.7g,22mmole)の1−ブロモノナンを添加した。16時 間後、反応混合物を0℃まで冷却し、25mLの飽和塩化アンモニウム溶液を加え た。引き続いて、酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、有機層を分離した。水 層を酢酸エチルで2回抽出し、三つの有機抽出液を一緒にしてから食塩水で洗浄 し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機抽出液をろ過、濃縮し、11gの粗 生成物を得、これをシリカゲル上で、30%−50% 酢酸エチル/ヘキサンを 使用して、クロマトグラフィー処理し、4.2gの純粋3−[(4−メトキシフ ェニル)スルホニル]−ドデカン−1−オール、m/z=363(M+Li)を 得た。 パートB:パートAで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ドデ カン−1−オール4.2g(12mmol)とトリフェニルホスフィン4.6g(1 8mmole)を、100mLの無水THFに溶解し、この0℃の溶液に、2.8mL(3 .1g,18mmol)のジエチルアゾジカルボキシラートを加え、引き続いて15 分後に、1.3mL(1.3g,18mM)のチオ酢酸を加えた。1時間後に、反応 混合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、5%−15% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用して、クロマトグラフィー処理し、4.3gの純粋なチオ酢酸エステル 、m/z=421(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得たチオ酢酸エステル2.0g(5mmol)を25mLの無水 メタノールに溶解し、この溶液に0.4g(18mmol)のナトリウム金属を加え た。1時間後に、反応混合液を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて、 酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。この有機層を水及び食塩水で洗浄し 、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ過及び濃縮し、1.7gの粗 生成物を得、これをシリカゲル上で、5%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使 用して、クロマトグラフィー処理し、1.2gの純粋な3−[(4−メトキシフ ェニル)スルホニル]−ドデカン−1−チオール、m/z=379(M+Li) を得た。 実施例18: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−4−フェニルブタン−1−チ オールの合成 パートA:実施例13の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール5.0g(22mmol)とDMPU6mLを100mLの無水THFに溶 解し、窒素雰囲気下、−70℃で、この溶液に10.0M n−ブチルリチウム/ ヘキサン溶液5.7mL(2.8g,43mmol)を加えた。−70℃で30分間、 攪拌した後、臭化ベンジル2.3mL(3.3g,20mmole)を加え、18時間後 に、その反応混合物を0℃まで冷却した。しかる後、25mLの飽和塩化アンモニ ウム溶液を加え、引き続いて、酢酸エチルと水を加え、層分離を行った。水層を 酢酸エチルで2回抽出した。三つの有機層を一緒にして、食塩水で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮を行い、粗生成物を得た。この粗生成物を、 シリカゲル上で、35%−45% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して、クロマト グラアーフィー処理し、5.3gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル)スル ホニル]−4−フェニルブタン−1−オール、m/z=327(M+Li)を得 た。 パートB:パートAで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−4− フェニルブタン−1−オール5.3g(17mmol)と、トリフェニルホスフィン 6.5g(25mmole)を100mLの無水THFに溶解した0℃溶液に、3.9mL (4.3g,25mmol)のジエチルアゾジカルボキシラート、次いで15分後に 、1.8mL(1.9g,25mM)のチオ酢酸を加えた。1時間後に、その反応混 合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−30% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用して、クロマトグラアーフィー処理し、5.5gの純粋なチオ酢酸エス テル、m/z=385(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得たチオ酢酸エステル2.9g(8mmol)を35mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.7g(29mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後、反応混合液を冷却し、1N HCl溶液を加え、次いで、酢酸エ チルと水を添加した。有機層を分離して、それを水及び食塩水で洗浄した後、硫 酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ過、濃縮後、1.9gの粗生成物 を得、これをシリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使用し てクロマトグラフィー処理し、1.6gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル )スルホニル]−4−フェニルブタン−1−チオール、m/z=343(M+L i)を得た。 実施例19: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ブタン−1−チオールの合成パートA:4−メトキシベンゼンチオール2.6g(18mmol)を30mLのメタ ノールに溶解した0℃溶液に、メタクリル酸メチル2.2mL(2.0g,20mm ol)を加えた。その溶液を通して、15分間、窒素バブリングした後、2.8mL (2.1g,20mmole)のトリエチルアミンを加えた。4.5時間後、20mLの メタノールと10mLの水を加え、次いで36g(59mmol)のペルオキシモノ硫 酸カリウム(OXONE@)を加えた。65時間後に、反応混合液をろ過し、フ ィルタケーキをメタノールで洗浄した。得られたろ液を真空濃縮してから、残留 物に酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層を酢酸エチルで2回抽出した。 三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄 し、硫酸マグネシウムで乾燥した。その有機溶液をろ過、濃縮し、4.1gの粗 生成物を得た。これをシリカゲル上で、25%−35% 酢酸エチル/ヘキサン を使用してクロマトグラフィー処理し、3.5gの純粋な3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−酪酸メチル、m/z=279(M+Li)を得た。 パートB:パートAで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−酪酸 メチル3.5g(13mmol)を5mLの無水THFに溶解した0℃溶液に、窒素雰 囲気下、ヒドリドアルミン酸リチウム/THFの1.0M溶液14.2mL(0. 5g,13mmol)を加えた。1.5時間後に、反応混合物を0℃まで冷却し、z 0.6mLの水を添加し、引き続いて、0.6mLの2.5N水酸化ナトリウム溶液 と1.8mLの水を加えた。しかる後、反応混合物を濾過し、ろ液を真空濃縮し、 酢酸エチルと5%くえん酸溶液を加えた。有機層を分離し、飽和炭酸水素ナトリ ウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ 過、濃縮し2.7gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタ ン−1−オール、m/z=251(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン −1−オール、2.7g(11mmol)とトリフェニルホスフィン3.6g(14 mmol)を、50mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、2.2mL(2.4g, 14mmol)のジエチルアゾジカルボキシラートを加え、次いで15分後に、1. 0mL(1.1g,14mM)のチオール酢酸を加えた。18時間後、反応混合物を 濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−30% 酢酸エチル/ヘキサンを使 用してクロマトグラフィー処理し、2.8gの純粋な3−[(4−メトキシフェ ニル)スルホニル]ブタン−1−チオ酢酸エステル、m/z=303(M+H) を得た。 パートD:パートCで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン −1−チオ酢酸エステル2.8g(9mmol)を40mLの無水メタノールに溶解し た溶液に、0.8g(34mmol)の金属ナトリウムを加えた。1時間後に、その 反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を添加し、次いで、酢酸エチルと水を加 えた。有機層を分離し、それを飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し 、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ過、濃縮し、粗生成物を得、 これをシリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使用してクロ マトグラフィー処理し、1.8gの純粋な3−[(4−メトキシフェニル)スル ホニル]ブタン−1−チオール、m/z=261(M+H)を得た。 実施例20: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ヘキサン−1−チオールの合成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール2.8g(20mmol)を40mLのメタ ノールに溶解した0℃溶液に、trans−2−ヘキサン酸メチル2.6g(2 0mmol)を加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスをバブリングさせた 後、3.0mL(2.2g,21mmole)のトリエチルアミンを添加した。反応混合 物を、16時間、還流温度で加熱し、しかる後、真空濃縮し、酢酸エステルと水 を加え、有機層の分離を行った。この有機層を5%クエン酸溶液、飽和炭酸水素 ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過、濃 縮を経て、次の反応に適した、5.1gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物5.1g(17mmol)を50mLのメタノールと 10mLの水に溶解し、この溶液に40g(65mmol)のペルオキシモノ硫酸カリ ウム(OXONE@)を加えた。2時間後、この反応混合物をろ過し、そのフィ ルタケーキをメタノールで洗浄し、得られたろ液を真空濃縮した。しかる後、残 留物に酢酸エチルと水を加え、層分離を行った。水層を酢酸エチルで2回抽出し 、得られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食 塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ過、濃縮し、5 .8gの粗生成物を得、これをシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル/ ヘキサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、4.4gの純粋な3−[(4 −メトキシフェニル)スルホニル]ヘキサン酸メチル、m/z=307(M+L i)を得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ヘキサ ン酸メチル4.4g(15mmol)を50mLの無水THFに溶解し、0℃に冷却し た溶液に、窒素雰囲気下、1.0Mヒドリドアルミン酸リチウム/THF溶液1 6.2mL(0.6g,15mmol)を加えた。1時間後に、その反応混合物を0℃ に冷却し、0.6mLの水を添加し、引き続いて、0.6mLの2.5N水酸化ナト リウム溶液及び1.8mLの水を添加した。この反応混合液をろ過し、ろ液を真空 濃縮し、残留物に酢酸エチルと5%クエン酸溶液を加えて、有機層を分離した。 分離した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネ シウムで乾燥した。この乾燥有機層をろ過及び濃縮し、3.6gの純粋な3−[ (4−メトキシフェニル)スルホニル]ヘキサン−1−オール、m/z=273 (M+H)を得た。 パートD:パートCで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ヘキサ ン−1−オール3.6g(12mmol)とトリフェニルホスフィン3.8g(15m mole)を、50mLの無水THFに溶解し、0℃に冷却した溶液に、ジエチルアゾ ジカルボキシラート2.3mL(2.6g,15mmol)を加え、引き続いて15分 後に、1.1mL(1.1g,15mM)のチオール酢酸を加えた。15時間後、そ の反応混合物を濃縮し、得られた残留物をシリカゲルを用いてクロマトグラフィ ー処理(10%−25% 酢酸エチル/ヘキサンを使用)し、3.3gの純粋な チオ酢酸エステル、m/z=331(M+H)を得た。 パートE:パートDで得たチオ酢酸エステル2.0g(6mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解し、この溶液に0.5g(23mmol)の金属ナトリウムを添加 した。2時間後、反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて、 酢酸エチルと水を加えて、有機層を分離した。この分離した有機層を水及び食塩 水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機層をろ過、濃縮し、粗 生成物を得た。これをシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(5%−20 % 酢酸エチル/ヘキサンを使用)し、1.0gの純粋な3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]ヘキサン−1−チオール、m/z=289(M+H)を 得た。 実施例21: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−3−フエニルプロパン−1− チオールの合成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール3.0g(21mmol)を40mLのメタ ノールに溶解した0℃溶液に、trans−けい皮酸メチル3.5g(21mmol )を加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスバブリングを行った後、3 .1mL(2.3g,22mM)のトリエチルアミンを加えた。この反応混合物を還 流温度で16時間加熱し、しかる後、真空濃縮し、残留物に酢酸エチルと5%ク エン酸溶液を加えた。有機層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水 で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、この有機溶液をろ過、濃縮し、次の 反応に適した6.5gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物6.5g(21mmol)を100mLのメタノール 及び20mLの水に溶解し、その溶液に42g(68mmol)のペルオキシモノ硫酸 カリウム(OXONE@)を添加した。19時間後に、この反応混合物をろ過し 、そのフィルタケーキをメタノールで洗浄した。得られたろ液を真空濃縮し、残 留物に酢酸エチルと水を加え、相分離を行い、水層を酢酸エチルで2回抽出した 。得られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食 塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液をろ過、濃縮し、6 .5gの粗生成物を得、これをシリカゲル上で、20%−35% 酢酸エチル/ヘ キサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、6.1gの純粋な3−[(4− メトキシフェニル)スルホニル]−3−フェニルプロパン酸メチル、m/z=3 41(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−3− フェニルプロパン酸メチル5.0g(15mmol)を60mLの無水THFに溶解し た0℃溶液に、窒素雰囲気下、1.0Mヒドリドアルミン酸リチウム/THF溶 液16.4mL(0.6g,15mmol)を加えた。2時間後、その反応混合物を0 ℃に冷却し、1.2mLの水を加え、次いで、1.2mLの2.5N水酸化ナトリウ ム溶液と3.6mLの水を加えた。得られた反応混合物をろ過し、そのろ液を真空 濃縮し、残留物に酢酸エチルと5%クエン酸溶液を加えた。その有機層を分離し 、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し た。乾燥された有機溶液をろ過、濃縮し、3.9gの純粋な3−[(4−メトキ シフェニル)スルホニル]−3−フェニルプロパン−1−オール、m/z=31 3 (M+Li)を得た。 パートD:トリフェニルホスフィン3.7g(14mmole)を50mLの無水TH Fに溶解した0℃溶液に、2.2mL(2.4g,14mmol)のジエチルアゾジカ ルボキシラート、引き続いて30分後に、パートCで得た3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−3−フェニルプロパン−1−オール3.9g(13mm ol)とチオール酢酸1.0mL(1.1g,14mM)の溶液を加えた。1時間後に 、この反応混合液を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−30% 酢酸エ チル/ヘキサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、2.9gの純粋なチオ 酢酸エステル、m/z=371(M+Li)を得た。 パートE:パートDで得たチオ酢酸エステル2.0g(5mmol)を60mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.5g(21mmol)の金属ナトリウムを添加 した。1時間後に、その反応混合物を冷却してから1N HCl溶液を加え、次 いで、酢酸エチルと水を加えた。有機層を分離し、食塩水で洗浄し、有機層を硫 酸マグネシウムで乾燥した。乾燥したこの有機溶液をろ過、濃縮し、1.8gの 粗生成物を得、これをシリカゲル上で、15%−20% 酢酸エチル/ヘキサン を使用して、クロマトグラフィー処理し、1.1gの純粋な3−[(4−メトキ シフェニル)スルホニル]−3−フェニルプロパン−1−チオール、m/z=3 29(M+Li)を得た。 実施例22: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−オクタン−1−チオールの合 成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール2.7g(19mmol)を40mLのメタ ノールに溶解した0℃溶液に、trans−2−オクテン酸メチル3.0g(1 9mmol)を加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスバブリングを行った 後、2.8mL(2.0g,20mM)のトリエチルアミンを加え、その反応混合物 を還流温度で16時間加熱した。しかる後、得られた反応混合物を真空濃縮し、 酢酸エチルと5%クエン酸溶液を加えた。有機層を分離し、分離された有機層を 飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した 。乾燥されたこの有機溶液をろ過、濃縮し、次の反応に適した5.7gの生成物 を得た。 パートB:パートAで得た生成物5.7g(19mmol)を120mLのメタノール と20mLの水に溶解し、この溶液に38g(62mmol)のペルオキシモノ硫酸カ リウム(OXONE@)を添加した。18時間後に、この反応混合物をろ過し、 フィルタケーキをメタノールで洗浄した。得られたろ液を真空濃縮し、酢酸エチ ルと水を加え、層分離を行った。水層を酢酸エチルで2回抽出し、得られた三つ の有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫 酸マグネシウムで乾燥した。この有機溶液を濃縮し、5.5gの粗生成物を得、 これをシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して、ク ロマトグラフィー処理し、次の反応に適した、4.4gの3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−オクタン酸メチルを得た。 パートC:パートBで得た3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−オク タン酸メチル4.4g(13mmol)を60mLの無水THFに溶解した0℃溶液に 、窒素雰囲気下、1.0Mヒドリドアルミン酸リチウム/THF溶液14.6mL (0.5g,13mmol)を加えた。2時間後、その反応混合物を0℃に冷却し、 0.5mLの水を加え、引き続いて、2.5N水酸化ナトリウム溶液0.5mLと水 1.5mLを加えた。得られた反応混合物をろ過し、ろ液を真空濃縮し、その残留 物に酢酸エチルと5%クエン酸溶液を加え、有機層を分離した。分離した有機層 を飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した 。乾燥したこの有機溶液をろ過、濃縮し、3.3gの純粋3−[(4−メトキシ フェニル)スルホニル]−オクタン−1−オール、m/z=307(M+Li) を得た。 パートD:トリフェニルホスフィン3.6g(14mmole)を50mLの無水TH Fに溶解した0℃溶液に、ジエチルアゾジカルボキシラート2.2mL(2.4g ,14mmol)、次いで15分後に、パートCで得た3−[(4−メトキシフェニ ル) スルホニル]−オクタン−1−オール3.3g(11mmol)とチオール酢1.0 mL(1.0g,14mM)の溶液を加えた。1時間後に、その反応混合物を濃縮し 、残留物をシリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して クロマトグラフィー処理し、2.4gの純粋なチオ酢酸エステル、m/z=36 5(M+Li)を得た。 パートE:パートDで得たチオ酢酸エステル2.0g(6mmol)を25mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.5g(21mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後に、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続い て、酢酸エチルと水を加えた。有機層を分離し、それを水と食塩水で洗浄し、硫 酸マグネシウムで乾燥した。乾燥したこの有機溶液をろ過、濃縮し、1.7gの 粗生成物を得、これをシリカゲル上で、10%−15% 酢酸エチル/ヘキサン を使用してクロマトグラフィー処理し、1.0gの純粋3−[(4−メトキシフ ェニル)スルホニル]−オクタン−1−チオール、m/z=323(M+Li) を得た。 実施例23: 1−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ヘプタン−3−チオールの合 成 パートA:実施例13の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール5.0g(22mmol)とトリエチルアミン12.1mL(8.8g, 87mmol)を25mLの塩化メチレンに溶解した0℃溶液に、13.8g(87mm ol)の三酸化硫黄−ピリジン錯体を25mLのDMSOに溶解して加えた。1時間 後、この反応混合物を300mLの氷に加え、さらに酢酸エチルを加えてから、有 機層を分離した。この有機層を水、5%硫酸水素カリウム溶液及び食塩水で洗浄 し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥した有機溶液をろ過、濃縮し、次の 反応適した、4.1gの3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパ ン−1−アールを得た。 パートB:0℃の2.0Mブチルマグネシウムクロリド/THF溶液22.3mL (4.3g,37mM)に、パートAで得た3−[(4−トキシフェニル)スルホ ニル]プロパン−1−アール4.1gをTHF30mLに溶解した溶液を加えた。 3時間後、その反応混合物を0℃に冷却し、40mLの飽和塩化アンモニウム溶液 を加え、引き続いて、酢酸エチルと水を加えた。この反応混合物の有機層を分離 し、5%硫酸水素カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水で洗浄 し、硫酸マグネシウムで乾燥してから、ろ過、濃縮を行い、4.7gの粗生成物 を得た。この粗生成物を、シリカゲル上で、30%−40% 酢酸エチル/ヘキ サンを使用してクロマトグラフィー処理し、3.1gの純粋な1−[(4−メト キシフェニル)スルホニル]−ヘプタン−3−オール、m/z=324(M+N H4)を得た。 パートC:パートBで得た1−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−ヘプ タン−3−オール3.1g(11mmol)とトリフェニルホスフィン6.0g(2 3mmol)を50mLの無水THFに溶解した0℃溶液に、ジエチルアゾジカルボキ シラート3.6mL(4.0g,23mmol)、引き続いて1時間後に、チオール酢 酸1.7mL(1.7g,23mM)を添加した。1時間後に、その反応混合物を濃 縮し、残留物をシリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサンを使用 してクロマトグラフィー処理し、次の反応に適した、1.2gのチオ酢酸エステ ルを得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル1.2g(3mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解した溶液に、0.3g(13mmol)の金属ナトリウムを加えた 。1時間後に、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を、引き続いて、酢 酸エチルと水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を水及び食塩水で洗浄 し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過、濃縮を行い、0.9gの粗生成物を 得た。この粗生成物を、シリカゲル上で、10%−20% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用してクロマトグラフィー処理し、0.6gの純粋な1−[(4−メトキ シフェニル)スルホニル]−ヘプタン−3−チオール、m/z=303(M+H )を得た。 実施例24: 3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−1−フェニルプロパン−1− チオールの合成 パートA:実施例13の3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール5.2g(23mmol)とトリエチルアミン12.6mL(9.1g, 90mmol)を25mLの塩化メチレンに溶解した0℃の溶液に、三酸化硫黄−ピリ ジン錯体14.4g(90mmol)を25mLのDMSOに溶解した溶液を加えた。 1時間後に、その反応混合物を200mLの氷に加え、さらに酢酸エチルを加えて 、有機層を分離した。分離した有機層を水、5%硫酸水素カリウム溶液及び食塩 水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、 次の反応に適切な、4.9gの3−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]プ ロパン−1−アールを得た。 パートB:0℃の2.0Mフェニルマグネシウムクロリド/THF溶液11.4 mL(3.2g,23mM)に、パートAで得た3−[(4−メトキシフェニル)ス ルホニル]プロパン−1−アール2.6g(11mmol)を20mLのTHFに溶解 した溶液を加えた。