JP2001330953A - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 広いプロセスマージンと保存安定
性を併せ持ち、かつ耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れる
層間絶縁膜、およびマイクロレンズを形成できる感放射
線性樹脂組成物、ならびにそれから得られる層間絶縁
膜、マイクロレンズを提供すること。 【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］
（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボ
ン酸無水物、（ａ２）オキセタニル基を含有する特定の
単量体、（ａ３）前記（ａ１）（ａ２）以外のオレフィ
ン系不飽和化合物との共重合体と、［Ｂ］１，２−キノ
ンジアジド化合物を含有する。層間絶縁膜およびマイク
ロレンズは、上記組成物より得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性樹脂組
成物に関する。詳しくは紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子
線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビ
−ム等の放射線を利用した層間絶縁膜やマイクロレンズ
の作製に適するポジ型感放射線性樹脂組成物に関する。
さらに詳しくは、層間絶縁膜を形成するための材料、特
に、液晶表示素子、集積回路素子、磁気ヘッド素子、固
体撮像素子などの層間絶縁膜、および微小な光学レンズ
体が規則的に配列してなるレンズアレイ体等の作製に好
適な感放射線性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、薄膜トランジスタ（以下、「Ｔ
ＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や磁気ヘッド素子、集
積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、層状に
配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設け
られている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要
とするパターン形状の層間絶縁膜を得るための工程数が
少なくしかも十分な平坦性を有する層間絶縁膜が得られ
るという特徴を持つ、感放射線性樹脂組成物が幅広く使
用されている。また一般に、ファクシミリ、電子複写
機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結
像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料とし
て５〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレン
ズ、またはそれらのマイクロレンズを規則的に配列した
マイクロレンズアレイが使用されている。マイクロレン
ズまたはマイクロレンズアレイの形成には、レンズパタ
ーンを形成した後、加熱処理することによってパターン
をメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方
法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにし
てドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させ
る方法等が知られている。前記レンズパターンの形成に
は、望みの曲率半径を有するマイクロレンズが得られる
という特徴を持つ、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用
されている。これらの層間絶縁膜およびマイクロレンズ
またはマイクロレンズアレイには、高耐熱性、高耐溶剤
性、高透明性、下地との密着性等の諸性能が要求されて
いる。したがって、これらを感放射線性組成物は、上記
諸性能に優れた硬化物を与えうることが必要である。ま
たこれに加えて、保存安定性のよいこと、使用目的に合
わせた様々なプロセス条件でのパターン形成を可能にす
る、広いプロセスマージンを有することが望まれてい
る。しかしながら、高耐熱性、高耐溶剤性等を具備した
硬化物を与えることができ、かつ保存安定性がよく、広
いプロセスマージンを有する感放射線性組成物はこれま
で提案されていなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、か
つ、層間絶縁膜、マイクロレンズとして必要な耐熱性、
耐溶剤性、透明性、下地との密着性を備えた硬化物を与
えうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。本
発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明
らかになろう。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明であ
る［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽
和カルボン酸無水物（以下、「化合物（ａ１）」ともい
う。）、（ａ２）一般式（Ｉ）または一般式（II）で示
される化合物（以下、「化合物（ａ２）」ともい
う。）、

【０００５】

【化２】

【０００６】［ここで、Ｒは水素原子または炭素数１〜
４のアルキル基であり、Ｒ¹は水素原子または炭素数１
〜４のアルキル基であり、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵はそ
れぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、フェニル基、または炭素数１〜４のパーフロ
ロアルキル基であり、そしてｎは１〜６の整数であ
る。］で示される単量体、並びに（ａ３）前記（ａ１）
および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物（以
下、「化合物（ａ３）」ともいう。）を共重合して得ら
れる共重合体（以下、「共重合体［Ａ］」ともいう。）
と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有するこ
とを特徴とする感放射線性樹脂組成物を含有することを
特徴とする感放射線性樹脂組成物により達成される。

【０００７】以下、本発明の感放射線性樹脂組成物につ
いて詳述する。本発明の感放射線性樹脂組成物は、共重
合体［Ａ］、１，２−キノンジアジド化合物［Ｂ］から
なることを特徴とする。

【０００８】共重合体［Ａ］ 共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）、
および化合物（ａ３）を溶媒中で、重合開始剤の存在下
にラジカル重合することによって合成することができ
る。

【０００９】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ１）から誘導される構成単位を、好ましくは５
〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３５重量％含有し
ている。この構成単位が５重量％未満である共重合体
は、アルカリ水溶液に溶解しにくくなり、一方４０重量
％を超える共重合体はアルカリ水溶液に対する溶解性が
大きくなりすぎる傾向にある。化合物（ａ１）として
は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸など
のモノカルボン酸類；マレイン酸、フマル酸、シトラコ
ン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸類；
およびこれらジカルボン酸の無水物；こはく酸モノ〔２
−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ
〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕等の２価以上
の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシア
ルキル〕エステル類；ω−カルボキシポリカプロラクト
ンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシル
基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレ
ート類等が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メ
タクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応性、アル
カリ水溶液に対する溶解性および入手が容易である点か
ら好ましく用いられる。これらは、単独であるいは組み
合わせて用いられる。

【００１０】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ましくは５
〜６０重量％、特に好ましくは１０〜５０重量％含有し
ている。この構成単位が５重量％未満の場合は得られる
塗膜の耐熱性が低下する傾向にあり、一方６０重量％を
超える場合は共重合体の保存安定性が低下する傾向にあ
る。

