JP2001302935A - 光学樹脂組成物およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】非結晶性含フッ素重合体（Ａ）に対して相溶性
のよい屈折率調整物質を提供し、もって高い透明性と耐
熱性を併有する重合体（Ａ）組成物からなる光伝送体、
特に屈折率分布型光ファイバを提供する。 【解決手段】ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニル
ベンゼン）またはペルフルオロ（１，２，４−トリフェ
ニルベンゼン）から選ばれた化合物（Ｂ）を屈折率調整
物質とし、実質的にＣ−Ｈ結合を有しない重合体（Ａ）
をマトリックスとする光伝送体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の屈折率調整
物質を含む非結晶性含フッ素重合体からなる光学樹脂組
成物、その材料を用いた光伝送体（特にプラスチック光
伝送ファイバ）、および、屈折率調整物質としての新規
な化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より非結晶性含フッ素重合体は、電
気特性、耐薬品性、防水性、撥水撥油性、光学特性に優
れるため、半導体をはじめとする電子部品の保護膜、イ
ンクジェットプリンタのヘッドの撥水膜、フィルタの防
水防油コート、プラスチック光ファイバなどに用いられ
ている。この重合体は単独で利用されることもあるが、
各種の添加剤、改質剤などを混合され、新たな機能を付
加する試みもなされている。しかし、非結晶性含フッ素
重合体は極性基を通常有しないことより、この含フッ素
重合体に対する低分子量化合物の溶解性は低い。そのた
め、非結晶性含フッ素重合体に低分子量化合物を配合し
て均一に混合させることが困難な場合が少なくなく、非
結晶性含フッ素重合体が本来有している電気的特性、機
械的特性、表面特性および透明性などの優れた特性を損
なわれることがしばしばある。

【０００３】一方、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フ
ッ素重合体をマトリックスとし、この含フッ素重合体に
溶融拡散可能な屈折率調整物質をマトリックス中に分布
させて得られる屈折率分布型プラスチック光伝送ファイ
バが知られている（特開平８−５８４８号公報参照）。
この屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバは、ポリ
メチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リノルボルネン樹脂などの樹脂をマトリックスとするプ
ラスチック光伝送ファイバでは達し得なかった波長１３
００ｎｍや１５５０ｎｍにおいて低損失であることが知
られている。なお、以下プラスチック光伝送ファイバを
ＰＯＦという。また、光伝送ファイバを光ファイバとも
いう。

【０００４】上記屈折率分布型ＰＯＦにおいて、非結晶
性含フッ素重合体に屈折率調整物質を配合すると組成物
のガラス転移温度（Ｔｇ）が低下して耐熱性が低下する
問題がある。特に屈折率調整物質がクロロトリフルオロ
エチレンの５〜８量体であるオリゴマー（屈折率１．４
１）などのように屈折率があまり高くない屈折率調整物
質を用いたＰＯＦにおいては、開口数ＮＡ［ＮＡ＝（ｎ
² −ｍ² ）^1/2 、ｎは屈折率分布型光学樹脂材料中の屈
折率の最大値、ｍは屈折率分布型光学樹脂材料中の屈折
率の最小値。］を大きくするために屈折率調整物質の配
合量を多くする必要がある。一方、このオリゴマーのＴ
ｇは約−６０℃と低く、室温では液状であるため、ＮＡ
を大きくしようとして配合量を多くするにつれて組成物
のＴｇが低下し、ＰＯＦが高温に曝されたときに屈折率
分布や光伝送性能が変化しやすくなる。そのためＴｇが
低くかつ屈折率があまり高くない屈折率調整物質を配合
することは、ＮＡを大きくできないという問題が生じ
る。

【０００５】また、特開平８−５８４８号公報記載のジ
ブロモテトラフルオロベンゼンやクロロヘプタフルオロ
ナフタレンなどの高屈折率の屈折率調整物質は、比較的
少量の配合で充分な開口数ＮＡを得ることができる。し
かし、この屈折率調整物質もまた組成物のＴｇを下げる
作用が強く、耐熱性が充分高いＰＯＦを得ることは困難
である。

【０００６】特開平１１−１６７０３０号公報には上記
耐熱性に関する問題点を解決するための新たな屈折率調
整物質が記載されている。しかし具体的に記載されてい
る屈折率調整物質は非結晶性含フッ素重合体に対する相
溶性が必ずしも十分でない。屈折率調整物質が含フッ素
重合体に完全に溶解していないと光散乱の要因となり、
ＰＯＦの光伝送損失が増加する原因となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記耐熱性
の問題と相溶性の問題を同時に解決した、非結晶性含フ
ッ素重合体に配合する屈折率調整物質に関するものであ
り、非結晶性含フッ素重合体の優れた透明性を損なうこ
となく、従来の光学樹脂組成物が有する課題を解決し、
耐熱性が向上し、かつ光伝送損失が低い光学樹脂組成物
を提供することを目的とする。また、そのような特性を
有する光学樹脂組成物からなる光伝送体、特にＰＯＦの
提供を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記耐熱性の
問題と相溶性の問題を同時に解決した、非結晶性含フッ
素重合体に配合する屈折率調整物質に関する。この屈折
率調整物質は、特開平１１−１６７０３０号公報に記載
されている範疇の屈折率調整物質の中から選択された、
非結晶性含フッ素重合体に対する相溶性が特に優れた化
合物である。

【０００９】本発明は、この屈折率調整物質に係る以下
の発明である。すなわち、ペルフルオロ（１，３，５−
トリフェニルベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，
４−トリフェニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１
種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）を含む、実質的にＣ−
Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体（Ａ）からな
る光学樹脂組成物、である。

【００１０】また、上記光学樹脂組成物からなる光伝送
体、である。また、屈折率分布型プラスチック光伝送フ
ァイバ製造用プリフォームまたは屈折率分布型プラスチ
ック光伝送ファイバから選ばれる光学樹脂成形体であっ
て、マトリックスが実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結
晶性含フッ素重合体（Ａ）であり、屈折率調整物質がペ
ルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およ
びペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）
から選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物
（Ｂ）であることを特徴とする光学樹脂成形体、であ
る。

【００１１】なお、ペルフルオロ（１，３，５−トリフ
ェニルベンゼン）は公知の化合物であるが、ペルフルオ
ロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）は新規化合物
である。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明における含フッ素多環式化
合物（Ｂ）は屈折率調整物質である。含フッ素多環式化
合物（Ｂ）を含む含フッ素重合体（Ａ）からなる本発明
の光学樹脂組成物は光学樹脂製品の原材料を意味するば
かりでなく、光学樹脂製品における樹脂組成物そのもの
をも意味する。また、本発明の光学樹脂組成物は、含フ
ッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体（Ａ）の全体
にわたって均一に分布した状態にあるものばかりでな
く、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体
（Ａ）中に不均一に分布している状態にあるものをも意
味する。

【００１３】本発明の光伝送体とは、光を光学樹脂組成
物中に通過させて伝送する機能を有する部材をいう。光
伝送体は、プラスチック光伝送ファイバに限られるもの
ではなく、例えば、ロッドレンズ、光導波路、光分岐
器、光合波器、光分波器、光減衰器、光スイッチ、光ア
イソレータ、光送信モジュール、光受信モジュール、カ
プラ、偏向子、光集積回路などのそのものやその光伝送
部分をいう。これら光伝送体の光を伝送する部分は、後
述する屈折率分布構造を有するもの（以下屈折率分布型
という）であることが好ましい。すなわち、含フッ素重
合体（Ａ）中に含フッ素多環式化合物（Ｂ）が光伝送体
の光伝送路の中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下す
る濃度勾配を有して分布している屈折率分布型光伝送体
であることが好ましい。本発明の光伝送体としては特に
ＰＯＦ、特に屈折率分布型ＰＯＦ、が好ましい。