1.5時間後、その反応混合物を0℃に冷却し、20mLの飽 和塩化アンモニウム溶液を加え、引き続いて、酢酸エチルと水を加えた。有機層 を分離した後、それを5%硫酸水素カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液 及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、 濃縮し、2.7gの粗生成物を得、これをシリカゲル上で、35%−40% 酢 酸エチル/ヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、1.7gの純粋な3 −[(4−メトキシフェニル)スルホニル]−1−フェニルプロパン−1−オー ル、m/z=324(M+NH4)を得た。 パートC:パートBで得た生成物1.7g(6mmol)とトリフェニルホスフィン 3.1g(12mmole)を40mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、ジエチル アゾジカルボキシラート1.8mL(2.0g,12mmol)を加え、引き続いて1 時間後に、0.9mL(0.9g,12mM)のチオール酢酸を加えた。16時間後 に、その反応混合物を濃縮し、その残留物をシリカゲル上で、15%−35%酢 酸エチル/ヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、次の反応に適した、 0.8gのチオ酢酸エステルを得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル0.8g(2mmol)を15mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.2g(8mmol)の金属ナトリウムを加えた 。1時間後、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて、 酢酸エチルと水を加えた。有機層を分離し、それを水及び食塩水で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、0.5gの粗生成 物を得、これをシリカゲル上で、10%−30% 酢酸エチル/ヘキサンを使用 してクロマトグラフィー処理し、0.2gの純粋な3−[(4−メトキシフェニ ル)スルホニル]−フェニルプロパン−1−チオール、m/z=340(M+N H4)を得た。 実施例25: 4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン−1−チオールの合成 パートA:4−メトキシベンゼンチオール5.0g(36mmol)を50mLの無水 DMFに溶解し、その溶液に4.4mL(4.8g,44mmol)の3−クロロ−1 −プロパノールを加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスをバブリング させた後、17.3g(125mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。66時間後 、DMFを真空除去し、しかる後、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。 分離した有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。得られ た乾燥有機溶液を、ろ過、濃縮し、次の反応に適した8.2gの生成物を得た。 パートB:パートAで得た生成物7.6g(36mmol)を250mLのメタノール と20mLの水に溶解し、その溶液に77g(125mmol)のペルオキシモノ硫酸 カリウム(OXONE@)を添加した。16時間後、反応混合物をろ過し、その フィルタケーキをメタノールで洗浄した。得られたろ液を真空濃縮し、その残留 物に酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層側を酢酸エチルで更に2回抽出 した。得られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と 食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮 し、8.3gの粗生成物を得、これをシリカゲル上で、50%−80% 酢酸エ チルヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、5.8gの純粋な4−[( 4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン−1−オール、m/z=251(M +Li)を得た。 パートC:パートBで得た4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン −1−オール5.0g(21mmol1とトリフェニルホスフィン5.9g(23mmo le)を80mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、ジエチルアゾジカルボキシ ラート3.5mL(3.9g,23mmol)を加え、引き続いて5分後に、チオール 酢酸1.6mL(1.7g,23mM)を添加した。65時間後、その反応混合物を 濃縮し、その残留物を、シリカゲル上で20%−30% 酢酸エチル/ヘキサン を使用して、クロマトグラフィー処理し、3.9gの純粋なチオ酢酸エステル、 m/z=320(M+NH4)を得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル2.0g(71mmol)を60mLの無 水メタノールに溶解し、その溶液に0.6g(24mmol)の金属ナトリウムを加 えた。1時間後に、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続 いて、酢酸エチルと水を加えた。有機層を分離し、それを飽和炭酸水素ナトリウ ム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液を、 ろ過、濃縮し、1.7gの粗生成物を得、これを、シリカゲル上で15%−25 % 酢酸エチル/ヘキサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、1.3gの 純粋な4−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]ブタン−1−チオール、m /z=267(M+Li)を得た。 実施例26: 3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−オールの合成パートA:4−ヒドロキシベンゼンチオール10.0g(79mmol)を100mL の無水DMFに溶解した溶液に、7.3mL(8.2g,87mmol)の3−クロロ −1−プロパノールを加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスをバブリ ングさせた後、33.0g(238mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。17時 間後、反応混合物中のDMFを真空除去し、酢酸エチルと水を加え、有機層を分 離した。分離した有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた 。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、16gの粗生成物、m/z=183(M− H)を得た。 パートB:パートAで得た生成物3g(16mmol)を20mLのの無水DMFに溶 解し、その溶液に、6.8g(49mmol)の粉状炭酸カリウムを添加し、引き続 いて、3.3g(24mM)の1−ブロモブタンを加えた。65時間後に、酢酸エ チルと水を加え、有機層を分離し、分離した有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、3.9gの粗生成 物、m/z=247(M+Li)を得た。 パートC:パートBの生成物3.9g(16mmol)を、50mLのメタノールと1 0mLの水に溶解し、その溶液に32g(52mmol)のペルオキシモノ硫酸カリウ ム(OXONE@)を添加した。16時間後、その反応混合物をろ過し、そのフ ィルタケーキをメタノールで洗浄し、得られたろ液を真空濃縮した。しかる後、 酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層側を酢酸エチルで更に2回抽出した 。得られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食 塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し 、4.3gの生成物を得た。この生成物は、3−[(4−ブトキシフェニル)ス ルホニル]プロパン−1−オール、m/z−279(M+Li)であった。 実施例27: 3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−チオールの合成パートA:実施例27の3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール4.3g(16mmol)とトリフェニルホスフィン5.1g(19mmo le)を50mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、3.1mL(3.4g,19m mol)のジエチルアゾジカルボキシラートを加え、引き続いて15分後に、1. 4mL(1.5g,19mM)のチオール酢酸を加えた。1時間後、その反応混合物 を濃縮し、その残留物をシリカゲル上で10%−25% 酢酸エチル/ヘキサン を使用してクロマトグラフィー処理し、4.4gの純粋なチオ酢酸エステル、m /z=348(M+NH4)を得た。 パートB:パートAで得たチオ酢酸エステル2.0g(6mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.5g(22mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後に、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続い て、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を飽和炭酸水素 ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機 溶液をろ過、濃縮し、粗生成物を得、これをシリカゲル上で10%−20% 酢 酸エチル/ヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、1.3gの純粋な3 −[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−チオール、m/z= 289(M+H)を得た。 実施例28: 3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]−4−フェニルブタン−1−チ オールの合成 パートA:実施例26の3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]プロパン −1−オール4.0g(15mmol)と6mLのDMPUを100mLの無水THFに 溶解した−70℃の溶液に、窒素雰囲気下、10.0M n−ブチルリチウム/ ヘキサン溶液3.9mL(1.9g,29mmol)を加えた。−70℃で30分攪拌 した後、1.6mL(2.3g,13mmole)の臭化ベンジルを加え、15時間後、そ の反応混合物を0℃に冷却し、25mLの飽和塩化アンモニウム溶液を加えた。し かる後、酢酸エチルと水を加え、その層分離を行い、水層を酢酸エチルでさらに 2回抽出を行った。得られた三つの有機層を一緒にして、食塩水で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮を経て、8.4gの粗生成物を得た。この粗 生成物を、シリカゲル上で25%−35% 酢酸エチル/ヘキサンを使用してク ロマトグラフィー処理し、4.3gの純粋な3−[(4−ブトキシフェニル)ス ルホニル]−4−フェニルブタン−1−オールを得た。 パートB:パートAで得た3−[(4−ブトキシフェニル)スルホニル]−4− フェニルブタン−1−オール4.3g(12mmol)とトリフェニルホスフィン4 .7g(18mmole)を100mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、2.8m L(3.1g,18mmol)のジエチルアゾジカルボキシラートを加え、次いで、 15分後に、1.3mL(1.4g,18mM)のチオール酢酸を加えた。1時間後 に、その反応混合物を濃縮し、その残留物をシリカゲル上で10%−15% 酢 酸エチル/ヘキサンを使用してクロマトグラフィー処理し、4.1gの純粋なチ オ酢酸エステルを得た。 パートC:パートBで得たチオ酢酸エステル2.0g(5mmol)を30mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.4g(18mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて 、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を水と食塩水で洗 浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。その乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、1.9 gの粗生成物を得、それを、シリカゲル上、5%−15% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用してクロマトグラフィー処理し、1.2gの純粋な3−[(4−ブトキ シフェニル)スルホニル]−4−フェニルブタン−1−チオールを得た。 実施例29: 3−[(4−プロポキシフェニル)スルホニル]プロパンチオールの合成 パートA:4−ヒドロキシベンゼンチオール10.0g(79mmol)を100mL の無水DMFに溶解し、その溶液に7.3mL(8.2g,87mmol)の3−クロ ロ−1−プロパノールを加えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスをバブ リングした後、33.0g(238mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。17時 間後、反応混合物中のDMFを真空除去し、酢酸エチルと水を加え、有機層を分 離した。分離した有機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、16.1gの純粋な生成物、m/z=183 (M−H)を得た。 