JP2001319382A - 光学記録媒体原盤の露光装置、光学記録媒体原盤の露光方法、光学ピックアップ、並びに光記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ピットやグルーブ等の凹凸パターンを高精度
に形成することができる光学記録媒体原盤の露光装置及
び露光方法を提供し、また高い記録密度で光ディスクに
記録を行うことができる光学ピックアップ、並びに光記
録方法を提供する。 【解決手段】 レーザ光を出射する半導体レーザもしく
はガスレーザと光ファイバー8を備えた対物部7とを有
し、光ファイバー8の射出端面7Aにレーザ光の波長λより
小さい開口が形成された光学記録媒体原盤10の露光装置
を構成する。また、基体上のフォトレジストと射出端面7A
との距離WDをレーザ光の波長λより短くした状態で、光
ファイバー8を介してフォトレジストにレーザ光を照射
して光学記録媒体原盤10の露光を行う。同様に半導体レ
ーザと光ファイバーを備えた対物部を有し、光ファイバ
ーの射出端面に、レーザ光の波長λより小さい開口が形
成された光学ピックアップを構成する。また、光学記録媒
体の記録層と光ファイバーの射出端面との距離をレーザ
光の波長λより短くした状態で、光ファイバーを介して
記録層にレーザ光を照射して情報の記録を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の光
学記録媒体の原盤に対してフォトリソグラフィーにより
微細なパターンを形成するに好適な光学記録媒体原盤の
露光装置及び露光方法、光ディスク等の光学記録媒体に
対して情報信号の記録及び／又は再生を行うに好適な光
学ピックアップ、並びに光学記録媒体に対して情報信号
の記録を行う光記録方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】一般に、例えば再生専用の光ディスクに
おいては、情報信号に対応して円形状又はフィールドト
ラック状に凸形状とされたピットが形成されている。

【０００３】また、記録可能な光ディスクにおいては、
同心円状又はスパイラル状に凹状溝であるグルーブが形
成されている。そして、このような光ディスクでは、情
報信号の記録方式として、このグルーブが形成された部
分に情報信号を記録するグルーブ記録方式、グルーブと
グルーブとの間に形成される凸部であるランドに情報信
号を記録するランド記録方式、或いはグルーブ及びラン
ドに情報信号を記録するランド・グルーブ記録方式が採
用されている。

【０００４】これら再生専用の光ディスクや記録可能な
光ディスクの製造においては、いわゆるマスタリング工
程で光ディスク原盤が形成され、この光ディスク原盤を
基にして形成されるいわゆるマスターディスク及びスタ
ンパ等が用いられて光ディスクが作製される。

【０００５】このように光ディスクを製造する際には、
ピットやグルーブに対応する凹凸が高精度に形成された
光ディスク原盤が必要である。

【０００６】尚、以下の記載において、光ディスク原盤
に形成され、光ディスクのピットに対応する部分を「ピ
ット形成部」と呼び、同様に、光ディスクのグルーブに
対応する部分を「グルーブ形成部」と呼ぶ。

【０００７】そして、光ディスク原盤を製造する際に
は、まず例えばガラス基板上に所定の厚さで塗布された
フォトレジストにレーザ光を照射して露光することによ
って、ピット形成部やグルーブ形成部にレーザ光が照射
される。このレーザ光が照射された部分のフォトレジス
トが、次の現像工程でエッチングされ、レーザ光が照射
された部分以外のフォトレジストが硬化する。これによ
って、光ディスク原盤は、所望の形状を有するピット形
成部及びグルーブ形成部が形成されることになる。

【０００８】上述のフォトレジストの露光工程では、レ
ーザ光（波長λ）を例えば開口数ＮＡ＝０．９の対物レ
ンズにより集光してフォトレジストに照射している。こ
のとき、集光されたビームの形状は、回折効果によりガ
ウシアン形状となり、その幅Ｗは、回折による制約を受
けて、Ｗ＝λ／ＮＡに依存する。即ち露光のレーザ光の
波長λと対物レンズのＮＡ（開口数）によってビームの
幅Ｗが決定される。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このため、さらなる高
密度光ディスクのために、より微細なピットやグルーブ
を実現するには、露光用レーザの短波長化もしくは対物
レンズの開口数ＮＡの拡大を進める必要がある。