【００１４】本発明の光学樹脂成形体は、屈折率分布型
ＰＯＦ製造用プリフォームまたは屈折率分布型ＰＯＦで
ある。含フッ素重合体（Ａ）と屈折率調整物質を用いて
屈折率分布型ＰＯＦ（および、それを製造するためのプ
リフォーム）を製造する方法は前記特開平８−５８４８
や特開平１１−１６７０３０号公報などに記載されてい
る。これら公報記載の屈折率調整物質の代わりに含フッ
素多環式化合物（Ｂ）を使用して、これら公報記載の方
法で屈折率分布型ＰＯＦを製造できる。同様にこれら公
報記載の方法で屈折率分布型ＰＯＦ製造用プリフォーム
を製造できる。

【００１５】周知のように屈折率分布型光ファイバは中
心軸部分の屈折率が最大で中心軸から周辺方向に沿って
屈折率が徐々に（通常二次曲線に沿って）低下する構造
を有する。このような屈折率分布を形成する方法の一つ
として拡散法が知られている。拡散法は、マトリックス
中でマトリックスと異なる屈折率を有する屈折率調整物
質を中心軸から周辺方向に沿って（屈折率調整物質がマ
トリックスよりも高屈折率である場合）拡散させること
により上記屈折率分布を形成する方法である。マトリッ
クス中の屈折率調整物質の濃度が高い部分が高屈折率で
その濃度が低下するほど低屈折率となる。

【００１６】本発明の光伝送体は、屈折率分布型光伝送
体であることが好ましい。すなわち、光伝送体の光が通
過する光伝送路において、含フッ素重合体（Ａ）中に含
フッ素多環式化合物（Ｂ）が光伝送路の中心軸から周辺
方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布して
いる屈折率分布型光伝送体であるのが好ましい。この屈
折率分布は屈折率調整物質である含フッ素多環式化合物
（Ｂ）をマトリックスである含フッ素重合体（Ａ）中に
拡散させることにより形成される。例えば、光伝送路の
中心軸となる部分にある濃度で含フッ素多環式化合物
（Ｂ）を存在させ、その含フッ素多環式化合物（Ｂ）を
熱拡散させて中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下す
る濃度勾配を形成する。

【００１７】本発明の光学樹脂成形体は上記拡散法で形
成された屈折率分布型の光学樹脂成形体であることが好
ましい。この方法による光学樹脂成形体の製造方法は前
記特開平８−５８４８や特開平１１−１６７０３０号公
報などに記載されている。特に回転成形により屈折率分
布型ＰＯＦ製造用プリフォーム（以下、単にプリフォー
ムという）を製造し、プリフォームから紡糸してＰＯＦ
とする方法が好ましい。含フッ素多環式化合物（Ｂ）の
拡散はプリフォーム製造工程、プリフォームを加熱維持
して拡散を行う工程、プリフォームからの紡糸工程、ま
たはそれら工程の２以上の工程で行い得る。また含フッ
素多環式化合物（Ｂ）の拡散を行いながら押出し紡糸を
行って光ファイバを１段で製造することもできる（ＷＯ
９４／０４９４９公報記載の方法参照）。この拡散を行
いながら押出しする方法で屈折率分布型のプリフォーム
を製造することもできる。

【００１８】上記のようにプリフォームは必ずしも屈折
率分布を有していなくてもよく、含フッ素多環式化合物
（Ｂ）の拡散工程前のものであってよい。この場合、含
フッ素多環式化合物（Ｂ）は中心軸部分のみに存在す
る。このプリフォームを加熱状態に維持して含フッ素多
環式化合物（Ｂ）を拡散させ屈折率分布を有するプリフ
ォームとし得る。しかし通常はプリフォームの成形工程
において拡散も行い屈折率分布を有するプリフォームと
する。プリフォームの形状は通常円柱状である。しかし
形状はこれに限られず、回転成形で通常得られる孔の径
がごく小さい円筒状のものであってもよい。円筒状プリ
フォームではその内表面に含フッ素多環式化合物（Ｂ）
を存在させてそこから外表面方向に拡散させて屈折率分
布を形成し得る。円筒状プリフォームの孔を潰しながら
紡糸を行ってＰＯＦとし得る。

【００１９】本発明の光学樹脂組成物において、含フッ
素多環式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体（Ａ）中に完全
に溶解し、不溶解物がなくまたミクロな相分離構造が生
じないないことが好ましい。不溶解物やミクロ相分離構
造が存在すると、その部分が光散乱の要因となる。した
がって、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体
（Ａ）中にその飽和溶解度量以下で存在することが好ま
しく、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が部分的に高濃度に
存在する場合であってもその高濃度部分に不溶解物がな
いことが好ましい。

【００２０】含フッ素重合体（Ａ）の種類にもよるが、
含フッ素重合体（Ａ）と含フッ素多環式化合物（Ｂ）の
合計に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の割合が約１
５質量％でも充分均一に溶解する。したがって、本発明
光学樹脂組成物における含フッ素重合体（Ａ）と含フッ
素多環式化合物（Ｂ）の合計に対する含フッ素多環式化
合物（Ｂ）の割合は１５質量％以下、特に１０質量％以
下が好ましい。この割合は組成物全体における平均の存
在割合を意味するとともに、含フッ素多環式化合物
（Ｂ）が不均一に存在している場合であってもその最大
存在部分が上記割合の上限以下であることを意味する。
より好ましい最大存在部分の割合の下限は０．１質量
％、特に１質量％、である。

【００２１】含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重
合体（Ａ）中に均一に存在している場合、または不均一
に存在している場合に組成物全体に平均して存在すると
仮定して計算した場合、その割合の下限は０．００１質
量％であることが好ましい。なお、含フッ素重合体
（Ａ）に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の溶解性が
高いことはまた含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素
重合体（Ａ）に対して屈折率分布を形成するに十分な拡
散性を有していることも意味している。

【００２２】屈折率分布型光伝送体とするためには、マ
トリックスと屈折率調整物質との屈折率の差は０．００
５以上である必要があり、０．０１以上であることが好
ましい。含フッ素重合体（Ａ）の屈折率は、その種類に
もよるが、通常１．２５〜１．３５であり、含フッ素多
環式化合物（Ｂ）の屈折率は約１．４７である。したが
って、両者は屈折率分布を形成するに充分の屈折率差を
有する。また、屈折率差が大きいことより、含フッ素重
合体（Ａ）に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の割合
が最大存在部分において１０質量％以下であっても充分
な屈折率分布を形成し得る。

【００２３】また、含フッ素多環式化合物（Ｂ）のＴｇ
は−４５℃であり、従来の屈折率調整物質に比較して比
較的高いＴｇを有している。したがって、含フッ素多環
式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体（Ａ）のＴｇを低下さ
せる作用が少ない。よって、含フッ素多環式化合物
（Ｂ）は、光学樹脂組成物に対する割合を少なくでき、
かつ、本発明の光学樹脂組成物のＴｇの低下は少なく、
耐熱性の良好な光伝送体が得られる。

【００２４】以下、本発明における含フッ素重合体
（Ａ）および含フッ素多環式化合物（Ｂ）について説明
する。本発明における含フッ素重合体（Ａ）は、非結晶
性であり、かつ近赤外光で光吸収が起こるＣ−Ｈ結合を
実質的に有しない重合体である。含フッ素重合体（Ａ）
としては、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合
体であれば特に限定されないが、主鎖に含フッ素脂肪族
環構造を有する含フッ素重合体が好ましい。

【００２５】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有すると
は、脂肪族環を構成する炭素原子の１以上が主鎖を構成
する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成
する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ
素含有基が結合している構造を有することを意味する。
脂肪族環の環を構成する原子としては、炭素原子以外に
酸素原子や窒素原子を含んでいてもよい。含フッ素脂肪
族環構造としては、含フッ素脂肪族エーテル環構造がさ
らに好ましい。

【００２６】含フッ素重合体（Ａ）の溶融状態における
粘度は、溶融温度２００〜３００℃において１０² 〜１
０⁴ Ｐａ・ｓが好ましい。溶融粘度が高すぎると溶融紡
糸が困難なうえ、屈折率分布の形成に必要な、含フッ素
多環式化合物（Ｂ）の拡散が起こりにくくなり屈折率分
布の形成が困難になる。また、溶融粘度が低すぎると実
用上問題が生じる。すなわち、電子機器や自動車等での
光伝送体として用いられる場合に高温に曝され軟化し、
光の伝送性能が低下する。

