JP2001294441A - 基板用ガラス - Google Patents
基板用ガラスInfo
- Publication number
- JP2001294441A JP2001294441A JP2000109803A JP2000109803A JP2001294441A JP 2001294441 A JP2001294441 A JP 2001294441A JP 2000109803 A JP2000109803 A JP 2000109803A JP 2000109803 A JP2000109803 A JP 2000109803A JP 2001294441 A JP2001294441 A JP 2001294441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- substrate
- less
- glass substrate
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】割れにくく、高耐候性、高ガラス転移点、大量
生産向き基板用ガラスの提供。 【解決手段】質量百分率で、ＳｉＯ2：５９〜７２、Ａ
ｌ2Ｏ3：１〜１５、ＭｇＯ：０．５〜９、ＣａＯ：０．
５〜１１、ＳｒＯ：０〜６、ＺｒＯ2：０．５〜１０．
５、Ｋ2Ｏ：４〜２１、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂａ
Ｏ：４〜１９、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１０〜２
２、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3≧５０等からなり、比重＜２．
６の基板用ガラス。
生産向き基板用ガラスの提供。 【解決手段】質量百分率で、ＳｉＯ2：５９〜７２、Ａ
ｌ2Ｏ3：１〜１５、ＭｇＯ：０．５〜９、ＣａＯ：０．
５〜１１、ＳｒＯ：０〜６、ＺｒＯ2：０．５〜１０．
５、Ｋ2Ｏ：４〜２１、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂａ
Ｏ：４〜１９、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１０〜２
２、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3≧５０等からなり、比重＜２．
６の基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐候性に優れ、割
れにくく、ガラス転移点が高く、また大量生産に適した
基板用ガラス、特に磁気ディスク等の情報記録媒体に用
いられるガラス基板またはプラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（Ｆ
ＥＤ）等のフラットパネルディスプレイに用いられるガ
ラス基板に好適な基板用ガラスに関する。
れにくく、ガラス転移点が高く、また大量生産に適した
基板用ガラス、特に磁気ディスク等の情報記録媒体に用
いられるガラス基板またはプラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（Ｆ
ＥＤ）等のフラットパネルディスプレイに用いられるガ
ラス基板に好適な基板用ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、質量百分率表示の組成が、ＳｉＯ2：６３．０
％、Ａｌ2Ｏ3：１４．０％、ＺｒＯ2：７．０％、Ｌｉ2
Ｏ：６．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなるガラス基板が
例示される。この従来ガラスからなるガラス基板は通常
化学強化処理されて使用される。なお、本明細書では含
有量は質量百分率で表示する。
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、質量百分率表示の組成が、ＳｉＯ2：６３．０
％、Ａｌ2Ｏ3：１４．０％、ＺｒＯ2：７．０％、Ｌｉ2
Ｏ：６．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなるガラス基板が
例示される。この従来ガラスからなるガラス基板は通常
化学強化処理されて使用される。なお、本明細書では含
有量は質量百分率で表示する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】情報記録媒体用ガラス
基板には、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記
ガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の
膜がはがれやすくなることがないこと、すなわち耐候性
が求められる。
基板には、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記
ガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の
膜がはがれやすくなることがないこと、すなわち耐候性
が求められる。
【０００４】前記従来ガラスの耐候性は決して高くはな
いが、化学強化処理によって耐候性は許容されるレベル
になる。これは、従来ガラスの耐候性を低下させる主因
と考えられるアルカリ成分が、化学強化処理によってガ
ラス表面から抽出除去されるためと考えられる。しかし
化学強化処理には、工程が増加する、化学強化処理後の
基板表面によごれが付着しやすい等の問題があり、化学
強化処理を行わなくとも耐候性が良好なガラス基板が求
められている。また、割れにくいガラス基板が求められ
ている。
いが、化学強化処理によって耐候性は許容されるレベル
になる。これは、従来ガラスの耐候性を低下させる主因
と考えられるアルカリ成分が、化学強化処理によってガ
ラス表面から抽出除去されるためと考えられる。しかし
化学強化処理には、工程が増加する、化学強化処理後の
基板表面によごれが付着しやすい等の問題があり、化学
強化処理を行わなくとも耐候性が良好なガラス基板が求
められている。また、割れにくいガラス基板が求められ
ている。
【０００５】一方、記憶密度を増すために磁気記録層で
ある磁性層の保磁力を増加させることが求められてい
る。そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理を
より高い温度で行う必要がある。この観点から、基板に
用いられるガラスのガラス転移点が高いことが求められ
ている。なお、前記従来ガラスのガラス転移点は５００
℃である。
ある磁性層の保磁力を増加させることが求められてい
る。そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理を
より高い温度で行う必要がある。この観点から、基板に
用いられるガラスのガラス転移点が高いことが求められ
ている。なお、前記従来ガラスのガラス転移点は５００
℃である。
【０００６】磁気ディスク用ガラス基板は従来、ノート
ブックパソコン等に用いられる２．５型基板（ガラス基
板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサーバー等
に用いられるより大きな基板、すなわち３．０型基板
（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５型基板（ガラス
基板外径：９５ｍｍ）等も増加する可能性が高い。した
がって、このようなガラス基板に使用されるガラスは大
量生産に適したものであることが求められている。
ブックパソコン等に用いられる２．５型基板（ガラス基
板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサーバー等
に用いられるより大きな基板、すなわち３．０型基板
（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５型基板（ガラス
基板外径：９５ｍｍ）等も増加する可能性が高い。した
