JP2001322356A - 光記録媒体及びこれを用いる光記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短波長に発振波長を有する半導体レーザを用
いるＤＶＤ−Ｒディスクシステムに適用可能な光記録媒
体、特に、従来のスクアリリウム色素を用いた光記録媒
体における耐光性、保存安定性に優れた記録技術を提供
する。 【解決手段】 基板上に少なくとも記録層を設けてなる
光記録媒体において、該記録層中にスクアリリウム化合
物と、下記一般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と金属か
らなるアゾ金属キレート化合物とをそれぞれ少なくとも
一種類含有していることを特徴とする光記録媒体。 【化１】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｂはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
は複素環を形成する残基を表し、Ｘは活性水素を有する
置換基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、短波長の光で記録
することができる光記録媒体及び光記録方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】ａ．（情報記録用）追記型記録媒体（Ｗ
ＯＲＭ）の従来技術

【０００３】（１）シアニン色素を記録材料として用い
たもの 特開昭５７−８２０９３，５８−５６８９２，５８−１
１２７９０，５８−１１４９８９，５９−８５７９１，
６０−８３２３６，６０−８９８４２，６１−２５８８
６

【０００４】（２）フタロシアニン色素を記録材料とし
て用いたもの 特開昭６１−１５０２４３，６１−１７７２８７，６１
−１５４８８８，６１−２４６０９，６２−３９２８
６，６３−３７９９１，６３−３９８８８

【０００５】ｂ．追記型コンパクトディスク（ＣＤ−
Ｒ）の従来技術 （１）シアニン色素＋金属反射層を記録材料として用い
たもの 特開平１−１５９８４２，２−４２６５２，２−１３６
５６，２−１６８４４６

【０００６】（２）フタロシアニン色素＋金属反射層を
記録材料として用いたもの 特開平１−１７６５８５，３−２１５４６６，４−１１
３８８６，４−２２６３９０，５−１２７２，５−１７
１０５２，５−１１６４５６，５−９６８６０，５−１
３９０４４，５−１３９０４４

【０００７】（３）アゾ金属キレート色素＋金属反射層
を記録材料として用いたもの 特開平４−４６１８６，４−１４１４８９，４−３６１
０８８，５−２７９５８０，７−５１６７３，７−１６
１０６９，７−３７２７２，７−７１８６７，８−２３
１８６６，８−２９５８１１

【０００８】ｃ．大容量追記型コンパクトディスク（Ｄ
ＶＤ−Ｒ）の従来技術

【０００９】（１）シアニン色素＋金属反射層を記録材
料として用いたもの ＰＩＯＮＥＥＲ Ｒ＆Ｄ ｖｏｌ．６ Ｎｏ．２，１９
９６：ＤＶＤ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅの開発、ＤＶＤ−
Ｒ色素ディスクの基礎開発 ＩＳＯＭ／ＯＤＳ’９６，１９９６：Ｈｉｇｈ ｄｅｎ
ｓｉｔｙ ｏｆ ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｏｎ Ｄｙｅ
ｍａｔｅｒｉａｌ Ｄｉｓｃ ａｐｐｒｏａｃｈ ｆｏ
ｒ ４．７Ｇ 特開平１０−２３５９９９

【００１０】（２）アゾメチン色素＋金属反射層を記録
材料として用いたもの 特開平８−１９８８７２，８−２０９０１２，８−２８
３２６３，１０−２７３４８４

【００１１】（３）アゾ金属キレート色素＋金属反射層
を記録材料として用いたもの 特公平５−６７４３８，特開平７−１６１０６９，８−
１５６４０８，８−２３１８６６，８−３３２７７２，
９−５８１２３，９−１７５０３１，９−１９３５４
５，９−２７４７３２，９−２７７７０３，１０−６６
４４，１０−６６５０，１０−６６５１，１０−３６６
９３，１０−４４６０６，１０−５８８２８，１０−８
６５１９，１０−１４９５８４，１０−１５７２９３，
１０−１５７３００，１０−１５７３０１，１０−１５
７３０２，１０−１８１１９９，１０−１８１２０１，
１０−１８１２０３，１０−１８１２０６，１０−１８
８３４０，１０−１８８３４１，１０−１８８３５８，
１０−２０８３０３，１０−２１４４２３，１０−２２
８６７１，１１−１２４８３，１１−２８８６５，１１
−４２８５８，１１−１３４７０８，１１−２０８１１
１

【００１２】（４）その他の色素＋金属反射層を記録材
料として用いたもの 特開平１０−８６５１７，１０−９３７８８，１０−２
２６１７２，１０−２４４７５２，１０−２８７８１
９，１０−２９７１０３，１０−３０９８７１，１０−
３０９８７２

【００１３】（５）アゾ金属キレート色素＋その他の色
素＋金属反射層を記録材料として用いたもの 特公平７−５１６８２，特開平１１−３４４９９，１１
−４８６１２，１１−１０５４２４

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】現在、次世代大容量光
ディスクとしてＤＶＤ−Ｒの開発が進められている。記
録容量向上の要素技術として、記録ピット微少化のため
の記録材料開発、ＭＰＥＧ２に代表される画像圧縮技術
の採用、記録ピット読みとりのための半導体レーザの短
波長化等の技術開発が必要である。

【００１５】これまで赤色波長域の半導体レーザとして
は、バーコードリーダ、計測器用に６７０ｎｍ帯のＡｌ
ＧａＩｎＰレーザダイオードが商品化されているのみで
あったが、光ディスクの高密度化に伴い、赤色レーザが
本格的に光ストレージ市場で使用されつつある。ＤＶＤ
ドライブの場合、光源として６３０〜６７０ｎｍ帯のレ
ーザダイオードの波長で規格化されている。一方、再生
専用のＤＶＤ−ＲＯＭドライブは波長約６５０ｎｍで商
品化されている。

【００１６】このような状況下で最も好ましいＤＶＤ−
Ｒメディアは、波長６３０〜６７０ｎｍで記録、再生が
可能なメディアである。しかしながら、耐光性、保存安
定性に優れ、６７０ｎｍ以下のレーザを用いた光ピック
アップで記録、再生が可能な記録材料は未だに開発され
ていない。