【００１０】まず、露光用レーザの短波長化のために
は、レーザの安定信頼性や光学素子の耐寿命性・短波長
対応の光感光性レジスト材の選定が不可欠であるが、実
際には実現が困難になっている。

【００１１】また、対物レンズの開口数ＮＡを拡大する
と、レンズの球面収差等の光学収差の除去が困難にな
る。従って、レンズの光学収差を除去する技術を新たに
開発しなければならないため、実現するには膨大な時間
と費用がかかると予想される。

【００１２】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、ピットやグルーブ等の凹凸パターンを高精度に
形成することができる光学記録媒体原盤の露光装置及び
露光方法を提供し、また高い記録密度で光ディスクに記
録を行うことができる光学ピックアップ、並びに光記録
方法を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体原
盤の露光装置は、基体上にフォトレジストが塗布されて
成る光学記録媒体原盤に対して露光を行うものであり、
露光用レーザ光を出射する半導体レーザもしくはガスレ
ーザと、光ファイバーを備えた対物部とを有して成り、
対物部の光ファイバーの射出端面に開口が形成され、こ
の開口の大きさが露光用レーザ光の波長より小さいもの
である。

【００１４】本発明の光学記録媒体原盤の露光方法は、
基体上にフォトレジストが塗布されて成る光学記録媒体
原盤に対して露光を行う際に、半導体レーザもしくはガ
スレーザから成る露光用光源と、射出端面に開口が形成
され開口の大きさが半導体レーザもしくはガスレーザの
レーザ光の波長より小さい光ファイバーとを用いて、こ
の光ファイバーの射出端面を光学記録媒体原盤のフォト
レジストに対してレーザ光の波長より短い距離に配置し
た状態で、光ファイバーを介してレーザ光をフォトレジ
ストに照射するものである。

【００１５】本発明の光学ピックアップは、光学記録媒
体に対して情報の記録及び／又は情報の検出を行うもの
であり、記録用のレーザ光を出射する半導体レーザと、
射出端面に開口が形成され、この開口の大きさがレーザ
光の波長より小さい光ファイバーを備えた対物部とを有
して成るものである。

【００１６】本発明の光記録方法は、光学記録媒体に対
して情報の記録を行う際に、半導体レーザから成る記録
用光源と、射出端面に開口が形成されこの開口の大きさ
が半導体レーザのレーザ光の波長より小さい光ファイバ
ーとを用いて、この光ファイバーの射出端面を光学記録
媒体の記録層に対してレーザ光の波長より短い距離に配
置した状態で、光ファイバーを介してレーザ光を記録層
に照射して情報の記録を行うものである。

【００１７】上述の本発明の光学記録媒体原盤の露光装
置の構成によれば、対物部の光ファイバーの射出端面に
開口が形成され、この開口の大きさが露光用レーザ光の
波長より小さい構成とすることにより、波長より小さい
ために開口からレーザ光が出射することができず開口付
近に留まり、この開口付近に留まったレーザ光を利用し
て光学記録媒体原盤の露光を行うことができる。

【００１８】上述の本発明の光学記録媒体原盤の露光方
法によれば、射出端面に開口が形成され開口の大きさが
半導体レーザもしくはガスレーザのレーザ光の波長より
小さい光ファイバーを用いることにより、レーザ光が開
口から射出できずに開口付近に留まる。そして、光ファ
イバーの射出端面を光学記録媒体原盤のフォトレジスト
に対してレーザ光の波長より短い距離に配置した状態
で、光ファイバーを介してレーザ光をフォトレジストに
照射することにより、この射出端面の開口付近に留まっ
たレーザ光をフォトレジストに照射することができ、フ
ォトレジストにレーザ光の波長より微細なパターンで露
光を行うことができる。