がって、このようなガラス基板に使用されるガラスは大
量生産に適したものであることが求められている。
【０００７】ガラスの大量生産はガラス溶融窯により行
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。さらに、板ガラスの大量生産はフロート法により広
く行われている。したがって、フロート成形が可能なガ
ラスであることが求められている。
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。さらに、板ガラスの大量生産はフロート法により広
く行われている。したがって、フロート成形が可能なガ
ラスであることが求められている。
【０００８】本発明は、上記課題を解決する基板用ガラ
スおよび情報記録媒体用ガラス基板の提供を目的とす
る。
スおよび情報記録媒体用ガラス基板の提供を目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、質量百分率表
示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５９〜７２％、 Ａｌ2Ｏ3 １〜１５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜３％、 ＭｇＯ ０．５〜９％、 ＣａＯ ０．５〜１１％、 ＳｒＯ ０〜６％、 ＢａＯ ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜６％、 ＺｒＯ2 ０．５〜１０．５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜３％、 Ｎａ2Ｏ ０〜９％、 Ｋ2Ｏ ４〜２１％、 からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有
量の合計が４〜１９％、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ
の含有量の合計が１０〜２２％、ＳｉＯ2の含有量とＡ
ｌ2Ｏ3の含有量の差が５０％以上、比重が２．６未満で
ある基板用ガラス、および、前記基板用ガラスからなる
情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５９〜７２％、 Ａｌ2Ｏ3 １〜１５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜３％、 ＭｇＯ ０．５〜９％、 ＣａＯ ０．５〜１１％、 ＳｒＯ ０〜６％、 ＢａＯ ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜６％、 ＺｒＯ2 ０．５〜１０．５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜３％、 Ｎａ2Ｏ ０〜９％、 Ｋ2Ｏ ４〜２１％、 からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有
量の合計が４〜１９％、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ
の含有量の合計が１０〜２２％、ＳｉＯ2の含有量とＡ
ｌ2Ｏ3の含有量の差が５０％以上、比重が２．６未満で
ある基板用ガラス、および、前記基板用ガラスからなる
情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の基板用ガラス（以下単に
本発明のガラスという。）の組成について説明する。Ｓ
ｉＯ2はガラスの骨格を形成する必須成分である。５９
％未満では液相温度が高くなる、ガラス転移点が低くな
る、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは６０
％以上である。７２％超ではガラスの溶解性が低下す
る。好ましくは７０％以下である。
本発明のガラスという。）の組成について説明する。Ｓ
ｉＯ2はガラスの骨格を形成する必須成分である。５９
％未満では液相温度が高くなる、ガラス転移点が低くな
る、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは６０
％以上である。７２％超ではガラスの溶解性が低下す
る。好ましくは７０％以下である。
【００１１】Ａｌ2Ｏ3は耐候性およびガラス転移点を向
上させる効果があり、必須である。１％未満では前記効
果が小さい。好ましくは２％以上である。１５％超では
ガラスの溶解性が低下する、液相温度が高くなる、また
はＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなる。好ま
しくは１２％以下である。
上させる効果があり、必須である。１％未満では前記効
果が小さい。好ましくは２％以上である。１５％超では
ガラスの溶解性が低下する、液相温度が高くなる、また
はＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなる。好ま
しくは１２％以下である。
【００１２】ＳｉＯ2の含有量とＡｌ2Ｏ3の含有量との
差が５０％未満では、ガラス転移点が低くなりすぎる、
またはガラスに傷がつきやすくなる。好ましくは５１％
以上である。
差が５０％未満では、ガラス転移点が低くなりすぎる、
またはガラスに傷がつきやすくなる。好ましくは５１％
以上である。
【００１３】Ｂ2Ｏ3は必須ではないが、ガラスの溶解性
またはガラスの安定性を向上させるために３％まで含有
してもよい。３％超ではガラス転移点が低くなりすぎる
おそれがある。好ましくは２％以下である。
またはガラスの安定性を向上させるために３％まで含有
してもよい。３％超ではガラス転移点が低くなりすぎる
おそれがある。好ましくは２％以下である。
【００１４】ＭｇＯはガラスの溶解性を向上させる効果
があり、必須である。０．５％未満では前記効果が小さ
い。好ましくは２％以上である。９％超ではガラスの液
相温度が高くなる、またはガラスが傷つきやすくなる。
好ましくは７％以下である。
があり、必須である。０．５％未満では前記効果が小さ
い。好ましくは２％以上である。９％超ではガラスの液
相温度が高くなる、またはガラスが傷つきやすくなる。
好ましくは７％以下である。
【００１５】ＣａＯはガラスの溶解性を向上させる効果
があり、必須である。０．５％未満では前記効果が小さ
い。好ましくは２％以上である。１１％超では液相温度
が高くなる、またはガラスが傷つきやすくなる。好まし
くは９％以下である。
があり、必須である。０．５％未満では前記効果が小さ
い。好ましくは２％以上である。１１％超では液相温度
が高くなる、またはガラスが傷つきやすくなる。好まし
くは９％以下である。
【００１６】ＳｒＯは必須ではないが、液相温度を低下
させ、またガラスの溶解性を向上させるために６％まで
含有してもよい。６％超ではガラスが傷つきやすくなる
おそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは２
％以下である。
させ、またガラスの溶解性を向上させるために６％まで
含有してもよい。６％超ではガラスが傷つきやすくなる
おそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは２
％以下である。
【００１７】ＢａＯは必須ではないが、液相温度を低下
させ、またガラスの溶解性を向上させるために５％まで
含有してもよい。５％超では耐候性が低下する、または
ガラスが傷つきやすくなる。好ましくは２％以下であ
る。耐候性をより向上させたい場合、またはガラスをよ
り傷付きにくくしたい場合、ＢａＯは実質的に含有しな
いことが好ましい。
させ、またガラスの溶解性を向上させるために５％まで
含有してもよい。５％超では耐候性が低下する、または
ガラスが傷つきやすくなる。好ましくは２％以下であ
る。耐候性をより向上させたい場合、またはガラスをよ
り傷付きにくくしたい場合、ＢａＯは実質的に含有しな
いことが好ましい。
【００１８】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含
有量の合計が４％未満では、ガラスの溶解性が低下す