パートB:パートAで得た化合物2.8g(15mmol)を20mLの無水DMFに 溶解し、その溶液に6.3g(46mmol)の粉状炭酸カリウムを加え、引き続い て、2.8g(23mM)の1−ブロモプロパンを加えた。16時間後に、酢酸エ チルと水を加えて有機層を分離し、その分離有機層を食塩水で3回洗浄してから 硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機層をろ過、濃縮し、3.4gの生成 物、m/z=233(M+Li)を得た。 パートC:パートBで得た化合物3.4g(16mmol)を50mLのメタノールと 10mLの水に溶解し、その溶液に31g(51mmol)のペルオキシモノ硫酸カリ ウム(OXONE@)を加えた。18時間後、その反応混合物をろ過し、そのフ ィルタケーキをメタノールで洗浄し、得られたろ液を真空濃縮し、残留物に酢酸 エチルと水を加え、層分離を行った。水層を酢酸エチルでさらに2回抽出し、得 られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び食塩水 で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、3 .9gの3−[(4−プロポキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−オール 、m/z=259(M+H)を得た。 パートD:パートCで得た3−[(4−プロポキシフェニル)スルホニル]プロ パン−1−オール、3.9g(15mmol)とトリフェニルホスフィン4.9g( 19mmole)を、50mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、ジエチルアゾジカ ルボキシラート2.9mL(3.2g,19mmol)を加え、引き続いて15分後に 、1.4mL(1.4g,19mM)のチオール酢酸を加えた。2時間後、その反応 混合物を濃縮し、残留物をシリカゲル上で、15%−25% 酢酸エチル/ヘキ サンを使用してクロマトグラフィー処理し、4.1gの純粋なチオ酢酸エステル 、m/z=334(M.NH4)を得た。 パートE:パートDで得たチオ酢酸エステル2.0g(6mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解し、その溶液に0.6g(23mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後、その反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて 、酢酸エチル及び水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を水及び食塩水 で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機層をろ過、濃縮して粗生 成物を得、この粗生成物を、シリカゲル上で10%−20% 酢酸エチル/ヘキ サンを使用してクロマトグラフィー処理し、1.2gの純粋な3−[(4−プロ ポキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−チオール、m/z=275(M+ H)を得た。 実施例30: 3−(フェニルスルホニル)プロパン−1−チオールの合成 パートA:チオフェノール3.0g(27mmol)を50mLの無水DMFに溶解し 、その溶液に2.4mL(2.7g,28mmol)の3−クロロ−プロパノールを加 えた。この溶液を通して、15分間、窒素ガスをバブリングした後、11.3g (81mM)の粉状炭酸カリウムを添加した。1時間後、反応混合物中のDMFを 真空除去してから、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。この分離した有 機層を食塩水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過及び濃縮を行 い、次の反応に適した、4.6gの生成物を得た。] パートB:パートAで得た生成物4.6g(27mmol)を、80mLのメタノール と20mLの水に溶解し、この溶液に53g(87mmol)のペルオキシモノ硫酸カ リウム(OXONE@)を添加した。65時間後、この反応混合物をろ過し、そ のフィルタケーキをメタノールで洗浄し、そのろ液を真空濃縮した。この残留物 に酢酸エチルと水を加え、層分離を行い、水層は酢酸エチルでさらに2回抽出し た。得られた三つの有機抽出液を一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食 塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し 、4.7gの3−(フェニルスルホニル)プロパン−1−オール、m/e=20 7(M+H)を得た。 パートC:パートBで得た3−(フェニルスルホニル)プロパン−1−オール4 .7g(24mmol)とトリフェニルホスフィン7.6g(29mmole)を50mL の無水THFに溶解した0℃の溶液に、4.6mL(5.0g,29mmol)のジエ チルアゾジカルボキシラートを加え、引き続いて分後に、2.1mL(2.2g, 29mM)のチオール酢酸を加えた。1.5時間後、この反応混合液を濃縮し、そ の残留物を、シリカゲル上で10%−30% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して クロマトグラフィー処理し、4.3gの純粋なチオ酢酸エステル、m/z=26 5(M+Li)を得た。 パートD:パートCで得たチオ酢酸エステル2.0g(8mmol)を40mLの無水 メタノールに溶解し、この溶液に0.7g(29mmol)の金属ナトリウムを加え た。1時間後、この反応混合物を冷却し、1N HCl溶液を加え、引き続いて 、酢酸エチルと水を添加した。この有機層を分離し、水と食塩水で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、1.6gの粗生成 物を得、この粗生成物を、シリカゲル上で10%−20% 酢酸エチル/ヘキサ ンを使用して、クロマトグラフィー処し、0.9gの純粋な3−(フェニルスル ホニル)プロパン−1−チオール、m/z=217(M+H)を得た。 実施例31:の合成 パートA:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた100mLの丸底フラスコに、5,6 −ジヒドロ−2H−ピラン−2−オン1.0g、p−メトキシベンゼンチオール 1.5gを35mLの脱気MeOHに溶解した溶液を仕込んだ。この溶液の攪拌下 、トリエチルアミン1.5gを添加し、30分間攪拌した後、この反応混合液を 真空濃縮し、トリエチルアミンを除去した。得られた粗生成物を35mLのMeC l2に溶解し、7.6gのMCPBAを加え、その反応混合液を、室温で一晩、 攪拌した。しかる後、反応を2当量の亜硫酸ナトリウムでクエンチし、その反応 混合物をMeCl2と水で希釈した。その有機相を10%水酸化アンモニウム水 溶液、食塩水で洗浄した後、真空濃縮し、ラクトンのヒドロキシメチルエステル に対する比率が80:20の生成物2.5gを得、これをさらに精製することな く使用した。 パートB:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた100mLの丸底フラスコに、パート Aで得た粗生成物2.5g、40%メチルアミン水溶液12.8mL(20eq)を 15mLのMeOHと共に仕込んだ。この反応混合物を1時間攪拌した後、真空濃 縮し、クロマトグラフィー(100%酢酸エチル/10%メタノール−酢酸エチ ル)で精製し、1.8gの純粋なアミドを得た。 パートC:パートBで得たヒドロキシアミド1.8gとトリフェニルホスフィン を30mLの無水THFに溶解した0℃の溶液に、1.0mLのジエチルアゾジカル ボキシラートを加え、引き続いて5分後に、0.5mLのチオール酢酸を加えた。 1.5時間後、その反応混合物を濃縮し、その残留物を<シリカゲル上で75% −100% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、ト リフェニルホスフィンオキシドで汚染された1.8gの粗チオ酢酸エステルを得 た。メタノール中で、500mgのこの粗物質を2当量のナトリウムメトキシドの 溶液で脱保護基し、20分後にその反応を1N HClでクエンチし、酢酸エチ ルで抽出した。有機相を食塩水で洗浄し、真空濃縮して粗生成物を得た。この粗 生成物の精製を分取規模の逆相HPLCで行い、純粋なチオールを得た。 実施例32: N−[1−(メルカプトメチル)−2−[(4−メトキシフェニル)スルホニ ル)エチル)アセトアミドの合成 パートA:N−アセチル−デヒドロアラニンメチルエステル(20g,139mm ol)を400mLのメタノールに溶解し、脱気(N2)した溶液に、攪拌下、4− メトキシチオフェノール(19.5g,139mmol)、引き続いて、トリエチル アミン14.0g(140mmol)を加え、得られた溶液を、2時間、攪拌した。 生成したN−アセチル−β−(4−メトキシチオ−フェニル)−D,L−アラニ ンメチルエステルを、in situで、800mLのメタノール、160mL 0の水、 引き続いて、OXONE@(250g,417mmol)の添加で酸化し、得られた 懸濁液を3時間攪拌した。しかる後、その懸濁液をフリットガラスブフナー漏斗 を通してろ過し、そのろ液をロータリーエバポレータで濃縮し、濃縮物を酢酸エ チルと炭酸水素ナトリウム間に分配した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネ シウムで乾燥した。これをろ過、濃縮し、白色固体を得た。これを冷酢酸エチル で、すり混ぜ洗浄し、ろ過後、28.5gのN−アセチル−β−(4−メトキシ フェニルスルホニル)−D,L−アラニンメチルエステルを得た。 パートB:N−アセチル−β−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L− アラニンメチル(1.6g,5mmol)を20mLの無水テトラヒドロフランに溶解 し、それを氷冷却した溶液に、攪拌下、1Mヒドリドアルミン酸リチウム/ジエ チルエーテル溶液(5mL,5mmol)を加えた。20分後に、その懸濁液に2.5 M水酸化ナトリウム水溶液2mLを加えて反応をクエンチした。得られた懸濁液を CELITE@を通してろ過し、そのろ液をロータリーエバポレータで濃縮し、 350mgのN−[1−(ヒドロキシメチル)−2−[(4−メトキシフェニル) スルホニル)エチル)アセトアミドを得た。 パートC:窒素雰囲気下、トリフェニルホスフィン(471mg,1.8mmol)と N−[1−(ヒドロキシメチル)−2−[(4−メトキシフェニル)スルホニル )エチル)アセトアミド(520mg,1.8mmol)を15mLのテトラヒドロフラ ンに溶解し、0℃に冷却した。この溶液にジエチルジアゾジカルボキシラート( 313mg,1.8mmol)、引き続いて、チオ酢酸(140mg,1.8mmol)を加 え、この溶液を2時間攪拌した。得られた透明溶液をロータリーエバポレータで 濃縮し、15%メタノール/酢酸エチルを溶離液として、シリカゲルクロマトグ ラフィー処理し、トリフェニルホスフィンオキシドと目的とするN−[1−(チ オアセチルメチル)−2−[(4−メトキシフェニル)スルホニル)エチル)ア セトアミドの等モル混合物を得た。この混合物を10mLのメタノールに溶解し、 この溶液に25%ナトリウムメトキシド/メタノール1mLを加え、30分間、攪 拌した。この溶液を1N塩酸で酸処理し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機 抽出液を濃縮し、逆相C18クロマトグラフィーで精製し、150mgのN−[1 −(メルカプトメチル)−2−[(4−メトキシフェニル)スルホニル)エチル )アセトアミド、m/e=310(M+Li)を得た。 実施例33: 2−R,S−(N−カルボベンジルオキシグリシル)アミノ−3−(4−メト キシベンゼンスルホニル)プロパンチオールの合成 パートA:N−アセチル−β−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L− アラニンメチルエステル(18.13g,57mmol)を125mLの濃塩酸と12 5mLの氷酢酸に溶解し、この溶液を、窒素雰囲気下、数時間還流した。しかる後 、 その中身をロータリーエバポレータで濃縮し、粗固体生成物を得た。それを乾燥 トルエン中に懸濁させ、ろ過し、14.3gのβ−(4−メトキシフェニルスル ホニル)−D,L−アラニン塩酸塩を、白色結晶固体として得た。 パートB:β−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L−アラニン塩酸塩 (8.87g,30mmol)を200mLのメタノールに溶解し、氷冷した溶液に、 20分かけて、塩化チオニル(10.7g,90mmol)を滴下し、その溶液を窒 素雰囲気下、一晩、還流させた。しかる後、その中身を室温まで冷却し、ロータ リーエバポレータで濃縮し、エーテルですり混ぜ洗浄した。生成物をろ過捕集し 、6.2gのβ−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L−アラニンメチ ルエステル塩酸塩を得た。 パートC:β−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L−アラニンメチル エステル塩酸塩(6.2g,20mmol)をテトラヒドロフランに溶解し、氷冷し た溶液を、窒素雰囲気下攪拌し、その溶液にヒドリドアルミン酸リチウム/テト ラヒドロフラン溶液(20mL,20mmol)を滴下した。2時間後、氷冷したその 溶液に、10% 水酸化ナトリウム5mLを注意深く加えて、クエンチした。得ら れた懸濁物をCELITE@を通してろ過し、そのろ液を硫酸マグネシウムで乾 燥してからろ過、濃縮し、2.7gのβ−(4−メトキシフェニルスルホニル) −D,L−アラニノールを得た。 パートD:β−(4−メトキシフェニルスルホニル)−D,L−アラニノール( 2.4g,10mmol)を、ヒドロキシベンゾトリアゾール(2.0g,15mmol )、EDC(2.0g,10mmol)、N−カルボベンジルオキシグリシン(2. 0g,10mmol)及びトリエチルアミン1.5gを含むジメチルホルムアミド溶 液に加えた。この反応混合液を室温で一晩攪拌した後、油状物が得られるまで濃 縮した。その残留物を酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウムに分配し、有機層を 食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。その乾燥有機層をろ過、濃縮し 、粗生成物を得た後、その粗生成物を、5%メタノール/酢酸エチル溶液を溶離 液としてカラムクロマトグラフィーで精製し、850mgの2−R,S−(N−カ ルボベンジルオキシ−グリシル)アミノ−3−(4−メトキシフェニルスルホニ ル)プロパノールを得た。 