【００２７】含フッ素重合体（Ａ）の数平均分子量は１
×１０⁴ 〜５×１０⁶ が好ましく、５×１０⁴ 〜１×１
０⁶ がより好ましい。分子量が小さすぎると耐熱性を阻
害することがあり、大きすぎると屈折率分布を有する光
伝送体の形成が困難になる。

【００２８】含フッ素脂肪族環構造を有する重合体とし
ては、含フッ素環構造を有する単量体を重合して得られ
るものや、２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素
単量体を環化重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有する重合体が好適である。

【００２９】含フッ素脂肪族環構造を有する単量体を重
合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重
合体は、特公昭６３−１８９６４などにより知られてい
る。すなわち、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，
３−ジオキソール）などの含フッ素脂肪族環構造を有す
る単量体を単独重合することにより、またこの単量体と
テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレ
ン、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）などのラジ
カル重合性単量体とを共重合させることにより主鎖に含
フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。

【００３０】また、２つ以上の重合性二重結合を有する
含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に含フッ
素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭６３−２３８
１１１号公報や特開昭６３−２３８１１５号公報などに
より知られている。すなわち、ペルフルオロ（アリルビ
ニルエーテル）やペルフルオロ（ブテニルビニルエーテ
ル）などを環化重合することにより、またはこのような
単量体とテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレン、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）など
のラジカル重合性単量体とを共重合させることにより主
鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。

【００３１】また、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソール）などの含フッ素脂肪族環構造を
有する単量体とペルフルオロ（アリルビニルエーテル）
やペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの２つ
以上の重合性二重結合を有する含フッ素単量体とを共重
合させることによっても主鎖に含フッ素脂肪族環構造を
有する重合体が得られる。

【００３２】含フッ素脂肪族環構造を有する重合体とし
ては、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体の全モノマ
ー単位に対して含フッ素脂肪族環構造を有するモノマー
単位を２０モル％以上、特には４０モル％以上含有する
ものが透明性、機械的特性などの面から好ましい。ま
た、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、重
合当初の重合体は末端に不安定な官能基を有しているこ
とが少なくないことより、重合体製造後、重合体をフッ
素でフッ素化する末端安定化処理を行ったものを用いる
ことが好ましい。

【００３３】上記の含フッ素脂肪族環構造を有する重合
体としては、具体的には以下の化学式から選ばれるモノ
マー単位を有するものが例示される。下記式１および式
２は含フッ素環構造を有する単量体の重合により形成さ
れるモノマー単位の例である。下記式３および式４は重
合性二重結合を２個有する含フッ素単量体の環化重合に
より形成されるモノマー単位の例である。

【００３４】下記式１〜４において、Ｘ¹ 〜Ｘ¹⁰はそれ
ぞれ独立にフッ素原子またはペルフルオロアルキル基ま
たはペルフルオロアルコキシ基を表わし、フッ素原子の
一部は塩素原子で置換されていてもよく、またペルフル
オロアルキル基やペルフルオロアルコキシ基におけるフ
ッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよい。ペ
ルフルオロアルキル基やペルフルオロアルコキシ基にお
ける炭素数は１〜５が好ましく、特に１が好ましい。Ｚ
は酸素原子、単結合または−ＯＣ（Ｒ⁹ Ｒ¹⁰）Ｏ−を表
す。好ましいＺは酸素原子である。

【００３５】Ｒ¹ 〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立にフッ素原子、
ペルフルオロアルキル基またはペルフルオロアルコキシ
基を表わし、フッ素原子の一部は塩素原子で置換されて
いてもよく、またペルフルオロアルキル基およびペルフ
ルオロアルコキシ基におけるフッ素原子の一部は塩素原
子で置換されていてもよい。ペルフルオロアルキル基お
よびペルフルオロアルコキシ基における炭素数は１〜５
が好ましく、特に１が好ましい。また、Ｒ¹ とＲ² およ
びＲ³ とＲ⁴ はそれぞれ共同して含フッ素脂肪族環を形
成していてもよく、ｐやｑが２以上の場合、異なる置換
メチレン基に結合している置換基は同様に共同して含フ
ッ素脂脂肪族環を形成していてもよい。例えば、Ｒ¹ と
Ｒ² は共同して炭素数２〜６のペルフルオロアルキレン
基を表わしてもよい。

【００３６】ｐは１〜４の整数を、ｑは１〜５の整数
を、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜５でかつｓ＋ｔが１〜
６の整数（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ⁹ Ｒ¹⁰）Ｏ−の場合
はｓ＋ｔは０であってもよい）を表す。ただし、ｐ、
ｑ、ｓ、ｔが２以上の整数の場合、その数で規定された
複数の置換メチレン基における置換基の種類は異なって
いてもよい。例えば、ｐが２の場合、２つのＲ¹ は異な
っていてもよく、２つのＲ ² も同様に異なっていてもよ
い。好ましいｐは１または２、好ましいｑは２である。
ｓとｔはそれぞれ０〜４でかつｓ＋ｔが１〜４である整
数が好ましい。

【００３７】

【化１】

【００３８】式１で表されるモノマー単位を形成する単
量体としては、下記式５で表される含フッ素脂肪族環構
造を有する単量体（ｐが１のもの）と下記式６で表され
る含フッ素脂肪族環構造を有する単量体（ｐが２のも
の）が好ましい。また、式２で表されるモノマー単位を
形成する単量体としては、下記式７で表される含フッ素
脂肪族環構造を有する単量体（ｑが２のもの）が好まし
い。下記式においてＲ¹¹、Ｒ¹²は前記Ｒ¹ と同じもの
を、Ｒ²¹、Ｒ²²は前記Ｒ² と同じものを、Ｒ³¹、Ｒ ³²は
Ｒ³ と同じものを、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²はＲ⁴ と同じものを表
す。また、前記したように、Ｒ¹¹とＲ²²、Ｒ³¹とＲ⁴²と
はそれぞれ共同して含フッ素脂肪族環を形成してもよ
い。

【００３９】式５〜式７で表される化合物としては、Ｘ
¹ 〜Ｘ⁴ がいずれもフッ素原子、Ｒ ¹ 、Ｒ² 、Ｒ¹¹、Ｒ
¹²、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²がそれぞれ独
立にフッ素原子、トリフルオロメチル基またはクロロジ
フルオロメチル基である化合物が好ましい。最も好まし
い化合物はＸ¹ 、Ｘ² がいずれもフッ素原子で、Ｒ¹と
Ｒ² がいずれもトリフルオロメチル基である化合物［す
なわち、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジ
オキソール）］である。

【００４０】

【化２】

【００４１】好ましい式５〜式７で表される化合物の具
体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。

【００４２】

【化３】

【００４３】式３および式４で表されるモノマー単位を
環化重合により形成する重合性二重結合を２個有する含
フッ素単量体としては、下記式８で表される含フッ素脂
肪族環構造を有する単量体がある。式８で表される化合
物としては、Ｚは酸素原子または−ＯＣ（Ｒ⁹ Ｒ¹⁰）Ｏ
−、ｓは０または１、ｔは０〜４でかつｓ＋ｔは１〜４
（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ⁹ Ｒ¹⁰）Ｏ−の場合は０であ
ってもよい）、Ｘ⁵ 〜Ｘ¹⁰がいずれもフッ素原子である
かまたは多くとも２個以内が塩素原子、トリフルオロメ
チル基もしくはクロロジフルオロメチル基で他がフッ素
原子、Ｒ⁵ 〜Ｒ ¹⁰がそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原
子（ただし多くとも炭素原子１個に付き１個結合）、ト
リフルオロメチル基またはクロロジフルオロメチル基で
ある化合物が好ましい。

【００４４】

【化４】

【００４５】式８で表される化合物としては、下記式９
〜式１１で表される化合物が好ましい。下記式９で表さ
れる化合物は、式８において、Ｚが酸素原子、ｓが０、
ｔが１である化合物であり、下記式１０で表される化合
物は、式８において、Ｚが酸素原子、ｓが０、ｔが２で
ある化合物であり、式１１で表される化合物は、式８に
おいて、Ｚが−ＯＣ（Ｒ⁹ Ｒ¹⁰）Ｏ−、ｓ、ｔがいずれ
も０である化合物である。