る、または液相温度が高くなりすぎる。好ましくは６％
以上、より好ましくは８％以上、最も好ましくは１０％
以上である。１９％超ではガラスの液相温度が高くなり
すぎる、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは
１７％以下、より好ましくは１６％以下である。
有量の合計が４％未満では、ガラスの溶解性が低下す
る、または液相温度が高くなりすぎる。好ましくは６％
以上、より好ましくは８％以上、最も好ましくは１０％
以上である。１９％超ではガラスの液相温度が高くなり
すぎる、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは
１７％以下、より好ましくは１６％以下である。
【００１９】ＴｉＯ2は必須ではないが、ガラスの耐候
性を向上させるために６％まで含有してもよい。６％超
ではガラスの液相温度が高くなりすぎる、またはガラス
が傷つきやすくなる。好ましくは５％以下、特に好まし
くは４％以下である。
性を向上させるために６％まで含有してもよい。６％超
ではガラスの液相温度が高くなりすぎる、またはガラス
が傷つきやすくなる。好ましくは５％以下、特に好まし
くは４％以下である。
【００２０】ＺｒＯ2はガラスの耐候性を向上させ、ま
たガラス転移点を高くする効果があり、必須である。
０．５％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以
上である。１０．５％超では液相温度が高くなりすぎ
る、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは５％
以下である。
たガラス転移点を高くする効果があり、必須である。
０．５％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以
上である。１０．５％超では液相温度が高くなりすぎ
る、またはガラスが傷つきやすくなる。好ましくは５％
以下である。
【００２１】Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶解
性を向上させるために３％まで含有してもよい。３％超
ではガラスの耐候性が著しく低下する、ガラス転移点が
低くなりすぎる、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食
性が大きくなる。好ましくは２％以下である。耐候性を
より向上させたい場合、ガラス転移点をより高くしたい
場合、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性をより抑
制したい場合は、Ｌｉ 2Ｏを実質的に含有しないことが
好ましい。
性を向上させるために３％まで含有してもよい。３％超
ではガラスの耐候性が著しく低下する、ガラス転移点が
低くなりすぎる、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食
性が大きくなる。好ましくは２％以下である。耐候性を
より向上させたい場合、ガラス転移点をより高くしたい
場合、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性をより抑
制したい場合は、Ｌｉ 2Ｏを実質的に含有しないことが
好ましい。
【００２２】Ｎａ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶解
性を向上させるために９％まで含有してもよい。９％超
ではガラスの耐候性が著しく低下する、ガラス転移点が
低くなりすぎる、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食
性が大きくなる。好ましくは７％以下である。
性を向上させるために９％まで含有してもよい。９％超
ではガラスの耐候性が著しく低下する、ガラス転移点が
低くなりすぎる、またはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食
性が大きくなる。好ましくは７％以下である。
【００２３】Ｋ2Ｏはガラスの溶解性を向上させる効果
があり必須である。４％未満では前記効果が小さい。好
ましくは７％以上である。２１％超ではガラスの耐候性
が著しく低下する、ガラス転移点が低くなりすぎる、ま
たはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなりすぎ
る。好ましくは１６％以下である。
があり必須である。４％未満では前記効果が小さい。好
ましくは７％以上である。２１％超ではガラスの耐候性
が著しく低下する、ガラス転移点が低くなりすぎる、ま
たはＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなりすぎ
る。好ましくは１６％以下である。
【００２４】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計が１
０％未満ではガラスの溶解性が低下する。好ましくは１
２％以上である。２２％超ではガラスの耐候性が著しく
低下する、ガラス転移点が低くなりすぎる、またはＡＺ
Ｓ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなりすぎる。好ま
しくは１７％以下、より好ましくは１６％以下である。
０％未満ではガラスの溶解性が低下する。好ましくは１
２％以上である。２２％超ではガラスの耐候性が著しく
低下する、ガラス転移点が低くなりすぎる、またはＡＺ
Ｓ系電鋳煉瓦に対する侵食性が大きくなりすぎる。好ま
しくは１７％以下、より好ましくは１６％以下である。
【００２５】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で
含有してもよい。前記その他の成分の含有量の合計は１
０％以下であることが好ましい。より好ましくは５％以
下である。前記その他の成分としては次のようなものが
例示される。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清
澄剤を合計で１％まで含有してもよい。ＴｉＯ2と同様
の効果を得るためにＳｎＯ2を２％まで含有してもよ
い。ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｐ2
Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を合計で３％まで含有してもよい。
るが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で
含有してもよい。前記その他の成分の含有量の合計は１
０％以下であることが好ましい。より好ましくは５％以
下である。前記その他の成分としては次のようなものが
例示される。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清
澄剤を合計で１％まで含有してもよい。ＴｉＯ2と同様
の効果を得るためにＳｎＯ2を２％まで含有してもよ
い。ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｐ2
Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を合計で３％まで含有してもよい。
【００２６】本発明のガラスは、ビッカース硬さＨvを
破壊靭性Ｋcで除して得られる脆さ指標値Ｂ（＝Ｈv／Ｋ
c）が７４００ｍ-1/2以下であることが好ましい。より
好ましくは７３００ｍ-1/2以下である。
破壊靭性Ｋcで除して得られる脆さ指標値Ｂ（＝Ｈv／Ｋ
c）が７４００ｍ-1/2以下であることが好ましい。より
好ましくは７３００ｍ-1/2以下である。
【００２７】本発明のガラスのガラス転移点は６００℃
以上であることが好ましい。６００℃未満では磁性層形
成のための熱処理温度を高くできず、磁性層の保磁力を
増加させることが困難になるおそれがある。より好まし
くは６２０℃以上である。
以上であることが好ましい。６００℃未満では磁性層形
成のための熱処理温度を高くできず、磁性層の保磁力を