パートE:2−R,S−(N−カルボベンジルオキシ−グリシル)アミノ−3− (4−メトキシフェニルスルホニル)プロパノール(650mg,1.97mmol) を50mLの無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷した溶液に、攪拌下、トリフ ェニルホスフィン(525mg,2.0mmol)を加え、引き続いて、ジエトルジア ゾジカルボキシラート(348mg,2.0mmol)を加え、しかる後、チオ酢酸( 150mg,2.0mmol)を加えた。得られた透明溶液を水時間攪拌した後、粗混 合物をロータリーエバポレータで濃縮し、残留物を、100%酢酸エチルを溶離 液として、シリカゲルクロマトグラフィー処理し、600mgの2−R,S−(N −カルボベンジルオキシ−グリシル)アミノ−3−(4−メトキシベンゼンスル ホニル)プロパンチオールを白色固体として得た。m/e=459(M+Li) 。 実施例34: 1−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]エタン−2−チオールの合成 パートA:2−クロロエタノール5.0mL(6.0g,74.9mmol)を100 mLの無水DMFに溶解した溶液に、4−メトキシベンゼンチオール8.7mL(1 0.0g,71.31mmol)を加えた。窒素でのパージを5分間行った後、31 .0g(224mmol)の粉状炭酸カリウムを添加した。反応温度の上昇が始まる ので、その反応混合液を氷浴で冷却し、15分後に取り除いた。室温で30分間 攪拌した後、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。分離した有機層を食塩 水で洗浄してから、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、溶媒除去し、11.8 5gの目的生成物の(4−メトキシフェニル)(2−ヒドロキシエチル)スルフ ィド、m/e=184(M+H)を得た。 パートB:パートAで得た粗生成物11.85g(64mmol)を240mLのメタ ノールと24mLの水に溶解した溶液に、OXONE@を118.6g(193mm ol)加えた。この際、反応温度が上昇を始め、還流が15分間続いた。室温ま で冷却後、固形物をろ過除去し、メタノールで洗浄した。得られたろ液を蒸発除 去し、残留物を酢酸エチルに再溶解した。この溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液 と食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、その溶媒を除去して、12 .8gの目的とする1−[(4−メトキシフェニル)スルホニル]エタン−2− オール、m/e=323(M+Li)、を得た。 パートC:パートBで得た生成物2.0g(9.2mmol)とトリフェニルホスフ ィン2.67g(10.2mmol)を45mLの無水THFに溶解した0℃溶液に、 ジイソプロピルアゾジカルボキシラート2.0mL(10.2mmol)を加え、引き 続いて、チオール酢酸0.73mL(10.2mmol)を加えた。室温で15時間攪 拌した後、その反応混合物を濃縮し、その残留物を150gのシリカゲル上で2 0−50% 酢酸エチル/ヘキサンを使用して、クロマトグラフィー処理し、2 .5gの目的生成物を得た。これを酢酸エステル/ヘキサンから再結晶させ、0 .55gの純粋な目的生成物、m/e=381(M+Li)、を得た。 パートD:パートCで得た生成物0.54g(1.95mmol)を5mLの無水メタ ノールに懸濁させた懸濁液に、25重量%ナトリウムメトキシド/メタノール溶 液1.6mL(7.0mmol)を加えた。30分後に、その反応混合物を氷で冷却し 、2%塩酸を加えた。しかる後、酢酸エチルを加え、有機層を分離し、飽和炭酸 水素ナトリウム、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この乾燥 有機層をろ過、濃縮し、0.30gの目的とする1−[(4−メトキシフェニル )スルホニル]エタン−2−チオール、m/e=239(M+Li)、を得た。 実施例35: 3−[(4−フェニルチオ)フェニルスルホニル]プロパン−1−チオールの 合成パートA:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、10gの p−フルオロチオフェノールと8.1gの3−クロロ−1=プロパノールを80 mLのDMFに溶解した溶液を仕込んだ。この溶液に32.4gのK2CO3を加 え、室温で45分間、攪拌した。しかる後、この反応混合物を真空濃縮し、その 残留物を酢酸エチル−H2O間に分配し、有機層を乾燥後、真空濃縮し、14. 5gの純粋生成物を得た。 パートB:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得た生成物6.0g、チオフェノール4.2mL(1.5当量)及び11.4g (3当量)のK2CO3を、70mLのDMFと共に仕込んだ。この反応混合物を 70℃で4時間加熱し、しかる後、酢酸エチル−H2O間に分配した。その有機 相を1N HCl、食塩水で洗浄し、乾燥、真空濃縮を行った。残留物をシリカ ゲル上でクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサンを使用)し、 6.5gの白色固体を得た。 パートC:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた100mL丸底フラスコに0.31g の3−[(4−フェニルチオ)フェニルスルホニル]プロパノール、0.1mLの MsCl(1.25当量)、0.2mLのNEt3を6mLのMeCl2と共に仕込 んだ。この反応混合液を20分間攪拌してから、真空濃縮し、しかる後、残留物 を酢酸エチル−H2O間に分配させた。有機相を真空濃縮し、5mLの乾燥DMF に溶解し、114mg(1当量)のチオ酢酸カリウムと反応させた。その反応混合 物を、24時間、攪拌してから、酢酸エチル−H2O間に分配させた。その有機 相を1N KHSO4、食塩水で洗浄し、乾燥後、真空濃縮した。残留物を、シ リカゲル上でクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し 、195mgのオレンジ色油状物を得た。 パートD:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた50mL丸底フラスコに、パートCで 得た生成物190mg、25% NaOMe/MeOH 0.2mL(3当量)及び 5mLのMeOHを仕込んだ。この反応混合物を30分間攪拌し、しかる後、1N HClで反応をクエンチし、真空濃縮した。残留物を酢酸−H2O間に分配し 、その有機相を乾燥した後、真空濃縮した。残留物には、HPLC分析から、生 成物とジスルフィドが1:1割合で存在することが分かった。これをシリカゲル 上でクロマトグラフィー処理(50% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し、40mg の純粋な3−[(4−フェニルチオ)フェニルスルホニル]プロパン−1−チオ − ルを得た。 実施例36: 3−[(4−フェノキシ)フェニルスルホニル]プロパン−1−チオールの合 成 パートA:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、10gの p−フルオロチオフェノール、8.1gの3−クロロ−1−プロパノール及び8 0mLのDMFを仕込んだ。この溶液に32.4gのK2CO3を加え、室温で4 5分間攪拌してから、その反応混合物を真空濃縮した。その残留物を酢酸エチル −H2O間に分配し、有機相を乾燥した後、真空濃縮し、14.5gの純粋な生 成物を得た。 パートB:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得た7.9gの生成物、5.1gのフェノール、15.1gのK2CO3及び 75mLの乾燥DMFを仕込んだ。この反応混合物を、80℃で24時間、加熱し 、しかる後、真空濃縮した。残留物を酢酸エチル−H2O間に分配させ、その有 機相を乾燥、真空濃縮して、12.3gの赤色液体を得た。これをシリカゲル上 でクロマトグラフィー処理(30%−60% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し、 6.8g、64%の灰白色固体を得た。 パートC:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートB で得た生成物1.63gと乾燥THF35mLを仕込んだ。この反応溶液を0℃ま で冷却し、1.83gのトリフェニルホスフィン、1.2gのDEADを加え、 5分間攪拌し、しかる後、0.5gのチオ酢酸を添加した。得られた反応混合物 を20分間混合してから、真空濃縮した。残留物をシリカゲル上でクロマトグラ フィー処理(30%−50% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し、1.45gの生 成物を得た。これをジエチルエーテルから再結晶させ、900mgの白色固体を得 た。 パートD:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートC で得た生成物870mg、25% NaOMe/MeOH1.6mL(3当量)及び MeOH25mLを仕込んだ。この反応溶液を30分間攪拌した後、ドライアイス でクエンチし、真空濃縮した。残留物を酢酸エチル−H2O間に分配させ、その 有機相を乾燥し、真空濃縮して、670mgの白色3−[(4−フェノキシフェニ ル)スルホニル]プロパン−1−チオールを得た。 実施例37: 3−[(4−フェニル)フェニルスルホニル]プロパン−1−チオールの合成 パートA:3−(4−ブロモベンゼン)スルホニルプロパノール2.80g(1 0mmol)をエチレングリコールジメチルエーテル75mLに溶解した溶液に、攪拌 下、1.35g(11.15mmol)のフェニルボロン酸を加え、次いで、2M炭 酸セシウム水溶液25mL、引き続いて、1.9g(1mmol)のテトラキストリフ ェニルホスフィンパラジウムを加えた。しかる後、その反応混合物を、48時間 、攪拌し、得られた二相溶液を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄(2×200mL) した。その有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、黒色油状物を得、そ れをシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(溶離液として2:1酢酸エ チル:ヘキサンを使用)を行い、1.6g、60%収率で、3−[(4−フェニ ル)フェニルスルホニルプロパノールを透明油状物として得た。 パートB:1.6g(5.8mmol)の3−(4−フェニルベンゼン)スルホニル プロパノールと1.65g(6.3mmol)のトリフェニルホスフィンを25mLの 乾燥テトラヒドロフランに溶解し、氷冷した溶液に、注射器を用いて1.0g( 6.3mmol)のジエチルアゾジカルボキシラート、引き続いて、500mg(6. 3mmol)のチオ酢酸を添加した。その反応混合物を室温で2時間以上にわたって 攪拌し、得られた溶液をロータリーエバポレータで濃縮した。残留物をシリカゲ ルクロマトグラフィーで精製し、1.93gの目的化合物を得た。 パートC:パートBで得た生成物1.33g(3.99mmol)を10mLのメタノ ールに懸濁させ、この懸濁液に3mLの25重量%ナトリウムメトキシド/メタノ ールを加えた。固形物は5分以内で溶解した。室温で30分後に、1N塩酸塩酸 50mLを加えて反応をクエンチし、得られた懸濁液を酢酸エチルで抽出し、硫酸 マグネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮し、930mgの白色固体を得、それを3−( 4−フェニル)フェニルスルホニル]プロパン−1−チオール、m/e=293 (M+H)として同定した。 実施例38: (R,S)−trans−3−[(フェニルチオ)フェニルスルホニル]シク ロヘキサンチオールの合成 パートA:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、5gのp −フルオロチオフェノールと3.75gのシクロヘキサノン及び50mLの脱気M eOHを仕込んだ。この溶液に5.5mLのトリエチルアミンを加え、得られた反 応混合物を室温で1時間、攪拌した。しかる後、それを真空濃縮し、残留物を6 0mLのMeOHに溶解し、1.6g(1.2当量)のNaBH4を添加し、得ら れた反応混合物を0℃で90分間攪拌した。反応を濃HClでクエンチし、真空 濃縮でMeOHを除去し、残留物を酢酸エチル−H2O間に分配した。有機相を 食塩水で洗浄し、真空濃縮して、粗スルフィドアルコールを得た。それを160 mL MeOH/1mL H2Oに懸濁させ、72g(3当量)のOXONE@と 反応させた。その懸濁液を65℃まで加熱し、均質に反応させた。攪拌下、反応 を8時間行ってから、ろ過、真空濃縮し、残留物を酢酸エチル−H2O間に分配 させ、その有機相を乾燥、真空濃縮して、9.5gのどろどろした油状物を得た 。HPLCでそれが78:18比率のジアステレオマー混合物であることを確認 した。 パートB:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートA で得た生成物2.0g、チオフェノール0.87mL(1.1当量)及び3.2g (3当量)のK2CO3を70mLのDMFと共に仕込んだ。この反応混合物を70 ℃で4時間加熱し、しかる後、酢酸エチル−H2O間に分配させた。その有機相 を1N HCl、食塩水で洗浄し、乾燥後、真空濃縮し、その残留物をシリカゲ ルを用いてクロマトグラフィー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン)し、0. 7gの純粋な(R,S)trans−3−[((4−フェニルチオ)フェニル) スルホニル]シクロヘキサノールを得た。 パートC:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、1.7g の(R,S)trans−3−[((4−フェニルチオ)フェニル)スルホニル ]シクロヘキサノール、0.4mLのMsCl(1.25当量)、1.0mLのNE t3をMeCl2とともに仕込んだ。この反応溶液を20分間攪拌してから、真 空濃縮し、酢酸エチル−H2O間に分配させた。その有機相を真空濃縮し、残留 物を10mLの乾燥DMFに溶解し、6.5g(10当量)のチオ酢酸カリウムと 反応させた。その反応混合物を70℃で4時間加熱し、しかる後、酢酸エチル− H2O間に分配させた。その有機相を1N KHSO4、食塩水で洗浄し、乾燥 してから、真空濃縮した。この残留物をシリカゲルを用いてクロマトグラフィー 処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン使用)し、1.1gのオレンジ色油状物を 得た。 