【００１９】上述の本発明の光学ピックアップの構成に
よれば、対物部の光ファイバーの射出端面に開口が形成
され、この開口の大きさが記録用のレーザ光の波長より
小さい構成とすることにより、波長より小さいために開
口からレーザ光が出射することができず開口付近に留ま
り、この開口付近に留まったレーザ光を利用して光学記
録媒体に情報の記録を行うことができる。

【００２０】上述の本発明の光記録方法によれば、射出
端面に開口が形成され開口の大きさが記録用光源の半導
体レーザのレーザ光の波長より小さい光ファイバーを用
いることにより、レーザ光が開口から射出できずに開口
付近に留まる。そして、光ファイバーの射出端面を光学
記録媒体の記録層に対してレーザ光の波長より短い距離
に配置した状態で、光ファイバーを介してレーザ光を記
録層に照射することにより、この射出端面の開口付近に
留まったレーザ光を記録層に照射して、記録層に情報の
記録を行うことができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明は、基体上にフォトレジス
トが塗布されて成る光学記録媒体原盤に対して露光を行
う露光装置であって、露光用レーザ光を出射する半導体
レーザもしくはガスレーザと、光ファイバーを備えた対
物部とを有して成り、対物部の光ファイバーの射出端面
に開口が形成され、開口の大きさが露光用レーザ光の波
長より小さい光学記録媒体原盤の露光装置である。

【００２２】また本発明は、上記光学記録媒体原盤の露
光装置において、対物部の光ファイバーの射出端面と光
学記録媒体原盤のフォトレジストとの距離が露光用レー
ザの光の波長より短い状態で、露光が行われる構成とす
る。

【００２３】本発明は、基体上にフォトレジストが塗布
されて成る光学記録媒体原盤に対して露光を行う方法で
あって、半導体レーザもしくはガスレーザから成る露光
用光源と、射出端面に開口が形成され開口の大きさが半
導体レーザもしくはガスレーザのレーザ光の波長より小
さい光ファイバーとを用いて、光ファイバーの射出端面
を、光学記録媒体原盤のフォトレジストに対してレーザ
光の波長より短い距離に配置した状態で、光ファイバー
を介してレーザ光をフォトレジストに照射する光学記録
媒体原盤の露光方法である。

【００２４】本発明は、光学記録媒体に対して情報の記
録及び／又は情報の検出を行うものであって、記録用の
レーザ光を出射する半導体レーザと、射出端面に開口が
形成され開口の大きさがレーザ光の波長より小さい光フ
ァイバーを備えた対物部とを有して成る光学ピックアッ
プである。

【００２５】また本発明は、上記光学ピックアップにお
いて、対物部の光ファイバーの射出端面と光学記録媒体
記録層との距離がレーザ光の波長より短い状態で、情報
の記録及び／又は情報の検出が行われる構成とする。

【００２６】本発明は、光学記録媒体に対して情報の記
録を行う方法であって、半導体レーザから成る記録用光
源と、射出端面に開口が形成され開口の大きさが半導体
レーザのレーザ光の波長より小さい光ファイバーとを用
いて、光ファイバーの射出端面を光学記録媒体の記録層
に対してレーザ光の波長より短い距離に配置した状態
で、光ファイバーを介してレーザ光を記録層に照射して
情報の記録を行う光記録方法である。

【００２７】まず、本発明の具体的な実施の形態の説明
に先立ち、本発明の概要について説明する。本発明にお
いては、光感光性レジスト材即ちフォトレジストにレー
ザ光を照射して露光を行う際に、レーザ光を集光する対
物レンズの代わりに光ファイバーを用い、かつ光ファイ
バーの射出端面の開口の大きさ（開口が円形の場合は開
口径）を露光に用いられるレーザ光の波長λ以下に設定
する。

【００２８】さらに、フォトレジストの表面と光ファイ
バーの射出端面との距離も露光に用いられるレーザ光の
波長λ以下に設定する。

【００２９】上述のように光ファイバーの射出端面の開
口の大きさを、露光に用いられるレーザ光の波長λ以下
にすることにより、波長λの露光用レーザ光は光ファイ
バーの端面から射出することができず、質量を有する
「仮想光子」即ちエバネッセント光として、射出端面の
開口近傍に留まる。