【００１７】波長６３０〜６７０ｎｍのレーザーを用い
た光ピックアップで記録再生する光記録媒体の記録層の
一つとしてスクアリリウム色素があげられるが、この色
素は光劣化が著しく安定性に乏しい。また、高耐光性を
示す色素としてアゾ金属キレート色素があげられるが、
この色素を記録層に用いたメディアは反射率が低いなど
の問題点があった。

【００１８】本発明は前記従来システムに比べて、短波
長に発振波長を有する半導体レーザーを用いるＤＶＤ−
Ｒディスクシステムに適用可能な光記録媒体中の記録材
料、特に、従来のスクアリリウム色素を用いた光記録媒
体における耐光性、保存安定性に優れた記録材料および
該記録材料を用いた記録方法を提供することを目的とす
る。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
解決する手段について種々検討した結果、スクアリリウ
ム色素に特定の構造を有する色素を混合したものを主成
分として記録層を構成することにより、発振波長６７０
ｎｍ以下の半導体レーザーを用いる次世代大容量光ディ
スクシステムに適用可能であり、かつ、耐光性、保存安
定性に優れた光記録媒体が得られることを見いだし本発
明に至った。

【００２０】即ち、本発明によれば、基板上に少なくと
も記録層を設けてなる光記録媒体において、該記録層中
にスクアリリウム化合物と、下記一般式（Ｉ）で示され
るアゾ化合物と金属からなるアゾ金属キレート化合物と
をそれぞれ少なくとも一種類含有していることを特徴と
する光記録媒体が提供される。

【化６】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｂはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
は複素環を形成する残基を表し、Ｘは活性水素を有する
置換基を表す。）

【００２１】本発明の光記録媒体では、記録層中にスク
アリリウム化合物と、前記一般式（Ｉ）で示されるアゾ
化合物と金属からなるアゾ金属キレート化合物とを、少
なくとも一種類ずつ含有していることにより、スクアリ
リウム化合物の光劣化が防止され、耐光性に優れた光記
録媒体が得られる。

【００２２】本発明の光記録媒体に用いるスクアリリウ
ム化合物中で、下記一般式（II）

【化７】 〔式中、Ｒ₁およびＲ₂は同一または相異なって、水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアラルキル基、あるいは置換基を有して
いてもよいアリール基を表す。また、Ｒ₁およびＲ₂は隣
接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよ
い複素環を形成してもよい。Ｒ₃は、下記一般式（III）
または（IV）を表す：

【化８】 ［式中、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相異なって、水素原
子あるいはアルキル基を表すか、またはＲ₄とＲ₅は隣接
する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい
複素環を形成し、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉は、同一また
は相異なって、水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、水
酸基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ₄およびＲ₆、また
はＲ₅およびＲ₇は、隣接するＮ−Ｃ−Ｃと一緒になって
窒素原子を含む複素環を形成してもよく、該複素環は置
換基を有していてもよい］

【化９】 ［式中、Ｑ₁は炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ₁₀お
よびＲ₁₁は同一または相異なって、水素原子、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基
または水酸基（ただし、Ｑ₁が窒素原子である場合、Ｒ
₁₁は存在しない）を表し、Ｒ₁₂は、水素原子、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアリール基または置換基を有していてもよいアラルキ
ル基を表し、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は同一または異なって、水
素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコ
キシ基またはハロゲン原子を表すか、またはＲ₁₃および
Ｒ₁₄が隣接する２つの炭素原子と一緒になって、脂環式
炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族環または
置換基を有していてもよい複素環を形成する。］〕で表
される化合物であるか、または下記一般式（Ｖ）

【化１０】 ［式中、Ｑ₂は炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ
₁₅は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基
を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ₁₆は水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有し
ていてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、置換基を有していてもよいアミノ基または
置換基を有していてもよい複素環基を表す。Ｒ₁₇および
Ｒ₁₈は、同一または相異なって、置換基を有していても
よいアルキル基を表すか、Ｒ₁₇とＲ₁₈は隣接する炭素原
子と一緒になって脂環式炭化水素環または複素環を形成
してもよい。ただし、Ｑ₂が窒素原子の場合、Ｒ₁₈は存
在しない。Ｒ₁₉は水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基ま
たは置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ ₂₀
はハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を
有していてもよいアリール基、トリフルオロメチル基、
ニトロ基、シアノ基、または置換基を有していてもよい
アルコキシ基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ここ
に、ｎが２〜４の場合、Ｒ₂₁は同一または相異なってい
てもよく、さらに互いに隣り合う２つのＲ₂₀が隣接する
２つの炭素原子と一緒になって置換基を有していてもよ
い芳香族環を形成していてもよい］で表される化合物が
好ましい。

【００２３】

【発明の実施の形態】光記録媒体中における前記スクア
リリウム化合物とアゾ金属キレート化合物の配合割合
は、重量比で９０：１０〜１０：９０、好ましくは８
０：２０〜１５：８５、より好ましくは８０：２０〜３
０：７０である。スクアリリウム化合物が上記範囲であ
るとアゾ金属キレート化合物が効果的にはたらき高い耐
光性が得られる。また、スクアリリウム化合物が上記範
囲であると、高い反射率が得られるので好ましい。

【００２４】前記一般式（Ｉ）において、Ａはそれが結
合している炭素原子及び窒素原子と一緒になって複素環
を形成する残基を表し、Ｂはそれが結合している二つの
炭素原子と一緒になって芳香環又は複素環を形成する残
基を表し、Ｘは活性水素基を有する置換基を表す。

【００２５】Ａの具体例は、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、チ
アジアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール
環、トリアゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール
環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジ
ン環、トリアジン環、キノリン環等を形成する残基が挙
げられる。これらの含窒素複素環は、置換基を有してい
ても良い。

【００２６】前記の置換基の具体例は、それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸
基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、置換
基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していて
もよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環残
基、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換
基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有し
ていてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよ
いアリールチオ基、置換基を有していてもよいアルキル
アミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ
基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニ
ル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボ
ニル基、置換基を有していてもよいアルキルカルボキサ
ミド基、置換基を有していてもよいアリールカルボキサ
ミド基、置換基を有していてもよいアルキルカルバモイ
ル基、置換基を有していてもよいアリールカルバモイル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基等が挙げら
れる。