パートD:磁石攪拌子と窒素入り口を備えた250mL丸底フラスコに、パートC で得た生成物1.0g、25% NaOMe/MeOH1.7mL(3当量)をM eOH25mLと共に仕込んだ。この反応溶液を30分間攪拌してから、ドライア イスで反応をクエンチし、真空濃縮を行った。残留物を酢酸エチル−H2O間に 分配させ、有機相を乾燥、真空濃縮し、粗チオール化合物を得た。それをシリカ ゲルを用いてクロマトグラフィー処理(30% 酢酸エチル−ヘキサン)し、0 .9gの純粋な(R,S)trans−3−[(4−フェニルチオ)フェニルス ルホニル]シクロヘキサンチオールを得た。 実施例39: N1−3−[(4−フェノキシフェニル)スルホニル]−1−スルファニルプ ロピル−3−モルホリノプロパンアミドの合成 パートA:4−フルオロチオフェノール10g(78mmol)と3−クロロ−1− プロパノール8g(86mM)を80mLの無水DMFに溶解し、その溶液を、20 分間、窒素でパージしてから32g(234mM)の炭酸カリウムを添加した。1 時間後に、その反応混合物を真空濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に分配させた 。層分離を行った後、有機層を食塩水で洗浄(3X)し、乾燥(MgSO4)し 、濃縮して、16gの粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルを用いてクロ マトグラフィー処理(30%−45% 酢酸エチル/ヘキサン使用)し、12g の純粋な3−[(4−フルオロフェニル)チオ]プロパン−1−オール、m/z =203(M+NH4)を得た。 パートB:パートAで得た3−[(4−フルオロフェニル)チオ]プロパン−1 −オール16g(78mmol)を300mLのメタノールと60mLの水に溶解し、そ の溶液に168g(273mM)のペルオキシモノ硫酸カリウム(OXONE@) を加えた。72時間後に、その反応混合物をろ過し、そのフィルタケーキをメタ ノールで洗浄し、ろ液を真空濃縮し、その残留物に酢酸エチルと水を加え、層分 離を行った。水層を酢酸エチルで抽出(2X)し、得られた三つの有機抽出液を 一緒にして、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム で乾燥した。この乾燥有機溶液をろ過、濃縮し、13gの純粋な3−[(フルオ ロフェニル)スルホニル]プロパン−1−オール、m/z=225(M+Li) を得た。 パートC:パートBで得た3−[(フルオロフェニル)スルホニル]プロパン− 1−オール13g(58mmol)とフェノール16g(175mM)を100mLの無 水DMFに溶解した溶液を、1時間半、窒素でパージした後、この溶液に24g (175mM)の炭酸カリウムを添加した。この反応混合物を100℃の油浴に浸 し、24時間後に反応混合物を真空濃縮した。残留物を酢酸エチルと水に分配さ せ、層分離を行った。有機層を1N HCl溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液 及び食塩水で洗浄し、乾燥(MgSO4)した。この乾燥有機溶液を濃縮し、2 9gの粗生成物を得、これをシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(30 −45% 酢酸エチル/ヘキサン使用)し、12gの純粋な3−[(4−フェノ キシフェニル)スルホニル]プロパン−1−オール、m/z=299(M+Li )を得た。 パートD:パートCで得た3−[(4−フェノキシフェニル)スルホニル]プロ パン−1−オール13g(44mmol)を60mLの無水CH2Cl2に溶解し、冷却 した溶液に、25mL(18g,178mM)のトリエチルアミンを加えた。この反 応混合物に、28g(178mM)のピリジン−SO3錯体を60mLのメチルスル ホキシドに懸濁させた懸濁液を、一時間半かけて添加した。この反応混合物を1 時間攪拌した後、500mLの氷に注ぎ入れ、さらに酢酸エチルをそれに加えた。 層分離を行い、その有機層を5%KHSO4溶液、水及び食塩水で洗浄し、乾燥 (MgSO4使用)した。しかる後、乾燥有機層を濃縮し、つぎの反応に適した 、13gの3−[(4−フェノキシフェニル)スルホニル]プロパン−1−アー ルを得た。 パートE:パートDで得た3−[(4−フェノキシフェニル)スルホニル]プロ パン−1−アール13g(44mmol)を150mLのCH2Cl2に溶解し、冷却 した溶液に、8.9mL(6.6g,67mM)のトリメチルシリルシアニド(TM SCN)を加え、引き続いて、15.0g(67mM)の臭化亜鉛を加えた。18 時間後に、さらにTMSCNと臭化亜鉛を加え、反応を促進させ、完結させた。 その反応混合液を真空は、残留物を酢酸エチルと2N HCl溶液間に分配させ 、層分離を行った。有機層を水と食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。し かる後、その有機層を濃縮し、13.7gの粗生成物を得、それをシリカゲルを 用いてクロマトグラフィー処理(25−40% 酢酸エチル/ヘキサン使用)し 、次の反応に適した、9gの1−ヒドロキシ−3−[(3−フェノキシベンジル )スルホニル]プロピルシアニドを得た。 パートF:パートEで得た1−ヒドロキシ−3−[(3−フェノキシベンジル) スルホニル]プロピルシアニド9g(28mmol)を25mLの氷酢酸に溶解した溶 液に、濃HClを100mL加え、その反応混合物を90℃の油浴に2時間浸した 。しかる後、反応混合物を真空濃縮し、得られた粗生成物にトルエン(1X)と アセトニトリル(2X)混合液を加えて、濃縮した。P205上で真空乾燥し、 次の反応に適した、7.1gの2−ヒドロキシ−4−[(3−フェノキシベンジ ル)スルホニル]酪酸を得た。 パートG:パートFで得た2−ヒドロキシ−4−[(3−フェノキシベンジル) スルホニル]酪酸3.4g(10mmol)と2.1g(15mM)のHOBTを15 mLの無水DMFに溶解し、氷浴中で冷却した。この溶液に2.3g(12mM)の EDCを加え、2時間後に、その反応混合物に、1.5g(12mM)の4−(2 −アミノエチル)モルホリンと3.3mL(3.1g,30mM)のN−メチルモル ホリンを5mLの無水DMFに溶解した溶液を加えた。66時間攪拌した後、その 反応混合物を真空濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に分配させた。層分離を行い 、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し た。その乾燥有機層を濃縮して3.5gの粗生成物を得、それをシリカゲルを用 いてクロマトグラフィー処理(5% メタノール/酢酸エチル、引き続いて、2 0% エタノール/THF使用)し、次の反応に適した、2.1gのN1−(2 −モルホリノエチル)−2−ヒドロキシ−4−[(3−フェノキシベンジル)ス ルホニル]ブタンアミドを得た。 パートH:パートGで得たN1−(2−モルホリノエチル)−2−ヒドロキシ −4−[(3−フェノキシベンジル)スルホニル]ブタンアミド2.1g(5mm ol)を、55mLの無水CH2Cl2に溶解し、冷却した溶液に、0.5mL(0.8 g,7mM)の塩化メタンスルホニルを加え、引き続いて、1.0mL(0.7g, 7mM)のトリエチルアミンを加えた。1時間後に、その反応混合物を真空濃縮し 、その残留物を酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム溶液に分配させた。層分離 を行った後、水層を酢酸エチルで抽出(1X)し、得られた有機層を一緒にして 、食塩水で洗浄した。乾燥(MgSO4使用)後、濃縮し、次の反応に適した、 2.5gの1−[(2−モルホリノエチル)アミノ]カルボニル−3−[(3− フェノキシベンジル)スルホニル]プロピルメタンスルホナートを得た。 パートI:パートHで得た1−[(2−モルホリノエチル)アミノ]カルボニル −3−[(3−フェノキシベンジル)スルホニル]プロピルメタンスルホナート 2.5g(5mmol)を20mLの無水DMFに溶解し、その溶液に、0.8g(7 mM)のチオ酢酸カリウムを加えた。1時間後に、その反応混合物を酢酸エチルと 炭酸水素ナトリウム溶液に分配させ、層分離を行った。得られた有機層を食塩水 で洗浄(3X)し、乾燥(MgSO4使用)、濃縮を経て、2.4gの粗生成物 を得た。これをシリカゲルを用いてクロマトグラフィー処理(1−3% メタノ ール/酢酸エチル使用)し、次の反応に適した1.8gの1−[(2−モルホリ ノエチル)アミノ]カルボニル−3−[(3−フェノキシベンジル)スルホニル ]プロピル]エタンチオアートを得た。 パートJ:パートIで得た1−[(2−モルホリノエチル)アミノ]カルボニル −3−[(3−フェノキシベンジル)スルホニル]プロピル]エタンチオアート 1.0g(2mmol)を、8mLの無水メタノールに溶解し、冷却した溶液に、0. 05g(2mmol)の金属ナトリウムと2mLの無水メタノールから新たに調製した ナトリウムメトキシド溶液を加えた。1時間後、その反応混合物を、ドライアイ スでクエンチし、しかる後、酢酸エチルと水間に分配させた。層分離を行い、水 層を酢酸エチルで抽出(1X)した。得られた有機層を一緒にして、食塩水で洗 浄し、乾燥(MgSO4使用)、濃縮を経て、0.7gの粗生成物を得た。逆相 HPLCで20−30% アセトニトリル/水を用いて、この粗生成物の精製を 行った。イオン交換処理で、CH3CN中で濃HCl溶液を用いて塩酸塩に変換 できる遊離塩基を得た。濃縮により、0.6gの純粋なN1−3−[(4−フェ ノキシフェニル)スルホニル]−1−スルファニルプロピル−3−モルホリノプ ロパンアミド、m/z=465(M+H)を得た。 実施例40から実施例103は、前述してきた操作により合成できる。また、そ れらを以下の“実施例表”中に示した。 実施例104 In vitro メタロプロテアーゼ阻害 実施例1〜39で述べた方法で合成された大部分の化合物について、in vitro アッセイでその活性を試験した。Knight et al.,FBBS Lett.296(3):2 63(1992)の方法に従って、要約すると、酢酸4−アミノフェニル水銀( APNLA)又はトリプシン活性化MMPsを種々の濃度の抑制剤化合物ととも に室温で5分間インキュベートした。(チオール化合物に対しては、5分間又は 一晩インキュベート時、0.02%の2−メルカプトエタノールを緩衝液に加え た。さらに詳しくは、組換型人ヒトMMP−13とMMP−1酵素を本発明の譲 受人の実験室で調製した。MMP−13をバキュロウイルス中にプムとして発現 させ、最初にヘパリンアガロースカラムで精製し、次にキレート化塩化亜鉛カラ ムで精製した。これをアッセイで使用するために、プロエンチームをAPMAで 活性化した。トランスフェクトされたHT−1080細胞中で発現させたMMP −1は、Dr.Howard Welgus(Washington University,St.Louis,MO.)から提供 されたものである。この酵素もまた、AMPAで活性化し、ヒドロキサム酸カラ ムで精製した。酵素基質は次の配列、(MCA−ProLeuGlyLeuDp aAlaArgNH2)、を有するメトキシクマリン含有ポリペプチドある。前 記式中、MCAはメトキシクマリンを、また、Dpaは3−(2,4−ジニトロ フェニル)−L−2,3−ジアミノプロピオニルアラニンを示す。この基質は、 BayChem社から製品名M−1895として、商業上、入手可能である。アッセイ に使用した緩衝液は、100mM Tris−HCl、100mMNaCl、10mM CaCl2及び0.05% ポリエチレングリコール(23)ラウリルエーテ ルを含有するpHが7.5のものである。アッセイを室温で、また、阻害剤を溶解 するため、最終ジメチルスルホキシド(DMSO)濃度1%で行った。DMSO /緩衝液中の試験阻害剤を、阻害剤を含まない等量のDMSO/緩衝液を対照試 料として、Microfluor(商標)白色板(Dynatech社製)を用いて、比較した。阻 害剤又は対照溶液を板上に10分間保持し、最終濃度4μMになるように基質を 加えた。阻害剤作用が無い場合、蛍光原性ペプチドはgly−leuペプチド結 合で開裂し、2,4−ジニトロフエニルクエンチャーから強蛍光発生性ペプチド を分離し、蛍光強度の増加が結果として現れる(励起328 nm/発光415nm)。阻害作用を阻害剤濃度の関数としての蛍光強度の減少をPe rkin Elmer L550プレートリーダを使用して測定した。IC50値をこれら 測定値から計算し、その結果を後述の阻害作用表に有効数字三桁で示した。実施例105 In vivo脈管形成アッセイ 脈管形成研究は、血管新生応答の刺激と阻害に対して信頼性があり、再現性の あるモデルに依存する。角膜マイクロポケットアッセイはマウスの角膜を用いて このような脈管形成モデルを提供するものである。(参照、マウス角膜における 脈管形成モデル;Kenyon,BM,et al.,Investigative Ophthalmology & Visual Science,July1996,Vol.37,No.8) このアッセイでは、bFGFとスクラルファートを含む均等サイズのHydron(商 標)ペレットが調製され、外科的にストロママウスのこめかみに隣接した角膜輪 部の角膜に植え付けられる。このペレットは、10μgの組換bFGF、10mg のスクラルファート及び12% Hydron(商標)/エタノールを10μL含む2 0μLの殺菌生理食塩水の懸濁液をつくることで形成される。このスラリーを1 0×10mm片殺菌ナイロン網目に沈着させ、乾燥後、網目のナイロン繊維を分離 してペレットを放出させることで達成される。 7週齢雌C57B1/6マウスを麻酔し、目をジュエラーピンセットで突き出し 、解剖顕微鏡を用いて、#15外科用ブレードで、中央部の間質線形角膜に、側 面腹直筋挿入と平行に、0.6mm長さの切開を施すことで、角膜ポケットを形成 した。改良型白内障用ナイフを使用して表層マイクロポケットを輪部方向に解剖 し、そのポケットを一時的輪部の1.0mm以内に拡大した。ジュエラーピンセッ トで単独ペレットをポケット底部の角膜表面に置き、そのペレットをポケットの テンポラル末端に移動させた。抗生物質軟膏を目に施した。アッセイ実施期間中 、日単位でマウスに投与した。投与量は化合物の生体適合性とオーバーオールの 力価に基づいており、実施例39の場合には、投与量は50mg/kg bid,po.で あった。角膜ストローマの新血管形成は、三日目で始まり、試験試薬の影響下、 五日目まで継続させた。五日目で、脈管形成阻害程度をスリットランプ顕微鏡を 用いて脈管形成進行を観察し、得点づけした。マウスに麻酔をかけ、研究対象と した目を再度、取り出し、角膜輪部血管網からペレットに向かって伸びた新血管 形成最高ベッセル長さを測定した。さらに、隣接する新血管形成周囲域を、弧の 30度が時計の1時間に等しいとした時計時(clock hour)で測定した。脈管形 成領域を以下のようにして計算した。 