【００１１】一般式（Ｉ）で示される化合物（ａ２）と
しては、例えば３−（メタクリロイルオキシメチル）オ
キセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−
エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチ
ル）−２−メチルオキセタン、３−（メタクリロイルオ
キシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−
（メタクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエ
チルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）
−２−フェニルオキセタン、３−（メタクリロイルオキ
シメチル）−２，２−ジフロロオキセタン、３−（メタ
クリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフロロオ
キセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，
２，４，４−テトラフロロオキセタン、３−（メタクリ
ロイルオキシエチル）オキセタン、３−（メタクリロイ
ルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、２−エチル
−３−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３
−（メタクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメ
チルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）
−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（メタクリ
ロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２，
２−ジフロロ−３−（メタクリロイルオキシエチル）オ
キセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２，
２，４−トリフロロオキセタン、３−（メタクリロイル
オキシエチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセ
タン等のメタクリル酸エステル類；

【００１２】３−（アクリロイルオキシメチル）オキセ
タン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチル
オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−
メチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）
−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（アクリロイ
ルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタ
ン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニル
オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，
２−ジフロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシメ
チル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（ア
クリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフ
ロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）オ
キセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−３−エ
チルオキセタン、２−エチル−３−（アクリロイルオキ
シエチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシエチ
ル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（アクリ
ロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセ
タン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２−フェニ
ルオキセタン、２，２−ジフロロ−３−（アクリロイル
オキシエチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシ
エチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−
（アクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テト
ラフロロオキセタン等のアクリル酸エステル類が挙げら
れる。

【００１３】一般式（II）で示される化合物（ａ２）と
しては、例えば２−（メタクリロイルオキシメチル）オ
キセタン、２−メチル−２−（メタクリロイルオキシメ
チル）オキセタン、３−メチル−２−（メタクリロイル
オキシメチル）オキセタン、４−メチル−２−（メタク
リロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロ
イルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタ
ン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−トリフ
ロロメチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメ
チル）−４−トリフロロメチルオキセタン、２−（メタ
クリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオ
キセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−
ペンタフロロエチルオキセタン、２−（メタクリロイル
オキシメチル）−４−ペンタフロロエチルオキセタン、
２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオ
キセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−
フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチ
ル）−４−フェニルオキセタン、２，３−ジフロロ−２
−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２，４
−ジフロロ−２−（メタクリロイルオキシメチル）オキ
セタン、３，３−ジフロロ−２−（メタクリロイルオキ
シメチル）オキセタン、３，４−ジフロロ−２−（メタ
クリロイルオキシメチル）オキセタン、４，４−ジフロ
ロ−２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、
２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，３，４−ト
リフロロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチ
ル）−３，４，４−トリフロロオキセタン、２−（メタ
クリロイルオキシメチル）−３，３，４，４−テトラフ
ロロオキセタン、

【００１４】２−（メタクリロイルオキシエチル）オキ
セタン、２−（２−（２−メチルオキセタニル））エチ
ルメタクリレート、２−（２−（３−メチルオキセタニ
ル））エチルメタクリレート、２−（メタクリロイルオ
キシエチル）−２−メチルオキセタン、２−（メタクリ
ロイルオキシエチル）−４−メチルオキセタン、２−
（メタクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチ
ルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシエチル）−
３−トリフロロメチルオキセタン、２−（メタクリロイ
ルオキシエチル）−４−トリフロロメチルオキセタン、
２−（メタクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフロ
ロエチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシエチ
ル）−３−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（メタ
クリロイルオキシエチル）−４−ペンタフロロエチルオ
キセタン、２−（メタクリロイルオキシエチル）−２−
フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシエチ
ル）−３−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイル
オキシエチル）−４−フェニルオキセタン、２，３−ジ
フロロ−２−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタ
ン、２，４−ジフロロ−２−（メタクリロイルオキシエ
チル）オキセタン、３，３−ジフロロ−２−（メタクリ
ロイルオキシエチル）オキセタン、３，４−ジフロロ−
２−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、４，
４−ジフロロ−２−（メタクリロイルオキシエチル）オ
キセタン、２−（メタクリロイルオキシエチル）−３，
３，４−トリフロロオキセタン、２−（メタクリロイル
オキシエチル）−３，４，４−トリフロロオキセタン、
２−（メタクリロイルオキシエチル）−３，３，４，４
−テトラフロロオキセタン等のメタクリル酸エステル
類；

【００１５】２−（アクリロイルオキシメチル）オキセ
タン、２−メチル−２−（アクリロイルオキシメチル）
オキセタン、３−メチル−２−（アクリロイルオキシメ
チル）オキセタン、４−メチル−２−（アクリロイルオ
キシメチル）オキセタン、２−（アクリロイルオキシメ
チル）−２−トリフロロメチルオキセタン、２−（アク
リロイルオキシメチル）−３−トリフロロメチルオキセ
タン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−トリフ
ロロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチ
ル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（アク
リロイルオキシメチル）−３−ペンタフロロエチルオキ
セタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−ペン
タフロロエチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシ
メチル）−２−フェニルオキセタン、２−（アクリロイ
ルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、２−（ア
クリロイルオキシメチル）−４−フェニルオキセタン、
２，３−ジフロロ−２−（アクリロイルオキシメチル）
オキセタン、２，４−ジフロロ−２−（アクリロイルオ
キシメチル）オキセタン、３，３−ジフロロ−２−（ア
クリロイルオキシメチル）オキセタン、３，４−ジフロ
ロ−２−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、
４，４−ジフロロ−２−（アクリロイルオキシメチル）
オキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，
３，４−トリフロロオキセタン、２−（アクリロイルオ
キシメチル）−３，４，４−トリフロロオキセタン、２
−（アクリロイルオキシメチル）−３，３，４，４−テ
トラフロロオキセタン、