【００４６】式９で表される化合物において、Ｘ⁵ 〜Ｘ
¹⁰はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個
（ただし、Ｘ⁵ 〜Ｘ⁷ の多くとも１個かつＸ⁸ 〜Ｘ¹⁰の
多くとも１個）が塩素原子で他がフッ素原子であること
が好ましい。Ｒ⁷ とＲ⁸ はすべてフッ素原子であるか、
一方が塩素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、
他方がフッ素原子であることが好ましい。最も好ましい
式９で表される化合物はＸ⁵ 〜Ｘ¹⁰、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ のすべ
てがフッ素原子である化合物［すなわち、ペルフルオロ
（アリルビニルエーテル）］である。

【００４７】式１０で表される化合物において、Ｘ⁵ 〜
Ｘ¹⁰はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個
（ただし、Ｘ⁵ 〜Ｘ⁷ の多くとも１個かつＸ⁸ 〜Ｘ¹⁰の
多くとも１個）が塩素原子で、他がフッ素原子であるこ
とが好ましい。Ｒ⁷¹、Ｒ⁷²、Ｒ⁸¹、Ｒ⁸²はすべてフッ素
原子であるか、または多くとも２個が塩素原子もしくは
トリフルオロメチル基であり、他がフッ素原子であるこ
とが好ましい。最も好ましい式１０で表される化合物は
Ｘ⁵ 〜Ｘ¹⁰、Ｒ⁷¹、Ｒ⁷²、Ｒ⁸¹、Ｒ⁸²のすべてがフッ素
原子である化合物［すなわち、ペルフルオロ（ブテニル
ビニルエーテル）］である。

【００４８】式１１で表される化合物において、Ｘ⁵ 〜
Ｘ¹⁰はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個
（ただし、Ｘ⁵ 〜Ｘ⁷ の多くとも１個かつＸ⁸ 〜Ｘ¹⁰の
多くとも１個）が塩素原子で、他がフッ素原子であるこ
とが好ましい。Ｒ⁹ とＲ¹⁰はすべてフッ素原子である
か、一方が塩素原子もしくはトリフルオロメチル基であ
り、他方がフッ素原子であることが好ましい。最も好ま
しい式１１で表される化合物はＸ⁵ 〜Ｘ¹⁰、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰
のすべてがフッ素原子である化合物［すなわち、ペルフ
ルオロ｛ビス（ビニルオキシ）メタン）｝］である。

【００４９】

【化５】

【００５０】式９〜１１で表される化合物の具体例とし
ては、以下の化合物などが挙げられる。

【００５１】

【化６】

【００５２】含フッ素多環式化合物（Ｂ）の内ペルフル
オロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）は公知の化
合物であり、Zh.Org.Khim.,13,1911(1977)に記載されて
いる。しかしそこに記載されている製造方法はペルフル
オロシクロヘキサジエンのごとき特殊な試薬を用いて合
成する方法であり、原料自体の入手や合成が困難である
などの問題がある。一般的な含フッ素多環式化合物の製
造方法としては、Zh.Org.Khim.,13,1911(1977)記載の方
法があるが、ペルフルオロシクロヘキサジエンのごとき
特殊な試薬を用いて合成する方法があり、原料自体の入
手や合成が困難な方法である。また、Tetrahedron,30,3
499(1974) 記載の、炭化水素の芳香族化合物の水素原子
を、ＫＣｏＦ₄ を用いてフッ素化してペルフルオロの飽
和型化合物にした後、酸化鉄を用いて３００〜４００℃
の高温化にて脱フッ素化を行ない含フッ素多環式化合物
を得る方法が知られている。しかしこの方法も、高温反
応装置を必要とし、かつ発生するフッ素ガスの捕集が困
難であるという問題がある。

【００５３】また、Polym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,Div.Po
lym.Chem.,7,1077(1966)には、金属銅を用い、２種の臭
素化合物からUllmann 型のクロスカップリングによりペ
ルフルオロ−ｍ−ターフェニルを製造する方法が記載さ
れている。しかしこの方法により、ペルフルオロ（トリ
フェニルベンゼン）を製造すると、本質的に少なからぬ
ホモカップリング体が副生し、目的物とさほど極性およ
び構造等の違わないそれら副生物を目的物から分離する
ことが極めて困難であるという問題がある。

【００５４】具体的には、カッパーブロンズ存在下に
１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベ
ンゼンとペンタフルオロブロモベンゼンをジメチルホル
ムアミド中でクロスカップリングすることにより目的物
を製造することができた。しかし、生成物は目的物のペ
ルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の他
に、ブロモペンタフルオロベンゼンがホモカップリング
したペルフルオロビフェニル、および１，２，４−トリ
ブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼンがホモカッ
プリングしたタール状の化合物が大量に生成した。これ
らの混合物から目的のペルフルオロ（１，２，４−トリ
フェニルベンゼン）を単離するためには、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー、昇華等を繰り返し行なわなけれ
ばならず、結局収率は２０％以下にまで低下した。

【００５５】本発明者は、トリハロ置換トリフルオロベ
ンゼン（ただし、トリハロ置換とは、臭素原子およびヨ
ウ素原子から選ばれた少なくとも１種のハロゲン原子３
個が水素原子と置換されていることをいう）とペンタフ
ルオロフェニル銅を極性溶媒中で反応させることによ
り、ホモカップリング体をほとんど副生することなく目
的物のペルフルオロ（トリフェニルベンゼン）を高選択
的にかつ高収率で製造し得ることを見出した。ここにお
けるトリハロ置換トリフルオロベンゼンとしては、１，
３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼ
ン、１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオ
ロベンゼン、１，３，５−トリヨード−２，４，６−ト
リフルオロベンゼン、１，２，４−トリヨード−３，
５，６−トリフルオロベンゼン、およびそれらの２種以
上の混合物が好ましい。これらの化合物の中では目的物
の収率の面で特にトリヨード化合物が好ましい。

【００５６】トリハロ置換トリフルオロベンゼンに対す
るペンタフルオロフェニル銅の量は、３倍モル以上であ
ればよく、３〜１０倍モルが適当で、特に３〜４倍モル
が好ましい。反応温度が低すぎると反応時間を要し、高
すぎると副反応が起き易くなることより、１０〜１６０
℃が適当で、特に４０〜１００℃が好ましい。

【００５７】極性溶媒としては、特に限定されるもので
はないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以
下、ＴＨＦという）、ジメチルホルムアミドなどの非プ
ロトン系極性溶媒が好ましい。極性溶媒の使用量は、特
に限定されるものではないが、トリハロ置換トリフルオ
ロベンゼンに対し３〜２０倍質量が適当である。

【００５８】反応終了後、溶媒と無機物を除去すること
によりほぼ純粋な目的物が得られ、ペルフルオロビフェ
ニルなどの副生物は通常１０質量％以下である。また、
Ullmann 型のカップリングでは今まで避けられなかった
タール状成分がほとんど副生しないため、目的物単離の
ためのハンドリングも容易である。こうして得られた粗
結晶は、再結晶をすることで容易に純度を上げることが
できる。再結晶溶媒は特に制限されないが、トルエン、
ヘキサン、ペルフルオロ系有機溶媒等が好ましい。

【００５９】一方、ペンタフルオロフェニル銅は、ペン
タフルオロブロモベンゼンを極性溶媒中で、エチルマグ
ネシウムブロマイドなどのアルキルマグネシウムブロマ
イドや金属マグネシウム等とのグリニヤー交換反応によ
り、ペンタフルオロフェニルマグネシウムブロマイドと
した後、この反応系に臭化銅（ＣｕＢｒ）を添加し反応
させて製造し得る。前段の反応において、極性溶媒とし
ては前記の極性溶媒を使用し得る。ペンタフルオロフェ
ニルマグネシウムブロマイドが生成した反応系に、つい
で臭化銅を添加して反応させる。この反応は発熱の大き
い反応であり、反応温度が上がりすぎると分解などの副
反応を生じやすくなるため、副反応を抑制するために反
応温度を低めに抑えることが好ましい。具体的には−２
０〜＋４０℃が適当で、特に０〜＋１０℃で行なうのが
好ましい。臭化銅を分割添加し、かつ反応温度を上記範
囲に維持しながら反応を行うことが好ましい。臭化銅の
量は出発ペンタフルオロブロモベンゼンに対して１〜１
０倍モルが適当であり、特に２〜５倍モルが好ましい。