【００２７】アルキル基は炭素数が１〜９（直鎖または
分岐状）、３〜１４（環状）のものが適当であり、その
具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−
デシル基等の直鎖状アルキル基、イソブチル基、イソア
ミル基、２−メチルブチル基、２−メチルペンチル基、
３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−エ
チルブチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル
基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、２
−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチ
ルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、２−エチルヘキ
シル基、３−エチルヘキシル基、イソプロピル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチ
ル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−メチルヘプチ
ル基、１−エチルブチル基、１，３−ジメチルブチル
基、１，２−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチ
ルプロピル基、１−メチルヘキシル基、１−エチルヘプ
チル基、１−プロピルブチル基、１−イソプロピル−２
−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルブチル
基、１−プロピル−２−メチルプロピル基、１−エチル
ヘキシル基、１−プロピルペンチル基、１−イソプロピ
ルペンチル基、１−イソプロピル−２−メチルブチル
基、１−イソプロピル−３−メチルブチル基、１−メチ
ルオクチル基、１−プロピルヘキシル基、１−イソブチ
ル−３−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−アミル
基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の分岐状アルキル基、シク
ロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチ
ルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキ
シル基、４−（２−エチルヘキシル）シクロヘキシル
基、ボルニル基、イソボルニル基（アダマンチル基）等
のシクロアルキル基等が挙げられる。

【００２８】前記アルキル基は、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい
複素環残基等を以て置換されていても良い。また酸素、
硫黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基またはア
リール基で置換されていてもよい。

【００２９】酸素を介して置換されているアルキル基と
しては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エ
トキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシプロピル基等が、硫黄を介して
置換されているアルキル基としては、メチルチオエチル
基、エチルチオエチル基、エチルチオプロピル基、フェ
ニルチオエチル基等が、窒素を介して置換されているア
ルキル基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチル
アミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基等が挙げら
れる。

【００３０】アリール基の具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フ
ェナレニル基、フェナントリル基、トリフェニレニル
基、ピレニル基等が挙げられる。

【００３１】前記アリール基は、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい
複素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、
硫黄、窒素等の原子を介してあるいは直接前記のアルキ
ル基で置換されていてもよい。

【００３２】複素環残基の具体例としては、フリル基、
チエニル基、ピロリル基、ベンゾフリル基、イソベンゾ
フラニル基、ベンゾチエニル基、インドリニル基、イソ
インドリニル基、カルバゾリル基、ピリジル基、ピペリ
ジル基、キノリル基、イソキノリル基、オキサゾリル
基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリ
ル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ベンゾイミダゾ
リル基、ピラジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基、キノキサリニル基等が挙げられる。

【００３３】前記複素環残基は、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい
複素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、
硫黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基で置換さ
れていてもよい。

【００３４】ハロゲン原子の具体例としては、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。

【００３５】アルコキシ基は、酸素原子に直接置換基を
有していてもよいアルキル基が結合されているものであ
ればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例を
挙げることができる。

【００３６】アリールオキシ基は、酸素原子に直接置換
基を有していてもよいアリール基が結合されているもの
であればよく、アリール基の具体例としては前述の具体
例を挙げることができる。

【００３７】アルキルチオ基は、硫黄原子に直接置換基
を有していてもよいアルキル基が結合されているもので
あればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例
を挙げることができる。

【００３８】アリールチオ基は、硫黄原子に直接置換基
を有していてもよいアリール基が結合されているもので
あればよく、アリール基の具体例としては前述の具体例
を挙げることができる。

【００３９】アルキルアミノ基は、窒素原子に直接置換
基を有していてもよいアルキル基が結合されているもの
であればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体
例を挙げることができる。また、アルキル基同士が結合
し、酸素原子、窒素原子等を含んでピペリジノ基、モル
ホリノ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、インドリ
ニル基、イソインドリニル基等の様に環を形成していて
も良い。

【００４０】アリールアミノ基は、窒素原子に直接置換
基を有していてもよいアリール基が結合されているもの
であればよく、アリール基の具体例としては前述の具体
例を挙げることができる。

【００４１】アルコキシカルボニル基は、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）
の酸素原子に直接置換基を有していてもよいアルキル基
が結合されているものであればよく、アルキル基の具体
例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４２】アリールオキシカルボニル基は、Ｏ（Ｃ＝
Ｏ）の酸素原子に直接置換基を有していてもよいアリー
ル基が結合されているものであればよく、アリール基の
具体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４３】アルキルカルボキサミド基は、カルボキシ
サミドの炭素原子に直接置換基を有していてもよいアル
キル基が結合されているものであればよく、アルキル基
の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４４】アリールカルボキサミド基は、カルボキシ
サミドの炭素原子に直接置換基を有していてもよいアリ
ール基が結合されているものであればよく、アリール基
の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４５】アルキルカルバモイル基は、カルバモイル
基の窒素原子に直接置換基を有していてもよいアルキル
基が結合されているものであればよく、アルキル基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。ま
た、アルキル基同士が結合し、酸素原子、窒素原子等を
含んでピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジニル基、
ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基
等の様に環を形成していても良い。

【００４６】アリールカルバモイル基は、カルバモイル
基の窒素原子に直接置換基を有していてもよいアリール
基が結合されているものであればよく、アリール基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４７】アルキルスルファモイル基は、スルファモ
イル基の窒素原子に直接置換基を有していてもよいアル
キル基が結合されているものであればよく、アルキル基
の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００４８】Ｂの具体例は、ベンゼン環、ナフタレン
環、ピリジン環、キノリン環等を形成する残基が挙げら
れる。これらの芳香環又は複素環は置換基を有していて
も良い。その置換基の具体例は、先に挙げたＡの置換基
の具体例の中から選ばれる。

【００４９】Ｘの活性水素基を有する置換基の具体例と
しては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アルキル
カルボキサミド基、アリールカルボキサミド基、アルキ
ルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、カル
バモイル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバ
モイル基、スルホ基、スルフィノ基、スルフェノ基、ス
ルファモイル基、チオール基等があげられる。

【００５０】アルキルカルボキサミド基、アリールカル
ボキサミド基、アルキルカルバモイル基およびアリール
カルバモイル基の具体例としては、前述の具体例を挙げ
ることができる。

【００５１】アルキルスルホンアミド基の具体例は、ス
ルホンアミドの硫黄原子に直接置換基を有していてもよ
いアルキル基が結合されているものであればよく、アル
キル基の具体例としては前述の具体例を挙げることがで
きる。

【００５２】アリールスルホンアミド基の具体例は、ス
ルホンアミドの硫黄原子に直接置換基を有していてもよ
いアリール基が結合されているものであればよく、アリ
ール基の具体例としては前述の具体例を挙げることがで
きる。