【００１６】２−（アクリロイルオキシエチル）オキセ
タン、２−（２−（２−メチルオキセタニル））エチル
メタクリレート、２−（２−（３−メチルオキセタニ
ル））エチルメタクリレート、２−（アクリロイルオキ
シエチル）−２−メチルオキセタン、２−（アクリロイ
ルオキシエチル）−４−メチルオキセタン、２−（アク
リロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチルオキセ
タン、２−（アクリロイルオキシエチル）−３−トリフ
ロロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシエチ
ル）−４−トリフロロメチルオキセタン、２−（アクリ
ロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセ
タン、２−（アクリロイルオキシエチル）−３−ペンタ
フロロエチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシエ
チル）−４−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（ア
クリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、
２−（アクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキ
セタン、２−（アクリロイルオキシエチル）−４−フェ
ニルオキセタン、２，３−ジフロロ−２−（アクリロイ
ルオキシエチル）オキセタン、２，４−ジフロロ−２−
（アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３，３−ジ
フロロ−２−（アクリロイルオキシエチル）オキセタ
ン、３，４−ジフロロ−２−（アクリロイルオキシエチ
ル）オキセタン、４，４−ジフロロ−２−（アクリロイ
ルオキシエチル）オキセタン、２−（アクリロイルオキ
シエチル）−３，３，４−トリフロロオキセタン、２−
（アクリロイルオキシエチル）−３，４，４−トリフロ
ロオキセタン、２−（アクリロイルオキシエチル）−
３，３，４，４−テトラフロロオキセタン等のアクリル
酸エステル類が挙げられる。

【００１７】これらのうち、３−（メタクリロイルオキ
シメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメ
チル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタ
クリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、
２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−
（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチ
ルオキセタンなどが得られる感光性樹脂組成物のプロセ
スマージンが広く、かつ、得られる層間絶縁膜、マイク
ロレンズの耐薬品性を高める点から好ましく用いられ
る。これらは、単独であるいは組み合わせて用いられ
る。

【００１８】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜８０重量％、特に好ましくは２０〜７０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は、共
重合体［Ａ］の保存安定性が低下する傾向にあり、一方
８０重量％を超える場合は共重合体［Ａ］がアルカリ水
溶液に溶解しにくくなる。

【００１９】化合物（ａ３）としては、例えばメチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステル
類；メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートな
どのアクリル酸アルキルエステル類；シクロヘキシルメ
タクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレー
ト、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イ
ルメタクリレート（当該技術分野で慣用名としてジシク
ロペンタニルメタクリレートといわれている）、ジシク
ロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸環状アルキルエス
テル類；シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシク
ロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０
^2,6］デカン−８−イルアクリレート（当該技術分野で
慣用名としてジシクロペンタニルアクリレートといわれ
ている）、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレー
ト、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状ア
ルキルエステル類；フェニルメタクリレート、ベンジル
メタクリレートなどのメタクリル酸アリールエステル
類；フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなど
のアクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチ
ル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカ
ルボン酸ジエステル；２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのヒ
ドロキシアルキルエステル類；

【００２０】ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、
５−メチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５
−エチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−
ヒドロキシビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５
−カルボキシビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシメチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２
−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシ
ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，６−ジカ
ルボキシビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，
６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ[２．２．１]ヘプ
ト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）
ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，６−ジメ
トキシビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，６
−ジエトキシビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[２．２．１]ヘプ
ト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−
メチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−カ
ルボキシ−５−エチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２
−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−
メチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−カ
ルボキシ−６−エチルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２
−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ[２．２．１]ヘ
プト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）、５−ｔ
−ブトキシカルボニルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２
−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ
[２．２．１]ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボ
ニルビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン、５，６−
ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ[２．２．１]ヘ
プト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカ
ルボニル）ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン等の
ビシクロ不飽和化合物類；

【００２１】フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレ
イミド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−
３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−
４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６
−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３
−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニ
ル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；

【００２２】スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチ
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ
−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエ
ン、イソプレン、２,３−ジメチル−１,３−ブタジエ
ン、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、
α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシ
ジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリ
ル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−
エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘ
プチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプ
チル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニル
ベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシ
ジルエーテルなどが挙げられる。

【００２３】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ｐ−
メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレ
ート、１,３−ブタジエン、メタクリル酸グリシジル、o
-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジ
ルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエ
ーテル、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミ
ド、ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エンなどが共重
合反応性およびアルカリ水溶液に対する溶解性の点から
好ましい。これらは、単独であるいは組み合わせて用い
られる。

【００２４】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無
水物基ならびにエポキシ基とを有しており、アルカリ水
溶液に対して適切な溶解性を有するとともに、特別な硬
化剤を併用しなくとも加熱により容易に硬化させること
ができる。上記の共重合体［Ａ］を含む感放射線性樹脂
組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく、ま
た膜べりすることなく、容易に所定パターンの塗膜を形
成することができる。

【００２５】共重合体［Ａ］の合成に用いられる溶媒と
しては、具体的には、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレン
グリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチ
ルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、
プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルアセテートプロピレングリコールブチルエ
ーテルアセテート、などのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチ
ルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類；

【００２６】メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケ
トン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メ
チル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、
３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプ
ロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブ
トキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２
−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−
エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン
酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブト
キシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸
ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシ
プロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキ
シプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸
ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル、などのエステ
ル類が挙げられる。

【００２７】共重合体［Ａ］の製造に用いられる重合開
始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知ら
れているものが使用でき、例えば２，２′−アゾビスイ
ソブチロニトリル、２，２′−アゾビス−（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス−（４−
メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などのア
ゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオ
キシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１′−
ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの
有機過酸化物類；および過酸化水素が挙げられる。ラジ
カル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸
化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤として
もよい。