【００３０】このエバネッセント光は、一般的には第１
媒質と第２媒質との界面で光が全反射する際に、第２媒
質中にわずかに侵入する光として定義されている。この
エバネッセント光は、光の波長以下の小さな開口で光が
散乱し回折する場合にも存在する。従って、上述のよう
に光ファイバーの射出端面の開口の大きさを露光に用い
られるレーザ光の波長λ以下にすることにより、射出端
面の開口近傍にエバネッセント光を生じる。

【００３１】そして、フォトレジストの表面と光ファイ
バーの射出端面との距離も、同様に露光に用いられるレ
ーザ光の波長λ以下とすることにより、射出端面の開口
近傍に留まっている上述のエバネッセント光の作用をフ
ォトレジスト内に及ぼして、露光を行うことが可能にな
る。

【００３２】また、本発明においては、上述したと同様
の原理を光ディスク用の光学ピックアップに適用して、
例えば情報信号の再生や情報信号の記録に用いることが
できる。このとき、光ファイバーの射出端面の開口の大
きさを、再生や記録を行うためのレーザ光の波長λ以下
とすることにより、射出端面の開口付近に留まるエバネ
ッセント光を発生させ、これを光源として光ディスクの
ピットや記録層で反射した光を検出して再生を行った
り、記録層に対して記録を行ったりすることが可能にな
る。

【００３３】続いて、本発明の具体的な実施の形態につ
いて説明する。図１は本発明の一実施の形態として光デ
ィスク原盤の露光装置の概略構成図を示す。この光ディ
スク原盤の露光装置１は、光感光性レジスト材即ちフォ
トレジストにレーザ光を照射して露光を行うことによ
り、光ディスク原盤のピットやグルーブのパターンを形
成するものである。

【００３４】この露光装置１は、レーザ光を出射するレ
ーザ光源２と、光カプラ３と、レンズやミラー等から成
る光リレー系４と、レーザ光の変調や光量を調整する変
調／光量調整素子５と、変調／光量調整素子５を制御す
る変調／光量調整装置６と、光ファイバー対物部７とを
有して成る。

【００３５】レーザ光源２には、従来公知の光ディスク
原盤の露光装置に用いられていると同様のレーザ即ち半
導体レーザもしくはガスレーザ等を用いることができ
る。レーザ光の波長λは、例えば２５０〜４５０ｎｍと
することができる。

【００３６】光カプラ３は、レーザ光を単一もしくは複
数の光ファイバーに分波する。変調／光量調整素子５
は、例えば電気光学素子、音響光学素子、磁気光学素子
等の素子を用いて構成され、例えば入射したレーザ光の
光変調、光量の制御、或いはレーザ光の透過／遮蔽即ち
露光のオン／オフを行う。

【００３７】そして、本実施の形態の露光装置１では、
従来公知の露光装置に用いられている対物レンズの代わ
りに、光ファイバーから成る光ファイバー対物部７を用
いている。

【００３８】尚、図１では１つの光ファイバー対物部７
のみの場合を示しているが、従来の複数の対物部（対物
レンズ等）を有する露光装置と同様に、複数の光ファイ
バー対物部７を設けて、光カプラ３により各光ファイバ
ー対物部７の光ファイバーにレーザ光を分波するように
してもよい。

【００３９】本実施の形態の露光装置１では、まずレー
ザ光源２から所定のレーザ光が出射され、このレーザ光
が光カプラ３に入射され、この光カプラ３において必要
に応じて単一もしくは複数の光ファイバーへ分波され
る。

【００４０】光カプラ３で分波されたレーザ光は、さら
に光リレー系４を経て変調／光量調整素子５に入射され
る。この変調／光量調整素子５において、変調光量調整
装置６の制御に基づいて、レーザ光の変調や光量制御が
なされる。