【００５３】金属原子の具体例としては、アルミニウ
ム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバ
ルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、モ
リブデン、テクネチウム、ルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム等が挙げられ、マンガン、コバルト、ニッケル、
銅のアゾ金属キレート化合物は、光記録材料として光学
特性が優れている。

【００５４】本発明の光記録媒体では、記録再生波長に
６００〜７２０ｎｍのレーザー光を用いることが好まし
いが、この波長での光学特性等から、スクアリリウム化
合物の中でも一般式（II）または一般式（Ｖ）で表され
る化合物が好ましい。

【００５５】次に一般式（II）〜（Ｖ）における基の定
義を説明する。一般式（II）〜（Ｖ）の基の定義におい
て、アルキル基およびアルコキシ基におけるアルキル部
分としては、直鎖あるいは分岐状の炭素数１〜６のアル
キル基あるいは炭素数３〜８の環状アルキル基が挙げら
れ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

【００５６】アリール基およびアラルキル基のアリール
部分としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アン
トリル基等が挙げられる。

【００５７】アラルキル基としては、炭素数７〜１５の
アラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フ
ェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ベンズヒドリル
基等が挙げられる。

【００５８】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素の各原子が挙げられる。

【００５９】複素環基における複素環、ならびにＲ₁₃お
よびＲ₁₄またはＲ₁₇およびＲ₁₈が隣接する（２つの）炭
素原子と一緒になって形成する複素環としては、芳香族
複素環および脂環式複素環が挙げられる。

【００６０】芳香族複素環としては、例えば窒素原子、
酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の
原子を含む５員または６員の単環性芳香族複素環、３〜
８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素
原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子
を含む縮環性芳香族複素環等が挙げられ、より具体的に
はピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン
環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナ
ゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリ
ン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、ト
リアゾール環、テトラゾール環、チオフェン環、フラン
環、チアゾール環、オキサゾール環、インドール環、イ
ソインドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール
環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベン
ゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環等が挙げ
られる。

【００６１】脂環式複素環としては、例えば窒素原子、
酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の
原子を含む５員または６員の単環性脂環式複素環、３〜
８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素
原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子
を含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、より具体的に
はピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホ
リン環、チオモルホリン環、ホモピペリジン環、ホモピ
ペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキ
ノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロ
フラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロベンゾフラ
ン環、テトラヒドロカルバゾール環等が挙げられる。

【００６２】Ｒ₁およびＲ₂、またはＲ₄およびＲ₅が隣接
する窒素原子と一緒になって形成する複素環、ならびに
Ｒ₄およびＲ₆、またはＲ₅およびＲ₇が隣接するＮ−Ｃ−
Ｃと一緒になって形成する複素環としては、窒素原子を
含む芳香族複素環および窒素原子を含む脂環式複素環が
挙げられる。

【００６３】窒素原子を含む芳香族複素環としては、例
えば窒素原子を少なくとも１個含む５員または６員の単
環性芳香族複素環、３〜８員の環が縮合した二環または
三環性で窒素原子を少なくとも１個を含む縮環性芳香族
複素環等が挙げられ、より具体的にはピリジン環、ピラ
ジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イ
ソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサ
リン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、
ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テト
ラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、インドー
ル環、イソインドール環、インダゾール環、ベンズイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール
環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環
等が挙げられる。

【００６４】窒素原子を含む脂環式複素環としては、例
えば窒素原子を少なくとも１個含む５員または６員の単
環性脂環式複素環、３〜８員の環が縮合した窒素原子を
少なくとも１個含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、
より具体的にはピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジ
ン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ホモピペリジ
ン環、ホモピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テ
トラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、
テトラヒドロカルバゾール環等が挙げられる。

【００６５】Ｒ₁₃およびＲ₁₄またはＲ₁₇およびＲ₁₈が隣
接する（２つの）炭素原子と一緒になって形成する脂環
式炭化水素環としては、炭素数３〜８のものが挙げら
れ、飽和または不飽和のものであってもよく、例えば、
シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン
環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオク
タン環、シクロペンテン環、１，３−シクロペンタジエ
ン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等が挙
げられる。

【００６６】Ｒ₁₃およびＲ₁₄が隣接する２つの炭素原子
と一緒になって形成する芳香族環としては、炭素数６〜
１４のものが挙げられ、例えば、ベンゼン環、ナフタレ
ン環、アントラセン環等が挙げられる。

【００６７】アリール基、アラルキル基、複素環基、芳
香族環、窒素原子を含む複素環または複素環の置換基と
しては、同一または異なって１〜置換可能数、好ましく
は１〜５個の置換基、例えば、水酸基、カルボキシル
基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキル基、アラルキル
基、シアノ基、ハロゲン原子、−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ（Ａｒ
は、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
ル基、あるいはシアノ基またはハロゲン原子等の置換基
で置換されていてもよいアリール基を表す。）、−ＣＨ
＝ＣＨ−Ａｒ（Ａｒは前記と同義である。）等が挙げら
れる。アルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、アリ
ール基およびハロゲン原子としては、前記と同様のもの
が挙げられる。

【００６８】アルキル基またはアルコキシ基の置換基と
しては、同一または異なって１〜置換可能数、好ましく
は１〜３個の置換基、例えば、水酸基、カルボキシル
基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原
子等が挙げられる。アルコキシ基、アラルキル基、アリ
ール基およびハロゲン原子としては、前記と同様のもの
が挙げられる。

【００６９】アミノ基の置換基としては、同一または異
なって１〜２個の置換基、例えば、アルキル基、アリー
ル基等が挙げられる。アルキル基およびアリール基とし
ては、前記と同様のものが挙げられる。

【００７０】以下、本発明で使用するスクアリリウム化
合物の製造法を一般式（II）および（Ｖ）で表される化
合物を例に挙げて説明する。以下、一般式（II）または
（Ｖ）で表される化合物をそれぞれ化合物（II）、化合
物（Ｖ）と表現することもある。他の式番号の化合物に
ついても同様である。