【００２８】共重合体［Ａ］の製造においては、分子量
を調整するために分子量調整剤を使用することができ
る。その具体例としては、クロロホルム、四臭化炭素等
のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、
ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタ
ン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール
酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィ
ド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサ
ントゲン類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイ
マー等が挙げられる。

【００２９】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
う）が、通常、２×１０3〜5×１０5、好ましくは５×
１０3〜１×１０5であることが望ましい。Ｍｗが２×１
０3未満であると、現像後の残膜率が低くなる傾向があ
り、一方５×１０5を超えると、現像残りが生じること
がある。

【００３０】１，２−キノンジアジド化合物［Ｂ］ 本発明で用いられる１，２−キノンジアジド化合物
［Ｂ］としては、１，２−キノンジアジド化合物として
は、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等を挙
げることができる。

【００３１】これらの具体例としては、２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンア
ジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒド
ロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキ
シベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６
−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−ス
ルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホ
ン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン
−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−
１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステ
ル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，
２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−
ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等のト
リヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル類；

【００３２】２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−６−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフ
トキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，３，
４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，
３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−
１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステ
ル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エ
ステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン
酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
６−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−
テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベ
ンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキ
シ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，
２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン
−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エス
テル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メ
チルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
８−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒ
ドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，
３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ
−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，
４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エ
ステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−
メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−８−スルホン酸エステル等のテトラヒドロキシベン
ゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステル類；

【００３３】２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキ
シベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペン
タヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフ
トキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，
４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−
１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステ
ル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾ
フェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホ
ン酸エステル等のペンタヒドロキシベンゾフェノンの
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；

【００３４】２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒ
ドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，
４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スル
ホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキ
サヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−７−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，
４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２
−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキ
サヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，
４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２
−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、
３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スル
ホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキ
サヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル等のヘキサヒドロキシ
ベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステル類；

【００３５】ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メ
タン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン
−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エス
テル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−
１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステ
ル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−
１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステ
ル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−６−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７
−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スル
ホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフ
トキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、トリ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノン
ジアジド−７−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド
−８−スルホン酸エステル、

【００３６】１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−
６−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−７−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−
トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，
４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，
３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナ
フトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス
（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，
２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−
１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステ
ル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニ
ル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒ
ドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，
３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−
ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，
２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロ
パン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸
エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ
フェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−
８−スルホン酸エステル、

【００３７】１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，
１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−６−スルホン酸エステル、１，１，３−ト
リス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド
−７−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スル
ホン酸エステル、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−
ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕
エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニ
ル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スル
ホン酸エステル、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−
ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕
エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジ
アジド−７−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１，
２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、

【００３８】ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス
（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニ
ルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホ
ン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２
−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビ
ス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２
−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’
−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，
６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，
３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビイ
ンデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール
−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−
スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘ
キサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スル
ホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−
１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，
６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジア
ジド−７−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−
テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，
７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフト
キノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，２，４
−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−ト
リヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸、２，２，４−トリメチル−７，
２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，２，４
−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸、
２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロ
キシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−ス
ルホン酸等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカンの
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルが挙
げられる。これらの１，２−キノンジアジド化合物は単
独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができ
る。

【００３９】［Ｂ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］
１００重量部に対して５〜１００重量部、好ましくは１
０〜５０重量部である。この割合が５重量部未満の場合
には、放射線の照射によって生成する酸量が少ないた
め、放射線の照射部分と未照射部分との現像液となるア
ルカリ水溶液に対する溶解度の差が小さく、パターニン
グが困難となる傾向がある。また、共重合体［Ａ］との
反応に関与する酸の量が少なくなるため、十分な耐熱性
および耐溶剤性が得られない場合がある。一方、この割
合が１００重量部を超える場合には、短時間の放射線の
照射では、未反応の［Ｂ］成分が多量に残存するため、
前記アルカリ水溶液への不溶化効果が高すぎて現像する
ことが困難となる傾向がある。

【００４０】その他の成分 本発明の感放射線性樹脂組成物においては、上記の共重
合体［Ａ]および［Ｂ］成分の他に、必要に応じて、感
熱性酸生成化合物［Ｃ］、少なくとも１個のエチレン性
不飽和二重結合を有する重合性化合物［Ｄ］、エポキシ
樹脂［Ｅ］、メラミン樹脂［Ｆ］、界面活性剤［Ｇ］、
および密着助剤［Ｈ］の各成分を含有させることができ
る。

【００４１】上記［Ｃ］成分である感熱性酸生成化合物
は、耐熱性や硬度を向上させるために用いることがで
き、その具体例としては、フッ化アンチモン類が挙げら
れ、市販品としては、サンエイドＳＩ−Ｌ８０、サンエ
イドＳＩ−Ｌ１１０、サンエイドＳＩ−Ｌ１５０（以
上、三新化学工業（株）製）等が挙げられる。

【００４２】［Ｃ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］
１００重量部に対して２０重量部以下、特に５重量部以
下であることが好ましい。この割合が２０重量部を超え
る場合には、析出物が発生し、パターニングが困難とな
る傾向がある。

【００４３】上記［Ｄ］成分である少なくとも１個のエ
チレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物として
は、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アク
リレートまたは３官能以上の（メタ）アクリレートを好
適に用いることができる。上記単官能（メタ）アクリレ
ートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソ
ボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル
（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙
げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−
１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亞合成(株)
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２
０Ｓ（日本化薬(株)製）、ビスコート１５８、同２３１
１（大阪有機化学工業(株)製）が挙げられる。