領域=(0.4×時計時×3.14×ベッセル長さ(mm))/2 その後、研究対象マウスを対照マウスと比較し、新血管形成領域差を記録した。 実施例39化合物、N1−3−[(4−フェノキシフェニル)スルホニル]−1 −スルファニルプロピル−3−モルホリノプロパンアミド、は51%阻害を示し たが、それを使用しない対照試料では0%阻害であった。 前述してきたことから、本発明で開示された新規な概念の真の精神と範囲から はずれることなく、多くの修飾及び変化が可能である。ここで開示した特定実施 例に関してなんら制限が意図されるものでなく、または推断されるものではない ことが理解される。この開示事項は付随した請求項により、請求項の範囲内にあ る全ての修飾が包含されることを意図している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/22 A61K 31/22 31/27 31/27 31/4164 31/4164 31/426 31/426 31/4402 31/4402 31/4406 31/4406 31/4409 31/4409 31/5375 31/5375 A61P 43/00 A61P 43/00 111 111 C07C 317/22 C07C 317/22 327/22 327/22 327/28 327/28 327/32 327/32 C07D 213/34 C07D 213/34 213/70 213/70 233/84 233/84 277/36 277/36 295/08 295/08 Z 295/12 295/12 Z (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,HU,IL,IS,JP,KE,KG ,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG, US,UZ,VN (72)発明者 ドクレセンゾ,ゲイリイ,エイ. アメリカ合衆国63304 ミズーリ州セント チャールズ,コロニアル ヒルズ レー ン 932 (72)発明者 ゲットマン,ダニエル,ピー. アメリカ合衆国63017 ミズーリ州チェス ターフィールド,サニー ヒル コート 66 (72)発明者 ハインツ,ロバート,エム. アメリカ合衆国63021 ミズーリ州ボール ウィン,ナンシイ プレース 603 (72)発明者 ミシュケ,ブレント,ブイ. アメリカ合衆国63341 ミズーリ州ドフィ アンス,ホワイト リバー レーン 25 (72)発明者 マクドナルド,ジョセフ,ジェイ. アメリカ合衆国63021 ミズーリ州ボール ウィン,ジョハンナ ドライブ 1036

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 式: または 式中、 R1は、ペンチル基のおよその長さより長く、そしてステアリル基の長さより 短い長さを有する置換アリールまたはヘテロアリール基であって、6員環のSO2 と結合した1位および4位を通って引かれた軸、あるいは5員環のSO2と結合 した位置および置換基と結合した3位または5位を通って引かれた軸の周りを回 転したときその最も広い寸法が、前記回転軸を横切る方向で、約1個分のフェニ ル環から約3個分のフェニル環の幅を有する三次元体積を決定し; R2およびR3は、ヒドリド、C1−C6アルキル、アルキル鎖に1−3炭素を有 する単環アルアルキルまたはヘテロアルアルキル、環内に4−8炭素、アルキル 鎖に1−3炭素を有するシクロアルキルアルキル、環内に4−8原子があり、そ の原子のうち1個か2個は窒素、酸素または硫黄であり、そしてアルキル鎖は 1−3炭素を含むヘテロシクロアルキルアルキルからなる群から独立して選ばれ る基であり、あるいはR2とR6とは、それらが結合している原子と共に5員また は6員環を形成し; R6は、C1−C6アルキル基、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカルボニ ル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選ばれ る基であり、この場合前記アミド窒素は(i)非置換であるか、または(ii)アミ ノ、一置換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換 され、前記アミノ窒素上の置換基は、C1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキ ルおよびC1−C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のア ミノ窒素置換基とそれらが結合した窒素とが一緒になって、更に1個のヘテロ原 子(窒素、酸素または硫黄)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素環式 環またはヘテロアリール環を形成し、あるいは(iii)アミド窒素はアミノ酸のア ミンであり; Wは酸素(O)または硫黄(S)であり; R10は単環を有するアリールまたはヘテロアリール、あるいはC1−C6アルコ キシである、 に相当するマトリックス メタロプロテアーゼ阻害剤化合物。 2. R1はヘキシル基の長さより長く、ラウリル基の長さより短い長さをもつ 、請求項1記載の阻害剤化合物。 3. 請求項1記載の阻害剤化合物において、R1は単環アリールまたはヘテロ アリール基(5員または6員)で、6員環の場合には、それ自身の4位で、また 5員環の場合には、それ自身の3位で、1個の他の単環アリールまたはヘテロア リール基、C2−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、フェノキシ基、チオフ ェノキシ基、4−チオピリジル基、フェニルアゾ基およびベンズアミド基からな る群から選ばれる置換基によりそれ自身置換される上記化合物。 4. 請求項1記載の阻害剤化合物において、R1はPhR11であり、そしてこ のphはその4位でR11により置換されたフェニルであり、R11はフェノキシ基 で、それ自身がメタ位またはパラ位あるいはその両方で、水素を除外した1個の 原子または5原子までの最長鎖を含む置換基により置換される上記化合物。 5. 式: または 式中、 Phは4位でR11により置換されたフェニルであり; R11はC1−C6アルコキシ、C3−C6アルキル、フェノキシ、チオフェノキシ 、ベンズアミド、フェニルアゾ、およびフェニル部分からなる群から選ばれる置 換基であり; R2は、ヒドリド、C1−C6アルキル基、C2−C3アルキルシクロアミノ基( 環内に5原子または6原子を有し、そして更に1個のヘテロ原子−酸素または窒 素−を含むか、あるいは含まない)、C1−C6アミノカルボニル基(このアミド 窒素は非置換か、またはC2−C3アルキルかベンジル基で一置換または二置換さ れる)、および単一ヘテロアリール環を有するC1−C4アルキルヘテロアリール 基(前記の単一ヘテロアリール環は1個か2個の窒素原子を含む)からなる群か ら選ばれ、あるいはR2とR6とはそれらが結合した原子と共に5員または6員環 を形成し; R6は、C1−C6アルキル基、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカル ボニル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選 ばれる基であり、前記アミド窒素は(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、一置 換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され、前 記アミノ窒素上の置換基は、C1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルおよび C1−C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のアミノ窒素 置換基とそれらが結合した窒素とが一緒になって、更に1個のヘテロ原子(窒素 、酸素または硫黄)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素環式環または ヘテロアリール環を形成し、あるいは(iii)アミド窒素はアミノ酸のアミンであ り; R10はC1−C6アルコキシ、または単環アリールかヘテロアリール基であるが 、 ただし、R2およびR6が、それらが結合した原子と一緒に5員または6員環を 形成しない限り、R2かR6の唯一つだけが存在することを条件とする、 に相当するマトリックス メタロプロテアーゼ阻害剤。 6. R10は、フェニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、チオ フェン−2−イル、3−チオフェン−3−イル、メトキシおよびエトキシからな る群から選ばれる、請求項5記載の阻害剤化合物。 7. R11置換基は、メタ位またはパラ位、あるいはその両方で、水素を除き単 一原子あるいは5原子までの最長鎖を含む置換基でそれ自身置換される、請求項 5記載の阻害剤化合物。 8. 請求項7記載の阻害剤化合物において、R11置換基はフェノキシで、それ 自身のパラ位でハロゲン、C1−C4アルコキシ基、C1−C4アルキル基、ジメチ ルアミノ基、C1−C3アルキルカルボキシル基、C1−C3アルキルカルボニルC1 −C4アルコキシ基およびC1−C3アルキルカルボキサミド基からなる群から選 ばれる基により置換されるか、あるいはメタ位とパラ位でメチレンジオキシ基に より置換される上記化合物。 9. 式:式中、 R1は、飽和6炭素鎖より長く、そして飽和18炭素鎖より短い長さをもつア リール基で、6員環のSO2と結合した1位および4位を通って引かれた軸、あ るいは5員環のSO2と結合した位置および置換基と結合した3位または5位を 通って引かれた軸の周りを回転したとき、最も広い寸法が、前記回転軸を横切る 方向で、約1フェニル環から約3個分のフェニル環の幅をもつ三次元体積を決定 し; R10は、単環を有するアリールまたはヘテロアリールあるいはC1−C6アルコ キシである、 に相当するマトリックス メタロプロテアーゼ阻害剤。 10.R1は、5員または6員単環アリールまたはヘテロアリール基で、6員環 の場合にはそれ自身の4位で、また5員環の場合にはそれ自身の3位で、1個の 他の単環アリールまたはヘテロアリール基、C2−C6アルキル基、C1−C6アル コキシ基、フェノキシ基、チオフェノキシ基、4−チオピリジル基、フェニルア ゾ基およびベンズアミド基からなる群から選ばれる置換基でそれ自身置換される 、請求項9記載の阻害剤化合物。 11.R1はphR11であり、そしてこのphはその4位でR11により置換され たフェニルであり、前記R11はフェノキシ基で、それ自身がメタ位かパラ位で、 あるいはその両方で、水素を除外した1個の原子または5原子までの最長鎖を含 む置換基により置換される、請求項10記載の阻害剤化合物。 12.R11はC1−C6アルコキシ、C3−C6アルキル、フェノキシ、チオフェノ キシ、ベンズアミド、フェニルアゾ、およびフェニル部分からなる群から選ばれ る置換基である、請求項10記載の阻害剤化合物。 13.R11置換基は、メタ位かパラ位で、あるいはその両方で、水素を除外した 1個の原子、または5原子までの最長鎖を含む置換基によりそれ自身置換される 、請求項12記載の阻害剤化合物。 14.式: 式中、 R1は飽和6炭素鎖より長く、そして飽和18炭素鎖より短い長さをもつアリ ール基であって、6員環のSO2と結合した1位および4位を通って引かれた軸 あるいは5員環のSO2と結合した位置および置換基と結合した3位または5位 を通って引かれた軸の周りを回転したとき、最も広い寸法が、前記回転軸を横切 る方向で、フェニル環約1個分から約3個分の幅を有する三次元体積を決定し; そして R10は単環を有するアリールまたはヘテロアリール、あるいはC1−C6アルコ キシである、 に相当するマトリックス メタロプロテアーゼ阻害剤。 15.請求項14記載の阻害剤化合物において、R1は5員または6員単環アリ ールまたはヘテロアリール基で、6員環の場合にはそれ自身の4位で、また5員 環の場合にはそれ自身の3位で、1個の他の単環アリールまたはヘテロアリール 基、C2−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、フェノキシ基、チオフェノキ シ基、4−チオピリジル基、フェニルアゾ基およびベンズアミド基からなる群か ら選ばれる置換基によりそれ自身置換される上記化合物。 16.請求項15記載の阻害剤化合物において、R1はPhR11であり、そして このPhはその4位でR11により置換されたフェニルであり、前記R11置換基は フェノキシ基で、それ自身がメタ位かパラ位で、あるいはその両方で、水素を除 外した単一原子または5原子までの最長鎖を含む置換基により置換される上記化 合物。 17.請求項16記載の阻害剤化合物において、R11フェノキシ置換基は、C1 −C6アルコキシ、C3−C6アルキル、フェノキシ、メチレンジオキシ、チオフ ェノキシ、ベンズアミド、フェニルアゾ、およびフェニルからなる群から選ばれ る部分によりそれ自身置換される上記化合物。 18.請求項17記載の阻害剤化合物において、R10はフェニル、2−ピリジル 、3−ピリジル、4−ピリジル、チオフェン−2−イル、3−チオフェン−3− イル、メトキシおよびエトキシからなる群から選ばれる上記化合物。 19.