【００７１】反応式（１−ａ）

【化１１】

【００７２】反応式（１−ｂ）

【化１２】

【００７３】反応式（１−ｃ）

【化１３】

【００７４】反応式（２−ａ）

【化１４】

【００７５】反応式（２−ｂ）

【化１５】

【００７６】反応式（２−ｃ）

【化１６】 化合物（Ｇ）＋ Ｒ₃−Ｈ（Ｂ） → 化合物（II）

【００７７】［式中、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃はそれぞれ前
記と同義であり、Ｙは、塩素、臭素等のハロゲン原子ま
たはＯＲ₂₁（式中、Ｒ₂₁はアルキル基を表す。Ｒ₂₁の定
義におけるアルキル基としては、一般式（II）〜（Ｖ）
におけるアルキル基と同様のものがあげられる。）を表
す。］

【００７８】反応式（１−ａ） 化合物（Ｃ）は、化合物（Ａ）と０．４〜２倍モルの化
合物（Ｂ）とを、要すれば０．４〜２倍モルの塩基存在
下、溶媒中、室温で１〜４時間反応させることにより得
られる。溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、ジエチルエ
ーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、トルエン、ベンゼン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等が例示される。塩基として
は、キノリン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基または炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基が例示される。

【００７９】反応式（１−ｂ） 化合物（Ｄ）は、化合物（Ｃ）を５０〜９０容量／重量
％の酢酸水溶液中で、９０〜１１０℃で１〜７時間、あ
るいは５０〜９９重量％のトリフルオロ酢酸水溶液また
は濃硫酸中で、４０〜６０℃で１〜３時間反応させるこ
とにより得られる。

【００８０】反応式（１−ｃ） 化合物（II）は、化合物（Ｄ）と０．５〜２倍モルの化
合物（Ｅ）とを、要すれば１．０〜２．０倍モルの塩基
存在下で、８０〜１２０℃で１〜１５時間反応させるこ
とにより得られる。溶媒としては、例えば、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、オ
クタノール等の炭素数２〜８のアルコール系溶媒のみ、
または該アルコール系溶媒とベンゼンもしくはトルエン
との混合溶媒（アルコール５０容量／容量％以上）等が
用いられる。塩基としては、例えばキノリン、トリエチ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基または炭酸カリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が
用いられる。

【００８１】反応式（２−ａ） 化合物（Ｆ）は、化合物（Ｂ）の代わりに化合物（Ｅ）
を用いる以外は、前記の反応式（１−ａ）と同様の操作
をすることによって得ることができる。

【００８２】反応式（２−ｂ） 化合物（Ｇ）は、化合物（Ｃ）の代わりに化合物（Ｆ）
を用いる以外は、前記の反応式（１−ｂ）と同様の操作
をすることによって得ることができる。

【００８３】反応式（２−ｃ） 化合物（II）は、化合物（Ｄ）の代わりに化合物（Ｇ）
を、化合物（Ｅ）の代わりに化合物（Ｂ）を用いる以外
は、前記の反応式（１−ｃ）と同様の操作をすることに
よって得ることができる。

【００８４】反応後、化合物（II）は、例えば、溶媒の
留去あるいは濾過を行い、必要により有機合成化学で通
常用いられる方法（カラムクロマトグラフィー、再結晶
または溶媒での洗浄等）でさらに精製処理することによ
り、単離精製される。

【００８５】反応式（３−ａ）

【化１７】

【００８６】反応式（３−ｂ）

【化１８】

【００８７】反応式（３−ｃ）

【化１９】

【００８８】反応式（４−ａ）

【化２０】

【００８９】反応式（４−ｂ）

【化２１】

【００９０】反応式（４−ｃ）

【化２２】化合物（Ｐ）＋ 化合物（Ｈａ）又は化合物
（Ｈｂ）→ 化合物（Ｖ）

【００９１】［式中、Ｑ₂、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、
Ｒ₁₉、Ｒ₂₀およびｎはそれぞれ前記と同義であり、Ｘ
は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、またはトシ
ル基、メシル基等を表し、Ｙは前記と同義である。］

【００９２】反応式（３−ａ） 化合物（Ｊ）は、化合物（Ａ）と１〜２倍モルの化合物
（Ｈａ）または（Ｈｂ）とを、要すれば１〜２倍モルの
塩基存在下、溶媒中、０℃〜室温で３０分〜７０時間反
応させることにより得られる。溶媒としては、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、酢酸
エチル、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチル
エーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、ベンゼン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が例示
される。塩基としては、キノリン、トリエチルアミン、
ピリジン等の有機塩基または炭酸水素カリウム、炭酸水
素ナトリウム等の無機塩基が例示される。

【００９３】反応式（３−ｂ） 化合物（Ｋ）は、化合物（Ｊ）を５０〜９０容量／容量
％の酢酸水溶液中で、９０〜１１０℃で１〜７時間、あ
るいは５０〜９９重量％のトリフルオロ酢酸水溶液中
で、４５〜５０℃で１〜３時間反応させることにより得
られる。

【００９４】反応式（３−ｃ） 化合物（Ｖ）は、化合物（Ｋ）と０．５〜２倍モルの化
合物（Ｌ）とを、必要に応じて、０．５〜２倍モルの塩
基存在下、溶媒中、８０〜１２０℃で１〜１５時間反応
させることにより得られる。溶媒としては、例えば、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、オクタノール等の炭素数２〜８のアルコール系溶媒
のみ、または該アルコール系溶媒とベンゼンもしくはト
ルエンとの混合溶媒（アルコール５０容量／容量％以
上）等が用いられる。塩基としては、例えばキノリン、
トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基または炭酸カ
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基が用いられる。

【００９５】反応式（４−ａ） 化合物（Ｍ）は、化合物（Ｈａ）または（Ｈｂ）の代わ
りに化合物（Ｌ）を用いる以外は、前記の反応式（３−
ａ）と同様の操作をすることによって得ることができ
る。

【００９６】反応式（４−ｂ） 化合物（Ｐ）は、化合物（Ｊ）の代わりに化合物（Ｍ）
を用いる以外は、前記の反応式（３−ｂ）と同様の操作
をすることによって得ることができる。

【００９７】反応式（４−ｃ） 化合物（Ｖ）は、化合物（Ｋ）の代わりに化合物（Ｐ）
を、化合物（Ｌ）の代わりに化合物（Ｈａ）または化合
物（Ｈｂ）を用いる以外は、前記の反応式（３−ｃ）と
同様の操作をすることによって得ることができる。