【００４４】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェ
ノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げ
られ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２
１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亞合成(株)
製）、ＫＡＹＡＲＡＤＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ
−６０４（日本化薬(株)製）、ビスコート２６０、同３
１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業(株)製）などが
挙げられる。

【００４５】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えば
アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、
同Ｍ−８０６０（東亞合成(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ
ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣ
Ａ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（日
本化薬(株)製）、ビスコート２９５、同３００、同３６
０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（大阪有機化学工業
(株)製）などが挙げられる。これらの単官能、２官能ま
たは３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独である
いは組み合わせて用いることができる。

【００４６】［Ｄ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］
１００重量部に対して５０重量部以下、特に３０重量部
以下であることが好ましい。このような割合で［Ｄ］成
分が含有されることにより、当該感放射線性樹脂組成物
から得られるパターン状薄膜の耐熱性、強度等を向上さ
せることができる。この割合が５０重量部を超える場合
には、共重合体［Ａ］に対する相溶性が不十分となり、
塗布時に膜荒れが生じることがある。

【００４７】上記［Ｅ］成分であるエポキシ樹脂として
は、相溶性に影響がないかぎり限定されるものではない
が、好ましくはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジ
ルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキ
シ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリ
レートを（共）重合した樹脂等を挙げることができる。
これらの中では、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂等が好ましい。

【００４８】［Ｅ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］
１００重量部に対して３０重量部以下であることが好ま
しい。このような割合で［Ｅ］成分が含有されることに
より、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られるパタ
ーン状塗膜の、耐熱性、強度等をさらに向上させること
ができる。この割合が３０重量部を超える場合には、ア
ルカリ可溶性樹脂に対する相溶性が不十分となり、十分
な塗膜形成能が得られない。なお、共重合体［Ａ］を合
成する際に、化合物（ａ３）としてエポキシ基含有の不
飽和化合物を用いた場合、共重合体［Ａ］も「エポキシ
樹脂」といいうるが、共重合体［Ａ］は、アルカリ可溶
性を有する点、比較的高分子量であることが要求される
点で［Ｅ］成分のエポキシ樹脂とは異なる。

【００４９】上記［Ｆ］成分であるメラミン樹脂として
は下記式（III）、

【００５０】

【化３】

【００５１】［式中、Ｒ⁶は炭素数が１〜６、好ましく
は１〜４のアルキル基または水素原子を表す。］で示さ
れる一価有機基を１分子中に好ましくは２以上有する化
合物であり、好ましくは該一価有機基が窒素原子に結合
する化合物、すなわちＮ−メチロール基および／または
Ｎ−アルコキシメチル基を含有する化合物があげられ
る。一分子中に一般式（III）の有機基が２以上あると
きは、それらの基のＲ⁶は同一でも異なってもよい。本
発明の感放射線性樹脂組成物において［Ｆ］成分を使用
する場合は、一般式（III）で示される有機基が、
［Ａ］成分の共重合体が有するカルボキシル基と反応
し、架橋構造を形成する。

【００５２】［Ｆ］成分の例として、例えば下記式（Ｉ
Ｖ）

【００５３】

【化４】

【００５４】［式中、各Ｒ⁷ は同一または異なり、炭素
数１〜４のアルキル基である。］で示されるN,N,N,N,N,
N-（ヘキサアルコキシメチル）メラミンなどのアルコキ
シメチル化メラミン、および下記式（Ｖ）

【００５５】

【化５】

【００５６】［式中、各Ｒ⁸は同一または異なり、炭素
数１〜４のアルキル基である。］で示されるN,N,N,N-
（テトラアルコキシメチル）グリコールウリルなどのア
ルコキシメチル化グリコールウリルが挙げられる。ま
た、［Ｆ］成分として、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、
チオ尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂、グアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベ
ンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、グリコールウ
リル−ホルムアルデヒド樹脂、およびポリビニルフェノ
ール類に一般式（III）で示される基を導入した化合物
を使用することもできる。

【００５７】［Ｆ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］
１００重量部に対して通常１０重量部以下、好ましくは
７重量部以下である。このような割合で［Ｆ］成分が含
有されることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物か
ら得られるパターン状塗膜の、耐熱性、強度等をさらに
向上させることができる。

【００５８】本発明の感放射線性樹脂組成物では、塗布
性を向上するため［Ｇ］成分である界面活性剤を使用す
ることができる。その市販品としては、例えばＢＭ−１
０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社
製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７
３、同Ｆ１８３（以上、大日本インキ化学工業(株)
製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同
ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム
(株)製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ
−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８
２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０
３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６
（以上、旭硝子(株)製）、エフトップＥＦ３０１、同３
０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、ＳＨ−
２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３
２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以
上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）など
のフッ素系およびシリコーン系界面活性剤が挙げられ
る。

【００５９】その他にも、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル
類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチ
レンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキ
ルエステル類などのノニオン系界面活性剤；オルガノシ
ロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）
製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローNo. ５
７、９５（以上、共栄社化学（株）製）などが挙げられ
る。

【００６０】これらの界面活性剤［Ｇ］は、共重合体
［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは５重量部以
下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。界面活
性剤［Ｇ］の量が５重量部を超える場合は、塗布時の膜
あれが生じやすくなる傾向がある。

【００６１】また基体との接着性を向上させるために
［Ｈ］成分として接着助剤を使用することもできる。こ
のような接着助剤としては、官能性シランカップリング
剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタク
リロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応
性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられ、具
体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナ
ートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げら
れる。

【００６２】このような接着助剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より
好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤
の量が２０重量部を超える場合は、現像残りが生じやす
くなる。