【００６０】本発明の光伝送体、特に屈折率分布型ＰＯ
Ｆは、波長６００〜１６００ｎｍで、１００ｍの伝送損
失が５ｄｂ以下（即ち５０ｄＢ／ｋｍ以下）とすること
ができる。波長６００〜１６００ｎｍという比較的長波
長において、このような低レベルの伝送損失であること
はきわめて有利である。すなわち、石英光ファイバと同
じ波長を使えることから、石英光ファイバとの接続が容
易であり、また波長６００〜１６００ｎｍよりも短波長
を使わざるをえない従来のＰＯＦに比べ、安価な光源で
すむ利点がある。

【００６１】光伝送体の伝送特性において、上記伝送損
失とともに重要な特性として伝送帯域がある。大量の情
報を高速で伝送するために伝送帯域が広いことが望まれ
る。現在、長距離通信において用いられている石英系シ
ングルモードファイバは伝送帯域が数１０ＧＨｚ・ｋｍ
の広い伝送帯域を有する。

【００６２】一方、ＰＯＦはファイバ径が太く光源・受
光素子との接続またはファイバ同士の接続が容易なこと
から安価な短距離通信システムの構築への期待が高まっ
ている。通常のステップインデックス型ＰＯＦは伝送帯
域は数ＭＨｚ・ｋｍ程度と狭い。これを解決するため
に、本発明のような伝送帯域のより広い屈折率分布型Ｐ
ＯＦにおいては、屈折率分布が熱的に安定でないと、結
果として伝送帯域が低下する。本発明の屈折率分布型Ｐ
ＯＦは耐熱性が飛躍的に向上しているので、屈折率分布
の熱的な安定性が高く、室温以上の高温に長期間曝され
た場合においても、伝送帯域の低下を防止できる。

【００６３】本発明の光学樹脂組成物の用途は前記した
ような光伝送体用途に限られるものではない。例えば、
本発明の光学樹脂組成物からなるフィルムやシートは透
明性の高いフッ素樹脂製のフィルムやシートとして有用
である。例えば厚さ１００μｍ〜数ｍｍのフィルムの可
視光線（波長４００〜７００ｎｍ）透過率は９０％以上
である。また本発明の含フッ素樹脂組成物は波長３００
ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、各種の紫外線遮蔽フ
ィルムとして利用し得る。さらに、ＫｒＦやＡｒＦなど
のエキシマレーザによるレーザアブレーションを利用し
たマイクロパターンの形成用材料としても利用できる。
マイクロパターン形成用材料としての応用例としては、
例えば半導体素子製造工程における半導体の保護膜や層
間絶縁膜、インクジェットプリンタヘッドのインク吐出
口を形成する撥水膜、などがある。

【００６４】

【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。以下の例にお
いて、例１〜３は含フッ素重合体（Ａ）の合成例、例４
〜例８は含フッ素多環式化合物（Ｂ）の合成例、例９〜
２０は実施例、例２１〜２５は比較例である。部は質量
部を表す。

【００６５】（例１）７５０ｇのペルフルオロ（ブテニ
ルビニルエーテル）［以下、ＰＢＶＥという］、４ｋｇ
のイオン交換水、２６０ｇのメタノールおよび３．７ｇ
のジイソプロピルペルオキシジカーボネートを、内容積
５Ｌのガラスフラスコに入れた。系内を窒素で置換した
後、４０℃で２２時間懸濁重合を行い、数平均分子量約
５×１０⁴ の重合体を６９０ｇ得た。この重合体をフッ
素／窒素混合ガス（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気
中で２５０℃、５時間加熱処理することにより光透過性
および熱安定性の良好な重合体（以下、重合体Ａとい
う）を得た。

【００６６】重合体Ａの固有粘度［η］は、ペルフルオ
ロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）［以下、ＰＢＴＨ
Ｆという］中３０℃で０．３であった。重合体ＡのＴｇ
は１０８℃であり、室温では強靱で透明なガラス状重合
体であった。また屈折率は１．３４２であった。

【００６７】（例２）ＰＢＶＥを１７３ｇ、ペルフルオ
ロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）［以
下、ＰＤＤという］を２７ｇ、ＰＢＴＨＦを２００ｇ、
重合開始剤としてジイソプロピルペルオキシジカーボネ
ートを２ｇ、内容積１Ｌのステンレス製オートクレーブ
に入れた。系内を窒素で置換した後、４０℃で２０時間
重合を行い、数平均分子量約１．５×１０⁵ の透明な重
合体２０ｇを得た。この重合体をフッ素／窒素混合ガス
（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気中で２５０℃、５
時間加熱処理することにより光透過性および熱安定性の
良好な重合体（以下、重合体Ｂという）を得た。重合体
ＢのＴｇは１５０℃、屈折率は１．３２５であった。

【００６８】（例３）ＰＤＤとテトラフルオロエチレン
を質量比８０：２０で、ＰＢＴＨＦを溶媒として用いて
ラジカル重合し、Ｔｇが１６０℃で数平均分子量が約
１．７×１０⁵の重合体を得た。この重合体をフッ素／
窒素混合ガス（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気中で
２５０℃、５時間加熱処理することにより光透過性およ
び熱安定性の良好な重合体（以下、重合体Ｃという）を
得た。重合体Ｃは無色透明であり、屈折率は１．３０５
であった。

【００６９】（例４） ［１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロ
ベンゼンの合成例］温度計、滴下ロート、ジムロート冷
却器、メカニカル撹拌器のついた１Ｌガラスフラスコ
に、９６％硫酸４００ｇと１，３−ジブロモ−５，５−
ジメチルヒダントイン１９５ｇ（０．６８２ｍｏｌ）を
入れて撹拌した。フラスコを氷浴で冷却した後、１，
３，５−トリフルオロベンゼン５０ｇ（０．３７９ｍｏ
ｌ）を滴下ロートから滴下した。発熱があるため内温３
３〜３７℃を保つように１時間かけて滴下を行なった。
滴下終了後、水浴で５０℃に加温しさらに３時間撹拌を
続けた。

【００７０】この反応液にジクロロペンタフルオロプロ
パン（商品名「ＡＫ２２５」：旭硝子（株）製。以下、
Ｒ２２５という）を５００ｍｌ加えて撹拌すると均一赤
色溶液になるので、その混合液を水１Ｌを入れた２Ｌビ
ーカー中に撹拌しながら注ぎ込んだ。下層の有機相を水
１Ｌで３回水洗した後、硫酸マグネシウムで一晩乾燥し
た。硫酸マグネシウムを濾過で取り除いた後、エバポレ
ーターで余分なＲ２２５を除去し、Ｒ２２５の１００ｍ
ｌから再結晶を行ない淡黄色の結晶を得た。ガスクロマ
トグラフ、マススペクトルの結果、純度９８％の１，
３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼ
ン８５ｇ（収率６１％）であることを確認した。

【００７１】（例５） ［１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロ
ベンゼンの合成例］温度計、単蒸留抜き出し器の付いた
５００ｍｌのガラス反応容器に、２，４，５−トリフル
オロ安息香酸１７６ｇ（１．０ｍｏｌ）とトリオクチル
アミン２１２ｇ（０．６ｍｏｌ）と沸石を入れ、マント
ルヒーターにて加熱した。内温を２２０〜２４０℃に保
つと徐々に冷却器から透明液体が留出してくるのでこれ
をフラスコに捕集した。１０時間反応を続けた後、捕集
した９０ｇの液体を単蒸留し、沸点９０℃の留分を集め
た。ＧＣ−ＭＳで分析した結果、この留分は純度９５．
６％の１，２，４−トリフルオロベンゼンであることを
確認した。収量は８５ｇ（収率６４．４％）であった。