増加させることが困難になるおそれがある。より好まし
くは６２０℃以上である。
【００２８】本発明のガラスは、その液相温度をＴ
L（単位：℃）、その粘度が１０4Ｐ（ポアズ）となる温
度をＴ4（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であるこ
とが好ましい。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難
になるおそれがある。より好ましくはＴL−Ｔ4＜４０、
特に好ましくはＴL−Ｔ4＜３０である。
L（単位：℃）、その粘度が１０4Ｐ（ポアズ）となる温
度をＴ4（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であるこ
とが好ましい。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難
になるおそれがある。より好ましくはＴL−Ｔ4＜４０、
特に好ましくはＴL−Ｔ4＜３０である。
【００２９】本発明のガラスは、磁気ディスク等の情報
記録媒体に用いられるガラス基板またはＰＤＰ、ＦＥＤ
等のフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基
板に好適である。
記録媒体に用いられるガラス基板またはＰＤＰ、ＦＥＤ
等のフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基
板に好適である。
【００３０】本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、２気圧の水蒸気
雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存
在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個
／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満
の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以下であることが好
ましい。
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、２気圧の水蒸気
雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存
在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個
／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満
の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以下であることが好
ましい。
【００３１】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなるおそれ
がある。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響
によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考
えられ、拭いても除去できないものである。ＮLはより
好ましくは０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．
２個／ｃｍ2以下である。ＮSはより好ましくは０．８×
１０5個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個
／ｃｍ2以下である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなるおそれ
がある。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響
によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考
えられ、拭いても除去できないものである。ＮLはより
好ましくは０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．
２個／ｃｍ2以下である。ＮSはより好ましくは０．８×
１０5個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個
／ｃｍ2以下である。
【００３２】本発明のガラスおよびガラス基板の製造方
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、フュージョン法、またダ
ウンドロー法などの方法により所定の厚さのガラス板に
成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行
った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形
法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適
である。本発明のガラス基板は、磁気ディスク用ガラス
基板に好適である。
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、フュージョン法、またダ
ウンドロー法などの方法により所定の厚さのガラス板に
成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行
った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形
法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適
である。本発明のガラス基板は、磁気ディスク用ガラス
基板に好適である。
【００３３】
【実施例】各成分の原料を表のＳｉＯ2からＫ2Ｏまでの
欄に質量百分率表示で示した組成となるように調合し、
白金るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜
５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶
融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化し
た。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷
した。なお、表のＳｉ−ＡｌはＳｉＯ2の含有量からＡ
ｌ2Ｏ3の含有量を減じた値を、ＭｇＣａＳｒＢａはＭｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量の合計を、Ｌ
ｉＮａＫは、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計を、それぞれ示す。
欄に質量百分率表示で示した組成となるように調合し、
白金るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜
５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶
融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化し
た。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷
した。なお、表のＳｉ−ＡｌはＳｉＯ2の含有量からＡ
ｌ2Ｏ3の含有量を減じた値を、ＭｇＣａＳｒＢａはＭｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量の合計を、Ｌ
ｉＮａＫは、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計を、それぞれ示す。
【００３４】こうして得られたガラス板について、比重
ｄ、脆さ指標値Ｂ（単位：ｍ-1/2）、ガラス転移点Ｔg
（単位：℃）、液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4