【００９８】反応後、化合物（Ｖ）は、例えば、溶媒の
留去あるいは濾過を行い、必要により有機合成化学で通
常用いられる方法（カラムクロマトグラフィー、再結晶
または溶媒での洗浄等）でさらに精製処理することによ
り、単離精製される。

【００９９】次に本発明の光記録媒体の記録層を構成す
るのに必要な項目として、光学特性が上げられる。光学
特性に必要な条件としては、記録再生波長である６３０
ｎｍ〜６７０ｎｍに対して短波長側に大きな吸収帯を有
し、かつ記録再生波長が該吸収帯の長波長端近傍にある
ことが好ましい。これは、記録再生波長である６３０ｎ
ｍ〜６７０ｎｍで大きな屈折率と消衰係数を有すること
が好ましいということである。

【０１００】具体的には、記録再生波長±５ｎｍの波長
領域の光に対する記録層単層の屈折率ｎが１．５以上
３．０以下であり、消衰係数ｋが０．０２以上０．３以
下の範囲にあることが好ましい。ｎが１．５以上の場合
には、十分な光学的変化が得られるため、記録変調度が
高くなるため好ましく、ｎが３．０以下の場合には、波
長依存性が高くならず、記録再生波長領域であってもエ
ラーになりにくく好ましい。また、ｋが０．０２以上の
場合には、記録感度が良くなるため好ましく、ｋが０．
３以下の場合には、５０％以上の反射率を得やすく好ま
しい。

【０１０１】基板は通常、深さ１０００〜２５００Åの
案内溝を有している。トラックピッチは、通常、０．７
〜１．０μｍであるが、高容量化の用途には０．７〜
０．８μｍが好ましい。溝幅は、半値幅で０．１８〜
０．４０μｍが好ましい。０．１８μｍ以上では十分な
トラッキングエラー信号強度を得やすく好ましい。ま
た、０．４０μｍ以下の場合には、記録したときに記録
部が横に広がりにくく好ましい。

【０１０２】次に、本発明の記録媒体の構成について述
べる。図１は、本発明の記録媒体に適用し得る層構成例
を示す図で、これは追記型光ディスクの例である。基板
１の上に、必要に応じて下引き層３を介して、記録層２
を設け、更に必要に応じ保護層４が設けられている。ま
た、必要に応じて基板１の下にハードコート層５を設け
ることができる。

【０１０３】図２は、本発明の記録媒体に適用し得る別
のタイプの層構成例を示す図で、これはＣＤ−Ｒメディ
アの例である。図１の構成の記録層２の上に反射層６が
設けられている。

【０１０４】図３は、本発明の記録媒体に適用し得る別
のタイプ（ＤＶＤ−Ｒ用）の層構成例を示す図で、この
場合、図２の構成の保護層４の上に接着層８と保護基板
７が設けられている。

【０１０５】即ち、本発明の記録媒体は、図１及び図２
に示した構成の記録層（有機薄膜層）を内側にして、他
の基板と空間を介して密封したエアーサンドイッチ構造
にすることもできるし、また保護層を介して接着した貼
合せ構造にすることもできる。

【０１０６】本発明の記録媒体をＤＶＤ−Ｒ用として適
用する場合の記録媒体の構成としては、第一の基板と第
二の基板（以降第１基板、第２基板と記すことがある）
とを記録層を介して接着剤で張り合わせた構造を基本構
造とする。記録層は有機色素単層でもよく、反射層を高
めるため有機色素層と金属反射層との積層でもよい。記
録層と基板間は下引き層あるいは保護層を介して層成し
てもよく、機能向上のためそれらを積層化した構成でも
よい。最も通常に用いられるのは、第１基板／有機色素
層／金属反射層／保護層／接着層／第２基板構造であ
る。

【０１０７】＜基板＞基板の必要特性としては基板側よ
り記録再生を行う場合のみ使用レーザー光に対して透明
でなければならず、記録層側から記録、再生を行う場合
基板は透明である必要はない。従って、本発明では、基
板２枚をサンドイッチ状で用いる場合は、例えば一方の
基板（第２の基板）のみが透明であれば、他方の基板
（第１の基板）の透明、不透明は問わない。

【０１０８】基板材料としては例えば、ポリエステル、
アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リイミド等のプラスチック、ガラス、セラミックあるい
は金属等を用いることができる。

【０１０９】なお、基板を１層しか用いない場合はその
基板表面に、また基板２枚をサンドイッチ状で用いる場
合は第１の基板の表面に、トラッキング用の案内溝や案
内ピット、さらにアドレス信号等のプレフォーマットが
形成されていても良い。

【０１１０】＜記録層＞記録層はレーザー光の照射によ
り何らかの光学的変化を生じ、その変化により情報を記
録できるものであって、この記録層中には前記の本発明
の特徴とする色素混合物［スクアリリウム化合物と化合
物（Ｉ）の混合物］が含有されていることが必要で、記
録層の形成にあたっては前記本発明の特徴とする色素を
１種ずつ、又は複数の組合せで用いてもよい。さらに、
本発明の特徴とする前記色素の他に、光学特性、記録感
度、信号特性等の向上の目的で他の有機色素と混合又は
積層化しても良い。

【０１１１】このような他の有機色素の例としては、ポ
リメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン
系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、
アントラキノン（インダンスレン）系、キサンテン系、
トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリ
ン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系染料、
及び金属キレート化合物等が挙げられ、これら色素は単
独で用いてもよいし、２種以上の組合せにしてもよい。

【０１１２】前記色素中に金属、金属化合物例えば、Ｉ
ｎ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｂ
ｅ、ＴｅＯ₂、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄ等を分散混合あるは
積層の形態で用いることもできる。さらに、前記色素中
に高分子材料例えば、アイオノマー樹脂、ポリアミド系
樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴ
ム等の種々の材料もしくはシランカップリング剤等を分
散混合して用いてもよいし、あるいは特性改良の目的で
安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃剤、滑
剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を一緒に用いる
こともできる。

【０１１３】記録層の形成は蒸着、スパッタリング、Ｃ
ＶＤまたは溶液塗布等の通常の手段によって行うことが
できる。塗布法を用いる場合には前記染料等を有機溶剤
等に溶解してスプレー、ローラーコーティング、ディッ
ピングおよび、スピンコーティング等の慣用のコーティ
ング法によって行われる。

【０１１４】用いられる有機溶剤としては一般にメタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタン等の脂肪族ハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、キシレン、モノクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類、メトキシエ
タノール、エトキシエタノール等のセロソルブ類、ヘキ
サン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン等の炭化水素類等が挙げられる。