【００６３】本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の
共重合体［Ａ］、１，２−キノンジアジド化合物
［Ｂ］、および任意的に添加されるその他の配合剤を均
一に混合することによって調製される。通常、本発明の
感放射線性樹脂組成物は、適当な溶媒に溶解されて溶液
状態で用いられる。例えば共重合体［Ａ］、１，２−キ
ノンジアジド［Ｂ］および任意的に添加されるその他の
配合剤を、所定の割合で混合することにより、溶液状態
の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。

【００６４】本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用
いられる溶媒としては、共重合体［Ａ］、１，２−キノ
ンジアジド化合物［Ｂ］の各成分を均一に溶解し、各成
分と反応しないものが用いられる。具体的には、例えば
メタノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコ
ールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエー
テル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピ
レングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコ
ールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエ
ーテルアセテートプロピレングリコールブチルエーテル
アセテート、などのプロピレングリコールアルキルエー
テルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテ
ルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテ
ルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエー
テルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエー
テルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなど
のケトン類；

【００６５】および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒド
ロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ
酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、
乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピ
オン酸プロチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、
２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ
酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピ
ル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキ
シ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブ
チル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、
プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブト
キシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プ
ロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン
酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸
ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキ
シプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロ
ピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシ
プロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシ
プロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ルなどのエステル類が挙げられる。

【００６６】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエ
ーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好
ましく用いられる。

【００６７】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。

【００６８】また上記のように調製された組成物溶液
は、孔径０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用い
て濾過した後、使用に供することもできる。

【００６９】パターン状塗膜の形成 本発明の感放射線性樹脂組成物は、下地基板表面に塗布
し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗膜
とすることができる。塗布方法として、例えばスプレー
法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法などの各
種の方法を採用することができる。また、プレベークの
条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なる
が、通常７０〜１００℃で１〜１５分間程度である。な
お、従来の感放射線性組成物は、プレベ−ク温度として
一般に７０〜８０℃の温度範囲が想定されており、これ
を越えるプレベ−ク温度が採用された場合、解像度に支
障を来すことがあったが、本発明の感放射線性組成物で
は、上記のような広い温度範囲において好適に使用でき
る。次にプレベークされた塗膜に所定パターンマスクを
介して紫外線などの放射線を照射し、さらに現像液によ
り現像し、不要な部分を除去して所定パターンを形成す
る。現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法
などのいずれでも良く、現像時間は通常３０〜１８０秒
間である。

【００７０】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの
環状３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キ
ノリンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用するこ
とができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活
性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用するこ
ともできる。

【００７１】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。形成され
たパターンに紫外線などの放射線を照射し、その後この
パターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置
により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより目的
とする層間絶縁膜またはマイクロレンズに相当するパタ
ーン状塗膜を得ることができる。

【００７２】

【実施例】以下に合成例、実施例および比較例を示し
て、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下
の実施例に限定されるものではない。

【００７３】合成例１ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２０
重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２２重量部、
ジシクロペンタニルメタクリレート３８部、３−（メタ
クリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン４
０重量部、α−メチルスチレンダイマー１．５部を仕込
み窒素置換しながらゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温
度を７０℃に上昇させ、この温度にて５時間加熱し共重
合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得た。得られた重合
体溶液の固形分濃度は３１．２％であり、重合体の重量
平均分子量は１８５００で分子量分布（重量平均分子量
／数平均分子量の比）は１．８であった。なお、重量平
均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエ
イションクロマトグラフィー（東ソー（株）製ＨＬＣ−
８０２０）を用いて測定したポリスチレン換算平均分子
量である。

【００７４】合成例２ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタ
クリル酸２５重量部、フェニルマレイミド２０部、３−
（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタ
ン３５重量部、α−メチルスチレンダイマー１．５部を
仕込み窒素置換しながらゆるやかに撹拌を始めた。溶液
の温度を７０℃に上昇させ、この温度にて５時間加熱し
共重合体［Ａ−２］を含む重合体溶液を得た。得られた
重合体溶液の固形分濃度は３１．０％であり、重合体の
重量平均分子量は２１０００で分子量分布は２．１であ
った。

【００７５】合成例３ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタ
クリル酸２５重量部、フェニルマレイイミド２０部、３
−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメ
チルオキセタン３５重量部、α−メチルスチレンダイマ
ー１．５部を仕込み窒素置換しながらゆるやかに撹拌を
始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度にて
４時間加熱し共重合体［Ａ−３］を含む重合体溶液を得
た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３９．８％であ
り、重合体の重量平均分子量は２３０００で分子量分布
は２．４であった。

【００７６】合成例４ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタ
クリル酸３０重量部、２−（メタクリロイルオキシメチ
ル）−４−トリフロロメチルオキセタン５０重量部、α
−メチルスチレンダイマー２．０部を仕込み窒素置換し
ながらゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に
上昇させ、この温度にて５時間加熱し共重合体［Ａ−
４］を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固
形分濃度は３１．０％であり、重合体の重量平均分子量
は１９０００で分子量分布は１．７であった。

【００７７】比較合成例１ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２２０重量部を
仕込んだ。引き続きメタクリル酸２３重量部、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート４７部、メタクリル酸グリシ
ジル２０重量部、α−メチルスチレンダイマー２．０部
を仕込み窒素置換しながらゆるやかに撹拌を始めた。溶
液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し
共重合体［Ａ−１Ｒ］を含む重合体溶液を得た。得られ
た重合体溶液の固形分濃度は３２．８％であり、重合体
の重量平均分子量は２４０００で分子量分布は２．３で
あった。