Ｐとなる温度Ｔ4（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃ
ｍ2）および前記ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を、以下
に示す方法により測定した。結果を表に示す。なお、測
定を行わなかったものは表中に「−」で示す。
ｄ、脆さ指標値Ｂ（単位：ｍ-1/2）、ガラス転移点Ｔg
（単位：℃）、液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4
Ｐとなる温度Ｔ4（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃ
ｍ2）および前記ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を、以下
に示す方法により測定した。結果を表に示す。なお、測
定を行わなかったものは表中に「−」で示す。
【００３５】ｄ：泡を含まない約２０ｇのガラス塊を用
いてアルキメデス法によって測定した。 Ｂ：ＨvおよびＫcを測定してＢを求める方法ではなく、
特開平１０−１５２３８８号公報６欄２７〜４０行に記
載されている方法によってＢを求めた。すなわち、ビッ
カース圧子を押し込んだときにガラス表面に残る圧子の
痕の大きさ（単位：μｍ）と痕の四隅から発生するクラ
ックの長さ（単位：μｍ）との関係式ｃ／ａ＝０．００
５６Ｂ2/3Ｐ1/6からＢを求めた。ここで、Ｐはビッカー
ス圧子の押し込み力（単位：Ｎ）、ａはビッカース圧痕
の対角長、ｃはビッカース圧痕の四隅から発生するクラ
ックの長さ（圧子の痕を含む対称な２つのクラックの全
長）である。
いてアルキメデス法によって測定した。 Ｂ：ＨvおよびＫcを測定してＢを求める方法ではなく、
特開平１０−１５２３８８号公報６欄２７〜４０行に記
載されている方法によってＢを求めた。すなわち、ビッ
カース圧子を押し込んだときにガラス表面に残る圧子の
痕の大きさ（単位：μｍ）と痕の四隅から発生するクラ
ックの長さ（単位：μｍ）との関係式ｃ／ａ＝０．００
５６Ｂ2/3Ｐ1/6からＢを求めた。ここで、Ｐはビッカー
ス圧子の押し込み力（単位：Ｎ）、ａはビッカース圧痕
の対角長、ｃはビッカース圧痕の四隅から発生するクラ
ックの長さ（圧子の痕を含む対称な２つのクラックの全
長）である。
【００３６】Ｔg：示差熱膨張計を用いて、石英ガラス
を参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際
のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観
測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得ら
れた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス
転移点とした。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中
で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の
温度の最高値を液相温度とした。
を参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際
のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観
測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得ら
れた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス
転移点とした。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中
で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の
温度の最高値を液相温度とした。
【００３７】Ｔ4：回転粘度計により測定した。 ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍ
のガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび
中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽
和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエス
ペック社製）に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気
に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００
μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０
μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ
未満の付着物の個数をカウントした。
のガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび
中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽
和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエス
ペック社製）に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気
に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００
μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０
μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ
未満の付着物の個数をカウントした。
【００３８】例１〜２３のガラスは実施例、例２４のガ
ラスは前記従来ガラスであり比較例である。
ラスは前記従来ガラスであり比較例である。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
【００４１】
【表３】
【００４２】
【発明の効果】本発明によれば、耐候性に優れ、割れに
くく、ガラス転移点が高く、かつ大量生産に適したガラ
ス基板、特に磁気ディスク等の情報記録媒体に用いられ
るガラス基板、ＰＤＰ、ＦＥＤ等のフラットディスプレ
イに用いられるガラス基板を，化学強化処理を行うこと
なく提供できる。
くく、ガラス転移点が高く、かつ大量生産に適したガラ
ス基板、特に磁気ディスク等の情報記録媒体に用いられ
るガラス基板、ＰＤＰ、ＦＥＤ等のフラットディスプレ
イに用いられるガラス基板を，化学強化処理を行うこと
なく提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA01 BB01 CC04 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EB01 EB02 EB03 EC03 EC04 ED02 ED03 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FB02 FB03 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 NN33 NN34 5C094 AA36 AA46 BA31 EB02 GB10 5D006 CB04 CB07
Claims (6)