【００４１】変調／光量調整素子５で変調や光量調整が
なされたレーザ光は、光ファイバー対物部７の光ファイ
バーに入射される。そして、光ファイバー対物部７か
ら、基体例えばガラス基板上にフォトレジストが形成さ
れた光感光性レジスト原盤１０に、レーザ光を照射する
ことにより、フォトレジストに対する露光を行うことが
できる。

【００４２】さらに所望の露光パターンを形成するため
に、必要に応じて光ファイバー対物部７を動かして走査
しながら露光を行う。また、光感光性レジスト原盤１０
を回転させながら光ファイバー対物部７を送り走査させ
て露光を行ってもよい。尚、複数の光ファイバー対物部
７を有する場合には、夫々独立して走査させるようにし
てもよい。

【００４３】さらに、図１の露光装置１の要部（光ファ
イバー対物部７付近）の拡大図を図２に示す。図２に示
すように、光ファイバー対物部７は、光ファイバー８と
その周囲の被覆材９とを有して成る。光ファイバー８
は、例えば石英ガラスファイバー等により構成される。
被覆材９には、レーザ光を透過しない材料を用いる。
尚、被覆材９は、図２に示すよりさらに上方に延長され
ていてもよい。また、被覆材９の開口は、略円形断面を
有する光ファイバー８に対応して、図示しないが略円形
の開口となっている。

【００４４】光ファイバー８の径は、光ファイバー対物
部７の先端部、即ち射出端面７Ａ付近では、光源側の主
要部分の径Ｄからテーパ状に小さくなるように形成さ
れ、射出端面７Ａで最小の径Ａとなっている。この射出
端面７Ａにおける光ファイバー８の径Ａは、射出端面７
Ａにおける被覆材９の開口径でもある。

【００４５】本実施の形態の露光装置１では、特に光フ
ァイバー対物部７の射出端面７Ａの開口径Ａを、露光用
のレーザ光の波長λより小さくする。また、光ファイバ
ー対物部７の射出端面７Ａから露光対象の光感光性レジ
スト原盤１０までの作動距離ＷＤも露光のレーザ光の波
長λより小さくする。即ちＡ＜λかつＷＤ＜λとする。

【００４６】露光用のレーザ光の波長λが２５０〜４５
０ｎｍであれば、例えば射出端面７Ａの開口径を２００
ｎｍ程度以下に形成すればよい。このような大きさの開
口は、例えば電子線もしくはＸ線等によって、例えば被
覆材９に開口を開ける、或いは光ファイバー８の先端を
削る加工を行うことにより形成することができる。これ
により、通常のフォトリソグラフィーでは形成できない
微小な開口で形成することが可能になる。

【００４７】これにより、開口径Ａが露光用のレーザ光
の波長λより小さいため、波長λのレーザ光が射出端面
７Ａから射出することができず、図３に示すように、前
述のエバネッセント光ＬＥとして射出端面７Ａの開口近
傍に留まることになる。

【００４８】さらに、光ファイバー対物部７の射出端面
７Ａから、光感光性レジスト原盤１０のフォトレジスト
までの作動距離ＷＤも、同じく露光用レーザ光の波長λ
より小さくすることにより、このエバネッセント光ＬＥ
を光感光性レジスト原盤１０のフォトレジストに照射す
ることが可能になり、光ファイバー対物部７の射出端面
７Ａの開口径Ａに対応した幅の露光を行うことができ
る。

【００４９】即ちフォトレジストに対して、開口径Ａに
対応した露光用レーザ光の波長λより狭い幅の露光を行
うことができる。こうして露光したフォトレジストを現
像し、さらに現像したフォトレジストをマスクとしてエ
ッチングを行うことにより、フォトレジストの下層にあ
る基体即ち光ディスク原盤を構成するガラス基板等に露
光用レーザ光の波長λより微細な幅を有するピットやグ
ルーブを形成することができる。