【００７２】つぎに、温度計、滴下ロート、ジムロート
冷却器、メカニカル撹拌器のついた１Ｌガラスフラスコ
に、９６％硫酸４００ｇと１，３，−ジブロモ−５，５
−ジメチルヒダントイン１９５ｇ（０．６８２ｍｏｌ）
を入れて撹拌した。フラスコを氷浴で冷却した後、先に
合成した１，２，４−トリフルオロベンゼン５０ｇ
（０．３７９ｍｏｌ）を滴下ロートから滴下した。発熱
があるため内温３３〜３７℃を保つように１時間かけて
滴下を行なった。滴下終了後、水浴で５０℃に加温しさ
らに３時間撹拌を続けた。

【００７３】この反応液にＲ２２５を５００ｍｌ加えて
撹拌すると均一赤色溶液になるので、その混合液を水１
Ｌを入れた２Ｌビーカー中に撹拌しながら注ぎ込んだ。
下層の有機相を水１Ｌで３回水洗した後、硫酸マグネシ
ウムで一晩乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過で取り除
いた後、エバポレーターで余分なＲ２２５を除去し、Ｒ
２２５の１００ｍｌから再結晶を行ない淡黄色の結晶を
得た。ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純
度９６％の１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリ
フルオロベンゼン７８ｇ（収率５６％）であることを確
認した。

【００７４】（例６） ［１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロ
ベンゼンの合成例］温度計、ジムロート冷却器、メカニ
カル撹拌器、滴下ロートの付いた２Ｌガラスフラスコ
に、室温にて、ヨウ素５７７ｇ（２．２７ｍｏｌ）、６
０％発煙硫酸１０００ｇを仕込み、ここに滴下ロートよ
り１，３，５−トリフルオロベンゼン１００ｇ（０．７
６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。全量を仕込んだ後、反
応器内温を６０〜７０℃に保ち、１８時間そのまま撹拌
を続けた。その後室温まで冷却し、反応液を氷水にゆっ
くり注ぎ込むと黒色の固体が析出した。過剰のヨウ素を
チオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、褐色固体をヘ
キサンから再結晶することにより３３８ｇの淡褐色針状
結晶を得た。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペク
トルの結果、純度９９．１％の１，３，５−トリヨード
−２，４，６−トリフルオロベンゼンであることを確認
した。融点は１５５℃であった。収率は１，３，５−ト
リフルオロベンゼン基準で８７％であった。

【００７５】（例７） ［１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロ
ベンゼンの合成例］温度計、ジムロート冷却器、メカニ
カル撹拌器、滴下ロートの付いた２Ｌガラスフラスコ
に、室温にて、ヨウ素５７７ｇ（２．２７ｍｏｌ）、６
０％発煙硫酸１０００ｇを仕込み、ここに滴下ロートよ
り例５のごとき方法で合成した１，２，４−トリフルオ
ロベンゼン１００ｇ（０．７６ｍｏｌ）をゆっくり滴下
した。全量を仕込んだ後、反応器内温を６０〜７０℃に
保ち、２０時間そのまま撹拌を続けた。

【００７６】その後室温まで冷却し、反応液を氷水にゆ
っくり注ぎ込むと黒色の固体が析出した。過剰のヨウ素
をチオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、褐色固体を
ヘキサンから再結晶することにより２８５ｇの淡褐色針
状結晶を得た。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペ
クトルの結果、純度９９．３％の１，２，４−トリヨー
ド−３，５，６−トリフルオロベンゼンであることを確
認した。収率は１，２，４−トリフルオロベンゼン基準
で７３％であった。

【００７７】（例８） ［ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）
の合成例］温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌
器の付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、銅粉（ア
ルドリッチ社製カッパーブロンズ）３１０ｇ（４．９ｍ
ｏｌ）、ジメチルホルムアミド５００ｍｌ、ブロモペン
タフルオロベンゼン４０２ｇ（１．６ｍｏｌ）、１，
３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼ
ン６０ｇ（０．１６ｍｏｌ）を入れた。撹拌しながら、
マントルヒーターでゆっくり加熱し昇温した。１５３℃
で還流を３時間続けた後、反応液を濾過して濾液を回収
した。さらに濾さいをアセトン５００ｍｌで洗い、濾液
と混合した。混合液を水４Ｌに撹拌しながら投入すると
固体が析出するのでこれを濾取し真空下室温で乾燥し
た。

【００７８】その後、この固体を昇華装置で６０℃／４
００Ｐａで昇華すると、純度９９．８％のペルフルオロ
ビフェニルが２２０ｇ分別昇華され、さらに温度を１４
０℃に上げて昇華される白色の固体をＰＢＴＨＦから再
結晶することにより１９．０ｇの白色結晶を得た。あと
には大量のタール成分が残った。ＮＭＲ、ガスクロマト
グラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９％のペル
フルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）である
ことを確認した。融点は１５２℃であった。収率は１，
３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼ
ン基準で１８．５％と低かった。

【００７９】（例９） ［ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）
の合成法］ジムロートコンデンサ、熱電対温度計、滴下
ロート、メカニカルスターラーの付いた２Ｌパイレック
ス製４つ口フラスコを窒素置換した。１００ｒｐｍで撹
拌しながら室温にてペンタフルオロブロモベンゼン１４
８．２ｇ（０．６０ｍｏｌ）とＴＨＦ５００ｍｌをロー
トから仕込んだ。その後、氷水でフラスコを冷却し撹拌
速度を５００ｒｐｍに上昇させた。０．９６ｍｏｌ／Ｌ
のエチルマグネシウムブロマイドＴＨＦ溶液６００ｍｌ
（０．５７６ｍｏｌ）を滴下ロートに仕込み、フラスコ
内温が５℃以下になったら、エチルマグネシウムブロマ
イドを５ｍｌ／分程度の速度で滴下すると内温は６〜７
℃に保たれ、約２時間で滴下終了した。滴下終了後、そ
のまま１時間撹拌を続けると淡褐色均一透明溶液になっ
た。

【００８０】つぎに固体の臭化銅（ＣｕＢｒ）１７２．
２ｇ（１．２０ｍｏｌ）をロートから添加するが、この
際発熱が大きく温度が高いと、ホモカップリングが起こ
りペルフルオロビフェニルが副生しやすくなるため、フ
ラスコを氷冷したまま４回に分けて添加した。添加終了
後、１時間以上そのまま撹拌を続けると淡青緑色懸濁溶
液となった。さらに滴下ロートからジオキサン２００ｍ
ｌを加え、そのまま３０分間撹拌した。つぎに例６の様
に合成した１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリ
フルオロベンゼンの固体をロートから一括投入し、氷浴
をオイルバスに切り替えた後、撹拌しながら１６時間還
流を続けた。

【００８１】１６時間後に反応液から溶媒を留去濃縮
し、残留物を水中に入れ、急冷した。濾過して集めた固
体を２０００ｇのＲ２２５で抽出した後、エバポレータ
ーで乾固すると、９２ｇの黄色結晶（ＧＣ純度９５％、
収率９２％）が得られた。さらにこの結晶をヘキサンか
ら再結晶すると白色針状結晶が得られた。ＮＭＲ、ガス
クロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９
９％のペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼ
ン）であることを確認した。融点は１５２℃であった。
収率は１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフル
オロベンゼン基準で８５％であった。

【００８２】（例１０） ［ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）
の合成法Ａ］温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹
拌器の付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、銅粉
（アルドリッチ製カッパーブロンズ）３１０ｇ（４．９
ｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド５００ｍｌ、ブロモペ
ンタフルオロベンゼン４０２ｇ（１．６ｍｏｌ）、１，
２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼ
ン６０ｇ（０．１６ｍｏｌ）を入れた。撹拌しながら、
マントルヒーターでゆっくり加熱昇温した。１５３℃で
還流を３時間続けた後、反応液を濾過して濾液を回収し
た。さらに濾さいをアセトン５００ｍｌで洗い、濾液と
混合した。混合液を水４Ｌに撹拌しながら投入すると固
体が析出するので、これを濾取し真空下室温で乾燥し
た。