- 【請求項１】質量百分率表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５９〜７２％、 Ａｌ2Ｏ3 １〜１５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜３％、 ＭｇＯ ０．５〜９％、 ＣａＯ ０．５〜１１％、 ＳｒＯ ０〜６％、 ＢａＯ ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜６％、 ＺｒＯ2 ０．５〜１０．５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜３％、 Ｎａ2Ｏ ０〜９％、 Ｋ2Ｏ ４〜２１％、 からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有
量の合計が４〜１９％、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ
の含有量の合計が１０〜２２％、ＳｉＯ2の含有量とＡ
ｌ2Ｏ3の含有量の差が５０％以上、比重が２．６未満で
ある基板用ガラス。 - 【請求項２】脆さ指標値Ｂが７４００ｍ-1/2以下である
請求項１に記載の基板用ガラス。 - 【請求項３】ガラス転移点が６００℃以上である請求項
１または２に記載の基板用ガラス。 - 【請求項４】液相温度をＴL（単位：℃）、粘度が１０4
Ｐとなる温度をＴ4（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５
０である請求項１、２または３に記載の基板用ガラス。 - 【請求項５】請求項１、２、３または４に記載の基板用
ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項６】請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基
板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時
間保持した該ガラス基板表面に存在する、大きさが１０
μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大き
さが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／
ｃｍ2以下である情報記録媒体用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000109803A JP2001294441A (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000109803A JP2001294441A (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 基板用ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001294441A true JP2001294441A (ja) | 2001-10-23 |
Family
ID=18622431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000109803A Withdrawn JP2001294441A (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001294441A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004041740A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Hoya Corporation | 情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体およびその製造方法 |
| FR2854627A1 (fr) * | 2003-05-07 | 2004-11-12 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique, notamment pour la realisation de substrats |
| WO2006080292A1 (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-03 | Central Glass Company, Limited | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| WO2008004481A1 (fr) * | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Asahi Glass Co., Ltd. | Procédé de production de substrat de verre destiné à du verre de type panneaux plats |
| WO2008062847A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Asahi Glass Company, Limited | Verre pour substrat support d'enregistrement d'informations |
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| US7687419B2 (en) | 2004-03-25 | 2010-03-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass composition, glass susbstrate employing it for an information recording medium, and information recording medium employing it |
| JP2010184862A (ja) * | 2010-03-23 | 2010-08-26 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板 |
| US7803472B2 (en) | 2007-03-23 | 2010-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Substrate glass for data storage medium and glass substrate |
| JP2010538963A (ja) * | 2007-09-21 | 2010-12-16 | サン−ゴバン グラス フランス | シリコ−ソード−カルシウムガラス板 |
| WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| JP2011253575A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-15 | Konica Minolta Opto Inc | 熱アシスト記録媒体用ガラス基板 |
| JP2011251854A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-15 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板 |
| JP2012528072A (ja) * | 2009-05-29 | 2012-11-12 | コーニング インコーポレイテッド | フュージョン成形可能なナトリウム不含有ガラス |
| JP2014037346A (ja) * | 2013-09-13 | 2014-02-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用ガラス基板 |
| EP2535320A3 (en) * | 2008-02-26 | 2014-05-14 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| US8824248B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-09-02 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