【００５０】上述の本実施の形態によれば、光ファイバ
ー対物部７の射出端面７Ａの開口の大きさ（開口径Ａ）
を露光用レーザ光の波長λより小さくしたことにより、
この射出端面７Ａの開口付近にレーザ光を留めてエバネ
ッセント光を発生させることができる。そして、この射
出端面７Ａと光感光性レジスト原盤１０のフォトレジス
トとの作動距離ＷＤも、同様に露光用レーザ光の波長λ
より小さくすることにより、エバネッセント光によりフ
ォトレジストの露光を行うことができる。

【００５１】これにより、露光レーザ光の波長λ及び露
光対物レンズの開口数ＮＡによらず、回折限界を超えた
微細なパターンの露光を行うことができ、こうして露光
したフォトレジストを現像してマスクパターンとして、
フォトレジストの下層の基板等に微細なパターンを形成
することができる。

【００５２】従って、従来の露光方法と比較して、露光
により形成される光ディスク原盤のピットやグルーブ等
の凹凸パターンの微細化を図ることができる。

【００５３】そして、例えばλ／２やλ／３の幅のパタ
ーンはもちろん、さらに光ファイバー対物部７の射出端
面７Ａの開口径Ａを絞ることにより、λ／５０もしくは
λ／１００に相当する微細な幅・長さを有するピットや
グルーブから成るディスク原盤を形成することが可能に
なる。

【００５４】このようにして作製した光ディスク原盤を
用いて、光ディスクの製造を行うことにより、微細なピ
ットやグルーブ等の凹凸パターンが形成され、高密度記
録が可能な光ディスクを製造することができる。即ち超
高密度の光ディスクのフォーマットを形成することが可
能になる。

【００５５】しかも、短波長レーザの開発や、信頼性向
上もしくはＮＡを１以上とする対物レンズの収差補正等
の技術課題を生じないで、容易に微細形状のピットもし
くは溝の形成、さらに微細形状のピット又は溝が配置さ
れたフォーマットの光ディスクを実現することができ
る。

【００５６】尚、光ファイバーの射出端面の開口を略円
形以外の形状とする場合には、開口の大きさとして、開
口の最大長（例えば長方形であれば対角線長、楕円形な
ら長軸長）がレーザ光の波長λより小さくなるようにす
る。

【００５７】続いて、本発明の他の実施の形態について
説明する。本実施の形態は、光ファイバー対物部を光学
ピックアップに適用する場合である。

【００５８】図４は、本発明の他の実施の形態として、
光ディスク等の光学記録媒体に対して情報の記録及び／
又は再生を行う光学ピックアップを有して成る光学ピッ
クアップ装置の概略構成図を示す。この光学ピックアッ
プ装置３１は、先の実施の形態の光ファイバー対物部７
と同様の構成の光ファイバーピックアップ３２を有して
成り、さらに光源部３３と、分波器３４と、検出部３５
とを有して構成される。

【００５９】光源部３３は、光源となる半導体レーザ
と、例えばレーザビーム整形器や光カプラ等を有して構
成される。光源部３３からのレーザ光の波長（いわゆる
記録波長）λ０は、例えば３８０〜８３０ｎｍの範囲内
の所定の波長とされる。

【００６０】分波器３４は、例えば偏光分波素子を有し
て成り、光源部３３からの出射光と光ディスク４０から
検出される検出光とを分離する。検出部３５は、フォト
ディテクタ等の検出器と、復調回路系等の信号処理回路
を有して構成される。

【００６１】そして、光ファイバーピックアップ３２
は、図２及び図３に示した光ファイバー対物部７と同様
に、射出端面の開口径Ａが、光源部３３からの記録用レ
ーザ光の記録波長λ０より小さくなるように構成され
る。記録波長λ０が、例えば３８０〜８３０ｎｍであれ
ば、開口径Ａを例えば３００ｎｍ程度以下にする。

【００６２】これにより光ファイバーピックアップ３２
の射出端面の開口付近にレーザ光が留まり、開口付近に
エバネッセント光を生じる。

【００６３】また、光ディスク４０の記録層と光ファイ
バーピックアップ３２の射出端面との作動距離ＷＤを、
同じく光源部３３からのレーザ光の記録波長λ０より小
さくなるようにする。これにより、光ディスク４０の記
録層にエバネッセント光を照射して、記録層に情報の記
録を行うことができる。