【００７８】比較合成例２ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２２０重量部を
仕込んだ。引き続きメタクリル酸２５重量部、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート３５部、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート４０重量部、α−メチルスチレンダイ
マー２．０部を仕込み窒素置換しながらゆるやかに撹拌
を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を
５時間保持し共重合体［Ａ−２Ｒ］を含む重合体溶液を
得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３２．８％で
あり、重合体の重量平均分子量は２５０００で分子量分
布は２．４であった。

【００７９】実施例１ 感放射線性樹脂組成物の調製 合成例１で得られた共重合体[Ａ−１]を含む重合体溶液
（共重合体［Ａ−１］１００重量部（固形分）に相当）
と、成分［Ｂ］として４,４’−［１−［４−［１−
［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェ
ニル］エチリデン］ビスフェノール（１モル）と１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２
モル）との縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４
−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニ
ル］エチリデン］ビスフェノール−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル）３０重量部およ
びγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５重
量部を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶
解させた後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタで濾過
して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製し
た。

【００８０】層間絶縁膜の評価（Ｉ）パターン状薄膜の形成 ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液
（Ｓ−１）を塗布した後、８０℃で３分間ホットプレー
ト上でプレベークして塗膜を形成した。上記で得られた
塗膜に所定パターンマスクを用いて、３６５ｎｍでの強
度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を１５秒間照射し
た。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．
５重量％水溶液で２５℃で１分間現像した後、純水で１
分間リンスした。これらの操作により、不要な部分を除
去した。上記で形成されたパターンに３６５ｎｍでの強
度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を３０秒間照射した
後、オーブン中で２００℃で６０分間加熱し硬化させ膜
厚３μｍのパターン状薄膜を得た。また、プレベーク温
度を９０℃、１００℃とした他は、上記と同様の操作を
行い、プレベーク温度の異なる３種類のパターン状薄膜
を形成した。

【００８１】（II）解像度の評価 上記（Ｉ）で得られたパターン状薄膜において抜きパタ
ーン（５μｍ×５μｍホール）が解像できている場合を
○、解像できていない時を×とした。結果を表１に示
す。

【００８２】（III）耐熱寸法安定性の評価 上記（Ｉ）において、プレベーク温度８０℃にて形成し
た薄膜パターンをオーブン中、２００℃で６０分加熱し
た。加熱前後における膜厚の変化率を表２に示した。こ
の時の寸法変化率が加熱前後で５％以内の時、耐熱寸法
安定性は良好、寸法変化率が５％を越える時、不良とい
える。

【００８３】（IV）透明性の評価 上記（Ｉ）において、プレベーク温度８０℃にて形成し
たパターン状薄膜の４００ｎｍの透過率を分光光度計
（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所(株)製））
を用いて測定し、透明性の評価を行った。この結果を表
２に示す。このとき透過率が９０％以上の場合、透明性
は良好、９０％未満の場合不良といえる。

【００８４】（Ｖ）耐熱変色性の評価 上記（Ｉ）において、プレベーク温度８０℃にて形成し
たパターン状薄膜を有する基板を２５０℃のオーブンで
１時間加熱し、加熱前後におけるパターン状薄膜の透過
率の変化により耐熱変色性を評価した。このときの評価
結果を表２に示す。変化率が５％未満である場合、耐熱
変色性は良好、５％を超えた場合不良といえる。なお透
過率は（VI）透明性の評価と同様にして求めた。

【００８５】（VI）密着性の評価 上記（Ｉ）において、プレベーク温度８０℃にて形成し
たパターン状薄膜の密着性をプレッシャークッカー試験
（１２０℃、湿度１００％、４時間）後の碁盤目剥離試
験により評価した。このときの評価結果を表２に示す。
評価結果は碁盤目１００個中、残った碁盤目の数で表し
た。

【００８６】（VII）保存安定性の評価 上記組成物溶液を４０℃のオーブンで１週間加熱し、加
熱前後における粘度の変化により保存安定性を評価し
た。このときの粘度変化率を表１に示す。変化率が５％
未満である場合を保存安定性が良好、５％以上の場合を
保存安定性が不良といえる。

【００８７】マイクロレンズの評価（Ｉ）マイクロレンズの形成 ６インチシリコン基板に上記組成物溶液（Ｓ−１）を
２.５μｍの膜厚になるようにスピンコートし７０℃で
３分間ホットプレート上でプレベークし、塗膜を形成し
た。上記で得られた塗膜に所定パターンマスクを用い
て、４３６ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外
線を照射した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド２．３８重量％水溶液で２５℃で１分間現像した
後、純水で１分間リンスした。これらの操作により、不
要な部分を除去し、パターンを形成した。上記で形成さ
れたパターンに４３６ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²
である紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ²照射した後、１６０
℃で１０分間加熱後さらに２３０℃で１０分間加熱して
パターンをメルトフローさせマイクロレンズを形成し
た。

【００８８】（II）感度の評価 上記（Ｉ）で得られたメルトフロー後のマイクロレンズ
パターンの、０.８μｍライン・アンド・スペ−スパタ
−ン（１０対１）のスペース線幅を解像できる最低照射
量を表３に示した。この値が１００ｍＪ／ｃｍ²以下の
場合、解像度良好、感度が１００ｍＪ／ｃｍ²を越える
場合、解像度不良といえる。

【００８９】（III）透明性の評価 ガラス基板上に上記（Ｉ）と同様にしてパターン状薄膜
を形成した。メルトフロー後のマイクロレンズパターン
を形成したガラス基板について、４００ｎｍの透過率を
分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所
(株)製））を用いて測定し、透明性の評価を行った。こ
のときの４００ｎｍにおける透過率を表３に示す。透過
率が９０〜１００％のとき透過率は良好、９０％未満の
場合、透過率は不良といえる。