| US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
| JP2015096465A (ja) * | 2014-12-17 | 2015-05-21 | Hoya株式会社 | ガラス基板 |
| JP2016117649A (ja) * | 2009-04-02 | 2016-06-30 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
| US9512030B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-12-06 | Corning Incorporated | High CTE potassium borosilicate core glasses and glass articles comprising the same |
| JP2019519463A (ja) * | 2016-06-27 | 2019-07-11 | エージーシー グラス ユーロップＡｇｃ Ｇｌａｓｓ Ｅｕｒｏｐｅ | 化学強化可能なガラス板 |
-
2000
- 2000-04-11 JP JP2000109803A patent/JP2001294441A/ja not_active Withdrawn
Cited By (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| WO2004041740A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Hoya Corporation | 情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体およびその製造方法 |
| US7601446B2 (en) | 2002-11-07 | 2009-10-13 | Hoya Corporation | Substrate for information recording medium, information recording medium and method for manufacturing same |
| FR2854627A1 (fr) * | 2003-05-07 | 2004-11-12 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique, notamment pour la realisation de substrats |
| WO2004099096A3 (fr) * | 2003-05-07 | 2005-09-15 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique, notamment pour la realisation de substrats. |
| US7687419B2 (en) | 2004-03-25 | 2010-03-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass composition, glass susbstrate employing it for an information recording medium, and information recording medium employing it |
| WO2006080292A1 (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-03 | Central Glass Company, Limited | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| JP2006206336A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| WO2008004481A1 (fr) * | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Asahi Glass Co., Ltd. | Procédé de production de substrat de verre destiné à du verre de type panneaux plats |
| CN102351418A (zh) * | 2006-07-07 | 2012-02-15 | 旭硝子株式会社 | 平板玻璃用玻璃基板 |
| JP5157904B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2013-03-06 | 旭硝子株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法 |
| WO2008062847A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Asahi Glass Company, Limited | Verre pour substrat support d'enregistrement d'informations |
| JP5396859B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2014-01-22 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラス |
| US7803472B2 (en) | 2007-03-23 | 2010-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Substrate glass for data storage medium and glass substrate |
| JP2010538963A (ja) * | 2007-09-21 | 2010-12-16 | サン−ゴバン グラス フランス | シリコ−ソード−カルシウムガラス板 |
| US10040715B2 (en) | 2008-02-26 | 2018-08-07 | Corning Incorporated | Silicate glasses having low seed concentration |
| US10626042B2 (en) | 2008-02-26 | 2020-04-21 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| US9073779B2 (en) | 2008-02-26 | 2015-07-07 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| EP3138822B1 (en) * | 2008-02-26 | 2023-07-26 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| EP2535320A3 (en) * | 2008-02-26 | 2014-05-14 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| JP2016117649A (ja) * | 2009-04-02 | 2016-06-30 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
| US10173919B2 (en) | 2009-05-29 | 2019-01-08 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| JP2012528072A (ja) * | 2009-05-29 | 2012-11-12 | コーニング インコーポレイテッド | フュージョン成形可能なナトリウム不含有ガラス |
| US9371247B2 (en) | 2009-05-29 | 2016-06-21 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| JP2016104700A (ja) * | 2009-05-29 | 2016-06-09 | コルサム テクノロジーズ エルエルシーＣｏｒｓａｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｌｌｃ | フュージョン成形可能なナトリウム不含有ガラス |