【００６４】また、同様にエバネッセント光を記録層の
情報が記録された領域に照射して、反射したレーザ光
（戻り光）を検出することにより、記録された情報を再
生する（読み取る）ことができる。

【００６５】このように記録された情報を再生する場合
には、分波器３４において入射光と戻り光とを分離し、
検出部３５へ出力する。

【００６６】尚、記録された情報を再生する場合には、
ディスクの裏面からレーザ光を照射して、記録層のピッ
トもしくはグルーブで発生するエバネッセント光を、上
述の光ファイバーピックアップ３２と同様の構成の光フ
ァイバープローブで検出する構成を採ることも可能であ
る。この場合においても、ファイバープローブの端面の
開口の大きさ及び作動距離即ちプローブの端面と記録層
との間隔は同様に記録波長λ以下とする。

【００６７】上述の本実施の形態によれば、光ファイバ
ーピックアップ３２の射出端面の開口の大きさ（開口
径）を記録用レーザ光の波長λ０より小さくしたことに
より、この射出端面の開口付近にレーザ光を留めてエバ
ネッセント光を発生させることができる。そして、この
射出端面と光ディスク４０の記録層との作動距離も、同
様に記録用レーザ光の波長λ０より小さくすることによ
り、エバネッセント光を利用して、光ディスク４０の記
録層へ情報の記録を行うことができる。

【００６８】これにより、記録レーザ光の波長λ０及び
対物レンズの開口数ＮＡによらず、回折限界を超えたよ
り狭い幅の領域へ光を照射して情報の記録を行うことが
可能になる。

【００６９】そして、例えばλ０／２やλ０／３の幅の
領域へ記録を行うことができる。従って、より高密度で
光学記録媒体に対して情報の記録を行うことが可能にな
る。

【００７０】さらに、先の実施の形態の露光装置１を用
いて作製した光ディスク原盤から製造した高密度記録可
能な光ディスクに対して、情報の記録及び／又は再生を
行うことが可能となる。

【００７１】即ち超高密度のフォーマットを有する光デ
ィスク、及びこの光ディスクに情報の記録及び／又は再
生を行う装置（光ディスクドライブ等を有する装置）を
製造することが可能になり、より高い記録密度を有する
光ディスクのシステムを確立することがが可能になる。

【００７２】本発明の光学ピックアップとしては、光デ
ィスク等光学記録媒体の記録専用の光学ピックアップ、
記録再生用の光学ピックアップのいずれにも本発明を適
用して光学記録媒体への情報の記録を行うことができ
る。また、再生専用の光学ピックアップにも本発明を適
用することができる。さらに、本発明の構成の光学ピッ
クアップを備えて、光学装置例えば光記録再生装置を構
成することができる。

【００７３】また対象とする光学記録媒体としては、コ
ンパクトディスク（ＣＤ）等凹凸ピットにより情報信号
の記録がなされた光ディスク、光磁気記録により情報の
記録を行う光磁気ディスク、相変化記録により情報の記
録を行う相変化型光ディスクのいずれの構成にも適用す
ることができる。

【００７４】本発明は、上述の実施の形態に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。

【００７５】

【発明の効果】上述の本発明による光学記録媒体原盤の
露光方法及び露光装置によれば、露光用レーザの波長や
対物レンズの開口数に係わらず、光学記録媒体原盤に露
光用レーザの波長より微細な凹凸パターンを形成するこ
とができる。

【００７６】従って、この光学記録媒体原盤を用いて光
学記録媒体を製造することにより、光学記録媒体の記録
密度の高密度化を図り、超高密度のフォーマットを有す
る光学記録媒体を製造することを可能にする。

【００７７】また、上述の本発明の光学ピックアップ及
び光記録方法によれば、記録用レーザの波長や対物レン
ズの開口数に係わらず、光学記録媒体の記録層に対し
て、その記録用レーザ光の波長より狭い領域に対して情
報の記録及び／又は再生を行うことができる。