病理学的マトリックス メタロプロテアーゼ活性と関連した症状をもつ被 治療哺乳動物の治療法において、前記方法は、このような症状をもつ治療対象哺 乳動物へメタロプロテアーゼ阻害剤を有効量で投与することからなり、前記メタ ロプロテアーゼ阻害剤は、その構造が下記の式I,IIまたはIII: または 式中、 xおよびyはそれぞれゼロ,1または2であり; Wは酸素または硫黄であり; 星印を付けたR*基、y*またはx*は、星印を付けないR、yまたはXと同じ か、異なり; R10はアルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルキル、アリールオキシ、 アルアルコキシ、アルアルキル、アミノアルキル、ヘテロアリールおよびN−一 置換またはN,N−二置換アミノアルキルからなる群から選ばれ、前記窒素上の 置換基は、アルキル、アリール、アルアルキル、シクロアルキル、アルアルコキ シカルボニル、アルコキシカルボニル、およびアルカノイルからなる群から選ば れるか、あるいは前記窒素とそれに付いた2個の置換基とは5員から8員ヘテロ シクロまたはヘテロアリール環を形成し; R1は、アルアルキル、ヘテロアルアルキル、アルアルコキシ、ヘテロアルア ルコキシ、アルアルコキシアルキル、アリールオキシアルキル、アルアルカノイ ルアルキル、アリールカルボニルアルキル、アルアルキルアリール、アリールオ キシアルキルアリール、アルアルコキシアリール、アリールアゾアリール、アリ ールヒドラジノアリール、アルキルチオアリール、アリールチオアルキル、アル キルチオアルアルキル、アルアルキルチオアルキル、およびアルアルキルチオア リール、前記チオ置換基のいずれかのスルホキシドまたはスルホンからなる群か ら選ばれるアリールまたはヘテロアリール置換基、およびアリール、ヘテロアリ ール(炭素環式およびヘテロ複素環式)からなる群から選ばれる2個以上の5員 または6員環からなる縮合環構造であり、R1を構成する前記アリールまたはヘ テロアリール置換基は、ハロ、C2−C10アルキル、C1−C10アルコキシ、ニト ロ、シアノ、ペルフルオロアルキル、トリフルオロメチルアルキル、ヒドロキ シ、チオール、ヒドロキシカルボニル、アリールオキシ、アリールチオ、アリー ルアミノ、アルアルキル、アリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチ オ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアルアルキル、シクロアルキル、ヘテロシク ロオキシ、ヘテロシクロチオ、ヘテロシクロアミノ、シクロアルキルオキシ、シ クロアルキルチオ、シクロアルキルアミノ、ヘテロアルアルコキシ、ヘテロアル アルキルチオ、ヘテロアルアルキルアミノ、アルアルコキシ、アルアルキルチオ 、アルアルキルアミノ、ヘテロシクリック、ヘテロアリール、アリールアゾ、ヒ ドロキシカルボニルアルコキシ、アルコキシカルボニルアルコキシ、アルカノイ ル、アリールカルボニル、アルカノイル、アルカノイルオキシ、アルアルカノイ ルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルコキシ、アルキルチオ、アルコ キシアルキルチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシアルコキシアリール 、アリールチオアルキルチオアリール、アリールオキシアルキルチオアリール、 アリールチオアルコキシアリール、ヒドロキシカルボニルアルコキシ、ヒドロキ シカルボニルアルキルチオ、アルコキシカルボニルアルコキシ、アルコキシカル ボニルアルキルチオ、アミノ、アルカノイルアミノ、アリールカルボニルアミノ 、アルアルカノイルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミノ、ヘテロアルアル カノイルアミノ、およびN−一置換またはN,N−二置換アミノアルキル(アミ ノ窒素上の置換基はアルキル、アリール、アルアルキル、シクロアルキル、アル アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニル、およびアルカノイルからなる群 から選ばれるか、あるいは窒素とそれに付いた2個の置換基とは、5員から8員 ヘテロシクロまたはヘテロアリール環を形成する)の中から独立して選ばれる1 個以上の置換基で置換され; R2およびR3は、それぞれヒドリド、アルキル、アリール、アルアルキル、ヘ テロアリール、ヘテロアルアルキル、アルキニルアルキル、アルケニルアルキル 、チオアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアル キルアルキル、アルコキシアルキル、アルアルコキシアルキル、アミノアルキル 、アルコキシアルコキシアルキル、アリールオキシアルキル、ヒドロキシアルキ ル、ヒドロキシカルボニルアルキル、ヒドロキシカルボニルアルアルキル、ある いはN−一置換またはN,N−二置換アミノアルキル基からなる群から選ばれ、 前記アミノ窒素上の置換基はアルキル、アルアルキル、シクロアルキルおよびア ルカノイルからなる群から選ばれ、あるいはR3はヒドリドで、R2および他の置 換基、即ちR4、R6およびR8からなる群から選ばれる置換基、はそれらが結合 した原子と共に4員から8員環を形成し; R4およびR5は、それぞれヒドリド、アルキル、シクロアルキル、シクロアル キルアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、アリールオキシアル キル、アルアルコキシアルキル、アルアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘ テロアルアルキル、ヒドロキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアル キル、アルアルコキシカルボニルアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルコキシ カルボニル、ペルフルオロアルキル、トリフルオロメチルアルキル、チオアルキ ル、アルキルチオアルキル、アリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル 、ヘテロアルアルキルチオアルキル、あるいは前記チオ置換基のいずれかのスル ホキシドまたはスルホン、アミノカルボニル、アミノカルボニルアルキルおよび N−一置換またはN,N−二置換アミノカルボニルまたはアミノカルボニルアル キルからなる群から選ばれ、前記アミノ窒素上の置換基は、それぞれアルキル、 アルアルキル、シクロアルキルおよびアルカノイルの中から選ばれ、あるいはR5 はヒドリドで、R4および他の置換基、即ちR2、R6およびR8からなる群から 選ばれる基、はそれらが結合した原子と共に4員から8員環を形成し; R6およびR7は、それぞれヒドリド、C1−C6アルキル基、シクロアルキル、 シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール オキシアルキル、アルアルコキシアルキル、アルアルキル、アリール、ヘテロア リール、ヘテロアルアルキル、ヒドロキシカルボニルアルキル、アルコキシカル ボニルアルキル、アルアルコキシカルボニルアルキル、ヒドロキシカルボニル、 アルコキシカルボニル、ペルフルオロアルキル、トリフルオロメチルアルキル、 チオアルキル、アルキルチオアルキル、アリールチオアルキル、アルアルキルチ オアルキル、ヘテロアルアルキルチオアルキル、あるいは前記チオ置換基のいず れかのスルホキシドまたはスルホン、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカル ボニル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選 ばれ、この場合アミド窒素は(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、 一置換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され 、そしてこのアミノ窒素上の置換基はC1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキ ルおよびC1−C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のア ミノ窒素置換基とそれらが結合した窒素とが一緒に5員から8員複素環式環また はヘテロアリール環(更に一つのヘテロ原子、即ち窒素、酸素または硫黄、を含 むか、または含まない)を形成し、あるいは(iii)該アミド窒素はアミノ酸のア ミンであり、あるいはR7はヒドリドで、R6ともう一つの置換基、即ちR2、R4 およびR8からなる群から選ばれる基、とはそれらが結合した原子と共に4員か ら8員環を形成し; R8およびR9は、それぞれヒドリド、アルキル、シクロアルキル、シクロアル キルアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、アリールオキシアル キル、アルアルコキシアルキル、アルアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘ テロアルアルキル、ヒドロキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアル キル、アルアルコキシカルボニルアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルコキシ カルボニル、ペルフルオロアルキル、トリフルオロメチルアルキル、チオアルキ ル、アルキルチオアルキル、アリールチオアルキル、アルアルキルチオアルキル 、ヘテロアルアルキルチオアルキル、あるいは前記チオ置換基のいずれかのスル ホキシドまたはスルホン、アミノカルボニル、アミノカルボニルアルキル、およ びN−一置換またはN,N−二置換アミノカルボニルあるいはアミノカルボニル アルキルからなる群から選ばれ、前記アミノ窒素上の置換基は、それぞれアルキ ル、アルアルキル、シクロアルキルおよびアルカノイルの中から選ばれ、あるい はR9はヒドリドで、R8ともう一つの置換基、即ちR2、R4およびR6からなる 群から選ばれる基、とはそれらが結合した原子と共に4員から8員環を形成する が、 ただし、1個より多くのスルフヒドリル基でgem−置換された炭素は無いこと を条件とする、 に相当する上記方法。 20.両方のxはゼロ、yは1である、請求項19記載の方法。 21.請求項20記載の方法において、 R4、R5およびR7は、各々ヒドリドであり; R1は、ペンチル基のおよその長さより長く、そしてステアリル基より短い長 さを有する置換アリールまたはヘテロアリール基であって、6員環のSO2と結 合した1位および4位を通って引かれた軸、あるいは5員環のSO2と結合した 位置および置換基と結合した3位または5位を通って引かれた軸の周りで回転し たとき、その最も広い寸法が、前記回転軸を横切る方向でフェニル環約1個分か ら約3個分の幅を有する三次元体積を決定し; R2およびR3は、それぞれヒドリド、C1−C6アルキル、アルキル鎖に1−3 炭素を有する単環アルアルキルまたはヘテロアルアルキル、環内に4−8炭素を そしてアルキル鎖に1−3炭素を有するシクロアルキルアルキル、およびヘテロ シクロアルキルアルキル(環内に4−8原子があり、それら原子のうちの1個か 2個は窒素、酸素または硫黄であり、あるいはR2およびR6はそれらが結合した 原子と共に5員または6員環を形成する)からなる群から選ばれる基であり; R6は、C1−C6アルキル基、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカルボニ ル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選ばれ る基であり、そして前記アミド窒素は、(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、 一置換アミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され 、前記アミノ窒素上の置換基は、C1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルお よびC1−C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のアミノ 窒素置換基とそれらが結合した窒素とは、更に1個のヘテロ原子(これは窒素、 酸素または硫黄である)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素環または ヘテロアリール環を形成し、あるいは(iii)アミド窒素はアミノ酸のアミンであ り; Wは酸素(O)または硫黄(S)であり;そして R10は単環を有するアリールまたはヘテロアリールあるいはC1−C6アルコキ シである、 上記方法。 22.請求項21記載の方法において、R1は5員または6員の単環アリールま たはヘテロアリール基であって、6員環の場合にはそれ自身の4位で、また5員 環の場合にはそれ自身の3位で、1個の他の単環アリールまたはヘテロアリール 基、C2−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、フェノキシ基、チオフェノキ シ基、4−チオピリジル基、フェニルアゾ基およびベンズアミド基からなる群か ら選ばれる置換基により置換される上記方法。 23.請求項22記載の方法において、R1はphR11であり、このphはその 4位でR11により置換されたフェニルであり、前記R11置換基は、メタかパラ位 、または両方で、水素を除き単一原子により、あるいは5原子までの最長鎖を含 む置換基によりそれ自身置換されたフェノキシ基である上記方法。 24.病理学的マトリックス活性と関連した症状をもつ治療対象哺乳動物の治療 法において、前記方法は、このような症状をもつ哺乳動物治療対象へ、メタロプ ロテアーゼ阻害剤を有効量で投与することからなり、そして前記メタロプロテア ーゼ阻害剤は、その構造が下記の式: または 式中、 phはその4位でR11により置換されたフェニルであり; R11は、C1−C6アルコキシ、C3−C6アルキル、フェノキシ、チオフェノキ シ、ベンズアミド、フェニルアゾ、およびフェニル部分からなる群から選ばれる 置換基であり; R2は、ヒドリド、C1−C6アルキル基、C2−C3アルキルシクロアミノ基( 環内に5個か6個の原子を有し、更に1個の酸素または窒素ヘテロ原子を有する か、あるいはヘテロ原子を有しない)、C1−C6アミノカルボニル基(このアミ ド窒素は、非置換か、あるいはC2−C3アルキルかベンジル基により一置換また は二置換される)、および一つのヘテロアリール環を有するC1−C4アルキルヘ テロアリール基(前記の単一ヘテロアリール環は1個か2個の窒素原子を含む) からなる群から選ばれ、あるいはR2とR6は、それらが結合した原子と共に5員 環または6員環を形成し; R6は、C1−C6アルキル基、カルボキシル基、C1−C6アルコキシカルボニ ル基、アミノC1−C6アルカノイル基、カルボキサミド基からなる群から選ばれ る基であり、前記アミド窒素は(i)非置換か、あるいは(ii)アミノ、一置換ア ミノまたは二置換アミノにより置換されたC1−C4アルキルで置換され、前記ア ミノ窒素上の置換基はC1−C6アルキル、C5−C8シクロアルキルおよびC1− C6アルカノイル基からなる群から選ばれるか、あるいは2個のアミノ窒素置換 基およびそれらが結合した窒素が一緒になって、更に1個のヘテロ原子(これは 窒素、酸素または硫黄である)を含む、あるいは含まない、5員から8員複素環 またはヘテロアリール環を形成し、あるいは(iii)該アミド窒素はアミノ酸のア ミンであり; R10はC1−C6アルコキシ、または単環アリールあるいはヘテロアリール基で あるが、 ただし、R2およびR6がそれらの結合する原子と共に5員または6員環を形成 しない限り、R2かR6の唯一つだけ存在することを条件とする、 に相当する上記方法。 25.請求項24記載の方法において、R11置換基は、そのメタ位かパラ位で、 あるいは両方で、水素を除いた一つの原子あるいは5原子までの最長鎖を含む置 換基によりそれ自身置換される、上記方法。 26.請求項25記載の方法において、R11置換基はフェノキシであり、そして それ自身のパラ位で、ハロゲン、C1−C4アルコキシ基、C1−C4アルキル基、 ジメチルアミノ基、C1−C3アルキルカルボキシル基、C1−C3アルキルカルボ ニル、C1−C4アルコキシ基およびC1−C3アルキルカルボキサミド基からなる 群から選ばれる部分により、あるいはメタ位とパラ位で、メチレンジオキシ基に より置換される上記方法。
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