【０１１５】記録層の膜厚は好ましくは１００Å〜１０
μｍ、より好ましくは２００Å〜２０００Åが適当であ
る。

【０１１６】＜下引き層＞下引き層は（ａ）接着性の向
上、（ｂ）水又はガス等のバリアー、（ｃ）記録層の保
存安定性の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤から
の基板や記録層の保護、（ｆ）案内溝・案内ピット・プ
レフォーマット等の形成等を目的として使用される。

【０１１７】（ａ）の目的に対しては高分子材料、例え
ばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、
天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々
の高分子物質、およびシランカップリング剤等を用いる
ことができ、（ｂ）及び（ｃ）の目的に対しては、前記
高分子材料以外に無機化合物、例えばＳｉＯ₂、Ｍｇ
Ｆ₂、ＳｉＯ、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＮ、ＳｉＮ等、さ
らに金属、又は半金属、例えばＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃ
ｒ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ等を用いることがで
きる。また（ｄ）の目的に対しては金属、例えばＡｌ、
Ａｇ等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染
料、キサンテン系染料等を用いることができ、（ｅ）及
び（ｆ）の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹
脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。

【０１１８】下引き層の膜厚は好ましくは０．０１〜３
０μｍ、より好ましくは０．０５〜１０μｍが適当であ
る。

【０１１９】＜金属反射層＞金属反射層の材料として
は、単体で高反射率の得られる腐食されにくい金属、半
金属等が挙げられ、これの具体例としてはＡｕ、Ａｇ、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｃｕ等が挙げられる
が、反射率、生産性の点からＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕが
最も好ましく、これらの金属、半金属は単独で使用して
も良く、２種以上の合金としても良い。

【０１２０】金属反射層の膜形成法としては蒸着、スパ
ッタリング等が挙げられ、膜厚は、好ましくは５０〜５
０００Å、より好ましくは１００〜３０００Åである。

【０１２１】＜保護層、基板表面ハードコート層＞保護
層、又は基板表面ハードコート層は（ａ）記録層（反射
吸収層）の傷、ホコリ、汚れ等からの保護、（ｂ）記録
層（反射吸収層）の保存安定性の向上、（ｃ）反射率の
向上等を目的として使用される。これらの目的に対して
は、前記下引き層に示した材料を用いることができる。
また、無機材料としてＳｉＯ、ＳｉＯ₂等も用いること
ができ、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリ
カーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエス
テル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹
脂、芳香族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエ
ン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹
脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂、紫外
線硬化樹脂も用いることができる。前記材料のうち保護
層、又は基板表面ハードコート層に最も好ましい例とし
ては生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。

【０１２２】保護層又は基板表面ハードコート層の膜厚
は好ましくは０．０１〜３０μｍ、より好ましくは０．
０５〜１０μｍが適当である。

【０１２３】本発明においては、前記下引き層、保護
層、及び基板表面ハードコート層には記録層の場合と同
様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界
面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。

【０１２４】＜保護基板＞保護基板はこの保護基板側か
らレーザー光を照射する場合、使用レーザー光に対し透
明でなくてはならず、単なる保護板として用いる場合、
透明性は問わない。使用可能な基板材料は前記の基板材
料と全く同様であり、ポリエステル、アクリル樹脂、ポ
リアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等のプ
ラスチック又は、ガラス、セラミックあるいは、金属等
を用いることができる。

【０１２５】＜接着材、接着層＞２枚の記録媒体を接着
できる材料なら何でもよく、生産性を考えると、紫外線
硬化型もしくはホットメルト型接着剤が好ましい。

【０１２６】

【実施例】以下、本発明の実施例および比較例を示す。
これら実施例および比較例で得られる光記録媒体の評価
結果を下表１に示す。なお、実施例および比較例で使用
する化合物例は下表２〜６に記載のものである。

【０１２７】（実施例１）溝深さ１７００Å、半値幅
０．２３μｍ、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を
有する厚さ０．６ｍｍ射出成形ポリカーボネート基板上
に、化合物例Ａ−３とＢ−４の混合物（混合比は表１参
照）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに
溶解させ、その溶液をスピンナー塗布して厚さ９００Å
の有機色素層を形成し、次いでスパッタ法により銀１３
００Åの反射層を設け、その上にアクリル系フォトポリ
マーにて６μｍの保護層を設けた。さらに厚さ０．６ｍ
ｍの射出成形ポリカーボネート基板をアクリルフォトポ
リマーにて接着し、本発明による光記録媒体とした。

【０１２８】（実施例２〜１０）下表１に示すような組
合わせの色素を用いて、実施例１と全く同様に本発明に
よる光記録媒体を形成した。

【０１２９】前記実施例の光記録媒体を下記記録条件で
記録し、下記耐候テスト条件でテストを行い、その評価
結果を下記表１に示した。 ＜記録条件＞この記録体に発振波長６５８ｎｍ、ビーム
径１．０μｍの半導体レーザ光を用い、トラッキングし
ながらＥＦＭ信号（線速３．５ｍ／ｓｅｃ）を記録し、
発振波長６５８ｎｍの半導体レーザの連続光（再生パワ
ー０．７ｍＷ）で再生し、再生波形を観察した。

【０１３０】（比較例１）スクアリリウム化合物である
Ｂ−１１のみを用い、実施例１と全く同時に光記録媒体
を形成した。 ＜耐候テスト条件＞ 耐光テスト：４万Ｌｕｘ、Ｘｅ光、１０時間連続照射 保存テスト：５０℃、８０％、６００時間放置

【０１３１】

【表１】

【０１３２】

【表２】

【０１３３】

【表３】

【０１３４】

【表４】

【０１３５】

【表５】

【０１３６】

【表６】

【０１３７】

【発明の効果】１）請求項１〜４、８ ６７０ｎｍ以下の波長域のレーザー光で記録、再生が可
能で、耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体が提供で
きた。特に、スクアリリウム化合物を単独で用いたもの
に比べ、耐光性の優れた光記録媒体の提供が可能となっ
た。 ２）請求項５〜６ 前記第１の効果に加えて、安定した高反射率かつ高変調
度で記録再生できる光記録媒体が提供できた。 ３）請求項７ 前記第１の効果に加えて、安定した記録及び再生のでき
る光記録媒体が提供できた。 ４）請求項９ 前記第１の効果を奏することのできる光記録方法の提供
が可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の記録媒体に適用し
得る通常の追記型光記録媒体の構成を表す断面模式図で
ある。