【００８３】その後、この固体を昇華装置で６０℃／４
００Ｐａで昇華すると、純度９９．８％のペルフルオロ
ビフェニルが２１０ｇ分別昇華され、さらに温度を１４
５℃に上げて昇華する白色固体をＰＢＴＨＦから再結晶
することにより１９．８ｇの白色結晶を得た。ＮＭＲ、
ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９
９．９％のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベ
ンゼン）であることを確認した。融点は１５５℃であっ
た。収率は１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリ
フルオロベンゼン基準で１９．４％であった。

【００８４】ＮＭＲデータ：¹⁹ ＦＮＭＲ(376.23MHz, 溶媒(CD₃)₂CO, 基準CFCl₃)：δ
(ppm):-113.0(m,1F),-129.4(m,1F),-138.9(m,1F),-140.
1(m,2F),-141.8(m,2F),-142.1(m,2F),-152.6(m,1F),-15
2.8(m,1F),-153.2(m,1F),-162.9(m,2F),-163.2(m,2F),-
163.7(m,2F) 。

【００８５】（例１１） ［ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）
の合成法Ｂ］ジムロートコンデンサ、熱電対温度計、滴
下ロート、メカニカルスターラの付いた２Ｌパイレック
ス製４つ口フラスコを窒素置換した。１００ｒｐｍで撹
拌しながら室温にてペンタフルオロブロモベンゼン１４
８．２ｇ（０．６０ｍｏｌ）とＴＨＦ５００ｍｌをロー
トから仕込んだ。その後、氷水でフラスコを冷却し撹拌
速度を５００ｒｐｍに上昇させた。０．９６ｍｏｌ／Ｌ
のエチルマグネシウムブロマイドＴＨＦ溶液６００ｍｌ
（０．５７６ｍｏｌ）を滴下ロートに仕込み、約２時間
かけて滴下した。滴下終了後そのまま１時間撹拌を続け
た。

【００８６】つぎに固体の臭化銅（ＣｕＢｒ）１７２．
２ｇ（１．２０ｍｏｌ）をロートから４回に分けて添加
した。添加終了後、１時間以上そのまま撹拌を続けると
淡青緑色懸濁溶液となった。さらに滴下ロートからジオ
キサン２００ｍｌを加え、そのまま３０分間撹拌した。
例７の様に合成した１，２，４−トリヨード−３，５，
６−トリフルオロベンゼンの固体をロートから一括投入
し、氷浴をオイルバスに切り替えた後、撹拌しながら１
８時間還流を続けた。

【００８７】１８時間後に反応液から溶媒を留去濃縮
し、残留物を水中に入れ、急冷した。濾過して集めた固
体を２０００ｇのＲ２２５で抽出した後、エバポレータ
ーで乾固すると、８７ｇの黄色結晶（ＧＣ純度９６％、
収率８８％）が得られた。さらにこの結晶をヘキサンか
ら再結晶をすることで白色針状結晶が得られた。ＮＭ
Ｒ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度
９９．９９％のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニ
ルベンゼン）であることを確認した。融点は１５５℃で
あった。収率は１，２，４−トリヨード−３，５，６−
トリフルオロベンゼン基準で８２％であった。

【００８８】（例１２）重合体Ａの９部に対して、ペル
フルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の１部
をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液か
らなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板
上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィル
ムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５
０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過
率であったことから、この含フッ素樹脂組成物は相分離
に由来する光散乱が生じない、均一な組成物であること
がわかった。

【００８９】このフィルム中のペルフルオロ（１，３，
５−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．４質量％
で、このフィルムの屈折率は１．３５７であった。また
このフィルムのＴｇは９０℃であった。また、このフィ
ルムは紫外線の波長範囲において吸収を示し、極大点が
２２０ｎｍおよび２６５ｎｍにあることから紫外線吸収
性が良好なことがわかった。

【００９０】（例１３）重合体Ａの９部に対して、ペル
フルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の１部
をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液か
らなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板
上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィル
ムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５
０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過
率であったことから、この含フッ素樹脂組成物は相分離
に由来する光散乱が生じない、均一な組成物であること
がわかった。

【００９１】このフィルム中のペルフルオロ（１，２，
４−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．２質量％
で、このフィルムの屈折率は１．３５６であった。また
このフィルムのＴｇは９１℃であった。また、このフィ
ルムは紫外線の波長範囲においては吸収を示し、極大点
が２２０ｎｍおよび２６５ｎｍにあることから紫外線吸
収性が良好なことがわかった。

【００９２】（例１４）重合体Ｂの９部に対して、ペル
フルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の１部
をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液か
らなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板
上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィル
ムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５
０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過
率であることから、この含フッ素樹脂組成物は相分離に
由来する光散乱が生じない、均一な組成物であることが
わかった。

【００９３】このフィルム中のペルフルオロ（１，３，
５−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．０質量％
で、このフィルムの屈折率は１．３２１であった。また
このフィルムのＴｇは１３５℃であった。また、２１０
〜３２０ｎｍの波長範囲において吸収を示すことから紫
外線吸収性が良好なことがわかった。

【００９４】（例１５）例７で調製した溶液を用いてシ
リコンウェハー上にスピンコート法により厚さ３μｍの
薄膜を形成した。つぎにマスクを介して２４８ｎｍのエ
キシマレーザにより露光を行ったところ、０．８Ｊ／ｃ
ｍ² の露光量でパターニングを行うことができた。

【００９５】（例１６）重合体Ａおよびペルフルオロ
（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者
を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ａという）を得た。成形体ａの屈折率は１．３５７、
Ｔｇは９０℃であった。

【００９６】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この円筒管中空部に成形体ａを挿
入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォ
ームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸す
ることにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々
に低下する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光
伝送特性は、図１に示すごとく、６５０ｎｍで６３ｄＢ
／ｋｍ、８５０ｎｍで２３ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで
２０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を
良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。

【００９７】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を
インターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折
率分布と比較したところ変化は見られなかった。さら
に、以下のようなパルス法により伝送帯域を測定するこ
とにより伝送特性を評価した。

【００９８】すなわち、パルスジェネレータを用いてパ
ルスレーザ光を発振させ、これを光ファイバに入射し、
出射光をサンプリングオシロスコープで検出した。この
検出信号をフーリエ変換して周波数特性を解析すること
により伝送帯域を測定した。光ファイバを７０℃、１０
０００時間保存した後に伝送帯域を測定したところ、保
存前後ともに２６０ＭＨｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こ
らないことから耐熱性が良好であることが確認された。

【００９９】（例１７）重合体Ａおよびペルフルオロ
（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者
を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ｂという）を得た。成形体ｂの屈折率は１．３５７、
Ｔｇは９０℃であった。

【０１００】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、例１６と同様な方法で屈折率分布
型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性
は、６５０ｎｍで８０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで３０ｄ
Ｂ／ｋｍ、１３００ｎｍで２５ｄＢ／ｋｍであり、可視
光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバ
であることを確かめた。

【０１０１】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を
インターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折
率分布と比較したところ変化は見られなかった。さら
に、例１６と同様なパルス法により伝送帯域を測定する
ことにより伝送特性を評価し、保存前後ともに２６０Ｍ
Ｈｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こらないことから耐熱性
が良好であることを確認した。

【０１０２】（例１８）重合体Ａを９３部とペルフルオ
ロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）３．５部およ
びペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）
３．５部の混合物をガラス封管中に仕込み、２５０℃で
溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｃという）を
得た。成形体ｃの屈折率は１．３５６、Ｔｇは９１℃で
あった。

【０１０３】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、例１６と同様な方法で屈折率分布
型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性
は、６５０ｎｍで７５ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで２８ｄ
Ｂ／ｋｍ、１３００ｎｍで２１ｄＢ／ｋｍであり、可視
光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバ
であることを確かめた。

【０１０４】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を
インターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折
率分布と比較したところ変化は見られなかった。さら
に、例１６と同様なパルス法により伝送帯域を測定する
ことにより伝送特性を評価し、保存前後ともに２６０Ｍ
Ｈｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こらないことから耐熱性
が良好であることが確認された。

【０１０５】（例１９）重合体Ｂおよびペルフルオロ
（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者
を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ｄという）を得た。成形体ｄの屈折率は１．３４０、
Ｔｇは１２８℃であった。