【００７８】従って、記録密度の高密度化がなされた記
録媒体に対して情報の記録及び／又は再生を行うことが
可能になる。

【００７９】さらに、本発明によれば、超高密度のフォ
ーマットを有する光学記録媒体、及びこの光学記録媒体
に情報の記録及び／又は再生を行う装置を製造すること
が可能になり、より高い記録密度を有する光学記録媒体
のシステムを確立することがが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の露光装置の概略構成図
である。

【図２】図１の露光装置の要部の拡大図である。

【図３】図２において発生するエバネッセント光を説明
する図である。

【図４】本発明の他の実施の形態の光学ピックアップ装
置の概略構成図である。

【符号の説明】

１ 露光装置、２ レーザ光源、３ 光カプラ、４ 光
リレー系、５ 変調／光量調整素子、６ 変調／光量調
整装置、７ 光ファイバー対物部、７Ａ 射出端面、８
光ファイバー、９ 被覆材、１０ 光感光性レジスト
原盤、３１ 光学ピックアップ装置、３２ 光ファイバ
ーピックアップ、３３ 光源部、３４ 分波器、３５
検出部、４０ 光ディスク、Ａ 開口径、Ｄ 光ファイ
バーの径、ＷＤ 作動距離、ＬＥ エバネッセント光

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体上にフォトレジストが塗布されて成
   る光学記録媒体原盤に対して露光を行う露光装置であっ
   て、 露光用レーザ光を出射する半導体レーザもしくはガスレ
   ーザと、 光ファイバーを備えた対物部とを有して成り、 上記対物部の上記光ファイバーの射出端面に開口が形成
   され、該開口の大きさが上記露光用レーザ光の波長より
   小さいことを特徴とする光学記録媒体原盤の露光装置。
2. 【請求項２】 上記対物部の上記光ファイバーの射出端
   面と、上記光学記録媒体原盤の上記フォトレジストとの
   距離が、上記露光用レーザの光の波長より短い状態で、
   露光が行われることを特徴とする請求項１に記載の光学
   記録媒体原盤の露光装置。
3. 【請求項３】 基体上にフォトレジストが塗布されて成
   る光学記録媒体原盤に対して露光を行う方法であって、 半導体レーザもしくはガスレーザから成る露光用光源
   と、 射出端面に開口が形成され、該開口の大きさが上記半導
   体レーザもしくはガスレーザのレーザ光の波長より小さ
   い光ファイバーとを用いて、 上記光ファイバーの上記射出端面を、上記光学記録媒体
   原盤の上記フォトレジストに対して、上記レーザ光の波
   長より短い距離に配置した状態で、 上記光ファイバーを介して、上記レーザ光を上記フォト
   レジストに照射することを特徴とする光学記録媒体原盤
   の露光方法。
4. 【請求項４】 光学記録媒体に対して、情報の記録及び
   ／又は情報の検出を行う光学ピックアップであって、 記録用のレーザ光を出射する半導体レーザと、 射出端面に開口が形成され、該開口の大きさが上記レー
   ザ光の波長より小さい光ファイバーを備えた対物部とを
   有して成ることを特徴とする光学ピックアップ。
5. 【請求項５】 上記対物部の上記光ファイバーの射出端
   面と上記光学記録媒体の記録層との距離が、上記レーザ
   光の波長より短い状態で、情報の記録及び／又は情報の
   検出が行われることを特徴とする請求項４に記載の光学
   ピックアップ。
6. 【請求項６】 光学記録媒体に対して、情報の記録を行
   う方法であって、 半導体レーザから成る記録用光源と、 射出端面に開口が形成され、該開口の大きさが上記半導
   体レーザのレーザ光の波長より小さい光ファイバーとを
   用いて、 上記光ファイバーの上記射出端面を、上記光学記録媒体
   の記録層に対して、上記レーザ光の波長より短い距離に
   配置した状態で、 上記光ファイバーを介して上記レーザ光を上記記録層に
   照射して、情報の記録を行うことを特徴とする光記録方
   法。