| US8603653B2 (en) | 2009-08-10 | 2013-12-10 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate and method of manufacturing the same, and magnetic recording medium |
| CN102471133A (zh) * | 2009-08-10 | 2012-05-23 | Hoya株式会社 | 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板及其制造方法、以及磁记录介质 |
| WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| JP5734189B2 (ja) * | 2009-08-10 | 2015-06-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| CN102471133B (zh) * | 2009-08-10 | 2014-10-15 | Hoya株式会社 | 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板及其制造方法、以及磁记录介质 |
| JP2010184862A (ja) * | 2010-03-23 | 2010-08-26 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板 |
| JP2011251854A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-15 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板 |
| JP2011253575A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-15 | Konica Minolta Opto Inc | 熱アシスト記録媒体用ガラス基板 |
| US9512030B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-12-06 | Corning Incorporated | High CTE potassium borosilicate core glasses and glass articles comprising the same |
| US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
| US8824248B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-09-02 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
| US9007878B2 (en) | 2012-05-16 | 2015-04-14 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
| JP2014037346A (ja) * | 2013-09-13 | 2014-02-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用ガラス基板 |
| JP2015096465A (ja) * | 2014-12-17 | 2015-05-21 | Hoya株式会社 | ガラス基板 |
| JP2019519463A (ja) * | 2016-06-27 | 2019-07-11 | エージーシー グラス ユーロップＡｇｃ Ｇｌａｓｓ Ｅｕｒｏｐｅ | 化学強化可能なガラス板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001294441A (ja) | 基板用ガラス | |
| JP5396859B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス | |
| KR100533497B1 (ko) | 기판용 유리 | |
| US6949485B2 (en) | Glass for substrate and glass substrate | |
| JP5206261B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク | |
| JP5263152B2 (ja) | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 | |
| CN110627365B (zh) | 一种透明的强化玻璃陶瓷及其制备方法 | |
| JP5267436B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
| US6387510B1 (en) | Glass for a data storage medium substrate and glass substrate for data storage media | |
| JP4635297B2 (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
| JP2001348246A (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
| JP2010254549A (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
| JP4161509B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 | |
| JPWO2009054419A1 (ja) | 基板用ガラス組成物およびその製造方法 | |
| CN102417301A (zh) | 一种玻璃组合物及由其制成的玻璃、制法和用途 | |
| JP2001172043A (ja) | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 | |
| JP5022532B2 (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
| JP4151161B2 (ja) | 基板用ガラス | |
| JP5659544B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
| JP4572453B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 | |
| JP2005255521A (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
| JP5471353B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
| JPH0446908B2 (ja) | ||
| JP5528026B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
| JP2005263628A (ja) | 基板用ガラス組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051109 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080313 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081125 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090107 |