【００９０】（IV）耐熱変色性の評価 上記（III）において形成したパターン状薄膜を有する
ガラス基板を２５０℃のオーブンで１時間加熱し、加熱
前後におけるパターン状薄膜の透過率の変化により耐熱
変色性を評価した。このときの透過率の変化率を表３に
示す。変化率が５％未満である場合耐熱変色性は良好、
５％を超えた場合、不良といえる。なお透過率は（II
I）透明性の評価と同様にして求めた。

【００９１】（Ｖ）密着性の評価 上記（Ｉ）において形成したパターン状薄膜の密着性を
プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、
４時間）後の碁盤目剥離試験により評価した。このとき
の評価結果を表３に示す。評価結果は碁盤目１００個
中、残った碁盤目の数で表した。

【００９２】（VII）耐溶剤性の評価 上記（III）と同様にして形成したパターン状薄膜を有
するガラス基板を５０℃中のイソプロピルアルコール中
に１０分間浸せきし、膜厚変化を評価した。このときの
変化率を表３に示す。変化率が０〜５％のとき耐溶剤性
は良好、５％を超えたときおよび溶解により膜厚が低下
した場合、耐溶剤性は不良といえる。

【００９３】実施例２ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］を含む溶液の代
わりに共重合体［Ａ−２］を含む溶液を使用した他は、
実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−２）を調製し、
評価した。結果を表１〜３に示す。

【００９４】実施例３ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］を含む溶液の代
わりに共重合体［Ａ−３］を含む溶液を使用した他は、
実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−３）を調製し、
評価した。結果を表１〜３に示す。

【００９５】実施例４ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］を含む溶液の代
わりに共重合体［Ａ−４］を含む溶液を使用した他は、
実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−４）を調製し、
評価した。結果を表１〜３に示す。

【００９６】比較例１ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］を含む溶液の代
わりに共重合体［Ａ−１Ｒ］を含む溶液を使用した他
は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−１Ｒ）を調
製し、評価した。結果を表１〜３に示す。

【００９７】比較例２ 比較合成例２で得られた共重合体[Ａ−２Ｒ]を含む溶液
（共重合体｛Ａ−２Ｒ］１００重量部（固形分）に相
当）と、成分［Ｂ］として４,４’−［１−［４−［１
−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フ
ェニル］エチリデン］ビスフェノール（１モル）と１,
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド
（２モル）との縮合物（４,４’−［１−［４−［１−
［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェ
ニル］エチリデン］ビスフェノール−１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル）３０重量部、
ヘキサメチロールメラミン２５重量部、およびγ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン５重量部を混合
し、固形分濃度が３０重量％になるようにプロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させた
後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタで濾過して感放
射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−２Ｒ）を調製した。実施
例１において樹脂組成物溶液（Ｓ−１）の代わりに上記
（Ｓ−２Ｒ）を用いて、層間絶縁膜を形成し、評価を実
施した。結果を表１〜２に示す。

【００９８】

【表１】

【００９９】

【表２】

【０１００】

【表３】

【０１０１】

【発明の効果】本発明によれば、十分なプロセスマージ
ンと保存安定性を有し、かつ、層間絶縁膜、マイクロレ
ンズとして必要な耐熱性、耐溶剤性、透明性、下地との
密着性を具備したパターン状薄膜を与えうる感放射線性
樹脂組成物を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 222/04 Ｃ０８Ｆ 222/04 Ｃ０８Ｋ 5/28 Ｃ０８Ｋ 5/28 Ｃ０８Ｌ 33/00 Ｃ０８Ｌ 33/00 35/00 35/00 Ｃ０９Ｄ 4/02 Ｃ０９Ｄ 4/02 5/00 5/00 Ｚ 133/04 133/04 201/06 201/06 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 3/00 3/00 Ａ Ｇ０３Ｆ 7/022 Ｇ０３Ｆ 7/022 // Ｃ０９Ｄ 5/25 Ｃ０９Ｄ 5/25 (72)発明者 丹羽 一明 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社 Ｆターム(参考） 2H025 AA06 AA10 AA14 AA20 AB14 AB20 AC01 AD03 BE01 CB08 CB14 CB41 CB43 CB51 CC17 FA29 4J002 BC041 BG011 BG041 BG051 BG061 BG071 BG101 BG131 BH021 BK001 BL011 BL021 CC185 CD005 CD191 EQ036 EV246 FD200 FD310 GH01 GP01 GQ01 4J038 CA021 CC001 CD001 CE051 CF021 CG001 CG141 CH111 CM021 GA02 GA06 JB15 NA04 NA12 NA14 NA21 PA17 PB08 PB09 PB11 4J100 AB02R AB03R AB04R AB07R AC03R AC04R AG04R AJ01P AJ02P AJ08P AJ09P AK31P AK32P AL03R AL08P AL08Q AL08R AL09R AL10R AL34R AL44R AM02R AM15R AM47R AM48R AS01R AS02R AS03R AS15R BA03R BA04R BA05R BA06R BA15R BA16P BA16R BA20R BA21P BB07Q BB18Q BC04R BC12R BC28R BC43P BC43Q BC43R BC53Q BC54R BC55R BC66R CA05 DA01 DA04 JA01 JA33 JA44

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／
   または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）一般式（Ｉ）
   または一般式（II）で示される化合物、 【化１】 ［ここで、Ｒは水素原子または炭素数１〜４のアルキル
   基であり、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜４のアルキ
   ル基であり、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵はそれぞれ独立に
   水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フ
   ェニル基、または炭素数１〜４のパーフロロアルキル基
   であり、そしてｎは１〜６の整数である。］で示される
   単量体、並びに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以
   外のオレフィン系不飽和化合物を共重合して得られる共
   重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有
   することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。