【０１０６】つぎに、重合体Ｂのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｄを挿入し２
３０℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２７０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特
性は、６５０ｎｍで９０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで４５
ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで３５ｄＢ／ｋｍであり、可
視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイ
バであることを確かめた。

【０１０７】この光ファイバを８５℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をイ
ンターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率
分布と比較したところ特に変化は見られなかった。ま
た、例４と同様なパルス法により伝送帯域を測定し、保
存前後の特性を比較したところいずれも２８０ｄＢ・ｋ
ｍで帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であ
ることが確認された。

【０１０８】（例２０）重合体Ｃおよびペルフルオロ
（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者
を混合物中７．０質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ｅという）を得た。成形体ｅの屈折率は１．３２１、
Ｔｇは１３５℃であった。

【０１０９】つぎに、重合体Ｃのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｅを挿入し２
３０℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２７０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特
性は、６５０ｎｍで９５ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで４２
ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで３８ｄＢ／ｋｍであり、可
視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイ
バであることを確かめた。

【０１１０】この光ファイバを８５℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をイ
ンターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率
分布と比較したところ特に変化は見られなかった。ま
た、例４と同様なパルス法により伝送帯域を測定し、保
存前後の特性を比較したところいずれも２６０ｄＢ・ｋ
ｍで帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であ
ることが確認された。

【０１１１】（例２１）重合体Ａおよびクロロトリフル
オロエチレンのオリゴマー（平均分子量８５０、屈折率
１．４１）の混合物［後者を混合物中１５質量％含む］
をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状
の成形体（以下、成形体ｆという）を得た。成形体ｆの
屈折率は１．３５７、Ｔｇは７５℃であった。

【０１１２】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｆを挿入し２
００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイ
バの光伝送特性は、７８０ｎｍで１１０ｄＢ／ｋｍ、８
５０ｎｍで１００ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで８０ｄＢ
／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝
達できる光ファイバであることを確かめた。

【０１１３】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干
渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較した
ところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。ま
た、これに伴い伝送帯域の低下が見られ、保存前に２６
０ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１６０ＭＨｚ
・ｋｍに低下していた。

【０１１４】（例２２）重合体Ａおよびアルドリッチ社
製デカフルオロビフェニル（屈折率１．４５）の混合物
［後者を混合物中７質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ｇという）を得た。成形体ｇの屈折率は１．３５７、
Ｔｇは７３℃であった。

【０１１５】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｇを挿入し２
００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイ
バの光伝送特性は、７８０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、８
５０ｎｍで１２０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１００ｄ
Ｂ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に
伝達できる光ファイバであることを確かめた。

【０１１６】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干
渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較した
ところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これ
に伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２００ＭＨ
ｚ・ｋｍであったものが保存後には１１０ＭＨｚ・ｋｍ
に低下していた。

【０１１７】（例２３）重合体Ａおよびアルドリッチ社
製ペルフルオロジフェニルスルフィドの混合物［後者を
混合物中６質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５
０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｈとい
う）を得た。成形体ｈの屈折率は１．３５７、Ｔｇは７
７℃であった。

【０１１８】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｈを挿入し２
００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイ
バの光伝送特性は、７８０ｎｍで１９０ｄＢ／ｋｍ、８
５０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１２０ｄ
Ｂ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に
伝達できる光ファイバであることを確かめた。

【０１１９】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干
渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較した
ところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これ
に伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２６０ＭＨ
ｚ・ｋｍであったものが保存後には１８０ＭＨｚ・ｋｍ
に低下していた。

【０１２０】（例２４）重合体Ａおよびアルドリッチ社
製ペルフルオロナフタレン( 屈折率１．４８)の混合物
［後者を混合物中６質量％含む］をガラス封管中に仕込
み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形
体ｉという）を得た。成形体ｉの屈折率は１．３５７、
Ｔｇは７６℃であった。

【０１２１】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｉを挿入し２
００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイ
バの光伝送特性は、７８０ｎｍで１８０ｄＢ／ｋｍ、８
５０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１１０ｄ
Ｂ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に
伝達できる光ファイバであることを確かめた。

【０１２２】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干
渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較した
ところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これ
に伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２２０ＭＨ
ｚ・ｋｍであったものが保存後には１１０ＭＨｚ・ｋｍ
に低下していた。

【０１２３】（例２５）重合体ＡおよびＰＣＲ社製１，
３，５−トリクロロ−２，４，６−トリフルオロベンゼ
ンの混合物［後者を混合物中６質量％含む］をガラス封
管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体
（以下、成形体ｊという）を得た。成形体ｊの屈折率は
１．３５５、Ｔｇは７９℃であった。

【０１２４】つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶
融成形により作成し、この中空部に成形体ｊを挿入し２
００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを
得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸すること
により屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下
する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイ
バの光伝送特性は、７８０ｎｍで２１０ｄＢ／ｋｍ、８
５０ｎｍで１７０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１３０ｄ
Ｂ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に
伝達できる光ファイバであることを確かめた。

【０１２５】この光ファイバを７０℃のオーブン中に１
０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干
渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較した
ところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これ
に伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２５０ＭＨ
ｚ・ｋｍであったものが保存後には１７０ＭＨｚ・ｋｍ
に低下していた。

【０１２６】

【発明の効果】本発明における含フッ素多環式化合物
（Ｂ）は実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フ
ッ素重合体（Ａ）への高い相溶性を有し、含フッ素重合
体（Ａ）中に白濁することなく均一に溶解する。したが
って、本発明光学樹脂組成物においては、ミクロな相分
離や含フッ素多環式化合物（Ｂ）の微結晶などにより生
じる光散乱が少ない。また、含フッ素多環式化合物
（Ｂ）は屈折率が高いので、少量の配合であっても目的
の屈折率差を形成でき、含フッ素多環式化合物（Ｂ）の
添加によるＴｇの低下が少ない利点がある。この利点お
よび含フッ素多環式化合物（Ｂ）のＴｇが高いことによ
り、本発明の屈折率分布型光伝送体は耐熱性が飛躍的に
向上し、屈折率分布の熱的な安定性が高く、室温以上の
高温に長期間さらされた場合においても、伝送帯域の低
下を防止できる。さらに、屈折率が高い含フッ素多環式
化合物（Ｂ）は開口数ＮＡを大きくできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 例１６のファイバーの伝送損失（波長５００
〜１６００ｎｍ）を示す図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 6/18 Ｇ０２Ｂ 6/18 (72)発明者 武部 洋子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 岡添 隆 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 入澤 潤 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 立松 伸 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 2H050 AA13 AB48Z AB72 AC02 4H006 AA01 AB92 EA22 4J002 BD121 BD151 BE041 BK001 EB116 FD206 GP02

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニル
   ベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェ
   ニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１種の含フッ素
   多環式化合物（Ｂ）を含む、実質的にＣ−Ｈ結合を有し
   ない非結晶性含フッ素重合体（Ａ）からなる光学樹脂組
   成物。
2. 【請求項２】含フッ素重合体（Ａ）が主鎖に含フッ素脂
   肪族環構造を有する含フッ素重合体である請求項１に記
   載の光学樹脂組成物。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載の光学樹脂組成物
   からなる光伝送体。
4. 【請求項４】含フッ素重合体（Ａ）中に含フッ素多環式
   化合物（Ｂ）が光伝送体の光伝送路の中心軸から周辺方
   向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布してい
   る屈折率分布型光伝送体である、請求項３に記載の光伝
   送体。
5. 【請求項５】屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバ
   製造用プリフォームまたは屈折率分布型プラスチック光
   伝送ファイバから選ばれる光学樹脂成形体であって、マ
   トリックスが実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の
   含フッ素重合体（Ａ）であり、屈折率調整物質がペルフ
   ルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およびペ
   ルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）から
   選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）
   であることを特徴とする光学樹脂成形体。
6. 【請求項６】含フッ素重合体（Ａ）が主鎖に含フッ素脂
   肪族環構造を有する含フッ素重合体である請求項５に記
   載のプラスチック光伝送ファイバ。
7. 【請求項７】ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニル
   ベンゼン）。