【図２】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の記録媒体に適用し
得る高反射率型（ＣＤ−Ｒ用）光記録媒体の構成を表す
断面模式図である。

【図３】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の記録媒体に適用し
得る大容量反射率（ＤＶＤ−Ｒ用）光記録媒体の構成を
表す断面模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 記録層（有機色素層） ３ 下引き層 ４ 保護層 ５ ハードコート層 ６ 金属反射層 ７ 保護基板 ８ 接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３８ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１Ｎ ５６１ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ (72)発明者 野口 宗 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 佐藤 勉 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 戸村 辰也 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 笹 登 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 東 康弘 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 清水 幾夫 三重県四日市市大協町二丁目３番地 協和 油化株式会社四日市研究所内 (72)発明者 豊田 浩 三重県四日市市大協町二丁目３番地 協和 油化株式会社四日市研究所内 (72)発明者 衣笠 元晴 三重県四日市市大協町二丁目３番地 協和 油化株式会社四日市研究所内 (72)発明者 山田 志保 三重県四日市市大協町二丁目３番地 協和 油化株式会社四日市研究所内 (72)発明者 生田 昌徳 三重県四日市市大協町二丁目３番地 協和 油化株式会社四日市研究所内 (72)発明者 武藤 健治 東京都千代田区大手町一丁目６番１号 協 和醗酵工業株式会社本社内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA32 EA39 EA40 EA43 FA01 FA12 FA23 FB42 FB48 4H056 CA01 CC02 CC08 CE01 CE03 DD03 5D029 JA04 JC06 MA13 WB11

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に少なくとも記録層を設けてなる
   光記録媒体において、該記録層中にスクアリリウム化合
   物と、下記一般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と金属か
   らなるアゾ金属キレート化合物とを、それぞれ少なくと
   も一種類含有していることを特徴とする光記録媒体。 【化１】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
   と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｂはそれ
   が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
   は複素環を形成する残基を表し、Ｘは活性水素を有する
   置換基を表す。）
2. 【請求項２】 スクアリリウム化合物とアゾ金属キレー
   ト化合物が重量比で９０：１０〜２０：８０であること
   を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 アゾ金属キレート化合物の金属原子が、
   マンガン、コバルト、ニッケル及び銅よりなる群から選
   ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項１
   又は２記載の光記録媒体
4. 【請求項４】 スクアリリウム化合物が下記一般式（I
   I） 【化２】 〔式中、Ｒ₁およびＲ₂は同一または相異なって、水素原
   子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
   していてもよいアラルキル基、あるいは置換基を有して
   いてもよいアリール基を表す。また、Ｒ₁およびＲ₂は隣
   接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよ
   い複素環を形成してもよい。Ｒ₃は、下記一般式（III）
   または（IV）を表す： 【化３】 ［式中、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相異なって、水素原
   子あるいはアルキル基を表すか、またはＲ₄とＲ₅は隣接
   する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい
   複素環を形成し、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉は、同一また
   は相異なって、水素原子、置換基を有していてもよいア
   ルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、水
   酸基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ₄およびＲ₆、また
   はＲ₅およびＲ₇は、隣接するＮ−Ｃ−Ｃと一緒になって
   窒素原子を含む複素環を形成してもよく、該複素環は置
   換基を有していてもよい］ 【化４】 ［式中、Ｑ₁は炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ₁₀お
   よびＲ₁₁は同一または相異なって、水素原子、置換基を
   有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
   いアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基
   または水酸基（ただし、Ｑ₁が窒素原子である場合、Ｒ
   ₁₁は存在しない）を表し、Ｒ₁₂は、水素原子、置換基を
   有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
   いアリール基または置換基を有していてもよいアラルキ
   ル基を表し、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は同一または異なって、水
   素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコ
   キシ基またはハロゲン原子を表すか、またはＲ₁₃および
   Ｒ₁₄が隣接する２つの炭素原子と一緒になって、脂環式
   炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族環または
   置換基を有していてもよい複素環を形成する。］〕で表
   される化合物であるか、または下記一般式（Ｖ） 【化５】 ［式中、Ｑ₂は炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ
   ₁₅は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
   基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基
   を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ₁₆は水素原子、
   ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
   置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有し
   ていてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい
   アリール基、置換基を有していてもよいアミノ基または
   置換基を有していてもよい複素環基を表す。Ｒ₁₇および
   Ｒ₁₈は、同一または相異なって、置換基を有していても
   よいアルキル基を表すか、Ｒ₁₇とＲ₁₈は隣接する炭素原
   子と一緒になって脂環式炭化水素環または複素環を形成
   してもよい。ただし、Ｑ₂が窒素原子の場合、Ｒ₁₈は存
   在しない。Ｒ₁₉は水素原子、置換基を有していてもよい
   アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基ま
   たは置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ ₂₀
   はハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル
   基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を
   有していてもよいアリール基、トリフルオロメチル基、
   ニトロ基、シアノ基、または置換基を有していてもよい
   アルコキシ基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ここ
   に、ｎが２〜４の場合、Ｒ₂₀は同一または相異なってい
   てもよく、さらに互いに隣り合う２つのＲ₂₀が隣接する
   ２つの炭素原子と一緒になって置換基を有していてもよ
   い芳香族環を形成していてもよい］で表される化合物で
   あることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
   光記録媒体。
5. 【請求項５】 記録再生波長±５ｎｍの波長領域の光に
   対する記録層単層の屈折率ｎが１．５≦ｎ≦３．０、消
   衰係数ｋが０．０２≦ｋ≦０．３であることを特徴とす
   る請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 反射層を有し、該反射層が金、銀、銅、
   アルミニウム、またはこれらの金属の合金である請求項
   １〜５のいずれかに記載の光記録媒体。
7. 【請求項７】 基板上のトラックピッチが０．７〜０．
   ８μｍであり、溝幅が半値幅で、０．１８〜０．４０μ
   ｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
   載の光記録媒体。
8. 【請求項８】 ６００〜７２０ｎｍの波長で記録再生可
   能なことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の
   光記録媒体。
9. 【請求項９】 請求項１〜８のいずれかに記載の光記録
   媒体に６００〜７２０ｎｍの記録波長で記録することを
   特徴とする光記録方法。